JP2002119841A - マイクロスフィアの製造方法および製造装置 - Google Patents

マイクロスフィアの製造方法および製造装置

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JP2002119841A JP2000313577A JP2000313577A JP2002119841A JP 2002119841 A JP2002119841 A JP 2002119841A JP 2000313577 A JP2000313577 A JP 2000313577A JP 2000313577 A JP2000313577 A JP 2000313577A JP 2002119841 A JP2002119841 A JP 2002119841A
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National Food Research Institute
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 粒径が均一なマイクロスフィアを大量に製造
できる方法と装置を提供する。 【解決手段】 ケース1は下半体1ａと上半体1ｂとから
なり、下半体1ａに形成された凹部２に、順次、シール
リング３、ガラス板やプラスチック板などの透明板から
なる第１プレート４、環状スペーサ５、シリコン基板な
どからなる中間プレート６、環状スペーサ７、第２プレ
ート８及びシールリング９を入れ、この上から上半体1
ｂを重ね、ボルトなどで上半体1ｂを下半体1ａに固着す
ることで装置が組み立てられる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、食品工業、医薬或
いは化粧品製造等に利用されるエマルション、ＤＤＳ
（ドラッグデリバリーシステム）用のエマルション、マ
イクロカプセル、イオン交換樹脂、クロマトグラフィー
担体などとして用いられる固体微粒子や液体微粒子であ
るマイクロスフィア（微粒子）の製造方法およびその装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】水相と有機相のように熱力学的には分離
している状態が安定状態である二相系を乳化によって準
安定な状態であるエマルションとする技術が従来から知
られている。
【０００３】一般的な乳化方法としては、エマルション
の化学（朝倉書店：１９７１）に記載されるように、ミ
キサー、コロイドミル、ホモジナイザー等を用いる方法
や超音波等で分散させる方法が知られている。
【０００４】前記した一般的なエマルションの製造方法
にあっては、連続相中の分散相粒子（マイクロスフィ
ア）の粒径分布の幅が大きいという欠点がある。そこ
で、ポリカーボネイトからなる膜を用いて濾過を行う方
法（Biochimica et Biophysica Acta, 557(1979) Nort
h-Holland Biochemical Press）、PTFE（ポリテトラフ
ルオロエチレン）膜を用いて繰り返し濾過を行う方法
（化学工学会第２６回秋期大会講演要旨集：１９９
３）、均一な細孔を持つ多孔質ガラス膜を通して連続相
に送り込み均質なエマルションを製造する方法（特開平
２−９５４３３号公報）も提案されている。また、ノズ
ルや多孔板を用いるエマルションの製造方法として、層
流滴下法（化学工学第２１巻第４号：１９５７）も知ら
れている。
【０００５】ポリカーボネイトからなる膜を用いて濾過
を行う方法とPTFE膜を用いて繰り返し濾過を行う方法に
あっては、原理的に膜の細孔より大きいものは製造でき
ず、膜の細孔よりも小さいものは分別できないという問
題点がある。従って、特に大きいサイズのエマルション
を製造する場合には適さない。
【０００６】また、均一の細孔を持つ多孔質ガラス膜を
用いる方法にあっては、膜の平均細孔径が小さい場合に
は粒径分布が広がらず、均質なエマルションを得ること
が出来るが、膜の平均細孔径を大きくすると粒径分布が
広がり、均質なエマルションを得ることができない。更
に、層流滴下法では１０００μm以上の粒径となり、分
布も広く、均質なエマルションが得られない。
【０００７】そこで、本発明者等は国際公開WO97／3087
3号公報に連続的に均質なエマルションの製造をし得る
装置を提案している。図８及び図９に当該装置の構造を
示す。図８は、同装置の縦断面図、図９は基板とプレー
トを分解して示した図である。エマルションの製造装置
は、ケース１００に保持された本体１０１に連続相の供
給口１０２、分散相の供給口１０３、エマルションの取
出口１０４を形成し、本体１０１と基板１０５の間に設
けた隔壁部材１０６にて分散相の供給口１０３とエマル
ションの取出口１０４とを隔離し、更に、基板１０５の
中央部には分散相の供給口１０７が形成され、基板１０
５と対向して配置されたプレート１０８との間に隙間が
形成され、また基板１０５に設けた境界部１０９にて分
散相と連続相を分けるとともに、境界部１０９に形成し
たマイクロチャネル１１０にて分散相と連続相を接触せ
しめた構成としている。
【０００８】そして、分散相の供給口１０３を介して隔
壁部材１０６の内側に供給された分散相は基板１０５の
開口１０７を介して基板１０５とプレート１０８との隙
間に入り、更に、マイクロチャネル１１０を通過して連
続相に入り込みエマルションが形成される。
【０００９】また、エマルション以外のマイクロスフィ
ア（微粒子）の製造に関する先行技術としては、噴霧乾
燥機（スプレードライ）がある。噴霧乾燥機には遠心ノ
ズル法、加圧ノズル法および２流体ノズル法の３つのタ
イプがあるが、いずれもノズルを高速回転させるか、噴
出する液体を高速にすることで乱流を形成し、この乱流
に起因する剪断場で液体をマイクロスフィア（微粒子）
としている。
【００１０】更に、マイクロスフィアを製造する装置と
しては造粒装置がある。造粒装置には、押し出し式、遠
心流動式、流動層式、気流式、攪拌式など多くの種類が
あるが、いずれも乱流による剪断場でマイクロスフィア
（液滴）を形成している。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のエマル
ション製造装置、噴霧乾燥機或いは各種造粒装置にあっ
ては、マイクロスフィアが押し出される多孔質膜やノズ
ル等の貫通孔の開口形状が円形かあるいは円形に近い形
状となっている。
【００１２】このように分散相を連続相に押し出す個所
の開口形状が円形または円形に近い形状であると、開口
から押し出される分散相の界面に垂直方向の力が均一に
作用するため、開口から分散相が分離するきっかけが得
られない。このため従来にあっては、前記したように乱
流場を形成し、この乱流場に起因する剪断力で、強制的
に分散相を開口から分離して微粒子にしている。
【００１３】しかしながら、乱流場に起因する剪断力で
マイクロスフィア（微粒子）を形成する場合には、前記
したように開口から分散相が液滴として分離するきっか
けを得にくいため、製造されるマイクロスフィアの粒径
が均一にならないという課題がある。
【００１４】また、粒径のみならず生産効率においても
課題が存在する。即ち、図８、図９で説明したエマルシ
ョン製造装置について言えば、マイクロチャネルは基板
中央に設けられた開口の周縁に直線的に形成される必要
があり、一つの基板上に形成されるマイクロチャネルの
総数はマイクロチャネルの大きさが小さい場合において
も５０００個程度が限界であるとともに、マイクロチャ
ネルの大きさが大きくなるにつれてその数は更に減少し
ていく。よって、高生産速度で連続相の中に均質な分散
相粒子を分散させることは容易ではなく、コスト的に改
良の余地がある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】上記各種問題を解決する
ため、本発明に係るマイクロスフィアの製造方法は、貫
通孔を形成した隔壁を介して分散相と連続相を分離し、
分散相に連続相にかかる圧力よりも大きな圧力をかける
ことで分散相を連続相中にマイクロスフィアとして押し
出すようにしたマイクロスフィアの製造方法において、
前記貫通孔から連続相中に押し出される分散相の界面に
不均一な剪断力を作用せしめてマイクロスフィアを形成
するようにした。
【００１６】貫通孔から連続相中に押し出される分散相
の界面に不均一な剪断力が作用すると、分散相が分離し
てマイクロスフィアになるきっかけが容易に得られ、均
一な粒径のマイクロスフィアを製造することができる。
これは、貫通孔の形状をスロット状等の歪みをもった形
状とすることで達成できる。即ち、分散相が貫通孔から
押し出される際に、その歪みに起因して界面に対して垂
直で外側から内側の方向の力の大きさに分布が生じるこ
とにより、分散相と連続相の界面の状態が不安定にな
り、界面の剪断が促進され、細かく均質なマイクロスフ
ィアが生成される。
【００１７】マイクロスフィアとしてエマルションなど
を目的とする場合には、分散相および連続相とも液体と
し、また噴霧乾燥などを目的とする場合には、分散相は
液体で連続相は気体とする。
【００１８】また、マイクロスフィアの生成量は分散相
の駆動圧力で制御することができる。そこで、安定的に
マイクロスフィアが生成される範囲内においてマイクロ
スフィアの生成量が最大になる分散相の駆動圧力を検出
し、この圧力で運転する。
【００１９】マイクロスフィアを安定的に生成するには
界面が剪断される時に、界面の周囲に存在する連続相が
界面に向けて移動・供給されることが必要となるため
に、ある程度の割合で連続相が界面の周囲に存在するこ
とが必要となる。また、生成したマイクロスフィアを回
収するためにも連続相の供給が必要であるとともに、連
続相の流速を変化させることによりエマルション中の分
散相の割合を任意に設定することができる。そこで、上
記の条件を満たす最適な連続相の流速を検出し、この速
度で運転する。上記のように、連続相を一定流速で流す
ことで、界面への連続相の供給を図るほかに、超音波な
どの機械的力を連続相に加えて、連続相の供給を図り、
マイクロスフィアのチャネル出口からの離脱を促進する
こともできる。この場合も、このような外力は、液滴の
剪断ではなく、単に、生成後の離脱に有効なものであ
る。
【００２０】また、前記したマイクロスフィアの製造方
法を実施する装置の一例としては、ケースに第１プレー
ト、中間プレート及び第２プレートが間隔をあけて取り
付けられ、前記第１プレートと中間プレートとの間に分
散相が流れる液密な第１流路が形成され、前記中間プレ
ート及び第２プレートとの間に連続相とマイクロスフィ
アを含む相が流れる液密な第２流路が形成され、前記中
間プレートには前記第１流路と第２流路とを連通する多
数の貫通孔が形成され、この貫通孔の形状は連続相に押
し出される分散相の界面に不均一な剪断力が作用せしめ
る非円形をなす構成としたものが考えられる。
【００２１】上記した構成とすることで、中間プレート
あたりの貫通孔の数を大幅に増加（例えば１０００／ｃ
ｍ2以上）して、マイクロスフィアの大量製造を行うこ
とが可能となる。
【００２２】前記中間プレートに形成する貫通孔の開口
形状としては、例えば、スロット状若しくはスロットを
組み合わせた形状とするが、これに限定されるものでは
ない。また貫通孔を中間プレートに形成する手段として
は、エッチング処理、電子線照射、ＣＶＤ法等の精密加
工手法、更にはドライエッチングの一つである高密度プ
ラズマエッチング処理が適当である。
【００２３】また、前記第１プレートまたは第２プレー
トの少なくとも一部を透明とすることで、マイクロスフ
ィアの生成状態をCCDカメラ等を用いて外部から監視す
ることが可能になる。
【００２４】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて説明する。図１は本発明方法を実施する
装置の一例であるマイクロスフィアの製造装置の断面
図、図２は中間プレートの平面図、図３は中間プレート
の断面図、図４はマイクロスフィア発生前の状態の中間
プレートの一部の拡大斜視図、図５はマイクロスフィア
発生後の状態の中間プレートの一部の拡大斜視図であ
る。
【００２５】マイクロスフィアの製造装置は環状をなす
ケース1内に複数のプレートおよびスペーサを組み付け
て構成される。即ち、ケース1は下半体1ａと上半体1ｂ
とからなり、下半体1ａに形成された凹部２に、順次、
シールリング３、ガラス板やプラスチック板などの透明
板からなる第１プレート４、弾性体からなる環状スペー
サ５、シリコン基板などからなる中間プレート６、環状
スペーサ７、第２プレート８及びシールリング９を入
れ、この上から上半体1ｂを重ね、ボルトなどで上半体1
ｂを下半体1ａに固着することで装置が組み立てられ
る。
【００２６】前記第１プレート４と中間プレート６との
間には環状スペーサ５によって分散相が流れる液密な第
１流路１１が形成され、前記第２プレート８と中間プレ
ート６との間には環状スペーサ７によって連続相とエマ
ルションが流れる液密な第２流路１２が形成される。
【００２７】また、図２及び図３に示すように、前記中
間プレート６の略中央部には多数の貫通孔１３が形成さ
れている。この貫通孔１３は、例えば励起されたフッ素
化合物ガスを反応ガスとして用いたプラズマエッチング
にて形成され、その開口部の形状は、幅（Ｔ1）が９．
５μｍ、長さ（Ｔ2）が２３．６μｍのスロット状をな
している。但し、上記した貫通孔１３の寸法はこれに限
定されず任意である。
【００２８】貫通孔１３の開口形状は円形、正方形でも
よいが、細かく均一なマイクロスフィアを形成するに
は、形状に歪みがあるものが好ましく、例えば、図６
（ａ）〜（ｅ）に示すような、Ｌ字状、Ｔ字状、+状、
Ｈ字状、或いは円筒に針金等を挿入した形状が好まし
い。
【００２９】また、図２に示すように、前記中間プレー
ト６の対向する隅部には開口１４が形成され、この開口
１４と一致する個所に、前記環状スペーサ７及び第２プ
レート８にも開口１５，１６が形成され、これら開口１
４，１５，１６にて分散相の導入流路を形成している。
なお、本装置では２本の分散相の導入流路が形成される
が１本は盲栓１７によって閉塞している。
【００３０】また、前記第２プレート8には内側に別の
開口１８、１９が形成され、一方の開口１８を連続相の
導入流路とし、他方の開口１９をエマルションの回収流
路としている。
【００３１】前記開口１６には配管２０及びポンプＰ１
を介して分散相のリザーバ２１がつながり、前記開口１
８には配管２２及びポンプＰ2を介して連続相のリザー
バ２３がつながり、前記開口１９には配管２４及びポン
プＰ３を介してエマルションのリザーバ２５がつながっ
ている。なお、各配管と開口とは図示しないジョイント
を介して液密に接続されている。
【００３２】また、前記第２プレート8は２枚の板材８
ａ、８ｂからなり、これら板材８ａ、８ｂの中央部を窓
部とし、この窓部にガラス板或いはプラスチック板から
なる透明プレート８ｃをシールを介して保持している。
このような構成とすることで、外部からＣＣＤカメラ２
６等の光学的読取装置を介して第２流路１２内でのマイ
クロスフィアの生成が正常になされているか等を監視す
ることができ、駆動圧力の変動に伴うマイクロスフィア
の製造速度を精密に制御することが可能である。
【００３３】図７は別実施例を示す図1と同様の断面図
であり、この実施例にあっては、中間プレート６、第２
プレート8に開口を形成せずに、ケース1に分散相の導入
（回収）流路３1、連続相の導入（回収）流路３２、エ
マルションの回収（供給）流路３３を形成している。
【００３４】以上の構成の装置を用いてマイクロスフィ
アを生成するには、リザーバ２１内の分散相をポンプＰ
１、配管２０を介して第１流路１１内に所定の圧力で供
給し、これと同時にリザーバ２３内の連続相をポンプＰ
２、配管２２を介して第２流路１２内に所定の圧力で供
給する。
【００３５】すると、第１流路１１内の分散相は中間プ
レート６の貫通孔１３を介して、図５に示すように、マ
イクロスフィアとなって連続相中に分散し、エマルショ
ンが形成される。 形成されたエマルションは、配管２
４、ポンプＰ３を介してリザーバ２５に回収される。
【００３６】ここで、本発明にあっては貫通孔１３の開
口部形状が円形ではなく、歪をもった形状をしているた
め、分散相が貫通孔から押し出される際に、その歪みに
起因して界面に対して垂直で外側から内側の方向に力の
大きさに分布が生じることにより、分散相と連続相の界
面の状態が不安定になり、界面の剪断が促進され、細か
く均質なマイクロスフィアが生成される。
【００３７】上記のエマルションの生成速度は、例えば
第１流路１１内の分散相の流速或いは第２流路１２内の
連続相の流速を制御することで調整することができる。
【００３８】以上において、中間プレートの親疎水性に
応じて製造するマイクロスフィアのタイプを変えること
が可能である。即ち、親水性のプレートを用いた場合に
はO／W型のマイクロスフィア、疎水性のプレートを用い
た場合にはW／O型のマイクロスフィアを製造することが
できる。
【００３９】以下に、具体的な実施例について説明す
る。 （実施例1）分散相として大豆油、連続相として0. 3 wt
%のドデシル硫酸ナトリウムを含む水を用い、駆動圧力
を0. 90 kPa、1. 80 kPa、連続相流量を10 ml／hとし
て、マイクロスフィアの製造を試みた。
【００４０】駆動圧力が小さい0. 90 kPaであると、分
散相を連続相中に強制的に送り込むことができず、マイ
クロスフィアが作成されなかった。しかしながら、駆動
圧力を1. 80 kPaまで上げることで分散相が貫通孔を介
して連続相中に送り込まれた。
【００４１】上記で製造されたマイクロスフィアは極め
て粒径が揃った均質なものであった。これは、前記貫通
孔の断面が長方形状（スロット状）であるために、分散
相が貫通孔を通過した時に、膜表面部に存在する分散相
と連続相との界面は貫通孔の断面形状により歪みを生
じ、その歪みに起因して界面に対して垂直で外側から内
側方向の力の大きさに分布が生じることに起因して、界
面の状態を不安定にさせ、界面が剪断されるのを促進さ
れ、結果として均質なマイクロスフィアを安定的に製造
できることが判明した。従って、長方形状等の界面に歪
みを与える断面形状を有する貫通型マイクロチャネルが
均質なサイズのマイクロスフィアの作成に有効であるこ
とがわかる。
【００４２】また、分散相の駆動圧力を12 kPa、連続相
の流量を200 ml/hまで変化させたが、製造されたマイク
ロスフィアのサイズおよびその分布に変化は生じないこ
とが判明した。この場合において、各々の貫通孔におけ
るマイクロスフィアの最大生産速度は100個／ｓ程度で
あり、基板当たり最大で125 ml/hの高い生産速度でマイ
クロスフィアを生成可能であることが判明した。
【００４３】尚、円形の断面を有する貫通型マイクロチ
ャネルを用いた時は、膜表面部に存在する分散相と連続
相との界面の状態が安定であり、界面の剪断が促進され
にくいため、製造されたマイクロスフィアのサイズが大
きくなった上に、サイズ分布の点においても長方形状の
断面を有する貫通型マイクロチャネルと比較して劣って
いることが分かり、連続相の流量の影響も大きく受ける
ことが分かった。ただし、この場合でも従来の装置に比
較すれば十分な量のエマルションを生成できる。
【００４４】本発明にかかるマクロソフィアの製造はエ
マルションの生成に限定されるものではなく、多くの用
途に利用できる。その一例を以下に述べる。 （クロマトグラフィー担体の製造）界面活性剤を含むト
ルエンに高純度ケイ酸ソーダを本発明方法により均一分
散せしめた。この分散液（エマルション）に炭酸ガスを
吹き込んでゲル化し、次いで固液分離し、塩酸に固体部
分（微粒子）を浸漬し、蒸留水で洗浄後脱水し、１８０
℃で乾燥せしめ、５５０℃で焼成し界面活性剤を除去
し、次いで塩酸に浸漬し、水洗浄して高純度シリカ微粒
子を得た。この後、ＯＤＳ（ジメチルオクタデシルモノ
クロロシラン）微粒子を調整するために、前記高純度シ
リカ微粒子にトルエン中でＯＤＳを加え、反応させるこ
とでＯＤＳシリカ微粒子を得た。
【００４５】また上記の他に、重合トナー、顔料、導電
性スペーサー、メタリック塗料、環境浄化用微粒子、難
燃剤、触媒、蓄熱剤、抗菌剤、フェロモン、食用油、生
理活性物質、酵素、アルミフレーク、マイカ、肥料、生
分解性マイクロカプセルの製造にも本発明は適用され
る。
【００４６】例えば、マイクロカプセル中に相変化物質
を分散した熱媒体にあっては、相変化物質の大きな潜熱
によって少量の熱媒体で大量の熱を輸送することができ
る。特に相変化物質をマイクロカプセル中に閉じ込める
ことにより流動性を確保できる。マイクロカプセル熱媒
体は新しい熱媒体であり、普通の液体に比べて伝熱特性
に優れている。この特性は原子力発電プラントの排熱な
ど、比較的低温の未利用熱を利用するのに有効である。
【００４７】マイクロカプセルを用いて更にシート或い
はフィルム化することも可能である。例えば、数μｍの
大きさのマイクロカプセル内に香り成分を封じ込め、こ
れをテレホンカードなどにオフセット印刷する。する
と、印刷面を擦ることでカプセルが壊れ、芳香が漂う機
能性インクに本発明を応用することもできる。
【００４８】マイクロカプセルとしては上記の他に、薬
品のカプセル化、電気泳動ディスプレイ等への応用も考
えられる。
【００４９】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明に係るマ
クロスフィア製造方法によれば、スロット状或いはスロ
ットを組み合わせた非円形形状の貫通孔を介して、加圧
された分散相を連続相中に強制的に送り込むようにした
ので、分散粒子の径が大きくなった場合においても粒径
分布が広がらず、均質なマイクロスフィアを得ることが
できる。
【００５０】また、本発明に係るマクロスフィア製造装
置によれば、均質なマイクロスフィアを効率よく生産す
ることができる。
【００５１】例えば、本発明方法をマヨネーズ、チョコ
レート、マーガリン、ファットスプレッドなどの製造に
応用した場合、分散相粒子を微細且つ均一にすることが
できるので、長期保存しても分離しにくく、且つ食感も
向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るマイクロスフィアの製造装置の断
面図。
【図２】中間プレートの平面図。
【図３】中間プレートの断面図。
【図４】中間プレートの一部の拡大斜視図（マイクロス
フィア発生前）。
【図５】中間プレートの一部の拡大斜視図（マイクロス
フィア発生後）。
【図６】（ａ）〜（ｅ）は貫通孔の別実施例を示す図。
【図７】別実施例を示す図１と同様の図。
【図８】従来装置の断面図。
【図９】従来装置に用いている基板と透明プレートとの
関係を示す斜視図。
【符号の説明】
１…ケース、１ａ、1ｂ…ケース半体、２…凹部、３…
シールリング、４…第１プレート、５，7…環状スペー
サ、6…中間プレート，8…第2プレート、9…シールリン
グ、１１…第１流路、１２…第２流路、１３…貫通孔、
１４、１５、１６、１８、１９…開口、１７…盲栓、２
０、２２、２４…配管、２１、２３、２５…リザーバ、
２６…CCDカメラ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｊ 13/00 Ｂ０１Ｊ 13/00 Ａ 19/00 19/00 Ｎ (72)発明者 藤田 博之 東京都豊島区千川１−９−14 (72)発明者 菊池 佑二 茨城県竜ヶ崎市久保台４丁目１−10−２− 506 (72)発明者 小林 功 群馬県群馬郡榛名町大字下室田1016−11 Ｆターム(参考） 4G004 AA01 EA00 4G065 AA01 AA02 AB01X AB22X AB33X BA01 BA03 BB01 BB05 CA03 CA17 DA01 DA02 DA05 DA10 EA10 FA02 GA01 4G068 AA01 AB11 AB22 AC16 AD20 AD21 4G075 AA14 AA23 AA27 BD05 BD15 BD16 BD17 CA23 DA01 DA02 EA02 EB01 FA02 FB06 FB12 FC04 FC17

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 貫通孔を形成した隔壁を介して分散相と
    連続相を分離し、分散相に連続相にかかる圧力よりも大
    きな圧力をかけることで分散相を連続相中にマイクロス
    フィアとして押し出すようにしたマイクロスフィアの製
    造方法において、前記貫通孔から連続相中に押し出され
    る分散相の界面に不均一な剪断力を作用せしめてマイク
    ロスフィアとすることを特徴とするマイクロスフィアの
    製造方法。
  2. 【請求項２】 請求項１に記載のマイクロスフィアの製
    造方法において、前記分散相および連続相とも液体であ
    ることを特徴とするマイクロスフィアの製造方法。
  3. 【請求項３】 請求項１に記載のマイクロスフィアの製
    造方法において、前記分散相は液体で連続相は気体であ
    ることを特徴とするマイクロスフィアの製造方法。
  4. 【請求項４】 請求項１に記載のマイクロスフィアの製
    造方法において、前記分散相の駆動圧力を制御すること
    で、マイクロスフィアを安定的に生成される範囲内にお
    いて最大の生成量を達成できるようにしたことを特徴と
    するマイクロスフィアの製造方法。
  5. 【請求項５】 請求項１に記載のマイクロスフィアの製
    造方法において、前記連続相の流速を制御することで、
    界面の周囲に必要な割合の連続相を存在させるようにす
    るとともに、回収したエマルション中の分散相の割合を
    任意に設定できるようにすることを特徴とするマイクロ
    スフィアの製造方法。
  6. 【請求項６】 ケースに第１プレート、中間プレート及
    び第２プレートが間隔をあけて取り付けられ、前記第１
    プレートと中間プレートとの間に分散相が流れる液密な
    第１流路が形成され、前記中間プレート及び第２プレー
    トとの間に連続相とマイクロスフィアを含む相が流れる
    液密な第２流路が形成され、前記中間プレートには前記
    第１流路と第２流路とを連通する多数の貫通孔が形成さ
    れ、この貫通孔の形状は連続相に押し出される分散相の
    界面に不均一な剪断力を作用せしめる非円形をなすこと
    を特徴とするマイクロスフィアの製造装置。
  7. 【請求項７】 請求項６に記載のマイクロスフィアの製
    造装置において、前記中間プレートに形成した貫通孔の
    開口形状は、スロット状若しくはスロットを組み合せた
    形状をなすことを特徴とするマイクロスフィアの製造装
    置。
  8. 【請求項８】 請求項６に記載のマイクロスフィアの製
    造装置において、前記中間プレートに形成した貫通孔の
    数は１０００／ｃｍ2以上としたことを特徴とするマイ
    クロスフィアの製造装置。
  9. 【請求項９】 請求項６に記載のマイクロスフィアの製
    造装置において、前記中間プレートを多数重ねた積層構
    造とすることにより、生産性を高めるようにしたことを
    特徴とするマイクロスフィア製造装置。
  10. 【請求項１０】請求項６に記載のマイクロスフィアの製
    造装置において、生成されたマイクロスフィアの出口部
    と流路を隔てて存在するプレートの少なくとも一部を透
    明プレートとされていることを特徴とするマイクロスフ
    ィアの製造装置。
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