JPH0523581A - 紫外線照射装置 - Google Patents

紫外線照射装置

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Publication number
JPH0523581A
JPH0523581A JP794191A JP794191A JPH0523581A JP H0523581 A JPH0523581 A JP H0523581A JP 794191 A JP794191 A JP 794191A JP 794191 A JP794191 A JP 794191A JP H0523581 A JPH0523581 A JP H0523581A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
air
processing chamber
lamp
processing
chamber
Prior art date
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Pending
Application number
JP794191A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsutomu Fuchiwaki
務 渕脇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Lighting and Technology Corp
Original Assignee
Toshiba Lighting and Technology Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Lighting and Technology Corp filed Critical Toshiba Lighting and Technology Corp
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Publication of JPH0523581A publication Critical patent/JPH0523581A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 効率良く空気を流通させる紫外線照射装置を
提供する。 【構成】 矩形状の筐体1内の一端側には温度制御室2
が形成され、他端側には処理室3が形成され、これらの
間には、隔壁4が形成されている。筐体1の一端面5に
は空気流入孔7が他端面8には排風孔9が形成されてい
る。また、隔壁4には、連通孔11,12が形成されてい
る。処理室3の上方には、低圧水銀ランプ15が収納さ
れ、下方には処理部17が設けられている。低圧水銀ラン
プ15には、熱交換用のヒートパイプ19が取付けられ、空
気流入孔7と連通孔12との間に位置している。そして、
ファン25により送風し、ヒートパイプ19を冷却するとと
もに、処理室3に空気を送り込み、効率よく酸素をオゾ
ンに変換する。処理室3ではオゾンにより被処理物を洗
浄する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】〔発明の目的〕
【0002】
【産業上の利用分野】本発明は紫外線を照射するランプ
を効率よく冷却する紫外線照射装置に関する。
【0003】
【従来の技術】従来のこの種の紫外線照射装置は、紫外
線処理を行なう際に、紫外線を照射するランプが過熱す
るため、ランプを冷却しながら紫外線処理を行なってい
る。
【0004】そして、たとえば紫外線処理として、紫外
線により酸素(O2)をオゾン(O3 )に変化させて洗
浄等の処理を行なう場合、処理室に処理用の空気を送り
込むとともに、別個にランプにも冷却用の空気を送り込
んでいる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上述のように、ランプ
冷却用の空気と、処理用の空気とを別個に送り込んでい
るため、空気の流通の効率が良くない問題を有してい
る。
【0006】本発明は上記問題点に鑑みなされたもの
で、効率良く空気の流入を行なうことができる紫外線照
射装置を提供することを目的とする。
【0007】〔発明の構成〕
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の紫外線照射装置
は、紫外線を照射するランプと、このランプを冷却する
冷却手段と、この冷却手段が収納された温度制御室と、
この制御室と連通孔にて連通され前記ランプの紫外線に
より処理を行なう処理室と、前記制御手段の冷却手段を
介して、前記処理室に気体を流入させる流入手段とを具
備したものである。
【0009】
【作用】本発明は、空気を流入手段により、紫外線を照
射するランプを冷却する冷却手段を介して処理室に流入
させ、効率良く空気を流通させる。
【0010】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照して説
明する。
【0011】図において、1は矩形状の筐体で、この筐
体1内の一端側には温度制御室2が形成され、他端側に
は処理室3が形成され、これら温度制御室2と処理室3
との間には、隔壁4が形成されている。そして、筐体1
の一端面5には、電源線挿通孔6および空気流入孔7が
形成され、他端面8に排風孔9が形成されている。ま
た、隔壁4には、第1の連通孔11および第2の連通孔12
が形成されている。
【0012】さらに、処理室3の上方には、たとえば主
として185nmまたは254nmの波長の光を照射する低
圧水銀ランプ15が収納される反射板などを備えた照射炉
16が設けられ、下方には、低圧水銀ランプ15から照射さ
れる紫外線により、酸素(O2 )をオゾン(O3)に変
換する処理部17が設けられている。
【0013】また、低圧水銀ランプ15には、この低圧水
銀ランプ15の最冷部をたとえば45℃に維持するヒート
ブロック18が取付けられ、このヒートブロック18には冷
却手段としてのL字形の熱交換用のヒートパイプ19が取
付けられ、このヒートパイプ19は温度制御室2の空気流
入孔7と第2の連通孔12との間に位置して取付けられて
いる。
【0014】そして、低圧水銀ランプ15の引出線21は、
温度制御室2内に設けられた端子台22に取付けられた端
子23に取付けられ、さらに、電源線挿通孔6を介して外
部に引出された端子23に接続された外部リード線24に接
続されている。
【0015】またさらに、空気流入孔7には流入手段と
しての送風用のファン25が取付けられている。
【0016】次に、上記実施例の動作について説明す
る。
【0017】まず、処理室3の処理部17に洗浄処理する
被処理物を配置する。
【0018】そして、低圧水銀ランプ15を点灯させて主
として185nmまたは254nmの波長の光を照射し、照
射炉16から紫外線を処理部17方向に照射し、処理室3の
酸素(O2 )をオゾン(O3 )に変えて、オゾンにて被
処理物を洗浄する。
【0019】また、ファン25を駆動して、外気を空気流
入孔7を介して温度制御室2に送り、温度制御室2内の
ヒートパイプ19を冷却し、ヒートブロック18により低圧
水銀ランプ15の最冷部が約45℃になるように冷却す
る。
【0020】さらに、ファン25により温度制御室2に送
風を行なうと、温度制御室2内の圧力が上昇し、第1の
連通孔11および第2の連通孔12を介して処理室3に空気
が流れ込み、この空気で低圧水銀ランプ15を冷却すると
ともに、オゾンに変化させるための酸素を供給する。ま
た、処理室3内の気圧が高くなることにより、排風孔9
から処理済のオゾンが排出される。
【0021】上記実施例によれば、温度制御室2の気圧
が、処理室3の気圧より高くなるので、端子23が収納さ
れた温度制御室2にオゾンが流れ込まないので、端子の
腐蝕を防止できる。
【0022】また、第1の連通孔11および第2の連通孔
12から気体を処理室3に流入させることにより、処理室
3内のオゾンを撹拌でき、処理室3内のオゾンの濃度す
なわち分布の均一化を図ることができるとともに、新た
な酸素も供給できるので、オゾンへの変化を効率よく行
なえる。
【0023】また、ファン25は空気流入孔7側に限ら
ず、排風孔9側に取付けてもよい。
【0024】
【発明の効果】本発明によれば、空気を流入手段によ
り、紫外線を照射するランプを冷却する冷却手段を介し
て処理室に流入させるので、効率よく空気を流通させる
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の紫外線照射装置の一実施例を示す図で
ある。
【符号の説明】
2 温度制御室 3 処理室 12 連通孔 15 低圧水銀ランプ 19 冷却手段としてのヒートパイプ 25 流入手段としてのファン

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 紫外線を照射するランプと、 このランプを冷却する冷却手段と、 この冷却手段が収納された温度制御室と、 この制御室と連通孔にて連通され前記ランプの紫外線に
    より処理を行なう処理室と、 前記制御手段の冷却手段を介して、前記処理室に気体を
    流入させる流入手段とを具備したことを特徴とする紫外
    線照射装置。
JP794191A 1991-01-25 1991-01-25 紫外線照射装置 Pending JPH0523581A (ja)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06305704A (ja) * 1993-04-20 1994-11-01 Plant Service:Kk 高精度定量オゾン発生装置
JP2008071680A (ja) * 2006-09-15 2008-03-27 Iwasaki Electric Co Ltd 紫外線照射装置
CN100403866C (zh) * 2006-05-22 2008-07-16 哈尔滨工业大学 具有圆环金属网栅结构的电磁屏蔽光学窗
CN104787727A (zh) * 2015-04-08 2015-07-22 邬二莽 空腔配风式臭氧发生器
JP2016203095A (ja) * 2015-04-22 2016-12-08 日機装株式会社 殺菌装置
CN111256243A (zh) * 2020-02-27 2020-06-09 四平市绿舟节能科技有限公司 Uvc-led空气灭菌仪

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