JPH05131133A - 紫外線照射装置 - Google Patents
紫外線照射装置Info
- Publication number
- JPH05131133A JPH05131133A JP9289091A JP9289091A JPH05131133A JP H05131133 A JPH05131133 A JP H05131133A JP 9289091 A JP9289091 A JP 9289091A JP 9289091 A JP9289091 A JP 9289091A JP H05131133 A JPH05131133 A JP H05131133A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lamp
- treatment chamber
- processing chamber
- vicinity
- ozone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】簡単な構成でしかも低価格にてオゾン濃度の均
一化を図れる紫外線照射装置を提供する。 【構成】紫外線を照射し、発光部の一端側に屈曲部を有
し、他端側に給電部を有したＵ字形状のランプと、ラン
プの少なくとも発光部が収容されランプの紫外線により
処理を行なう処理室と、処理室に設けられ、ランプの屈
曲部の近傍から処理室内の雰囲気を処理室外に排出する
排出孔と、処理室に設けられ、ランプの給電部の近傍か
ら処理室内へ酸素を含む気体を導入する流入孔と、排気
孔から処理室内の気体を強制的に排出する排気手段とを
具備した。 【効果】処理室内の雰囲気のオゾン濃度の高い屈曲部の
近傍雰囲気は強制的に排出され、給電部の近傍には常に
新鮮な気体が流入するので、オゾン化が促進され、処理
室内全体としては小形化が図れながらしかも安価に、オ
ゾン濃度の均一化が簡単に図れる。
一化を図れる紫外線照射装置を提供する。 【構成】紫外線を照射し、発光部の一端側に屈曲部を有
し、他端側に給電部を有したＵ字形状のランプと、ラン
プの少なくとも発光部が収容されランプの紫外線により
処理を行なう処理室と、処理室に設けられ、ランプの屈
曲部の近傍から処理室内の雰囲気を処理室外に排出する
排出孔と、処理室に設けられ、ランプの給電部の近傍か
ら処理室内へ酸素を含む気体を導入する流入孔と、排気
孔から処理室内の気体を強制的に排出する排気手段とを
具備した。 【効果】処理室内の雰囲気のオゾン濃度の高い屈曲部の
近傍雰囲気は強制的に排出され、給電部の近傍には常に
新鮮な気体が流入するので、オゾン化が促進され、処理
室内全体としては小形化が図れながらしかも安価に、オ
ゾン濃度の均一化が簡単に図れる。
Description
【０００１】［発明の目的］
【０００２】
【産業上の利用分野】本発明は紫外線を照射し、オゾン
を発生して半導体などの有機物除去を行う紫外線照射装
置に関する。
を発生して半導体などの有機物除去を行う紫外線照射装
置に関する。
【０００３】
【従来の技術】従来、この種の紫外線照射装置は、紫外
線処理として用いられることがあり、紫外線により酸素
をオゾンに変化させて洗浄等の処理を行なう場合、処理
室に処理用の空気を送り込むとともに、別個にランプに
も冷却用の空気を送り込んでいる。処理室に送る処理用
の空気は、すなわち酸素を含むものである。
線処理として用いられることがあり、紫外線により酸素
をオゾンに変化させて洗浄等の処理を行なう場合、処理
室に処理用の空気を送り込むとともに、別個にランプに
も冷却用の空気を送り込んでいる。処理室に送る処理用
の空気は、すなわち酸素を含むものである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、処理室
内にて、オゾンは処理物に付着している有機物と反応し
て、２酸化炭素などの不要な気体となり、紫外線処理の
効率の低下となる。
内にて、オゾンは処理物に付着している有機物と反応し
て、２酸化炭素などの不要な気体となり、紫外線処理の
効率の低下となる。
【０００５】また、処理室内のオゾン濃度が不均一であ
ると均一な紫外線処理ができない。従来技術では、処理
室内に処理室内の雰囲気を攪拌する手段を設けていた
が、これによっても、不均一性は解消されなかった。こ
の原因を追及したところ、オゾンの発生は酸素に紫外線
が照射されるとほとんど瞬間的に起こるものであるた
め、処理室内の雰囲気を急激に攪拌させないかぎりオゾ
ン濃度が不均一となることが分かった。しかしながら、
攪拌を高速化させる手段を設けると処理室の大型化、高
価格化を招く。また、紫外線処理においては、実際に紫
外線自体も有機物と反応して２酸化炭素などの不要な気
体を発生させる作用を行う。したがって、攪拌手段は、
処理物への紫外線照射の邪魔となってはならないので、
紫外線照射範囲外に設けなければならないため、攪拌が
十分でなかった。
ると均一な紫外線処理ができない。従来技術では、処理
室内に処理室内の雰囲気を攪拌する手段を設けていた
が、これによっても、不均一性は解消されなかった。こ
の原因を追及したところ、オゾンの発生は酸素に紫外線
が照射されるとほとんど瞬間的に起こるものであるた
め、処理室内の雰囲気を急激に攪拌させないかぎりオゾ
ン濃度が不均一となることが分かった。しかしながら、
攪拌を高速化させる手段を設けると処理室の大型化、高
価格化を招く。また、紫外線処理においては、実際に紫
外線自体も有機物と反応して２酸化炭素などの不要な気
体を発生させる作用を行う。したがって、攪拌手段は、
処理物への紫外線照射の邪魔となってはならないので、
紫外線照射範囲外に設けなければならないため、攪拌が
十分でなかった。
【０００６】本発明は上記問題点に鑑みなされたもの
で、簡単な構成でしかも低価格にてオゾン濃度の均一化
を図れる紫外線照射装置を提供することを目的とする。
で、簡単な構成でしかも低価格にてオゾン濃度の均一化
を図れる紫外線照射装置を提供することを目的とする。
【０００７】［発明の構成］
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者はＵ字形状のラ
ンプを無風状態にて点灯した場合の紫外線量およびオゾ
ン濃度を実験により測定した。この結果から意外なこと
が分かった。すなわち、図２からわかるように紫外線量
はランプ給電部から屈曲部にかけてほぼ均一であるの
に、オゾン濃度は、図３からわかるように、ランプ給電
部が低く、屈曲部が高いのである。給電部および屈曲部
の中間点はオゾン濃度が高く、この中間点および屈曲部
の間はオゾン濃度が低い谷間が存在するのである。本発
明者はこの発見に基づいて、本発明を成した。すなわ
ち、本発明の紫外線照射装置は、紫外線を照射し、発光
部の一端側に屈曲部を有し、他端側に給電部を有したＵ
字形状のランプと、 このランプの少なくとも発光部が
収容され前記ランプの紫外線により処理を行なう処理室
と、 この処理室に設けられ、上記ランプの屈曲部の近
傍から処理室内の雰囲気を処理室外に排出する排出孔
と、 上記処理室に設けられ、上記ランプの給電部の近
傍から処理室内へ酸素を含む気体を導入する流入孔と、
上記排気孔から処理室内の気体を強制的に排出する排
気手段と、 を具備したことを特徴とする。
ンプを無風状態にて点灯した場合の紫外線量およびオゾ
ン濃度を実験により測定した。この結果から意外なこと
が分かった。すなわち、図２からわかるように紫外線量
はランプ給電部から屈曲部にかけてほぼ均一であるの
に、オゾン濃度は、図３からわかるように、ランプ給電
部が低く、屈曲部が高いのである。給電部および屈曲部
の中間点はオゾン濃度が高く、この中間点および屈曲部
の間はオゾン濃度が低い谷間が存在するのである。本発
明者はこの発見に基づいて、本発明を成した。すなわ
ち、本発明の紫外線照射装置は、紫外線を照射し、発光
部の一端側に屈曲部を有し、他端側に給電部を有したＵ
字形状のランプと、 このランプの少なくとも発光部が
収容され前記ランプの紫外線により処理を行なう処理室
と、 この処理室に設けられ、上記ランプの屈曲部の近
傍から処理室内の雰囲気を処理室外に排出する排出孔
と、 上記処理室に設けられ、上記ランプの給電部の近
傍から処理室内へ酸素を含む気体を導入する流入孔と、
上記排気孔から処理室内の気体を強制的に排出する排
気手段と、 を具備したことを特徴とする。
【０００９】
【作用】以上の構成によって、上記ランプの給電部の近
傍から処理室内へ酸素を含む気体を導入する流入孔と、
上記排気孔から処理室内の気体を強制的に排出する排気
手段を有したので、処理室内の雰囲気のオゾン濃度の高
い屈曲部の近傍雰囲気は強制的に排出され、給電部の近
傍には常に新鮮な気体が流入するので、オゾン化が促進
され、処理室内全体としては、オゾン濃度の均一化が簡
単に図れる。
傍から処理室内へ酸素を含む気体を導入する流入孔と、
上記排気孔から処理室内の気体を強制的に排出する排気
手段を有したので、処理室内の雰囲気のオゾン濃度の高
い屈曲部の近傍雰囲気は強制的に排出され、給電部の近
傍には常に新鮮な気体が流入するので、オゾン化が促進
され、処理室内全体としては、オゾン濃度の均一化が簡
単に図れる。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照して説
明する。
明する。
【００１１】図１において、１は矩形状の筐体で、この
筐体１内の一端側には温度制御室２が形成され、他端側
には処理室３が形成され、これら温度制御室２と処理室
３との間には、隔壁４が形成されている。そして、筐体
１の一端面５には、電源線挿通孔６および空気流入孔７
が形成され、他端面８に排風孔９が形成され、排風孔９
にダクト９ｂを介して強制排気手段３０を取り付けてい
る。また、隔壁４には、第１の流入孔11および第２の流
入孔12が形成されている。
筐体１内の一端側には温度制御室２が形成され、他端側
には処理室３が形成され、これら温度制御室２と処理室
３との間には、隔壁４が形成されている。そして、筐体
１の一端面５には、電源線挿通孔６および空気流入孔７
が形成され、他端面８に排風孔９が形成され、排風孔９
にダクト９ｂを介して強制排気手段３０を取り付けてい
る。また、隔壁４には、第１の流入孔11および第２の流
入孔12が形成されている。
【００１２】さらに、処理室３の上方には、たとえば主
として１８５nmまたは２５４nmの波長の光を照射するＵ
字形状の発光部14c を持つ低圧水銀ランプ15が収納され
る反射板などを備えた照射炉16が設けられ、下方には、
低圧水銀ランプ15から照射される紫外線により、酸素を
オゾンに変換して半導体などの処理物17a を有機物分解
処理するために処理物17a を置く処理部17が設けられて
いる。なお、15a は低圧水銀ランプ15の屈曲部、15b は
給電部である。
として１８５nmまたは２５４nmの波長の光を照射するＵ
字形状の発光部14c を持つ低圧水銀ランプ15が収納され
る反射板などを備えた照射炉16が設けられ、下方には、
低圧水銀ランプ15から照射される紫外線により、酸素を
オゾンに変換して半導体などの処理物17a を有機物分解
処理するために処理物17a を置く処理部17が設けられて
いる。なお、15a は低圧水銀ランプ15の屈曲部、15b は
給電部である。
【００１３】また、低圧水銀ランプ15には、この低圧水
銀ランプ15の最冷部をたとえば４５℃に維持するヒ―ト
ブロック18が取付けられ、このヒ―トブロック18には冷
却手段としてのＬ字形の熱交換用のヒ―トパイプ19が取
付けられ、このヒ―トパイプ19は温度制御室２の空気流
入孔７と第２の流入孔12との間に位置して取付けられて
いる。なお、31は図示しない電源装置などの収容部であ
る。第２の流入孔12は、気体を収容部31に導入して電源
装置などの冷却を行うためのものである。
銀ランプ15の最冷部をたとえば４５℃に維持するヒ―ト
ブロック18が取付けられ、このヒ―トブロック18には冷
却手段としてのＬ字形の熱交換用のヒ―トパイプ19が取
付けられ、このヒ―トパイプ19は温度制御室２の空気流
入孔７と第２の流入孔12との間に位置して取付けられて
いる。なお、31は図示しない電源装置などの収容部であ
る。第２の流入孔12は、気体を収容部31に導入して電源
装置などの冷却を行うためのものである。
【００１４】そして、低圧水銀ランプ15の給電部15b か
らの引出線21は、温度制御室２内に設けられた端子台22
に取付けられた端子23に取付けられ、さらに、電源線挿
通孔６を介して外部に引出された端子23に接続された外
部リ―ド線24に接続されている。またさらに、空気流入
孔７には流通手段としての送風用のファン25が取付けら
れている。
らの引出線21は、温度制御室２内に設けられた端子台22
に取付けられた端子23に取付けられ、さらに、電源線挿
通孔６を介して外部に引出された端子23に接続された外
部リ―ド線24に接続されている。またさらに、空気流入
孔７には流通手段としての送風用のファン25が取付けら
れている。
【００１５】次に、上記実施例の動作について説明す
る。
る。
【００１６】まず、処理室３の処理部17に洗浄処理する
処理物17a を配置する。
処理物17a を配置する。
【００１７】そして、低圧水銀ランプ15を点灯させて主
として１８５nmまたは２５４nmの波長の光を照射し、照
射炉16から紫外線を処理部17方向に照射し、処理室３の
酸素をオゾンに変えて、オゾンにて被処理物を洗浄す
る。
として１８５nmまたは２５４nmの波長の光を照射し、照
射炉16から紫外線を処理部17方向に照射し、処理室３の
酸素をオゾンに変えて、オゾンにて被処理物を洗浄す
る。
【００１８】また、ファン25を駆動して、外気を空気流
入孔７を介して温度制御室２に送り、温度制御室２内の
ヒ―トパイプ19を冷却し、ヒ―トブロック18により低圧
水銀ランプ15の最冷部が約４５℃になるように冷却す
る。
入孔７を介して温度制御室２に送り、温度制御室２内の
ヒ―トパイプ19を冷却し、ヒ―トブロック18により低圧
水銀ランプ15の最冷部が約４５℃になるように冷却す
る。
【００１９】さらに、ファン25により温度制御室２に送
風を行なうと、温度制御室２内の圧力が上昇し、第１の
流入孔11を介して処理室３に空気が流れ込み、この空気
で低圧水銀ランプ15を冷却するとともに、オゾンに変化
させるための酸素を供給する。また、排風孔９からダク
ト９ｂを介して強制排気手段30によって屈曲部近傍のオ
ゾンを多量に含んだ雰囲気が強制的に排出される。
風を行なうと、温度制御室２内の圧力が上昇し、第１の
流入孔11を介して処理室３に空気が流れ込み、この空気
で低圧水銀ランプ15を冷却するとともに、オゾンに変化
させるための酸素を供給する。また、排風孔９からダク
ト９ｂを介して強制排気手段30によって屈曲部近傍のオ
ゾンを多量に含んだ雰囲気が強制的に排出される。
【００２０】上記実施例によれば、温度制御室２の気圧
が、処理室３の気圧より高くなり、端子23が収納された
温度制御室２にオゾンが流れ込まないので、端子の腐蝕
を防止できる。
が、処理室３の気圧より高くなり、端子23が収納された
温度制御室２にオゾンが流れ込まないので、端子の腐蝕
を防止できる。
【００２１】また、第１の流入孔11から気体を処理室３
に流入させることにより、処理室３内のオゾンを攪拌で
き、処理室３内のオゾンの濃度すなわち分布の均一化を
図ることができるとともに、新たな酸素も供給できるの
で、オゾンへの変化を効率よく行なえる。
に流入させることにより、処理室３内のオゾンを攪拌で
き、処理室３内のオゾンの濃度すなわち分布の均一化を
図ることができるとともに、新たな酸素も供給できるの
で、オゾンへの変化を効率よく行なえる。
【００２２】
【発明の効果】本発明によれば、Ｕ字形状のランプの給
電部の近傍から処理室内へ酸素を含む気体を導入する流
入孔と、上記排気孔から処理室内の気体を強制的に排出
する排気手段を有したので、処理室内の雰囲気のオゾン
濃度の高い屈曲部の近傍雰囲気は強制的に排出され、給
電部の近傍には常に新鮮な気体が流入するので、オゾン
化が促進され、処理室内全体としては小形化が図れなが
らしかも安価に、オゾン濃度の均一化が簡単に図れる。
電部の近傍から処理室内へ酸素を含む気体を導入する流
入孔と、上記排気孔から処理室内の気体を強制的に排出
する排気手段を有したので、処理室内の雰囲気のオゾン
濃度の高い屈曲部の近傍雰囲気は強制的に排出され、給
電部の近傍には常に新鮮な気体が流入するので、オゾン
化が促進され、処理室内全体としては小形化が図れなが
らしかも安価に、オゾン濃度の均一化が簡単に図れる。
【図１】本発明の紫外線照射装置の一実施例を示す図で
ある。
ある。
【図２】本発明の紫外線照射装置のランプの紫外線量分
布を示す図である。
布を示す図である。
【図３】本発明の紫外線照射装置のランプのオゾン濃度
分布を示す図である。
分布を示す図である。
３…処理室 ９…排気孔 11…流入孔 15a …屈曲部 15b …給電部 15c …発光部 15…ランプ 30…強制排気手段
Claims (1)
- 【請求項１】紫外線を照射し、発光部の一端側に屈曲部
を有し、他端側に給電部を有したＵ字形状のランプと；
このランプの少なくとも発光部が収容され前記ランプの
紫外線により処理を行なう処理室と；この処理室に設け
られ、上記ランプの屈曲部の近傍から処理室内の雰囲気
を処理室外に排出する排出孔と；上記処理室に設けら
れ、上記ランプの給電部の近傍から処理室内へ酸素を含
む気体を導入する流入孔と；上記排気孔から処理室内の
気体を強制的に排出する排気手段と；を具備したことを
特徴とする紫外線照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9289091A JPH05131133A (ja) | 1991-03-31 | 1991-03-31 | 紫外線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9289091A JPH05131133A (ja) | 1991-03-31 | 1991-03-31 | 紫外線照射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05131133A true JPH05131133A (ja) | 1993-05-28 |
Family
ID=14067055
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9289091A Pending JPH05131133A (ja) | 1991-03-31 | 1991-03-31 | 紫外線照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05131133A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008071680A (ja) * | 2006-09-15 | 2008-03-27 | Iwasaki Electric Co Ltd | 紫外線照射装置 |
-
1991
- 1991-03-31 JP JP9289091A patent/JPH05131133A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008071680A (ja) * | 2006-09-15 | 2008-03-27 | Iwasaki Electric Co Ltd | 紫外線照射装置 |
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