JP2002190136A - 光情報媒体 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 耐擦傷性に優れ、十分な防汚性をもつ光情報
媒体を提供する。 【解決手段】 光学的に記録および／または再生を行う
光情報媒体であって、少なくとも一方の表面に式（１）
で表される撥水性または撥油性基を含むシランカップリ
ング剤の膜５が被覆され、シランカップリング剤の膜５
の接して設けられる下地４の少なくとも表面４２が、式
（２）で表される化学結合をもつ化合物を含有する光情
報媒体である。 Ｒ1−Ｓｉ（Ｘ)(Ｙ)(Ｚ） 式（１） Ｒ1は撥水性または撥油性を有する置換基である。 Ｍ−Ａ （２） Ｍは金属原子（半金属原子を含む。）であり、ＡはＯ、
Ｓ、Ｓｅ、およびＴｅから選択されるカルコゲン原子、
窒素原子または炭素原子である。
媒体を提供する。 【解決手段】 光学的に記録および／または再生を行う
光情報媒体であって、少なくとも一方の表面に式（１）
で表される撥水性または撥油性基を含むシランカップリ
ング剤の膜５が被覆され、シランカップリング剤の膜５
の接して設けられる下地４の少なくとも表面４２が、式
（２）で表される化学結合をもつ化合物を含有する光情
報媒体である。 Ｒ1−Ｓｉ（Ｘ)(Ｙ)(Ｚ） 式（１） Ｒ1は撥水性または撥油性を有する置換基である。 Ｍ−Ａ （２） Ｍは金属原子（半金属原子を含む。）であり、ＡはＯ、
Ｓ、Ｓｅ、およびＴｅから選択されるカルコゲン原子、
窒素原子または炭素原子である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、再生専用光ディス
ク、光記録ディスク等の光情報媒体に関するものであ
る。
ク、光記録ディスク等の光情報媒体に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】現在光情報媒体の光透過層等の光学材料
には成形性、透明性および価格等の点からポリカーボネ
ートやポリメチルメタクリレート系の材料が多く用いら
れている。しかし、このような材料は耐擦傷性が十分で
なく、また高い絶縁性を示すため帯電し易く、保存ある
いは使用中に表面に大量の塵埃を付着し、光学情報の記
録・再生においてエラーを発生するといった問題点を有
している。
には成形性、透明性および価格等の点からポリカーボネ
ートやポリメチルメタクリレート系の材料が多く用いら
れている。しかし、このような材料は耐擦傷性が十分で
なく、また高い絶縁性を示すため帯電し易く、保存ある
いは使用中に表面に大量の塵埃を付着し、光学情報の記
録・再生においてエラーを発生するといった問題点を有
している。
【０００３】このような問題への対策として、透明で且
つ耐擦傷性を有するハードコートを媒体の光透過層表面
に塗布することが一般的に行われている。このような方
法として、最も一般的には、分子中にアクリロイル基等
の重合性官能基を２個以上有する重合硬化性化合物を光
透過層表面に塗布し、紫外線等の活性エネルギー線によ
り硬化させて保護膜を形成する手法が採られている。し
かしながら、これらの紫外線硬化型樹脂を用いた保護膜
は、ポリカーボネートやポリメチルメタクリレート等の
樹脂表面と比較すれば耐摩耗性に優れるものの、達成し
うる耐摩耗性の水準には限界があり、必ずしも使用に際
して十分な耐擦傷性を得ることができない。また、これ
らのハードコートは表面の耐擦傷性の確保のみを目的と
しているため、塵埃や大気中のオイルミスト、または指
紋汚れ等の汚染物質に対する防汚効果を期待することは
できない。
つ耐擦傷性を有するハードコートを媒体の光透過層表面
に塗布することが一般的に行われている。このような方
法として、最も一般的には、分子中にアクリロイル基等
の重合性官能基を２個以上有する重合硬化性化合物を光
透過層表面に塗布し、紫外線等の活性エネルギー線によ
り硬化させて保護膜を形成する手法が採られている。し
かしながら、これらの紫外線硬化型樹脂を用いた保護膜
は、ポリカーボネートやポリメチルメタクリレート等の
樹脂表面と比較すれば耐摩耗性に優れるものの、達成し
うる耐摩耗性の水準には限界があり、必ずしも使用に際
して十分な耐擦傷性を得ることができない。また、これ
らのハードコートは表面の耐擦傷性の確保のみを目的と
しているため、塵埃や大気中のオイルミスト、または指
紋汚れ等の汚染物質に対する防汚効果を期待することは
できない。
【０００４】一方、塵埃等の付着を防ぐために帯電防止
特性が付与され、かつ耐擦傷性を兼ね備えたハードコー
トを基材の記録・再生光入射側に塗布することが提案さ
れている。例えば特開昭６０−２３９９４６号公報およ
び特開昭６１−２７６１４５号公報では帯電防止剤とし
てカチオン系のアミンを添加したり、アニオン系のアル
キルベンゼンスルホン酸塩、非イオン性のポリオール、
アルキルフェノールのエチレンオキサイド、両性系のイ
ミダゾリン型やアラニン型金属塩を添加、特開平３−１
７３９４９号公報ではラウリル化合物等を添加、特開平
４−８０２６７号公報ではチオシアン酸およびアルキレ
ングリコール鎖を有するアニオン性界面活性剤を添加す
る方法がある。これら界面活性剤はいずれも塵埃等の無
機物の汚れを付着させにくくする効果を有する。しかし
ながら、これらの手法は指紋痕や大気中のオイルミスト
等の有機物による汚れに対する防汚性についてはほとん
ど効果がない。さらに、光透過層表面の耐摩耗性という
点においては従来の紫外線硬化型樹脂を用いたハードコ
ートと同水準かそれ以下であり、使用上十分な耐擦傷性
が実現されているものではない。
特性が付与され、かつ耐擦傷性を兼ね備えたハードコー
トを基材の記録・再生光入射側に塗布することが提案さ
れている。例えば特開昭６０−２３９９４６号公報およ
び特開昭６１−２７６１４５号公報では帯電防止剤とし
てカチオン系のアミンを添加したり、アニオン系のアル
キルベンゼンスルホン酸塩、非イオン性のポリオール、
アルキルフェノールのエチレンオキサイド、両性系のイ
ミダゾリン型やアラニン型金属塩を添加、特開平３−１
７３９４９号公報ではラウリル化合物等を添加、特開平
４−８０２６７号公報ではチオシアン酸およびアルキレ
ングリコール鎖を有するアニオン性界面活性剤を添加す
る方法がある。これら界面活性剤はいずれも塵埃等の無
機物の汚れを付着させにくくする効果を有する。しかし
ながら、これらの手法は指紋痕や大気中のオイルミスト
等の有機物による汚れに対する防汚性についてはほとん
ど効果がない。さらに、光透過層表面の耐摩耗性という
点においては従来の紫外線硬化型樹脂を用いたハードコ
ートと同水準かそれ以下であり、使用上十分な耐擦傷性
が実現されているものではない。
【０００５】ところで、有機汚れに対する防汚性を有す
るハードコートとしては、例えば特開平１０−１１０１
１８号公報でハードコート剤中に非架橋型のフッ素系界
面活性剤を練り込むことが提案されている。しかしなが
ら、この手法ではフッ素化合物がハードコート表面のご
く一部にしか露出せず、十分な撥水・撥油性を得ること
ができない。また、撥水・撥油性能を高めるため、多量
のフッ素系界面活性剤をハードコート剤に添加した場
合、ハードコートの硬度の低下、および過剰の界面活性
剤の染み出しによる光学特性の劣化、取り扱い性の低下
をもたらす。
るハードコートとしては、例えば特開平１０−１１０１
１８号公報でハードコート剤中に非架橋型のフッ素系界
面活性剤を練り込むことが提案されている。しかしなが
ら、この手法ではフッ素化合物がハードコート表面のご
く一部にしか露出せず、十分な撥水・撥油性を得ること
ができない。また、撥水・撥油性能を高めるため、多量
のフッ素系界面活性剤をハードコート剤に添加した場
合、ハードコートの硬度の低下、および過剰の界面活性
剤の染み出しによる光学特性の劣化、取り扱い性の低下
をもたらす。
【０００６】このような問題への対策として、特開平１
１−２１３４４４号公報では、従来のポリカーボネート
等の光ディスク基板表面にフッ素系ポリマーを塗布する
手法が挙げられている。この公報では、樹脂製の光ディ
スク基板表面にフッ素系ポリマーを塗布することによっ
て撥水・撥油性を付与している。この方法の場合、ハー
ドコート剤中に潤滑剤等を練り込む方法と異なり、ハー
ドコート膜のほぼ全面にわたり撥水・撥油性化合物が露
出しているので、十分な防汚効果を得ることができる。
しかしながら、この方法ではフッ素系ポリマーは基板表
面に対してファンデルワールス（van der Waals）力に
よって物理吸着しているのみで、極めて密着性が悪い。
従って、フッ素系ポリマーによる処理表面の耐久性に大
きな問題がある。また、特開平６−１８７６６３号公報
ではアクリル系の樹脂表面に撥水・撥油性化合物をカッ
プリング反応処理により被覆することが提案されてい
る。この方法の場合、親水基を含むアクリル系樹脂表面
に、シリル基を有する撥水・撥油性化合物を塗布するこ
とによって、特開平１１−２１３４４４号公報と比較し
て高い密着性を有する防汚性膜を提供することが可能で
ある。
１−２１３４４４号公報では、従来のポリカーボネート
等の光ディスク基板表面にフッ素系ポリマーを塗布する
手法が挙げられている。この公報では、樹脂製の光ディ
スク基板表面にフッ素系ポリマーを塗布することによっ
て撥水・撥油性を付与している。この方法の場合、ハー
ドコート剤中に潤滑剤等を練り込む方法と異なり、ハー
ドコート膜のほぼ全面にわたり撥水・撥油性化合物が露
出しているので、十分な防汚効果を得ることができる。
しかしながら、この方法ではフッ素系ポリマーは基板表
面に対してファンデルワールス（van der Waals）力に
よって物理吸着しているのみで、極めて密着性が悪い。
従って、フッ素系ポリマーによる処理表面の耐久性に大
きな問題がある。また、特開平６−１８７６６３号公報
ではアクリル系の樹脂表面に撥水・撥油性化合物をカッ
プリング反応処理により被覆することが提案されてい
る。この方法の場合、親水基を含むアクリル系樹脂表面
に、シリル基を有する撥水・撥油性化合物を塗布するこ
とによって、特開平１１−２１３４４４号公報と比較し
て高い密着性を有する防汚性膜を提供することが可能で
ある。
【０００７】しかし、上記特開平６−１８７６６３号公
報で例示されているアクリル系樹脂はいずれも、撥水・
撥油性化合物をカップリング反応によって吸着させるた
めに、高分子鎖中に適宜水酸基を有している必要があ
る。このため、アクリル系樹脂の選択の幅が狭くならざ
るを得ない。且つ、ハードコート表面と撥水・撥油性化
合物との十分な密着性を得るためには水酸基の密度を増
やさなければならず、ハードコートの硬度を低下させる
要因となる。また、ハードコート表面をプラズマやコロ
ナ放電処理等の高エネルギー線処理によって高親水化す
る手法もあるが、前記撥水・撥油剤とのカップリング反
応を行うという点では効果が低く、この方法のみによっ
て満足な密着性を得ることは困難である。
報で例示されているアクリル系樹脂はいずれも、撥水・
撥油性化合物をカップリング反応によって吸着させるた
めに、高分子鎖中に適宜水酸基を有している必要があ
る。このため、アクリル系樹脂の選択の幅が狭くならざ
るを得ない。且つ、ハードコート表面と撥水・撥油性化
合物との十分な密着性を得るためには水酸基の密度を増
やさなければならず、ハードコートの硬度を低下させる
要因となる。また、ハードコート表面をプラズマやコロ
ナ放電処理等の高エネルギー線処理によって高親水化す
る手法もあるが、前記撥水・撥油剤とのカップリング反
応を行うという点では効果が低く、この方法のみによっ
て満足な密着性を得ることは困難である。
【０００８】他方、樹脂製の光透過層表面の耐擦傷性を
高める方法として、特開平１１−２０３７２６号公報に
は、紫外線硬化型樹脂からなる光透過層表面に、スパッ
タリング法等の真空成膜法によって、ＳｉＮやＳｉＯか
らなる厚さ数１００nm程度（合計厚）の無機材料の層を
２層以上設ける旨が記載されている。しかしながら、こ
の程度の厚さの無機膜で、実用上十分な耐擦傷性を得る
ことは極めて困難である。
高める方法として、特開平１１−２０３７２６号公報に
は、紫外線硬化型樹脂からなる光透過層表面に、スパッ
タリング法等の真空成膜法によって、ＳｉＮやＳｉＯか
らなる厚さ数１００nm程度（合計厚）の無機材料の層を
２層以上設ける旨が記載されている。しかしながら、こ
の程度の厚さの無機膜で、実用上十分な耐擦傷性を得る
ことは極めて困難である。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、実用
に耐えうる高い耐擦傷性を有する光透過層を具備した光
情報媒体を提供することである。また、前記光透過層ま
たは支持基体に対して、その光透過層表面の耐擦傷性を
損なわずに、オイルミストや指紋等の有機汚れに対する
防汚性（特に、付着した汚れがとれやすいという防汚
性）を付与し、カートリッジ、シェルおよびキャディ等
に収納されずに使用される媒体、すなわち手指が媒体表
面に接触しやすい状態で使用される媒体とした場合で
も、長期に亘って問題なく記録／再生が可能な光情報媒
体を提供することである。さらに、磁界変調型の光磁気
ディスクにおいて、磁気ヘッド側表面の潤滑性および耐
久性を向上させることである。
に耐えうる高い耐擦傷性を有する光透過層を具備した光
情報媒体を提供することである。また、前記光透過層ま
たは支持基体に対して、その光透過層表面の耐擦傷性を
損なわずに、オイルミストや指紋等の有機汚れに対する
防汚性（特に、付着した汚れがとれやすいという防汚
性）を付与し、カートリッジ、シェルおよびキャディ等
に収納されずに使用される媒体、すなわち手指が媒体表
面に接触しやすい状態で使用される媒体とした場合で
も、長期に亘って問題なく記録／再生が可能な光情報媒
体を提供することである。さらに、磁界変調型の光磁気
ディスクにおいて、磁気ヘッド側表面の潤滑性および耐
久性を向上させることである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、光情報媒体の表面保護層について種々の検討を行っ
たところ、光情報媒体の表面に耐擦傷性に優れた光透過
性の樹脂および／または金属（半金属を含む。）化合
物、あるいは硬質カーボン（ＤＬＣ）の層（好ましく
は、支持基体とは異なる。）を設けること、さらには、
光情報媒体の表面に耐擦傷性に優れた下地層（媒体の構
成部材を兼ねるものであってもよい。）を設け、この下
地層表面に、密着性に優れた撥水・撥油性膜を塗布する
ことが有効であることが判明した。
に、光情報媒体の表面保護層について種々の検討を行っ
たところ、光情報媒体の表面に耐擦傷性に優れた光透過
性の樹脂および／または金属（半金属を含む。）化合
物、あるいは硬質カーボン（ＤＬＣ）の層（好ましく
は、支持基体とは異なる。）を設けること、さらには、
光情報媒体の表面に耐擦傷性に優れた下地層（媒体の構
成部材を兼ねるものであってもよい。）を設け、この下
地層表面に、密着性に優れた撥水・撥油性膜を塗布する
ことが有効であることが判明した。
【００１１】すなわち、本発明は以下のとおりである。 （１） 光学的に記録および／または再生を行う光情報
媒体であって、その少なくとも一方の表面に、下記式
（１）で表される、撥水性または撥油性基を含むシラン
カップリング剤の膜が被覆され、前記シランカップリン
グ剤の膜の接して設けられる下地の少なくとも表面が、
下記式（２）で表される化学結合をもつ化合物を含有す
る光情報媒体。 Ｒ1−Ｓｉ（Ｘ)(Ｙ)(Ｚ） （１） ［式（１）において、Ｒ1は撥水性または撥油性を有す
る置換基であり、Ｘ、ＹおよびＺはそれぞれ一価の基で
あり、Ｘ、ＹおよびＺの少なくとも１つは、シラノール
基との重縮合によってＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成しうる
置換基である。］ Ｍ−Ａ （２） ［式（２）において、Ｍは金属原子（半金属原子を含
む。）であり、ＡはＯ、Ｓ、Ｓｅ、およびＴｅから選択
されるカルコゲン原子、窒素原子または炭素原子であ
る。］ （２） 前記シランカップリング剤の被覆される下地表
面が、金属（半金属を含む。）カルコゲナイドの粒子を
含む活性エネルギー線硬化型樹脂を含有し、前記金属カ
ルコゲナイドの粒子の平均粒子径が５００nm以下である
上記（１）の光情報媒体。 （３） 光学的に記録および／または再生を行う光情報
媒体であって、その少なくとも一方の表面に、下記式
（１）で表される、撥水性または撥油性基を含むシラン
カップリング剤の膜が被覆され、前記シランカップリン
グ剤の膜の接して設けられる下地表面が、厚さ１μm 以
下の金属（半金属を含む。）化合物の薄膜で形成され、
前記薄膜が、前記シランカップリング剤の膜と反対側に
設けられた、前記薄膜より厚い金属（半金属を含む。）
化合物を含有する層に接して設けられている光情報媒
体。 Ｒ1−Ｓｉ（Ｘ)(Ｙ)(Ｚ） （１） ［式（１）において、Ｒ1は撥水性または撥油性を有す
る置換基であり、Ｘ、ＹおよびＺはそれぞれ一価の基で
あり、Ｘ、ＹおよびＺの少なくとも１つは、シラノール
基との重縮合によってＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成しうる
基である。］ （４） 前記薄膜に接して設けられている金属（半金属
を含む。）化合物を含有する層が、金属（半金属を含
む。）カルコゲナイド、金属（半金属を含む。）窒化物
および金属（半金属を含む。）炭化物から選択される金
属化合物の粒子を含む活性エネルギー線硬化型樹脂で形
成され、前記金属化合物の粒子の平均粒子径が５００nm
以下である上記（３）の光情報媒体。 （５） 前記薄膜に接して設けられている金属（半金属
を含む。）化合物を含有する層が、加水分解性の金属
（半金属を含む。）化合物を含む組成物から形成された
ものである上記（３）の光情報媒体。 （６） 前記薄膜に接して設けられている金属（半金属
を含む。）化合物を含有する層が、ポリシラザンを含む
組成物から形成されたものである上記（３）の光情報媒
体。 （７） 式（１）中の置換基Ｒ1が、フッ素化炭化水素
系の撥水性または撥油性基である上記（１）〜（６）の
いずれかの光情報媒体。 （８） 式（１）中のＸ、ＹおよびＺの少なくとも１つ
が、ハロゲン、−ＯＨ、−ＯＲ2（ここにＲ2はアルキル
基である。）、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ3、−ＮＨ2および−Ｎ
＝Ｃ＝Ｏから選択される上記（１）〜（７）のいずれか
の光情報媒体。 （９） 支持基体側から光を入射させて記録および／ま
たは再生を行う光情報媒体であって、光入射側に、前記
シランカップリング剤の膜が被覆される上記（１）〜
（８）のいずれかの光情報媒体。 （１０） 支持基体上に記録膜を有し、前記支持基体側
から光を入射させて記録および再生を行い、前記記録膜
側に磁気ヘッドを走行させる磁界変調型の光磁気ディス
クであって、光入射側と磁気ヘッド側とに、前記シラン
カップリング剤の膜が被覆される上記（９）の光情報媒
体。
媒体であって、その少なくとも一方の表面に、下記式
（１）で表される、撥水性または撥油性基を含むシラン
カップリング剤の膜が被覆され、前記シランカップリン
グ剤の膜の接して設けられる下地の少なくとも表面が、
下記式（２）で表される化学結合をもつ化合物を含有す
る光情報媒体。 Ｒ1−Ｓｉ（Ｘ)(Ｙ)(Ｚ） （１） ［式（１）において、Ｒ1は撥水性または撥油性を有す
る置換基であり、Ｘ、ＹおよびＺはそれぞれ一価の基で
あり、Ｘ、ＹおよびＺの少なくとも１つは、シラノール
基との重縮合によってＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成しうる
置換基である。］ Ｍ−Ａ （２） ［式（２）において、Ｍは金属原子（半金属原子を含
む。）であり、ＡはＯ、Ｓ、Ｓｅ、およびＴｅから選択
されるカルコゲン原子、窒素原子または炭素原子であ
る。］ （２） 前記シランカップリング剤の被覆される下地表
面が、金属（半金属を含む。）カルコゲナイドの粒子を
含む活性エネルギー線硬化型樹脂を含有し、前記金属カ
ルコゲナイドの粒子の平均粒子径が５００nm以下である
上記（１）の光情報媒体。 （３） 光学的に記録および／または再生を行う光情報
媒体であって、その少なくとも一方の表面に、下記式
（１）で表される、撥水性または撥油性基を含むシラン
カップリング剤の膜が被覆され、前記シランカップリン
グ剤の膜の接して設けられる下地表面が、厚さ１μm 以
下の金属（半金属を含む。）化合物の薄膜で形成され、
前記薄膜が、前記シランカップリング剤の膜と反対側に
設けられた、前記薄膜より厚い金属（半金属を含む。）
化合物を含有する層に接して設けられている光情報媒
体。 Ｒ1−Ｓｉ（Ｘ)(Ｙ)(Ｚ） （１） ［式（１）において、Ｒ1は撥水性または撥油性を有す
る置換基であり、Ｘ、ＹおよびＺはそれぞれ一価の基で
あり、Ｘ、ＹおよびＺの少なくとも１つは、シラノール
基との重縮合によってＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成しうる
基である。］ （４） 前記薄膜に接して設けられている金属（半金属
を含む。）化合物を含有する層が、金属（半金属を含
む。）カルコゲナイド、金属（半金属を含む。）窒化物
および金属（半金属を含む。）炭化物から選択される金
属化合物の粒子を含む活性エネルギー線硬化型樹脂で形
成され、前記金属化合物の粒子の平均粒子径が５００nm
以下である上記（３）の光情報媒体。 （５） 前記薄膜に接して設けられている金属（半金属
を含む。）化合物を含有する層が、加水分解性の金属
（半金属を含む。）化合物を含む組成物から形成された
ものである上記（３）の光情報媒体。 （６） 前記薄膜に接して設けられている金属（半金属
を含む。）化合物を含有する層が、ポリシラザンを含む
組成物から形成されたものである上記（３）の光情報媒
体。 （７） 式（１）中の置換基Ｒ1が、フッ素化炭化水素
系の撥水性または撥油性基である上記（１）〜（６）の
いずれかの光情報媒体。 （８） 式（１）中のＸ、ＹおよびＺの少なくとも１つ
が、ハロゲン、−ＯＨ、−ＯＲ2（ここにＲ2はアルキル
基である。）、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ3、−ＮＨ2および−Ｎ
＝Ｃ＝Ｏから選択される上記（１）〜（７）のいずれか
の光情報媒体。 （９） 支持基体側から光を入射させて記録および／ま
たは再生を行う光情報媒体であって、光入射側に、前記
シランカップリング剤の膜が被覆される上記（１）〜
（８）のいずれかの光情報媒体。 （１０） 支持基体上に記録膜を有し、前記支持基体側
から光を入射させて記録および再生を行い、前記記録膜
側に磁気ヘッドを走行させる磁界変調型の光磁気ディス
クであって、光入射側と磁気ヘッド側とに、前記シラン
カップリング剤の膜が被覆される上記（９）の光情報媒
体。
【００１２】（１１） 支持基体上に膜体を有し、前記
支持基体側または前記膜体側から光を入射させて、光学
的に記録および／または再生を行う光情報媒体であっ
て、光入射側表面が、厚さ１μm 以下の金属（半金属を
含む。）カルコゲナイド、金属（半金属を含む。）窒化
物および金属（半金属を含む。）炭化物から選択される
金属化合物の薄膜で形成され、前記薄膜が、前記光入射
側と反対側に設けられた、前記薄膜より厚い金属（半金
属を含む。）化合物を含有する層に接して設けられてい
る光情報媒体。 （１２） 支持基体上に膜体を有し、前記支持基体側ま
たは前記膜体側から光を入射させて、光学的に記録およ
び／または再生を行う光情報媒体であって、光入射表面
が、厚さ１μm 以下の硬質カーボン（Diamond Like Car
bon）の薄膜で形成され、前記薄膜が、前記光入射側と
反対側に設けられた、前記薄膜より厚い金属（半金属を
含む。）化合物を含有する層に接して設けられている光
情報媒体。 （１３） 前記薄膜に接して設けられている金属（半金
属を含む。）化合物を含有する層が、金属（半金属を含
む。）カルコゲナイド、金属（半金属を含む。）窒化物
および金属（半金属を含む。）炭化物から選択される金
属化合物の粒子を含む活性エネルギー線硬化型樹脂で形
成され、前記金属化合物の粒子の平均粒子径が５００nm
以下である上記（１１）または（１２）の光情報媒体。 （１４） 前記薄膜に接して設けられている金属（半金
属を含む。）化合物を含有する層が、加水分解性の金属
（半金属を含む。）化合物を含む組成物から形成された
ものである上記（１１）または（１２）の光情報媒体。 （１５） 前記薄膜に接して設けられている金属（半金
属を含む。）化合物を含有する層が、ポリシラザンを含
む組成物から形成されたものである上記（１１）または
（１２）の光情報媒体。 （１６） 支持基体上に膜体を有し、前記支持基体側ま
たは前記膜体側から光を入射させて、光学的に記録およ
び／または再生を行う光情報媒体であって、光入射側
に、金属（半金属を含む。）カルコゲナイド、金属（半
金属を含む。）窒化物および金属（半金属を含む。）炭
化物から選択される金属化合物の粒子を含む活性エネル
ギー線硬化型樹脂を少なくとも一部に含有する光透過層
を有し、前記金属化合物の粒子の平均粒子径が５００nm
以下である光情報媒体。 （１７） 前記金属化合物の粒子が前記金属カルコゲナ
イドの粒子である上記（４）、（１３）または（１６）
の光情報媒体。 （１８） 前記金属カルコゲナイドの粒子がシリカ粒子
である上記（２）、（４）、（１３）または（１７）の
光情報媒体。
支持基体側または前記膜体側から光を入射させて、光学
的に記録および／または再生を行う光情報媒体であっ
て、光入射側表面が、厚さ１μm 以下の金属（半金属を
含む。）カルコゲナイド、金属（半金属を含む。）窒化
物および金属（半金属を含む。）炭化物から選択される
金属化合物の薄膜で形成され、前記薄膜が、前記光入射
側と反対側に設けられた、前記薄膜より厚い金属（半金
属を含む。）化合物を含有する層に接して設けられてい
る光情報媒体。 （１２） 支持基体上に膜体を有し、前記支持基体側ま
たは前記膜体側から光を入射させて、光学的に記録およ
び／または再生を行う光情報媒体であって、光入射表面
が、厚さ１μm 以下の硬質カーボン（Diamond Like Car
bon）の薄膜で形成され、前記薄膜が、前記光入射側と
反対側に設けられた、前記薄膜より厚い金属（半金属を
含む。）化合物を含有する層に接して設けられている光
情報媒体。 （１３） 前記薄膜に接して設けられている金属（半金
属を含む。）化合物を含有する層が、金属（半金属を含
む。）カルコゲナイド、金属（半金属を含む。）窒化物
および金属（半金属を含む。）炭化物から選択される金
属化合物の粒子を含む活性エネルギー線硬化型樹脂で形
成され、前記金属化合物の粒子の平均粒子径が５００nm
以下である上記（１１）または（１２）の光情報媒体。 （１４） 前記薄膜に接して設けられている金属（半金
属を含む。）化合物を含有する層が、加水分解性の金属
（半金属を含む。）化合物を含む組成物から形成された
ものである上記（１１）または（１２）の光情報媒体。 （１５） 前記薄膜に接して設けられている金属（半金
属を含む。）化合物を含有する層が、ポリシラザンを含
む組成物から形成されたものである上記（１１）または
（１２）の光情報媒体。 （１６） 支持基体上に膜体を有し、前記支持基体側ま
たは前記膜体側から光を入射させて、光学的に記録およ
び／または再生を行う光情報媒体であって、光入射側
に、金属（半金属を含む。）カルコゲナイド、金属（半
金属を含む。）窒化物および金属（半金属を含む。）炭
化物から選択される金属化合物の粒子を含む活性エネル
ギー線硬化型樹脂を少なくとも一部に含有する光透過層
を有し、前記金属化合物の粒子の平均粒子径が５００nm
以下である光情報媒体。 （１７） 前記金属化合物の粒子が前記金属カルコゲナ
イドの粒子である上記（４）、（１３）または（１６）
の光情報媒体。 （１８） 前記金属カルコゲナイドの粒子がシリカ粒子
である上記（２）、（４）、（１３）または（１７）の
光情報媒体。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の光情報媒体は、その少なくとも一方の表
面に、式（１）で表される、撥水性または撥油性基を含
むシランカップリング剤の膜が被覆されているものであ
り、この膜が被覆され、この膜が接している下地の少な
くとも表面は、Ｓｉ−Ｏ結合等の式（２）で表される化
学結合をもつ化合物を含有するものである。この場合、
上記シランカップリング剤の膜は、その化学吸着反応の
機構から、単分子膜または単分子膜に近い薄膜を形成す
るため、硬度や耐擦傷性といった、力学的な特性に関し
ては、下地層である、式（２）の化学結合部位を含む表
面の性能がそのまま媒体表面に反映されることになる。
従って、このように媒体表面を構成することによって、
光情報媒体表面の耐擦傷性を著しく向上させ、且つこの
耐擦傷性を損なうことなく防汚性の機能を付与すること
ができる。また、同時に防汚性表面に対して高い耐久性
をもたせることが可能になる。すなわち、上記シランカ
ップリング剤は、このカップリング剤が接触する媒体表
面に含まれる化合物中のＳｉ−Ｏ結合等の式（２）で表
される結合部位と化学吸着反応するため、上記シランカ
ップリング剤の膜は下地表面との密着性が強固になると
ともに、上記シランカップリング剤の膜のもつ撥水・撥
油性の機能が発揮され、特に、付着した汚れがとれやす
いという防汚性が得られる。このため、カートリッジや
シェル、あるいはキャディ等に収納されない状態で光情
報媒体を使用する場合においても汚れに対する問題が少
ない。また、Ｓｉ−Ｏ結合等の式（２）の結合部位を含
む下地表面は耐久性が良好で、耐擦傷性に優れたもので
あるため、それとの相乗効果が得られる。また、媒体と
しての性能劣化もない。
する。本発明の光情報媒体は、その少なくとも一方の表
面に、式（１）で表される、撥水性または撥油性基を含
むシランカップリング剤の膜が被覆されているものであ
り、この膜が被覆され、この膜が接している下地の少な
くとも表面は、Ｓｉ−Ｏ結合等の式（２）で表される化
学結合をもつ化合物を含有するものである。この場合、
上記シランカップリング剤の膜は、その化学吸着反応の
機構から、単分子膜または単分子膜に近い薄膜を形成す
るため、硬度や耐擦傷性といった、力学的な特性に関し
ては、下地層である、式（２）の化学結合部位を含む表
面の性能がそのまま媒体表面に反映されることになる。
従って、このように媒体表面を構成することによって、
光情報媒体表面の耐擦傷性を著しく向上させ、且つこの
耐擦傷性を損なうことなく防汚性の機能を付与すること
ができる。また、同時に防汚性表面に対して高い耐久性
をもたせることが可能になる。すなわち、上記シランカ
ップリング剤は、このカップリング剤が接触する媒体表
面に含まれる化合物中のＳｉ−Ｏ結合等の式（２）で表
される結合部位と化学吸着反応するため、上記シランカ
ップリング剤の膜は下地表面との密着性が強固になると
ともに、上記シランカップリング剤の膜のもつ撥水・撥
油性の機能が発揮され、特に、付着した汚れがとれやす
いという防汚性が得られる。このため、カートリッジや
シェル、あるいはキャディ等に収納されない状態で光情
報媒体を使用する場合においても汚れに対する問題が少
ない。また、Ｓｉ−Ｏ結合等の式（２）の結合部位を含
む下地表面は耐久性が良好で、耐擦傷性に優れたもので
あるため、それとの相乗効果が得られる。また、媒体と
しての性能劣化もない。
【００１４】また、シランカップリングの膜との密着性
の良化や耐擦傷性の向上を目的として、上述のような下
地表面のかわりに、２層以上の層で構成された下地層を
設けてもよい。下地層は、シランカップリング剤の膜に
接する側に、金属（半金属を含む。）化合物の薄膜（膜
厚１μm 以下）を表面層として設け、この薄膜に接し
て、シランカップリング剤の膜と反対側に、金属（半金
属を含む。）化合物を含有する層を内部層として設け
る。この場合の内部層は、前記薄膜より厚いものとす
る。また、金属化合物の薄膜である表面層は、金属化合
物を主体とするものであり、好ましくは金属化合物を９
０％（質量百分率）以上含有する。
の良化や耐擦傷性の向上を目的として、上述のような下
地表面のかわりに、２層以上の層で構成された下地層を
設けてもよい。下地層は、シランカップリング剤の膜に
接する側に、金属（半金属を含む。）化合物の薄膜（膜
厚１μm 以下）を表面層として設け、この薄膜に接し
て、シランカップリング剤の膜と反対側に、金属（半金
属を含む。）化合物を含有する層を内部層として設け
る。この場合の内部層は、前記薄膜より厚いものとす
る。また、金属化合物の薄膜である表面層は、金属化合
物を主体とするものであり、好ましくは金属化合物を９
０％（質量百分率）以上含有する。
【００１５】本発明の光情報媒体は、樹脂、ガラス等の
支持基体上に少なくとも記録膜または反射膜を含む１層
ないし複数層の膜体を担持し、この膜体にレーザー等の
光を照射することによって記録および／または再生を行
うものである。
支持基体上に少なくとも記録膜または反射膜を含む１層
ないし複数層の膜体を担持し、この膜体にレーザー等の
光を照射することによって記録および／または再生を行
うものである。
【００１６】光は前記支持基体側から入射させる場合
と、膜体側から入射させる場合とのいずれもが存在しう
る。また、この膜体上に更に、樹脂、ガラス等からなる
支持基体や保護膜を設けてもよく、これらの表面から光
を入射することにより記録・再生を行ってもよい。
と、膜体側から入射させる場合とのいずれもが存在しう
る。また、この膜体上に更に、樹脂、ガラス等からなる
支持基体や保護膜を設けてもよく、これらの表面から光
を入射することにより記録・再生を行ってもよい。
【００１７】本発明は記録・再生光が入射する光透過層
に対して用いられた場合に特に高い効果を示し、磁界変
調型の光磁気ディスクを想定した場合、支持基体側から
光を入射させるのが一般的であり、この光入射側に本発
明を適用して有効であるが、光磁気ディスクの記録膜
側、具体的には記録層の上に被覆された有機保護膜上を
磁気ヘッドが走行することになり、保護膜表面の潤滑性
および耐久性を向上させることが要求される。従って、
光透過層とは反対の面に対しても、本発明は高い効果を
もつ。
に対して用いられた場合に特に高い効果を示し、磁界変
調型の光磁気ディスクを想定した場合、支持基体側から
光を入射させるのが一般的であり、この光入射側に本発
明を適用して有効であるが、光磁気ディスクの記録膜
側、具体的には記録層の上に被覆された有機保護膜上を
磁気ヘッドが走行することになり、保護膜表面の潤滑性
および耐久性を向上させることが要求される。従って、
光透過層とは反対の面に対しても、本発明は高い効果を
もつ。
【００１８】さらに、光情報媒体表面の耐擦傷性等の力
学的強度を得ることを主目的とする場合は、上述のよう
に、シランカップリング剤の膜と併用することなく、少
なくとも光入射側に、金属（半金属を含む。）カルコゲ
ナイドの粒子（平均粒子径５００nm以下）等の金属化合
物の粒子を含む活性エネルギー線硬化型樹脂を少なくと
も一部に含有する光透過層を設けてもよく、本発明では
このような態様も有効である。また、前記の２層以上の
層で構成された下地層を設け、このうちの表面層に相当
するものを、少なくとも光入射側に配置させることも有
効であり、この場合は、前記の表面層の材質の他、硬質
カーボン（ＤＬＣ）膜としてもよい。
学的強度を得ることを主目的とする場合は、上述のよう
に、シランカップリング剤の膜と併用することなく、少
なくとも光入射側に、金属（半金属を含む。）カルコゲ
ナイドの粒子（平均粒子径５００nm以下）等の金属化合
物の粒子を含む活性エネルギー線硬化型樹脂を少なくと
も一部に含有する光透過層を設けてもよく、本発明では
このような態様も有効である。また、前記の２層以上の
層で構成された下地層を設け、このうちの表面層に相当
するものを、少なくとも光入射側に配置させることも有
効であり、この場合は、前記の表面層の材質の他、硬質
カーボン（ＤＬＣ）膜としてもよい。
【００１９】本発明の光情報媒体は、例えば図１および
図２に示すものが挙げられる。
図２に示すものが挙げられる。
【００２０】図１に示す光情報媒体は、支持基体１上
に、記録層２を有し、記録層２上に光透過層３を有す
る。さらに、光透過層３上には下地層４とシランカップ
リング剤の膜５とがこの順で設けられている。下地層４
は、光透過層３側の内部層４１とシランカップリング剤
の膜５側の表面層４２との２層構成である。記録および
／または再生のためのレーザー光は、シランカップリン
グ剤の膜５および下地層４を介して、光透過層３側から
入射する。
に、記録層２を有し、記録層２上に光透過層３を有す
る。さらに、光透過層３上には下地層４とシランカップ
リング剤の膜５とがこの順で設けられている。下地層４
は、光透過層３側の内部層４１とシランカップリング剤
の膜５側の表面層４２との２層構成である。記録および
／または再生のためのレーザー光は、シランカップリン
グ剤の膜５および下地層４を介して、光透過層３側から
入射する。
【００２１】図１の構成において、前述のような本発明
の範囲内での変更が可能であり、シランカップリング剤
の膜５を設ける場合において、表面層４２を設けること
なく、所定の内部層４１を下地層としてもよく、このよ
うな内部層が光透過層３の一部または全部であってもよ
い。また、目的に応じ、シランカップリング剤の膜５を
設けない態様とすることも可能であり、この場合は下地
層４をそのまま媒体表面層とすればよい。このほか、表
面層４２を設けることなく、所定の内部層４１を媒体表
面層としてもよく、このような内部層が光透過層３の一
部または全部であってもよい。
の範囲内での変更が可能であり、シランカップリング剤
の膜５を設ける場合において、表面層４２を設けること
なく、所定の内部層４１を下地層としてもよく、このよ
うな内部層が光透過層３の一部または全部であってもよ
い。また、目的に応じ、シランカップリング剤の膜５を
設けない態様とすることも可能であり、この場合は下地
層４をそのまま媒体表面層とすればよい。このほか、表
面層４２を設けることなく、所定の内部層４１を媒体表
面層としてもよく、このような内部層が光透過層３の一
部または全部であってもよい。
【００２２】一方、図２に示す光情報媒体は、支持基体
１上に記録層２と保護層６とをこの順で有し、支持基体
１の記録層２と反対側の面には下地層４とシランカップ
リング剤の膜５とがこの順に設けられている。下地層４
は、支持基体１側の内部層４１とシランカップリング剤
の膜５側の表面層４２との２層構成である。記録および
／または再生のためのレーザー光は、シランカップリン
グ剤の膜５および下地層４を介して、光透過層を兼ねる
支持基体１側から入射する。
１上に記録層２と保護層６とをこの順で有し、支持基体
１の記録層２と反対側の面には下地層４とシランカップ
リング剤の膜５とがこの順に設けられている。下地層４
は、支持基体１側の内部層４１とシランカップリング剤
の膜５側の表面層４２との２層構成である。記録および
／または再生のためのレーザー光は、シランカップリン
グ剤の膜５および下地層４を介して、光透過層を兼ねる
支持基体１側から入射する。
【００２３】図２の構成においても、図１と同様の変更
が可能である。ただし、支持基体１と内部層４１とは別
部材である方が好ましい。
が可能である。ただし、支持基体１と内部層４１とは別
部材である方が好ましい。
【００２４】本発明の光情報媒体は、図示例に限らず、
種々のものであってよい。
種々のものであってよい。
【００２５】さらに、詳述する。本発明において、撥水
・撥油性シランカップリング剤と併用する態様では、撥
水・撥油性シランカップリング剤の被覆される下地表面
が、Ｓｉ−Ｏ結合等の式（２）で表される化学結合をも
つ化合物を含有する組成、すなわち式（２）で表される
化学結合部位を含む組成物とする必要がある。 Ｍ−Ａ （２） 式（２）において、Ｍは金属原子（半金属原子を含
む。）であり、ＡはＯ、Ｓ、Ｓｅ、およびＴｅから選択
されるカルコゲン原子、窒素原子または炭素原子であ
る。
・撥油性シランカップリング剤と併用する態様では、撥
水・撥油性シランカップリング剤の被覆される下地表面
が、Ｓｉ−Ｏ結合等の式（２）で表される化学結合をも
つ化合物を含有する組成、すなわち式（２）で表される
化学結合部位を含む組成物とする必要がある。 Ｍ−Ａ （２） 式（２）において、Ｍは金属原子（半金属原子を含
む。）であり、ＡはＯ、Ｓ、Ｓｅ、およびＴｅから選択
されるカルコゲン原子、窒素原子または炭素原子であ
る。
【００２６】Ｍで表される金属（半金属を含む。）原子
は、化合物ないし組成物中において酸化数を問わないも
のであり、Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｚｒ等が挙げられ
る。
は、化合物ないし組成物中において酸化数を問わないも
のであり、Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｚｒ等が挙げられ
る。
【００２７】前記シランカップリング剤の化学吸着反応
を良好に進行させるためには、上記の化学結合部位が、
金属原子と酸素等のカルコゲン原子とからなっているこ
とが好ましい。その具体例としては、例えばＳｉ−Ｏ結
合、Ｔｉ−Ｏ結合、Ａｌ−Ｏ結合、Ｚｎ−Ｏ結合、Ｚｒ
−Ｏ結合、およびＺｎ−Ｓ結合などが挙げられる。上記
に掲げた中では、実用的に使用可能な材料の選択の幅が
広いことから、Ｓｉ−Ｏ結合を含む組成物を用いること
が最も好ましい。この場合、Ｓｉ−Ｏ結合を含む組成物
が支持基体または光透過層自体を構成していてもよく、
また、上記Ｓｉ−Ｏ結合を含まない基体または光透過層
の表面にこうした組成物を被覆した形態であってもよ
い。このとき、その組成にもよるが、十分な耐擦傷性を
得る上では、下地層において表面から少なくとも１００
nm、より好ましくは少なくとも５００nmの厚さの表面層
領域がＳｉ−Ｏ結合をもつ化合物で形成されていること
が好ましい。いずれの形態の場合も、前記シランカップ
リング剤の被覆される下地表面がＳｉ−Ｏ結合をもつ化
合物を含有することによって、前記カップリング剤の下
地表面に対する密着性を著しく向上させることができ
る。
を良好に進行させるためには、上記の化学結合部位が、
金属原子と酸素等のカルコゲン原子とからなっているこ
とが好ましい。その具体例としては、例えばＳｉ−Ｏ結
合、Ｔｉ−Ｏ結合、Ａｌ−Ｏ結合、Ｚｎ−Ｏ結合、Ｚｒ
−Ｏ結合、およびＺｎ−Ｓ結合などが挙げられる。上記
に掲げた中では、実用的に使用可能な材料の選択の幅が
広いことから、Ｓｉ−Ｏ結合を含む組成物を用いること
が最も好ましい。この場合、Ｓｉ−Ｏ結合を含む組成物
が支持基体または光透過層自体を構成していてもよく、
また、上記Ｓｉ−Ｏ結合を含まない基体または光透過層
の表面にこうした組成物を被覆した形態であってもよ
い。このとき、その組成にもよるが、十分な耐擦傷性を
得る上では、下地層において表面から少なくとも１００
nm、より好ましくは少なくとも５００nmの厚さの表面層
領域がＳｉ−Ｏ結合をもつ化合物で形成されていること
が好ましい。いずれの形態の場合も、前記シランカップ
リング剤の被覆される下地表面がＳｉ−Ｏ結合をもつ化
合物を含有することによって、前記カップリング剤の下
地表面に対する密着性を著しく向上させることができ
る。
【００２８】Ｓｉ−Ｏ結合をもつ化合物を含有する組成
物としては、ガラスが最も一般的であり、その場合、基
体全体をガラスで構成してもよいが、樹脂上にＳｉＯ2
を主成分とする薄膜をスパッタ等の手法により形成して
もよい。これ以外の例としては、ポリジメチルシロキサ
ン等の、分子鎖中にシロキサン結合を含む樹脂であって
もよく、アルコキシシラン等のカップリング剤を樹脂上
に被覆する手法も用いることができる。また、ポリカー
ボネートやポリメチルメタクリレート等の熱可塑性樹
脂、或いは活性エネルギー線硬化型の樹脂中にシリカ微
粒子を混合させたものも使用することができるが、シリ
カ微粒子を樹脂中に分散させた組成物を光透過層に用い
る場合、この粒子の直径は、平均で、好ましくは５００
nm以下、より好ましくは１００nm以下とすることが望ま
しい。粒子径が５００nmを超えると、多くの光情報媒体
で用いられている記録・再生光の波長に非常に近いか、
それよりも大きくなってしまい、記録や再生の信号に悪
影響を及ぼすことになる。この場合の粒子径の下限に特
に制限はないが、一般に５nm程度である。
物としては、ガラスが最も一般的であり、その場合、基
体全体をガラスで構成してもよいが、樹脂上にＳｉＯ2
を主成分とする薄膜をスパッタ等の手法により形成して
もよい。これ以外の例としては、ポリジメチルシロキサ
ン等の、分子鎖中にシロキサン結合を含む樹脂であって
もよく、アルコキシシラン等のカップリング剤を樹脂上
に被覆する手法も用いることができる。また、ポリカー
ボネートやポリメチルメタクリレート等の熱可塑性樹
脂、或いは活性エネルギー線硬化型の樹脂中にシリカ微
粒子を混合させたものも使用することができるが、シリ
カ微粒子を樹脂中に分散させた組成物を光透過層に用い
る場合、この粒子の直径は、平均で、好ましくは５００
nm以下、より好ましくは１００nm以下とすることが望ま
しい。粒子径が５００nmを超えると、多くの光情報媒体
で用いられている記録・再生光の波長に非常に近いか、
それよりも大きくなってしまい、記録や再生の信号に悪
影響を及ぼすことになる。この場合の粒子径の下限に特
に制限はないが、一般に５nm程度である。
【００２９】光情報媒体として使用することを考慮した
場合、撥水・撥油性シランカップリング剤を被覆する下
地層として、上に例示したＳｉ−Ｏ結合をもつ化合物を
含有する組成物の中では、シリカ微粒子を混合した活性
エネルギー線硬化型樹脂を用いることが最も好ましい。
この場合、加工性および経済性に優れたポリカーボネー
トやポリメチルメタクリレート等の従来公知の樹脂を基
板またはシート状に加工し、これらの表面にシリカ微粒
子を混合した活性エネルギー線硬化型樹脂の塗膜を下地
層として形成したものを用いることが好ましい。これに
より極めて耐久性に優れた光透過層を容易に構成するこ
とができる。
場合、撥水・撥油性シランカップリング剤を被覆する下
地層として、上に例示したＳｉ−Ｏ結合をもつ化合物を
含有する組成物の中では、シリカ微粒子を混合した活性
エネルギー線硬化型樹脂を用いることが最も好ましい。
この場合、加工性および経済性に優れたポリカーボネー
トやポリメチルメタクリレート等の従来公知の樹脂を基
板またはシート状に加工し、これらの表面にシリカ微粒
子を混合した活性エネルギー線硬化型樹脂の塗膜を下地
層として形成したものを用いることが好ましい。これに
より極めて耐久性に優れた光透過層を容易に構成するこ
とができる。
【００３０】また、シリカ微粒子を混合した活性エネル
ギー線硬化型樹脂としては、シリカ微粒子を樹脂組成物
中に単純に分散させたものも用いることができるが、シ
リカ微粒子（好ましくは前記と同じ粒子径のもの）が高
分子鎖に化学的に結合していることが望ましい。これ
は、高分子鎖にシリカ微粒子が化学結合を介して固定さ
れることによって硬化被膜の表面硬度が向上するためで
ある。硬化後の高分子鎖にシリカ微粒子を化学結合させ
る方法としては、例えば特開平９−１００１１１号公報
で提案されている手法を用いることができる。
ギー線硬化型樹脂としては、シリカ微粒子を樹脂組成物
中に単純に分散させたものも用いることができるが、シ
リカ微粒子（好ましくは前記と同じ粒子径のもの）が高
分子鎖に化学的に結合していることが望ましい。これ
は、高分子鎖にシリカ微粒子が化学結合を介して固定さ
れることによって硬化被膜の表面硬度が向上するためで
ある。硬化後の高分子鎖にシリカ微粒子を化学結合させ
る方法としては、例えば特開平９−１００１１１号公報
で提案されている手法を用いることができる。
【００３１】シリカ微粒子を混合した活性エネルギー線
硬化型樹脂としては、紫外線硬化型樹脂があり、固定型
として具体的にはデソライト Ｚ７５０１（日本合成ゴ
ム(株)製）の商品名で市販されているものなどがある。
硬化型樹脂としては、紫外線硬化型樹脂があり、固定型
として具体的にはデソライト Ｚ７５０１（日本合成ゴ
ム(株)製）の商品名で市販されているものなどがある。
【００３２】このような下地層は、光透過層または支持
基体など、光情報媒体の構成部材自体であってもよい
し、あるいはこれらの構成部材の被覆層であってもよ
く、これらの態様を含めて、下地層の厚さは０．１μm
〜１．５mm程度である。
基体など、光情報媒体の構成部材自体であってもよい
し、あるいはこれらの構成部材の被覆層であってもよ
く、これらの態様を含めて、下地層の厚さは０．１μm
〜１．５mm程度である。
【００３３】なお、下地層におけるＳｉ−Ｏ結合の含有
量は、質量百分率で表して１５％以上、さらには２０％
以上であることが好ましい。含有量が少なくなると、下
地層表面の耐摩耗性が得られなくなると同時に、シラン
カップリング剤との密着性が低下し、本発明の効果が得
られなくなる。
量は、質量百分率で表して１５％以上、さらには２０％
以上であることが好ましい。含有量が少なくなると、下
地層表面の耐摩耗性が得られなくなると同時に、シラン
カップリング剤との密着性が低下し、本発明の効果が得
られなくなる。
【００３４】シリカ微粒子を混合した活性エネルギー線
硬化型樹脂は、その製法上、および材料安定性確保の目
的上、有機溶剤によって希釈されていることが一般的で
ある。従って、これらの材料を用いて下地層を形成する
場合には、活性エネルギー線照射前に有機溶剤を十分に
除去しておく必要がある。一般的には、下地層中の有機
溶剤量は、５％（質量百分率）以下であることが好まし
い。
硬化型樹脂は、その製法上、および材料安定性確保の目
的上、有機溶剤によって希釈されていることが一般的で
ある。従って、これらの材料を用いて下地層を形成する
場合には、活性エネルギー線照射前に有機溶剤を十分に
除去しておく必要がある。一般的には、下地層中の有機
溶剤量は、５％（質量百分率）以下であることが好まし
い。
【００３５】有機溶剤を除去するための方法としては、
加熱による方法のほか、下地層をスピンコート法によっ
て形成する場合は、コーティング時に液剤を高速で比較
的長時間振り切ることによって塗布と同時に溶剤除去を
行う方法などが挙げられる。生産性向上の点からはスピ
ンコートによって溶剤除去を兼ねる方法が好ましいが、
下地層の表面硬度および信頼性向上の目的からは、例え
ば加熱乾燥によって溶剤を取り除くことが好ましい。下
地層の塗膜を硬化前に加熱処理することによって、下地
層におけるシリカ微粒子につき厚み方向に密度勾配を持
たせることが可能になるからである。
加熱による方法のほか、下地層をスピンコート法によっ
て形成する場合は、コーティング時に液剤を高速で比較
的長時間振り切ることによって塗布と同時に溶剤除去を
行う方法などが挙げられる。生産性向上の点からはスピ
ンコートによって溶剤除去を兼ねる方法が好ましいが、
下地層の表面硬度および信頼性向上の目的からは、例え
ば加熱乾燥によって溶剤を取り除くことが好ましい。下
地層の塗膜を硬化前に加熱処理することによって、下地
層におけるシリカ微粒子につき厚み方向に密度勾配を持
たせることが可能になるからである。
【００３６】一般的に、互いの相溶性あるいは親和性の
比較的乏しい複数の成分の混合液ないし溶液を薄膜とし
て塗布した場合、高温で長時間放置することによりそれ
ぞれの成分が自己集合することが知られている。本発明
者らの検討によれば、前記のシリカ微粒子を混合した紫
外線硬化型樹脂においても、紫外線照射前に比較的高温
で長時間セッティングを行うことによって、モノマーな
どの有機成分と無機成分であるシリカ微粒子とがそれぞ
れ自己集合する傾向を示すことが見出されている。本発
明では、下地層は光透過層や支持基体等の樹脂材料の表
面に設けられることが一般的であり、このため、セッテ
ィングを経ることで前記紫外線硬化型樹脂中の有機成分
が、これと親和性の高い樹脂製の光透過層あるいは支持
基体との界面近傍に、一方、無機物であるシリカ成分が
下地層表面に自己集合する傾向を示す。すなわち、下地
層の厚み方向にシリカ微粒子が密度勾配を有することに
なり、その結果、密度勾配がない場合に比べて下地層表
面の硬度が向上する。同時に、下地層の表面から光透過
層ないし支持基体側に向かうに従って漸次弾性率が低下
する。従って、シリカ微粒子の密度勾配がない場合と比
較し、光透過層ないし支持基体と下地層との界面におい
て、弾性率や熱膨張係数等の物性値の急激な変化がな
い。このため、故意または無意識的に印加されたディス
クの撓み、あるいは外部温度の急激な変化によって生じ
た内部応力は、光透過層ないし支持基体と下地層との界
面付近において漸次緩和されることになる。従って、こ
のような力学的または熱的な衝撃による下地層表面への
クラックが極めて発生しにくくなる。
比較的乏しい複数の成分の混合液ないし溶液を薄膜とし
て塗布した場合、高温で長時間放置することによりそれ
ぞれの成分が自己集合することが知られている。本発明
者らの検討によれば、前記のシリカ微粒子を混合した紫
外線硬化型樹脂においても、紫外線照射前に比較的高温
で長時間セッティングを行うことによって、モノマーな
どの有機成分と無機成分であるシリカ微粒子とがそれぞ
れ自己集合する傾向を示すことが見出されている。本発
明では、下地層は光透過層や支持基体等の樹脂材料の表
面に設けられることが一般的であり、このため、セッテ
ィングを経ることで前記紫外線硬化型樹脂中の有機成分
が、これと親和性の高い樹脂製の光透過層あるいは支持
基体との界面近傍に、一方、無機物であるシリカ成分が
下地層表面に自己集合する傾向を示す。すなわち、下地
層の厚み方向にシリカ微粒子が密度勾配を有することに
なり、その結果、密度勾配がない場合に比べて下地層表
面の硬度が向上する。同時に、下地層の表面から光透過
層ないし支持基体側に向かうに従って漸次弾性率が低下
する。従って、シリカ微粒子の密度勾配がない場合と比
較し、光透過層ないし支持基体と下地層との界面におい
て、弾性率や熱膨張係数等の物性値の急激な変化がな
い。このため、故意または無意識的に印加されたディス
クの撓み、あるいは外部温度の急激な変化によって生じ
た内部応力は、光透過層ないし支持基体と下地層との界
面付近において漸次緩和されることになる。従って、こ
のような力学的または熱的な衝撃による下地層表面への
クラックが極めて発生しにくくなる。
【００３７】なお、シリカ微粒子が分散された下地層に
密度勾配を持たせる手法としては上記の加熱乾燥に限定
されず，所望の密度勾配が実現できる方法であればどの
ような手法を用いても差し支えない。また、非反応性の
有機溶剤を含まない樹脂材料であっても同様に、硬化前
の加熱処理等によってシリカ微粒子の密度勾配を持たせ
ることが可能である。
密度勾配を持たせる手法としては上記の加熱乾燥に限定
されず，所望の密度勾配が実現できる方法であればどの
ような手法を用いても差し支えない。また、非反応性の
有機溶剤を含まない樹脂材料であっても同様に、硬化前
の加熱処理等によってシリカ微粒子の密度勾配を持たせ
ることが可能である。
【００３８】また、成膜された下地層において実際にシ
リカ微粒子の密度勾配が生じていることを確認する手段
としては、従来公知の各種分析方法を用いればよい。例
えば、表面元素の分析法として一般的なＸ線光電子分光
法（ＸＰＳ）などを用いることができる。なお、下地層
中のシリカ密度の、厚み方向における分布を詳細に知る
ためには、例えばイオンビームスパッタ等によるエッチ
ングと上記表面分析とを併用することが好ましい。また
は、下地層の破断面を露出させ、この破断面を各種元素
分析方法によって観測する方法も用いることができる。
しかしながら、実質的には、加熱乾燥条件等の成膜条件
の異なる各種下地層間の相対比較において表面のシリカ
密度の違いが確認できればよい場合がほとんどであり、
厚み方向のエッチング処理や下地層の断面観察までは必
要としないことが多い。
リカ微粒子の密度勾配が生じていることを確認する手段
としては、従来公知の各種分析方法を用いればよい。例
えば、表面元素の分析法として一般的なＸ線光電子分光
法（ＸＰＳ）などを用いることができる。なお、下地層
中のシリカ密度の、厚み方向における分布を詳細に知る
ためには、例えばイオンビームスパッタ等によるエッチ
ングと上記表面分析とを併用することが好ましい。また
は、下地層の破断面を露出させ、この破断面を各種元素
分析方法によって観測する方法も用いることができる。
しかしながら、実質的には、加熱乾燥条件等の成膜条件
の異なる各種下地層間の相対比較において表面のシリカ
密度の違いが確認できればよい場合がほとんどであり、
厚み方向のエッチング処理や下地層の断面観察までは必
要としないことが多い。
【００３９】なお、シリカ微粒子の密度勾配の望ましい
範囲としては、樹脂中に含まれるシリカ微粒子の含有
量、成膜後の下地層の膜厚、下地層が設けられる光透過
層ないし支持基体の材料物性、および要求される表面硬
度や信頼性等の種々の因子が複雑に絡むため、一義的に
決定することはできない。従って、成膜時の加熱乾燥条
件等において試行錯誤を経ながら経験的に最適なシリカ
密度勾配を決定する必要がある。
範囲としては、樹脂中に含まれるシリカ微粒子の含有
量、成膜後の下地層の膜厚、下地層が設けられる光透過
層ないし支持基体の材料物性、および要求される表面硬
度や信頼性等の種々の因子が複雑に絡むため、一義的に
決定することはできない。従って、成膜時の加熱乾燥条
件等において試行錯誤を経ながら経験的に最適なシリカ
密度勾配を決定する必要がある。
【００４０】上記の、シリカ微粒子が密度勾配を有して
いることは、前記のシリカ微粒子を混合した紫外線硬化
型樹脂を用いて下地層を形成する場合に、必ずしも必須
の特徴として要求されるものではない。上で述べたよう
に、密度勾配の発現による硬度や信頼性の向上と、生産
性との兼ね合いで適宜決定すればよい。
いることは、前記のシリカ微粒子を混合した紫外線硬化
型樹脂を用いて下地層を形成する場合に、必ずしも必須
の特徴として要求されるものではない。上で述べたよう
に、密度勾配の発現による硬度や信頼性の向上と、生産
性との兼ね合いで適宜決定すればよい。
【００４１】本発明で最も好ましいとされるシリカを中
心にして説明してきたが、以上のことは、本発明で好ま
しく用いられる金属カルコゲナイド一般についてあては
まることである。また、式（２）の結合をもつ化合物で
ある金属窒化物（例えばチッ化ケイ素）、金属炭化物
（例えば炭化ケイ素、炭化カルシウム）についても同様
である。
心にして説明してきたが、以上のことは、本発明で好ま
しく用いられる金属カルコゲナイド一般についてあては
まることである。また、式（２）の結合をもつ化合物で
ある金属窒化物（例えばチッ化ケイ素）、金属炭化物
（例えば炭化ケイ素、炭化カルシウム）についても同様
である。
【００４２】一方、撥水・撥油性シランカップリング剤
の膜と下地層との間の密着性や、光透過層表面の耐擦傷
性を更に向上させるために、前記下地層を２層以上から
なる構成としてもよい。すなわち、前記光透過層表面
の、前記シランカップリング剤と接する表面層に、スパ
ッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、
ＣＶＤ法などの真空成膜法によって形成された薄膜を設
け、この薄膜に接して、この薄膜よりも記録層に近い側
に、金属化合物を含有し、且つ、前記薄膜とは組成の異
なる内部層を設け、これら表面層と内部層とから下地層
が構成される態様としてもよい。
の膜と下地層との間の密着性や、光透過層表面の耐擦傷
性を更に向上させるために、前記下地層を２層以上から
なる構成としてもよい。すなわち、前記光透過層表面
の、前記シランカップリング剤と接する表面層に、スパ
ッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、
ＣＶＤ法などの真空成膜法によって形成された薄膜を設
け、この薄膜に接して、この薄膜よりも記録層に近い側
に、金属化合物を含有し、且つ、前記薄膜とは組成の異
なる内部層を設け、これら表面層と内部層とから下地層
が構成される態様としてもよい。
【００４３】具体的には、例えば、前記のシリカ微粒子
を含む活性エネルギー線硬化型樹脂からなる層を、前記
光透過層表面あるいは記録層表面に塗膜形成して内部層
とし、必要に応じ、表面改質処理を施し、この層の表面
に、例えばＳｉＯ2ターゲットを用いてスパッタリング
法により薄膜を形成し、表面層とすることができる。そ
の後、前記表面層の表面に、撥水・撥油性シランカップ
リング剤の膜を形成してやればよい。
を含む活性エネルギー線硬化型樹脂からなる層を、前記
光透過層表面あるいは記録層表面に塗膜形成して内部層
とし、必要に応じ、表面改質処理を施し、この層の表面
に、例えばＳｉＯ2ターゲットを用いてスパッタリング
法により薄膜を形成し、表面層とすることができる。そ
の後、前記表面層の表面に、撥水・撥油性シランカップ
リング剤の膜を形成してやればよい。
【００４４】前記表面層の厚さは、１μm 以下であり、
１０nm以上１μm 以下であることが好ましく、２０nm以
上５００nm以下であることがより好ましい。厚さが１μ
m を超えると、表面層または内部層にクラックなどが生
じるおそれがある。また、薄くなりすぎると、前記表面
層を設けない態様と比較してほとんど耐擦傷性が向上し
ない。
１０nm以上１μm 以下であることが好ましく、２０nm以
上５００nm以下であることがより好ましい。厚さが１μ
m を超えると、表面層または内部層にクラックなどが生
じるおそれがある。また、薄くなりすぎると、前記表面
層を設けない態様と比較してほとんど耐擦傷性が向上し
ない。
【００４５】前記表面層の材料としては、例えば、酸化
ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニ
ウム、窒化ケイ素、窒化チタン、炭化ケイ素、炭化カル
シウムなどが挙げられ、好ましく用いることができる。
ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニ
ウム、窒化ケイ素、窒化チタン、炭化ケイ素、炭化カル
シウムなどが挙げられ、好ましく用いることができる。
【００４６】一方、前記内部層として、上記の、シリカ
微粒子を含む活性エネルギー線硬化型樹脂のほか、例え
ば、加水分解性の金属化合物を含む組成物から形成され
た材料を用いることもできる。具体的には、テトラアル
コキシシラン等の有機ケイ素化合物に塩酸、硫酸等の無
機酸、酢酸等の有機酸を添加して加水分解したものと、
アセチルアセトナート錯体や過塩素酸等の硬化触媒とを
含む溶液から、ゾル−ゲル法によって形成された膜が挙
げられる。
微粒子を含む活性エネルギー線硬化型樹脂のほか、例え
ば、加水分解性の金属化合物を含む組成物から形成され
た材料を用いることもできる。具体的には、テトラアル
コキシシラン等の有機ケイ素化合物に塩酸、硫酸等の無
機酸、酢酸等の有機酸を添加して加水分解したものと、
アセチルアセトナート錯体や過塩素酸等の硬化触媒とを
含む溶液から、ゾル−ゲル法によって形成された膜が挙
げられる。
【００４７】また、ポリシラザンまたはポリシラザンに
由来するシリカ成分を含む材料を、前記内部層として設
けてもよい。ポリシラザンは、一般に、大気中で加熱処
理することによって空気中の水分による加水分解が進行
し、高純度のシリカを形成することが知られている。本
発明においてポリシラザンと総称するものは、Ｓｉ−Ｎ
−Ｓｉ結合を有する低分子量から高分子量の化合物であ
り、例えば以下のようなポリシラザンが挙げられる。す
なわち、（−Ｓｉ（Ｈ）2−ＮＨ−）ｎの構造を有し、
ｎ＝100〜50000である環状無機ポリシラザン、鎖状無機
ポリシラザンまたはこれらの混合物や、これらの無機ポ
リシラザン中のケイ素原子に結合した水素原子の一部ま
たは全部が有機基で置換されたポリオルガノヒドロシラ
ザンを用いることができる。さらに、分子中に酸素を含
有させたポリシロキサザン、金属アルコキシド等を反応
させたポリメタロシラザン、有機ホウ素化合物を反応さ
せたポリボロシラザン等も使用できる。
由来するシリカ成分を含む材料を、前記内部層として設
けてもよい。ポリシラザンは、一般に、大気中で加熱処
理することによって空気中の水分による加水分解が進行
し、高純度のシリカを形成することが知られている。本
発明においてポリシラザンと総称するものは、Ｓｉ−Ｎ
−Ｓｉ結合を有する低分子量から高分子量の化合物であ
り、例えば以下のようなポリシラザンが挙げられる。す
なわち、（−Ｓｉ（Ｈ）2−ＮＨ−）ｎの構造を有し、
ｎ＝100〜50000である環状無機ポリシラザン、鎖状無機
ポリシラザンまたはこれらの混合物や、これらの無機ポ
リシラザン中のケイ素原子に結合した水素原子の一部ま
たは全部が有機基で置換されたポリオルガノヒドロシラ
ザンを用いることができる。さらに、分子中に酸素を含
有させたポリシロキサザン、金属アルコキシド等を反応
させたポリメタロシラザン、有機ホウ素化合物を反応さ
せたポリボロシラザン等も使用できる。
【００４８】なお、前記内部層材料は、表面層と異な
り、無機成分のほかに有機成分も同時に含まれているこ
とが好ましい。上記に例示した組成物においては、シリ
カ微粒子を含む活性エネルギー線硬化型樹脂のほか、ア
ルコキシシランやポリシラザンから形成されるケイ素化
合物において、硬化前の材料として、あらかじめ、ケイ
素原子が長鎖炭化水素等の有機置換基を有している化合
物を用いることができる。
り、無機成分のほかに有機成分も同時に含まれているこ
とが好ましい。上記に例示した組成物においては、シリ
カ微粒子を含む活性エネルギー線硬化型樹脂のほか、ア
ルコキシシランやポリシラザンから形成されるケイ素化
合物において、硬化前の材料として、あらかじめ、ケイ
素原子が長鎖炭化水素等の有機置換基を有している化合
物を用いることができる。
【００４９】このような、無機成分と有機成分とを併せ
もつ組成物を内部層とすることにより、内部層と表面層
との高い密着性が得られるとともに、内部層と光透過層
樹脂との間の密着性も著しく向上させることが可能とな
る。なお、本発明において、無機成分と有機成分とを併
せもつ組成物とは、上に例示したように、無機化合物と
有機化合物との混合物であってもよく、例えば高分子化
合物中に、ＳｉＯ−Ｓｉ等の無機結合と、Ｓｉ−Ｒ（Ｒ
は例えば炭化水素基である）等の有機置換基とを有する
物質でもよく、それらのいずれもが包含される。
もつ組成物を内部層とすることにより、内部層と表面層
との高い密着性が得られるとともに、内部層と光透過層
樹脂との間の密着性も著しく向上させることが可能とな
る。なお、本発明において、無機成分と有機成分とを併
せもつ組成物とは、上に例示したように、無機化合物と
有機化合物との混合物であってもよく、例えば高分子化
合物中に、ＳｉＯ−Ｓｉ等の無機結合と、Ｓｉ−Ｒ（Ｒ
は例えば炭化水素基である）等の有機置換基とを有する
物質でもよく、それらのいずれもが包含される。
【００５０】さらに、内部層と記録層との間に樹脂製の
光透過層が設けられる場合は、光透過層と表面層との間
に中間層が設けられた構成となるため、樹脂製の光透過
層の表面に直接無機物のみからなる薄膜を設けた場合に
発生するおそれの高い、クラック等を抑制することがで
きる。これは、樹脂製の光透過層と、無機薄膜との界面
で生じる極端な弾性率や熱膨張係数の差が、層間に有機
物と無機物を併せもつ材料が挿入されることで緩和され
るためである。
光透過層が設けられる場合は、光透過層と表面層との間
に中間層が設けられた構成となるため、樹脂製の光透過
層の表面に直接無機物のみからなる薄膜を設けた場合に
発生するおそれの高い、クラック等を抑制することがで
きる。これは、樹脂製の光透過層と、無機薄膜との界面
で生じる極端な弾性率や熱膨張係数の差が、層間に有機
物と無機物を併せもつ材料が挿入されることで緩和され
るためである。
【００５１】また、上記の内部層の厚さは、前記表面層
の厚さよりも厚くすることが好ましい。内部層の厚さは
表面層の１．５〜５０倍程度であることが好ましい。具
体的には０．１μm 以上とすることが好ましく、０．２
μm 以上とすることがより好ましい。内部層の厚さに特
に上限はないが、一般的には３０μm 程度である。
の厚さよりも厚くすることが好ましい。内部層の厚さは
表面層の１．５〜５０倍程度であることが好ましい。具
体的には０．１μm 以上とすることが好ましく、０．２
μm 以上とすることがより好ましい。内部層の厚さに特
に上限はないが、一般的には３０μm 程度である。
【００５２】なお、樹脂製の光透過層表面に、無機化合
物からなる薄膜を２層以上設けることによって表面の耐
擦傷性を高める手法としては、特開平１１−２０３７２
６号公報に開示されている方法がある。提案されている
手法によれば、紫外線硬化型樹脂からなる光透過層表面
に、スパッタリング法等の真空成膜法によって、ＳｉＮ
やＳｉＯからなる厚さ数１００nm程度の無機材料の層を
２層以上設ける。同公報には、このような構成とするこ
とにより、耐擦傷性に優れた表面が得られる旨が記載さ
れている。
物からなる薄膜を２層以上設けることによって表面の耐
擦傷性を高める手法としては、特開平１１−２０３７２
６号公報に開示されている方法がある。提案されている
手法によれば、紫外線硬化型樹脂からなる光透過層表面
に、スパッタリング法等の真空成膜法によって、ＳｉＮ
やＳｉＯからなる厚さ数１００nm程度の無機材料の層を
２層以上設ける。同公報には、このような構成とするこ
とにより、耐擦傷性に優れた表面が得られる旨が記載さ
れている。
【００５３】しかしながら、この程度の厚さの無機膜
で、実用上十分な耐擦傷性を得ることは極めて困難であ
る。実際、同公報の実施例においては、摩耗試験やスチ
ールウール試験等の実用環境に近い方法での耐擦傷性の
評価は行っておらず、下地樹脂層の硬度を反映しにくい
微小硬度を測定しているのみである。さらに、この方法
においては、有機物である紫外線硬化型樹脂の表面に、
直接、無機化合物のみからなる層を設けているため、無
機材料膜と紫外線硬化型樹脂層との間で、十分な密着性
が得られているとは考えにくい。従って、このような光
ディスクを高温環境下に放置した場合などには、容易に
無機膜の剥離やクラックが発生することが予想される。
で、実用上十分な耐擦傷性を得ることは極めて困難であ
る。実際、同公報の実施例においては、摩耗試験やスチ
ールウール試験等の実用環境に近い方法での耐擦傷性の
評価は行っておらず、下地樹脂層の硬度を反映しにくい
微小硬度を測定しているのみである。さらに、この方法
においては、有機物である紫外線硬化型樹脂の表面に、
直接、無機化合物のみからなる層を設けているため、無
機材料膜と紫外線硬化型樹脂層との間で、十分な密着性
が得られているとは考えにくい。従って、このような光
ディスクを高温環境下に放置した場合などには、容易に
無機膜の剥離やクラックが発生することが予想される。
【００５４】ところで、本発明において、下地層を上に
述べたような２層以上の構成とする場合においても、上
述のように、下地層が光透過層または支持基体など、光
情報媒体の構成部材自体であってもよいし、あるいはこ
れらの構成部材の被覆層であってもよい。
述べたような２層以上の構成とする場合においても、上
述のように、下地層が光透過層または支持基体など、光
情報媒体の構成部材自体であってもよいし、あるいはこ
れらの構成部材の被覆層であってもよい。
【００５５】以上、前記下地層を２層以上からなる構成
とする態様に関して、その表面に撥水・撥油性シランカ
ップリング剤の膜を設ける湯合について説明したが、光
情報媒体表面の耐擦傷性を高めることを主な目的とする
場合は、シランカップリング剤の膜と併用することな
く、前記内部層および表面層のみを設ける態様としても
よい。
とする態様に関して、その表面に撥水・撥油性シランカ
ップリング剤の膜を設ける湯合について説明したが、光
情報媒体表面の耐擦傷性を高めることを主な目的とする
場合は、シランカップリング剤の膜と併用することな
く、前記内部層および表面層のみを設ける態様としても
よい。
【００５６】なお、光透過層表面にシランカップリング
剤の膜を設けない場合においては、カップリング剤と表
面層との間での化学反応を考慮する必要がないため、前
記表面層を、硬質カーボン（Diamond Like Carbon=DL
C）からなる薄膜とすることもできる。ＤＬＣ薄膜につ
いても、スパッタリング法やＣＶＤ法等の常法によって
形成してやればよい。膜厚は、前記の表面層と同様であ
り、ＤＬＣ薄膜の硬度は、ビッカース硬度Ｈｖで、好ま
しくは、１３以上である。
剤の膜を設けない場合においては、カップリング剤と表
面層との間での化学反応を考慮する必要がないため、前
記表面層を、硬質カーボン（Diamond Like Carbon=DL
C）からなる薄膜とすることもできる。ＤＬＣ薄膜につ
いても、スパッタリング法やＣＶＤ法等の常法によって
形成してやればよい。膜厚は、前記の表面層と同様であ
り、ＤＬＣ薄膜の硬度は、ビッカース硬度Ｈｖで、好ま
しくは、１３以上である。
【００５７】一方、本発明において、光透過層表面の撥
水・撥油性や潤滑性を特に必要せず、且つ、表面の耐擦
傷性を極端に高める必要もない場合は、光透過層表面
を、金属（半金属を含む。）化合物を含む単層構成とす
る態様も有効である。光情報媒体の使用目的や記録密度
等にもよるが、例えば一部の再生専用タイプの媒体な
ど、実用上は、このような単層構成であっても必要十分
な耐擦傷性が得られる場合が少なくない。
水・撥油性や潤滑性を特に必要せず、且つ、表面の耐擦
傷性を極端に高める必要もない場合は、光透過層表面
を、金属（半金属を含む。）化合物を含む単層構成とす
る態様も有効である。光情報媒体の使用目的や記録密度
等にもよるが、例えば一部の再生専用タイプの媒体な
ど、実用上は、このような単層構成であっても必要十分
な耐擦傷性が得られる場合が少なくない。
【００５８】このような態様とする場合、最も好ましく
は、前記の金属カルコゲナイド、金属窒化物および金属
炭化物から選択される金属化合物の粒子、好ましくは金
属カルコゲナイドの粒子（特に、好ましくはシリカ微粒
子）を含む活性エネルギー線硬化型樹脂を少なくとも一
部（好ましくは表面層）に含有する光透過層を設ける。
なお、ここでいう単層構成とは、金属化合物を含む層が
単一の層からなっていることを意味し、光透過層全体が
単一の層からなっていることを意味しない。例えば、樹
脂製の支持基体表面に、前記のシリカ微粒子を含む活性
エネルギー線硬化型樹脂の層を被覆する態様も包含さ
れ、好ましく適用される。むしろ、樹脂製の支持基体と
は別にシリカ微粒子を含む層を設ける方が、樹脂製の支
持基体に粒子を練り込む場合に比べて、練り込むと支持
基体が厚くなりやすく厚みの自由度がなくなること、粒
子の練り込みが必要になるため通常の樹脂成型法をその
まま用いることができず製造工程が複雑になること、な
どの問題が生じにくい点で有利である。
は、前記の金属カルコゲナイド、金属窒化物および金属
炭化物から選択される金属化合物の粒子、好ましくは金
属カルコゲナイドの粒子（特に、好ましくはシリカ微粒
子）を含む活性エネルギー線硬化型樹脂を少なくとも一
部（好ましくは表面層）に含有する光透過層を設ける。
なお、ここでいう単層構成とは、金属化合物を含む層が
単一の層からなっていることを意味し、光透過層全体が
単一の層からなっていることを意味しない。例えば、樹
脂製の支持基体表面に、前記のシリカ微粒子を含む活性
エネルギー線硬化型樹脂の層を被覆する態様も包含さ
れ、好ましく適用される。むしろ、樹脂製の支持基体と
は別にシリカ微粒子を含む層を設ける方が、樹脂製の支
持基体に粒子を練り込む場合に比べて、練り込むと支持
基体が厚くなりやすく厚みの自由度がなくなること、粒
子の練り込みが必要になるため通常の樹脂成型法をその
まま用いることができず製造工程が複雑になること、な
どの問題が生じにくい点で有利である。
【００５９】なお、表面層、内部層は、それぞれ、一層
構成とされるのが一般的であるが、場合によっては、各
層を多層構成としてもよく、その場合は合計厚を前記範
囲とすればよい。
構成とされるのが一般的であるが、場合によっては、各
層を多層構成としてもよく、その場合は合計厚を前記範
囲とすればよい。
【００６０】本発明において、撥水・撥油性シランカッ
プリング剤と下地層とを併用する態様で用いられる撥水
・撥油性のシランカップリング剤は、式（１）で表され
るものである。
プリング剤と下地層とを併用する態様で用いられる撥水
・撥油性のシランカップリング剤は、式（１）で表され
るものである。
【００６１】Ｒ1−Ｓｉ（Ｘ)(Ｙ)(Ｚ） （１） 式（１）において、Ｒ1は撥水性または撥油性を有する
置換基であり、Ｘ、ＹおよびＺはそれぞれ一価基であ
り、Ｘ、ＹおよびＺの少なくとも１つは、シラノール
（Ｓｉ−ＯＨ）基との間で重縮合反応を起こし、Ｓｉ−
Ｏ−Ｓｉ結合を形成しうる置換基である。シラノール基
と重縮合しうる置換基として、具体的には、ハロゲン、
−ＯＨ、−ＯＲ2（ここにＲ2はアルキル基である。）、
−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ3、−ＮＨ2および−Ｎ＝Ｃ＝Ｏが挙げ
られる。
置換基であり、Ｘ、ＹおよびＺはそれぞれ一価基であ
り、Ｘ、ＹおよびＺの少なくとも１つは、シラノール
（Ｓｉ−ＯＨ）基との間で重縮合反応を起こし、Ｓｉ−
Ｏ−Ｓｉ結合を形成しうる置換基である。シラノール基
と重縮合しうる置換基として、具体的には、ハロゲン、
−ＯＨ、−ＯＲ2（ここにＲ2はアルキル基である。）、
−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ3、−ＮＨ2および−Ｎ＝Ｃ＝Ｏが挙げ
られる。
【００６２】式（１）で表される撥水・撥油性のシラン
カップリング剤において、Ｒ1で表される撥水性または
撥油性基を有する置換基は、この置換基を導入すること
によって、その化合物に撥水性または撥油性を発現させ
るものを指す。撥水性および撥油性は、その物質の表面
自由エネルギーの目安である臨界表面張力（γc／mN
m -1）によって一義的に表すことができる。これは接触
角の実測値から求めることができ、平滑な物質表面の接
触角（θ／rad）を、表面張力既知の数種の飽和炭化水
素液体（表面張力：γl／mNm-1）について測定し、cos
θとγlとのプロットにおいてcosθ=1に外挿した値がγ
cである。ある物質が液体を弾くためには、その物質の
γcが液体の表面張力γlを下回っている必要がある。例
えば、表面組成がメチレン鎖（例えば-CH2-CH2-）から
なっている物質のγcは３１mNm-1であり、従って、温度
２０℃におけるγlが７３mNm-1である水を弾くが、γl
が２８mNm -1であるn-ヘキサデカンに対しては完全に濡
れ、接触角は０度になる。なお、本発明においては、ポ
リカーボネートやポリメチルメタクリレート等の従来の
汎用樹脂よりも高い撥水・撥油性をもたせることを目的
としているため、臨界表面張力γcが３０mNm-1以下であ
ることが好ましい。さらに、実用上優れた防汚性能を発
現させるためには、γcが２５mNm-1以下であることがよ
り好ましい。γcの下限に特に制限はないが、通常６mNm
-1である。
カップリング剤において、Ｒ1で表される撥水性または
撥油性基を有する置換基は、この置換基を導入すること
によって、その化合物に撥水性または撥油性を発現させ
るものを指す。撥水性および撥油性は、その物質の表面
自由エネルギーの目安である臨界表面張力（γc／mN
m -1）によって一義的に表すことができる。これは接触
角の実測値から求めることができ、平滑な物質表面の接
触角（θ／rad）を、表面張力既知の数種の飽和炭化水
素液体（表面張力：γl／mNm-1）について測定し、cos
θとγlとのプロットにおいてcosθ=1に外挿した値がγ
cである。ある物質が液体を弾くためには、その物質の
γcが液体の表面張力γlを下回っている必要がある。例
えば、表面組成がメチレン鎖（例えば-CH2-CH2-）から
なっている物質のγcは３１mNm-1であり、従って、温度
２０℃におけるγlが７３mNm-1である水を弾くが、γl
が２８mNm -1であるn-ヘキサデカンに対しては完全に濡
れ、接触角は０度になる。なお、本発明においては、ポ
リカーボネートやポリメチルメタクリレート等の従来の
汎用樹脂よりも高い撥水・撥油性をもたせることを目的
としているため、臨界表面張力γcが３０mNm-1以下であ
ることが好ましい。さらに、実用上優れた防汚性能を発
現させるためには、γcが２５mNm-1以下であることがよ
り好ましい。γcの下限に特に制限はないが、通常６mNm
-1である。
【００６３】Ｒ1で表される撥水・撥油性基としては、
フッ素化炭化水素基を有する基が好ましく、フッ素化ア
ルキル基、フッ素化アルキレンオキシ基を含むフッ素化
アルキル基などが挙げられる。これらの総炭素数は１〜
１０００が好ましく、直鎖状であっても分岐を有するも
のであってもよいが、直鎖状が好ましい。
フッ素化炭化水素基を有する基が好ましく、フッ素化ア
ルキル基、フッ素化アルキレンオキシ基を含むフッ素化
アルキル基などが挙げられる。これらの総炭素数は１〜
１０００が好ましく、直鎖状であっても分岐を有するも
のであってもよいが、直鎖状が好ましい。
【００６４】このようなフッ素化炭化水素基の具体例と
しては、下記の式（３）、（４）で示されるフッ素化ポ
リオレフィンセグメントや、式（５）、（６）で表され
るフッ素化ポリエーテルセグメントを挙げることができ
る。
しては、下記の式（３）、（４）で示されるフッ素化ポ
リオレフィンセグメントや、式（５）、（６）で表され
るフッ素化ポリエーテルセグメントを挙げることができ
る。
【００６５】 ＣＦ3（ＣＦ2）xＣＨ2ＣＨ2− （３） （ＣＦ3)2ＣＦ（ＣＦ2）xＣＨ2ＣＨ2− （４） ＣＦ3〔ＯＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2〕x（ＯＣＦ2)y− （５） ＣＦ3（ＯＣ2Ｆ4）x（ＯＣＦ2)y− （６） 式（３）〜（６）中のｘ、ｙは正の整数で、いずれも０
〜２００の範囲にあるものが好ましい。これはｘ、ｙが
２００を超えても撥水・撥油性はほとんど向上せず、逆
に各種溶媒への溶解性が悪化することによって塗膜性の
低下をもたらすためである。
〜２００の範囲にあるものが好ましい。これはｘ、ｙが
２００を超えても撥水・撥油性はほとんど向上せず、逆
に各種溶媒への溶解性が悪化することによって塗膜性の
低下をもたらすためである。
【００６６】これらは優れた撥水・撥油性を有するが、
特に炭素鎖としては長く、分岐構造をもたない直鎖状の
ものの方がより良好な撥水・撥油性を示す。
特に炭素鎖としては長く、分岐構造をもたない直鎖状の
ものの方がより良好な撥水・撥油性を示す。
【００６７】一方、前記シランカップリング剤中の反応
性基、すなわち式（１）中のＳｉ（Ｘ)(Ｙ)(Ｚ)におい
て、Ｘ、Ｙ、Ｚは、シラノール基との重縮合によってＳ
ｉ−Ｏ−Ｓｉを形成しうる置換基であればよく、例え
ば、ハロゲン、−ＯＨ（ヒドロキシ）、−ＯＲ2（アル
コキシ）、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ3（アセトキシ）、−ＮＨ2
（アミノ）、−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ（イソシアン酸）等が好まし
く選択できる。ハロゲンとしては、例えばＣｌおよびＢ
ｒとすることが好ましい。また、−ＯＲ2中のアルキル
基Ｒ2の総炭素数は１〜５であり、直鎖状であっても分
岐を有するものであってもよい。また、化学吸着反応を
阻害しない置換基は有していてもかまわないが、例えば
ハロゲン等の置換基はこの理由から好ましくない。−Ｏ
Ｒ2の具体例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｔ−ブ
トキシ等が挙げられる。
性基、すなわち式（１）中のＳｉ（Ｘ)(Ｙ)(Ｚ)におい
て、Ｘ、Ｙ、Ｚは、シラノール基との重縮合によってＳ
ｉ−Ｏ−Ｓｉを形成しうる置換基であればよく、例え
ば、ハロゲン、−ＯＨ（ヒドロキシ）、−ＯＲ2（アル
コキシ）、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ3（アセトキシ）、−ＮＨ2
（アミノ）、−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ（イソシアン酸）等が好まし
く選択できる。ハロゲンとしては、例えばＣｌおよびＢ
ｒとすることが好ましい。また、−ＯＲ2中のアルキル
基Ｒ2の総炭素数は１〜５であり、直鎖状であっても分
岐を有するものであってもよい。また、化学吸着反応を
阻害しない置換基は有していてもかまわないが、例えば
ハロゲン等の置換基はこの理由から好ましくない。−Ｏ
Ｒ2の具体例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｔ−ブ
トキシ等が挙げられる。
【００６８】Ｘ、Ｙ、Ｚは同一であっても各々異なって
いてもよく、異なる場合は、ハロゲンあるいはアルコキ
シ同士で異なるものであってもよいし、ハロゲン、ヒド
ロキシ、アルコキシ、アセトキシ、アミノおよびイソシ
アン酸の２種または３種が混在する形であってもよい。
また、Ｘ、Ｙ、Ｚの全てが反応性の置換基である必要は
なく、それらの少なくとも１つが、例えば上述のハロゲ
ン、アルコキシ、ヒドロキシ、アセトキシ、アミノまた
はイソシアン酸の加水分解基であればよいが、強固なシ
ロキサン結合ネットワークを形成させるためには、Ｘ、
Ｙ、Ｚの全てが前述の反応性基であることが好ましい。
Ｘ、Ｙ、Ｚが前述の反応性基でない場合の一価の基とし
ては、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基などが挙げ
られる。
いてもよく、異なる場合は、ハロゲンあるいはアルコキ
シ同士で異なるものであってもよいし、ハロゲン、ヒド
ロキシ、アルコキシ、アセトキシ、アミノおよびイソシ
アン酸の２種または３種が混在する形であってもよい。
また、Ｘ、Ｙ、Ｚの全てが反応性の置換基である必要は
なく、それらの少なくとも１つが、例えば上述のハロゲ
ン、アルコキシ、ヒドロキシ、アセトキシ、アミノまた
はイソシアン酸の加水分解基であればよいが、強固なシ
ロキサン結合ネットワークを形成させるためには、Ｘ、
Ｙ、Ｚの全てが前述の反応性基であることが好ましい。
Ｘ、Ｙ、Ｚが前述の反応性基でない場合の一価の基とし
ては、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基などが挙げ
られる。
【００６９】Ｘ、Ｙ、Ｚがハロゲン、アルコキシ基、ア
セトキシ基またはアミノ基である場合、一般的には，下
地表面への化学吸着反応を良好に進行させるために、予
め加水分解をある程度行いシラノール基に変換しておく
ことが好ましい。一方、イソシアン酸シリル基の場合は
そのような前処理の必要はない。また、シラノール基ま
たはイソシアン酸シリル基のカップリング反応は室温で
速やかに進行するため、反応時の加熱処理は特に必要と
しない。従って、熱による樹脂や記録膜等の劣化が懸念
される場合はイソシアン酸シラン系カップリング剤を用
いればよい。
セトキシ基またはアミノ基である場合、一般的には，下
地表面への化学吸着反応を良好に進行させるために、予
め加水分解をある程度行いシラノール基に変換しておく
ことが好ましい。一方、イソシアン酸シリル基の場合は
そのような前処理の必要はない。また、シラノール基ま
たはイソシアン酸シリル基のカップリング反応は室温で
速やかに進行するため、反応時の加熱処理は特に必要と
しない。従って、熱による樹脂や記録膜等の劣化が懸念
される場合はイソシアン酸シラン系カップリング剤を用
いればよい。
【００７０】このようなシランカップリング剤として
は、例えばＤＳＸ（ダイキン工業(株)製）の商品名で市
販されているものがある。
は、例えばＤＳＸ（ダイキン工業(株)製）の商品名で市
販されているものがある。
【００７１】前記シランカップリング剤の被覆方法とし
ては、通常の薄膜形成方法を適宜選択すればよい。この
ような方法として、例えばスピンコート法、ディップコ
ート法、スプレーコート法等が挙げられ、従来公知の方
法により成膜することができる。また、こうした化合物
膜を形成するためのシランカップリング剤は、使用に際
して適宜溶剤で希釈して差し支えない。
ては、通常の薄膜形成方法を適宜選択すればよい。この
ような方法として、例えばスピンコート法、ディップコ
ート法、スプレーコート法等が挙げられ、従来公知の方
法により成膜することができる。また、こうした化合物
膜を形成するためのシランカップリング剤は、使用に際
して適宜溶剤で希釈して差し支えない。
【００７２】なお、上に例示したＳｉ−Ｏ結合等を有す
る化合物を含有する下地と、シランカップリング剤との
密着性を良好なものとするには、前もって、ディスク等
の下地表面を、紫外線、プラズマ、電子線、コロナ放電
処理等の高エネルギー線処理により高親水化しておくこ
とが好ましい。このような高エネルギー線処理による親
水化は、有機物を主体とする材料の表面に適用しても効
果が低いが、上記Ｓｉ−Ｏ結合等をもつ化合物を含有す
る組成の下地に対して適用した堤合、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結
合等を開裂させ、Ｓｉ−ＯＨなどの反応性基を生成する
ので極めて有効である。
る化合物を含有する下地と、シランカップリング剤との
密着性を良好なものとするには、前もって、ディスク等
の下地表面を、紫外線、プラズマ、電子線、コロナ放電
処理等の高エネルギー線処理により高親水化しておくこ
とが好ましい。このような高エネルギー線処理による親
水化は、有機物を主体とする材料の表面に適用しても効
果が低いが、上記Ｓｉ−Ｏ結合等をもつ化合物を含有す
る組成の下地に対して適用した堤合、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結
合等を開裂させ、Ｓｉ−ＯＨなどの反応性基を生成する
ので極めて有効である。
【００７３】このようなシランカップリング剤の膜は、
単分子膜またはそれに近い超薄膜に匹敵する厚さであ
り、その厚さは１〜２０nm程度である。
単分子膜またはそれに近い超薄膜に匹敵する厚さであ
り、その厚さは１〜２０nm程度である。
【００７４】
【実施例】以下に本発明の具体的実施例を示す。ただ
し、本発明は以下の実施例により限定されるものではな
い。併せて、比較例を示す。
し、本発明は以下の実施例により限定されるものではな
い。併せて、比較例を示す。
【００７５】（実施例１）有機溶剤に希釈された、シリカ微粒子混合紫外線硬化型
樹脂によって形成された塗膜の最適加熱乾燥条件の決定 シリカ微粒子混合紫外線硬化型樹脂としてデソライトＺ
７５０３（日本合成ゴム（株）製：シリカ微粒子固定
型）を用いた塗膜の最適加熱乾燥条件について検討し
た。このシリカ微粒子混合紫外線硬化型樹脂は、希釈溶
剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート（ＰＧＭＥＡ）とメチルエチルケトン（ＭＥＫ）
とが体積比９対１の割合で含まれており、これをそのま
ま塗布液として用いた。塗布液全体に占める固形分濃
度、すなわち希釈溶剤以外の不揮発成分の濃度は６０％
（質量百分率）である。なお、上記樹脂中のシリカ微粒
子の平均粒子径は約１０nmであり、シリカ微粒子の樹脂
に占める割合は３８％（質量百分率）であった。
樹脂によって形成された塗膜の最適加熱乾燥条件の決定 シリカ微粒子混合紫外線硬化型樹脂としてデソライトＺ
７５０３（日本合成ゴム（株）製：シリカ微粒子固定
型）を用いた塗膜の最適加熱乾燥条件について検討し
た。このシリカ微粒子混合紫外線硬化型樹脂は、希釈溶
剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート（ＰＧＭＥＡ）とメチルエチルケトン（ＭＥＫ）
とが体積比９対１の割合で含まれており、これをそのま
ま塗布液として用いた。塗布液全体に占める固形分濃
度、すなわち希釈溶剤以外の不揮発成分の濃度は６０％
（質量百分率）である。なお、上記樹脂中のシリカ微粒
子の平均粒子径は約１０nmであり、シリカ微粒子の樹脂
に占める割合は３８％（質量百分率）であった。
【００７６】ポリカーボネート基板（１２０mm径、０．
６mm厚）にシリカ微粒子混合紫外線硬化樹脂としてデソ
ライト Ｚ７５０３（日本合成ゴム(株)製）を、スピン
コート法にて６０００rpmで２秒間振り切ることによっ
て塗布し、大気中６０℃で３分間加熱乾燥したのち、紫
外線照射（高圧水銀灯、５５０mJ/cm2）により硬化させ
た。硬化後の膜厚はおよそ３．４μm であった。
６mm厚）にシリカ微粒子混合紫外線硬化樹脂としてデソ
ライト Ｚ７５０３（日本合成ゴム(株)製）を、スピン
コート法にて６０００rpmで２秒間振り切ることによっ
て塗布し、大気中６０℃で３分間加熱乾燥したのち、紫
外線照射（高圧水銀灯、５５０mJ/cm2）により硬化させ
た。硬化後の膜厚はおよそ３．４μm であった。
【００７７】同様にして、乾燥温度および時間の異なる
試料を数種作製した。なお、いずれの試料においても硬
化後の膜厚はほぼ一定であり、およそ３．４μm であっ
た。
試料を数種作製した。なお、いずれの試料においても硬
化後の膜厚はほぼ一定であり、およそ３．４μm であっ
た。
【００７８】一方、加熱乾燥工程を経ない試料として、
スピンコートにおける塗布条件を、上記の６０００rpm
で２秒から６０００rpmで６０秒に変え、加熱乾燥工程
を経ずに直ちに紫外線照射を行うことにより試料を作製
した。同様にして、スピンコートにおける振り切り時間
の異なる数種の試料を作製した。なお、振り切り時間の
異なる各試料においても、２秒以上振り切った場合の膜
厚はほぼ一定であり、いずれの膜厚もおよそ３．４μm
であった。
スピンコートにおける塗布条件を、上記の６０００rpm
で２秒から６０００rpmで６０秒に変え、加熱乾燥工程
を経ずに直ちに紫外線照射を行うことにより試料を作製
した。同様にして、スピンコートにおける振り切り時間
の異なる数種の試料を作製した。なお、振り切り時間の
異なる各試料においても、２秒以上振り切った場合の膜
厚はほぼ一定であり、いずれの膜厚もおよそ３．４μm
であった。
【００７９】上記の成膜条件の異なる各試料から数種を
選び、ガスクロマトグラフィーによる膜中残留溶剤の定
量と、蛍光Ｘ線分析による膜表面のシリコン原子密度の
相対評価を行った。測定結果を表１および表２にまとめ
る。
選び、ガスクロマトグラフィーによる膜中残留溶剤の定
量と、蛍光Ｘ線分析による膜表面のシリコン原子密度の
相対評価を行った。測定結果を表１および表２にまとめ
る。
【００８０】
【表１】
【００８１】
【表２】
【００８２】続いて、上記のうち主要な試料についてテ
ーバー摩耗試験評価を実施した。測定条件は次の通りで
ある。すなわち、摩耗論としてＣＳ−１０Ｆを用い、荷
重４．９Ｎにて５００回転摩耗後の曇価（ヘイズ値ΔHa
ze(%)）を評価した。ヘイズ値の測定には、（有）東京
電色技術センター製全自動ヘイズメーターTC-HIIIDPKを
用いた。一方、上記のうち数種の試料について熱衝撃試
験による信頼性評価を行った。試験条件は、高温室温度
／時間が７０℃／３０分、低温室温度／時間が−２０℃
／３０分であり、前記冷熱サイクルを１００回繰り返し
た後の膜へのクラック発生状況を目視にて確認した。こ
れらの結果を表３にまとめる。
ーバー摩耗試験評価を実施した。測定条件は次の通りで
ある。すなわち、摩耗論としてＣＳ−１０Ｆを用い、荷
重４．９Ｎにて５００回転摩耗後の曇価（ヘイズ値ΔHa
ze(%)）を評価した。ヘイズ値の測定には、（有）東京
電色技術センター製全自動ヘイズメーターTC-HIIIDPKを
用いた。一方、上記のうち数種の試料について熱衝撃試
験による信頼性評価を行った。試験条件は、高温室温度
／時間が７０℃／３０分、低温室温度／時間が−２０℃
／３０分であり、前記冷熱サイクルを１００回繰り返し
た後の膜へのクラック発生状況を目視にて確認した。こ
れらの結果を表３にまとめる。
【００８３】
【表３】
【００８４】これらの検討結果から、下地層の耐摩耗性
は室温にて３分程度乾燥させるだけでも十分達成される
が、同条件では硬化被膜の信頼性が不十分であり、被膜
の十分な信頼性、特に耐クラック性を実現するには６０
℃で３分以上の乾燥温度および時間を要することがわか
る。一方、表１の結果から、加熱乾燥を行わない場合で
あっても、スピンコート時に６０００rpmで３０秒以上
振り切った場合は、６０℃で３分間加熱乾燥させた場合
よりも被膜中に残留する溶剤量は少ない。従って、６０
℃で３分よりも穏やかな乾燥条件で十分な耐摩耗性や信
頼性が得られないのは、被膜内部に有機溶剤が残留して
いるためではなく、膜中におけるシリカ微粒子の密度勾
配が不十分であることに起因していることが確認され
る。
は室温にて３分程度乾燥させるだけでも十分達成される
が、同条件では硬化被膜の信頼性が不十分であり、被膜
の十分な信頼性、特に耐クラック性を実現するには６０
℃で３分以上の乾燥温度および時間を要することがわか
る。一方、表１の結果から、加熱乾燥を行わない場合で
あっても、スピンコート時に６０００rpmで３０秒以上
振り切った場合は、６０℃で３分間加熱乾燥させた場合
よりも被膜中に残留する溶剤量は少ない。従って、６０
℃で３分よりも穏やかな乾燥条件で十分な耐摩耗性や信
頼性が得られないのは、被膜内部に有機溶剤が残留して
いるためではなく、膜中におけるシリカ微粒子の密度勾
配が不十分であることに起因していることが確認され
る。
【００８５】実際、表２に示したように、６０℃で３分
よりも加熱乾燥条件を厳しくした場合は、それ以外の試
料と比較して明らかに検出されるＳｉ強度が増大してお
り、被膜表面へシリカが自己集合することによってシリ
カ微粒子の密度勾配が生じ、それによって熱衝撃サイク
ルにおいて発生する内部応力が緩和されていることを強
く示唆している。よって、以下において、このようなシ
リカ微粒子混合紫外線硬化型樹脂を用いる場合の下地層
成膜時の最適加熱乾燥条件は６０℃で３分間とする。
よりも加熱乾燥条件を厳しくした場合は、それ以外の試
料と比較して明らかに検出されるＳｉ強度が増大してお
り、被膜表面へシリカが自己集合することによってシリ
カ微粒子の密度勾配が生じ、それによって熱衝撃サイク
ルにおいて発生する内部応力が緩和されていることを強
く示唆している。よって、以下において、このようなシ
リカ微粒子混合紫外線硬化型樹脂を用いる場合の下地層
成膜時の最適加熱乾燥条件は６０℃で３分間とする。
【００８６】下地層についての評価 ポリカーボネート基板（１２０mm径、０．６mm厚）にシ
リカ微粒子混合紫外線硬化型樹脂としてデソライト Ｚ
７５０３（日本合成ゴム(株)製：シリカ微粒子固定型）
をスピンコート法により塗布し、大気中６０℃で３分間
加熱し溶剤を除去したのち、紫外線照射（高圧水銀灯、
５５０mJ/cm2）により硬化させた。硬化後の膜厚は３．
４μmであった（基板１）。
リカ微粒子混合紫外線硬化型樹脂としてデソライト Ｚ
７５０３（日本合成ゴム(株)製：シリカ微粒子固定型）
をスピンコート法により塗布し、大気中６０℃で３分間
加熱し溶剤を除去したのち、紫外線照射（高圧水銀灯、
５５０mJ/cm2）により硬化させた。硬化後の膜厚は３．
４μmであった（基板１）。
【００８７】次に、この処理表面の耐摩耗性をテーバー
摩耗試験により評価した。摩耗輪および荷重条件は上記
と同様とし、１００回転摩耗させた後の曇価（ヘイズ
値）を測定した。その結果、摩耗後のヘイズ値ΔHaze=
2.0%であった。この基板を引き続き摩耗試験機にセット
し、合計５００回転摩耗させた後の曇価を測定したとこ
ろ、△Haze=5.3%であり、極めて耐擦傷性に優れている
ことが確認された。また、処理表面の水の接触角を協和
界面科学（株）製接触角計CA-Dを用い、２０℃、６０％
ＲＨで測定したところ、７２．５度であった。
摩耗試験により評価した。摩耗輪および荷重条件は上記
と同様とし、１００回転摩耗させた後の曇価（ヘイズ
値）を測定した。その結果、摩耗後のヘイズ値ΔHaze=
2.0%であった。この基板を引き続き摩耗試験機にセット
し、合計５００回転摩耗させた後の曇価を測定したとこ
ろ、△Haze=5.3%であり、極めて耐擦傷性に優れている
ことが確認された。また、処理表面の水の接触角を協和
界面科学（株）製接触角計CA-Dを用い、２０℃、６０％
ＲＨで測定したところ、７２．５度であった。
【００８８】（比較例１）ポリカーボネート基板（１２
０mm径、０．６mm厚）に紫外線硬化型アクリル樹脂とし
てHOD-3091（日本化薬(株)製）をスピンコート法により
塗布し、紫外線照射（高圧水銀灯、550mJ/cm2）により
硬化させた。硬化後の膜厚は３．３μmであった（基板
２）。
０mm径、０．６mm厚）に紫外線硬化型アクリル樹脂とし
てHOD-3091（日本化薬(株)製）をスピンコート法により
塗布し、紫外線照射（高圧水銀灯、550mJ/cm2）により
硬化させた。硬化後の膜厚は３．３μmであった（基板
２）。
【００８９】この基板を実施例１と同様にテーバー摩耗
磨耗試験により評価したところ、１００回転摩耗後およ
び５００回転摩耗後のへイズ値はそれぞれ１４．０％お
よび３６．２％であり、実施例１に比較して耐擦傷性が
大きく劣っていた。また、処理表面の水の接触角を実施
例１と同様にして測定したところ、９７．７度であっ
た。一方、処理表面に対するｎ−オクタンの接触角を測
定したところ、０度であった。従って、従来の紫外線硬
化型樹脂によるハードコート処理ではある程度の撥水性
はあっても、撥油性はなく、指紋等の有機汚れに対して
防汚効果がないことが予想される。
磨耗試験により評価したところ、１００回転摩耗後およ
び５００回転摩耗後のへイズ値はそれぞれ１４．０％お
よび３６．２％であり、実施例１に比較して耐擦傷性が
大きく劣っていた。また、処理表面の水の接触角を実施
例１と同様にして測定したところ、９７．７度であっ
た。一方、処理表面に対するｎ−オクタンの接触角を測
定したところ、０度であった。従って、従来の紫外線硬
化型樹脂によるハードコート処理ではある程度の撥水性
はあっても、撥油性はなく、指紋等の有機汚れに対して
防汚効果がないことが予想される。
【００９０】（実施例２）実施例１の基板１の高硬度処
理表面に、式（１）に包含される撥水・撥油性シランカ
ップリング剤としてＤＳＸ（ダイキン工業(株)製）の
０．１％（質量百分率）パーフルオロヘキサン溶液を、
スピンコート法により塗布し、大気中６０℃で１０時間
加熱し、化学吸着させた（基板３）。なお、シランカッ
プリング剤の膜の膜厚は約１０nmである。
理表面に、式（１）に包含される撥水・撥油性シランカ
ップリング剤としてＤＳＸ（ダイキン工業(株)製）の
０．１％（質量百分率）パーフルオロヘキサン溶液を、
スピンコート法により塗布し、大気中６０℃で１０時間
加熱し、化学吸着させた（基板３）。なお、シランカッ
プリング剤の膜の膜厚は約１０nmである。
【００９１】処理基板３の水の接触角を実施例１と同様
に測定したところ、１１４．０度であり、カップリング
剤による処理前の基板１から著しく撥水性が向上した。
に測定したところ、１１４．０度であり、カップリング
剤による処理前の基板１から著しく撥水性が向上した。
【００９２】また、この基板表面のｎ−オクタンの接触
角を同様に測定したところ、４７．２度であり、ｎ−ヘ
キサデカンの接触角は６３．８度であった。このことか
ら、本実施例における処理表面が撥水性だけでなく撥油
性も有しており、指紋等の有機汚れに対しても高い防汚
性をもつことが確認された。なお、この基板表面の臨界
表面張力γcは１２mNm-1であった。
角を同様に測定したところ、４７．２度であり、ｎ−ヘ
キサデカンの接触角は６３．８度であった。このことか
ら、本実施例における処理表面が撥水性だけでなく撥油
性も有しており、指紋等の有機汚れに対しても高い防汚
性をもつことが確認された。なお、この基板表面の臨界
表面張力γcは１２mNm-1であった。
【００９３】続いて処理表面を、ベンコットリントフリ
ーＣＴ−８（旭化成工業（株）製）を用い、荷重４．９
Ｎで３００往復擦った後の水の接触角を測定したところ
１１２．０度であった。また、基板表面の臨界表面張力
γcも、擦る前とほぼ同じ値を示した。このことから、
撥水性は高いまま維持され、撥水・撥油性カップリング
剤が下地表面に対して高い密着性を有していることが確
認された。
ーＣＴ−８（旭化成工業（株）製）を用い、荷重４．９
Ｎで３００往復擦った後の水の接触角を測定したところ
１１２．０度であった。また、基板表面の臨界表面張力
γcも、擦る前とほぼ同じ値を示した。このことから、
撥水性は高いまま維持され、撥水・撥油性カップリング
剤が下地表面に対して高い密着性を有していることが確
認された。
【００９４】（比較例２）比較例１の基板２のハードコ
ート処理面に、式（１）に包含される撥水・撥油性シラ
ンカップリング剤としてＤＳＸ（ダイキン工業(株)製）
の０．１％（質量百分率）パーフルオロヘキサン溶液
を、スピンコート法により塗布し、大気中６０℃で１０
時間加熱硬化させた（基板４）。なお、シランカップリ
ング剤の膜の膜厚は約１０nmである。
ート処理面に、式（１）に包含される撥水・撥油性シラ
ンカップリング剤としてＤＳＸ（ダイキン工業(株)製）
の０．１％（質量百分率）パーフルオロヘキサン溶液
を、スピンコート法により塗布し、大気中６０℃で１０
時間加熱硬化させた（基板４）。なお、シランカップリ
ング剤の膜の膜厚は約１０nmである。
【００９５】処理基板の水の接触角を実施例１と同様に
測定したところ、１１１．２度であった。
測定したところ、１１１．２度であった。
【００９６】続いて処理表面を、ベンコットリントフリ
ーＣＴ−８（旭化成工業（株）製）を用い、荷重４．９
Ｎで３００往復擦った後の水の接触角を実施例１と同様
に測定したところ１００．７度であり、カップリング剤
を塗布する前の基板２（比較例１）の接触角と同等程度
まで低下していた。このことから、シランカップリング
剤はほとんど表面に残っておらず、実施例１と比較して
密着性および耐久性に劣っていることが確認された。な
お、この場合の基板表面の臨界表面張力γcは、基板２
（比較例１）の紫外線硬化型アクリル樹脂表面とほぼ同
じの３５mNm-1であった。
ーＣＴ−８（旭化成工業（株）製）を用い、荷重４．９
Ｎで３００往復擦った後の水の接触角を実施例１と同様
に測定したところ１００．７度であり、カップリング剤
を塗布する前の基板２（比較例１）の接触角と同等程度
まで低下していた。このことから、シランカップリング
剤はほとんど表面に残っておらず、実施例１と比較して
密着性および耐久性に劣っていることが確認された。な
お、この場合の基板表面の臨界表面張力γcは、基板２
（比較例１）の紫外線硬化型アクリル樹脂表面とほぼ同
じの３５mNm-1であった。
【００９７】このように、本発明を用いた処理基板にお
いては、光透過層表面が優れた耐擦傷性を有するととも
に、その表面に撥水・撥油性のカップリング剤の膜体を
設けた場合に、この膜と光透過層表面との密着性が極め
て高い。従って、前記シランカップリング剤の膜の有す
る良好な特性がそのまま維持されて好ましい。また、前
記シランカップリング剤の膜を表面に設けた場合であっ
ても、この膜は単分子層か、それに近い薄膜を形成する
ので、高硬度処理表面の良好な耐久性がそのまま反映さ
れる。従って、カップリング剤膜のもつ防汚性と、高硬
度処理表面の耐摩耗性が組み合わされた良好な特性が得
られる。
いては、光透過層表面が優れた耐擦傷性を有するととも
に、その表面に撥水・撥油性のカップリング剤の膜体を
設けた場合に、この膜と光透過層表面との密着性が極め
て高い。従って、前記シランカップリング剤の膜の有す
る良好な特性がそのまま維持されて好ましい。また、前
記シランカップリング剤の膜を表面に設けた場合であっ
ても、この膜は単分子層か、それに近い薄膜を形成する
ので、高硬度処理表面の良好な耐久性がそのまま反映さ
れる。従って、カップリング剤膜のもつ防汚性と、高硬
度処理表面の耐摩耗性が組み合わされた良好な特性が得
られる。
【００９８】なお、実施例１、２、比較例１、２の基板
１〜４の接触角について、表４にまとめる。
１〜４の接触角について、表４にまとめる。
【００９９】
【表４】
【０１００】（実施例３）実施例１の基板１の表面に、
ＳｉＯ2ターゲットを用いて、スパッタ法により厚さ１
００nmの表面層を形成した（基板１１）。なお、表面層
を形成する前に、スパッタエッチングによる前記内部層
の表面改質処理を行い、内部層、表面層界面における両
層の密着性を確保した。
ＳｉＯ2ターゲットを用いて、スパッタ法により厚さ１
００nmの表面層を形成した（基板１１）。なお、表面層
を形成する前に、スパッタエッチングによる前記内部層
の表面改質処理を行い、内部層、表面層界面における両
層の密着性を確保した。
【０１０１】この基板を実施例１と同様にテーバー摩耗
試験により評価したところ、１００回転摩耗後および５
００回転摩耗後の曇価（ヘイズ値ΔHaze(%)）はそれぞ
れ、０．６％および２．２％であり、実施例１と比較し
ても、著しく耐擦傷性が向上していることが確認され
た。
試験により評価したところ、１００回転摩耗後および５
００回転摩耗後の曇価（ヘイズ値ΔHaze(%)）はそれぞ
れ、０．６％および２．２％であり、実施例１と比較し
ても、著しく耐擦傷性が向上していることが確認され
た。
【０１０２】（比較例３）比較例１の基板２の表面に、
ＳｉＯ2ターゲットを用いて、スパッタ法により厚さ１
００nmの表面層を形成した（基板１２）。なお、表面層
を形成する前に、スパッタエッチングによる前記内部層
の表面改質処理を行っている。
ＳｉＯ2ターゲットを用いて、スパッタ法により厚さ１
００nmの表面層を形成した（基板１２）。なお、表面層
を形成する前に、スパッタエッチングによる前記内部層
の表面改質処理を行っている。
【０１０３】この基板を実施例１と同様にテーバー摩耗
試験により評価したところ、１００回転摩耗後および５
００回転摩耗後の曇価（ヘイズ値ΔHaze(%)）はそれぞ
れ、９．３％および３２．４％であり、実施例１、３に
比較して耐擦傷性の劣る、比較例１からの改善効果はほ
とんどみられなかった。
試験により評価したところ、１００回転摩耗後および５
００回転摩耗後の曇価（ヘイズ値ΔHaze(%)）はそれぞ
れ、９．３％および３２．４％であり、実施例１、３に
比較して耐擦傷性の劣る、比較例１からの改善効果はほ
とんどみられなかった。
【０１０４】実施例１、３、比較例１、３の結果から、
ＳｉＯ2スパッタ膜からなる表面層を設けることによる
本発明の効果が明らかである。
ＳｉＯ2スパッタ膜からなる表面層を設けることによる
本発明の効果が明らかである。
【０１０５】なお、実施例１、３、比較例１、３の基板
１、２、１１、１２の摩耗試験後の曇価（ヘイズ値ΔHa
ze(%))を表５にまとめる。
１、２、１１、１２の摩耗試験後の曇価（ヘイズ値ΔHa
ze(%))を表５にまとめる。
【０１０６】
【表５】
【０１０７】（実施例４）ポリカーボネート製の基板の
光入射側表面に対して保護コート処理が施されていない
DVD-RAM（記録容量2.6GByte／面）の基板の光入射側表
面に、シリカ微粒子混合紫外線硬化型樹脂としてデソラ
イトＺ７５０３（日本合成ゴム（株）製）をスピンコー
ト法により塗布し、大気中６０℃で３分間加熱し溶媒を
除去したのち、紫外線照射（高圧水銀灯、５５０mJ/c
m2）により硬化させた。硬化後の膜厚は３．４μm であ
る。この処理表面に、式（１）に包含される撥水・撥油
性シランカップリング剤としてＤＳＸ（ダイキン工業
（株）製）の０．１％（質量百分率）パーフルオロヘキ
サン溶液を、スピンコート法により塗布し、大気中６０
℃で１０時間加熱し、化学吸着させた（媒体１）。な
お、シランカップリング剤の膜の膜厚は約１０nmであっ
た。
光入射側表面に対して保護コート処理が施されていない
DVD-RAM（記録容量2.6GByte／面）の基板の光入射側表
面に、シリカ微粒子混合紫外線硬化型樹脂としてデソラ
イトＺ７５０３（日本合成ゴム（株）製）をスピンコー
ト法により塗布し、大気中６０℃で３分間加熱し溶媒を
除去したのち、紫外線照射（高圧水銀灯、５５０mJ/c
m2）により硬化させた。硬化後の膜厚は３．４μm であ
る。この処理表面に、式（１）に包含される撥水・撥油
性シランカップリング剤としてＤＳＸ（ダイキン工業
（株）製）の０．１％（質量百分率）パーフルオロヘキ
サン溶液を、スピンコート法により塗布し、大気中６０
℃で１０時間加熱し、化学吸着させた（媒体１）。な
お、シランカップリング剤の膜の膜厚は約１０nmであっ
た。
【０１０８】続いて、このディスクの半径３９．５〜５
７．５mmの領域にランダム信号の記録を行い、再生時の
ビットエラーレート（ＢＥＲ）を測定したところ、その
記録領域全体における平均値は４．４×１０-5であっ
た。次に、このディスクの記録領域全面にわたり指紋を
付着させ、再生を試みたところ、再生不能に陥った。そ
の後、ベンコットリントフリーＣＴ−８（旭化成工業
（株）製）を用い、圧力１００±１０g/cm2にて、内周
から外周に向けて放射状に２０回拭くことによってこの
ディスクに付着した指紋を除去した。このようにして指
紋を拭き取った後に、再度ランダム信号を上書きし、再
生を行ったところ、そのＢＥＲの平均値は２．２×１０
-4であり、初期状態に近いエラーレートでの再生が可能
であった。このように、ディスク表面を撥水・撥油性カ
ップリング剤によって処理することで、有機汚れに対す
る防汚性が著しく向上することが確認された。これらの
結果を図３に示した。また、耐擦傷性にも優れていた。
なお、記録・再生光は基板上に前記樹脂層を介して設け
られたシランカップリング剤の膜側から入射させた。
７．５mmの領域にランダム信号の記録を行い、再生時の
ビットエラーレート（ＢＥＲ）を測定したところ、その
記録領域全体における平均値は４．４×１０-5であっ
た。次に、このディスクの記録領域全面にわたり指紋を
付着させ、再生を試みたところ、再生不能に陥った。そ
の後、ベンコットリントフリーＣＴ−８（旭化成工業
（株）製）を用い、圧力１００±１０g/cm2にて、内周
から外周に向けて放射状に２０回拭くことによってこの
ディスクに付着した指紋を除去した。このようにして指
紋を拭き取った後に、再度ランダム信号を上書きし、再
生を行ったところ、そのＢＥＲの平均値は２．２×１０
-4であり、初期状態に近いエラーレートでの再生が可能
であった。このように、ディスク表面を撥水・撥油性カ
ップリング剤によって処理することで、有機汚れに対す
る防汚性が著しく向上することが確認された。これらの
結果を図３に示した。また、耐擦傷性にも優れていた。
なお、記録・再生光は基板上に前記樹脂層を介して設け
られたシランカップリング剤の膜側から入射させた。
【０１０９】（比較例４）ポリカーボネート製の基板の
光入射側表面に対して保護コート処理が施されていない
DVD-RAM（記録容量2.6GByte／面）の基板の光入射側表
面に、紫外線硬化型アクリル樹脂としてHOD-3091（日本
化薬（株）製）をスピンコート法により塗布し、紫外線
照射（高圧水銀灯、５５０mJ/cm2）により硬化させた。
硬化後の膜厚は３．３μm である（媒体２）。
光入射側表面に対して保護コート処理が施されていない
DVD-RAM（記録容量2.6GByte／面）の基板の光入射側表
面に、紫外線硬化型アクリル樹脂としてHOD-3091（日本
化薬（株）製）をスピンコート法により塗布し、紫外線
照射（高圧水銀灯、５５０mJ/cm2）により硬化させた。
硬化後の膜厚は３．３μm である（媒体２）。
【０１１０】続いて、このディスクの半径３９．５〜５
７．５mmの領域にランダム信号の記録を行い、再生時の
ビットエラーレート（ＢＥＲ）測定したところ、その平
均値は２．２×１０-5であった。次に、このディスクの
記録領域全面にわたり指紋を付着させ、再生を試みたと
ころ、媒体１と同様に再生不能に陥った。その後、ベン
コットリントフリーＣＴ−８（旭化成工業（株）製）を
用い、圧力１００±１０g/cm2にて、内周から外周に向
けて放射状に２０回拭くことによって、このディスクに
付着した指紋を除去した。このようにして指紋を拭き取
った後に、再度ランダム信号を上書きし、再生を行った
ところ、そのＢＥＲの平均値は７．８×１０-3であり、
初期に比べて著しく劣化していた。従って、指紋を完全
に除去することはできておらず、従来の紫外線硬化型樹
脂を用いたハードコートでは防汚性が全く得られないこ
とが判明した。これらの結果を図３に併せて示した。ま
た、耐擦傷性に関しても媒体１よりも劣っていた。な
お、記録・再生光は基板上に設けられた前記樹脂層側か
ら入射させた。
７．５mmの領域にランダム信号の記録を行い、再生時の
ビットエラーレート（ＢＥＲ）測定したところ、その平
均値は２．２×１０-5であった。次に、このディスクの
記録領域全面にわたり指紋を付着させ、再生を試みたと
ころ、媒体１と同様に再生不能に陥った。その後、ベン
コットリントフリーＣＴ−８（旭化成工業（株）製）を
用い、圧力１００±１０g/cm2にて、内周から外周に向
けて放射状に２０回拭くことによって、このディスクに
付着した指紋を除去した。このようにして指紋を拭き取
った後に、再度ランダム信号を上書きし、再生を行った
ところ、そのＢＥＲの平均値は７．８×１０-3であり、
初期に比べて著しく劣化していた。従って、指紋を完全
に除去することはできておらず、従来の紫外線硬化型樹
脂を用いたハードコートでは防汚性が全く得られないこ
とが判明した。これらの結果を図３に併せて示した。ま
た、耐擦傷性に関しても媒体１よりも劣っていた。な
お、記録・再生光は基板上に設けられた前記樹脂層側か
ら入射させた。
【０１１１】（実施例５）実施例４において、ＤＶＤ−
ＲＡＭの基板の光入射側表面に、デソライトＺ７５０３
（日本合成ゴム（株）製）の硬化膜（３．４μm 厚）を
形成し、実施例３と同様に、表面改質処理を行い、その
後、ＳｉＯ2スパッタ膜を１００nm厚に形成した。さら
に、この上に、実施例４と同様にしてシランカップリン
グ剤の膜（約１０nm厚）を形成した。このディスク（媒
体１１）においては、防汚性に関し、実施例４と同様の
結果が得られるほか、実施例３の結果に対応して、実施
例４に比べて、さらに耐擦傷性の向上がみられることが
わかった。
ＲＡＭの基板の光入射側表面に、デソライトＺ７５０３
（日本合成ゴム（株）製）の硬化膜（３．４μm 厚）を
形成し、実施例３と同様に、表面改質処理を行い、その
後、ＳｉＯ2スパッタ膜を１００nm厚に形成した。さら
に、この上に、実施例４と同様にしてシランカップリン
グ剤の膜（約１０nm厚）を形成した。このディスク（媒
体１１）においては、防汚性に関し、実施例４と同様の
結果が得られるほか、実施例３の結果に対応して、実施
例４に比べて、さらに耐擦傷性の向上がみられることが
わかった。
【０１１２】（実施例６）ポリカーボネート製の基板に
対する保護コート処理が施されておらず、且つ記録層側
の最外層として紫外線硬化アクリル樹脂保護コートを有
する光磁気ディスクの基板表面と記録層側の保護コート
表面との各々に、実施例３と同様にして、シリカ微粒子
混合紫外線硬化型樹脂層とシランカップリング剤の膜と
を設けた（媒体３）。
対する保護コート処理が施されておらず、且つ記録層側
の最外層として紫外線硬化アクリル樹脂保護コートを有
する光磁気ディスクの基板表面と記録層側の保護コート
表面との各々に、実施例３と同様にして、シリカ微粒子
混合紫外線硬化型樹脂層とシランカップリング剤の膜と
を設けた（媒体３）。
【０１１３】このようにして作製した媒体３では、耐擦
傷性および防汚性に優れることがわかった。
傷性および防汚性に優れることがわかった。
【０１１４】また、基板側から光を入射させ、記録層の
保護コート側のシランカップリング剤の膜と接するよう
に磁気ヘッドを走行させて、記録および再生を行ったと
ころ、磁気ヘッドの走行の際、処理面側が潤滑膜として
機能し、走行性が良好で、耐久性に優れることがわかっ
た。
保護コート側のシランカップリング剤の膜と接するよう
に磁気ヘッドを走行させて、記録および再生を行ったと
ころ、磁気ヘッドの走行の際、処理面側が潤滑膜として
機能し、走行性が良好で、耐久性に優れることがわかっ
た。
【０１１５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
耐擦傷性に優れた、光情報媒体を提供することができ
る。さらには、長期間に亘り十分な防汚性（特に、付着
した汚れがとれやすいという防汚性）を維持することが
できる。このため、光ディスク等の光情報媒体が、カー
トリッジ、シェル、キャディ等に収納しない状態で使用
される場合であっても、汚れに対する問題が少ない。
耐擦傷性に優れた、光情報媒体を提供することができ
る。さらには、長期間に亘り十分な防汚性（特に、付着
した汚れがとれやすいという防汚性）を維持することが
できる。このため、光ディスク等の光情報媒体が、カー
トリッジ、シェル、キャディ等に収納しない状態で使用
される場合であっても、汚れに対する問題が少ない。
【図１】本発明の光情報媒体の一構成例を示す部分断面
図である。
図である。
【図２】本発明の光情報媒体の他の構成例を示す部分断
面図である。
面図である。
【図３】媒体の指紋付着前（初期）と指紋拭き取り後の
エラーレートの変化を示すグラフである。
エラーレートの変化を示すグラフである。
１ 支持基体 ２ 記録層 ３ 光透過層 ４ 下地層 ４１ 内部層 ４２ 表面層 ５ シランカップリング剤の膜 ６ 保護層
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 11/105 ５３１ Ｇ１１Ｂ 11/105 ５３１Ｆ
Claims (18)
- 【請求項１】 光学的に記録および／または再生を行う
光情報媒体であって、その少なくとも一方の表面に、下
記式（１）で表される、撥水性または撥油性基を含むシ
ランカップリング剤の膜が被覆され、前記シランカップ
リング剤の膜の接して設けられる下地の少なくとも表面
が、下記式（２）で表される化学結合をもつ化合物を含
有する光情報媒体。 Ｒ1−Ｓｉ（Ｘ)(Ｙ)(Ｚ） （１） ［式（１）において、Ｒ1は撥水性または撥油性を有す
る置換基であり、Ｘ、ＹおよびＺはそれぞれ一価の基で
あり、Ｘ、ＹおよびＺの少なくとも１つは、シラノール
基との重縮合によってＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成しうる
置換基である。］ Ｍ−Ａ （２） ［式（２）において、Ｍは金属原子（半金属原子を含
む。）であり、ＡはＯ、Ｓ、Ｓｅ、およびＴｅから選択
されるカルコゲン原子、窒素原子または炭素原子であ
る。］ - 【請求項２】 前記シランカップリング剤の被覆される
下地表面が、金属（半金属を含む。）カルコゲナイドの
粒子を含む活性エネルギー線硬化型樹脂を含有し、前記
金属カルコゲナイドの粒子の平均粒子径が５００nm以下
である請求項１の光情報媒体。 - 【請求項３】 光学的に記録および／または再生を行う
光情報媒体であって、その少なくとも一方の表面に、下
記式（１）で表される、撥水性または撥油性基を含むシ
ランカップリング剤の膜が被覆され、前記シランカップ
リング剤の膜の接して設けられる下地表面が、厚さ１μ
m 以下の金属（半金属を含む。）化合物の薄膜で形成さ
れ、前記薄膜が、前記シランカップリング剤の膜と反対
側に設けられた、前記薄膜より厚い金属（半金属を含
む。）化合物を含有する層に接して設けられている光情
報媒体。 Ｒ1−Ｓｉ（Ｘ)(Ｙ)(Ｚ） （１） ［式（１）において、Ｒ1は撥水性または撥油性を有す
る置換基であり、Ｘ、ＹおよびＺはそれぞれ一価の基で
あり、Ｘ、ＹおよびＺの少なくとも１つは、シラノール
基との重縮合によってＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成しうる
基である。］ - 【請求項４】 前記薄膜に接して設けられている金属
（半金属を含む。）化合物を含有する層が、金属（半金
属を含む。）カルコゲナイド、金属（半金属を含む。）
窒化物および金属（半金属を含む。）炭化物から選択さ
れる金属化合物の粒子を含む活性エネルギー線硬化型樹
脂で形成され、前記金属化合物の粒子の平均粒子径が５
００nm以下である請求項３の光情報媒体。 - 【請求項５】 前記薄膜に接して設けられている金属
（半金属を含む。）化合物を含有する層が、加水分解性
の金属（半金属を含む。）化合物を含む組成物から形成
されたものである請求項３の光情報媒体。 - 【請求項６】 前記薄膜に接して設けられている金属
（半金属を含む。）化合物を含有する層が、ポリシラザ
ンを含む組成物から形成されたものである請求項３の光
情報媒体。 - 【請求項７】 式（１）中の置換基Ｒ1が、フッ素化炭
化水素系の撥水性または撥油性基である請求項１〜６の
いずれかの光情報媒体。 - 【請求項８】 式（１）中のＸ、ＹおよびＺの少なくと
も１つが、ハロゲン、−ＯＨ、−ＯＲ2（ここにＲ2はア
ルキル基である。）、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ3、−ＮＨ2およ
び−Ｎ＝Ｃ＝Ｏから選択される請求項１〜７のいずれか
の光情報媒体。 - 【請求項９】 支持基体側から光を入射させて記録およ
び／または再生を行う光情報媒体であって、光入射側
に、前記シランカップリング剤の膜が被覆される請求項
１〜８のいずれかの光情報媒体。 - 【請求項１０】 支持基体上に記録膜を有し、前記支持
基体側から光を入射させて記録および再生を行い、前記
記録膜側に磁気ヘッドを走行させる磁界変調型の光磁気
ディスクであって、光入射側と磁気ヘッド側とに、前記
シランカップリング剤の膜が被覆される請求項９の光情
報媒体。 - 【請求項１１】 支持基体上に膜体を有し、前記支持基
体側または前記膜体側から光を入射させて、光学的に記
録および／または再生を行う光情報媒体であって、光入
射側表面が、厚さ１μm 以下の金属（半金属を含む。）
カルコゲナイド、金属（半金属を含む。）窒化物および
金属（半金属を含む。）炭化物から選択される金属化合
物の薄膜で形成され、前記薄膜が、前記光入射側と反対
側に設けられた、前記薄膜より厚い金属（半金属を含
む。）化合物を含有する層に接して設けられている光情
報媒体。 - 【請求項１２】 支持基体上に膜体を有し、前記支持基
体側または前記膜体側から光を入射させて、光学的に記
録および／または再生を行う光情報媒体であって、光入
射表面が、厚さ１μm 以下の硬質カーボン（Diamond Li
ke Carbon）の薄膜で形成され、前記薄膜が、前記光入
射側と反対側に設けられた、前記薄膜より厚い金属（半
金属を含む。）化合物を含有する層に接して設けられて
いる光情報媒体。 - 【請求項１３】 前記薄膜に接して設けられている金属
（半金属を含む。）化合物を含有する層が、金属（半金
属を含む。）カルコゲナイド、金属（半金属を含む。）
窒化物および金属（半金属を含む。）炭化物から選択さ
れる金属化合物の粒子を含む活性エネルギー線硬化型樹
脂で形成され、前記金属化合物の粒子の平均粒子径が５
００nm以下である請求項１１または１２の光情報媒体。 - 【請求項１４】 前記薄膜に接して設けられている金属
（半金属を含む。）化合物を含有する層が、加水分解性
の金属（半金属を含む。）化合物を含む組成物から形成
されたものである請求項１１または１２の光情報媒体。 - 【請求項１５】 前記薄膜に接して設けられている金属
（半金属を含む。）化合物を含有する層が、ポリシラザ
ンを含む組成物から形成されたものである請求項１１ま
たは１２の光情報媒体。 - 【請求項１６】 支持基体上に膜体を有し、前記支持基
体側または前記膜体側から光を入射させて、光学的に記
録および／または再生を行う光情報媒体であって、光入
射側に、金属（半金属を含む。）カルコゲナイド、金属
（半金属を含む。）窒化物および金属（半金属を含
む。）炭化物から選択される金属化合物の粒子を含む活
性エネルギー線硬化型樹脂を少なくとも一部に含有する
光透過層を有し、前記金属化合物の粒子の平均粒子径が
５００nm以下である光情報媒体。 - 【請求項１７】 前記金属化合物の粒子が前記金属カル
コゲナイドの粒子である請求項４、１３または１６の光
情報媒体。 - 【請求項１８】 前記金属カルコゲナイドの粒子がシリ
カ粒子である請求項２、４、１３または１７の光情報媒
体。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001068761A JP4590758B2 (ja) | 2000-04-10 | 2001-03-12 | 光情報媒体 |
| DE60130597T DE60130597T2 (de) | 2000-04-10 | 2001-04-05 | Optisches Informationsmedium |
| EP01303217A EP1146510B1 (en) | 2000-04-10 | 2001-04-05 | Optical information medium |
| US09/829,067 US6596363B2 (en) | 2000-04-10 | 2001-04-10 | Optical information medium |
| TW090108568A TWI221280B (en) | 2000-04-10 | 2001-04-10 | Optical information medium |
| CNB011163542A CN1208770C (zh) | 2000-04-10 | 2001-04-10 | 光信息介质 |
| US10/443,033 US6866884B2 (en) | 2000-04-10 | 2003-05-22 | Optical information medium |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000-107681 | 2000-04-10 | ||
| JP2000107681 | 2000-04-10 | ||
| JP2000309218 | 2000-10-10 | ||
| JP2000-309218 | 2000-10-10 | ||
| JP2001068761A JP4590758B2 (ja) | 2000-04-10 | 2001-03-12 | 光情報媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002190136A true JP2002190136A (ja) | 2002-07-05 |
| JP4590758B2 JP4590758B2 (ja) | 2010-12-01 |
Family
ID=27343036
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001068761A Expired - Fee Related JP4590758B2 (ja) | 2000-04-10 | 2001-03-12 | 光情報媒体 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6596363B2 (ja) |
| EP (1) | EP1146510B1 (ja) |
| JP (1) | JP4590758B2 (ja) |
| CN (1) | CN1208770C (ja) |
| DE (1) | DE60130597T2 (ja) |
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- 2001-04-05 DE DE60130597T patent/DE60130597T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-04-05 EP EP01303217A patent/EP1146510B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-04-10 TW TW090108568A patent/TWI221280B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-04-10 US US09/829,067 patent/US6596363B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-04-10 CN CNB011163542A patent/CN1208770C/zh not_active Expired - Fee Related
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| US8728623B2 (en) | 2007-08-31 | 2014-05-20 | 3M Innovative Properties Company | Hardcoats having low surface energy and low lint attraction |
| KR20160147991A (ko) | 2014-05-30 | 2016-12-23 | 미쯔비시 레이온 가부시끼가이샤 | 수지제품 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1208770C (zh) | 2005-06-29 |
| CN1321972A (zh) | 2001-11-14 |
| DE60130597T2 (de) | 2008-07-03 |
| US6866884B2 (en) | 2005-03-15 |
| US20010041242A1 (en) | 2001-11-15 |
| EP1146510A1 (en) | 2001-10-17 |
| DE60130597D1 (de) | 2007-11-08 |
| US20030211276A1 (en) | 2003-11-13 |
| TWI221280B (en) | 2004-09-21 |
| JP4590758B2 (ja) | 2010-12-01 |
| US6596363B2 (en) | 2003-07-22 |
| EP1146510B1 (en) | 2007-09-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| RD01 | Notification of change of attorney |
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|
| A621 | Written request for application examination |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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|
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|
| A521 | Request for written amendment filed |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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