JPH04331785A - 撥水・防汚性石材 - Google Patents
撥水・防汚性石材Info
- Publication number
- JPH04331785A JPH04331785A JP9891591A JP9891591A JPH04331785A JP H04331785 A JPH04331785 A JP H04331785A JP 9891591 A JP9891591 A JP 9891591A JP 9891591 A JP9891591 A JP 9891591A JP H04331785 A JPH04331785 A JP H04331785A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stone material
- stone
- film
- stain
- fluorinated alkyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004575 stone Substances 0.000 title claims abstract description 55
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 20
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 21
- 239000005871 repellent Substances 0.000 claims description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 17
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 12
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 abstract description 12
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 abstract description 7
- 239000004579 marble Substances 0.000 abstract description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 abstract description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 abstract description 3
- JNEGECSXOURYNI-UHFFFAOYSA-N trichloro(1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,10,10,10-heptadecafluorodecyl)silane Chemical compound FC(F)(F)CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)[Si](Cl)(Cl)Cl JNEGECSXOURYNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 125000002729 alkyl fluoride group Chemical group 0.000 abstract 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 33
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 8
- 239000010438 granite Substances 0.000 description 8
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 4
- 239000011435 rock Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N trichlorosilicon Chemical compound Cl[Si](Cl)Cl PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FRCHKSNAZZFGCA-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloro-1-fluoroethane Chemical compound CC(F)(Cl)Cl FRCHKSNAZZFGCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003796 beauty Effects 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 2
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- -1 chlorosilyl groups Chemical group 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N dibenzyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1COCC1=CC=CC=C1 MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical class Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 2
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHMHBGPWCHTMQE-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloro-1,1,1-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)Cl OHMHBGPWCHTMQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COAUHYBSXMIJDK-UHFFFAOYSA-N 3,3-dichloro-1,1,1,2,2-pentafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(Cl)Cl COAUHYBSXMIJDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910003818 SiH2Cl2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003822 SiHCl3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003916 acid precipitation Methods 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 125000003963 dichloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- BUMGIEFFCMBQDG-UHFFFAOYSA-N dichlorosilicon Chemical compound Cl[Si]Cl BUMGIEFFCMBQDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- UHCBBWUQDAVSMS-UHFFFAOYSA-N fluoroethane Chemical compound CCF UHCBBWUQDAVSMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000011356 non-aqueous organic solvent Substances 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Finishing Walls (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は大理石や花こう岩、みか
げ石等の石材の表面改質に関する。特に撥水性・防汚性
を付与した石材に関する。
げ石等の石材の表面改質に関する。特に撥水性・防汚性
を付与した石材に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、石材として花コウ岩、大理石、み
かげ石等が多くの分野で使われている。たとえば建築物
、建築材、芸術品、置物、風呂、墓石、記念碑、門柱、
石垣、歩道などである。これらの石材は表面を磨きあげ
て石の美観を発揮させて使用されるのが普通である。
かげ石等が多くの分野で使われている。たとえば建築物
、建築材、芸術品、置物、風呂、墓石、記念碑、門柱、
石垣、歩道などである。これらの石材は表面を磨きあげ
て石の美観を発揮させて使用されるのが普通である。
【0003】これらの石材にとって一般的に望まれてい
るのは防汚性である。すなわち、石材は外気に当たって
空気中の埃が付着したり、室内の埃が付着しやすい。そ
して石材は汚れやすく、またいったん汚れると汚れが取
れにくいという問題がある。また屋外に置く石材は、酸
性雨に晒されたり、氷が付着する等して、表面にひび割
れが入りやすくなるため、防汚性とともに撥水性付与が
必要な場合もある。
るのは防汚性である。すなわち、石材は外気に当たって
空気中の埃が付着したり、室内の埃が付着しやすい。そ
して石材は汚れやすく、またいったん汚れると汚れが取
れにくいという問題がある。また屋外に置く石材は、酸
性雨に晒されたり、氷が付着する等して、表面にひび割
れが入りやすくなるため、防汚性とともに撥水性付与が
必要な場合もある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
石材は単に表面に磨きをかけるだけであり、長期間用い
ると表面に汚れが付着したり、またその汚れが取れにく
いという課題があった。さらに環境問題により表面にひ
びが入りやすいという課題があった。これらの課題はと
くに高価な石材を用いたときには大きな問題となるもの
であった。
石材は単に表面に磨きをかけるだけであり、長期間用い
ると表面に汚れが付着したり、またその汚れが取れにく
いという課題があった。さらに環境問題により表面にひ
びが入りやすいという課題があった。これらの課題はと
くに高価な石材を用いたときには大きな問題となるもの
であった。
【0005】本発明は、従来技術の課題を解決するため
、撥水性・防汚性のすぐれた石材を提供することを目的
とする。
、撥水性・防汚性のすぐれた石材を提供することを目的
とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
、本発明の撥水・防汚性石材は、表面にシロキサン結合
を介してフッ化アルキル基を含有する化学吸着膜が設け
られた撥水・防汚性石材であるという構成を備えたもの
である。前記構成においては、化学吸着膜が単分子膜で
あることが好ましい。
、本発明の撥水・防汚性石材は、表面にシロキサン結合
を介してフッ化アルキル基を含有する化学吸着膜が設け
られた撥水・防汚性石材であるという構成を備えたもの
である。前記構成においては、化学吸着膜が単分子膜で
あることが好ましい。
【0007】
【作用】前記本発明の構成によれば、石材の表面にシロ
キサン結合を介してフッ化アルキル基を含有する化学吸
着膜が設けられているので、撥水性・防汚性に優れ、か
つ石材表面の美観をそのまま生かすことができる。すな
わち、前記化学吸着膜の表層にはフッ化アルキル基が存
在するから、撥水性・防汚性に優れたものとなる。また
、前記化学吸着膜の基部は、シロキサン結合を介して化
学結合して形成されているので、耐久性に優れた膜とす
ることができ、表面を繰り返し洗浄しても前記化学吸着
膜は石材表面から容易には剥離しない。さらに、本発明
の化学吸着膜は、ナノメーター乃至オングストローム単
位の極薄い膜であるので、光沢などの美観を損ねること
がない。
キサン結合を介してフッ化アルキル基を含有する化学吸
着膜が設けられているので、撥水性・防汚性に優れ、か
つ石材表面の美観をそのまま生かすことができる。すな
わち、前記化学吸着膜の表層にはフッ化アルキル基が存
在するから、撥水性・防汚性に優れたものとなる。また
、前記化学吸着膜の基部は、シロキサン結合を介して化
学結合して形成されているので、耐久性に優れた膜とす
ることができ、表面を繰り返し洗浄しても前記化学吸着
膜は石材表面から容易には剥離しない。さらに、本発明
の化学吸着膜は、ナノメーター乃至オングストローム単
位の極薄い膜であるので、光沢などの美観を損ねること
がない。
【0008】また、化学吸着膜が単分子膜であるという
本発明の好ましい構成によれば、均一な厚さの薄い膜と
することができるので、透明性に優れ、石材表面の美観
を損ねることがない。
本発明の好ましい構成によれば、均一な厚さの薄い膜と
することができるので、透明性に優れ、石材表面の美観
を損ねることがない。
【0009】
【実施例】本発明の石材は図1に示すように、石材1の
表面にシロキサン結合2を介して、フッ化アルキル基を
含有する単分子膜3が形成されている。石材1はSiO
2 、Al2 O3 、CaOなどの金属酸化物から構
成されており、その表面には水酸基がある。その水酸基
とフッ化アルキル基を有するクロロシラン系界面活性剤
とを反応させることにより、石材1の表面にシロキサン
結合2を介して、フッ化アルキル基を含有する単分子膜
3を形成させることができる。
表面にシロキサン結合2を介して、フッ化アルキル基を
含有する単分子膜3が形成されている。石材1はSiO
2 、Al2 O3 、CaOなどの金属酸化物から構
成されており、その表面には水酸基がある。その水酸基
とフッ化アルキル基を有するクロロシラン系界面活性剤
とを反応させることにより、石材1の表面にシロキサン
結合2を介して、フッ化アルキル基を含有する単分子膜
3を形成させることができる。
【0010】石材の例として、火成岩では花コウ岩、安
山岩、ハンレイ岩などがあげられる。また、堆積岩の例
としては、大理石、砂質岩、泥質岩等があげられる。本
発明の石材表面に設けられる化学吸着膜はフッ化アルキ
ル基を有するクロロシラン系界面活性剤から構成されて
いる。フッ化アルキル基を有するクロロシラン系界面活
性剤としては、例えばCF3 (CF2 )7 (CH
2 )2 SiCl3 ,CF3 CH2 O(CH2
)15SiCl3 ,CF3 (CH2 )2 Si
(CH3 )2 (CH2 )15SiCl3 ,F(
CF2 )4 (CH2 )2 Si(CH3 )2
(CH2 )9 SiCl3 ,F(CF2 )8 (
CH2 )2 Si(CH3 )2 (CH2 )9
SiCl3 ,CF3 COO(CH2 )15SiC
l3 ,CF3 (CF2 )5 (CH2 )2 S
iCl3 などのようなトリクロロシラン系界面活性剤
をはじめ、例えばCF3 (CF2 )7 (CH2
)2 SiCln (CH3 )3−n ,CF3 (
CF2 )7 (CH2 )2 SiCln (C2
H5 )3−n ,CF3 CH2O(CH2 )15
SiCln (CH3 )3−n ,CF3 CH2O
(CH2 )15SiCln (C2 H5 )3−n
,CF3 (CH2 )2 Si(CH3 )2 (
CH2 )15SiCln (CH3 )3−n ,F
(CF2 )4 (CH2 )2 Si(CH3 )2
(CH2 )9 SiCln (C2 H5 )3−
n ,F(CF2 )8 (CH2 )2 Si(CH
3 )2 (CH2 )9 SiCln (CH3)3
−n ,CF3 COO(CH2 )15SiCln
(CH3 )3−n ,CF3 (CF2 )5 (C
H2 )2 SiCln (CH3 )3−n (但し
式中のnは何れも1又は2)等のような低級アルキル基
置換のモノクロロシラン系あるいはジクロロシラン系界
面活性剤が挙げられる。これらの中でも特にトリクロロ
シラン系界面活性剤の親水性基と結合したクロロシリル
結合以外のクロロシリル結合が、隣合うクロロシラン基
とシロキサン結合で分子間結合を形成するため、より強
固な化学吸着膜となることから好ましい。また、CF3
(CF2 )n CH2 CH2 SiCl3 (但
し式中のnは整数であり、3〜25程度が最も扱いやす
い)が、溶剤溶解性、化学吸着性と撥水・防汚性等の機
能性との釣合が取れているため好ましい。さらにまた、
フッ化アルキル鎖部分にエチレン基やアセチレン基を組
み込んでおけば、化学吸着膜形成後5メガラド程度の電
子線照射で架橋できるのでさらに化学吸着膜自体の硬度
を向上させることも可能である。
山岩、ハンレイ岩などがあげられる。また、堆積岩の例
としては、大理石、砂質岩、泥質岩等があげられる。本
発明の石材表面に設けられる化学吸着膜はフッ化アルキ
ル基を有するクロロシラン系界面活性剤から構成されて
いる。フッ化アルキル基を有するクロロシラン系界面活
性剤としては、例えばCF3 (CF2 )7 (CH
2 )2 SiCl3 ,CF3 CH2 O(CH2
)15SiCl3 ,CF3 (CH2 )2 Si
(CH3 )2 (CH2 )15SiCl3 ,F(
CF2 )4 (CH2 )2 Si(CH3 )2
(CH2 )9 SiCl3 ,F(CF2 )8 (
CH2 )2 Si(CH3 )2 (CH2 )9
SiCl3 ,CF3 COO(CH2 )15SiC
l3 ,CF3 (CF2 )5 (CH2 )2 S
iCl3 などのようなトリクロロシラン系界面活性剤
をはじめ、例えばCF3 (CF2 )7 (CH2
)2 SiCln (CH3 )3−n ,CF3 (
CF2 )7 (CH2 )2 SiCln (C2
H5 )3−n ,CF3 CH2O(CH2 )15
SiCln (CH3 )3−n ,CF3 CH2O
(CH2 )15SiCln (C2 H5 )3−n
,CF3 (CH2 )2 Si(CH3 )2 (
CH2 )15SiCln (CH3 )3−n ,F
(CF2 )4 (CH2 )2 Si(CH3 )2
(CH2 )9 SiCln (C2 H5 )3−
n ,F(CF2 )8 (CH2 )2 Si(CH
3 )2 (CH2 )9 SiCln (CH3)3
−n ,CF3 COO(CH2 )15SiCln
(CH3 )3−n ,CF3 (CF2 )5 (C
H2 )2 SiCln (CH3 )3−n (但し
式中のnは何れも1又は2)等のような低級アルキル基
置換のモノクロロシラン系あるいはジクロロシラン系界
面活性剤が挙げられる。これらの中でも特にトリクロロ
シラン系界面活性剤の親水性基と結合したクロロシリル
結合以外のクロロシリル結合が、隣合うクロロシラン基
とシロキサン結合で分子間結合を形成するため、より強
固な化学吸着膜となることから好ましい。また、CF3
(CF2 )n CH2 CH2 SiCl3 (但
し式中のnは整数であり、3〜25程度が最も扱いやす
い)が、溶剤溶解性、化学吸着性と撥水・防汚性等の機
能性との釣合が取れているため好ましい。さらにまた、
フッ化アルキル鎖部分にエチレン基やアセチレン基を組
み込んでおけば、化学吸着膜形成後5メガラド程度の電
子線照射で架橋できるのでさらに化学吸着膜自体の硬度
を向上させることも可能である。
【0011】本発明に使用できるクロロシラン系界面活
性剤は、上述に例示したように直鎖状だけではなく、フ
ッ化アルキル基又は炭化水素基が分岐した形状でも、又
は末端の珪素にフッ化アルキル基もしくは炭化水素基が
置換した形状(即ちR、R1 、R2 、R3 をフッ
化アルキル基又は炭化水素基として一般式R2 SiC
l2 、R3 SiCl、R1 R2 SiCl2 も
しくはR1 R2 R3 SiCl等)であってもよい
が、吸着密度を高めるためには一般には直鎖状が好まし
い。さらに、例えば、SiCl4 、SiHCl3 、
SiH2 Cl2 、Cl−(SiCl2 O)n −
SiCl3 (但し式中nは自然数)、SiClm (
CH3 )4−m 、SiClm (C2 H5 )4
−m (但し式中mは1〜3の整数)、HSiCll
(CH3 )3−l 、HSiCll (C2 H5
)3−l (但し式中lは1又は2)等のようなクロロ
シリル結合を複数個含む物質を化学吸着させた後、水と
反応すると、表面のクロロシリル結合が親水性のシラノ
ール結合に変わり、石材表面が親水性となる。
性剤は、上述に例示したように直鎖状だけではなく、フ
ッ化アルキル基又は炭化水素基が分岐した形状でも、又
は末端の珪素にフッ化アルキル基もしくは炭化水素基が
置換した形状(即ちR、R1 、R2 、R3 をフッ
化アルキル基又は炭化水素基として一般式R2 SiC
l2 、R3 SiCl、R1 R2 SiCl2 も
しくはR1 R2 R3 SiCl等)であってもよい
が、吸着密度を高めるためには一般には直鎖状が好まし
い。さらに、例えば、SiCl4 、SiHCl3 、
SiH2 Cl2 、Cl−(SiCl2 O)n −
SiCl3 (但し式中nは自然数)、SiClm (
CH3 )4−m 、SiClm (C2 H5 )4
−m (但し式中mは1〜3の整数)、HSiCll
(CH3 )3−l 、HSiCll (C2 H5
)3−l (但し式中lは1又は2)等のようなクロロ
シリル結合を複数個含む物質を化学吸着させた後、水と
反応すると、表面のクロロシリル結合が親水性のシラノ
ール結合に変わり、石材表面が親水性となる。
【0012】なお、このクロロシリル基を複数個含む物
質の中でも、テトラクロロシラン(SiCl4 )は反
応性が高く分子量も小さいためより高密度にシラノール
結合を付与できるため好ましい。このようにして親水性
化すると、高分子を含む基体の基体の酸化処理よりも親
水性をより高くすることができる。この上に例えばフッ
化アルキル基を含むクロロシラン系界面活性剤を化学吸
着でき、このようにして得た化学吸着膜はより高密度化
されるため、撥水性、防汚性等の機能がより高められる
。
質の中でも、テトラクロロシラン(SiCl4 )は反
応性が高く分子量も小さいためより高密度にシラノール
結合を付与できるため好ましい。このようにして親水性
化すると、高分子を含む基体の基体の酸化処理よりも親
水性をより高くすることができる。この上に例えばフッ
化アルキル基を含むクロロシラン系界面活性剤を化学吸
着でき、このようにして得た化学吸着膜はより高密度化
されるため、撥水性、防汚性等の機能がより高められる
。
【0013】本発明の石材に用いられる石材の表面にシ
ロキサン結合を介してフッ化アルキル基を含有する化学
吸着膜を形成する方法は、石材を非水系の有機溶媒に浸
漬して、この表面にクロロシラン系界面活性剤を化学吸
着させ、シロキサン結合を介してフッ化アルキル基を含
有する化学吸着膜を形成する工程を含む。本発明の石材
の表面にシロキサン結合を介してフッ化アルキル基を含
有する化学吸着膜を形成する方法に用いる非水系溶媒は
、クロロシラン系界面活性剤と反応する活性水素を持た
ない有機溶媒であればよい。その例として例えば1,1
−ジクロロ,1−フルオロエタン、1,1−ジクロロ,
2、2、2−トリフルオロエタン、1,1−ジクロロ,
2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロパン、1,3
−ジクロロ,1,1,2,2,3−ヘプタフルオロプロ
パン等のフッ素系溶媒、例えばヘキサン、オクタン、ヘ
キサデカン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、例え
ばジブチルエーテル、ジベンジルエーテル等のエーテル
系溶媒、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロ
ピル、酢酸アミル等エステル系溶媒の何れかが好ましい
。
ロキサン結合を介してフッ化アルキル基を含有する化学
吸着膜を形成する方法は、石材を非水系の有機溶媒に浸
漬して、この表面にクロロシラン系界面活性剤を化学吸
着させ、シロキサン結合を介してフッ化アルキル基を含
有する化学吸着膜を形成する工程を含む。本発明の石材
の表面にシロキサン結合を介してフッ化アルキル基を含
有する化学吸着膜を形成する方法に用いる非水系溶媒は
、クロロシラン系界面活性剤と反応する活性水素を持た
ない有機溶媒であればよい。その例として例えば1,1
−ジクロロ,1−フルオロエタン、1,1−ジクロロ,
2、2、2−トリフルオロエタン、1,1−ジクロロ,
2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロパン、1,3
−ジクロロ,1,1,2,2,3−ヘプタフルオロプロ
パン等のフッ素系溶媒、例えばヘキサン、オクタン、ヘ
キサデカン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、例え
ばジブチルエーテル、ジベンジルエーテル等のエーテル
系溶媒、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロ
ピル、酢酸アミル等エステル系溶媒の何れかが好ましい
。
【0014】また、本発明の石材に用いられる石材表面
に形成される化学吸着膜は、単分子化学吸着膜一層だけ
でも充分に機能が発揮される。単分子化学吸着膜を一層
だけ形成するには、クロロシラン系界面活性剤又はクロ
ロシリル基を複数個含む物質を化学吸着した後、水分に
接触させないで非水系の溶剤で洗浄するだけでよく、特
別な工程を要しなく簡便に行える。また、化学吸着膜は
単分子膜が累積していても良いこと勿論である。このよ
うに、化学吸着膜が累積膜を形成すると、付与された機
能性を示す基が配向し、密度も向上するためより高機能
を発揮できる。
に形成される化学吸着膜は、単分子化学吸着膜一層だけ
でも充分に機能が発揮される。単分子化学吸着膜を一層
だけ形成するには、クロロシラン系界面活性剤又はクロ
ロシリル基を複数個含む物質を化学吸着した後、水分に
接触させないで非水系の溶剤で洗浄するだけでよく、特
別な工程を要しなく簡便に行える。また、化学吸着膜は
単分子膜が累積していても良いこと勿論である。このよ
うに、化学吸着膜が累積膜を形成すると、付与された機
能性を示す基が配向し、密度も向上するためより高機能
を発揮できる。
【0015】次に具体的実施例を用いて本発明を説明す
る。 実施例1 花コウ岩(50cm×50cm×20cm)をヘプタデ
カフルオロデシルトリクロロシランの10−2mol
/lシクロヘキサン溶液に室温、窒素雰囲気下で120
分間浸漬し、引き続いて未反応のヘプタデカフルオロデ
シルトリクロロシランをシクロヘキサンで洗浄して、し
かる後純水で洗浄し、フッ化アルキル基を含むシロキサ
ン結合を介した化学吸着単分子膜を花コウ岩表面に形成
した。
る。 実施例1 花コウ岩(50cm×50cm×20cm)をヘプタデ
カフルオロデシルトリクロロシランの10−2mol
/lシクロヘキサン溶液に室温、窒素雰囲気下で120
分間浸漬し、引き続いて未反応のヘプタデカフルオロデ
シルトリクロロシランをシクロヘキサンで洗浄して、し
かる後純水で洗浄し、フッ化アルキル基を含むシロキサ
ン結合を介した化学吸着単分子膜を花コウ岩表面に形成
した。
【0016】実施例2
実施例1の花コウ岩を大理石(50cm×50cm×1
cm)に代え、まず1wt%のテトラクロロシラン溶液
(溶媒:1,1−ジクロロ,1−フルオロエタン)に窒
素雰囲気下室温で60分間浸漬し、引き続いて未反応の
テトラクロロシランを1,1−ジクロロ,1−フルオロ
エタンで洗浄して、しかる後純水で洗浄し、乾燥した試
料を用いてシクロヘキサンを1,1−ジクロロ,1−フ
ルオロエタンに代えて、実施例1と同様の実験をした。
cm)に代え、まず1wt%のテトラクロロシラン溶液
(溶媒:1,1−ジクロロ,1−フルオロエタン)に窒
素雰囲気下室温で60分間浸漬し、引き続いて未反応の
テトラクロロシランを1,1−ジクロロ,1−フルオロ
エタンで洗浄して、しかる後純水で洗浄し、乾燥した試
料を用いてシクロヘキサンを1,1−ジクロロ,1−フ
ルオロエタンに代えて、実施例1と同様の実験をした。
【0017】実施例1の石材を風雨の当たる屋外に30
日間放置した。また、実施例2の大理石を風呂場のタイ
ルとして30日間使用した。比較例として、化学吸着膜
を形成していない石材を使用した。30日後、両者の表
面の汚れ状態を比べてみた。その結果、実施例1は汚れ
が少なかった。また実施例2は、汚れほとんど無かった
。これに対して比較例1は、汚れが多かった。また比較
例2は、水垢がこびりついていた。
日間放置した。また、実施例2の大理石を風呂場のタイ
ルとして30日間使用した。比較例として、化学吸着膜
を形成していない石材を使用した。30日後、両者の表
面の汚れ状態を比べてみた。その結果、実施例1は汚れ
が少なかった。また実施例2は、汚れほとんど無かった
。これに対して比較例1は、汚れが多かった。また比較
例2は、水垢がこびりついていた。
【0018】以上の結果、比較例の石材は、汚れがひど
かった。また、汚れを取るには、洗剤を含んだ布で拭き
取る必要があった。これに対して、本発明の石材では、
ほとんど汚れがついていなかった。また、少しついた汚
れも、水を含んだ布でふくだけで簡単に除くことができ
た。以上のように本発明の石材は、石材の表面にシロキ
サン結合を介してフッ化アルキル基を含有する化学吸着
膜が設けられたものを用いるので、従来のものに比べて
、防汚性が著しく優れている。また、分子1層のコーテ
ィングが可能なので、フッ素樹脂コーティングのように
石材の寸法精度を変えることもない。このように本発明
は工業的価値の大なるものである。
かった。また、汚れを取るには、洗剤を含んだ布で拭き
取る必要があった。これに対して、本発明の石材では、
ほとんど汚れがついていなかった。また、少しついた汚
れも、水を含んだ布でふくだけで簡単に除くことができ
た。以上のように本発明の石材は、石材の表面にシロキ
サン結合を介してフッ化アルキル基を含有する化学吸着
膜が設けられたものを用いるので、従来のものに比べて
、防汚性が著しく優れている。また、分子1層のコーテ
ィングが可能なので、フッ素樹脂コーティングのように
石材の寸法精度を変えることもない。このように本発明
は工業的価値の大なるものである。
【0019】
【発明の効果】前記したとおり本発明によれば、石材の
表面にシロキサン結合を介してフッ化アルキル基を含有
する化学吸着膜が設けられているので、撥水性・防汚性
に優れ、かつ石材表面の美観をそのまま生かすことがで
きる。また、化学吸着膜が単分子膜であるという本発明
の好ましい構成によれば、均一な厚さの薄い膜とするこ
とができるので、透明性に優れ、石材表面の美観を損ね
ることがない。
表面にシロキサン結合を介してフッ化アルキル基を含有
する化学吸着膜が設けられているので、撥水性・防汚性
に優れ、かつ石材表面の美観をそのまま生かすことがで
きる。また、化学吸着膜が単分子膜であるという本発明
の好ましい構成によれば、均一な厚さの薄い膜とするこ
とができるので、透明性に優れ、石材表面の美観を損ね
ることがない。
【図1】本発明の石材の表面を分子レベルまで拡大した
断面概念図である。
断面概念図である。
1 石材
2 シロキサン結合
3 化学吸着膜
Claims (2)
- 【請求項1】 石材の表面にシロキサン結合を介して
フッ化アルキル基を含有する化学吸着膜が設けられた撥
水・防汚性石材。 - 【請求項2】 化学吸着膜が単分子膜である請求項1
に記載の撥水・防汚性石材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3098915A JP2537311B2 (ja) | 1991-04-30 | 1991-04-30 | 撥水・防汚性石材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3098915A JP2537311B2 (ja) | 1991-04-30 | 1991-04-30 | 撥水・防汚性石材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04331785A true JPH04331785A (ja) | 1992-11-19 |
JP2537311B2 JP2537311B2 (ja) | 1996-09-25 |
Family
ID=14232429
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3098915A Expired - Fee Related JP2537311B2 (ja) | 1991-04-30 | 1991-04-30 | 撥水・防汚性石材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2537311B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11264224A (ja) * | 1998-03-18 | 1999-09-28 | Takeda Chem Ind Ltd | 消臭・防汚内外装仕上げ材 |
JP2010247333A (ja) * | 2009-04-10 | 2010-11-04 | Kagawa Univ | 撥水撥油性部材とその製造方法及びそれらを用いた物品 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59203788A (ja) * | 1983-05-02 | 1984-11-17 | 東亞合成株式会社 | 表面処理剤 |
JPS63264172A (ja) * | 1987-04-03 | 1988-11-01 | ワツカー‐ケミー・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | ポリマー物質の接着を強化する方法 |
JPH02164548A (ja) * | 1988-10-19 | 1990-06-25 | Am Internatl Inc | 基質上の接着フルオロシラン層の形成方法および上記層をもつインクジェット記録ヘッド |
JPH03265581A (ja) * | 1990-03-15 | 1991-11-26 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | 建築材料の表面処理剤 |
-
1991
- 1991-04-30 JP JP3098915A patent/JP2537311B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59203788A (ja) * | 1983-05-02 | 1984-11-17 | 東亞合成株式会社 | 表面処理剤 |
JPS63264172A (ja) * | 1987-04-03 | 1988-11-01 | ワツカー‐ケミー・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | ポリマー物質の接着を強化する方法 |
JPH02164548A (ja) * | 1988-10-19 | 1990-06-25 | Am Internatl Inc | 基質上の接着フルオロシラン層の形成方法および上記層をもつインクジェット記録ヘッド |
JPH03265581A (ja) * | 1990-03-15 | 1991-11-26 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | 建築材料の表面処理剤 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11264224A (ja) * | 1998-03-18 | 1999-09-28 | Takeda Chem Ind Ltd | 消臭・防汚内外装仕上げ材 |
JP2010247333A (ja) * | 2009-04-10 | 2010-11-04 | Kagawa Univ | 撥水撥油性部材とその製造方法及びそれらを用いた物品 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2537311B2 (ja) | 1996-09-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA2423657C (en) | Highly durable hydrophobic coatings and methods | |
US5372888A (en) | Chemically adsorbed film and method of manufacturing the same | |
JP2809889B2 (ja) | 撥水撥油性被膜及びその製造方法 | |
CA2059733C (en) | Water- and oil-repelling film and method of manufacturing the same | |
CA2067435C (en) | Chemically adsorbed film and method of manufacturing the same | |
KR970011081B1 (ko) | 화학흡착막의 제조방법 | |
JP3588364B2 (ja) | 表面処理された基材および基材の表面処理方法 | |
EP0629673B1 (en) | Water- and oil-repelling adsorbed film | |
JP2506234B2 (ja) | 透光性基体の製造方法 | |
EP0498339B1 (en) | Object comprising an ornament and thereon a monomolecular film | |
JPH04331785A (ja) | 撥水・防汚性石材 | |
JP2500150B2 (ja) | 撥水撥油コ―ティング膜及びその製造方法 | |
JPH04249146A (ja) | 撥水撥油防汚性被膜及びその製造方法 | |
JP2500816B2 (ja) | 化学吸着膜の製造方法 | |
JPH089510B2 (ja) | 防汚性窯業製品およびその製造方法 | |
JPH04328137A (ja) | 撥水・防汚性建材の製造方法 | |
JP2690876B2 (ja) | 透光性基体 | |
JP2807451B2 (ja) | 透光性基体の製造方法 | |
JPH04339333A (ja) | 光情報記録媒体 | |
JPH04330925A (ja) | シロキサン系分子膜 | |
US20050214546A1 (en) | Method for the production of a mineral substrate with modified surface and substrate thus obtained | |
JPH04270734A (ja) | プラスチック製事務用品の製造方法 | |
KR100492396B1 (ko) | 표면 처리된 기판 및 기판의 표면 처리방법 | |
JPH10310455A (ja) | 撥水撥油性被膜を有するガラス基体からなる物品及びその製造方法 | |
JPH06264051A (ja) | 着氷着雪防止膜及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |