JPH04339333A

JPH04339333A - 光情報記録媒体

Info

Publication number: JPH04339333A
Application number: JP3116206A
Authority: JP
Inventors: Sanemori Soga; 眞守曽我; Shinji Ozaki; 伸司尾崎; Norihisa Mino; 規央美濃; Kazufumi Ogawa; 一文小川
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1991-03-13
Filing date: 1991-05-21
Publication date: 1992-11-26

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク、ビデオデ
ィスクあるいはデジタルオーディオディスクなどに適用
しうる光情報記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、透明な基板の片面に光エネルギー
によって変化可能な記録層を形成し、基板側からレーザ
ー光線によって記録・再生を行う光情報記録媒体が、急
速に実用化されつつある。記録層の材料開発のみならず
記録層の水分や酸素による劣化を防止しする保護膜の開
発も行われている（特開昭５９−６８８５０号公報）。

【０００３】保護層は透湿率の低い材質からなり、無機
物では、ＳｉＯ２　、ＭｇＯ、Ａｌ２　Ｏ３　等の酸化
物が用いられている。また有機物としては、ポリプロピ
レン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリ
デン等が用いられている。

【０００４】以上のように構成された光情報記録媒体に
ついて、以下その防湿について説明する。まず、基板を
通って侵入する水分を防ぐために、酸化物やフッ化物を
基板の表面に設けている。これらの無機材料は一般的に
透湿率が低いので、光情報記録媒体が、高湿度雰囲気中
に放置されても記録層の腐食をある程度改善できる。ま
た、これらの無機材料の代わりに、ポリ塩化ビニリデン
等比較的透湿率の低い有機高分子を用いて、同じように
記録層の腐食を防いでいる。さらに有機高分子系保護膜
としてエポキシ樹脂等の架橋型樹脂膜が提案されている
（特開昭５７−７０６９４号公報）。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな保護層では、次のような問題がある。（１）酸化物やフッ化物等の無機材料は、透明基板との
接着力が弱く、高温高湿中に放置すると剥離やクラック
が生じる。（２）酸化物やフッ化物はち密な薄膜をつくりにくい。（３）有機高分子材料では透湿率が低くても、水分子の
バリヤー性に限界があり、高温高湿中に長時間放置する
と防湿効果がなくなる。（４）高温高湿下で長期保存する場合、架橋型樹脂は、
空隙が多く透湿率が高いので水分による記録層の劣化が
生じやすい。

【０００６】これらの理由で、高温高湿中で光情報記録
媒体を保存すると、記録層が腐食し劣化するという問題
を有していた。本発明は上記の欠点に鑑み、防湿性、耐
食性にすぐれた光情報記録媒体を提供することを目的と
する。

【０００７】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
、本発明の光情報記録媒体は、光情報記録層を設けた透
明基板の外側表面にシロキサン結合を有する化学吸着膜
を設けたという構成からなる。

【０００８】また本発明の第２番目の発明の光情報記録
媒体は、基板の片面に設けられた光情報記録層の表面に
無機酸化物層を形成し、前記無機酸化物層表面もしくは
前記無機酸化物層と前記透明基板の両面にシロキサン結
合を有する化学吸着膜が設けられているという構成から
なる。

【０００９】前記構成においては、化学吸着膜がフッ化
アルキル基を含有することが好ましい。また前記構成に
おいては、化学吸着膜が単分子膜であることが好ましい
。

【００１０】また前記構成においては、無機酸化物層が
ＳｉＯ２　、ＴｉＯ２　、Ａｌ２　Ｏ３　の少なくとも
一つを含むことが好ましい。また前記構成においては、
基板が実質的に透明な樹脂製であることが好ましい。

【００１１】さらに前記構成においては、無機酸化物層
の厚さが１〜５００ｎｍであることが好ましい。

【００１２】

【作用】前記した本発明の構成によれば、化学吸着膜は
、ち密でクラックが発生しにくく、水分子を透過しにく
い。また、化学吸着膜と無機酸化物層あるいは透明基板
とはシロキサン結合を介して化学結合しているので、剥
離しない。ゆえに本構成からなる光情報記録媒体は、防
湿性、耐食性が優れている。

【００１３】また、化学吸着膜がフッ化アルキル基を含
有するという本発明の好ましい構成によれば、フッ素の
撥水性を利用してさらに防湿性、耐食性を向上すること
ができる。

【００１４】また、化学吸着膜が単分子膜であるという
本発明の好ましい構成によれば、きわめて薄く透明性の
良好な保護膜とすることができる。また、無機酸化物層
がＳｉＯ２　、ＴｉＯ２　、Ａｌ２　Ｏ３の少なくとも
一つを含むという本発明の好ましい構成によれば、これ
らの無機酸化物層も防湿性、耐食性を発揮するから、さ
らに優れた防湿性、耐食性を有する。とくにＳｉＯ２　
層の場合は、シロキサン結合の密度を高くできるので、
緻密な化学吸着膜を形成することができる。

【００１５】さらに、透明基板が樹脂製であるという本
発明の好ましい構成によれば、取扱いの良好な光情報記
録媒体とすることができる。

【００１６】

【実施例】以下本発明の実施例について、図面を参照し
ながら説明する。図１は本発明の第１番目の発明の一実
施例における光情報記録媒体の断面図である。図１にお
いて、１は透明基板、２は記録層、３はシロキサン結合
、４は化学吸着膜である。

【００１７】次に図３は本発明の第２番目の発明の一実
施例における光情報記録媒体の断面図である。図３にお
いて、１１は透明基板、１２は光情報記録層、１３は金
属酸化物層、１４はシロキサン結合、１５は化学吸着膜
である。

【００１８】本発明で使用できる透明基板１，１１の例
としては、ポリカーボネート、アクリル樹脂等が上げら
れる。金属酸化物層１３としてはＳｉＯ２　、ＴｉＯ２
　、Ａｌ２　Ｏ３　等が透明性の点から、好ましい。ま
た、ＳｉＯ２　の場合は、通常のガラス基板と同じよう
に表面に水酸基が高密度で存在するので、テトラクロロ
シランで前処理しなくてもクロロシラン系界面活性剤を
高密度で形成できる。

【００１９】金属酸化物層１３を形成するにあたっては
、スパッタリング法、真空蒸着法等の方法で形成するこ
とができる。本発明により、光情報記録層２上に、金属
酸化物層３を形成する場合、その膜厚は１〜５００ｎｍ
が好ましい。前記膜厚を５００ｎｍより大きくすると、
剥離あるいはクラックが生じやすくなる。また、１ｎｍ
より小さくすると、ピンホールが生じやすくなって、化
学吸着膜を形成しにくくなる。

【００２０】本発明の光情報記録媒体において、化学吸
着膜４，１５を構成する材料としては、一例としてフッ
化アルキル基を有するクロロシラン系界面活性剤を用い
ることができる。

【００２１】フッ化アルキル基を有するクロロシラン系
界面活性剤としては、例えばＣＦ３　（ＣＦ２　）７　
（ＣＨ２　）２　ＳｉＣｌ３　，ＣＦ３　ＣＨ２　Ｏ（
ＣＨ２　）１５ＳｉＣｌ３　，ＣＦ３　（ＣＨ２　）２
　Ｓｉ（ＣＨ３　）２　（ＣＨ２　）１５ＳｉＣｌ３　
，Ｆ（ＣＦ２　）４　（ＣＨ２　）２　Ｓｉ（ＣＨ３　
）２　（ＣＨ２　）９　ＳｉＣｌ３　，Ｆ（ＣＦ２　）
８　（ＣＨ２　）２　Ｓｉ（ＣＨ３　）２　（ＣＨ２　
）９　ＳｉＣｌ３　，ＣＦ３　ＣＯＯ（ＣＨ２　）１５
ＳｉＣｌ３　，ＣＦ３　（ＣＦ２　）５　（ＣＨ２　）
２　ＳｉＣｌ３　などのようなトリクロロシラン系界面
活性剤をはじめ、例えばＣＦ３　（ＣＦ２　）７　（Ｃ
Ｈ２　）２　ＳｉＣｌｎ　（ＣＨ３　）３−ｎ　，ＣＦ
３　（ＣＦ２　）７　（ＣＨ２　）２　ＳｉＣｌｎ　（
Ｃ２　Ｈ５　）３−ｎ　，ＣＦ３　ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２　
）１５ＳｉＣｌｎ　（ＣＨ３　）３−ｎ　，ＣＦ３　Ｃ
Ｈ２Ｏ（ＣＨ２　）１５ＳｉＣｌｎ　（Ｃ２　Ｈ５　）
３−ｎ　，ＣＦ３　（ＣＨ２　）２　Ｓｉ（ＣＨ３　）
２　（ＣＨ２　）１５ＳｉＣｌｎ　（ＣＨ３　）３−ｎ
　，Ｆ（ＣＦ２　）４　（ＣＨ２）２　Ｓｉ（ＣＨ３　
）２　（ＣＨ２　）９　ＳｉＣｌｎ　（Ｃ２　Ｈ５　）
３−ｎ　，Ｆ（ＣＦ２　）８　（ＣＨ２　）２　Ｓｉ（
ＣＨ３　）２　（ＣＨ２　）９　ＳｉＣｌｎ　（ＣＨ３
　）３−ｎ　，ＣＦ３　ＣＯＯ（ＣＨ２　）１５ＳｉＣ
ｌｎ　（ＣＨ３　）３−ｎ　，ＣＦ３　（ＣＦ２　）５
　（ＣＨ２　）２　ＳｉＣｌｎ　（ＣＨ３　）３−ｎ　
（但し式中のｎはいずれも１又は２）等のような低級ア
ルキル基置換のモノクロロシラン系あるいはジクロロシ
ラン系界面活性剤が挙げられる。

【００２２】これらの中でもとくにトリクロロシラン系
界面活性剤は、親水性基と結合したクロロシリル結合以
外のクロロシリル結合が、隣合うクロロシラン基とシロ
キサン結合で分子間結合を形成するため、より強固な化
学吸着膜となる。この理由からトリクロロシラン系界面
活性剤は、好ましい化学吸着膜の材料である。また、Ｃ
Ｆ３　（ＣＦ２　）ｎ　ＣＨ２　ＣＨ２　ＳｉＣｌ３　
（但し式中のｎは整数であり、３〜２５程度が最も扱い
やすい）が、溶剤溶解性、化学吸着性と撥水・防汚性等
の機能性との釣合が取れているため好ましい。さらにま
た、フッ化アルキル鎖部分にエチレン基やアセチレン基
を組み込んでおけば、化学吸着膜形成後５メガラド程度
の電子線照射で架橋できるのでさらに化学吸着膜自体の
硬度を向上させることも可能である。

【００２３】本発明に使用できるクロロシラン系界面活
性剤は、上述に例示したように直鎖状だけではなく、フ
ッ化アルキル基又は炭化水素基が分岐した形状でも、又
は末端の珪素にフッ化アルキル基もしくは炭化水素基が
置換した形状（即ちＲ、Ｒ１　、Ｒ２　、Ｒ３　をフッ
化アルキル基又は炭化水素基として一般式Ｒ２　ＳｉＣ
ｌ２　、Ｒ３　ＳｉＣｌ、Ｒ１　Ｒ２　ＳｉＣｌ２　も
しくはＲ１　Ｒ２　Ｒ３　ＳｉＣｌ等）であってもよい
が、吸着密度を高めるためには一般には直鎖状が好まし
い。さらに、例えば、ＳｉＣｌ４　、ＳｉＨＣｌ３　、
ＳｉＨ２　Ｃｌ２　、Ｃｌ−（ＳｉＣｌ２　Ｏ）ｎ　−
ＳｉＣｌ３　（但し式中ｎは自然数）、ＳｉＣｌｍ　（
ＣＨ３　）４−ｍ　、ＳｉＣｌｍ　（Ｃ２　Ｈ５　）４
−ｍ　（但し式中ｍは１〜３の整数）、ＨＳｉＣｌｌ　
（ＣＨ３　）３−ｌ　、ＨＳｉＣｌｌ　（Ｃ２　Ｈ５　
）３−ｌ　（但し式中ｌは１又は２）等のようなクロロ
シリル結合を複数個含む物質を化学吸着させた後、水と
反応すると、表面のクロロシリル結合が親水性のシラノ
ール結合に変わり、金属酸化物層や透明基板の水酸基密
度を増加させることができる。

【００２４】なお、このクロロシリル基を複数個含む物
質の中でも、テトラクロロシラン（ＳｉＣｌ４　）は反
応性が高く分子量も小さいためより高密度にシラノール
結合を付与できるため好ましい。

【００２５】このようにして親水基密度を増加させると
、透明基板の酸化処理よりも水酸基密度をより高くする
ことができる。この上に例えばフッ化アルキル基を含む
クロロシラン系界面活性剤を化学吸着でき、このように
して得た化学吸着膜はより高密度化されるため、防湿性
、耐食性等の機能がより高められる。

【００２６】本発明の化学吸着膜を形成する方法は、透
明基板表面を酸化処理して親水性にする工程と、酸化処
理した透明基板表面あるいは金属酸化物層表面を非水系
の有機溶媒に浸漬等により接触させて、基材の表面にク
ロロシラン系界面活性剤を化学吸着させ、シロキサン結
合を介してフッ化アルキル基を含有する化学吸着膜を形
成する工程を含むことが好ましい。

【００２７】前記透明基板表面を酸化処理する手段とし
ては、例えば酸素プラズマ処理、コロナ処理、もしくは
濃硫酸と重クロム酸カリウムの混合溶液に浸漬する方法
（クロム混酸液処理）等通常の手法が適用される。

【００２８】本発明の光記録媒体表面にシロキサン結合
を介してフッ化アルキル基を含有する化学吸着膜を形成
する方法に用いる溶媒は、化学吸着膜を形成するプラス
チック成形品を溶解せず、かつクロロシラン系界面活性
剤と反応する活性水素を持たない有機溶媒であればよい
。その例として例えば１，１−ジクロロ，１−フルオロ
エタン、１，１−ジクロロ，２、２、２−トリフルオロ
エタン、１，１−ジクロロ，２，２，３，３，３−ペン
タフルオロプロパン、１，３−ジクロロ，１，１，２，
２，３−ヘプタフルオロプロパン、フルオロアルキル基
を有する三級アミンあるいはフルオロアルキル基を有す
る環状エーテル等のフッ素系溶媒、例えばヘキサン、オ
クタン、ヘキサデカン、シクロヘキサン等の炭化水素系
溶媒、例えばジブチルエーテル、ジベンジルエーテル等
のエーテル系溶媒、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸イソプロピル、酢酸アミル等エステル系溶媒の何れ
かが好ましい。

【００２９】また、本発明の光記録媒体表面に形成され
る化学吸着膜は、単分子化学吸着膜一層だけでも充分に
機能が発揮される。単分子化学吸着膜を一層だけ形成す
るには、クロロシラン系界面活性剤又はクロロシリル基
を複数個含む物質を化学吸着した後、水分に接触させな
いで非水系の溶剤で洗浄するだけでよく、特別な工程を
要しなく簡便に行える。また、化学吸着膜は単分子膜が
累積していても良いこと勿論である。このように、化学
吸着膜が単分子膜を形成すると、付与された機能性を示
す基が配向し、密度も向上するためより高機能を発揮で
きる。

【００３０】次に具体的実施例を用いて本発明を説明す
る。実施例１厚み１．２ｍｍ、直径１２０ｍｍのポリカーボネート基
板１の片面に、真空蒸着でＴｅ，ＴｅＯ２　を主成分と
する光情報記録層２を設け、さらにその上に、ＵＶ硬化
型接着剤を用いて前記ポリカーボネート基板１と同じも
のをはりつける。このようにしてつくったディスクを用
い、ＵＶドライ・ストリッパー（ＵＶ−１、サムコイン
ターナショナル製）中で酸素流量１ｌ／ｍｉｎの条件で
酸素プラズマ処理を１０分間施して表面を酸化処理した
後、フッ化アルキル基を含むクロロシラン系界面活性剤
としてヘプタデカフルオロデシルトリクロロシランを用
い、濃度１０−２ｍｏｌ　／ｌのシクロヘキサン溶液に
窒素雰囲気下室温で６０分間浸漬し、引き続いて未反応
のヘプタデカフルオロデシルトリクロロシランをシクロ
ヘキサンで洗浄して、しかる後純水で洗浄し、フッ化ア
ルキル基４を含むシロキサン結合３を介した化学吸着単
分子膜をポリカーボネート基板１，１表面に形成した。

【００３１】実施例２実施例１の、ヘプタデカフルオロデシルトリクロロシラ
ンをトリデカフルオロオクチルトリクロルシランに、シ
クロヘキサンを１，１−ジクロロ，２，２，３，３，３
−ペンタフルオロプロパンに変えて、実施例１と同様に
実験をした。

【００３２】実施例３実施例１のヘプタデカフルオロオクチルトリクロロシラ
ンをパーフルオロドデシルトリクロルシランに変えて、
実施例１と同様の実験をした。

【００３３】実施例４実施例１において酸素プラズマ処理した後、まず１ｗｔ
％のテトラクロロシランのシクロヘキサン溶液に窒素雰
囲気下室温で６０分間浸漬し、引き続いて未反応のテト
ラクロロシランをシクロヘキサンで洗浄して、しかる後
純水で洗浄し、乾燥した試料を用いて実施例１と同様の
実験をした。

【００３４】比較例１実施例１において透明基板上に化学吸着膜の代わりに、
窒化ケイ素膜をプラズマＣＶＤ法により１５０ｎｍ設け
た。

【００３５】比較例２実施例１において透明基板上に化学吸着膜の代わりに、
ＳｉＯ２　膜を真空蒸着法により１５０ｎｍ設けた。

【００３６】比較例３実施例１において透明基板上に化学吸着膜の代わりに、
エチレンー酢酸ビニル共重合体を１５０ｎｍ設けた。

【００３７】比較例４保護膜なし。以上の試料を７０℃、８０％ＲＨ中に放置
し、光（８３０ｎｍ）の透過率の時間変化を調べた。そ
の結果を（図２）に示す。図２において、曲線Ａは実施
例１〜４、Ｂは比較例１、Ｃは比較例２、Ｄは比較例３
、Ｅは比較例４のそれぞれの透過率の時間変化を示す。

【００３８】図２からも明らかなように、本実施例の光
情報記録媒体はいずれも１０００時間後においても透過
率がほとんど変化せず、記録膜が高温高湿中で腐食劣化
せずに安定であることがわかる。それに反して、比較例
のものは１０〜１００時間で保護膜の剥離、クラック等
により記録膜が腐食劣化し、透過率が著しく低下した。

【００３９】実施例５厚み１．２ｍｍ、直径１２０ｍｍのポリカーボネート基
板１１の片面に、真空蒸着でＴｅ，ＴｅＯ２　を主成分
とする光情報記録層１２を設け、さらにその上に、スパ
ッタ法により、膜厚１０ｎｍのＳｉＯ２　を金属酸化物
層１３として形成した。このようにしてつくったディス
クを用い、ＵＶドライ・ストリッパー（ＵＶ−１、サム
コインターナショナル製）中で酸素流量１ｌ／ｍｉｎの
条件で酸素プラズマ処理を１０分間施してポリカーボネ
ート基板表面を酸化処理した後、フッ化アルキル基を含
むクロロシラン系界面活性剤としてヘプタデカフルオロ
デシルトリクロロシランを用い、濃度１０−２ｍｏｌ　
／ｌのシクロヘキサン溶液に窒素雰囲気下室温で６０分
間浸漬し、引き続いて未反応のヘプタデカフルオロデシ
ルトリクロロシランをシクロヘキサンで洗浄して、しか
る後純水で洗浄し、フッ化アルキル基を含むシロキサン
結合１４を介した化学吸着単分子膜１５をＳｉＯ２　層
１３表面およびポリカーボネート基板表面１１に形成し
た。

【００４０】実施例６実施例５の金属酸化物層をＳｉＯ２　からＴｉＯ２　に
変えて、実施例５と同様に実験をした。

【００４１】実施例７実施例５の金属酸化物層をＳｉＯ２　からＡｌ２　Ｏ３
　に変えて、実施例５と同様の実験をした。

【００４２】実施例８実施例５において酸素プラズマ処理した後、まず１ｗｔ
％のテトラクロロシランのシクロヘキサン溶液に窒素雰
囲気下室温で６０分間浸漬し、引き続いて未反応のテト
ラクロロシランをシクロヘキサンで洗浄して、しかる後
純水で洗浄し、乾燥した試料を用いて実施例５と同様の
実験をした。

【００４３】実施例９実施例５において、ヘプタデカフルオロデシルトリクロ
ロシランを９−（ヘプタデカフルオロデシルジメチルシ
リルノニルトイリクロロシランに、シクロヘキサンをト
リ（ｎーノナフルオロブチル）アミンに変えて、実施例
１と同様の実験をした。

【００４４】比較例５実施例５において化学吸着膜を形成しない試料を作った
。以上の試料を７０℃、８０％ＲＨ中に放置し、光（８
３０ｎｍ）の透過率の時間変化を調べた。その結果を図
４に示す。図４において、曲線Ｆは実施例１〜５、Ｇは
比較例１の透過率の時間変化を示す。

【００４５】図４からも明らかなように、本実施例の光
情報記録媒体はいずれも１０００時間後においても透過
率がほとんど変化せず、記録膜が高温高湿中で腐食劣化
せずに安定であることがわかる。これに対して比較例の
ものは１０〜１００時間で保護膜の剥離、クラック等に
より記録膜が腐食劣化し、透過率が著しく低下した。

【００４６】なお実施例では、光情報記録層はＴｅ，Ｔ
ｅＯ２　系の記録膜を用いて説明したが、これに限定さ
れるものではなく、Ｔｂ・Ｆｅ・Ｃｏ系膜、Ａｌ系膜な
ど他の光情報記録膜でも同様の効果が期待できる。

【００４７】

【発明の効果】以上のように本発明は、光情報記録層を
内側に設けた透明基板の外側表面にシロキサン結合を有
する化学吸着膜を設けることにより、防湿性、防食性を
向上させることができ、その実用効果は大なるものがあ
る。

【００４８】また、透明基板の片面に設けられた光情報
記録層上に金属酸化物層を形成し、その金属酸化物層表
面もしくは前記金属酸化物層と前記透明基板の両面にシ
ロキサン結合を有する化学吸着膜を設けることにより、
さらに防湿性、防食性を向上させることができ、その実
用効果は大なるものがある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１番目の発明の一実施例の光情報記
録媒体を分子レベルまで拡大した断面モデル図である。

【図２】同実施例および比較例における光情報記録媒体
の７０℃、８０％ＲＨ中における、光（８３０ｎｍ）透
過率の経時変化を示す図である。

【図３】本発明の第２番目の発明の一実施例の光情報記
録媒体を分子レベルまで拡大した断面モデル図である。

【図４】同実施例および比較例における光情報記録媒体
の７０℃、８０％ＲＨ中における、光（８３０ｎｍ）透
過率の経時変化を示す図である。

【符号の説明】

１　　透明基板２　　記録層３　　シロキサン結合４　　化学吸着膜単分子膜１１　　透明基板１２　　光情報記録層１３　　金属酸化物層１４　　シロキサン結合１５　　化学吸着膜Ａ　　実施例１〜４の透過率変化曲線Ｂ　　比較例１の透過率変化曲線Ｃ　　比較例２の透過率変化曲線Ｄ　　比較例３の透過率変化曲線Ｅ　　比較例４の透過率変化曲線Ｆ　　実施例５〜９の透過率変化曲線Ｇ　　比較例５の透過率変化曲線

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】　　光情報記録層を設けた透明基板の外側
表面にシロキサン結合を有する化学吸着膜が設けられた
光情報記録媒体。
【請求項２】　　基板の片面に設けられた光情報記録層
の表面に無機酸化物層を形成し、前記無機酸化物層表面
もしくは前記無機酸化物層と前記透明基板の両面にシロ
キサン結合を有する化学吸着膜が設けられた光情報記録
媒体。
【請求項３】　　化学吸着膜が、フッ化アルキル基を含
有する請求項１または２に記載の光情報記録媒体。
【請求項４】　　化学吸着膜が単分子膜である請求項１
または２に記載の光情報記録媒体。
【請求項５】　　無機酸化物層がＳｉＯ２　、ＴｉＯ２
　、Ａｌ２　Ｏ３　の少なくとも一つを含む請求項１ま
たは２に記載の光情報記録媒体。
【請求項６】　　基板が実質的に透明な樹脂製である請
求項１または２に記載の光情報記録媒体。
【請求項７】　　無機酸化物層の厚さが１〜５００ｎｍ
である請求項１または２に記載の光情報記録媒体。