JP2010177239A - 半導体ウェハ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】炉体15は、シャッタ13および蓋部18を有する。ホットプレート16は、炉体15の内部における蓋部18の下方に配置され、ワーク24を下から支持しつつ加熱するように構成される。エキシマランプ20は、蓋部18に設けられた、ホットプレート16上のワーク24を露光する紫外線を照射可能である。石英ガラス22は、板状を呈しており、エキシマランプ20とワーク24とを隔てるように支持部152に支持される。第1の第1のパージ管28および第2の第2のパージ管26は、石英ガラス22に昇温されたパージガスを吹き付けるように構成される。
【選択図】図2
Description
12−クールプレート
16−ホットプレート
18−蓋部
20−エキシマランプ
22−石英ガラス
26−第2のパージ管
28−第1のパージ管
152−支持部
Claims (3)
- 減圧状況下において絶縁膜が形成されたワークに対して加熱処理および紫外線照射処理を行うように構成された半導体ウェハ処理装置であって、
ワークの搬入または排出がされる際に開放可能な扉部、および天井部の一部を選択的に開放可能な蓋部を有する炉体と、
前記炉体の内部における前記蓋部の下方に配置された、ワークを下から支持しつつ加熱するように構成されたホットプレートと、
前記蓋部に設けられた、前記ホットプレート上のワークを露光する紫外線を照射可能なエキシマランプと、
前記炉体における前記蓋部の下方に設けられた支持部と、
前記エキシマランプと前記ワークとを隔てるように前記支持部に支持された板状の石英ガラスと、
前記石英ガラスに昇温されたパージガスを吹き付けるように構成されたパージガス吹付部と
を備えた半導体ウェハ処理装置。 - 前記石英ガラスに、ガスが通過可能な通気孔が形成された請求項1に記載の半導体ウェハ処理装置。
- 前記ホットプレートの下方に減圧ポンプに接続された排気部が設けられ、かつ、
前記パージガス吹付部が、少なくとも前記石英ガラスの上方に設けられた請求項1または2に記載の半導体ウェハ処理装置
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