KR101819612B1 - 평행광을 구현하는 광학모듈 유닛 및 이를 이용한 스캔 노광장치 - Google Patents

평행광을 구현하는 광학모듈 유닛 및 이를 이용한 스캔 노광장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101819612B1
KR101819612B1 KR1020160027033A KR20160027033A KR101819612B1 KR 101819612 B1 KR101819612 B1 KR 101819612B1 KR 1020160027033 A KR1020160027033 A KR 1020160027033A KR 20160027033 A KR20160027033 A KR 20160027033A KR 101819612 B1 KR101819612 B1 KR 101819612B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
optical module
lens
light source
led light
exposed
Prior art date
Application number
KR1020160027033A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20170104251A (ko
Inventor
임근택
이훈
Original Assignee
지에스옵틱스 주식회사
임근택
이훈
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 지에스옵틱스 주식회사, 임근택, 이훈 filed Critical 지에스옵틱스 주식회사
Priority to KR1020160027033A priority Critical patent/KR101819612B1/ko
Publication of KR20170104251A publication Critical patent/KR20170104251A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101819612B1 publication Critical patent/KR101819612B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
    • G03F7/70391—Addressable array sources specially adapted to produce patterns, e.g. addressable LED arrays
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70275—Multiple projection paths, e.g. array of projection systems, microlens projection systems or tandem projection systems
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
    • G03F7/704—Scanned exposure beam, e.g. raster-, rotary- and vector scanning
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/15—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components having potential barriers, specially adapted for light emission
    • H01L27/153—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components having potential barriers, specially adapted for light emission in a repetitive configuration, e.g. LED bars

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

간단한 구조로 정밀한 평행광을 얻을 수 있는 광학모듈 유닛 및 하나의 광학모듈 유닛을 이용하여, 설비의 규모를 간소하게 하고 양면노광을 쉽게 구현하는 노광장치를 제시한다. 그 유닛 및 장치는 LED 광원의 광축에 따라 일측에 배치되며 LED 광원으로부터 방출된 광을 수렴하는 제1 렌즈, LED 광원의 광축에 따라 제1 렌즈의 일측에 배치되며 제1 렌즈를 거친 광을 집속하는 제2 렌즈, LED 광원의 광축에 따라 제2 렌즈의 일측에 배치되며 제2 렌즈를 거친 광을 평행광으로 변환시키는 제5 렌즈를 포함하고, 복수개의 광학모듈 유닛은 조합되어 어레이를 이루며, 회전하는 캐리어 및 롤 타입으로 피노광체를 처리한다.

Description

평행광을 구현하는 광학모듈 유닛 및 이를 이용한 스캔 노광장치{Optical module unit having parallel rays and apparatus of exposure for scanning}
본 발명은 광학모듈 유닛 및 노광장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 UV LED를 광원으로 스캔 방식의 노광에 적용되도록 평행광을 구현하는 광학모듈 유닛 및 이를 이용하여 대면적 피노광체를 스캔하여 노광하는 장치에 관한 것이다.
스캔방식의 노광장치는 광원과 노광의 목적에 맞도록 평행광을 만들기 위한 구조 및 렌즈를 포함한 광학계로 구성된 광학모듈(optical module)을 이용한다. 상기 광학모듈로부터 전사되는 평행광을 2차원적 평면 이동이 가능한 평판 스테이지 위의 상단에 위치한 마스크의 상부에서, 평행광을 마스크에 조사하여 마스크의 패턴을 그대로 피노광체에 전사시키는 것이다. 스캔 노광은 광학모듈 또는 마스크와 피노광체가 놓인 스테이지가 상대적으로 반대방향으로 움직이면서 노광을 수행하여 시간의 증가에 따라 기판위의 피노광체의 면적을 증대시키는 방식이다. 스캔 노광의 광원은 할로겐 램프가 주로 적용되고 있으나 그 수명이 짧고 소비전력이 높아서, 최근에는 수명이 반영구적이고 친환경적이며 에너지 효율이 높은 LED를 광원을 채용하고 있는 추세이다.
한편, LED를 광원으로 하는 노광장치는 LED로부터 나오는 광을 평행한 광으로 만들어야 한다. 상기 광이 평행하지 않으면, 마스크의 어퍼처(aperture)에 의한 회절이 발생하여 정밀한 노광이 이루어지지 않는다. 국내공개특허 제2014-0072157호는 마이크로 렌즈 어레이를 이용하여 위치 어긋남을 해소하는 방식을 개시하고 있으나, 복잡한 구조에 비해 정밀한 평행광을 얻기에는 충분하지 못하다. 또한, 종래의 노광장치는 로봇 암이나 트랜스퍼 장치를 활용하여 단면노광 뿐아니라 양면노광을 수행하고 있다. 그중에서 양면 노광장치의 경우, 2개의 광학모듈을 요구하고 있으며, 피노광체를 이송하고 탑재하는 과정 등이 복잡하다. 이로 인하여 종래의 스캔 노광장치는 설비의 규모가 크고 구조가 복잡하다. 이에 따라, 설비의 규모를 간소하게 하고, 양면노광을 쉽게 구현하는 방법이 요구되고 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 간단한 구조로 정밀한 평행광을 얻을 수 있는 광학모듈 유닛을 제공하는 데 있다. 또한, 본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 하나의 광학모듈 유닛을 이용하여, 설비의 규모를 간소하게 하고 단면노광뿐 아니라 양면노광을 쉽게 구현하는 노광장치를 제공하는 데 있다.
본 발명의 과제를 해결하기 위한 평행광을 구현하는 광학모듈 유닛은 LED 광원 및 상기 LED 광원의 광축에 따라 일측에 배치되며, 상기 LED 광원으로부터 방출된 광을 수렴하는 제1 렌즈를 포함한다. 또한, 상기 LED 광원의 광축에 따라 상기 제1 렌즈의 일측에 배치되며, 상기 제1 렌즈를 거친 상기 광을 집속하는 제2 렌즈 및 상기 LED 광원의 광축에 따라 상기 제2 렌즈의 일측에 배치되며, 상기 제2 렌즈를 거친 상기 광을 평행광으로 변환시키는 제5 렌즈를 포함한다. 이때, 상기 제1 및 제2 렌즈는 상기 광을 확장시키고, 상기 제5 렌즈는 상기 확장된 광을 상기 광축에 평행하게 한다.
본 발명의 유닛에 있어서, 상기 제2 렌즈 및 상기 제5 렌즈 사이에는 상기 제2 렌즈 및 상기 제5 렌즈를 광학적으로 연결시키는 제3 렌즈 또는 제4 렌즈 중의 적어도 어느 하나를 더 포함할 수 있다. 상기 제2 렌즈는 플라이 아이(fly eye) 렌즈가 바람직하다.
본 발명의 바람직한 유닛에 있어서, 상기 광학모듈 유닛은 n개(n은 양의 정수)가 조합되어 어레이를 이루고, 상기 어레이는 정삼각형, 정사각형 및 정육각형 중의 어느 하나의 중심부에 상기 LED 광원이 탑재되며, 상기 정삼각형, 정사각형 및 정육각형 중의 어느 하나의 변은 상기 LED 광원이 스캔하는 방향과 일치하지 않는다. 상기 어레이는 상기 LED 광원의 각각이 중심에 대응하여 공간적으로 이격되어 위치하는 n(n은 양의 정수)개의 열을 이룬다. 인접하는 열은 상기 LED 광원으로 스캔할 때, 상기 LED 광원이 지나는 부분과 상기 LED 광원 사이를 지나는 부분이 서로 정렬된다.
바람직한 본 발명의 유닛에 있어서, n개의 상기 광학모듈 유닛은 케이스에 내장되고, 상기 케이스의 양측에는 n개의 상기 광학모듈 유닛을 냉각시키기 위한 기체가 순환하는 제1 유로가 부착된다. 상기 LED 광원은 인쇄회로기판에 탑재되고, 상기 인쇄회로기판에는 상기 제1 유로에서 분기되는 제2 유로가 관통하고, 상기 제2 유로를 통하여 상기 LED 광원 및 상기 인쇄회로기판과 함께 상기 렌즈들을 포함하는 상기 광학모듈 유닛을 냉각시키기 위한 기체가 공급되고 배출된다. 상기 광학모듈 유닛은 적어도 2개로 하나의 세트를 이루어 상기 세트의 양측에 공랭을 수행하는 팬들이 설치될 수 있다.
본 발명의 다른 과제를 해결하기 위한 평행광을 구현하는 광학모듈 유닛을 이용한 양면 스캔 노광장치의 하나의 예는 다이 및 상기 다이 상에 놓이며, 적어도 2개의 영역으로 구분되고, 상기 영역 각각에는 양면 모두가 노광되지 않은 P1 피노광체, 일면만 노광된 P2 피노광체 및 양면이 모두 노광된 P3 피노광체 중 적어도 어느 하나가 수납되며, 상기 다이의 둘레를 따라 회전하는 캐리어를 포함한다. 또한, 상기 캐리어에 상기 P1 피노광체 및 상기 P2 피노광체에 마스크가 배치된 상태에서 상기 P1 피노광체 및 상기 P2 피노광체를 동시에 노광하는 광학모듈 어레이를 포함한다. 이때, 상기 광학모듈 어레이는 평행광을 방출하는 복수개의 광학모듈 유닛이 조합되어 이루어진다.
본 발명의 제1 노광장치에 있어서, 상기 노광이 완료된 P1 피노광체 및 상기 P2 피노광체는 회전하여 상기 P3 피노광체를 외부로 배출하고, 다시 회전하여 상기 P2 피노광체는 뒤집어서 다른 영역으로 옮겨질 수 있다.
본 발명의 다른 과제를 해결하기 위한 평행광을 구현하는 광학모듈 유닛을 이용한 양면 스캔 노광장치의 다른 예는 롤 타입의 피노광체를 공급하는 공급롤과, 상기 롤 타입의 피노광체를 권취하는 권취롤 및 상기 공급롤 및 권취롤 사이에 배치되고, 상기 피노광체의 양측에 설치되며, 평행광을 방출하는 복수개의 광학모듈 유닛이 조합된 광학모듈 어레이를 포함한다. 또한, 상기 광학모듈 어레이 사이의 공간을 왕복운동하며, 상기 피노광체에 밀착되거나 분리되는 마스크 지지대 및 상기 마스크 지지대의 일측에 배치되고, 상기 마스크 지지대를 상기 피노광체에 밀착시키거나 분리시키며, 상기 광학모듈 어레이 사이의 공간으로 상기 마스크 지지대를 왕복운동시키는 클립을 포함한다.
본 발명의 제2 노광장치에 있어서, 상기 마스크 지지대가 상기 피노광체에 밀착되어 서로 정렬된 상태에서 상기 광학모듈 어레이 사이의 공간을 지나갈 때 양면 노광이 수행되고, 상기 양면 노광이 완료되면 상기 마스크 지지대는 상기 피노광체와 분리되어 상기 양면 노광을 수행하기 전의 위치로 복귀한다.
본 발명의 평행광을 구현하는 광학모듈 유닛 및 이를 이용한 양면 스캔 노광장치에 의하면, 평행광을 확보할 수 있는 렌즈 배열을 가진 광학모듈을 활용함으로써, 간단한 구조로 정밀한 평행광을 얻을 수 있다. 또한, 간단한 방식으로 동작하는 양면 스캔 노광장치를 이용하여 설비의 규모를 간소하게 하고 양면노광을 쉽게 구현할 수 있다.
도 1은 본 발명에 의한 평행광을 구현하는 광학모듈 유닛을 나타내는 개략적인 도면이다.
도 2는 본 발명에 의한 LED 광원을 이용한 스캔 방식의 노광장치에 적용된 제1 광학모듈 어레이를 설명하기 위한 평면도이다.
도 3은 본 발명에 의한 LED 광원을 이용한 스캔 방식의 노광장치에 적용된 제2 광학모듈 어레이를 설명하기 위한 평면도이다.
도 4는 본 발명에 의한 LED 광원을 이용한 스캔 방식의 노광장치에 적용된 제3 광학모듈 어레이를 설명하기 위한 평면도이다.
도 5는 본 발명에 의한 제1 내지 제3 광학모듈 어레이에 냉각을 위한 수단이 부가된 단면도이다.
도 6은 본 발명에 의한 광학모듈 어레이를 이용한 양면 스캔 제1 노광장치를 설명하는 개략적인 도면이다.
도 7 내지 도 10은 본 발명에 의한 광학모듈 어레이를 이용한 양면 스캔 제2 노광장치를 설명하는 개략적인 도면들이다.
이하 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 다음에서 설명되는 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술되는 실시예에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 실시예는 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이다.
본 발명의 실시예는 평행광을 확보할 수 있는 렌즈 배열을 가진 광학모듈을 활용함으로써, 간단한 구조로 정밀한 평행광을 얻을 수 있는 광학모듈 유닛을 제시한다. 또한, 간단한 방식으로 동작하는 양면 스캔 노광장치를 이용함으로써, 설비의 규모를 간소하게 하고 양면노광을 쉽게 구현하는 노광장치를 제시한다. 이를 위해, 평행광을 확보할 수 있는 광학모듈 유닛의 렌즈 배열에 대하여 상세하게 설명하고, 간단한 방식으로 양면 스캔 노광을 실시하는 장치를 구체적으로 살펴보기로 한다. 또한, 상기 장치에 의해 양면노광을 실행하는 과정을 자세하게 알아보기로 한다.
한편, 스캔 노광에 있어서, 평행광을 확보하는 광학모듈은 다양하게 존재할 수 있으나, 본 발명의 실시예는 격벽이 없는 광학모듈을 제시한다. 물론, 격벽이 있는 광학모듈도 평행광을 이룰 수 있으나, 본 발명의 실시예는 격벽이 없어서 구조가 간단한 광학모듈로 한정하기로 한다. 이러한 격벽이 없는 광학모듈은 기하학적인 배열을 고려한 어레이 형태로 존재할 수 있다. 또한, 본 발명의 실시예에 의한 양면 노광장치는 격벽의 유무에 무관하게, 평행광을 이루는 광학모듈을 모두 적용할 수 있다. 이하에서는 이를 구분지어서 설명하기로 한다.
<평행광을 확보하는 광학모듈 유닛>
도 1은 본 발명의 실시예에 의한 평행광을 구현하는 광학모듈 유닛을 나타내는 개략적인 도면이다.
도 1에 의하면, 광학모듈 유닛(10)은 인쇄회로기판(11)에 탑재된 LED 광원(12)에서 방출된 광이 제1 렌즈(13), 제2 렌즈(14), 제3 렌즈(15), 제4 렌즈(16) 및 제5 렌즈(17)을 거쳐 피노광체에 조사된다. 이때, 제1 렌즈(13), 제2 렌즈(14) 및 제3 렌즈(15)는 광을 확장시키는 확장부(a)이고, 제4 렌즈(16) 및 제5 렌즈(17)은 확장부(a)에서 확장된 광을 평행광으로 만드는 평행부(b)이다. 평행부(b)에서 제4 렌즈(16)는 보완하기 위하여 장착되는 것이므로, 경우에 따라 제4 렌즈(16)는 구비하지 않아도 좋다. 제1 렌즈 내지 제5 렌즈(13~17) 각각은 단일 렌즈 뿐 아니라 여러 개의 렌즈가 조합된 렌즈계를 포함한다.
인쇄회로기판(11)은 금속재로 이루어진 기판이 바람직하며, 금속 기판은 특히 열적 안정성에 있어서 유리하다. LED 광원(12)은 자외선(UV)을 방출하며, 용도에 광각(optical angle)을 달리할 수 있다. 광각 및 광강도의 분포를 참조하여 광각을 설정할 수 있고, 통상적으로 최대광각을 사용한다. 만약 광각이 120도이면, -60도~60도의 광강도의 분포를 나타낸다. 이때, 광파워는 광강도 및 광량이 고려된 것으로, 광효율과 직접 연관된다. 구체적으로, 상기 광강도는 LED 광원(12)의 광각에 따른 강도(intensity)이고, 상기 광량은 스캔 노광에 실제 사용되는 광의 양이며, 상기 광파워는 상기 광강도 및 광량이 조합된 것이다. 상기 광효율은 상기 광파워의 균질도(uniformity)를 함께 감안한 것이다.
제1 렌즈(13)는 집광을 위한 렌즈 또는 렌즈계로서, 물체의 상을 만들지 않고, 단순히 빛을 수렴시킨다. 제2 렌즈(14)은 광을 집속하고 확산시키는 렌즈 또는 렌즈계로서, 본 발명의 실시예는 플라이 아이(fly-eye) 렌즈가 바람직하다. 플라이 아이 렌즈는 광을 보다 균일하게 하고, 집광이 원활하고 가까운 거리에 집광 초점을 형성한다. 제3 렌즈(15)는 릴레이 렌즈로서, 서로 다른 렌즈 및 렌즈계를 연결하는 역할을 하며, 광을 반전시키거나 배율을 조정, 또는 광경로를 길게 연장시키거나 결상된 광을 다른 위치로 전달한다. LED 광원(12)의 광이 제3 렌즈(15)를 지나가면, 도시된 바와 같이, 광의 출사면이 확대된 확장광을 이룬다.
제4 렌즈(16)는 제3 렌즈(15)와 동일한 기능 및 역할을 하는 릴레이 렌즈로서, 제3 렌즈(15)로부터 입사된 광을 제5 렌즈(17)로 전달하기 위하여, 광의 위상 및 경로 등을 조절한다. 제5 렌즈(17)은 조준렌즈(collimating lens)라고도 하며, 광을 광축에 평행하게 집중시킨다. LED 광원(12)으로부터 방출된 광이 제5 렌즈(17)을 거치면, 평행한 광을 이루게 된다.
스캔 노광장치는 어퍼쳐(aperture) 형태로 마스크에 형성된 패턴을 포토레지스트에 전사하기 때문에, 상기 어퍼쳐에 의한 회절을 최대한으로 방지하여야 한다. 그런데, 제5 렌즈(17)로부터 마스크로 입사된 광이 평행하지 않을수록, 상기 광의 회절이 많아진다. 이에 따라, 마스크에 입사된 광은 실질적으로 광축에 평행하거나 평행에 근접하여야 한다. 본 발명의 실시예에 의한 제5 렌즈(17)은 실질적으로 광축에 평행하거나 거의 평행한 평행광을 구현한다.
<평행광을 확보하는 광학모듈 어레이>
이하에서는, 광효율을 높이기 위해, 광학모듈 유닛(10)의 배열을 최적화하는 방법을 설명하기로 한다. 도 2 내지 도 4는 본 발명의 실시예에 의한 LED 광원을 이용한 스캔 방식의 노광장치에 적용된 제1 내지 제3 광학모듈 어레이(10a, 10b, 10c)를 설명하기 위한 평면도들이다. 여기서, 제1 내지 제3 광학모듈 어레이(10a, 10b, 10c)는 각각 정삼각형 구조, 정사각형(마름모) 구조 및 정육각형 구조의 중심에 LED 광원(12)이 놓이는 형태이며, 상기 어레이들은 기하학적인 배열을 이루는 것을 제외하고, 도 1의 광학모듈 유닛(10)과 동일하다. 제1 내지 제3 광학모듈 어레이(10a, 10b, 10c)는 각각 광학모듈 고정부(20)에 고정된다. 이에 따라, 중복되는 표현에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
도 2 내지 도 4를 참조하면, 제1 내지 제3 광학모듈 어레이(10a, 10b, 10c)는 n열(n은 양의 정수)을 가진다. 제1 광학모듈 어레이(10a)는 정삼각형 격벽(22), 제2 광학모듈 어레이(10b)는 정사각형 격벽(23) 및 제3 광학모듈 어레이(10c)는 정육각형 격벽(24)으로 각각의 위치를 표현하였다. 제1 내지 제3 광학모듈 어레이(10a, 10b, 10c)에서 광효율이 개선되는 과정은 모두 동일하다. 각각의 격벽(22, 23, 24)는 실질적으로 존재하지 않을 수 있다. 하지만, 실제 광학모듈 어레이의 광효율의 측면에서 확장부(a) 또는 확장부(a)와 평행부(b)를 함께 내재하도록 설치될 수 있다.
상기 n개의 열로 이루어지고, 각 열은 LED 광원(12)이 중심부에 대응하여 위치하고, 서로 접하는 변이 벗어나는 마진(margin)이 없이 일치된 복수개의 정삼각형의 구조의 광학모듈로 구성된다. 여기서, 스캔방향으로 스캔을 진행하면, LED 광원(12)을 지나는 부분의 광파워는 상대적으로 강하다(S; strong). 이에 반해, LED 광원(12) 사이의 공간을 지나는 부분의 광파워는 상대적으로 약하다(W; weak). 이때, 제1 열 및 제2 열은 상기 광파워를 상호 보강한다. 즉, 스캔방향에 대하여, 제1 열의 강한 부분은 제2 열의 약한 부분과 정렬되고, 제1 열의 약한 부분은 제2열의 강한 부분과 정렬된다. 이와 같이, 광파워를 서로 보완하는 관계를 상보관계라고 한다.
본 발명의 실시예에 의한 제1 내지 제3 광학모듈 어레이(10a, 10b, 10c)는 상보관계에 있기 때문에, 스캔 노광의 광파워는 피노광체 전체에 걸쳐 균질하다. 하나의 열을 가진 종래의 광학모듈은 강한 부분(S)과 약한 부분(W)이 고정되어서 상기 광파워는 불균질하지만, 본 발명의 실시예는 상기 상보관계를 이용하여 이를 해결하였다. 상기 상보관계를 보다 효율적으로 활용하면, 피노광체에 전달되는 상기 광파워의 균질도를 보다 높일 수 있다. 다시 말해, n개의 열로 광학모듈 유닛을 배치하면, 노광속도를 높여 노광효율이 증대된다.
한편, 제1 내지 제3 광학모듈 어레이(10a, 10b, 10c)를 이루는 상기 n열은 인접하는 2개의 열, 예컨대 1열과 2열, …, (n-1)열과 n열과 같이 세트를 이루는 것이 좋다. 왜냐하면, 상기 세트의 각각의 열이 도시된 바와 같이 격벽(22, 23, 24)의 선축방향이 LED 광원(12)으로 스캔하는 방향과 일치하지 않으며 어긋나게 배열되면, 격벽(22, 23, 24)의 선축방향에 의한 영향을 배제할 수 있기 때문이다. 만일 상기 선축방향이 스캔방향과 일치하면, 노광이 일어나는 피사체(예컨대, 포토마스크)에 음영을 남긴다. 본 발명의 실시예에 의한 광학격벽(22, 23, 24)의 변들은 상기 선축방향과 일치하는 부분이 없으므로, 피사체에 음영을 남기지 않는다. 특히 정육각형 격벽(24)을 가진 제3 광학모듈 어레이(10c)는 상기 세트를 이루는 것이 보다 효과적이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 의한 제1 내지 제3 광학모듈 어레이에 냉각을 위한 수단이 부가된 단면도이다. 이때, 제1 내지 제3 광학모듈 어레이는 도 2 내지 도 4와 동일하며, 설명의 편의를 위하여 광학모듈 유닛(10)로 표시하였다. 이에 따라, 동일한 참조부호에 대한 상세한 설명은 하지 않기로 한다.
도 5에 의하면, 어레이된 광학모듈 유닛(10)은 인쇄회로기판(11)이 노출되는 면을 제외한 나머지를 내장하는 케이스(33)에 수납된다. 인쇄회로기판(11)은 수랭식 냉각부(30)에 접촉되어 흐르는 유체에 의해 냉각된다. 본 발명의 실시예는 수랭식 냉각부(30) 이외에 공랭식 냉각부(35)가 부가된다. 공랭식 냉각부(35)는 기체의 순환에 의해 냉각하는 것으로, 광학모듈 유닛(10)에 대하여 수랭식 냉각부(30)의 외측에 위치한다. 공랭식 냉각부(35)는 광학모듈 유닛(10)을 관통하여 기체가 흐르도록 하는 제1 유로(31) 및 제1 유로(31)에서 분기되어 수랭식 냉각부(30) 및 인쇄회로기판(11)을 관통하는 제2 유로(32)로 이루어진다.
제1 유로(31)는 기체를 강제로 순환하는 방식이 바람직하며, 도면에서와 같이 기체의 흐름을 제1 유로(31)에 제한하는 것이 좋다. 경우에 따라, 제1 유로(31)의 일부가 개방되어, 기체가 제1 유로(31)를 순환하지 않고, 광학모듈 유닛(10)을 거쳐 외부로 방출되도록 할 수 있다. 제2 유로(32)는 제1 유로(31)에서 분기된 기체가 인쇄회로기판(11) 및 제1 렌즈(13) 사이의 공간으로 주입된다. 주입된 기체는 상기 공간을 지나서 다시 제1 유로(31)로 합류하거나, 제1 렌즈(13)를 지나서 제1 유로(31)과 합쳐질 수 있다. 제2 유로(32)는 발열량이 상대적으로 큰 LED 광원(12) 및 인쇄회로기판(11)을 유용하게 냉각할 수 있다. 이에 따라, 제2 유로(32)는 LED 광원(12) 및 인쇄회로기판(11)과 함께 렌즈들(13~17)을 포함하는 광학모듈 유닛(10)을 냉각시킬 수 있다.
덧붙여, 적어도 2개의 광학모듈 유닛(10)을 하나의 세트로 하여, 상기 세트의 양측에 공랭을 수행하는 팬들(36, 37)을 설치할 수 있다. 예를 들어, 상기 세트의 일측에는 기체를 공급하는 공급팬(36)이 있고, 타측에는 기체를 흡입하는 흡입팬(37)이 있다. 상기 공급 및 흡입은 서로 상대적인 관계이므로, 본 발명의 세트에 따라 적절하게 설정할 수 있다. 세트의 양측의 팬들(36, 37)은 특히 발열이 심한 LED 광원(12) 근처를 보다 확실하게 냉각시킬 수 있다.
<평행광을 확보하는 광학모듈 어레이를 이용한 양면 노광장치>
이하에서는 평행광을 확보하는 광학모듈 어레이를 이용한 양면 노광장치는 제시한다. 양면 노광장치란 피노광체의 전면 및 후면을 하나의 공정에 한꺼번에 노광하는 것을 말한다. 이러한 양면 노광장치에 사용되는 광학모듈 어레이는 격벽의 유무에 무관하게, 평행광을 이루는 광학모듈 유닛을 모두 적용할 수 있다. 물론, 상기 양면 노광장치는 양면노광뿐 아니라 단면노광에도 적용할 수 있으며, 이하에서는 특히 양면을 노광하는 경우를 제시한다.
도 6은 본 발명의 실시예에 의한 광학모듈 어레이를 이용한 양면 스캔 제1 노광장치(100)를 설명하는 개략적인 도면들이다. 여기서는, 제1 광학모듈 어레이(10a)를 적용한 것을 예로 들겠다.
도 6에 의하면, 제1 노광장치(100)는 다이(50) 상에 적어도 2개의 영역으로 구분되는 캐리어(41)가 탑재된다. 도면에서는 2개의 영역(41a, 41b)로 나뉜 캐리어(41)을 도시하였다. P1은 양면 모두가 아직 노광이 진행되지 않은 피노광체이고, P2는 일면은 노광이 완료되었고 타면은 노광이 되지 않은 피노광체이며, P3는 양면이 모두가 노광된 피노광체이다. 다이(50)는 회전할 수도 있고, 다이(50)는 회전하지 않고 캐리어(41)을 이동시킬 수 있다. 여기서는 다이(50)가 회전하는 경우를 예로 들겠다.
S1 파트에서, 캐리어(41)의 하나의 영역(예, 41b)에 P2 피노광체가 이미 있는 상태에서, P1 피노광체를 비어 있는 다른 영역(예, 41a)에 탑재한다. 즉, 캐리어(41)에는 P1 피노광체 및 P2 피노광체가 수납된다. 그후, 다이(50)을 회전시킨다. S2 파트에서, 캐리어(41)를 스테이지(40)에 올려놓고 마스크(42)를 정렬시킨 다음, 광학모듈 어레이(10a)로 스캔하여 노광작업을 수행한다. 이렇게 되면, P1 피노광체는 P2 피노광체가 되고, P2 피노광체는 P3 피노광체가 된다. 이어서, 캐리어(41)를 스테이지(40)로부터 분리하고, 다이(50)을 회전시킨다. S3 파트에서, 양면노광이 완료된 P3 피노광체를 다이(50) 외부로 배출한다. 즉, 캐리어(41)에는 도시된 봐와 같이 P2 피노광체만 존재한다.
S4 파트에서, P2 피노광체를 뒤집어서 다른 영역(41b)로 이동시킨다(CR 공정). 이렇게 되면, P2 피노광체에서 노광이 완료된 면은 감추어지고, 노광이 되지 않은 면이 드러난다. P2 피노광체를 뒤집어서 다른 영역으로 옮긴 상태에서, 다이(50)을 회전하여 S1 파트로 이동시킨다. S1 파트에서는 앞에서 설명한 바와 같이, 빈 영역(41a)에 P1 피노광체를 충진한다. 이에 의해, S1 파트로부터 S4 파트의 하나의 사이클(cycle)이 완료된다. 상기 사이클(cycle)을 계속 반복하면, 양면 스캔 노광을 연속적으로 수행할 수 있다. 한편, S4 파트에서 P2 피노광체는 뒤집어서 다른 영역(41b)으로 옮기지 않고, 같은 영역(41a)에 수납시킬 수도 있다. 이렇게 되면, S1 파트 이후의 단계에서 P1, P2 및 P3 피노광체의 위치가 변경될 수 있다.
본 발명의 실시예에 의한 광학모듈 어레이를 이용한 양면 스캔 제1 노광장치(100)는 하나의 광학모듈 어레이(10a)에 의해 양면 스캔 노광을 실시할 수 있다. 종래에는 양면노광을 하기 위해서는 적어도 2개의 광학모듈 어레이가 필요하였다. 하나의 광학모듈 어레이(10a)를 사용하면, 제1 노광장치(100)이 차지하는 공간을 줄일 수 있다. 또한, 캐리어(41)를 회전시키면, 공정을 단순하게 하여 설비를 간단하게 구현할 수 있다. 물론, 제1 노광장치(100)는 상기한 광학모듈 어레이(10a) 이외에 격벽의 유무에 관계없이, 앞에서 설명한 광학모듈 어레이를 활용할 수 있다.
도 7 내지 도 10은 본 발명의 실시예에 의한 광학모듈 어레이를 이용한 양면 스캔 제2 노광장치(200)를 설명하는 개략적인 도면들이다. 여기서는, 제1 광학모듈 어레이(10a)를 적용한 것을 예로 들겠다.
도 7 및 도 8을 참조하면, 제2 노광장치(200)는 롤 타입의 피노광체(61)는 공급롤(60)로부터 공급되어 다수개의 가이드롤(62)을 거쳐 권취롤(66)에 권취된다. 제1 광학모듈 어레이(10a)는 롤 타입의 피노광체(61)의 양측에 고정되어 배치된다. 롤 타입의 피노광체(61)가 제1 광학모듈 어레이(10a)를 지나가면, 개시선(c)을 출발점으로 스캔되어 노광 공정이 수행된다. 롤 타입의 피노광체(61)는 양측은 각각 마스크가 장착된 마스크 지지대(63, 64)가 배치된다. 마스크 지지대(63, 64)는 길이(L)을 가지며, 제1 광학모듈 어레이(10a) 쪽에 클립(65)이 부착되어 있다. 마스크 지지대(63, 64)는 캐리어와 같이 운반하는 수단, 베이스와 같이 마스크를 지지하는 수단 등이 제한없이 적용될 수 있다.
클립(65)는 마스크 지지대(63, 64)에 부착되고, 마스크 지지대(63, 64)를 피노광체(61)와 합지시키고, 제1 광학모듈 어레이(10a) 방향으로 이동한다. 구체적으로, 클립(65)으로 마스크 지지대(63, 64)를 누르면, 마스크 지지대(63, 64)는 피노광체(61)에 밀착된다. 피노광체(61)가 밀착된 마스크 지지대(63, 64)를 클립(65)을 이용하여 제1 광학모듈 어레이(10a)로 견인하면, 마스크 지지대(63, 64)는 피노광체(61)를 붙잡고 가면서 개시선(c)으로부터 스캔이 진행된다. 제1 광학모듈 어레이(10a)는 피노광체(61)의 양측에 배치되어 있으므로, 양면노광이 진행된다.
도 9 및 도 10을 참조하면, 노광이 완료되면, 클립(65)은 마스크 지지대(63, 64)의 간격(D)을 벌려서, 마스크 지지대(63, 64)를 피노광체(61)로부터 분리한다. 그런 다음, 클립(65)을 이용하여 마스크 지지대(63, 64)를 노광하기 전의 상태로 복귀시킨다. 즉, 클립(65)으로 마스크 지지대(63, 64)를 앞에서와는 반대방향으로 끌어당긴다. 마스크 지지대(63, 64)가 노광 전의 상태로 돌아오면, 클립(65)으로 마스크 지지대(63, 64)를 피노광체(61)에 밀착시킨다. 피노광체(61)를 마스크 지지대(63, 64)에 밀착시키기 전까지 하나의 사이클(cycle)이 완료된다. 상기 사이클(cycle)을 계속 반복하면, 양면 스캔 노광을 연속적으로 수행할 수 있다. 클립(65)의 위치는 본 발명의 범주 내에서 도시된 것과는 다른 곳에 배치할 수도 있다. 도시되지는 않았지만, 마스크 지지대(63, 64)는 이를 정렬하는 수단을 포함한다.
본 발명의 실시예에 의한 광학모듈 어레이를 이용한 양면 스캔 제2 노광장치(200)는 한 쌍의 광학모듈 어레이에 의해 양면 스캔 노광을 연속적으로 실시할 수 있다. 또한, 클립(65)을 이용하여 마스크 지지대(63, 64)가 이동하는 공간을 확보하면 되기 때문에, 제2 노광장치(200)가 차지하는 공간을 획기적으로 줄일 수 있다. 클립(65)을 이용하면, 공정을 단순하게 하여 설비를 간단하게 구현할 수 있다. 도면에서는 제2 노광장치(200)의 마스크 지지대(63, 64)가 지면에 대하여 수직한 경우를 제시하였다. 하지만, 제2 노광장치(200)의 크기, 성능 등을 고려하여, 상기 마스크 지지대(63, 64)는 지면에 대하여 수평하거나 일정한 경사를 갖도록 상기 제2 노광장치(200)를 이루는 구성요소의 배치를 달리 설정할 수 있다.
이상, 본 발명은 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 변형이 가능하다.
10; 광학모듈 유닛 11; 인쇄회로기판
12; LED 광원
13, 14, 15, 16, 17; 제1 내지 제5렌즈
20; 광학모듈 고정부 30; 수랭식 냉각부
31, 32; 제1 및 제2 유로
33; 케이스 35; 공랭식 냉각부
40; 스테이지 41; 캐리어
42; 마스크 50; 다이
60; 공급롤 61; 롤 타입 피노광체
62; 가이드롤
63, 64; 마스크 지지대
65; 클립 66; 권취롤
100, 200; 제1 및 제2 노광장치

Claims (12)

  1. LED 광원;
    상기 LED 광원의 광축에 따라 일측에 배치되며, 상기 LED 광원으로부터 방출된 광을 수렴하는 제1 렌즈;
    상기 LED 광원의 광축에 따라 상기 제1 렌즈의 일측에 배치되며, 상기 제1 렌즈를 거친 상기 광을 집속하고 확산시키는 제2 렌즈; 및
    상기 LED 광원의 광축에 따라 상기 제2 렌즈의 일측에 배치되며, 상기 제2 렌즈를 거친 상기 광을 평행광으로 변환시키는 제5 렌즈를 포함하고,
    상기 제1 및 제2 렌즈는 상기 광을 확장시키고, 상기 제5 렌즈는 상기 확장된 광을 상기 광축에 평행하게 하고,
    광학모듈 유닛은 복수개가 조합되어 어레이를 이루고, 상기 어레이는 정삼각형, 정사각형 및 정육각형 중의 어느 하나의 중심부에 상기 LED 광원이 탑재되며, 상기 정삼각형, 정사각형 및 정육각형 중의 어느 하나의 변은 상기 LED 광원이 스캔하는 방향과 일치하지 않는 것을 특징으로 하는 평행광을 구현하는 광학모듈 유닛.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제2 렌즈 및 상기 제5 렌즈 사이에는 상기 제2 렌즈 및 상기 제5 렌즈를 광학적으로 연결시키는 제3 렌즈 또는 제4 렌즈 중의 적어도 어느 하나를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평행광을 구현하는 광학모듈 유닛.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제2 렌즈는 플라이 아이(fly eye) 렌즈인 것을 특징으로 하는 평행광을 구현하는 광학모듈 유닛.
  4. 삭제
  5. 제1항에 있어서, 상기 어레이는 상기 LED 광원의 각각이 중심에 대응하여 공간적으로 이격되어 위치하는 n(n은 양의 정수)개의 열을 이루고, 인접하는 열은 상기 LED 광원으로 스캔할 때, 상기 LED 광원이 지나는 부분과 상기 LED 광원 사이를 지나는 부분이 서로 정렬되는 것을 특징으로 하는 평행광을 구현하는 광학모듈 유닛.
  6. 제1항에 있어서, n개의 상기 광학모듈 유닛은 케이스에 내장되고, 상기 케이스의 양측에는 n개의 상기 광학모듈 유닛을 냉각시키기 위한 기체가 순환하는 제1 유로가 부착된 것을 특징으로 하는 평행광을 구현하는 광학모듈 유닛.
  7. 제6항에 있어서, 상기 LED 광원은 인쇄회로기판에 탑재되고, 상기 인쇄회로기판에는 상기 제1 유로에서 분기되는 제2 유로가 관통하고, 상기 제2 유로를 통하여 상기 LED 광원 및 상기 인쇄회로기판과 함께 상기 렌즈들을 포함하는 상기 광학모듈 유닛을 냉각시키기 위한 기체가 공급되고 배출되는 것을 특징으로 하는 평행광을 구현하는 광학모듈 유닛.
  8. 제1항에 있어서, 상기 광학모듈 유닛은 적어도 2개로 하나의 세트를 이루어 상기 세트의 양측에 공랭을 수행하는 팬들이 설치된 것을 특징으로 하는 평행광을 구현하는 광학모듈 유닛.
  9. 다이;
    상기 다이 상에 놓이며, 적어도 2개의 영역으로 구분되고, 상기 영역 각각에는 양면 모두가 노광되지 않은 P1 피노광체, 일면만 노광된 P2 피노광체 및 양면이 모두 노광된 P3 피노광체 중 적어도 어느 하나가 수납되며, 상기 다이의 둘레를 따라 회전하는 캐리어; 및
    상기 캐리어에 상기 P1 피노광체 및 상기 P2 피노광체에 마스크가 배치된 상태에서 상기 P1 피노광체 및 상기 P2 피노광체를 동시에 노광하는 광학모듈 어레이를 포함하고,
    상기 광학모듈 어레이는 평행광을 방출하는 복수개의 광학모듈 유닛이 조합되어 이루어지고,
    상기 노광이 완료된 P1 피노광체 및 상기 P2 피노광체는 회전하여 상기 P3 피노광체를 외부로 배출하고, 다시 회전하여 상기 P2 피노광체는 뒤집어서 다른 영역으로 옮겨지는 것을 특징으로 하는 평행광을 구현하는 광학모듈 유닛을 이용한 양면 스캔 노광장치.
  10. 삭제
  11. 롤 타입의 피노광체를 공급하는 공급롤;
    상기 롤 타입의 피노광체를 권취하는 권취롤;
    상기 공급롤 및 권취롤 사이에 배치되고, 상기 피노광체의 양측에 설치되며, 평행광을 방출하는 복수개의 광학모듈 유닛이 조합된 광학모듈 어레이;
    상기 광학모듈 어레이 사이의 공간을 왕복운동하며, 상기 피노광체에 밀착되거나 분리되는 마스크 지지대; 및
    상기 마스크 지지대의 일측에 배치되고, 상기 마스크 지지대를 상기 피노광체에 밀착시키거나 분리시키며, 상기 광학모듈 어레이 사이의 공간으로 상기 마스크 지지대를 왕복운동시키는 클립을 포함하고,
    상기 마스크 지지대가 상기 피노광체에 밀착되어 서로 정렬된 상태에서 상기 광학모듈 어레이 사이의 공간을 지나갈 때 양면 노광이 수행되고, 상기 양면 노광이 완료되면 상기 마스크 지지대는 상기 피노광체와 분리되어 상기 양면 노광을 수행하기 전의 위치로 복귀하는 것을 특징으로 하는 평행광을 구현하는 광학모듈 유닛을 이용한 양면 스캔 노광장치.
  12. 삭제
KR1020160027033A 2016-03-07 2016-03-07 평행광을 구현하는 광학모듈 유닛 및 이를 이용한 스캔 노광장치 KR101819612B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160027033A KR101819612B1 (ko) 2016-03-07 2016-03-07 평행광을 구현하는 광학모듈 유닛 및 이를 이용한 스캔 노광장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160027033A KR101819612B1 (ko) 2016-03-07 2016-03-07 평행광을 구현하는 광학모듈 유닛 및 이를 이용한 스캔 노광장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20170104251A KR20170104251A (ko) 2017-09-15
KR101819612B1 true KR101819612B1 (ko) 2018-02-28

Family

ID=59926876

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160027033A KR101819612B1 (ko) 2016-03-07 2016-03-07 평행광을 구현하는 광학모듈 유닛 및 이를 이용한 스캔 노광장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101819612B1 (ko)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007073443A (ja) * 2005-09-08 2007-03-22 Nissei Electric Co Ltd 照明装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007073443A (ja) * 2005-09-08 2007-03-22 Nissei Electric Co Ltd 照明装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR20170104251A (ko) 2017-09-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9614348B2 (en) Light source arrangement including semiconductor light source
JP6007861B2 (ja) 光偏向器及び画像投射装置
KR101660621B1 (ko) Led 및 원주 렌즈를 갖춘 조명 기구
EP2950145B1 (en) Illumination system for lithography
US20110001937A1 (en) Projection Display Device And Illumination Device
CN103597404A (zh) 光刻设备、可编程图案形成装置以及光刻方法
JP2014053285A5 (ko)
US20140049755A1 (en) Illumination light generation apparatus
US20080084612A1 (en) Apparatus for generating a homogeneous angular distribution of laser irradiation
JP6253163B2 (ja) 投影リソグラフィのための照明光学ユニット
US20050226000A1 (en) Optical apparatus for illuminating an object
KR101748016B1 (ko) 반사기를 갖춘 조명 유닛
KR20060050911A (ko) 노광용 광원
JP2006186302A (ja) 走査型露光用光源ユニット
KR101819612B1 (ko) 평행광을 구현하는 광학모듈 유닛 및 이를 이용한 스캔 노광장치
TW201407295A (zh) 照明裝置、處理裝置、及元件製造方法
JP5825546B2 (ja) 露光装置用光照射装置
JP6283798B2 (ja) 露光装置および照明ユニット
CN101320202A (zh) 舞台投影仪结构
US20240126176A1 (en) Spatial light modulation unit and exposure apparatus
WO2024038537A1 (ja) 光源ユニット、照明ユニット、露光装置、及び露光方法
KR101808419B1 (ko) 냉각부 및 광학격벽을 포함하는 led 광원을 이용한 스캔 방식의 노광장치
WO2024038533A1 (ja) 光源ユニット、照明ユニット、露光装置、及び露光方法
WO2024038535A1 (ja) 照明ユニット、露光装置、及び露光方法
JP2012114390A (ja) 露光装置用光照射装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant