JP2002141226A - 電子部品及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
着性に優れた外部電極を備えた電子部品及びその製造方
法を提供する。 【解決手段】 フェライト樹脂1を所定の形状に成形し
た成形体3の表面に、金属からなる内部導体(導体コイ
ル)2を、少なくとも一部が露出するように埋設すると
ともに、成形体3の表面の、内部導体2の露出部分を含
む所定の領域に、内部導体2と導通する外部電極4a,
4bを配設した電子部品を製造するにあたって、成形体
3の、内部導体2が露出していない領域には、Pdを
0.5〜1.5μg/cm2の割合で付着させ、成形体3の
表面から露出した内部導体2(2a,2b)上には、P
dを0.05〜0.3μg/cm2の割合で付着させた後、
無電解めっきを施して、成形体3の表面に金属膜(無電
解めっき膜)5を形成する工程を経て外部電極4a,4
bを形成する。
Description
の製造方法に関し、詳しくは、内部導体が埋設された成
形体の表面に、該内部導体と導通する外部電極が形成さ
れた構造を有する電子部品及びその製造方法に関する。
に、樹脂又はゴムに磁性体粉末を混練した磁性体材料5
1中に、導体コイル(内部導体)52を埋め込んで所定
の形状とした成形体53の表面に、導体コイル52の両
端部52a,52bと電気的に接続するように一対の外
部電極54a,54bを配設してなる表面実装型のイン
ダクタがある。そして、かかるインダクタは、これま
で、以下に説明するような方法で製造されている。
ム中に銅線を巻回した空芯コイル(内部導体)を両端部
が露出するよう埋設した成形体を形成する。 次に、空心コイル(内部導体)の露出部を含む成形体
の表面をアルコール又は中性脱脂剤で洗浄し、その後、
酸又はアルカリ溶液で面粗しエッチングを行う。 それから、Pd(パラジウム)イオンを含む溶液に浸
漬した後、還元剤でPdイオンを還元し、成形体の表面
に金属Pd核を析出させる。 次に、Niの無電解めっきを行って、成形体の表面全
体に金属膜を形成する。 それから、レジスト剤で金属膜の必要部分を被覆した
後、エッチングを行って金属膜の不要部分を取り除く。 次いで、レジスト剤を除去し、金属膜上に、数種類の
電解めっきを行って外部電極を形成する。これにより、
図10に示すような表面実装型のインダクタが得られ
る。
をPdを含む溶液に浸漬した後、還元剤でPdイオンを
還元し、成形体の表面に金属Pd核を析出させてPd触
媒を付与した後、無電解めっき方法により金属膜を形成
する方法の場合、形成される金属膜の、成形体の表面へ
の密着性が、Pdの付着状態に影響されるため、成形体
(樹脂又はゴムを主成分とする磁性体材料)の表面(以
下、単に「成形体表面」ともいう)と、露出した内部導
体の表面(以下、単に「内部導体露出面」ともいう)の
両方への密着性に優れた金属膜を形成することは必ずし
も容易ではなく、成形体表面と内部導体露出面の両方へ
の密着性を良くするためには、Pdを含む溶液の濃度、
液粘度、無電解めっき条件などの管理を厳しく行うこと
が必要で、コストの上昇を招くという問題点がある。
あり、成形体表面及び内部導体露出面の両方への密着性
に優れた外部電極を備えた信頼性の高い電子部品及びそ
の製造方法を提供することを目的とする。
に、発明者等は、成形体の表面へのPd付着密度と無電
解めっき膜の密着性の関係について研究調査し、Pdを
触媒として利用する無電解めっき法においては、Pd
の付着状態が全体に密な場合は、無電解めっきにより形
成される金属膜と成形体(樹脂又はゴムを主成分とする
磁性体材料)との密着性は良好であるが、金属膜と内部
導体(金属)の露出部分との密着性は不十分になりやす
いこと、逆に、Pdの付着状態が全体に疎な場合は、
無電解めっきにより形成される金属膜と内部導体(金
属)の露出部分との密着性は良好であるが、金属膜と成
形体(樹脂又はゴムを主成分とする磁性体材料)との密
着性が不十分になりやすいことを知り、さらに、樹脂又
はゴムを主成分とする磁性体材料からなる成形体の表面
(成形体表面)及び成形体から露出した内部導体の表面
(内部導体露出面)へのPdの付着密度と、無電解めっ
き膜の密着性との関係について、さらに実験、検討を行
い、本願発明を完成するに至った。
品は、樹脂又はゴムを主たる成分とする不導体材料を所
定の形状に成形した成形体の表面に、金属からなる内部
導体を、少なくとも一部が露出するように埋設するとと
もに、前記成形体の表面の、前記内部導体の露出部分を
含む所定の領域に、前記内部導体と導通する外部電極を
配設した電子部品において、前記成形体の表面の、外部
電極が形成されている領域のうちの、内部導体が露出し
ていない領域の成形体の表面にはPdが0.5〜1.5
μg/cm2の割合で付与され、成形体の表面から露出した
内部導体上にはPdが0.05〜0.3μg/cm2の割合
で付与されており、かつ、前記Pdが付与された領域に
は、外部電極の少なくとも一部を構成する無電解めっき
による金属膜が形成されていることを特徴としている。
は、成形体の表面の、外部電極が形成されている領域の
うちの、内部導体が露出していない領域(成形体表面)
にはPdが0.5〜1.5μg/cm2の割合で付与され、
成形体から露出した内部導体の表面(内部導体露出面)
にはPdが0.05〜0.3μg/cm2の割合で付与され
ており、このPdが所定の割合で付与された領域(成形
体表面及び内部導体露出面)に、外部電極の少なくとも
一部を構成する無電解めっきによる金属膜が形成されて
いるので、成形体表面及び内部導体露出面の両方への密
着性に優れた金属膜を備え、外部電極を介した外部との
接続に関し、信頼性の高い電子部品を得ることが可能に
なる。
及び内部導体露出面への密着性は、Pdの付着密度(単
位面積あたりの付着量)の影響を受けやすいが、Pdの
付着密度を上記の範囲(成形体表面に対しては0.5〜
1.5μg/cm2の割合、内部導体露出面に対しては0.
05〜0.3μg/cm2の割合)とした場合には、成形体
表面及び内部導体露出面の両方への密着性に優れた金属
膜を形成することが可能になる。
体の両端部が成形体から露出しており、該両端部と導通
するように一対の外部電極が形成されていることを特徴
としている。
体粉末を混練した磁性体材料中に、導体コイル(内部導
体)を埋め込んで所定の形状とした成形体の表面に、導
体コイルの両端部と導通するように一対の外部電極を配
設してなる表面実装型のインダクタなどに適用すること
が可能であり、その場合には、成形体表面及び内部導体
露出面の両方への密着性に優れた金属膜を形成すること
が可能になり、信頼性の高いインダクタなどの電子部品
を提供することができるようになる。
材料が、樹脂又はゴムに磁性体粉末を混練したものであ
ることを特徴としている。
に、不導体材料が、樹脂又はゴムに磁性体粉末を混練し
たものである場合に適用することが可能であり、その場
合には、外部電極の成形体への密着性に優れた信頼性の
高いインダクタなどの電子部品を提供することができる
ようになる。
体が、金属線を螺旋状に巻回したコイル状導体であるこ
とを特徴としている。
内部導体として埋設した成形体の表面に外部電極を形成
してなる、例えば、表面実装型のインダクタなどに、本
願発明を適用することにより、外部電極を構成する金属
膜の成形体への密着性に優れた、信頼性の高い電子部品
を提供することが可能になる。
体が、Cu、Ag、Al、Ni、及びそれらの合金から
なる群より選ばれる少なくとも1種であることを特徴と
している。
g、Al、Ni、及びそれらの合金からなる群より選ば
れる少なくとも1種を用いた電子部品に本願発明を適用
することにより、内部電極露出面への密着性に優れた金
属膜を確実に形成することが可能になる。
請求項1〜5のいずれかに記載の電子部品を製造する方
法であって、樹脂又はゴムを主たる成分とする不導体材
料を所定の形状に成形した成形体の表面に、金属からな
る内部導体を、少なくとも一部が露出するように埋設す
るとともに、前記成形体の表面の、前記内部導体の露出
部分を含む所定の領域に、前記内部導体と導通する外部
電極を配設した電子部品の製造方法において、前記成形
体の、内部導体が露出していない領域にはPdを0.5
〜1.5μg/cm2の割合で付着させ、成形体の表面から
露出した内部導体上にはPdを0.05〜0.3μg/cm
2の割合で付着させた後、無電解めっきを施して、成形
体の表面に金属膜を形成する工程を経て外部電極を形成
することを特徴としている。
(成形体表面)にはPdを0.5〜1.5μg/cm2の割
合で付着させ、成形体から露出した内部導体の表面(内
部導体露出面)にはPdを0.05〜0.3μg/cm2の
割合で付着させた後、無電解めっきを施すことにより、
成形体表面及び内部導体露出面の両方への密着性に優れ
た金属膜を形成することが可能になり、信頼性の高い電
子部品を効率よく製造することが可能になる。
0.5μg/cm2未満になると、無電解めっき法により成
形体の表面に金属膜を形成する場合に、成形体表面と金
属膜との密着性が悪くなり、また、成形体表面へのPd
の付着密度が1.5μg/cm2を超えると、無電解めっき
液中へのPd核の落下量が増加して無電解めっき液の劣
化が促進され、コストの上昇を招くため、成形体表面の
Pdの付着密度は0.5〜1.5μg/cm2の範囲とする
ことが望ましい。
が0.3μg/cm2を超えると、無電解めっき法により内
部導体露出面に金属膜を形成する場合に、内部導体露出
面と金属膜との密着性が悪くなり、また、内部導体露出
面へのPdの付着密度が0.05μg/cm2以下になる
と、無電解めっきが付かない部分が生じるおそれがある
ため、内部導体露出面上のPdの付着密度は、0.05
〜0.3μg/cm2の範囲とすることが望ましい。
前記成形体の表面の、内部導体の露出部分を含む所定の
領域に、乾式ブラストを施すことにより面粗しを行うと
ともに、成形体をエッチング液に浸漬して、面粗しによ
り凹凸が形成された内部導体の露出面を平滑化した後、
無電解めっきを施すことにより、内部導体の露出部分を
含む成形体の表面に金属膜を形成する工程を備えている
ことを特徴としている。
む所定の領域に、乾式ブラストを施すことにより面粗し
を行い、エッチング液に浸漬して、面粗しにより凹凸が
形成された内部導体の露出面を平滑化した後、無電解め
っきを施すことにより、成形体表面及び内部導体露出面
の両方への密着性に優れた金属膜を確実に形成すること
が可能になる。すなわち、通常は、Pdよりもイオン化
傾向の大きいCu等の金属からなる内部導体の露出面上
では、Pdイオンが金属Pdに還元される割合は低く、
また、平滑化された内部導体露出面と比較して、成形体
表面の凹凸の程度がはるかに大きいため、成形体表面に
は、アンカー効果により、内部導体露出面よりも密にP
dイオンが付着する。したがって、成形体表面に付着し
たPdイオンを、還元剤を用いて還元させることによ
り、Pdの付着密度を成形体表面には密に、内部導体露
出面には疎となるように付着させることが可能になり、
その後の無電解めっきにおいて、成形体表面及び内部導
体露出面の両方への密着性に優れた無電解めっき膜を効
率よく形成することが可能になる。
前記成形体を有機溶剤に浸漬して、成形体の表面にのみ
面粗しを行った後、無電解めっきを施すことにより、内
部導体の露出部分を含む成形体の表面の所定の領域に金
属膜を形成する工程を備えていることを特徴としてい
る。
面にのみ面粗しを行った後、無電解めっきを施すことに
より、Pdの付着密度を成形体表面には密に、内部導体
露出面には疎となるように付着させることが可能にな
り、内部導体の露出部分を含む成形体の表面の所定の領
域に、成形体表面及び内部導体露出面の両方への密着性
に優れた金属膜を効率よく形成することが可能になる。
して、その特徴とするところをさらに詳しく説明する。
いては、図8に示すように、インダクタンス素子として
機能する銅線コイル(内部導体)2が内部に埋設された
構造を有する磁性体材料(フェライト樹脂)1からなる
成形体3の両端部に、銅線コイル2の両端部2a,2b
と導通する外部電極4a,4bが配設された構造を有す
る表面実装型のインダクタを製造する場合を例にとって
説明する。
iO、CuO、及びZnOからなるフェライト粉とPP
S(ポリフェニレンサルファイド)樹脂を混練したフェ
ライト樹脂(磁性コア)1の内部に、直径0.2mm、コ
イル内径1.8mm、長さ3.2mmの銅線コイル2が埋設
された、寸法が4.5mm×3.2mm×3.2mmの成形体
3を用意する。
端面側から、ブラスト粉末(この実施形態1では平均粒
径が約40μmのアルミナ粉末)を所定の圧力で、成形
体3に吹き付けて、サンドブラスト(乾式ブラスト)を
行い、成形体3の面粗しを行う。
原液)中に10〜30秒浸漬することにより、成形体3
の表面から露出した銅線コイル(内部導体)2の表面を
滑らかにし、アルカリ性の洗浄剤で洗浄し、さらに希硫
酸(H2SO45wt%)で洗浄した後、水で十分にすす
ぐ。
トテックジャパン製プレディップネオガントB20ml/l
に対して、硫酸1ml/lを混合した液)中に室温中で1分
間浸漬し、さらに、アルカリ系Pd触媒液(アトテック
ジャパン製アクチベーターネオガント834(40ml/
l)に対して、ほう酸5g/lを加え、pHを10.5〜1
1.0に調整した液)を、40℃に保温した液中に5分
間浸漬した後、水洗を約1分間行い、さらに、Pd還元
溶液(アトテックジャパン製リデューサーネオガントW
A5ml/lに対して、ほう酸5g/lを加えた液)を、30
℃に保温した液中に5分間浸漬した後、水洗を約1分間
行う。これにより、図3に示すように、金属Pd核10
が、成形体3の表面全体に付着する。なお、このときの
金属Pd核10の付着密度は、例えば、露出した銅線コ
イル2の表面(内部導体露出面)では0.05〜0.3
μg/cm2、フェライト樹脂1の表面(成形体表面)では
0.5〜1.5μg/cm2となり、フェライト樹脂1上に
は密に、露出した銅線コイル2上には疎に付着する。
製薬製ICPニコロUSD−M100ml/lに対して、奥
野製薬製ICPニコロUSD−1(50ml/l)を加え、
pHを5前後に調整した液)を85℃に保温し、この無
電解ニッケルめっき液中に、成形体3を30分間浸漬し
て無電解めっきを施し、図4に示すように、成形体3の
表面全体に、膜厚が約1μmのNi膜(Ni無電解めっ
き膜)5を形成する。
解めっき膜5の必要部分(外部電極となる部分)をレジ
スト剤11で覆い、酸でNi無電解めっき膜5の不要部
分を取り除く(図6)。
7)、乾燥した後、成形体3上に残ったNi無電解めっ
き膜5上に、Ni、Snの順に電解めっきを行う。これ
により、図8に示すように、成形体3の両端部に、Ni
無電解めっき膜5、Ni電解めっき膜6、及びSn電解
めっき膜7からなる三層構造の外部電極4a,4bが配
設された表面実装型のインダクタが得られる。
Pdイオン溶液を用いているため、Pdよりもイオン化
傾向の大きいCuからなる内部導体(銅線コイル)2の
露出面上において、Pdイオンが金属Pdに還元される
割合は低い。
コイル2の露出面と比較して、凹凸の程度がはるかに大
きいフェライト樹脂1上には、アンカー効果により、銅
線コイル2の露出面上よりも密にPdイオンが付着す
る。
dイオンを、還元剤を用いて還元させることにより、P
dの付着密度をフェライト樹脂1上には密に、露出した
銅線コイル2上には疎となるように付着させることが可
能になり、その後のNi無電解めっきにおいて、フェラ
イト樹脂1及び露出した銅線コイル2の両方への密着性
に優れたNi膜(Ni無電解めっき膜)5を形成するこ
とが可能になる。
0.3μg/cm2を超えるとNi無電解めっき膜5との密
着性が悪くなり、また、Pdの付着密度が0.05μg/
cm2以下になると、Ni無電解めっき膜が付かない部分
が生じる可能性があるため、銅線コイル2上のPdの付
着密度は0.05〜0.3μg/cm2の範囲とすることが
望ましい。
度が0.5μg/cm2未満になるとNi無電解めっき膜5
との密着性が悪くなり、また、Pdの付着密度が1.5
μg/cm2を超えると、Ni無電解めっき液中への金属P
d核10の落下量が増加してめっき液の劣化が促進さ
れ、コストの上昇を招くため、フェライト樹脂1上のP
dの付着密度は0.5〜1.5μg/cm2の範囲とするこ
とが望ましい。
来の方法と比較して、Pdを含む溶液の濃度や液粘度な
どの管理が容易となり、生産コストの削減をはかること
が可能になる。
線コイル2上にほぼ同じ付着密度となるようにPdを付
着させた従来例の試料(インダクタの完成品)と、上記
実施形態1の方法により、フェライト樹脂1上には密
に、導線コイル2の表面には疎に付着させた実施例の試
料(インダクタの完成品)について、外部電極4a,4
b(図8)の成形体3への密着性を調べるために、密着
強度試験を行った。その結果を表1に示す。ただし、表
1における密着強度不良の発生率(%)は、試料100
個について調べた密着強度不良の発生率を示している。
ンダクタ)を250℃に加熱した熱板上に10分間放置
し、外部電極に浮き上がり(いわゆるブク)が発生した
ものを密着強度不良と判定した。
の従来例の試料(インダクタ)の場合、フェライト樹脂
上へのPdの付着密度が0.5〜1.5μg/cm2の範囲
であれば、外部電極のフェライト樹脂への密着強度は良
好となり、また、導体コイル上へのPdの付着密度が
0.05〜0.3μg/cm2の範囲であれば、外部電極の
導体コイルの露出面への密着強度は良好となるが、同時
に、フェライト樹脂及び導体コイルの両方に対して密着
強度を良好にすることは困難であることがわかる。これ
に対して、試料番号6〜10の本願発明の実施例の試料
(インダクタ)の場合には、フェライト樹脂及び導体コ
イルの両方に対する密着強度の良好な外部電極が形成さ
れることがわかる。
体を有機溶剤に浸漬して、成形体の表面にのみ面粗しを
行うようにした場合の実施形態について説明する。 まず、上記実施形態1と同じ成形体(図1)、すなわ
ち、Fe2O3、NiO、CuO、及びZnOからなるフ
ェライト粉とPPS(ポリフェニレンサルファイド)樹
脂を混練したフェライト樹脂(磁性コア)1の内部に、
直径0.2mm、コイル内径1.8mm、長さ3.2mmの銅
線コイル2が埋設された、寸法が4.5mm×3.2mm×
3.2mmの成形体3を用意する。
うに、アセトンを主成分とする有機溶剤12中に1〜5
分間浸漬し、フェライト樹脂1の表面を化学的に腐食さ
せて面粗しを行い、フェライト樹脂1(成形体3)の表
面に凹凸を形成する。なお、このとき、銅線コイル2の
露出面は、有機溶剤12によっては腐食されず、銅線コ
イル2の表面に凹凸は形成されない。
(H2SO45wt%)で成形体3を洗浄した後、水で十分
にすすぐ。
様にして、フェライト樹脂1上には密に、露出した銅線
コイル2上には疎に付着するように、成形体3の表面に
Pdを付着させた後(図3参照)、Ni無電解めっきを
行い(図4参照)、さらに、Ni無電解めっき膜5の必
要部分をレジスト剤11で覆い(図5参照)、酸でNi
無電解めっき膜5の不要部分を取り除いた後(図6参
照)、レジスト剤11を除去し(図7)、成形体3上に
残ったNi無電解めっき膜5に、Ni、Snの順に電解
めっきを行う。これにより、図8に示すように、成形体
3の両端部に、Ni無電解めっき膜5、Ni電解めっき
膜6、及びSn電解めっき膜7からなる三層構造の外部
電極4a,4bが配設された表面実装型のインダクタが
得られる。
オン化傾向の大きいCuからなる内部導体(銅線コイ
ル)2の露出面上で、Pdイオンが金属Pdに還元され
る割合は低く、露出した銅線コイル2と比較して、凹凸
の程度がはるかに大きいフェライト樹脂1上には、アン
カー効果により、銅線コイル2上よりも密にPdイオン
が付着する。
dイオンを、還元剤を用いて還元することにより、Pd
を、フェライト樹脂1上では密に、露出した銅線コイル
2上では疎となるように付着させることが可能になり、
その後のNi無電解めっきにおいて、フェライト樹脂1
及び露出した銅線コイル2の両方への密着性に優れたN
i膜(Ni無電解めっき膜)5を形成することが可能に
なる。
従来の方法と比較して、Pdを含む溶液の濃度や液粘度
の管理が容易となり、生産コストの削減をはかることが
可能になる。
脂1の表面を化学的に腐食させて面粗しを行うための有
機溶剤として、アセトン系の有機溶剤を用いたが、露出
した銅線コイル2の表面を侵さず、フェライト樹脂1の
表面のみを腐食させることが可能な種々の有機溶剤を用
いることが可能である。
として、Ni無電解めっき膜を形成するようにしたが、
Pdが触媒作用を果たす他の金属(例えばCuなど)の
無電解めっき膜を金属膜として形成することも可能であ
る。
極を、Ni無電解めっき膜、Ni電解めっき膜、及びS
n電解めっき膜からなる三層構造とした場合について説
明したが、外部電極の具体的な構成については特に制約
はなく、外部電極を単層構造とするか複数層構造とする
かや、複数層構造とする場合の層数や各層の組み合わせ
態様などに関し、種々の応用、変形を加えることが可能
である。
品として、表面実装型のインダクタを製造する場合を例
にとって説明したが、本願発明は、インダクタに限らず
積層コンデンサ、積層バリスタ、LC複合部品などの種
々の電子部品を製造する場合に広く適用することが可能
である。
上記実施形態に限定されるものではなく、発明の要旨の
範囲内において、種々の応用、変形を加えることが可能
である。
電子部品においては、成形体の表面の、外部電極が形成
されている領域のうちの、内部導体が露出していない領
域(成形体表面)にはPdが0.5〜1.5μg/cm2の
割合で付与され、成形体から露出した内部導体の表面
(内部導体露出面)にはPdが0.05〜0.3μg/cm
2の割合で付与されており、このPdが所定の割合で付
与された領域(成形体表面及び内部導体露出面)に、外
部電極の少なくとも一部を構成する無電解めっきによる
金属膜が形成されているので、成形体表面及び内部導体
露出面の両方への密着性に優れた金属膜を備え、外部電
極を介した外部との接続に関し、信頼性の高い電子部品
を得ることができる。
及び内部導体露出面への密着性は、Pdの付着密度(単
位面積あたりの付着量)の影響を受けやすいが、Pdの
付着密度を上記の範囲(成形体表面に対しては0.5〜
1.5μg/cm2の割合、内部導体露出面に対しては0.
05〜0.3μg/cm2の割合)とした場合には、成形体
表面及び内部導体露出面の両方への密着性に優れた金属
膜を形成することができる。
うに、樹脂又はゴムに磁性体粉末を混練した磁性体材料
中に、導体コイル(内部導体)を埋め込んで所定の形状
とした成形体の表面に、導体コイルの両端部と導通する
ように一対の外部電極を配設してなる表面実装型のイン
ダクタなどに適用することが可能であり、その場合に
は、成形体表面及び内部導体露出面の両方への密着性に
優れた金属膜を形成することが可能になり、信頼性の高
いインダクタなどの電子部品を提供することができる。
体材料が、樹脂又はゴムに磁性体粉末を混練したもので
ある場合に適用することが可能であり、その場合には、
外部電極の成形体への密着性に優れた信頼性の高いイン
ダクタなどの電子部品を提供することができる。
導体が、金属線を螺旋状に巻回したコイル状導体である
場合に本願発明を適用することにより、金属線を内部導
体とし、外部電極を構成する金属膜の成形体への密着性
に優れた、信頼性の高い表面実装型のインダクタなどの
電子部品を提供することが可能になる。
導体を構成する材料として、Cu、Ag、Al、Ni、
及びそれらの合金からなる群より選ばれる少なくとも1
種を用いた電子部品に本願発明を適用することにより、
内部電極露出面への密着性に優れた金属膜を確実に形成
することが可能になり、特に有意義である。
製造方法は、成形体の、内部導体が露出していない領域
(成形体表面)にはPdを0.5〜1.5μg/cm2の割
合で付着させ、成形体から露出した内部導体の表面(内
部導体露出面)にはPdを0.05〜0.3μg/cm2の
割合で付着させた後、無電解めっきを施すようにしてい
るので、成形体表面及び内部導体露出面の両方への密着
性に優れた金属膜を形成することが可能になり、信頼性
の高い電子部品を効率よく製造することができるように
なる。
うに、成形体の表面の、内部導体の露出部分を含む所定
の領域に、乾式ブラストを施すことにより面粗しを行
い、エッチング液に浸漬して、面粗しにより凹凸が形成
された内部導体の露出面を平滑化した後、無電解めっき
を施すようにした場合、平滑化された内部導体露出面よ
りも表面の凹凸の程度がはるかに大きい成形体表面に
は、内部導体露出面よりも密にPdを付着させることが
可能になり、その後の無電解めっきにおいて、成形体表
面及び内部導体露出面の両方への密着性に優れた無電解
めっき膜を効率よく形成することが可能になる。
うに、成形体を有機溶剤に浸漬して、成形体の表面にの
み面粗しを行った後、無電解めっきを施すようにした場
合も、上記請求項7の場合と同様に、内部導体露出面よ
りも表面の凹凸の程度がはるかに大きい成形体表面に
は、内部導体露出面よりも密にPdを付着させることが
可能になり、その後の無電解めっきにおいて、成形体表
面及び内部導体露出面の両方への密着性に優れた無電解
めっき膜を効率よく形成することが可能になる。
電子部品の製造方法において用いた成形体を示す図であ
る。
方法の一工程において、成形体に乾式ブラストを施して
いる状態を示す図である。
方法の一工程において、成形体の表面にPd触媒を付与
した状態を示す図である。
方法の一工程において、成形体の表面に無電解めっきを
施した状態を示す図である。
方法の一工程において、表面に無電解めっきが施された
成形体の一部をレジスト剤により被覆した状態を示す図
である。
方法の一工程において、成形体の表面のレジスト剤によ
り被覆されていない部分の無電解めっき膜をエッチング
により除去した状態を示す図である。
方法の一工程において、無電解めっき膜の不要部分をエ
ッチングにより除去した後、レジスト剤を除去した状態
を示す図である。
方法により製造された電子部品(表面実装型のインダク
タ)を示す図である。
る電子部品の製造方法において、成形体を、アセトンを
主成分とする有機溶剤中に浸漬して、面粗しを行ってい
る状態を示す図である。
である。
Claims (8)
- 【請求項1】樹脂又はゴムを主たる成分とする不導体材
料を所定の形状に成形した成形体の表面に、金属からな
る内部導体を、少なくとも一部が露出するように埋設す
るとともに、前記成形体の表面の、前記内部導体の露出
部分を含む所定の領域に、前記内部導体と導通する外部
電極を配設した電子部品において、 前記成形体の表面の、外部電極が形成されている領域の
うちの、内部導体が露出していない領域の成形体の表面
にはPdが0.5〜1.5μg/cm2の割合で付与され、
成形体の表面から露出した内部導体上にはPdが0.0
5〜0.3μg/cm2の割合で付与されており、かつ、前
記Pdが付与された領域には、外部電極の少なくとも一
部を構成する無電解めっきによる金属膜が形成されてい
ることを特徴とする電子部品。 - 【請求項2】前記内部導体の両端部が成形体から露出し
ており、該両端部と導通するように一対の外部電極が形
成されていることを特徴とする請求項1記載の電子部
品。 - 【請求項3】前記不導体材料が、樹脂又はゴムに磁性体
粉末を混練したものであることを特徴とする請求項1又
は2記載の電子部品。 - 【請求項4】前記内部導体が、金属線を螺旋状に巻回し
たコイル状導体であることを特徴とする請求項1〜3の
いずれかに記載の電子部品。 - 【請求項5】前記内部導体が、Cu、Ag、Al、N
i、及びそれらの合金からなる群より選ばれる少なくと
も1種であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか
に記載の電子部品。 - 【請求項6】請求項1〜5のいずれかに記載の電子部品
を製造する方法であって、 樹脂又はゴムを主たる成分とする不導体材料を所定の形
状に成形した成形体の表面に、金属からなる内部導体
を、少なくとも一部が露出するように埋設するととも
に、前記成形体の表面の、前記内部導体の露出部分を含
む所定の領域に、前記内部導体と導通する外部電極を配
設した電子部品の製造方法において、 前記成形体の、内部導体が露出していない領域にはPd
を0.5〜1.5μg/cm2の割合で付着させ、成形体の
表面から露出した内部導体上にはPdを0.05〜0.
3μg/cm2の割合で付着させた後、無電解めっきを施し
て、成形体の表面に金属膜を形成する工程を経て外部電
極を形成することを特徴とする電子部品の製造方法。 - 【請求項7】前記成形体の表面の、内部導体の露出部分
を含む所定の領域に、乾式ブラストを施すことにより面
粗しを行うとともに、成形体をエッチング液に浸漬し
て、面粗しにより凹凸が形成された内部導体の露出面を
平滑化した後、無電解めっきを施すことにより、内部導
体の露出部分を含む成形体の表面に金属膜を形成する工
程を備えていることを特徴とする請求項6記載の電子部
品の製造方法。 - 【請求項8】前記成形体を有機溶剤に浸漬して、成形体
の表面にのみ面粗しを行った後、無電解めっきを施すこ
とにより、内部導体の露出部分を含む成形体の表面の所
定の領域に金属膜を形成する工程を備えていることを特
徴とする請求項6記載の電子部品の製造方法。
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