JP5648733B1 - 光照射装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】光源及び偏光子ユニットを適切に冷却可能な光照射装置を提供する。【解決手段】光照射装置1は、光照射器2の筐体3に反射鏡5と光源4を収納し、筐体3の光出射開口部3Aに光透過部材6,7と偏光子ユニット10を備え、反射鏡5と光源4の熱源冷却経路30と、光透過部材6,7と偏光子ユニット10間の空間冷却経路40とを独立させる構成とし、光源4及び偏光子ユニット10を個別に冷却する。【選択図】図1

Description

本発明は、光源及び偏光子ユニットを備えた光照射装置に関する。
従来、光照射器の筐体内に光源を備え、筐体の光出射開口部に設けた偏光子ユニットによって光源からの光を偏光して照射する光照射装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。この光照射装置は、筐体内に光源及び偏光子ユニットの冷却経路を備えている。
特許第5056991号公報
光照射装置においては、光源は低温下で短寿命となるため温度が比較的高くなるように冷却される必要があり、一方、偏光子ユニットは耐熱性の観点から温度が比較的低くなるように冷却される必要がある。
しかしながら、上述した従来の構成では、偏光子ユニットを冷却した冷却風が光源を冷却する構成となっているため、偏光子ユニットを十分に冷却しようとすると、光源が冷却され過ぎてしまうという問題がある。
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであり、光源及び偏光子ユニットを適切に冷却可能な光照射装置を提供することを目的とする。
上述した目的を達成するために、本発明の光配向装置は、光照射器の筐体に反射鏡と光源を収納し、前記筐体の光出射開口部に当該光出射開口部を塞ぐように光透過部材を備え、この光透過部材の外側には、当該光透過部材に対向する位置に当該光透過部材と空間を空けて偏光子ユニットを設け、前記筐体の前記光出射開口部の内側に冷却風を供給する、反射鏡と光源の熱源冷却経路と、前記光透過部材と前記偏光子ユニットとの間の前記空間に冷却風を供給する、偏光子ユニットの偏光子冷却経路とを独立させ、前記光透過部材と前記偏光子ユニットとの間の前記空間が前記偏光子冷却経路を構成していることを特徴とする。
上述の構成において、前記光透過部材と前記偏光子ユニット間の空間を陽圧に設定してもよい。
上述の構成において、前記偏光子ユニットは複数の偏光子を横並びに配置して形成されていてもよい。
上述の構成において、前記熱源冷却経路及び前記偏光子冷却経路に冷却機で冷却した冷却風を流してもよい。
本発明によれば、反射鏡と光源の熱源冷却経路と、光透過部材と偏光子ユニット間の空間冷却経路とを独立させたため、光源及び偏光子ユニットを個別に冷却でき、光源及び偏光子ユニットを適切に冷却できる。
本発明の第1実施形態に係る光配向装置を模式的に示す正面図である。 光配向装置を示す正面図である。 図2の光照射器を拡大して示す図である。 偏光子ユニットの構成を示す図であり、(A)は平面図、(B)は側断面視図である。 本発明の変形例に係る光配向装置を示す正面図である。 本発明の第2実施形態に係る光配向装置を備えた光配向照射システムの構成を模式的に示す平面図であり、第1及び第2ワークステージの待機状態を示す。 光配向照射システムの構成を模式的に示す平面図であり、第1ワークステージに光配向対象物を設置する状態を示す。 光配向照射システムの構成を模式的に示す平面図であり、第1ワークステージの移動中に、次の光配向対象物をロボットが受け取る状態を示す。 光配向照射システムの構成を模式的に示す平面図であり、第1ワークステージの移動中に、次の光配向対象物を第2ワークステージに設置する状態を示す。 光配向照射システムの構成を模式的に示す平面図であり、第1及び第2ワークステージの移動中に、ロボットを移動させる状態を示す。 光配向照射システムの構成を模式的に示す平面図であり、第2ワークステージの移動中に、さらに次の光配向対象物を第1ワークステージに設置する状態を示す。
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
<第1実施形態>
図1は第1実施形態に係る光配向装置を模式的に示す正面図であり、図2は光配向装置を示す図である。図3は図2の光照射器を拡大して示す図である。図4は、偏光子ユニットの構成を示す図であり、図4(A)は平面図、図4(B)は側断面視図である。
光配向装置1は、図1に示すように、板状もしくは、帯状の光配向対象物(ワーク)Wの光配向膜に偏光光を照射して光配向する光照射装置である。
光配向装置1は、ステージ搬送架台81と、照射器設置架台82と、光配向対象物W(図2)が載置されるワークステージ(ステージ)83と、直下に偏光光を照射する光照射器2とを備えている。
照射器設置架台82は、ステージ搬送架台81から所定距離離れた上方位置でステージ搬送架台81の幅方向(後述する直動機構の直動方向Xに垂直な方向)に横架される門体であり、その両柱がステージ搬送架台81に固定される。照射器設置架台82は光照射器2を内蔵し、光照射器2が直下に偏光光を照射する。なお、ワークステージ83の移動に伴う振動と光照射器2の冷却に起因する振動とを分離するために、照射器設置架台82をステージ搬送架台81に固定するのではなく当該ステージ搬送架台81と別置する構成でも良い。ステージ搬送架台81と、照射器設置架台82は防振構造を有しても良い。
ステージ搬送架台81には、直動方向Xに沿ってステージ搬送架台81の面上を光照射器2の直下を通過するようにワークステージ83を移送する直動機構84(図6)が内設されている。光配向対象物Wの光配向にあっては、ワークステージ83に載置された光配向対象物Wが、直動機構84によって直動方向Xに沿って移送されて光照射器2の直下を通過し、この通過の際に偏光光に曝露されて光配向膜が配向される。本実施形態では、光配向対象物Wは平面視で矩形状に形成され、光配向対象物Wの短手方向が直動方向Xに一致するように移送されるようになっている。
光照射器2は、図2及び図3に示すように、下面に光出射開口部3Aを有する筐体3内に光源たるランプ4及び反射鏡5を備えるとともに、光出射開口部3Aに偏光子ユニット10を備えている。
筐体3は、光配向対象物Wから所定距離離れた上方位置で照射器設置架台82に支持されている。ランプ4は、放電灯であり、少なくとも光配向対象物Wの長手方向の長さと同等以上に延びる直管型(棒状)の紫外線ランプが用いられている。反射鏡5は、断面楕円形、かつランプ4の長手方向に沿って延びるシリンドリカル凹面反射鏡であり、ランプ4の光を集光して光出射開口部3Aから偏光子ユニット10に向けて照射する。
光出射開口部3Aは、ランプ4の直下に形成された平面視で矩形状の開口部であり、長手方向がランプ4の長手方向に一致するように設けられている。
光出射開口部3Aには、例えば石英板等のフィルタ特性(波長選択特性)を有さない光透過部材で形成された板状の透明体6が設けられ、この透明体6によって光出射開口部3Aが塞がれる。
また、光出射開口部3Aの内側には、透過する光の波長を選択する波長選択フィルタ7が設けられ、この波長選択フィルタ7によって光照射器2は所望の波長の光を照射するようになっている。
これらの透明体6及び波長選択フィルタ7は本実施形態の光透過部材を構成している。なお、本実施形態では、波長選択フィルタ7を設けたが、ランプ4自体で所望の波長の光を出射できる場合には、波長選択フィルタ7を省略してもよい。
偏光子ユニット10は、透明体6と光配向対象物Wの間に配置され、光配向対象物Wに照射される光を偏光する。この偏光光が光配向対象物Wの光配向膜に照射されることで、当該光配向膜が配向される。
偏光子ユニット10は、図4に示すように、複数の単位偏光子ユニット12と、これら単位偏光子ユニット12を横並びに一列に整列するフレーム14とを備えている。フレーム14は、各単位偏光子ユニット12を連接配置する板状の枠体である。単位偏光子ユニット12は、略矩形板状に形成されたワイヤーグリッド偏光子(偏光子)16を備えている。
本実施形態では、各単位偏光子ユニット12は、ワイヤーグリッド偏光子16をワイヤー方向Aが直動方向Xと平行になるように支持し、このワイヤー方向Aと直交する方向と、ワイヤーグリッド偏光子16の配列方向Bとが一致するようになされている。
ワイヤーグリッド偏光子16は、直線偏光子の一種であり、基板の表面にグリッドを形成したものである。上述の通り、ランプ4が棒状であることから、ワイヤーグリッド偏光子16には、さまざまな角度の光が入射するが、ワイヤーグリッド偏光子16は、斜めに入射する光であっても直線偏光化して透過する。
ワイヤーグリッド偏光子16は、その法線方向を回動軸にして面内で回動させて偏光軸C1の方向を微調整できるように単位偏光子ユニット12に支持されている。すなわち、複数のワイヤーグリッド偏光子16は、偏光軸C1の方向を微調整できるように互いに隙間を空けて配置されている。全ての単位偏光子ユニット12について、ワイヤーグリッド偏光子16の偏光軸C1が所定の照射基準方向に揃うように微調整されることで、偏光子ユニット10の長軸方向の全長に亘り偏光軸C1が高精度に揃えられた偏光光が得られ、高品位な光配向が可能となる。偏光軸C1が調整されたワイヤーグリッド偏光子16は、単位偏光子ユニット12の上端、及び下端がねじ(固定手段)19によってフレーム14に固定されることで、フレーム14に固定配置される。
また、光配向装置1は、図2及び図3に示すように、ランプ4、反射鏡5、波長選択フィルタ7及び偏光子ユニット10を冷却する冷却ユニット20を備えている。この冷却ユニット20は、ランプ4及び反射鏡5を冷却するための熱源冷却経路30と、偏光子ユニット10を冷却するための偏光子冷却経路40とをそれぞれ独立して備えている。
熱源冷却経路30及び偏光子冷却経路40のそれぞれには、冷却風を送風する送風機21,21と、冷却風を冷却する冷却機22,22と、冷却風に含まれる塵埃等の異物を除去するフィルタ23,23が設けられている。送風機21は、冷却機22の上流側に配置してある。これにより、冷却機22で冷却された冷却風が送風機21の熱源で再加熱されることを防止できる。本実施の形態では、送風機21にブロアを、冷却機22に水冷式のラジエータを、フィルタ23にHEPA(High Efficiency Particulate Air)フィルタを用いているが、送風機21、冷却機22及びフィルタ23はこれらの構成に限定されるものではない。
熱源冷却経路30においては、送風機21、冷却機22及びフィルタ23は、筐体3の外部に設けた冷却ユニットケース20A内に収容されている。本実施形態では、冷却ユニットケース20Aは、筐体3の上方に筐体3と離間して配置されているが、冷却ユニットケース20Aの配置位置はこれに限定されるものではない。冷却ユニットケース20A内にはチャンバ24が設けられ、送風機21の吹出口21Aとチャンバ24の入口24Aとがダクト25で接続されている。チャンバ24は入口24Aから下流側に向けて拡径し、チャンバ24内の上流側には冷却機22が、下流側にはフィルタ23が配置されている。チャンバ24の出口24Bと筐体3とはダクト26で接続され、送風機21の吸込口21Bと筐体3とはダクト27で接続されている。
筐体3内には、ランプ4及び反射鏡5の側方を囲む隔壁31が、筐体3と隙間δ1を空けて設けられている。隔壁31は、下部にランプ4及び反射鏡5を下方に露出する開口31Aを有するとともに、上部に通風孔31Bを有している。
ダクト26は隔壁31の外側の隙間δ1に対応する位置の筐体3に接続され、ダクト27は隔壁31の内側の空間Rに対応する位置の筐体3に接続されている。
これら送風機21、ダクト25、チャンバ24(冷却機22,フィルタ23)、ダクト26、隔壁31の外側の隙間δ1、隔壁31の内側の空間R及びダクト27は熱源冷却経路30を構成している。
熱源冷却経路30においては、送風機21から吹き出された冷却風(空気)は、ダクト25を介してチャンバ24内に流れ、冷却機22で冷却されるとともにフィルタ23で異物が除去される。このフィルタ23により、冷却風は、露点が−50°C〜−90°C以下程度になるように除湿されるとともに異物が除去されて低露点高清浄度空気(クリーンドライエアー)となる。クリーンドライエアーとなった冷却風は、ダクト26を介して筐体3内に供給される。
筐体3内では、冷却風は、隔壁31と筐体3との間の隙間δ1を通り、隔壁31と透明体6との間の隙間δ2を流れて、反射鏡5内と、反射鏡5の外側であって隔壁31内の空間Rとに流れ込み、ランプ4及び反射鏡5を冷却する。ランプ4及び反射鏡5を冷却して温度が高くなった冷却風は、反射鏡5の上部に形成された貫通孔5Aから、そして、反射鏡5の外側から隔壁31内の空間Rに流れ、ダクト27を介して送風機21に吸い込まれて、再び冷却される。このように、冷却風は熱源冷却経路30を循環している。
偏光子冷却経路40においても、冷却ユニットケース20Aに、送風機21と、チャンバ24内に配置した冷却機22及びフィルタ23とが配置され、送風機21の吹出口21Aとチャンバ24の入口24Aとがダクト25で接続されている。
また、チャンバ24の出口24Bと筐体3とはダクト28で接続され、送風機21の吸込口21Bと筐体3とはダクト29で接続されている。
ダクト28は、筐体3の光出射開口部3A、より詳細には偏光子ユニット10の長手方向の長さに亘って延在する延在部28Aと、延在部28Aから縮径する縮径部28Bとを備えている。縮径部28Bはチャンバ24の出口24Bに接続され、延在部28Aは筐体3に接続される。同様に、ダクト29は、筐体3の光出射開口部3A、より詳細には偏光子ユニット10の長手方向の長さに亘って延在する延在部29Aと、延在部29Aから縮径する縮径部29Bとを備えている。縮径部29Bは送風機21の吸込口21Bに接続され、延在部29Aは筐体3に接続される。延在部28A及び延在部29Aは板状の支持部材28C,29Cを介して筐体3に支持されている。
偏光子ユニット10は、筐体3の外側において光出射開口部3Aに対向する位置に、透明体6と空間Sを空けて設けられ、フレーム14が偏光子ユニット固定台8に固定されている。筐体3と偏光子ユニット固定台8との間にダクト28,29が接続される。ダクト28は直動方向Xの一端側に接続され、ダクト29は直動方向Xの他端側に接続されている。
これら送風機21、ダクト25、チャンバ24(冷却機22,フィルタ23)、ダクト28、透明体6と偏光子ユニット10との間の空間S及びダクト29は偏光子冷却経路40を構成している。すなわち、この偏光子冷却経路40は、透明体6と偏光子ユニット10との間の空間Sを冷却する空間冷却経路を構成している。
偏光子冷却経路40においては、送風機21から吹き出された冷却風は、ダクト25を介してチャンバ24内に流れ、冷却機22で冷却されるとともにフィルタ23で異物が除去されて、ダクト28を介して透明体6と偏光子ユニット10との間の空間Sに流れ込み、偏光子ユニット10を冷却する。このとき、空間Sに流れ込んだ冷却風は、ランプ4の長手方向に対して直交するように流れる。偏光子ユニット10を冷却して温度が高くなった冷却風は、ダクト29を介して送風機21に吸い込まれ、再び冷却される。このように、冷却風は偏光子冷却経路40を循環している。
また、偏光子冷却経路40は、熱源冷却経路30と完全に独立しているため、熱源冷却経路30及び偏光子冷却経路40を流れる冷却風の温度をそれぞれ制御することで、ランプ4及び偏光子ユニット10を個別に冷却できる。
このとき、送風機21,21を個別に制御し、熱源冷却経路30の冷却風の風速を比較的遅く、偏光子冷却経路40の冷却風の風速を比較的早く設定することで、光源4を比較的高い温度で冷却し、偏光子ユニット10を比較的低い温度で冷却できる。これにより、ランプ4及び偏光子ユニット10を適切に冷却できる。
しかも、透明体6と偏光子ユニット10との間の空間Sに冷却風を供給するダクト28及び空間Sから冷却風を排出するダクト29は偏光子ユニット10の長手方向の長さに亘って延在するため、偏光子ユニット10全体に亘って略均等に冷却できる。
ところで、光配向対象物Wの処理中(照射中)には配向膜からアウトガスが発生することがある。また、光配向装置1が配置される環境には、例えば紙粉等の異物も存在する。このアウトガス等の異物がワイヤーグリッド偏光子16に混入、または付着すると、ワイヤーグリッド偏光子16の偏光特性が変化し悪影響を及ぼす。
そこで、本実施形態では、光配向装置1は、透明体6と偏光子ユニット10間の空間Sを陽圧にする陽圧機構50を備えている。より具体的には、送風機21の吸込口21Bと筐体3とを接続するダクト29には、例えばダンパ等から構成される流量調節手段51が設けられている。この流量調節手段51を用いて空間Sの下流に位置するダクト29を流れる冷却風の流量を絞ることで、透明体6と偏光子ユニット10間の空間Sを陽圧に設定することができる。
空間Sが陽圧になると、偏光子ユニット10の隙間から冷却風が外部に吹き出されることとなるので、偏光子ユニット10の隙間から異物が偏光子冷却経路40内に侵入することを防止できる。これにより、偏光子ユニット10に異物が付着、又は侵入することを確実に防止できる。
偏光子ユニット10の隙間としては、例えば偏光子ユニット10のフレーム14と偏光子ユニット固定台8との間の隙間や、複数のワイヤーグリッド偏光子16間の隙間等が挙げられる。したがって、これらの隙間を気密に塞ぐ手段を設けることなく、偏光子冷却経路40への異物の侵入を確実に防止できるので、光配向装置100の部品点数を削減し、製造工程を簡素化できる。
また、ダクト29には、外部から空気を導入する導入口52が形成されている。この導入口52を介して、偏光子ユニット10の隙間から吹き出された分だけ外部から空気が導入されるので、偏光子冷却経路40内が負圧になり過ぎるのを防止でき、送風機21を効率良く運転できる。本実施形態では、導入口52を流量調節手段51の下流に設けているが、導入口52は冷却機22及びフィルタ23の上流であれば任意の位置に設けることができる。
これらの流量調節手段51及び導入口52は本実施形態の陽圧機構50を構成している。
以上説明したように、本実施形態によれば、光配向装置1は、光照射器2の筐体3に反射鏡5とランプ4を収納し、筐体3の光出射開口部3Aに透明体6、波長選択フィルタ7等の光透過部材と偏光子ユニット10を備え、反射鏡5とランプ4の熱源冷却経路30と、光透過部材と偏光子ユニット10間の偏光子冷却経路40とを独立させる構成とした。この構成により、熱源冷却経路30及び偏光子冷却経路40を流れる冷却風の温度を個別に制御することで、ランプ4及び偏光子ユニット10を個別に冷却できるので、ランプ4及び偏光子ユニット10を適正に冷却できる。
また、本実施形態によれば、透明体6と偏光子ユニット10間の空間Sを陽圧に設定する構成としたため、偏光子ユニット10の隙間から冷却風を外部に吹き出すことができるので、異物が光配向装置100内に侵入することを防止できる。
また、本実施形態によれば、偏光子ユニット10は複数のワイヤーグリッド偏光子16を横並びに配置して形成される構成とした。この構成においても、透明体6と偏光子ユニット10間の空間Sを陽圧に設定することで、複数のワイヤーグリッド偏光子16間の隙間から冷却風を外部に吹き出すことができるので、異物が光配向装置100内に侵入することを防止できる。
なお、本実施形態では、偏光子冷却経路40において、送風機21の吸込口21Bと筐体3とを接続するダクト29に陽圧機構50を設けたが、図5に示す光照射装置100のように、送風機21の吸込口21Bと筐体3とを単にダクト29で接続してもよい。
<第2実施形態>
次に、図6乃至図11を参照し、本発明の第2実施形態について説明する。
上述した第1実施形態では、光配向装置1が1つのワークステージ83を有していたが、第2実施形態では、光配向装置200が2つのワークステージ83を有するツインステージ型に構成されている。なお、図6乃至図11では、図1に示す光配向装置1と同一部分には同一の符号を付して説明を省略する。
図6は、第2実施形態に係る光配向装置200を備えた光配向照射システムの構成を模式的に示す平面図であり、ワークステージ83の待機状態を示す図である。
光配向照射システムは、光配向装置200と、ロボット装置90と、角度調整装置85とを備えて構成されている。
光配向装置200は、ステージ搬送架台81と、照射器設置架台82と、2つのワークステージ83と、光照射器2とを備えている。
ステージ搬送架台81には、直動方向Xに沿ってステージ搬送架台81の面上を光照射器2の直下を通過するようにワークステージ83を移送する直動機構84と、各ワークステージ83に対応して設けられ、ワークステージ83を回転駆動する回転駆動機構(不図示)とが内設されている。この回転駆動機構は、光配向対象物Wが、光配向対象物Wの一対の辺がランプ4の長軸Lに対して一致(平行)し、光配向対象物Wの他の一対の辺がランプ4の長軸Lに対して直交する正姿勢となるように、ワークステージ83を回転させて、光配向対象物Wの角度を微調整する。また、光配向対象物Wの照射に必要な偏光光の偏光軸角度がランプ4の長軸Lに対して所定の角度の場合、回転駆動機構は、ワークステージ83を所定角度回転させる。
ロボット装置90は、光配向装置200のステージ搬送架台81に平行に設けられた定盤91と、この定盤91に支持されたロボット92と、ロボット92を直動方向Xに沿って往復移動する往復駆動機構93とを備えて構成されている。ロボット92は、直動方向Xに沿って往復移動(回転及び伸縮)可能なアーム92Aと、アーム92Aに固定され光配向対象物Wを保持する保持部92Bとを備えている。アーム92Aは定盤91に、水平面において回転可能に支持されている。本実施形態のアーム92Aは、回動自在な複数の関節を有して伸縮自在に構成された多関節アームであるが、アーム92Aの構成はこれに限定されるものではない。ロボット92は、アーム92Aを移動して、外部から光配向対象物Wを受け取り、光配向対象物Wを角度調整装置85の調整ステージ上に載置するとともに、角度調整装置85からワークステージ83上に光配向対象物Wを載置する。
角度調整装置85は、図示は省略するが、光配向対象物Wが載置されて光配向対象物Wの角度を調整する調整ステージを備えている。角度調整装置85は、光配向対象物Wの一対の辺がランプ4の長軸Lに対して一致(平行)し、光配向対象物Wの他の一対の辺がランプ4の長軸Lに対して直交する正姿勢となるように、光配向対象物Wの角度を調整する。
次に、光配向照射システムの動作について説明する。
ここで、説明の便宜上、一方のワークステージ83を第1ワークステージ83、他方のワークステージ83を第2ワークステージ83と言うものとする。
初期状態では、図6に示すように、第1及び第2ワークステージ83は直動方向Xの一端P1側、他端P2側にそれぞれ位置するとともに、ロボット92は一端P1側に位置し、ランプ4は点灯されている。
まず、ロボット92は、光配向装置200の外部から光配向対象物Wを受け取り、角度調整装置85によって光配向対象物Wを正姿勢にした後、図7に示すように、光配向対象物Wを第1ワークステージ83上に載置する。第1ワークステージ83の回転駆動機構は、第1ワークステージ83を駆動して、光配向対象物Wの角度を微調整するとともに、必要であれば、ランプ4の長軸Lに対して所定の角度だけ光配向対象物Wを回転させる。そして、直動機構84が、図8に示すように、第1ワークステージ83を移動させることで、光配向対象物Wに偏光光が照射される。
第1ワークステージ83において光配向対象物Wに照射している間、ロボット92は、アーム92Aを移動して光配向装置200の外部から次の光配向対象物Wを受け取り、角度調整装置85によって光配向対象物Wを正姿勢にして、光配向対象物Wを再度受け取る。そして、ロボット92は、図9に示すように、往復駆動機構93によって他端P2側に移動して、アーム92Aを移動して光配向対象物Wを第2ワークステージ83上に載置する。第2ワークステージ83の回転駆動機構は、光配向対象物Wの角度を微調整するとともに、必要であれば、ランプ4の長軸Lに対して所定の角度だけ光配向対象物Wを回転させる。そして、直動機構84が、図10に示すように、第1ワークステージ83の復路の移動に追従させて第2ワークステージ83を移動させることで、第2ワークステージ83上の光配向対象物Wに偏光光が照射される。
第1及び第2ワークステージ83において光配向対象物Wに照射している間、ロボット92は、往復駆動機構93によって一端P1側に移動する。
第2ワークステージ83において光配向対象物Wに照射している間、ロボット92は、図11に示すように、第1ワークステージ83から光配向対象物Wを受け取り、外部の保管場所に配置する。そして、ロボット92は、外部から光配向対象物Wを受け取り、角度調整装置85によって光配向対象物Wを正姿勢にした後、光配向対象物Wを第1ワークステージ83上に載置する。
このように、2つのワークステージ83を設け、一のワークステージ83の移動に追従するように、他のワークステージ83を移動させることで、光配向対象物Wの処理(光配向照射)の工程作業時間を短縮できる。
但し、上述の実施形態は本発明の一態様であり、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能であるのは勿論である。
例えば上述の実施形態では、光源を、紫外線を放射するランプ4として説明したが、光源はこれに限定されるものではない。
また、上述の実施形態では、光透過部材として透明体6及び波長選択フィルタ7を設けていたが、光透過部材はこれらに限定されるものではない。
また、上述の実施形態では、複数のワイヤーグリッド偏光子16で偏光子ユニット10を構成していたが、ワイヤーグリッド偏光子16は1つであってもよい。
また、上述の実施形態では、偏光子としてワイヤーグリッド偏光子16を用いたが、偏光子は例えば蒸着膜を用いた偏光子であってもよい。
また、上述の実施形態では、上流から送風機21、冷却機22、フィルタ23の順に配置していたが、これらの配置順は任意に変更可能である。
また、上述の実施形態では、熱源冷却経路30及び偏光子冷却経路40を流れる冷却風の温度を個別に制御するべく、送風機21,21を個別に制御したが、冷却機22,22での冷却温度を異なる温度に設定してもよい。
また、上述の実施形態では、熱源冷却経路30及び偏光子冷却経路40を完全に独立させていたが、熱源冷却経路30及び偏光子冷却経路40の一部、例えば、送風機21、冷却機22、フィルタ23の少なくとも1つを共通化してもよい。
また、上述の実施形態では、熱源冷却経路30及び偏光子冷却経路40の冷却風を循環させていたが、冷却風は必ずしも循環させる必要はない。
1,100 光配向装置(光照射装置)
2 光照射器
3 筐体
3A 光出射開口部
4 ランプ(光源)
5 反射鏡
6 透明体(光透過部材)
7 波長選択フィルタ(光透過部材)
10 偏光子ユニット
30 熱源冷却経路
40 偏光子冷却経路(空間冷却経路)
S 空間

Claims (4)

  1. 光照射器の筐体に反射鏡と光源を収納し、前記筐体の光出射開口部に当該光出射開口部を塞ぐように光透過部材を備え、この光透過部材の外側には、当該光透過部材に対向する位置に当該光透過部材と空間を空けて偏光子ユニットを設け、前記筐体の前記光出射開口部の内側に冷却風を供給する、反射鏡と光源の熱源冷却経路と、前記光透過部材と前記偏光子ユニットとの間の前記空間に冷却風を供給する、偏光子ユニットの偏光子冷却経路とを独立させ
    前記光透過部材と前記偏光子ユニットとの間の前記空間が前記偏光子冷却経路を構成していることを特徴とする光配向装置。
  2. 前記光透過部材と前記偏光子ユニット間の空間を陽圧に設定したことを特徴とする請求項1に記載の光配向装置。
  3. 前記偏光子ユニットは複数の偏光子を横並びに配置して形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の光配向装置。
  4. 前記熱源冷却経路及び前記偏光子冷却経路に冷却機で冷却した冷却風を流すことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の光配向装置。
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