JPH113534A

JPH113534A - 光記録装置および光記録媒体

Info

Publication number: JPH113534A
Application number: JP10102906A
Authority: JP
Inventors: Kusato Hirota; 草人廣田; Gentaro Obayashi; 元太郎大林; Futoshi Okuyama; 太奥山
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1997-04-14
Filing date: 1998-04-14
Publication date: 1999-01-06

Abstract

(57)【要約】【課題】高密度の記録が可能で、磨耗あるいは損傷の危
険が少なく、焦点深度の余裕度を拡大し、記録、再生特
性が安定しており、製造も容易な優れた光記録装置を提
供する。【解決手段】光記録媒体に光を照射することによって、
情報の記録または再生を行う光記録装置において、前記
光記録媒体が光の入射側の最表面に潤滑剤層を設けたも
のであり、かつ、前記光の照射を、前記光記録媒体に接
触または近接するニアフィールドレンズもしくは微小開
口を有する光導波路を用いて行うことを特徴とする光記
録装置である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光の照射により情
報の記録または再生が可能である光記録媒体および光記
録装置に関するものである。

【０００２】特に、本発明は、記録情報の消去、書換機
能を有し、情報信号を高速かつ、高密度に記録可能な、
高開口数の対物レンズを媒体面に近接させて記録するソ
リッド・イマージョン・レンズなどを利用した光記録装
置の改良に関するものである。

【０００３】

【従来の技術】従来の高開口数の対物レンズを媒体面に
接触または近接させてニアフィールド光により記録する
光記録装置の技術は、以下のごときものである。

【０００４】この種の光記録装置の代表的な技術とし
て、ソリッド・イマージョン・レンズによる記録装置が
知られている（米国特許５，１２５，７５０号）。この
装置の光学系は通常の光記録ヘッドの開口数０．５前後
の非球面の対物レンズをコリメータとして用い、このレ
ンズと記録媒体との間に、半球状のレンズの平面側を記
録媒体面に接触、あるいは波長レベルの微小間隙を介し
て近接させて配置する。この場合、半球状レンズの屈折
率に相当する倍数だけ実効的な開口数が増加し、ビーム
径が縮小することにより高密度記録が可能になる。さら
にこの技術の改良技術として、スティグマティック・フ
ォーカシング・ソリッド・イマージョン・レンズを用い
た光記録システムも提案されている（SPIE Vol.2412
P80−）。この場合には、実効的な開口数はレンズ屈折
率の二乗倍程度に改善される。

【０００５】また、レンズと光記録媒体の表面が数ミク
ロンレベルと小さい場合の光記録媒体の構成として、基
板上の光の入射側にに記録層を設け、さらに保護層で表
面を保護した光記録媒体も提案されている（米国特許５
４７０６２７号）また、半導体レーザーの導波路を微細
加工してこの先端の微小開口から射出されるニアフィー
ルド光を用いて高密度記録する方法（米国特許５６２５
６１７号）や光ファイバー導波路の先端をテーパー状に
加工し、この先端の微小開口から射出されるニアフィー
ルド光を用いて高密度記録する方法（Appl. Phys. Let
t.61, 142 (1992)）も提案されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
従来技術には以下の問題があった。まず、第一に、ソリ
ッド・イマージョン・レンズやスティグマティック・フ
ォーカシング・ソリッド・イマージョン・レンズなどの
高開口数のニアフィールドレンズ、及び微小開口導波路
によるニアフィールド光記録では、光記録媒体の表面
と、レンズあるいは導波路の光射出面の距離が非常に小
さい（光波長の１／２以下、代表的には２００ｎｍ程度
以下）ため、光記録媒体の表面がこれら光学系の光射出
面と接触し、光記録媒体の表面を磨耗あるいは損傷する
危険があった。本発明の第一の目的は、高密度の記録が
可能で、かつ磨耗あるいは損傷の危険が少なく、製造も
容易な優れた光記録装置を提供することにある。

【０００７】第二に、ソリッド・イマージョン・レンズ
などの高開口数光学系を光記録に適用する場合、焦点深
度が、波長／｛２・（開口数²）｝にほぼ比例するた
め、フォーカス位置の変動に対して、オートフォーカス
機構、媒体面とレンズの相対位置の制御機構、光記録媒
体の基板、保護層の厚さの偏差などに対して余裕度が著
しく小さくなる（おおむね従来の１／４以下）問題があ
る。本発明の第二の目的は、大容量記録が可能で、かつ
焦点深度の余裕度を拡大し、記録、再生特性が安定して
おり、製造も容易な優れた光記録装置を提供することに
ある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記の
光記録装置と光記録媒体によって達成された。本発明の
第１の光記録装置は、光源と光記録媒体とを有し、該光
源からの光を光学系を通して該光記録媒体に照射するこ
とによって、情報の記録または再生を行う光記録装置に
おいて、該光記録媒体が光学系側の最表面に潤滑剤層を
設けたものであり、かつ、該光学系が、該光記録媒体に
接触または近接するニアフィールドレンズを有している
ことを特徴とする光記録装置である。

【０００９】本発明の第２の光記録装置は、光源と光記
録媒体とを有し、該光源からの光を光学系を通して該光
記録媒体に照射することによって、情報の記録または再
生を行う光記録装置において、該光記録媒体が光学系側
の最表面に潤滑剤層を設けたものであり、かつ、該光学
系が、該光記録媒体に接触または近接する微小開口を有
する光導波路を有していることを特徴とする光記録装置
である。

【００１０】本発明の第３の光記録装置は、光源と光記
録媒体とを有し、該光源からの光を光学系を通して該光
記録媒体に照射することによって、情報の記録または再
生を行う光記録装置において、該光学系が、少なくと
も、光源側に位置するコリメーターレンズと、該光記録
媒体に接触または近接する実効開口数が０．８以上２以
下のニアフィールドレンズを有することを特徴とする光
記録装置である。

【００１１】また、本発明の光記録媒体は、基板上に形
成された記録層に光を照射することによって、情報の記
録または再生が可能である光記録媒体において、少なく
とも潤滑剤層／記録層／第２誘電体層／反射層／基板を
この順に積層したものであることを特徴とする光記録媒
体である。

【００１２】さらに本発明の光記録装置と光記録媒体
は、次の好ましい実施態様を包含している。 (1)ニアフィールドレンズが、ソリッド・イマージョン
・レンズ、スティグマティック・フォーカシング・ソリ
ッド・イマージョンレンズもしくは、液浸レンズのいず
れかであること (2)ニアフィールドレンズの光源側の面および光記録媒
体側の面のいずれもが球面であること (3)光記録媒体の光の入射側の表面上の入射光ビームの
外周上での媒体表面とレンズ面の距離が１０ｎｍ以上２
００ｎｍ以下であること (4)ニアフィールドレンズが酸化アルミニウムを主成分
とする材料からなること (5)光記録媒体が、少なくとも潤滑剤層/記録層/誘電体
層/反射層/基板をこの順に積層したものであること (6)光記録媒体が、少なくとも潤滑剤層/第１誘電体層/
記録層/第２誘電体層/反射層/基板をこの順に積層した
ものであること (7)記録層と潤滑剤層の間に樹脂保護層を設けたこと (8)潤滑剤層が液体潤滑剤層であること (9)潤滑剤層が固体潤滑剤層であること (10)潤滑剤層が固体潤滑剤層上に液体潤滑剤層を設けた
ものであること (11)液体潤滑剤層の厚さが記録もしくは再生に用いる光
の真空中の波長の１／２以下かつ３ｎｍ以上であること (12)液体潤滑剤層が、ポリフルオロエーテル、ポリフル
オロエステル、フルオロアルキルエチレン、フルオロア
ルキルエタノールの少なくとも１種を含有すること (13)固体潤滑剤層が、炭素もしくは窒化炭素を主成分と
する層で構成されていること (14)記録層が相変化記録材料、もしくは光磁気記録材料
からなること (15)記録層が、ゲルマニウム、アンチモン、インジウ
ム、銀、パラジウム、白金、金、コバルト、クロム、ニ
オブ、ニッケルから選ばれた少なくとも２種以上の金属
とテルルを含有する相変化記録層であること (16)第１誘電体層の厚さが２０ｎｍ以上、２００ｎｍ以
下であること (17)基板が、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリ
イミド、ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド、ポ
リエチレンテレフタレートから選ばれた少なくとも一種
の樹脂であること (18)基板が柔軟性を有する厚さ１０μｍ以上、２００μ
ｍ以下の樹脂フィルムもしくはシートからなること (19)前記光学系が、コリメーターレンズを有しており、
かつ、該コリメーターレンズの光源側もしくは光記録媒
体側にアポダイザーを設けたこと (20)アポダイザーが輪帯開口、もしくは円状または円環
状の位相差板を備えること (21)アポダイザーが円状の位相補正板からなること (22)アポダイザーが円環状の位相補正板からなること (23)アポダイザーをコリメーターレンズの光源側に設け
たこと

【００１３】

【発明の実施の形態】以下に本発明の実施態様とその作
用を光学系、光記録媒体の順に説明する。本発明のニア
フィールドレンズは、光記録媒体に接触するか、また
は、非常に薄い空気層を介して近接するものである。以
下、潤滑剤層として液体潤滑剤を用い、ニアフィールド
レンズを液体潤滑剤層に接触させて液浸レンズとした場
合を例として説明するが、ソリッド・イマージョンレン
ズやスティグマティック・フォーカシング・ソリッド・
イマージョンレンズを用いた場合でも本発明の本質は変
わるものではない。また、光記録媒体としては、相変化
型光記録媒体を用いた場合を例に説明する。

【００１４】図１に示す本発明の光記録装置において
は、半導体レーザー６から射出されたレーザー光は、ビ
ームスプリッターを経由した後、コリメーターレンズ２
を経て液浸レンズであるニアフィールドレンズ３で光記
録媒体８上に集光される。光記録媒体８とニアフィール
ドレンズは液体潤滑剤層１で接触している。ソリッド・
イマージョンレンズ、スティグマティック・フォーカシ
ング・ソリッド・イマージョンレンズでニアフィールド
レンズを構成する場合には液体潤滑剤層とニアフィール
ドレンズ表面の間に非常に薄い１００ｎｍ程度の空気層
が存在する。この場合には液体潤滑剤層に代わり固体潤
滑剤層を用いてもよい。

【００１５】光記録媒体８からの反射光は液浸レンズ
３、コリメーターレンズ２を経てフォトダイオード５に
入射し、電気信号として検出される。図中には記述して
いないが、本発明を損なわない範囲で焦点位置合わせの
ための検出系や１／４波長版などの通常用いられる光ヘ
ッド技術を付与して良いことはもちろんである。また光
磁気記録の場合には、光磁気用の通常の光磁気ヘッドや
偏光成分の検出光学系を追加すればよい。

【００１６】ここで、本願発明の好ましい態様の一つと
しては、ニアフィールドレンズ３の光源側の媒体側の面
は、球面により構成される。球面形状は、非球面形状に
比べて、レンズの成形、研磨が容易であり、レンズの光
学精度を高めることが可能である。またレンズの作成コ
ストも低い。さらに、本レンズの光記録媒体側の面を球
面とすることは、媒体表面との近接部、あるは接触部の
面積が小さくなるため、従来の平面を有する半球状レン
ズなどに比べ、凹凸、ほこりなどが媒体面の存在する場
合でも、光記録媒体面に対する追従性、接触性が高くで
きることから好ましい。なお、具体的なレンズの保持方
法、媒体上の走査方法については、たとえばハードディ
スクと同様の浮上ヘッド構造を使うなどの方法（Appl.
Phys. Lett. 68 (2), 8 (1996)）が適用できる。

【００１７】本発明のニアフィールドレンズの光記録媒
体側の面の球面形状は、図３に示すように光記録媒体の
記録層上の表面保護膜１０（透明基板、誘電体層を含
む）の厚さとこの保護膜表面における入射光ビーム直径
（ｄ）１５を基に設計することができる。表面保護膜が
厚い場合には曲率半径（ｒ）１６を小さく、薄い場合に
は大きくする。詳しくは保護膜表面上の入射光ビームの
外周上での媒体表面とレンズ面の距離ｓ、すなわち、ｓ
＝ｒ−（ｒ²−（ｄ／２）²）^1/2の値が、２００ｎｍ以
下であることが、ビームのスポット形状が良好であるこ
とから好ましく、球面化による前述の効果を得るために
は、１０ｎｍ以上が好ましい。この場合、ｄ＝Ｄ・ｔａ
ｎθ（ここでＤは保護膜の厚さ１４、θは収束ビームの
広がりの角度１７である）、また、ｒ＝ｓ／２＋ｄ²／
８ｓなる関係が成り立つのでこれに基づき曲率半径を決
定すればよい。またニアフィールドレンズの光源側の球
面は、従来のソリッド・イマージョン・レンズ、スティ
グマティック・フォーカシング・ソリッド・イマージョ
ン・レンズと同様の球面でよい。

【００１８】本発明のコリメーターレンズは、再生時に
は光を平行化（コリメート）し、記録時には光を収光
（フォーカス）するものである。特に限定するものでは
ないが開口数が０．３以上０．７以下の収差補正がなさ
れた非球面レンズを用いることが好ましい。０．３以下
では、スポットサイズを縮小する効果が小さく、０．７
以上では組立時の傾き、軸ずれの精度の要求が厳しくな
る。

【００１９】このようなコリメーターレンズは、半導体
レーザー用のコリメーターレンズとして市販されている
ものが代表的なものとしてあげられるが（一般的な市販
品はそのまま使用する場合、当然、カバーグラス分の収
差を補正する必要がある）、光ディスク及びＣＤ用光ピ
ックアップ用に設計された対物レンズも、球面収差を補
正してやれば同様に使用することができる。コリメータ
ーレンズの有効径（直径）としては通常２ｍｍ以上７ｍ
ｍ以下が製作上容易である。材質はニアフィールドレン
ズと同様に光学ガラスでもよいし、樹脂製のモールドさ
れたレンズを用いてもよい。

【００２０】本発明のニアフィールドレンズを含めたの
実効的な開口数は、収束ビームの広がりの角度θとニア
フィールドレンズの屈折率ｎを用いて、ｎ・ｓｉｎθで
表される。この値は特に限定するものではないが、０．
８以上、２以下とりわけ１．５以下が好ましい。０．８
以下では従来の光ディスクの対物レンズに比べ高密度化
の点でメリットが小さく、１．５以上では光学系のレン
ズの配置に関して精度の要求が急激に厳しくなるとと同
時に、焦点深度も浅くなり、レンズを走査しながら記録
する場合に合焦を維持することが難しくなる。

【００２１】またコリメーターレンズ、ニアフィールド
レンズなどの光学部品の表面に必要に応じ防反射コート
をほどこしてもよい。

【００２２】なお、微小開口を有する導波路で記録する
場合について説明を加える。この場合には、公知の技術
（米国特許５６２５６１７号、Appl. Phys. Lett. 61,
2,13,1992年）として知られる光学系をそのまま本発明
の光学系に採用することができる。この場合にも本発明
の潤滑剤層を有する光記録媒体を適用することは前述の
場合と同様に好ましい効果が得られる。

【００２３】ニアフィールドレンズを液体潤滑剤層に接
触させて液浸レンズとした場合、レンズ材質の屈折率は
通常約１．５〜２であり、液体潤滑剤の屈折率は通常約
１．５であるから、レンズと液体潤滑剤の屈折率差が、
液浸しない場合のレンズと空気（屈折率１）の屈折率差
より小さくなる。そのため、コリメーターレンズの開口
数が高く、レンズ内部のマージナル光線が全反射条件と
なる臨界角が拡大できるため、同一の実効開口数を持つ
液浸しないレンズと比較すると、レンズと光記録媒体の
誘電体層あるいは記録層との間の距離を大きくすること
が可能であり、システムの構成が容易になる。例えば、
ニアフィールドレンズとして半球型の高屈折率光学ガラ
スレンズ（ｎｇ＝１．８４）を用い、屈折率１．５の液
体潤滑剤を用いると、コリメーターレンズのＮＡが最大
約０．８、記録システムの実効開口数は最大約１．５と
なる。なお、球面収差の発生をさけるため、液浸してい
る液体潤滑剤層の厚さは薄いほうが好ましい。

【００２４】さらに、アプラナティックな条件を満たす
スティグマティック・フォーカッシング・ソリッド・イ
マージョン・レンズと同一の形態を有する液浸レンズを
用いる場合、コリメーターレンズの開口数ＮＡ；０．
５、液浸レンズの屈折率１．８４、液体潤滑剤の屈折率
１．５としてシステムの実効開口数は１．６９となる。
先に述べたように空気層を介在する場合にくらべ、界面
の臨界角が大きいため、液浸しないスティグマティック
・フォーカッシング・ソリッド・イマージョン・レンズ
で同一の実効開口数を実現する場合にくらべ、レンズ媒
体間の距離変動に対して安定して記録、再生が可能とな
る。特に好ましい様態としては、液体潤滑剤層の厚さが
記録もしくは再生に用いる光の真空中の波長の１／２以
下かつ３ｎｍ以上であることがエバネッセント光を大幅
に減衰させることなく伝達でき、かつ十分液浸状態が保
持できることから好ましい。

【００２５】また、液体潤滑剤を用いることは、レンズ
で媒体面を走査する場合に発生するレンズ及び媒体の摩
耗、損傷を低減できること、レンズと光記録媒体間の距
離を表面張力、分子間力などにより安定に保持できるこ
とからも好ましいものである。

【００２６】なお、微小開口を有する導波路で記録する
場合についても、液体潤滑剤で導波路の開口部と光記録
媒体の表面の間を満たすことは、液体潤滑剤中では光の
波長が真空中の波長／屈折率に短縮するため、微小開口
部から伝搬するニアフィールド光の伝搬に伴う拡散が小
さくできることから好ましい。

【００２７】液体潤滑剤はとくに限定するものではない
が、ポリフルオロエーテル、ポリフルオロエステル、フ
ルオロアルキルエチレン、フルオロアルキルエタノール
などの潤滑剤や界面活性剤などを用いることができる。
屈折率は特に限定しないがおおむね１．４以上１．７以
下が一般的に実現可能な値である。

【００２８】本発明のニアフィールドレンズの材質は、
ＢＫ７などの光学レンズ用ガラス材を用いることができ
る。特にＬａＳＦＮ₉（屈折率１．８５）などの高屈折
率ガラス、ＧａＡｓ、Ｓｉなどの高屈折率の半導体材料
でレンズを構成することは実効的な開口数を大きくでき
ることから好ましい。ニアフィールドレンズの大きさは
半径０．５ｍｍから３ｍｍ程度であることがレンズの製
作が容易であること、コリメーターレンズの作動距離を
大きくしなくてもすむことから好ましい。

【００２９】さらに、サファイアなどに代表される酸化
アルミニウムを主成分とする材質で球状レンズを構成す
ることは、媒体面とレンズが接触した場合に発生するレ
ンズ表面の摩耗、傷の発生を低減できることから好まし
い。

【００３０】なお、これらのレンズのエッジ部分をたと
えば米国特許５，１２５，７５０号に開示されているよ
うにテーパー状など必要に応じ加工してよいことはもち
ろんである。

【００３１】本願発明のさらに別の態様は、以下のよう
なものである。すなわち、光を射出する光学系が、少な
くとも、光源側に位置するコリメーターレンズと、前記
光記録媒体に接触または近接する実効開口数が０．８以
上２以下のニアフィールドレンズから構成され、かつ、
前記コリメーターレンズの光源側もしくは光記録媒体側
にアポダイザーを設けたものである。以下に実施態様と
その作用をソリッド・イマージョン・レンズを用いた場
合を例として説明する。ただし、スティグマティック・
フォーカシング・ソリッド・イマージョンレンズもしく
は、液浸レンズを用いる場合でも本発明の本質は変わる
ものではない。

【００３２】本発明の光記録装置は、図４に示すよう
に、半導体レーザー２３から射出されたレーザー光は、
ビームスプリッター２１を経由した後、アポダイザー１
８を通過した後、コリメーターレンズ１９を経てソリッ
ド・イマージョン・レンズ２０で光記録媒体２５上に集
光される。また光記録媒体２５からの反射光はソリッド
・イマージョン・レンズ２０、コリメーターレンズ１
９、アポダイザー１を経てフォトダイオード２２に入射
し、電気信号として検出される。

【００３３】ここで、アポダイザーは、コリメーターレ
ンズ及びニアフィールドレンズであるソリッド・イマー
ジョン・レンズの焦点深度を拡大するとともに、ソリッ
ド・イマージョン・レンズにより集光されたビームのビ
ーム・ウエストを絞る効果を有する。コリメーターレン
ズにアポダイザーを配置し、ソリッド・イマージョン・
レンズなどのニアフィールドレンズのフォーカス特性を
改善する手法は、本発明により初めて見いだされたもの
である。

【００３４】アポダイザーの配置する位置は図４のよう
に、コリメーターレンズの光源側に配置することが収差
を小さくできることから好ましいが、光記録媒体側に配
置することも可能である。アポダイザーの構成として
は、図５、図７に示すように、円環状（図５）あるいは
円状の位相補正板（図７）、もしくは図９に示した中央
部に光を透過しない遮蔽部を設けたセンターマスクや、
図には示さないが、輪帯開口マスクが代表的な構成とし
てあげられる。特に円環状（図５）あるいは円状の位相
補正板（図７）は、収束光ビームのセンター部の強度が
高いことから好ましく、ビームのサイドローブが小さく
できることから円環状の位相補正板が好ましい。

【００３５】位相補正板をアポダイザーとして用いる場
合について位相補正板の構成を説明する。図５は、円環
状の位相補正板を上から俯瞰した図、図６は断面形状を
示している。位相補正板は、通常は、ガラス基板上に、
誘電体膜を光学厚さで位相差が略πになるように真空蒸
着、スパッター法などで形成した後、エッチングにより
円環状に形成するなどの方法により容易に形成できる
が、ガラスから直接モールディングにより形成するこ
と、ガラス上にフォトレジストを塗布しパターンニング
後、エッチングする方法でも作製できる。

【００３６】ここで、各部の代表的なサイズについて以
下説明する。図５において矢印２９は、本アポダイザー
の開口部の半径を示している。斜線部の円環部２７は、
この場合、位相差πに相当する厚さだけ、周囲の平面部
よりも盛り上がった形状になっている。ここで円環部の
外側の円の半径３０をａ、内側の円の半径３１をｂ、開
口部の半径を１とすると、ａは約０．４から０．５、ｂ
は約０．１５から０．３５の範囲で良好な補正が得られ
ることから好ましい。図７に示す円状の場合には、３３
の半径をｃとするとｃは０．２から０．４の範囲が好ま
しい。図９に示した遮蔽部３６を設けた構成についても
半径３７は０．２以上０．４以下の範囲が好ましい。こ
れらは凸形状のステップ型の断面形状となっているが凸
部の断面を波形にするなどの本質を変えない範囲での形
状の変更は可能である。

【００３７】以下に本発明を構成する光記録媒体につい
て好ましい実施態様を説明する。基本的に液体潤滑剤層
及び／もしくは固体潤滑剤層を最表面に設けることによ
りレンズ、導波路との接触時の媒体面、及び光学系の損
傷を防止することができる。以下具体的に用途に応じた
好ましい光記録媒体構造の態様を列挙する。以下、光の
入射側から順に層構成を記述する。

【００３８】光記録媒体が再生専用である場合には、液
体潤滑剤層／反射層／凹凸ピットを有する基板、固体潤
滑剤層／反射層／凹凸ピットを有する基板、液体潤滑剤
層／固体潤滑剤層／反射層／凹凸ピットを有する基板、
液体潤滑剤層／誘電体層／反射層／凹凸ピットを有する
基板、液体潤滑剤層／固体潤滑剤層／誘電体層／反射層
／凹凸ピットを有する基板などの積層構造を有する光記
録媒体が好ましい。

【００３９】追記型光記録媒体の場合（記録層として相
変化記録層、色素記録層などを用いる）、液体潤滑剤層
／記録層／凹凸ピットまたは／及びトラッキング用グル
ーブを有する基板、液体潤滑剤層／固体潤滑剤層／記録
層／凹凸ピットまたは／及びトラッキング用グルーブを
有する基板、液体潤滑剤層／固体潤滑剤層／誘電体層／
記録層／凹凸ピットまたは／及びトラッキング用グルー
ブを有する基板、または液体潤滑剤層／誘電体層／記録
層／凹凸ピットまたは／及びトラッキング用グルーブを
有する基板などの積層構造を有する光記録媒体が好まし
い。

【００４０】書換型光記録媒体の場合（記録層として相
変化記録層、光磁気記録層などを用いる）、固体または
液体潤滑剤層／第１誘電体層／記録層／第２誘電体層／
反射層／基板、固体または液体潤滑剤層／記録層／第２
誘電体層／反射層／基板、固体または液体潤滑剤層／樹
脂保護層／接着剤層／第１誘電体層／記録層／第２誘電
体層／反射層／基板、固体または液体潤滑剤層／樹脂保
護層／接着剤層／記録層／第２誘電体層／反射層／基板
などの積層構造を有する光記録媒体が好ましい。特に好
ましくは液体潤滑剤層／固体潤滑剤層／第１誘電体層／
記録層／第２誘電体層／反射層／基板もしくは液体潤滑
剤層／固体潤滑剤層／記録層／第２誘電体層／反射層／
基板などの積層構造を有する光記録媒体である。

【００４１】また、光磁気記録層を用いる場合に好まし
い別の態様は、液体潤滑剤層／固体潤滑剤層／第１誘電
体層／記録層／反射層／基板もしくは液体潤滑剤層／固
体潤滑剤層／記録層／反射層／基板である。この場合、
第２誘電体層を省略できるため製造コストが低くでき
る。なお以上のうち、代表的な構成を図１１から図１５
に模式的に示した。

【００４２】以上の書換型光記録媒体の基板は追記型と
同様、フォーマット及び／もしくはトラッキング用の凹
凸プリピットやトラッキング用のグルーブ構造を有する
ことが好ましい。これら凹凸ピット、グルーブ構造は、
表面に形成された記録層、誘電体層、反射層など各層の
薄膜の形成時の残留応力を緩和し、基板のそりなどの変
形を低減する副次的効果を有する。これらの凹凸ピッ
ト、グルーブ深さは、おおむね１／６波長以下、代表的
には１／８波長程度が好ましい。

【００４３】次に、各層の材料、層厚などについて説明
する。液体潤滑剤層については先に述べた通りである
が、好ましい厚さは、真空中の光波長の１／２以下、３
ｎｍ以上である。より好ましくは５ｎｍ以上２００ｎｍ
以下、さらに好ましくは５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であ
る。

【００４４】固体潤滑剤層としては、炭素もしくは窒化
炭素を主成分とする層で構成することが好ましい。具体
的にはアモルファス状態のダイヤモンドライク炭素膜も
しくは窒化炭素膜があげられる。これらの膜は耐久性に
優れると同時にレンズ、あるいは導波路の表面が接触し
た場合にも良好な潤滑性を与える。層厚は、おおむね５
ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。特に、固体潤滑剤層上
に液体潤滑剤層を設けると潤滑効果はさらに改善され
る。

【００４５】第１誘電体層としては、記録、再生に用い
る光の波長域で実質的に透明な誘電体材料を用いる。具
体的には、ＺｎＳ、ＳｉＯ₂、窒化シリコン、酸化アル
ミニウム、アモルファス炭素膜、ダイヤモンド状炭素
膜、炭化シリコンなどの無機薄膜がある。特にＺｎＳの
薄膜、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｔａなどの金属
の酸化物の薄膜、Ｓｉ、Ａｌなどの窒化物の薄膜、Ｓ
ｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆなどの炭化物の薄膜及びこれらの
化合物の混合物の膜が、耐熱性が高いことから好まし
い。また、これらに炭素や、ＭｇＦ₂などのフッ化物を
混合したものも、膜の残留応力が小さいことから好まし
い。特に安定性、耐熱性に優れることからＺｎＳとＳｉ
Ｏ₂の混合物、あるいはさらに炭素を添加した混合物、
窒化シリコンが好ましい。

【００４６】また特に、第１誘電体層が光の入射側の最
表面となる構成においては、第１誘電体層を材質の異な
る複数の誘電体層の積層体で構成し、表面の機械的強度
を向上することが好ましい。またニアフィールドレンズ
であるソリッド・イマージョン・レンズなどによる記録
を行う場合にも潤滑性のある材料で最表面を構成するこ
とが好ましい。特に前述の目的には、第１誘電体層の光
の入射側が、少なくとも炭素もしくは窒化炭素を主体と
する層で構成することが好ましい。

【００４７】ここで、第１誘電体層の厚さが２０ｎｍ以
上、２００ｎｍ以下であることが誘電体層の機械的強度
から好ましい。薄い場合には傷などが発生しやすく、厚
い場合には、生産性の低下、膜応力による反りの発生な
どの問題が生じる。ソリッド・イマージョン・レンズな
どによりニアフィールド光を利用して記録を行う場合に
は、レンズと第１誘電体層の屈折率がほぼ等しいことが
好ましいため、第１誘電体層の屈折率が１．７以上２．
３未満であることが好ましい。

【００４８】また、比較的厚い層による記録膜の保護が
必要な場合には、必要に応じて樹脂保護層を記録層と潤
滑剤層の間に設けることができる。この場合樹脂保護層
は、柔軟性を有する樹脂シートまたは樹脂フィルムで構
成してもよいし、紫外線硬化型の樹脂を塗布して硬化層
としてもよい。これらの層を形成する場合の代表的な厚
さは２０μｍ以上２００μｍ以下である。特に、樹脂シ
ートまたは樹脂フィルムを紫外線硬化樹脂等の接着剤で
接着する方法は、樹脂シート、フィルムの表面を別途、
あらかじめ固体潤滑剤層などを形成しておけることから
好ましい。

【００４９】本発明の記録層としては、再生専用の場合
にはアルミニウム、金、銀などの金属反射膜、追記型の
場合には、相変化記録材料（Ｔｅ低酸化物、ＴｅＳｂＧ
ｅ合金）、色素系記録材料（シアニン系色素など）を用
いることができる。また書換型の場合には同様に、光磁
気記録材料（ＴｂＦｅＣｏ合金など）、相変化光記録材
料（ＴｅＳｂＧｅ合金など）が好適である。特に記録層
として相変化記録材料を用いることは、記録に用いる光
学系が簡素化でき、かつ微小マークの記録においても大
きな再生信号が得られることから好ましい。

【００５０】前述の相変化記録に用いる記録層の組成と
しては、ゲルマニウム、アンチモン、インジウム、銀、
パラジウム、白金、金、コバルト、クロム、ニオブ、ニ
ッケルから選ばれた少なくとも２種以上の金属とテルル
を含有する組成が記録特性、記録マークの安定性、可逆
性に優れることから好ましい。例えば、Ｐｄ−Ｇｅ−Ｓ
ｂ−Ｔｅ合金、Ｎｂ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｎｉ−Ｇ
ｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｃｏ−Ｇ
ｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ａｇ−Ｉ
ｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｉｎ−Ｓｅ合金などがある。多数
回の記録の書換が可能であることからＰｄ−Ｇｅ−Ｓｂ
−Ｔｅ合金、Ｎｂ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｇｅ−Ｓｂ
−Ｔｅ合金、Ｃｏ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金が特に好まし
いものである。

【００５１】特にＰｄ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｎｂ−
Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金は、消去時間が短く、かつ多数回
の記録、消去の繰り返しが可能であり、Ｃ／Ｎ、消去率
などの記録特性に優れることからことから好ましい。

【００５２】本発明の記録層の厚さとしては、特に限定
するものではないが１０〜１００ｎｍである。特に記
録、消去感度が高く、多数回の記録消去が可能であるこ
とから１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下、さらには１０ｎｍ以
上３０ｎｍ以下とすることが好ましい。

【００５３】特に記録層の組成が下記の組成式で表され
る組成であることが前述の特性に優れることからより好
ましい。

【００５４】組成式Ｍ_z（Ｓｂ_xＴｅ_1-x）_1-y-z（Ｇｅ_0.5Ｔｅ_0.5）_y ０．３５≦ｘ≦０．５０．２≦ｙ≦０．５０．０００５≦Ｚ≦０．００５ここで、Ｍはパラジウム、ニオブ、白金、銀、金、コバ
ルトから選ばれる少なくとも一種の金属を表す。また
ｘ、ｙ、ｚ及び数字は、各元素の原子の数（各元素のモ
ル数）を表す。

【００５５】本発明の第２誘電体層としては、第１誘電
体層と同様の材料が好適である。第２誘電体層の材質は
第１誘電体層と同じであっても良いし、異なっていても
よい。第２の誘電体層の厚さは５ｎｍ以上８０ｎｍ以
下、より好ましくは５ｎｍ以上、３０ｎｍ以下、さらに
は１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることが記録特性が良
好であることから好ましい。

【００５６】本発明の反射層の材質としては、光反射性
を有するＡｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕなどの金属、およびこ
れらの合金、および金属と金属酸化物、金属窒化物、金
属炭化物などの金属化合物の混合物が好ましく、特にＡ
ｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕなどの高反射率の金属、およびこ
れらを主成分として８０原子％以上含有する合金が好ま
しい。また。必要に応じて高い屈折率を有するＳｉ、Ｇ
ｅなどの半導体材料を用いてもよい。代表的な層の厚さ
はおおむね５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。

【００５７】前述の反射層用の合金の例としては、Ａｌ
にＳｉ、Ｍｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｔａ、
Ｃｒ、Ｎｂ、Ｍｎなどの少なくとも１種の元素を合計で
５原子％以下、０．５原子％以上加えたもの、あるい
は、ＡｕにＣｒ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｎｉなどの
少なくとも１種の元素を合計で２０原子％以下１原子％
以上加えたものなどがある。特に、材料の価格が安くで
きることから、Ａｌを主成分とする合金が好ましい。

【００５８】とりわけ、Ａｌ合金としては、耐腐食性が
良好なことから、ＡｌにＴｉ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｈｆから選
ばれる少なくとも１種以上の金属を合計で５原子％以下
０．５原子％以上添加し、Ｐｄを０．０５原子％以上
０．５原子％以下加えた合金が好ましい。

【００５９】本発明の基板としては、ガラス基板、樹脂
基板を用いることができる。ポリカーボネート、ポリオ
レフィン、ポリイミド、ポリアミド、ポリフェニレンサ
ルファイド、ポリエチレンテレフタレートから選ばれた
少なくとも一種の樹脂基板を用いることがコストが低
く、加工が容易なことから好ましい。

【００６０】基板の厚さは、０．００３ｍｍ〜５ｍｍが
実用的である。０．００３ｍｍ未満では、記録層などを
真空薄膜形成法で形成することが取り扱い上難しくな
る。また５ｍｍ以上では媒体の重量が重くなる。

【００６１】安価な光フロッピーなどを作製する場合に
は、基板が柔軟性を有する厚さ１０μｍ以上、２００μ
ｍ以下の樹脂フィルムもしくはシートを基板とすること
が好ましい。この場合、相変化記録媒体であれば、基板
を構成する樹脂の熱変形温度が１５０℃以上である基板
を用いれば、初期化（結晶化）をオーブンなどの加熱手
段で簡便に行えることから好ましい。このような樹脂と
してはポリイミド、ポリアミド樹脂が代表的なものであ
る。

【００６２】特に相変化記録媒体の場合には、記録感度
が高く、高速でシングルビーム・オーバーライトが可能
であり、かつ消去率が大きく消去特性が良好であること
から、次のごとく、光記録媒体の主要部を構成すること
が好ましい。

【００６３】すなわち、光の入射側から見て、厚さ５ｎ
ｍ以上５０ｎｍ以下の液体潤滑剤層、固体潤滑剤層とし
て厚さ５ｎｍ以上１００ｎｍ以下の炭素膜とその下部の
厚さ２０ｎｍ以上２００ｎｍ以下のＺｎＳとＳｉＯ₂と
炭素の混合膜からなる第１誘電体層、厚さ１０ｎｍ〜３
０ｎｍの記録層、厚さ１０ｎｍ〜３０ｎｍの第２誘電体
層、厚さ５０ｎｍ〜２００ｎｍの反射層、基板の順の積
層体で構成することが好ましい。

【００６４】本発明の光記録媒体の記録に用いる光源と
しては、レーザー光のごとき高強度の光源であり、特に
半導体レーザー光は、光源が小型化できること消費電力
が小さいこと、変調が容易であることから好ましい。

【００６５】最後に本発明の各層の形成方法について説
明する。誘電体層、記録層、反射層の形成は従来と同様
にスパッタ法などの真空薄膜形成法により形成できる。
樹脂保護層は、紫外線硬化型の樹脂の場合であれば、ス
ピンコート法で塗布した後、紫外線で硬化すればよい。
また溶剤で樹脂を溶解した後塗布することも可能であ
る。また樹脂保護層が樹脂シート、フィルムである場合
には、紫外線硬化樹脂の接着剤を用いて貼ることが可能
である。

【００６６】本発明の他の構成要素である半導体レーザ
ーやビームスプリッター、検出系のフォトダイオード、
及びこれらの光学的な配置は従来の再生専用のＣＤやＤ
ＶＤ装置、相変化光ディスク及び光磁気ディスク用の書
換型光ディスク装置の公知の技術を適用できる。

【００６７】

【実施例】

（実施例１）厚さ０．６ｍｍ、直径１２ｃｍのポリカー
ボネートディスク基板上にＲＦスパッタ法により、アル
ゴンガス圧力０．２Ｐａの条件下で、基板を自公転させ
た状態で、Ａｌ−Ｈｆ−Ｐｄ合金の反射層を厚さ１５０
ｎｍ形成し、さらにＺｎＳとＳｉＯ₂の混合物（ＳｉＯ₂
２０ｍｏｌ％）の第２誘電体層を厚さ１６ｎｍ、Ｐｄ
_0.002Ｇｅ_0.17Ｓｂ_0.27Ｔe_0.56（ｍｏｌ比）の記録層を
厚さ１９ｎｍ、ＺｎＳとＳｉＯ₂の混合物（ＳｉＯ₂ ２
０ｍｏｌ％）の誘電体層を厚さ１４０ｎｍ、アモルファ
ス状炭素膜を２５ｎｍ形成した後、レーザ光により記録
層の記録領域全面を結晶化し、最表面にパーフルオロア
ルキルエチレン（Rf-CH=CH₂, Rf;C₆F₁₃〜C₁₂F₂₅）をス
ピンコーターで膜厚約１０ｎｍ（膜厚測定はエリプソメ
トリー法）に塗布し、本発明の光記録媒体を作製した。

【００６８】（実施例２）厚さ０．０７５ｍｍ、直径１
２ｃｍのポリイミド樹脂フィルム上にＲＦスパッタ法に
より、アルゴンガス圧力０．２Ｐａの条件下で、基板を
自公転させた状態で、Ａｌ−Ｈｆ−Ｐｄ合金の反射層を
厚さ１２０ｎｍ形成し、さらにＺｎＳとＳｉＯ₂の混合
物（ＳｉＯ₂ ２０ｍｏｌ％）の第２誘電体層を厚さ１２
ｎｍ、Ｐｄ₀ _.002Ｇｅ_0.17Ｓｂ_0.27Ｔｅ_0.56（ｍｏｌ
比）の記録層を厚さ２０ｎｍ、ＺｎＳとＳｉＯ₂の混合
物（ＳｉＯ₂ ２０ｍｏｌ％）の誘電体層を厚さ２５ｎ
ｍ、アモルファス状炭素膜の誘電体層を２５ｎｍ形成し
た。さらにフィルムの反対側の面に同一構成の記録面を
スパッタ法で形成した。この後、このフィルムをオーブ
ン中で２００℃に５分間加熱し、記録層の全面を結晶化
させた後、自然冷却し、最表面にパーフルオロアルキル
エチレン（Rf-CH=CH₂, Rf;C₆F₁₃ 〜C₁₂F₂₅）をスピンコ
ーターで膜厚約１０ｎｍ（膜厚測定はエリプソメトリー
法）に塗布し、本発明の記録媒体を作製した。

【００６９】（実施例３）実施例１の光記録媒体と同構
成の光記録媒体の最表面の炭素膜上に、スピンコート法
によりアクリル系紫外線硬化樹脂（ＳＤ１０１大日本
インキ（株）製）を塗布し、紫外線照射により硬化し
て、膜厚０．０１０ｍｍの樹脂保護層を形成し、最表面
にパーフルオロアルキルエチレン（Rf-CH=CH₂, Rf;C₆F
₁₃ 〜C₁₂F₂₅）をスピンコーターで膜厚約１０ｎｍ（膜
厚測定はエリプソメトリー法）に塗布し、本発明の光記
録媒体を作製した。

【００７０】

【発明の効果】本発明の光記録装置によれば焦点深度が
大きく、動作安定性、組立精度の許容度の高い光記録装
置が得られるまた、ニアフィールドレンズなどで記録し
ても傷の付きにくい光記録装置が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光記録装置の模式図である

【図２】従来の技術のレンズの模式図である

【図３】本発明のニアフィールドレンズと光記録媒体
の模式図である

【図４】本発明の光記録装置の別の様態を示す模式図
である

【図５】本発明の光記録装置のアポダイザーの模式図
である

【図６】図５に示したアポダイザーの断面の模式図で
ある

【図７】本発明の光記録装置のアポダイザーの模式図
である

【図８】図７に示したアポダイザーの断面の模式図で
ある

【図９】本発明の光記録装置のアポダイザーの模式図
である

【図１０】図９に示したアポダイザーの断面の模式図
である

【図１１】本発明の光記録媒体の一例の断面の模式図
である

【図１２】本発明の光記録媒体の別の一例の断面の模
式図である

【図１３】本発明の光記録媒体の別の一例の断面の模
式図である

【図１４】本発明の光記録媒体の別の一例の断面の模
式図である

【図１５】本発明の光記録媒体の別の一例の断面の模
式図である

【符号の説明】

１：液体潤滑剤２：コリメーターレンズ３：ソリッド・イマージョン・レンズ４：ビームスプリッター５：フォトダイオード６：半導体レーザー７：レーザー駆動回路８：光記録媒体９：記録層１０：固体潤滑剤層１１：光記録媒体の表面１２：本発明のレンズ１３：従来のレンズ１４：コリメートされた光１５：光記録媒体表面の入射光ビームの直径：ｄ１６：曲率半径：ｒ１７：収束ビームの広がり角度θ １８：アポダイザー１９：コリメーターレンズ２０：ソリッド・イマージョン・レンズ２１：ビームスプリッター２２：フォトダイオード２３：半導体レーザー２４：レーザー駆動回路２５：光記録媒体２６：円環状位相補正板の断面２７：円環部２８：開口部２９：開口部の半径３０：円環部の外周円の半径３１：円環部の内周円の半径３２：円状位相補正板の断面３３：円状部３４：開口部の半径３５：センターマスクの断面３６：センターマスクの遮蔽部３７：センターマスクの遮蔽部の半径３８：基板３９：反射層４０：第２誘電体層４１：記録層４２：第１誘電体層４３：固体潤滑剤層４４：樹脂保護層４５：接着剤（紫外線硬化樹脂）４６：樹脂保護層（樹脂フィルム）４７：液体潤滑剤層４８：光の入射方向

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＧ１１Ｂ 7/24 ５２６Ｇ１１Ｂ 7/24 ５２６Ｎ５２６Ｊ５３４５３４Ｅ５３４Ｈ５３４Ｚ５３５５３５Ａ５３５Ｇ５３５Ｊ 11/10 ５２１ 11/10 ５２１Ｄ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光源と光記録媒体とを有し、該光源からの
光を光学系を通して該光記録媒体に照射することによっ
て、情報の記録または再生を行う光記録装置において、
該光記録媒体が光学系側の最表面に潤滑剤層を設けたも
のであり、かつ、該光学系が、該光記録媒体に接触また
は近接するニアフィールドレンズを有していることを特
徴とする光記録装置。
【請求項２】光源と光記録媒体とを有し、該光源からの
光を光学系を通して該光記録媒体に照射することによっ
て、情報の記録または再生を行う光記録装置において、
該光記録媒体が光学系側の最表面に潤滑剤層を設けたも
のであり、かつ、該光学系が、該光記録媒体に接触また
は近接する微小開口を有する光導波路を有していること
を特徴とする光記録装置。
【請求項３】光源と光記録媒体とを有し、該光源からの
光を光学系を通して該光記録媒体に照射することによっ
て、情報の記録または再生を行う光記録装置において、
該光学系が、少なくとも、光源側に位置するコリメータ
ーレンズと、該光記録媒体に接触または近接する実効開
口数が０．８以上２以下のニアフィールドレンズを有す
ることを特徴とする光記録装置。
【請求項４】ニアフィールドレンズが、ソリッド・イマ
ージョン・レンズ、スティグマティック・フォーカシン
グ・ソリッド・イマージョンレンズもしくは、液浸レン
ズのいずれかである請求項１または請求項３の光記録装
置。
【請求項５】ニアフィールドレンズの光源側の面および
光記録媒体側の面のいずれもが球面である請求項１また
は請求項３の光記録装置。
【請求項６】光記録媒体の光の入射側の表面上の入射光
ビームの外周上での媒体表面とレンズ面の距離が１０ｎ
ｍ以上２００ｎｍ以下である請求項５記載の光記録装
置。
【請求項７】ニアフィールドレンズが酸化アルミニウム
を主成分とする材料からなる請求項１または請求項３記
載の光記録装置。
【請求項８】光記録媒体が、少なくとも潤滑剤層/記録
層/誘電体層/反射層/基板をこの順に積層したものであ
る請求項１ないし請求項７のいずれかに記載の光記録装
置。
【請求項９】光記録媒体が、少なくとも潤滑剤層/第１
誘電体層/記録層/第２誘電体層/反射層/基板をこの順に
積層したものである請求項８記載の光記録装置。
【請求項１０】記録層と潤滑剤層の間に樹脂保護層を設
けた請求項８記載の光記録装置。
【請求項１１】潤滑剤層が液体潤滑剤層である請求項８
記載の光記録装置。
【請求項１２】潤滑剤層が固体潤滑剤層である請求項８
記載の光記録装置。
【請求項１３】潤滑剤層が固体潤滑剤層上に液体潤滑剤
層を設けたものである請求項８記載の光記録装置。
【請求項１４】液体潤滑剤層の厚さが記録もしくは再生
に用いる光の真空中の波長の１／２以下かつ３ｎｍ以上
である請求項１１または請求項１３記載の光記録装置。
【請求項１５】液体潤滑剤層が、ポリフルオロエーテ
ル、ポリフルオロエステル、フルオロアルキルエチレ
ン、フルオロアルキルエタノールの少なくとも１種を含
有する請求項１１または請求項１３記載の光記録装置。
【請求項１６】固体潤滑剤層が、炭素もしくは窒化炭素
を主成分とする層で構成されている請求項１２または請
求項１３記載の光記録装置。
【請求項１７】記録層が相変化記録材料、もしくは光磁
気記録材料からなる記請求項８載の光記録装置。
【請求項１８】記録層が、ゲルマニウム、アンチモン、
インジウム、銀、パラジウム、白金、金、コバルト、ク
ロム、ニオブ、ニッケルから選ばれた少なくとも２種以
上の金属とテルルを含有する相変化記録層である請求項
１７記載の光記録装置。
【請求項１９】第１誘電体層の厚さが２０ｎｍ以上、２
００ｎｍ以下である記請求項９載の光記録装置。
【請求項２０】基板が、ポリカーボネート、ポリオレフ
ィン、ポリイミド、ポリアミド、ポリフェニレンサルフ
ァイド、ポリエチレンテレフタレートから選ばれた少な
くとも一種の樹脂である請求項８記載の光記録装置。
【請求項２１】基板が柔軟性を有する厚さ１０μｍ以
上、２００μｍ以下の樹脂フィルムもしくはシートから
なる請求項８記載の光記録装置。
【請求項２２】前記光学系が、コリメーターレンズを有
しており、かつ、該コリメーターレンズの光源側もしく
は光記録媒体側にアポダイザーを設けた請求項１ないし
請求項２１のいずれかに記載の光記録装置。
【請求項２３】アポダイザーが輪帯開口、もしくは円状
または円環状の位相差板を備える請求項２２記載の光記
録装置。
【請求項２４】アポダイザーが円状の位相補正板からな
る請求項２２記載の光記録装置。
【請求項２５】アポダイザーが円環状の位相補正板から
なる請求項２２記載の光記録装置。
【請求項２６】アポダイザーをコリメーターレンズの光
源側に設けた請求項２２記載の光記録装置。
【請求項２７】基板上に形成された記録層に光を照射
することによって、情報の記録または再生が可能である
光記録媒体において、少なくとも潤滑剤層／記録層／第
２誘電体層／反射層／基板をこの順に積層したものであ
る光記録媒体。
【請求項２８】光記録媒体が、少なくとも潤滑剤層/第
１誘電体層/記録層/第２誘電体層/反射層/基板をこの順
に積層したものである請求項２７記載の光記録媒体。
【請求項２９】記録層と潤滑剤層の間に樹脂保護層を設
けた請求項２７記載の光記録媒体。
【請求項３０】潤滑剤層が液体潤滑剤層である請求項２
７記載の光記録媒体。
【請求項３１】潤滑剤層が固体潤滑剤層である請求項２
７記載の光記録媒体。
【請求項３２】潤滑剤層が固体潤滑剤層上に液体潤滑剤
層を設けたものである請求項２７記載の光記録媒体。
【請求項３３】液体潤滑剤層の厚さが記録もしくは再生
に用いる光の真空中の波長の１／２以下かつ３ｎｍ以上
である請求項３０または請求項３２記載の光記録媒体。
【請求項３４】液体潤滑剤層が、ポリフルオロエーテ
ル、ポリフルオロエステル、フルオロアルキルエチレ
ン、フルオロアルキルエタノールの少なくとも１種を含
有する請求項３０または請求項３２記載の光記録媒体。
【請求項３５】固体潤滑剤層が、少なくとも炭素もしく
は窒化炭素を主成分とする層で構成されている請求項３
１または請求項３２記載の光記録媒体。
【請求項３６】記録層が相変化記録材料、もしくは光磁
気記録材料からなる記請求項２７載の光記録媒体。
【請求項３７】記録層が、ゲルマニウム、アンチモン、
インジウム、銀、パラジウム、白金、金、コバルト、ク
ロム、ニオブ、ニッケルから選ばれた少なくとも２種以
上の金属とテルルを含有する相変化記録層である請求項
３６記載の光記録媒体。