JP2002074754A - 光記録媒体とその製造方法 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光記録媒体における平坦化膜のはじかれによ
る信頼性の問題、歩留りの問題の解決を図る。 【解決手段】 光照射により情報の記録および再生の少
なくとも一方を行う光記録媒体であって、その光照射が
なされる側の表面に微細凹凸２が形成された基板１上
に、少なくとも記録層を有し、光照射がなされる側の表
面が微細凹凸表面とされた成膜層３上に、親水性を有す
る親水性材質膜１１を介して、照射光に対して透過性を
有する光透過性平坦化膜４を、成膜層表面の上記記微細
凹凸表面を埋め込んで形成して表面平坦化された構成と
する。
る信頼性の問題、歩留りの問題の解決を図る。 【解決手段】 光照射により情報の記録および再生の少
なくとも一方を行う光記録媒体であって、その光照射が
なされる側の表面に微細凹凸２が形成された基板１上
に、少なくとも記録層を有し、光照射がなされる側の表
面が微細凹凸表面とされた成膜層３上に、親水性を有す
る親水性材質膜１１を介して、照射光に対して透過性を
有する光透過性平坦化膜４を、成膜層表面の上記記微細
凹凸表面を埋め込んで形成して表面平坦化された構成と
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体とその
製造方法、特に、光学レンズと光記録媒体との距離がほ
ぼ２００ｎｍ以下に近接した状態（ニアフィールド）で
用いられる光記録媒体とその製造方法に関する。
製造方法、特に、光学レンズと光記録媒体との距離がほ
ぼ２００ｎｍ以下に近接した状態（ニアフィールド）で
用いられる光記録媒体とその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光記録媒体例えば光ディスクとしては、
例えばピットや、トラッキング用のグルーブなどが予め
基板に形成された例えば再生専用のいわゆるＲＯＭ型の
光ディスク、あるいは上述したピットや、トラッキング
用のグルーブなどが形成された基板上に情報記録層など
の成膜がなされる、相変化型光ディスクや光磁気ディス
クなどの記録再生用いわゆるＲＡＭ型の光ディスクがあ
る。
例えばピットや、トラッキング用のグルーブなどが予め
基板に形成された例えば再生専用のいわゆるＲＯＭ型の
光ディスク、あるいは上述したピットや、トラッキング
用のグルーブなどが形成された基板上に情報記録層など
の成膜がなされる、相変化型光ディスクや光磁気ディス
クなどの記録再生用いわゆるＲＡＭ型の光ディスクがあ
る。
【０００３】相変化型光ディスクは、レーザ光の照射に
より記録層を、アモルファス状態と結晶状態の間で相変
化させることにより情報の記録を行い、その屈折率の変
化を反射率の変化として光学的に検出して情報の再生を
行う。また、光磁気ディスクは、外部磁界の印加やレー
ザ光の照射により記録層の磁化状態を変化させて情報の
記録を行い、この磁化状態によって再生レーザ光の偏光
角を磁気光学効果、例えばカー効果によって回転させ、
この回転の検出によって情報の再生を行うものである。
より記録層を、アモルファス状態と結晶状態の間で相変
化させることにより情報の記録を行い、その屈折率の変
化を反射率の変化として光学的に検出して情報の再生を
行う。また、光磁気ディスクは、外部磁界の印加やレー
ザ光の照射により記録層の磁化状態を変化させて情報の
記録を行い、この磁化状態によって再生レーザ光の偏光
角を磁気光学効果、例えばカー効果によって回転させ、
この回転の検出によって情報の再生を行うものである。
【０００４】これら光ディスクは、光透過性の基板上
に、記録層、反射膜、誘電体膜などの成膜層を有し、基
板側からレーザ光が入射されて記録層に対する上述した
情報の記録、再生がなされる。
に、記録層、反射膜、誘電体膜などの成膜層を有し、基
板側からレーザ光が入射されて記録層に対する上述した
情報の記録、再生がなされる。
【０００５】光ディスクの記録密度は、一般に光源のレ
ーザスポット径に依存し、レーザスポット径が小さいほ
ど記録密度を高めることが可能と成る。レーザスポット
径はλ／ＮＡ（λ：レーザ光の波長、ＮＡ：対物レンズ
の開口数）に比例する。したがって、光記録媒体の記録
密度を高めるにはレーザ光を短波長化し、ＮＡを高くす
ることが要求される。
ーザスポット径に依存し、レーザスポット径が小さいほ
ど記録密度を高めることが可能と成る。レーザスポット
径はλ／ＮＡ（λ：レーザ光の波長、ＮＡ：対物レンズ
の開口数）に比例する。したがって、光記録媒体の記録
密度を高めるにはレーザ光を短波長化し、ＮＡを高くす
ることが要求される。
【０００６】高ＮＡ化を実現する方法として、近年、光
ディスクと光学レンズとの距離を２００ｎｍ以下である
ニアフィールド光ディスクの研究が盛んに行われてお
り、本発明者らはソリッドイマージョンレンズ（ＳＩ
Ｌ）を用いてＮＡ＞１の光学パラメータを達成している
研究例を報告している（例えば、I. Ichimura, K. Kish
ima, K. Osato, K. Yamamoto, Y. Kuroda, K. Saito, "
Near-Field Phase-ChangeOptical Recording of 1.36-N
umerical-Aperture", J. Appl. Phys. Vol.39, 962-967
(2000).）。
ディスクと光学レンズとの距離を２００ｎｍ以下である
ニアフィールド光ディスクの研究が盛んに行われてお
り、本発明者らはソリッドイマージョンレンズ（ＳＩ
Ｌ）を用いてＮＡ＞１の光学パラメータを達成している
研究例を報告している（例えば、I. Ichimura, K. Kish
ima, K. Osato, K. Yamamoto, Y. Kuroda, K. Saito, "
Near-Field Phase-ChangeOptical Recording of 1.36-N
umerical-Aperture", J. Appl. Phys. Vol.39, 962-967
(2000).）。
【０００７】ところで、光学系が高ＮＡ化された場合、
コマ収差が大きくなるという問題が発生する。コマ収差
は、（スキュー角）×（ＮＡ）３×（レーザ光が光ディ
スクを透過する距離）に比例する（ただしスキュー角は
光ディスクの光軸に対する傾き角）。前述したように、
従来の光ディスクにおいては、基板側から記録層にレー
ザ光照射が行われるため、コマ収差を低減するには基板
を薄くする必要がある。光ディスクの基板としてはプラ
スティック射出成形基板が多用されており、基板を高精
度で薄膜化するのは製造上困難である。
コマ収差が大きくなるという問題が発生する。コマ収差
は、（スキュー角）×（ＮＡ）３×（レーザ光が光ディ
スクを透過する距離）に比例する（ただしスキュー角は
光ディスクの光軸に対する傾き角）。前述したように、
従来の光ディスクにおいては、基板側から記録層にレー
ザ光照射が行われるため、コマ収差を低減するには基板
を薄くする必要がある。光ディスクの基板としてはプラ
スティック射出成形基板が多用されており、基板を高精
度で薄膜化するのは製造上困難である。
【０００８】これに対し、記録または再生時のレーザ光
照射を、光ディスクの記録層が形成された側から行うこ
とにより、レーザ光が光ディスクを透過する距離を大幅
に縮小させるようにした記録再生方法がある。この方法
による場合、コマ収差の低減が図られることから、高Ｎ
Ａ化に好適となる。
照射を、光ディスクの記録層が形成された側から行うこ
とにより、レーザ光が光ディスクを透過する距離を大幅
に縮小させるようにした記録再生方法がある。この方法
による場合、コマ収差の低減が図られることから、高Ｎ
Ａ化に好適となる。
【０００９】また、光ディスクにおいて、前述した例え
ばトラッキング用のグルーブが形成され、グルーブ内に
形成された情報記録層、あるいは隣り合うグルーブ間の
いわゆるランド上に形成された情報記録層に情報の記録
がなされる光ディスク、さらに、グルーブとランドの双
方に記録がなされるいわゆるランド・グルーブ記録型の
光ディスクがあり、このランド・グルーブ記録による場
合は、高記録密度化が図られる。
ばトラッキング用のグルーブが形成され、グルーブ内に
形成された情報記録層、あるいは隣り合うグルーブ間の
いわゆるランド上に形成された情報記録層に情報の記録
がなされる光ディスク、さらに、グルーブとランドの双
方に記録がなされるいわゆるランド・グルーブ記録型の
光ディスクがあり、このランド・グルーブ記録による場
合は、高記録密度化が図られる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、光デ
ィスクと光学レンズなどの光学系とが約２００ｎｍ以下
の距離に近接させたニアフィールド光ディスク装置にお
いては、光ディスク表面に凸状の欠陥（以下突起とい
う）が存在すると、光学系を損傷させる要因となる。し
たがって、ニアフィールドで用いられる光ディスクは、
表面が高精度に平面化されている必要があり、特にその
表面には突起がないことが厳しく要求される。
ィスクと光学レンズなどの光学系とが約２００ｎｍ以下
の距離に近接させたニアフィールド光ディスク装置にお
いては、光ディスク表面に凸状の欠陥（以下突起とい
う）が存在すると、光学系を損傷させる要因となる。し
たがって、ニアフィールドで用いられる光ディスクは、
表面が高精度に平面化されている必要があり、特にその
表面には突起がないことが厳しく要求される。
【００１１】また、ニアフィールドで用いられる光ディ
スクの表面に誘電体材料による所定の保護層を形成する
ことにより、特定の層からの表面反射を低減させたり、
あるいは、特定の層との多重干渉を調節することが可能
であることから、ＭＴＦ（Modulation Transfer Func
tion）を改善することが可能である。（I. Ichimura,K.
Kishima, K. Osato, K. Yamamoto, Y. Kuroda, K. Sai
to, "Near-Field Phase-Change Optical Recording of
1.36-Numerical-Aperture", J. Appl. Phys.Vol.39, 96
2-967(2000).）
スクの表面に誘電体材料による所定の保護層を形成する
ことにより、特定の層からの表面反射を低減させたり、
あるいは、特定の層との多重干渉を調節することが可能
であることから、ＭＴＦ（Modulation Transfer Func
tion）を改善することが可能である。（I. Ichimura,K.
Kishima, K. Osato, K. Yamamoto, Y. Kuroda, K. Sai
to, "Near-Field Phase-Change Optical Recording of
1.36-Numerical-Aperture", J. Appl. Phys.Vol.39, 96
2-967(2000).）
【００１２】しかしながら、上述したピットやグルーブ
などの微細凹凸面を有する基板上に、この微細凹凸の形
状を踏襲して、すなわちこの凹凸表面が反映して形成さ
れた凹凸表面を有する記録膜を用いる光ディスク記録媒
体において、ＭＴＦを改善する所定の保護層をスパッタ
リング法などの従来の光ディスクの製造方法における誘
電体材料の形成方法により形成した場合においては、保
護層による表面凹凸の緩和が図られないことから、特に
光学系との距離がランド部とグルーブ部との距離が異な
ることとなり、光ディスクと光学系との結合が不均一と
なってしまい、目標とする所定の光学特性が得られなく
なってしまう。
などの微細凹凸面を有する基板上に、この微細凹凸の形
状を踏襲して、すなわちこの凹凸表面が反映して形成さ
れた凹凸表面を有する記録膜を用いる光ディスク記録媒
体において、ＭＴＦを改善する所定の保護層をスパッタ
リング法などの従来の光ディスクの製造方法における誘
電体材料の形成方法により形成した場合においては、保
護層による表面凹凸の緩和が図られないことから、特に
光学系との距離がランド部とグルーブ部との距離が異な
ることとなり、光ディスクと光学系との結合が不均一と
なってしまい、目標とする所定の光学特性が得られなく
なってしまう。
【００１３】この欠点に対して、本発明者らは、特願平
１１−１８６８４２号公報、特願平１１−１９６７４号
公報、特願２０００−２０３９６７号公報などにおい
て、スピンコート法によって形成することができ、表面
の研磨を行うことのできる平坦化層を提唱した。
１１−１８６８４２号公報、特願平１１−１９６７４号
公報、特願２０００−２０３９６７号公報などにおい
て、スピンコート法によって形成することができ、表面
の研磨を行うことのできる平坦化層を提唱した。
【００１４】しかしながら、スピンコート法により平坦
化層を形成する場合においては、その膜形状が、下地の
物性値により影響を受けやすく、下地の表面張力がスピ
ンコートを行う液体の表面張力よりも低い場合において
は、液体がはじかれてしまい、膜厚が均一の平坦化層の
形成ができない場合が存在する。とりわけ、平坦化層の
厚さが薄い場合においては、スピンコートによる塗布を
行った直後の状態で、はじかれていなくても、その後の
焼成工程において液体がはじかれてしまうこともある。
またはじかれなくても膜厚が不均一になってしまうこと
もある。
化層を形成する場合においては、その膜形状が、下地の
物性値により影響を受けやすく、下地の表面張力がスピ
ンコートを行う液体の表面張力よりも低い場合において
は、液体がはじかれてしまい、膜厚が均一の平坦化層の
形成ができない場合が存在する。とりわけ、平坦化層の
厚さが薄い場合においては、スピンコートによる塗布を
行った直後の状態で、はじかれていなくても、その後の
焼成工程において液体がはじかれてしまうこともある。
またはじかれなくても膜厚が不均一になってしまうこと
もある。
【００１５】また、光記録媒体、特に光ディスク例えば
ＣＤ（コンパクトディスク）は、一般に、グループ、ピ
ット等の微細凹凸が表面に形成され、中心孔を有する円
盤状の基板上に、例えば光磁気記録層、相変化記録層な
どの記録層や、誘電体層等の材料層を有する成膜層が被
着形成されて成る。この成膜層には、外気に触れること
により腐食されやすい材料層も存在することから、例え
ばスパッタリングによって形成される成膜層は、基板の
中心孔と外周部を除いて形成され、これら中心孔付近と
外周部付近を覆うようにＵＶ（紫外線）硬化樹脂などよ
り成る保護膜あるいはカバー層がスピンコート法などに
より形成されており、成膜層が形成されていない中心孔
付近および外周部付近を含んで被覆された構成とされて
いる。
ＣＤ（コンパクトディスク）は、一般に、グループ、ピ
ット等の微細凹凸が表面に形成され、中心孔を有する円
盤状の基板上に、例えば光磁気記録層、相変化記録層な
どの記録層や、誘電体層等の材料層を有する成膜層が被
着形成されて成る。この成膜層には、外気に触れること
により腐食されやすい材料層も存在することから、例え
ばスパッタリングによって形成される成膜層は、基板の
中心孔と外周部を除いて形成され、これら中心孔付近と
外周部付近を覆うようにＵＶ（紫外線）硬化樹脂などよ
り成る保護膜あるいはカバー層がスピンコート法などに
より形成されており、成膜層が形成されていない中心孔
付近および外周部付近を含んで被覆された構成とされて
いる。
【００１６】そして、光記録媒体がニアフィールドで用
いられる光記録媒体であっても、上述したように、成膜
層は外気に触れることは好ましくないので、図１２に示
すように、微細凹凸２を有する基板１上に形成された表
面凹凸を有する成膜層３上に光透過性平坦化膜４をスピ
ンコート法によって形成し、成膜層３が形成されていな
い基板１の中心孔１ａを有する中心部と外周部領域を覆
うことが望ましい。しかしながら、光記録媒体がニアフ
ィールドで用いられる光記録媒体においては、光透過性
平坦化膜４の厚さは４００ｎｍ以下あるいは１００ｎｍ
以下の厚さであることから、従来の光ディスクにおける
記録層表面にスピンコート法による塗布を行っている場
合においては無視することができた段差１０の段差が無
視することができない程度の厚さとなっている。さらに
は、この段差１０の側面に露呈する成膜層３の端面、特
に、記録層は平坦化膜より表面張力が小さいことから、
この段差１０部分において、平坦化膜のスピンコート液
がはじかれやすい。とりわけ、平坦化膜の厚さが、段差
１０の高さに比較して同程度である場合、さらには、低
い場合においては、よりスピンコート液のはじかれが著
しく、光記録媒体における信頼性の低下、歩留まりの低
下のみならず、ストリェーションといった放射状の厚さ
ムラを発生させ平坦化膜の表面平坦化が阻害され、上述
した光学系における損傷の問題を来す。
いられる光記録媒体であっても、上述したように、成膜
層は外気に触れることは好ましくないので、図１２に示
すように、微細凹凸２を有する基板１上に形成された表
面凹凸を有する成膜層３上に光透過性平坦化膜４をスピ
ンコート法によって形成し、成膜層３が形成されていな
い基板１の中心孔１ａを有する中心部と外周部領域を覆
うことが望ましい。しかしながら、光記録媒体がニアフ
ィールドで用いられる光記録媒体においては、光透過性
平坦化膜４の厚さは４００ｎｍ以下あるいは１００ｎｍ
以下の厚さであることから、従来の光ディスクにおける
記録層表面にスピンコート法による塗布を行っている場
合においては無視することができた段差１０の段差が無
視することができない程度の厚さとなっている。さらに
は、この段差１０の側面に露呈する成膜層３の端面、特
に、記録層は平坦化膜より表面張力が小さいことから、
この段差１０部分において、平坦化膜のスピンコート液
がはじかれやすい。とりわけ、平坦化膜の厚さが、段差
１０の高さに比較して同程度である場合、さらには、低
い場合においては、よりスピンコート液のはじかれが著
しく、光記録媒体における信頼性の低下、歩留まりの低
下のみならず、ストリェーションといった放射状の厚さ
ムラを発生させ平坦化膜の表面平坦化が阻害され、上述
した光学系における損傷の問題を来す。
【００１７】本発明においては、この光記録媒体におけ
る信頼性の問題、歩留りの等の問題の解決を図ることの
できる光記録媒体とその製造方法を提供する。
る信頼性の問題、歩留りの等の問題の解決を図ることの
できる光記録媒体とその製造方法を提供する。
【００１８】
【課題を解決するための手段】本発明による光記録媒体
は、光照射により情報の記録および再生の少なくとも一
方を行う光記録媒体であって その光照射がなされる側
の表面に微細凹凸が形成された基板上に、少なくとも記
録層を有し、かつ光照射がなされる側の表面が微細凹凸
表面とされた成膜層上に、親水性を有する親水性材質膜
を介して、照射光に対して透過性を有する光透過性平坦
化膜を、成膜層表面の上記記微細凹凸表面を埋め込んで
形成して表面平坦化された構成とする。なお、本発明に
おいて、親水性材質とは、表面張力が、４０[dyne ／c
m] 以上の表面張力を有する材料層によるものを指称す
る。
は、光照射により情報の記録および再生の少なくとも一
方を行う光記録媒体であって その光照射がなされる側
の表面に微細凹凸が形成された基板上に、少なくとも記
録層を有し、かつ光照射がなされる側の表面が微細凹凸
表面とされた成膜層上に、親水性を有する親水性材質膜
を介して、照射光に対して透過性を有する光透過性平坦
化膜を、成膜層表面の上記記微細凹凸表面を埋め込んで
形成して表面平坦化された構成とする。なお、本発明に
おいて、親水性材質とは、表面張力が、４０[dyne ／c
m] 以上の表面張力を有する材料層によるものを指称す
る。
【００１９】また、本発明による光記録媒体の製造方法
は、光照射により情報の記録および再生の少なくとも一
方を行う光記録媒体の製造方法であって、光照射がなさ
れる側の表面に微細凹凸が形成された基板の製造工程
と、少なくとも記録層を有する成膜層の形成工程と、こ
の成膜層表面に生じた微細凹凸表面を埋め込んで照射光
に対して透過性を有する光透過性平坦化膜を形成する光
透過性平坦化膜の形成工程と、光透過性平坦化膜の形成
工程の前に、この光透過性平坦化膜の形成面に親水性を
有する親水性材質膜を形成する親水性材質膜の形成工程
とを有する。
は、光照射により情報の記録および再生の少なくとも一
方を行う光記録媒体の製造方法であって、光照射がなさ
れる側の表面に微細凹凸が形成された基板の製造工程
と、少なくとも記録層を有する成膜層の形成工程と、こ
の成膜層表面に生じた微細凹凸表面を埋め込んで照射光
に対して透過性を有する光透過性平坦化膜を形成する光
透過性平坦化膜の形成工程と、光透過性平坦化膜の形成
工程の前に、この光透過性平坦化膜の形成面に親水性を
有する親水性材質膜を形成する親水性材質膜の形成工程
とを有する。
【００２０】上述したように、本発明による光記録媒体
においては、光透過性平坦膜の形成面、特にその被着強
度が重要となる面に親水性材質膜を形成することによっ
て、光透過性平坦化膜の被着を剥がれや、厚さの不均一
性を回避して、信頼性を高めるものである。また、本発
明製造方法においては、光透過性平坦膜の形成に親水性
材質膜を形成し、その後、光透過性平坦化膜の形成を行
うことによって、成膜層の縁部の段差においても、光透
過性平坦化膜の形成に際して、その平坦化膜形成材料液
がはじかれる現象を回避するものである。
においては、光透過性平坦膜の形成面、特にその被着強
度が重要となる面に親水性材質膜を形成することによっ
て、光透過性平坦化膜の被着を剥がれや、厚さの不均一
性を回避して、信頼性を高めるものである。また、本発
明製造方法においては、光透過性平坦膜の形成に親水性
材質膜を形成し、その後、光透過性平坦化膜の形成を行
うことによって、成膜層の縁部の段差においても、光透
過性平坦化膜の形成に際して、その平坦化膜形成材料液
がはじかれる現象を回避するものである。
【００２１】
【発明の実施の形態】本発明による光記録媒体および光
記録媒体の製造方法の実施形態の説明を行う。まず、光
記録媒体について説明する。
記録媒体の製造方法の実施形態の説明を行う。まず、光
記録媒体について説明する。
【００２２】〔光記録媒体〕本発明による光記録媒体
は、情報の記録または再生の少なくとも一方を行う光記
録媒体であって、相変化型光記録媒体、磁気光学効果を
利用する光磁気記録媒体、色素記録層を有する色素記録
媒体など、各種光記録媒体構成とすることができる。ま
た、本発明による光記録媒体は、ディスク、カード、シ
ートなど種々の形態を採ることができる。
は、情報の記録または再生の少なくとも一方を行う光記
録媒体であって、相変化型光記録媒体、磁気光学効果を
利用する光磁気記録媒体、色素記録層を有する色素記録
媒体など、各種光記録媒体構成とすることができる。ま
た、本発明による光記録媒体は、ディスク、カード、シ
ートなど種々の形態を採ることができる。
【００２３】図１は、円盤状のディスク構成による光記
録媒体Ｍの基本的構成の概略断面図を示す。この場合、
表面に各種情報ピット、トラッキング用の断続的あるい
は連続的グルーブＧ、ランドＬなどによる微細凹凸２が
形成され、中心孔１ａを有する基板１を有する。そし
て、この基板１の微細凹凸２が形成された面上に、少な
くとも記録層を有する成膜層３が形成される。すなわ
ち、この成膜層３は、例えば反射膜、情報の記録層、誘
電体層、更には平坦化膜の下地層となる材料層などが積
層成膜されて成り、この成膜層３は、基板１の微細凹凸
２の形成範囲を覆うように、また、その中心部、すなわ
ち基板１の中心孔１ａの穿設部とその周囲の所要の幅に
渡ってこの成膜層３が形成されないリング状の非形成領
域Ａ0 と、更に周縁部に所要の幅に同様に成膜層３が形
成されないリング状の非形成領域Ａ1 とを有し、これら
領域Ａ0 およびＡ1 以外において、成膜層３が形成され
たリング状の形成領域Ａを有する。この成膜層３の表面
には、基板１面の微細凹凸２が反映されて生じた微細凹
凸が生じている。
録媒体Ｍの基本的構成の概略断面図を示す。この場合、
表面に各種情報ピット、トラッキング用の断続的あるい
は連続的グルーブＧ、ランドＬなどによる微細凹凸２が
形成され、中心孔１ａを有する基板１を有する。そし
て、この基板１の微細凹凸２が形成された面上に、少な
くとも記録層を有する成膜層３が形成される。すなわ
ち、この成膜層３は、例えば反射膜、情報の記録層、誘
電体層、更には平坦化膜の下地層となる材料層などが積
層成膜されて成り、この成膜層３は、基板１の微細凹凸
２の形成範囲を覆うように、また、その中心部、すなわ
ち基板１の中心孔１ａの穿設部とその周囲の所要の幅に
渡ってこの成膜層３が形成されないリング状の非形成領
域Ａ0 と、更に周縁部に所要の幅に同様に成膜層３が形
成されないリング状の非形成領域Ａ1 とを有し、これら
領域Ａ0 およびＡ1 以外において、成膜層３が形成され
たリング状の形成領域Ａを有する。この成膜層３の表面
には、基板１面の微細凹凸２が反映されて生じた微細凹
凸が生じている。
【００２４】そして、この成膜層３を覆って、表面平坦
化膜４が形成されるが、本発明においては、この表面平
坦化膜４下に親水性を有する親水性材質膜１１が形成さ
れる。この親水性材質膜１１は、前述したように、表面
張力が、４０[dyne ／cm] 以上の表面張力を有し、この
親水性材質膜１１は、成膜層３上と、この成膜層３の少
なくとも中心部の非形成領域Ａ0 における基板１表面に
差し渡る領域Ｂ、すなわち成膜層３の内周縁の段差１０
の端面を覆って形成される。光透過性平坦化膜４は、成
膜層３の凹凸表面を埋込んで表面平坦化がなされる。
化膜４が形成されるが、本発明においては、この表面平
坦化膜４下に親水性を有する親水性材質膜１１が形成さ
れる。この親水性材質膜１１は、前述したように、表面
張力が、４０[dyne ／cm] 以上の表面張力を有し、この
親水性材質膜１１は、成膜層３上と、この成膜層３の少
なくとも中心部の非形成領域Ａ0 における基板１表面に
差し渡る領域Ｂ、すなわち成膜層３の内周縁の段差１０
の端面を覆って形成される。光透過性平坦化膜４は、成
膜層３の凹凸表面を埋込んで表面平坦化がなされる。
【００２５】基板１のグルーブＧは、例えばスパイラル
状、あるいは同心円状に形成され、隣り合うグルーブＧ
間にランドＬが形成される。本発明においては、ランド
ＬとグルーブＧとのいずれか一方に情報の記録がなされ
る態様、あるいは、ランドＬとグルーブＧの双方に対し
て情報の記録がなされるランド・グルーブ記録態様を採
ることができる。この場合、ランドＬとグルーブＧとの
高低差は、この光記録媒体に対する記録および再生の照
射光に対して、光の相互作用がほとんど生じることのな
い高低差に選定する。
状、あるいは同心円状に形成され、隣り合うグルーブＧ
間にランドＬが形成される。本発明においては、ランド
ＬとグルーブＧとのいずれか一方に情報の記録がなされ
る態様、あるいは、ランドＬとグルーブＧの双方に対し
て情報の記録がなされるランド・グルーブ記録態様を採
ることができる。この場合、ランドＬとグルーブＧとの
高低差は、この光記録媒体に対する記録および再生の照
射光に対して、光の相互作用がほとんど生じることのな
い高低差に選定する。
【００２６】基板１は、例えば０．３ｍｍ〜１．２ｍｍ
程度の厚さを有する、例えばポリエーテルサルフォン
（ＰＥＳ）や、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）などの耐
熱性を有する樹脂による基板、あるいはガラス基板など
によって構成できる。
程度の厚さを有する、例えばポリエーテルサルフォン
（ＰＥＳ）や、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）などの耐
熱性を有する樹脂による基板、あるいはガラス基板など
によって構成できる。
【００２７】成膜層３の反射膜は、光記録媒体に入射し
て成膜層３の記録層を透過した記録光あるいは再生光を
反射する反射膜としての機能を有する構成とされ、その
厚さは、例えば５０ｎｍ〜２００ｎｍ程度、例えば膜厚
１００ｎｍのＡｌ膜あるいはＡｌ合金膜などによって構
成することができる。しかしながら、この反射膜は、上
述した反射膜としての機能のみでなく、記録層からの熱
拡散を適当に行うなどの機能を持たせる。このため、こ
の反射膜は、所要の反射率と熱伝導率を有する材料の金
属、あるいは金属以外の、半金属、金属または半金属の
化合物、半導体およびその化合物によって構成すること
ができる。また、この反射膜は、空気中に含まれる腐食
性ガスなどにより腐食し、その光学特性が変化してしま
うことを回避するために、基板１における中心孔１ａの
周囲および外周縁近傍への成膜がなされず、上述したと
同様に、領域Ａ0 およびＡ 1 が形成される。
て成膜層３の記録層を透過した記録光あるいは再生光を
反射する反射膜としての機能を有する構成とされ、その
厚さは、例えば５０ｎｍ〜２００ｎｍ程度、例えば膜厚
１００ｎｍのＡｌ膜あるいはＡｌ合金膜などによって構
成することができる。しかしながら、この反射膜は、上
述した反射膜としての機能のみでなく、記録層からの熱
拡散を適当に行うなどの機能を持たせる。このため、こ
の反射膜は、所要の反射率と熱伝導率を有する材料の金
属、あるいは金属以外の、半金属、金属または半金属の
化合物、半導体およびその化合物によって構成すること
ができる。また、この反射膜は、空気中に含まれる腐食
性ガスなどにより腐食し、その光学特性が変化してしま
うことを回避するために、基板１における中心孔１ａの
周囲および外周縁近傍への成膜がなされず、上述したと
同様に、領域Ａ0 およびＡ 1 が形成される。
【００２８】また、例えば光記録媒体Ｍが、相変化型光
記録媒体である場合は、成膜層３は、相変化記録層と、
これを挟んでその上下に、この記録層の変形を許容する
機能を有する光透過性誘電体層による誘電体膜が形成さ
れた構成とすることができる。
記録媒体である場合は、成膜層３は、相変化記録層と、
これを挟んでその上下に、この記録層の変形を許容する
機能を有する光透過性誘電体層による誘電体膜が形成さ
れた構成とすることができる。
【００２９】相変化記録層は、再生光に対して例えば低
反射率を示すアモルファス状態と高反射率を示す結晶状
態とを、記録レーザ光の照射により、これらアモルファ
ス状態と、結晶状態との間を可逆的に相変化する材料、
例えばカルコゲン化合物のＧｅＳｂＴｅのほかに、Ｔ
ｅ、Ｓｅ、ＧｅＴｅ、ＩｎＳｂＴｅ、ＩｎＳｅＴｅＡ
ｇ、ＩｎＳｅ、ＩｎＳｅＴｌＣｏ、ＩｎＳｂＳｅ、Ｂｉ
2 Ｔｅ3 、ＢｉＳｅ、Ｓｂ 2 Ｓｅ3 、Ｓｂ2 Ｔｅ3 など
によって構成できる。また、この相変化記録層を挟んで
その上下に形成される上述した誘電体層は、例えばＺｎ
Ｓ−ＳｉＯ2 によって構成することができる。
反射率を示すアモルファス状態と高反射率を示す結晶状
態とを、記録レーザ光の照射により、これらアモルファ
ス状態と、結晶状態との間を可逆的に相変化する材料、
例えばカルコゲン化合物のＧｅＳｂＴｅのほかに、Ｔ
ｅ、Ｓｅ、ＧｅＴｅ、ＩｎＳｂＴｅ、ＩｎＳｅＴｅＡ
ｇ、ＩｎＳｅ、ＩｎＳｅＴｌＣｏ、ＩｎＳｂＳｅ、Ｂｉ
2 Ｔｅ3 、ＢｉＳｅ、Ｓｂ 2 Ｓｅ3 、Ｓｂ2 Ｔｅ3 など
によって構成できる。また、この相変化記録層を挟んで
その上下に形成される上述した誘電体層は、例えばＺｎ
Ｓ−ＳｉＯ2 によって構成することができる。
【００３０】また、例えば光記録媒体Ｍが、光磁気記録
媒体である場合は、成膜層３は、上述した反射膜と、こ
の上に順次形成された例えばＳｉＮによる誘電体層と、
例えばＧｄＦｅＣｏ層による第１の磁性層および例えば
ＴｂＦｅＣｏ層による第２の磁性層よりなる記録層と、
その上に形成される例えばＳｉＯ２層とＳｉＮ層とによ
る光透過性誘電体層を有する構成とすることができる。
媒体である場合は、成膜層３は、上述した反射膜と、こ
の上に順次形成された例えばＳｉＮによる誘電体層と、
例えばＧｄＦｅＣｏ層による第１の磁性層および例えば
ＴｂＦｅＣｏ層による第２の磁性層よりなる記録層と、
その上に形成される例えばＳｉＯ２層とＳｉＮ層とによ
る光透過性誘電体層を有する構成とすることができる。
【００３１】そして、この成膜層３上に形成する親水性
材質膜１１は、４０[dyne ／cm] 以上の表面張力を有す
る親水性の膜、例えばスパッタリングにより形成された
ＳｉＯ2 膜、Ａｌ2 Ｏ3 膜、ＳｉＣ膜、ダイヤモンドラ
イクカーボン膜等よりなり、この上に形成する光透過性
平坦化膜４の形成に際しての、例えばスピンコートおよ
びその後の焼成工程において、光透過性平坦化膜４のは
じかれが生じないようになされる。
材質膜１１は、４０[dyne ／cm] 以上の表面張力を有す
る親水性の膜、例えばスパッタリングにより形成された
ＳｉＯ2 膜、Ａｌ2 Ｏ3 膜、ＳｉＣ膜、ダイヤモンドラ
イクカーボン膜等よりなり、この上に形成する光透過性
平坦化膜４の形成に際しての、例えばスピンコートおよ
びその後の焼成工程において、光透過性平坦化膜４のは
じかれが生じないようになされる。
【００３２】このように、親水性材質膜１１を、スパッ
タリングによって上述したように、記録層を有する成膜
層３上と、この成膜層３の特に中心部の非形成領域Ａ0
に差し渡って、すなわち成膜層３と、その中心部の非形
成領域Ａ0 との境界における段差１０に跨がって形成し
たことにより、この段差１０の側面部分においてさえ
も、スピンコートおよび焼成工程を経て形成される表面
平坦化膜４がはじかれることが効果的に回避される。そ
して、この効果は、光透過性平坦化膜４の膜厚が、段差
１０の高さよりも低い場合、例えば１００ｎｍ以下とな
るような場合においても有効に作用する。
タリングによって上述したように、記録層を有する成膜
層３上と、この成膜層３の特に中心部の非形成領域Ａ0
に差し渡って、すなわち成膜層３と、その中心部の非形
成領域Ａ0 との境界における段差１０に跨がって形成し
たことにより、この段差１０の側面部分においてさえ
も、スピンコートおよび焼成工程を経て形成される表面
平坦化膜４がはじかれることが効果的に回避される。そ
して、この効果は、光透過性平坦化膜４の膜厚が、段差
１０の高さよりも低い場合、例えば１００ｎｍ以下とな
るような場合においても有効に作用する。
【００３３】この親水性材質層１１上に、成膜層３の微
細凹凸表面を埋め込んで形成される光透過性平坦化膜４
は、光記録媒体Ｍに対する照射光に対して透過性を有
し、かつその表面が平坦化が可能な材料によって構成さ
れる。
細凹凸表面を埋め込んで形成される光透過性平坦化膜４
は、光記録媒体Ｍに対する照射光に対して透過性を有
し、かつその表面が平坦化が可能な材料によって構成さ
れる。
【００３４】光透過性平坦化膜４は、スピンコート材料
によって構成することが望まれる。これは、スピンコー
ト法による場合、その成膜自体で、この光透過性平坦化
膜４の形成面の凹凸をカバレージよく埋め込んで、平坦
性にすぐれた光透過性平坦化膜４を成膜できることによ
る。また、光透過性平坦化膜４の厚さは、４００ｎｍ以
下、例えば２００ｎｍ〜３００ｎｍの厚さ、すなわち例
えばランドＬ上で２００ｎｍ、グルーブＧ上で３００ｎ
ｍの厚さとする。このような光透過性平坦化膜４として
は、無機材料膜、さらにＳｉＯ2 を主体とする、例えば
ＳＯＧ（Ｓｐｉｎ Ｏｎ Ｇｌａｓｓ）によって構成し
得る。
によって構成することが望まれる。これは、スピンコー
ト法による場合、その成膜自体で、この光透過性平坦化
膜４の形成面の凹凸をカバレージよく埋め込んで、平坦
性にすぐれた光透過性平坦化膜４を成膜できることによ
る。また、光透過性平坦化膜４の厚さは、４００ｎｍ以
下、例えば２００ｎｍ〜３００ｎｍの厚さ、すなわち例
えばランドＬ上で２００ｎｍ、グルーブＧ上で３００ｎ
ｍの厚さとする。このような光透過性平坦化膜４として
は、無機材料膜、さらにＳｉＯ2 を主体とする、例えば
ＳＯＧ（Ｓｐｉｎ Ｏｎ Ｇｌａｓｓ）によって構成し
得る。
【００３５】また、この光透過性平坦化膜４は、その形
成温度が、１５０℃以下の光透過性平坦化材料膜、例え
ば低温ハードコート材のＮＨＣ ＬＴー１０１（日産化
学工業株製）によって構成することができる。なお、こ
のように、光透過性平坦化膜４を１５０℃以下の成膜温
度による光透過性平坦化材料層によって形成することに
よって、光記録媒体を構成する基板１を一般に耐熱性の
低い、しかしながら廉価で量産性に優れた前述したよう
うな有機材料基板、例えばポリエーテルサルフォン（Ｐ
ＥＳ）や、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）というような
耐熱性のある樹脂からなる樹脂基板などの基板によって
構成することができる。
成温度が、１５０℃以下の光透過性平坦化材料膜、例え
ば低温ハードコート材のＮＨＣ ＬＴー１０１（日産化
学工業株製）によって構成することができる。なお、こ
のように、光透過性平坦化膜４を１５０℃以下の成膜温
度による光透過性平坦化材料層によって形成することに
よって、光記録媒体を構成する基板１を一般に耐熱性の
低い、しかしながら廉価で量産性に優れた前述したよう
うな有機材料基板、例えばポリエーテルサルフォン（Ｐ
ＥＳ）や、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）というような
耐熱性のある樹脂からなる樹脂基板などの基板によって
構成することができる。
【００３６】また、光透過性平坦化膜４は、例えば２回
以上繰り返し形成する多層構造とすることができる。
以上繰り返し形成する多層構造とすることができる。
【００３７】更に、本発明による光記録媒体Ｍの具体的
構成について説明するが、本発明はこれらに限定される
ものではない。
構成について説明するが、本発明はこれらに限定される
ものではない。
【００３８】まず、光記録媒体Ｍが、相変化光記録媒体
である場合の一例について説明する。 〔相変化光記録媒体例〕図２は、この相変化光記録媒体
の一半部の概略断面図を示す。この場合、例えば深さ３
０ｎｍのグルーブＧと、隣合うグルーブＧ間にランドＬ
が形成された微細凹凸２が形成された基板１上に、成膜
層３が、中心部の非形成領域Ａ0 および周縁部のリング
状の非形成領域Ａ1 （図示せず）を除いて形成される。
である場合の一例について説明する。 〔相変化光記録媒体例〕図２は、この相変化光記録媒体
の一半部の概略断面図を示す。この場合、例えば深さ３
０ｎｍのグルーブＧと、隣合うグルーブＧ間にランドＬ
が形成された微細凹凸２が形成された基板１上に、成膜
層３が、中心部の非形成領域Ａ0 および周縁部のリング
状の非形成領域Ａ1 （図示せず）を除いて形成される。
【００３９】この成膜層３は、順次例えば厚さ１００ｎ
ｍのＡｌ合金膜よりなる反射膜３ａ、例えば厚さ２０ｎ
ｍのＺｎＳ−ＳｉＯ2 による第１の誘電体膜３ｂ、記録
層としての例えば厚さ１２ｎｍのＧｅＳｂＴｅによる相
変化記録層３ｃ、例えば厚さ８０ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ
2 による第２の誘電体膜３ｄ、更に成膜層３上に形成さ
れる光透過性平坦化膜４の下地層となる例えば厚さ２５
ｎｍのＳｉＮによる下地層３ｅとを順次それぞれ例えば
連続的にスパッタリングによって形成される。
ｍのＡｌ合金膜よりなる反射膜３ａ、例えば厚さ２０ｎ
ｍのＺｎＳ−ＳｉＯ2 による第１の誘電体膜３ｂ、記録
層としての例えば厚さ１２ｎｍのＧｅＳｂＴｅによる相
変化記録層３ｃ、例えば厚さ８０ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ
2 による第２の誘電体膜３ｄ、更に成膜層３上に形成さ
れる光透過性平坦化膜４の下地層となる例えば厚さ２５
ｎｍのＳｉＮによる下地層３ｅとを順次それぞれ例えば
連続的にスパッタリングによって形成される。
【００４０】成膜層３の表面層、すなわち下地層３ｅ上
と、成膜層３の中心部の非形成領域Ａ0 による段差１０
の側面と領域Ａ0 における基板１上に跨がって親水性材
質膜１１を形成する。この親水性材質膜１１は、例えば
厚さ２ｎｍのＳｉＯ2 を例えばスパッタリングによって
形成される。
と、成膜層３の中心部の非形成領域Ａ0 による段差１０
の側面と領域Ａ0 における基板１上に跨がって親水性材
質膜１１を形成する。この親水性材質膜１１は、例えば
厚さ２ｎｍのＳｉＯ2 を例えばスパッタリングによって
形成される。
【００４１】この親水性材質膜１１上に、光透過性平坦
化膜４の形成がなされるが、この例においては、例えば
厚さ５８ｎｍの光透過性平坦化膜４がスピンコート法に
より形成された後、例えば２５ｎｍのＳｉＮよりなる表
面層４ｂがスパッタリングによって形成されている。
化膜４の形成がなされるが、この例においては、例えば
厚さ５８ｎｍの光透過性平坦化膜４がスピンコート法に
より形成された後、例えば２５ｎｍのＳｉＮよりなる表
面層４ｂがスパッタリングによって形成されている。
【００４２】次に、光記録媒体Ｍが、光磁気記録媒体で
ある場合の一例について説明する。 〔光磁気記録媒体例〕図３に光記録媒体、すなわち光磁
気記録媒体の一半部の概略断面図を示すように、前述し
たと同様に、例えば深さ３０ｎｍのグルーブＧが形成さ
れ、隣合うグルーブＧ間にランドＬが形成された微細凹
凸２が形成された基板１上に、成膜層３が、中心部の非
形成領域Ａ0 および周縁部のリング状の非形成領域Ａ1
（図示せず）を除いて形成される。
ある場合の一例について説明する。 〔光磁気記録媒体例〕図３に光記録媒体、すなわち光磁
気記録媒体の一半部の概略断面図を示すように、前述し
たと同様に、例えば深さ３０ｎｍのグルーブＧが形成さ
れ、隣合うグルーブＧ間にランドＬが形成された微細凹
凸２が形成された基板１上に、成膜層３が、中心部の非
形成領域Ａ0 および周縁部のリング状の非形成領域Ａ1
（図示せず）を除いて形成される。
【００４３】この成膜層３は、例えば厚さ１００ｎｍの
Ａｌ合金膜よりなる反射膜１３ａ、例えば厚さ２０ｎｍ
のＳｉＮによる第１の誘電体膜１３ｂ、記録層を構成す
る例えば厚さ３ｎｍのＧａＦｅＣｏによる第１の磁性層
１３ｃ、例えば厚さ１５ｎｍのＴｅＦｅＣｏによる第２
の磁性層１３ｄ、２５ｎｍのＳｉＮによる下地層１３ｅ
が、順次連続的にスパッタリングされて成る。
Ａｌ合金膜よりなる反射膜１３ａ、例えば厚さ２０ｎｍ
のＳｉＮによる第１の誘電体膜１３ｂ、記録層を構成す
る例えば厚さ３ｎｍのＧａＦｅＣｏによる第１の磁性層
１３ｃ、例えば厚さ１５ｎｍのＴｅＦｅＣｏによる第２
の磁性層１３ｄ、２５ｎｍのＳｉＮによる下地層１３ｅ
が、順次連続的にスパッタリングされて成る。
【００４４】そして、この例においても、成膜層３の表
面層、すなわち下地層１３ｅ上と、成膜層３の中心部の
非形成領域Ａ0 の基板１上に跨がって段差１０の側面を
含んで親水性材質膜１１を形成する。この親水性材質膜
１１は、例えば厚さ２ｎｍのＳｉＯ2 を例えばスパッタ
リングによって形成される。
面層、すなわち下地層１３ｅ上と、成膜層３の中心部の
非形成領域Ａ0 の基板１上に跨がって段差１０の側面を
含んで親水性材質膜１１を形成する。この親水性材質膜
１１は、例えば厚さ２ｎｍのＳｉＯ2 を例えばスパッタ
リングによって形成される。
【００４５】この親水性材質膜１１上に、光透過性平坦
化膜４の形成がなされるが、この例においても、例えば
厚さ５８ｎｍの光透過性平坦化膜４がスピンコート法に
より形成された後、表面層４ｂとして例えば２５ｎｍの
ＳｉＮよりなる表面層４ｂがスパッタリングによって形
成される。
化膜４の形成がなされるが、この例においても、例えば
厚さ５８ｎｍの光透過性平坦化膜４がスピンコート法に
より形成された後、表面層４ｂとして例えば２５ｎｍの
ＳｉＮよりなる表面層４ｂがスパッタリングによって形
成される。
【００４６】次に、本発明による光記録媒体が適用され
るニアフィールド記録あるいは／および再生を行う記録
再生装置、特にそのヘッド部について説明する。 〔本発明光記録媒体に対する記録再生装置〕図４は、ヘ
ッド部２１の一例の概略断面図を示し、レーザビームＬ
Ｂが、対物レンズ２２により収束されソリッドイマージ
ョンレンズ（ＳＩＬ）２３に入射するようになされてい
る。対物レンズ２２およびＳＩＬ２３からなるレンズ群
は、レンズホルダ２４に保持されている。レンズホルダ
２４は、電磁アクチュエータ２５により光軸方向および
光記録媒体Ｍ例えばディスクの面内方向に移動可能であ
り、これにより、レンズ群の位置調整が行われる。ま
た、対物レンズ２２とＳＩＬ２３は、同一のレンズホル
ダ２４に保持されているため、対物レンズ２２とＳＩＬ
２３との距離は一定に保たれている。
るニアフィールド記録あるいは／および再生を行う記録
再生装置、特にそのヘッド部について説明する。 〔本発明光記録媒体に対する記録再生装置〕図４は、ヘ
ッド部２１の一例の概略断面図を示し、レーザビームＬ
Ｂが、対物レンズ２２により収束されソリッドイマージ
ョンレンズ（ＳＩＬ）２３に入射するようになされてい
る。対物レンズ２２およびＳＩＬ２３からなるレンズ群
は、レンズホルダ２４に保持されている。レンズホルダ
２４は、電磁アクチュエータ２５により光軸方向および
光記録媒体Ｍ例えばディスクの面内方向に移動可能であ
り、これにより、レンズ群の位置調整が行われる。ま
た、対物レンズ２２とＳＩＬ２３は、同一のレンズホル
ダ２４に保持されているため、対物レンズ２２とＳＩＬ
２３との距離は一定に保たれている。
【００４７】ＳＩＬ２３は、球形レンズの一部を切り取
った形状であり、その球面側を対物レンズ２２に対向さ
せ、平面底面側を光記録媒体Ｍに対向させて配置され
る。このＳＩＬ２３は、レーザビームＬＢを無収差フォ
ーカス（stigmatic focusing）するように設計されてい
る。このヘッド部２１は、本発明による光記録媒体Ｍの
光透過性平坦化膜４側に例えば２００ｎｍ以下の距離を
もって近接対向されて、記録あるいは／および再生がな
される。
った形状であり、その球面側を対物レンズ２２に対向さ
せ、平面底面側を光記録媒体Ｍに対向させて配置され
る。このＳＩＬ２３は、レーザビームＬＢを無収差フォ
ーカス（stigmatic focusing）するように設計されてい
る。このヘッド部２１は、本発明による光記録媒体Ｍの
光透過性平坦化膜４側に例えば２００ｎｍ以下の距離を
もって近接対向されて、記録あるいは／および再生がな
される。
【００４８】また、図５は、同様に、本発明による光記
録媒体Ｍが適用される他のニアフィールド記録あるいは
／および再生装置のヘッド部２１の一例の概略断面図
で、この例においても、レーザビームＬＢは対物レンズ
２２により収束され、ソリッドイマージョンレンズ（Ｓ
ＩＬ）２３に入射する。
録媒体Ｍが適用される他のニアフィールド記録あるいは
／および再生装置のヘッド部２１の一例の概略断面図
で、この例においても、レーザビームＬＢは対物レンズ
２２により収束され、ソリッドイマージョンレンズ（Ｓ
ＩＬ）２３に入射する。
【００４９】これら対物レンズ２２およびＳＩＬ２３か
らなるレンズ群は、スライダー２６に搭載されており、
アーム２７の移動機構（図示せず）により、ディスクの
面内方向に移動可能とされている。また、このスライダ
ー２６は、アーム２７によって光記録媒体Ｍに向かって
弾性的に所要の押圧力が働くようになされ、光記録媒体
Ｍの相対的移行、例えば光ディスクの回転による空気流
によるエアベアリングによって近接対向するように浮上
するようになされている。そして、この場合において
も、このヘッド部２１は、本発明による光記録媒体Ｍの
光透過性平坦化膜４側に近接対向して、記録あるいは／
および再生がなされる。
らなるレンズ群は、スライダー２６に搭載されており、
アーム２７の移動機構（図示せず）により、ディスクの
面内方向に移動可能とされている。また、このスライダ
ー２６は、アーム２７によって光記録媒体Ｍに向かって
弾性的に所要の押圧力が働くようになされ、光記録媒体
Ｍの相対的移行、例えば光ディスクの回転による空気流
によるエアベアリングによって近接対向するように浮上
するようになされている。そして、この場合において
も、このヘッド部２１は、本発明による光記録媒体Ｍの
光透過性平坦化膜４側に近接対向して、記録あるいは／
および再生がなされる。
【００５０】次に、本発明による光記録媒体の製造方法
について説明する。 〔光記録媒体の製造方法〕本発明製造方法においては、
図６にその概略断面図を示すように、表面に上述した微
細凹凸２が形成された基板１を製造する工程を有する。
この微細凹凸２を有する基板１は、例えばＰＥＳ、ＰＥ
Ｉによる樹脂を射出成形して形成する。あるいは例えば
基板上に紫外線硬化樹脂などが塗布され、２Ｐ（Photop
olymerization)法によって微細凹凸２を形成する。
について説明する。 〔光記録媒体の製造方法〕本発明製造方法においては、
図６にその概略断面図を示すように、表面に上述した微
細凹凸２が形成された基板１を製造する工程を有する。
この微細凹凸２を有する基板１は、例えばＰＥＳ、ＰＥ
Ｉによる樹脂を射出成形して形成する。あるいは例えば
基板上に紫外線硬化樹脂などが塗布され、２Ｐ（Photop
olymerization)法によって微細凹凸２を形成する。
【００５１】この基板１上に図７に概略断面図を示すよ
うに、少なくとも記録層を有し、微細凹凸２が反映した
微細凹凸が表面に生じるように形成された成膜層３を、
例え上述した、各構成膜３ａ〜３ｅ、あるいは１３ａ〜
１３ｅを順次スパッタリングによって成膜する。この記
録層を有する成膜層３は、図１で説明した中心部の成膜
層３の非形成領域Ａ0 および中心孔１ａを含む中心部
と、外周の成膜層３の非形成領域Ａ1 とがマスクされる
保持機構（図示せず）によって保持して成膜層３を構成
する例えば構成膜３ａ〜３ｅ、あるいは１３ａ〜１３ｅ
の成膜がなされる。例えば目的とする相変化記録媒体で
ある場合は、図２で説明したように、反射膜３ａ、第１
の誘電体膜３ｂ、相変化記録層３ｃ、第２の誘電体膜３
ｄ、下地層３ｅを順次連続スパッタリングした成膜層３
を形成する。
うに、少なくとも記録層を有し、微細凹凸２が反映した
微細凹凸が表面に生じるように形成された成膜層３を、
例え上述した、各構成膜３ａ〜３ｅ、あるいは１３ａ〜
１３ｅを順次スパッタリングによって成膜する。この記
録層を有する成膜層３は、図１で説明した中心部の成膜
層３の非形成領域Ａ0 および中心孔１ａを含む中心部
と、外周の成膜層３の非形成領域Ａ1 とがマスクされる
保持機構（図示せず）によって保持して成膜層３を構成
する例えば構成膜３ａ〜３ｅ、あるいは１３ａ〜１３ｅ
の成膜がなされる。例えば目的とする相変化記録媒体で
ある場合は、図２で説明したように、反射膜３ａ、第１
の誘電体膜３ｂ、相変化記録層３ｃ、第２の誘電体膜３
ｄ、下地層３ｅを順次連続スパッタリングした成膜層３
を形成する。
【００５２】その後、図８にその概略断面図を示すよう
に、親水性材質膜１１の形成がなされる。この親水性材
質膜１１の形成は、基板１の成膜層３の外周部の非形成
領域Ａ1 をリング状にクランプし、成膜層３の形成領域
Ａと中心部の非形成領域Ａ0を外部に露呈する保持機構
（図示せず）によって保持して、その外部に露呈した成
膜層３の形成領域Ａと中心部の非形成領域Ａ0 とに限定
的に、親水性材質膜１１を、例えばスパッタリングによ
って形成する。
に、親水性材質膜１１の形成がなされる。この親水性材
質膜１１の形成は、基板１の成膜層３の外周部の非形成
領域Ａ1 をリング状にクランプし、成膜層３の形成領域
Ａと中心部の非形成領域Ａ0を外部に露呈する保持機構
（図示せず）によって保持して、その外部に露呈した成
膜層３の形成領域Ａと中心部の非形成領域Ａ0 とに限定
的に、親水性材質膜１１を、例えばスパッタリングによ
って形成する。
【００５３】次に、図９に概略断面図を示すように、光
透過性平坦化膜４を形成する。この光透過性平坦化膜４
の形成は、例えば無機材料によるＳｉＯ2 を主体とす
る、例えばＳＯＧ液状体を、基板１の中心孔１ａの外周
部に所定量滴下して回転させる通常のスピンコートを行
う工程と、その後、例えば加熱によりこの無機材料を硬
化させる工程とを経る。光透過性平坦化膜４は、そのほ
か例えば形成温度が、１５０℃以下の光透過性平坦化材
料、例えば低温ハードコート材のＮＨＣ ＬＴ−１０１
（日産化学工業株製）をスピンコート法により塗布する
工程と、例えば加熱によりこの無機材料を硬化させる工
程とによる。この場合、基板１は、廉価で耐熱性が比較
的低い材料層によって構成することができる。
透過性平坦化膜４を形成する。この光透過性平坦化膜４
の形成は、例えば無機材料によるＳｉＯ2 を主体とす
る、例えばＳＯＧ液状体を、基板１の中心孔１ａの外周
部に所定量滴下して回転させる通常のスピンコートを行
う工程と、その後、例えば加熱によりこの無機材料を硬
化させる工程とを経る。光透過性平坦化膜４は、そのほ
か例えば形成温度が、１５０℃以下の光透過性平坦化材
料、例えば低温ハードコート材のＮＨＣ ＬＴ−１０１
（日産化学工業株製）をスピンコート法により塗布する
工程と、例えば加熱によりこの無機材料を硬化させる工
程とによる。この場合、基板１は、廉価で耐熱性が比較
的低い材料層によって構成することができる。
【００５４】そして、必要に応じて、図１０に示すよう
に表面層４ｂを光透過性平坦化膜４上に例えばスパッタ
リング法により形成する。この表面層４ｂの形成は、上
述した成膜層３の形成あるいは親水性材質膜１１の形成
に用いた保持機構のいずれを用いることができる。
に表面層４ｂを光透過性平坦化膜４上に例えばスパッタ
リング法により形成する。この表面層４ｂの形成は、上
述した成膜層３の形成あるいは親水性材質膜１１の形成
に用いた保持機構のいずれを用いることができる。
【００５５】なお、本発明の実施例の説明において、親
水性材質膜１１は、周縁部における記録層などの非形成
領域Ａ1 にも形成されていることが望ましいが、平坦化
膜を形成する製法に関してスピンコート法を用いている
場合においては、内周から外周へ液体が広がる製法であ
るので、外周部は内周部に比較して、はじかれる危険性
が低いことに加えて、もし、外周部付近に厚さムラが存
在しても、その厚さムラが記録媒体のデータ領域に影響
を与える危険性はきわめて低いので、親水性材質膜１１
は、周縁部における記録層などの非形成領域Ａ1 には形
成されていなくてもさほどの問題はない。しかしなが
ら、平坦化膜の製造方法に関して、スピンコート法では
なく、ディップ法（ディッピング法）などを用いた場合
においては、周縁部において発生した平坦化膜の厚さム
ラがデータ領域に影響を与えてしまう危険性が高いの
で、その場合には、親水性材質膜１１は、周縁部におけ
る記録層などの非形成領域Ａ1 に形成することが必要と
なる。
水性材質膜１１は、周縁部における記録層などの非形成
領域Ａ1 にも形成されていることが望ましいが、平坦化
膜を形成する製法に関してスピンコート法を用いている
場合においては、内周から外周へ液体が広がる製法であ
るので、外周部は内周部に比較して、はじかれる危険性
が低いことに加えて、もし、外周部付近に厚さムラが存
在しても、その厚さムラが記録媒体のデータ領域に影響
を与える危険性はきわめて低いので、親水性材質膜１１
は、周縁部における記録層などの非形成領域Ａ1 には形
成されていなくてもさほどの問題はない。しかしなが
ら、平坦化膜の製造方法に関して、スピンコート法では
なく、ディップ法（ディッピング法）などを用いた場合
においては、周縁部において発生した平坦化膜の厚さム
ラがデータ領域に影響を与えてしまう危険性が高いの
で、その場合には、親水性材質膜１１は、周縁部におけ
る記録層などの非形成領域Ａ1 に形成することが必要と
なる。
【００５６】更に、他の光記録媒体と製造方法を例示説
明する。 〔他の光記録媒体およびその光記録媒体の製造方法〕図
１１は、その光記録媒体Ｍの一例を示す。この図１１に
示した光記録媒体Ｍは、前述の図２で説明した本発明の
光記録媒体において、その透過性平坦化膜４の下地層１
１の成膜後と、最終工程の表面層４ｂの成膜後とに表面
研磨を行ったものである。すなわち下地層３ｅの成膜表
面と、表面層４ｂの成膜表面が、表面研磨された面とさ
れ、このようにすることによって、スパッタリング工程
において生じる微細な針状の突起の尖端が研磨される。
図１１に研磨された突起１２が残された状態を示す。
明する。 〔他の光記録媒体およびその光記録媒体の製造方法〕図
１１は、その光記録媒体Ｍの一例を示す。この図１１に
示した光記録媒体Ｍは、前述の図２で説明した本発明の
光記録媒体において、その透過性平坦化膜４の下地層１
１の成膜後と、最終工程の表面層４ｂの成膜後とに表面
研磨を行ったものである。すなわち下地層３ｅの成膜表
面と、表面層４ｂの成膜表面が、表面研磨された面とさ
れ、このようにすることによって、スパッタリング工程
において生じる微細な針状の突起の尖端が研磨される。
図１１に研磨された突起１２が残された状態を示す。
【００５７】図１１に示した本発明の光記録媒体Ｍにお
いては、上述したように表面研磨がなされていることに
より、光学レンズと光記録媒体Ｍとの距離を近接させて
情報データの記録あるいは／および再生を行う際におい
て、光学レンズと光記録媒体Ｍとが衝突してしまう危険
性が低下している。なお、この例においては、下地層３
ｅの表面に表面研磨を行った例を示したが、スパッタリ
ング工程において生じる針状の突起は、その成膜厚さに
比例することから、親水性材質膜１１の表面研磨を行う
こともできるものであり、この場合と、下地層３ｅの表
面に研磨を行う場合とでは、その表面突起の除去を行う
観点での効果が変わらない。しかし、実際には、表面研
磨を行った後には洗浄工程が必要となることから、図１
１で説明した例では、親水性材質膜１１の成膜が終了し
た直後の汚れていない状態において、光透過性平坦化膜
４の形成を行うことを目的としたものであるものの、あ
る場合は、親水性材質膜１１の表面研磨を行うことも可
能である。
いては、上述したように表面研磨がなされていることに
より、光学レンズと光記録媒体Ｍとの距離を近接させて
情報データの記録あるいは／および再生を行う際におい
て、光学レンズと光記録媒体Ｍとが衝突してしまう危険
性が低下している。なお、この例においては、下地層３
ｅの表面に表面研磨を行った例を示したが、スパッタリ
ング工程において生じる針状の突起は、その成膜厚さに
比例することから、親水性材質膜１１の表面研磨を行う
こともできるものであり、この場合と、下地層３ｅの表
面に研磨を行う場合とでは、その表面突起の除去を行う
観点での効果が変わらない。しかし、実際には、表面研
磨を行った後には洗浄工程が必要となることから、図１
１で説明した例では、親水性材質膜１１の成膜が終了し
た直後の汚れていない状態において、光透過性平坦化膜
４の形成を行うことを目的としたものであるものの、あ
る場合は、親水性材質膜１１の表面研磨を行うことも可
能である。
【００５８】また、このような、表面研磨方法は、ＦＴ
Ｐ（Flying Tape Polish）法あるいは、グライドヘッ
ドを用いた方法等によって行うことができ、本発明によ
る光記録媒体およびその製造方法における研磨の方法は
限定されるものではない。
Ｐ（Flying Tape Polish）法あるいは、グライドヘッ
ドを用いた方法等によって行うことができ、本発明によ
る光記録媒体およびその製造方法における研磨の方法は
限定されるものではない。
【００５９】上述したように、本発明によれば、親水性
材質膜１１の形成によって、平坦化膜４の形成における
スピンコート、焼成工程においてじかれを回避して形成
することができ、このはじかれによって表面に突部が発
生することを回避できることから、すぐれた平面性を有
する光記録媒体Ｍを構成することができる。特に、例え
ば光ディスクなどで中心部に非成膜領域Ａ0 が形成され
る場合において、この中心部の非成膜領域Ａ0 にける段
差１０の存在はスピンコートによる平坦化膜４のはがれ
の発生、不安定性が大きいが、本発明構成および方法に
よれば、親水性材質膜１１の存在によって安定化され
る。
材質膜１１の形成によって、平坦化膜４の形成における
スピンコート、焼成工程においてじかれを回避して形成
することができ、このはじかれによって表面に突部が発
生することを回避できることから、すぐれた平面性を有
する光記録媒体Ｍを構成することができる。特に、例え
ば光ディスクなどで中心部に非成膜領域Ａ0 が形成され
る場合において、この中心部の非成膜領域Ａ0 にける段
差１０の存在はスピンコートによる平坦化膜４のはがれ
の発生、不安定性が大きいが、本発明構成および方法に
よれば、親水性材質膜１１の存在によって安定化され
る。
【００６０】なお、本発明を用いることによる具体的な
効果としては、親水性材質膜を形成していない場合にお
いては、一般にストリェーションと呼ばれる放射状の膜
厚ムラが１サンプルあたり１〜３カ所程度形成されてい
ることが多かったが、上述したような構成により親水性
材料を形成した後に平坦化膜をスピンコート法により形
成した場合には、そのストリェーションの発生をほとん
どの場合において抑えることができた。
効果としては、親水性材質膜を形成していない場合にお
いては、一般にストリェーションと呼ばれる放射状の膜
厚ムラが１サンプルあたり１〜３カ所程度形成されてい
ることが多かったが、上述したような構成により親水性
材料を形成した後に平坦化膜をスピンコート法により形
成した場合には、そのストリェーションの発生をほとん
どの場合において抑えることができた。
【００６１】したがって、光記録媒体Ｍ自体の信頼性の
向上が図られると共に、表面平坦性が高められることに
よって記録、再生特性の安定化、ニアフィールド記録、
再生における光学系との衝突による損傷等の発生を回避
できるものである。
向上が図られると共に、表面平坦性が高められることに
よって記録、再生特性の安定化、ニアフィールド記録、
再生における光学系との衝突による損傷等の発生を回避
できるものである。
【００６２】なお、上述した例では、親水性材質膜１１
が、親水性を示す材料膜の被着によって形成した場合で
あるが、或る場合は、成膜層３，１３の表面を親水性と
する処理を施した親水性材質膜の形成によることもでき
る。また、本発明を適用する光記録媒体、したがって、
その製造方法は、上述した構成に限定されるものではな
く、使用態様、目的に応じて種々の構成が採られる光記
録媒体に適用することができることはいうまでもない。
が、親水性を示す材料膜の被着によって形成した場合で
あるが、或る場合は、成膜層３，１３の表面を親水性と
する処理を施した親水性材質膜の形成によることもでき
る。また、本発明を適用する光記録媒体、したがって、
その製造方法は、上述した構成に限定されるものではな
く、使用態様、目的に応じて種々の構成が採られる光記
録媒体に適用することができることはいうまでもない。
【００６３】
【発明の効果】上述したように、本発明によれば、表面
の平坦化工程において生じやすかった、平坦化膜のはじ
かれを回避できることから、信頼性の向上、歩留りの向
上を図ることができる。
の平坦化工程において生じやすかった、平坦化膜のはじ
かれを回避できることから、信頼性の向上、歩留りの向
上を図ることができる。
【００６４】すなわち、光記録媒体Ｍにおいて、その表
面平坦性を高めるられることから、ニアフィールド記録
あるいは／および再生において、安定性が高められる。
すなわち、そのニアフィールド記録あるいは／および再
生装置において、光記録媒体と光学レンズとの衝突の危
険性が減じられることとなり、動作の安定性、光記録媒
体Ｍに対して近接対向する光学系に損傷を与えるが回避
され、また、微細凹凸形状に対応した間隔、いわゆるエ
アギャップの不均一性による光学特性の劣化を回避でき
る。
面平坦性を高めるられることから、ニアフィールド記録
あるいは／および再生において、安定性が高められる。
すなわち、そのニアフィールド記録あるいは／および再
生装置において、光記録媒体と光学レンズとの衝突の危
険性が減じられることとなり、動作の安定性、光記録媒
体Ｍに対して近接対向する光学系に損傷を与えるが回避
され、また、微細凹凸形状に対応した間隔、いわゆるエ
アギャップの不均一性による光学特性の劣化を回避でき
る。
【００６５】また、本発明による製造方法は、上述した
ように、平坦化膜がはじかれてしまうことによる膜厚の
不均一といった不良部分の発生の危険性を減じられるこ
ととなるので、歩留まりの向上させることができ、光記
録媒体の価格の低減化を図ることができる。
ように、平坦化膜がはじかれてしまうことによる膜厚の
不均一といった不良部分の発生の危険性を減じられるこ
ととなるので、歩留まりの向上させることができ、光記
録媒体の価格の低減化を図ることができる。
【図１】本発明による光記録媒体の一例の概略断面図で
ある。
ある。
【図２】本発明による光記録媒体の一例の一半部の概略
断面図である。
断面図である。
【図３】本発明による光記録媒体の他の一例の一半部の
概略断面図である。
概略断面図である。
【図４】本発明による光記録媒体に対する記録、再生装
置のヘッド部の一例の断面図である。
置のヘッド部の一例の断面図である。
【図５】本発明による光記録媒体に対する記録、再生装
置のヘッド部の他の一例の断面図である。
置のヘッド部の他の一例の断面図である。
【図６】本発明による光記録媒体の他の一例の一半部の
概略断面図である。
概略断面図である。
【図７】本発明による光記録媒体の他の一例の一半部の
概略断面図である。
概略断面図である。
【図８】本発明による光記録媒体の他の一例の一半部の
概略断面図である。
概略断面図である。
【図９】本発明による光記録媒体の他の一例の一半部の
概略断面図である。
概略断面図である。
【図１０】本発明による光記録媒体の他の一例の一半部
の概略断面図である。
の概略断面図である。
【図１１】本発明による光記録媒体の他の一例の要部の
概略断面図である。
概略断面図である。
【図１２】従来の光記録媒体の概略断面図である。
１・・・基板、２・・・微細凹凸、３，１３・・・成膜
層、３ａ，１３ａ・・・反射膜、３ｂ・・・第１の誘電
体膜、３ｃ・・・相変化記録層、３ｄ・・・第２の誘電
体膜、３ｅ・・・下地層、４・・・光透過性平坦化膜，
４ｂ・・・表面層、１３ｂ・・・誘電体膜、１３ｃ・・
・第１の磁性膜、１３ｄ・・・第２の磁性膜、１０・・
・段差、１１・・・親水性材質膜、１２・・・突起、２
１・・・ヘッド部、２２・・・対物レンズ、２３・・・
ＳＩＬ、２４・・・レンズホルダ、２５・・・電磁アク
チュエータ、２６・・・スライダ、２７・・・アーム
層、３ａ，１３ａ・・・反射膜、３ｂ・・・第１の誘電
体膜、３ｃ・・・相変化記録層、３ｄ・・・第２の誘電
体膜、３ｅ・・・下地層、４・・・光透過性平坦化膜，
４ｂ・・・表面層、１３ｂ・・・誘電体膜、１３ｃ・・
・第１の磁性膜、１３ｄ・・・第２の磁性膜、１０・・
・段差、１１・・・親水性材質膜、１２・・・突起、２
１・・・ヘッド部、２２・・・対物レンズ、２３・・・
ＳＩＬ、２４・・・レンズホルダ、２５・・・電磁アク
チュエータ、２６・・・スライダ、２７・・・アーム
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 11/105 ５０１ Ｇ１１Ｂ 11/105 ５０１Ｚ ５２１ ５２１Ｅ ５２６ ５２６Ｆ ５３１ ５３１Ｐ ５３１Ｙ ５４６ ５４６Ａ ５４６Ｂ ５４６Ｆ
Claims (35)
- 【請求項１】 光照射により情報の記録および再生の少
なくとも一方を行う光記録媒体であって、 上記光照射がなされる側の表面に微細凹凸が形成された
基板上に、少なくとも記録層を有し光照射がなされる側
の表面が微細凹凸表面とされた成膜層を有し、 該成膜層上に、親水性を有する親水性材質膜を介して、
上記照射光に対して透過性を有する光透過性平坦化膜
が、上記成膜層表面の上記微細凹凸表面を埋め込んで表
面平坦に形成されて成ることを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項２】 上記基板が中心孔を有し、 上記記録層を有する成膜層は、上記基板上の、上記中心
孔の周囲に所要の幅に渡る中心部領域を該成膜層の非形
成領域として成膜され、 上記親水性を有する材質膜は、上記成膜層上と、該成膜
層の上記中心部領域の上記非形成領域上に跨がって形成
されて成ることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒
体。 - 【請求項３】 上記親水性材質膜は、スパッタリング膜
より成ることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒
体。 - 【請求項４】 上記親水性材質膜は、ＳｉＯ2 を主成分
とする成膜材料より成ることを特徴とする請求項１に記
載の光記録媒体。 - 【請求項５】 上記成膜層の少なくとも１層は、スパッ
タリング膜より成ることを特徴とする請求項１に記載の
光記録媒体。 - 【請求項６】 上記成膜層は、上記基板上に形成された
反射膜を有することを特徴とする請求項１に記載の光記
録媒体。 - 【請求項７】 上記光透過性平坦化膜は、無機平坦化材
料より成ることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒
体。 - 【請求項８】 上記光透過性平坦化膜は、形成温度１５
０℃以下の平坦化材料より成ることを特徴とする請求項
１に記載の光記録媒体。 - 【請求項９】 上記基板が有機材料よりなり、上記光透
過性平坦化膜は、形成温度１５０℃以下の成膜材料より
成ることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。 - 【請求項１０】 上記光透過性平坦化膜は、スピンコー
ト平坦化材料より成ることを特徴とする請求項１に記載
の光記録媒体。 - 【請求項１１】 上記光透過性平坦化膜は、４００ｎｍ
以下の厚さとされたことを特徴とする請求項１に記載の
光記録媒体。 - 【請求項１２】 上記光透過性平坦化膜は、１００ｎｍ
以下の厚さとされたことを特徴とする請求項１に記載の
光記録媒体。 - 【請求項１３】 上記光透過性平坦化膜は、ＳｉＯ2 を
主成分とするスピンコート平坦化材料より成ることを特
徴とする請求項１に記載の光記録媒体。 - 【請求項１４】 上記微細凹凸は、ランドとグルーブと
を有し、 該ランドとグルーブのいずれか一方、もしくはその双方
の上記記録層に上記情報の記録がなされることを特徴と
する請求項１に記載の光記録媒体。 - 【請求項１５】 上記光透過性平坦化膜の形成面に、誘
電体下地膜が形成され、上記記録層に対する照射光の照
射効率を高めることを特徴とする請求項１に記載の光記
録媒体。 - 【請求項１６】 上記記録層は、上記光照射によりアモ
ルファス状態と結晶状態の間で相変化する材料層を有し
て成ることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。 - 【請求項１７】 上記記録層は、上記光照射により磁化
状態が変化する材料層を有して成ることを特徴とする請
求項１に記載の光記録媒体。 - 【請求項１８】 光照射により情報の記録および再生の
少なくとも一方を行う光記録媒体の製造方法であって、 上記光照射がなされる側の表面に微細凹凸が形成された
基板の製造工程と、 少なくとも記録層を有する成膜層の形成工程と、 該成膜層表面に生じた微細凹凸表面を埋め込んで上記照
射光に対して透過性を有する光透過性平坦化膜を形成す
る光透過性平坦化膜の形成工程と、 上記光透過性平坦化膜の形成工程の前に、該光透過性平
坦化膜の形成面に親水性を有する親水性材質膜を形成す
る親水性材質膜の形成工程とを有することを特徴とする
光記録媒体の製造方法。 - 【請求項１９】 上記基板が中心孔を有し、 上記記録層を有する成膜層の形成工程において、上記基
板上の、上記中心孔の周囲に所要の幅に渡る中心部領域
を除いて上記成膜層を形成した上記中心部領域に上記成
膜層の非形成領域を形成し、 上記親水性を有する材質膜を、上記成膜層上と、該成膜
層の上記中心部領域の非形成領域の上記基板上に跨がっ
て形成することを特徴とする請求項１８に記載の光記録
媒体の製造方法。 - 【請求項２０】 上記親水性材質膜の形成をスパッタリ
ングによって行うことを特徴とする請求項１８に記載の
光記録媒体の製造方法。 - 【請求項２１】 上記親水性材質膜の形成を、上記基板
の外周をクランプしながら行うことを特徴とする請求項
１８に記載の光記録媒体の製造方法。 - 【請求項２２】 上記成膜層の形成工程において、少な
くとも１層を、スパッタリングによって成膜することを
特徴とする請求項１８に記載の光記録媒体の製造方法。 - 【請求項２３】 上記成膜層の形成工程において、上記
基板上に反射膜を形成することを特徴とする請求項１８
に記載の光記録媒体の製造方法。 - 【請求項２４】 上記光透過性平坦化膜の形成を、無機
平坦化材料により形成することを特徴とする請求項１８
に記載の光記録媒体の製造方法。 - 【請求項２５】 上記光透過性平坦化膜は、形成温度１
５０℃以下の平坦化材料より成ることを特徴とする請求
項１８に記載の光記録媒体の製造方法。 - 【請求項２６】 上記基板を有機材料により構成し、上
記光透過性平坦化膜を、形成温度１５０℃以下の成膜材
料より形成することを特徴とする請求項１８に記載の光
記録媒体の製造方法。 - 【請求項２７】 上記光透過性平坦化膜は、スピンコー
ト平坦化材料より成ることを特徴とする請求項１８に記
載の光記録媒体の製造方法。 - 【請求項２８】 上記光透過性平坦化膜を、４００ｎｍ
以下の厚さに形成することを特徴とする請求項１８に記
載の光記録媒体。 - 【請求項２９】 上記光透過性平坦化膜を、１００ｎｍ
以下の厚さに形成することを特徴とする請求項１８に記
載の光記録媒体の製造方法。 - 【請求項３０】 上記光透過性平坦化膜を、ＳｉＯ２を
主成分とする平坦化材料をスピンコート法によって形成
することを特徴とする請求項１８に記載の光記録媒体の
製造方法。 - 【請求項３１】 上記親水性材質膜を、ＳｉＯ2 を主成
分とする成膜材料よりことを特徴とする請求項１８に記
載の光記録媒体の製造方法。 - 【請求項３２】 上記微細凹凸は、ランドとグルーブと
を有し、 上記ランドとグルーブとのいずれか一方、もしくはその
双方を上記情報の記録部とすることを特徴とする請求項
１に記載の光記録媒体の製造方法。 - 【請求項３３】 上記光透過性平坦化膜の形成工程の前
に、上記光透過性平坦化膜の形成面に、上記記録層に対
する照射光の照射効率を高める誘電体下地膜の形成工程
を有することを特徴とする請求項１８に記載の光記録媒
体の製造方法。 - 【請求項３４】 上記記録層の形成工程が、上記光照射
によりアモルファス状態と結晶状態の間で相変化する材
料層の形成工程を有することを特徴とする請求項１８に
記載の光記録媒体の製造方法。 - 【請求項３５】 上記記録層の形成工程が、上記光照射
により磁化状態が変化する材料層の形成工程を有するこ
とを特徴とする請求項１８に記載の光記録媒体の製造方
法。
Priority Applications (5)
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|---|---|---|---|
| JP2000263497A JP4281232B2 (ja) | 2000-08-31 | 2000-08-31 | 光記録媒体とその製造方法 |
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| MYPI20013933A MY125996A (en) | 2000-08-31 | 2001-08-22 | Optical recording medium and its manufacturing method. |
| SG200105209A SG95670A1 (en) | 2000-08-31 | 2001-08-27 | Optical recording medium and its manufacturing method |
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|---|---|---|---|
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|---|---|
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| SG (1) | SG95670A1 (ja) |
| TW (1) | TW589626B (ja) |
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