JPH10310455A - 撥水撥油性被膜を有するガラス基体からなる物品及びその製造方法 - Google Patents
撥水撥油性被膜を有するガラス基体からなる物品及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH10310455A JPH10310455A JP10080951A JP8095198A JPH10310455A JP H10310455 A JPH10310455 A JP H10310455A JP 10080951 A JP10080951 A JP 10080951A JP 8095198 A JP8095198 A JP 8095198A JP H10310455 A JPH10310455 A JP H10310455A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- sicl
- glass substrate
- silica
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/42—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating of an organic material and at least one non-metal coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/42—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of particles only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/44—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the composition of the continuous phase
- C03C2217/445—Organic continuous phases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
- C03C2217/47—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/76—Hydrophobic and oleophobic coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/77—Coatings having a rough surface
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/32—After-treatment
- C03C2218/328—Partly or completely removing a coating
- C03C2218/33—Partly or completely removing a coating by etching
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガラス基体１の表面にシリケートガラス膜
（ガラス状シリカ下地層）３を設け、この上にフロロカ
ーボン基およびシロキサン基を含むポリマー膜状又は単
分子膜状の撥水撥油膜４を脱塩酸反応または脱アルコー
ル反応によって化学結合し、撥水撥油性能が高く耐久性
の高いガラス物品を提供する。 【解決手段】 ガラス基体１の表面にガラス状シリカ下
地層３を形成し、この上に、例えばＣＦ3ＣＨ2Ｏ(Ｃ
Ｈ2)15ＳｉＣｌ3などのフッ素系界面活性剤を非水系の
溶媒とともに薄く塗布し、脱塩化水素反応を起こさせフ
ッ素基を含む分子をシリカ下地層表面に結合させて耐久
性の良い撥水撥油性の優れた被膜４を得る。
（ガラス状シリカ下地層）３を設け、この上にフロロカ
ーボン基およびシロキサン基を含むポリマー膜状又は単
分子膜状の撥水撥油膜４を脱塩酸反応または脱アルコー
ル反応によって化学結合し、撥水撥油性能が高く耐久性
の高いガラス物品を提供する。 【解決手段】 ガラス基体１の表面にガラス状シリカ下
地層３を形成し、この上に、例えばＣＦ3ＣＨ2Ｏ(Ｃ
Ｈ2)15ＳｉＣｌ3などのフッ素系界面活性剤を非水系の
溶媒とともに薄く塗布し、脱塩化水素反応を起こさせフ
ッ素基を含む分子をシリカ下地層表面に結合させて耐久
性の良い撥水撥油性の優れた被膜４を得る。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、撥水撥油性被膜を
有するガラス基体からなる物品およびその製造方法に関
するものである。さらに詳しくは、基体表面にアンダー
コート層を設け、その上に撥水撥油性被膜を設ける発明
に関する。
有するガラス基体からなる物品およびその製造方法に関
するものである。さらに詳しくは、基体表面にアンダー
コート層を設け、その上に撥水撥油性被膜を設ける発明
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、建物や電化製品、乗り物、産
業機器、鏡、眼鏡レンズ等には、耐熱性、耐候性、耐摩
耗性で且つ防汚機能を有する超薄膜コーティングが要求
されている。このような撥水撥油防汚を目的としたコー
ティング膜の製造方法として、現在、フロロカーボン系
ポリマーを焼き付ける方法が知られている。この方法で
は、基体の表面をサンドブラシ、ワイヤブラシや化学エ
ッチング等で荒し、さらにプライマー等を塗布した後、
さらにポリ４フッ化エチレン等のフロロカーボン系微粉
末をエタノール等に懸濁させた塗料を塗布し、乾燥後４
００℃程度で１時間程度ベーキング（焼き付け処理）を
おこない、基体表面にフロロカーボン系ポリマーを焼き
付ける方法が一般的であった。
業機器、鏡、眼鏡レンズ等には、耐熱性、耐候性、耐摩
耗性で且つ防汚機能を有する超薄膜コーティングが要求
されている。このような撥水撥油防汚を目的としたコー
ティング膜の製造方法として、現在、フロロカーボン系
ポリマーを焼き付ける方法が知られている。この方法で
は、基体の表面をサンドブラシ、ワイヤブラシや化学エ
ッチング等で荒し、さらにプライマー等を塗布した後、
さらにポリ４フッ化エチレン等のフロロカーボン系微粉
末をエタノール等に懸濁させた塗料を塗布し、乾燥後４
００℃程度で１時間程度ベーキング（焼き付け処理）を
おこない、基体表面にフロロカーボン系ポリマーを焼き
付ける方法が一般的であった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法では製造が容易である反面、ポリマーと基体は単にア
ンカー効果でのみ接着されているに過ぎないため、基体
との密着性に限界があり、耐久性に劣っていた。また、
コーティング膜表面は４００℃の高温ベーキングをおこ
なうため表面が平坦化されて良好な撥水撥油面が得られ
なかった。従って、電化製品や自動車、産業機器等の撥
水撥油性のコーティング膜を必要とする機器の製造方法
としては不十分であった。
法では製造が容易である反面、ポリマーと基体は単にア
ンカー効果でのみ接着されているに過ぎないため、基体
との密着性に限界があり、耐久性に劣っていた。また、
コーティング膜表面は４００℃の高温ベーキングをおこ
なうため表面が平坦化されて良好な撥水撥油面が得られ
なかった。従って、電化製品や自動車、産業機器等の撥
水撥油性のコーティング膜を必要とする機器の製造方法
としては不十分であった。
【０００４】以上述べてきた従来法の欠点に鑑み、本発
明の目的は、基体と密着性よく且つピンホール無く、し
かも表面の撥水撥油性が優れたフッ素系コーティング膜
の作成方法を提供し、建物や電化製品、乗り物、産業機
器等の撥水撥油性に優れた耐熱性、耐候性、耐摩耗性コ
ーティングを必要とする機器の性能を向上させることに
ある。
明の目的は、基体と密着性よく且つピンホール無く、し
かも表面の撥水撥油性が優れたフッ素系コーティング膜
の作成方法を提供し、建物や電化製品、乗り物、産業機
器等の撥水撥油性に優れた耐熱性、耐候性、耐摩耗性コ
ーティングを必要とする機器の性能を向上させることに
ある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明の撥水撥油性被膜を有するガラス基体からな
る物品は、ガラス基体の表面の少なくとも一部分が、 ａ．シリカ下地層、及び ｂ．ペルフルオロアルキル アルキル シラン、で処理
されていることを特徴とする。
め、本発明の撥水撥油性被膜を有するガラス基体からな
る物品は、ガラス基体の表面の少なくとも一部分が、 ａ．シリカ下地層、及び ｂ．ペルフルオロアルキル アルキル シラン、で処理
されていることを特徴とする。
【０００６】前記物品においては、ペルフルオロアルキ
ル アルキル シランが、一般式ＣＦ3−(ＣＦ2)n−Ｒ−
ＳｉＸpＣｌ3-p（ｎは０または整数、Ｒはアルキル基、
エチレン基、アセチレン基、またはＳｉ、酸素原子を含
む置換基、ＸはＨまたはアルキレン基、シクロアルキル
基、アリル基またはこれらの誘導体から選ばれる置換
基、ｐは０，１または２）、またはＣＦ3−（ＣＦ2）n
−Ｒ−ＳｉＹq（ＯＡ） 3-q（ｎは０または整数、Ｒはア
ルキレン基、エチレン基、アセチレン基、またはＳｉ、
酸素原子を含む置換基、ＸはＨまたはアルキル基、シク
ロアルキル基、アリル基またはこれらの誘導体から選ば
れる置換基、ＯＡはアルコキシ基（ただし、ＡはＨまた
はアルキル基）、ｑは０，１または２）で示される化合
物から選択されると、防汚性を向上する上で好ましい。
また前記物品においては、ペルフルオロアルキル アル
キル シランで処理されている撥水撥油性被膜が、ポリ
マー状または単分子膜状であることが好ましい。
ル アルキル シランが、一般式ＣＦ3−(ＣＦ2)n−Ｒ−
ＳｉＸpＣｌ3-p（ｎは０または整数、Ｒはアルキル基、
エチレン基、アセチレン基、またはＳｉ、酸素原子を含
む置換基、ＸはＨまたはアルキレン基、シクロアルキル
基、アリル基またはこれらの誘導体から選ばれる置換
基、ｐは０，１または２）、またはＣＦ3−（ＣＦ2）n
−Ｒ−ＳｉＹq（ＯＡ） 3-q（ｎは０または整数、Ｒはア
ルキレン基、エチレン基、アセチレン基、またはＳｉ、
酸素原子を含む置換基、ＸはＨまたはアルキル基、シク
ロアルキル基、アリル基またはこれらの誘導体から選ば
れる置換基、ＯＡはアルコキシ基（ただし、ＡはＨまた
はアルキル基）、ｑは０，１または２）で示される化合
物から選択されると、防汚性を向上する上で好ましい。
また前記物品においては、ペルフルオロアルキル アル
キル シランで処理されている撥水撥油性被膜が、ポリ
マー状または単分子膜状であることが好ましい。
【０００７】ここで、ペルフルオロアルキル アルキル
シランが、下記の化合物から選ばれる少なくとも一つ
であることが好ましい。 (1) ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3 (2) ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3 (3) ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3 (4) ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）15Ｓｉ
Ｃｌ3 (5) Ｆ（ＣＦ2）4（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）
9ＳｉＣｌ3 (6) ＣＦ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3 (7) ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3 (8) Ｆ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）
9ＳｉＣｌ3 (9) Ｆ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）
6ＳｉＣｌ3 (10) ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 (11) ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3 (12) ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）15Ｓｉ
（ＯＣＨ3）3 (13) Ｆ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）
9Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 (14) ＣＦ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3
シランが、下記の化合物から選ばれる少なくとも一つ
であることが好ましい。 (1) ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3 (2) ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3 (3) ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3 (4) ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）15Ｓｉ
Ｃｌ3 (5) Ｆ（ＣＦ2）4（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）
9ＳｉＣｌ3 (6) ＣＦ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3 (7) ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3 (8) Ｆ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）
9ＳｉＣｌ3 (9) Ｆ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）
6ＳｉＣｌ3 (10) ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 (11) ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3 (12) ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）15Ｓｉ
（ＯＣＨ3）3 (13) Ｆ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）
9Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 (14) ＣＦ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3
【０００８】さらに、シリカ下地層により基体の表面が
粗面化されていると好都合である。さらにまた、シリカ
下地層の表面の粗面化の程度が、サブミクロン乃至ミク
ロンオーダの凸凹であると撥水撥油機能を向上させる上
で好ましい。
粗面化されていると好都合である。さらにまた、シリカ
下地層の表面の粗面化の程度が、サブミクロン乃至ミク
ロンオーダの凸凹であると撥水撥油機能を向上させる上
で好ましい。
【０００９】また、シリカ下地層とペルフルオロアルキ
ル アルキル シランとが、脱塩化水素反応又は脱アル
コール反応により処理されていると耐久性を向上する上
で好ましい。また、シリカ下地層が、ガラス基材表面に
シリケートグラスを塗布し、さらに加熱処理またはプラ
ズマアッシング処理することにより形成されていると耐
久性を向上する上で好ましい。
ル アルキル シランとが、脱塩化水素反応又は脱アル
コール反応により処理されていると耐久性を向上する上
で好ましい。また、シリカ下地層が、ガラス基材表面に
シリケートグラスを塗布し、さらに加熱処理またはプラ
ズマアッシング処理することにより形成されていると耐
久性を向上する上で好ましい。
【００１０】さらに、シリカ下地層が、ガラス基材表面
にＳｉＣｌ4 、ＳｉＨＣｌ3 、ＳｉＨ2Ｃｌ2 、Ｃｌ−
（ＳｉＣｌ2Ｏ）n−ＳｉＣｌ3（ｎは整数）から選ばれ
る少なくとも一つの化合物を接触させ、脱塩化水素反応
および加水分解反応させることにより形成されていると
透明性が優れた撥水撥油膜を得る上で好ましい。
にＳｉＣｌ4 、ＳｉＨＣｌ3 、ＳｉＨ2Ｃｌ2 、Ｃｌ−
（ＳｉＣｌ2Ｏ）n−ＳｉＣｌ3（ｎは整数）から選ばれ
る少なくとも一つの化合物を接触させ、脱塩化水素反応
および加水分解反応させることにより形成されていると
透明性が優れた撥水撥油膜を得る上で好ましい。
【００１１】一方、前記方法においては、ガラス基体の
表面に形成したシリカ下地層と、ペルフルオロアルキル
アルキルシランとを接触後、脱塩化水素反応又は脱ア
ルコール反応させる工程を含めることが耐久性向上のた
め好ましい。
表面に形成したシリカ下地層と、ペルフルオロアルキル
アルキルシランとを接触後、脱塩化水素反応又は脱ア
ルコール反応させる工程を含めることが耐久性向上のた
め好ましい。
【００１２】また、ペルフルオロアルキル アルキル
シランとして、一般式ＣＦ3−(ＣＦ 2)n−Ｒ−ＳｉＸpＣ
ｌ3-p（ｎは０または整数、Ｒはアルキレン基、エチレ
ン基、アセチレン基、またはＳｉ、酸素原子を含む置換
基、ＸはＨまたはアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ル基またはこれらの誘導体から選ばれる置換基、ｐは
０，１または２）、またはＣＦ3−（ＣＦ2）n−Ｒ−Ｓ
ｉＹq（ＯＡ）3-q（ｎは０または整数、Ｒはアルキレン
基、エチレン基、アセチレン基、またはＳｉ、酸素原子
を含む置換基、ＯＡはアルコキシ基（ただし、ＡはＨま
たはアルキル基）、ｑは０，１または２）で示される化
合物を用いる方が短時間で処理できて好ましい。
シランとして、一般式ＣＦ3−(ＣＦ 2)n−Ｒ−ＳｉＸpＣ
ｌ3-p（ｎは０または整数、Ｒはアルキレン基、エチレ
ン基、アセチレン基、またはＳｉ、酸素原子を含む置換
基、ＸはＨまたはアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ル基またはこれらの誘導体から選ばれる置換基、ｐは
０，１または２）、またはＣＦ3−（ＣＦ2）n−Ｒ−Ｓ
ｉＹq（ＯＡ）3-q（ｎは０または整数、Ｒはアルキレン
基、エチレン基、アセチレン基、またはＳｉ、酸素原子
を含む置換基、ＯＡはアルコキシ基（ただし、ＡはＨま
たはアルキル基）、ｑは０，１または２）で示される化
合物を用いる方が短時間で処理できて好ましい。
【００１３】ここで、ペルフルオロアルキル アルキル
シランが、下記の化合物から選ばれる少なくとも一つ
であることが好ましい。 (1) ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3 (2) ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3 (3) ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3 (4) ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）15Ｓｉ
Ｃｌ3 (5) Ｆ（ＣＦ2）4（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）
9ＳｉＣｌ3 (6) ＣＦ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3 (7) ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3 (8) Ｆ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）
9ＳｉＣｌ3 (9) Ｆ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）
6ＳｉＣｌ3 (10) ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 (11) ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3 (12) ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）15Ｓｉ
（ＯＣＨ3）3 (13) Ｆ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）
9Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 (14) ＣＦ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3
シランが、下記の化合物から選ばれる少なくとも一つ
であることが好ましい。 (1) ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3 (2) ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3 (3) ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3 (4) ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）15Ｓｉ
Ｃｌ3 (5) Ｆ（ＣＦ2）4（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）
9ＳｉＣｌ3 (6) ＣＦ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3 (7) ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3 (8) Ｆ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）
9ＳｉＣｌ3 (9) Ｆ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）
6ＳｉＣｌ3 (10) ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 (11) ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3 (12) ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）15Ｓｉ
（ＯＣＨ3）3 (13) Ｆ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）
9Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 (14) ＣＦ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3
【００１４】さらに、シリカ下地層形成時にシリケート
グラスに微粒子を混合しておき、基体の非濡れ性表面を
粗面化する防汚性を向上する上で好都合である。さら
に、ガラス基材表面にシリケートグラスを塗布し、さら
に加熱処理またはプラズマアッシング処理することによ
りシリカ下地層を形成すると下地層形成が簡単になる。
グラスに微粒子を混合しておき、基体の非濡れ性表面を
粗面化する防汚性を向上する上で好都合である。さら
に、ガラス基材表面にシリケートグラスを塗布し、さら
に加熱処理またはプラズマアッシング処理することによ
りシリカ下地層を形成すると下地層形成が簡単になる。
【００１５】また、ガラス基材表面にＳｉＣｌ4 、Ｓｉ
ＨＣｌ3 、ＳｉＨ2Ｃｌ2、Ｃｌ−（ＳｉＣｌ2Ｏ）n−Ｓ
ｉＣｌ3（ｎは整数）から選ばれる少なくとも一つの化
合物を接触させ、脱塩化水素反応および加水分解反応さ
せることにより形成すると透明度に優れたシリカ下地層
を形成する上で好都合である。
ＨＣｌ3 、ＳｉＨ2Ｃｌ2、Ｃｌ−（ＳｉＣｌ2Ｏ）n−Ｓ
ｉＣｌ3（ｎは整数）から選ばれる少なくとも一つの化
合物を接触させ、脱塩化水素反応および加水分解反応さ
せることにより形成すると透明度に優れたシリカ下地層
を形成する上で好都合である。
【００１６】
【発明の実施の形態】次に本発明の第１番目の実施形態
は、基体表面にシリカ下地層を形成する工程と、フロロ
カーボン基及びクロロシラン基を含む物質を混合した非
水系の溶媒を塗布する工程、またはフロロカーボン基及
びアルコキシシラン基を含む物質を混合した溶媒を塗布
する工程と加熱処理を行う工程を含む。
は、基体表面にシリカ下地層を形成する工程と、フロロ
カーボン基及びクロロシラン基を含む物質を混合した非
水系の溶媒を塗布する工程、またはフロロカーボン基及
びアルコキシシラン基を含む物質を混合した溶媒を塗布
する工程と加熱処理を行う工程を含む。
【００１７】次に本発明の第２番目の実施形態は、基体
の表面に凸凹を作成する工程と、クロロシリル基を複数
個含む物質を混ぜた非水系溶媒に接触させて前記基体表
面の水酸基と前記クロロシリル基を複数個含む物質のク
ロロシリル基とを反応させて前記物質を前記基体表面に
析出させる工程と、非水系有機溶媒を用い前記基体上に
残った余分なクロロシリル基を物質を洗浄除去した後、
水と反応させて、前記基体上にシラノール基を複数個含
む物質より成るシリカ単分子膜（この膜をシリカ下地層
ともいう）を形成する工程と、一端にクロルシラン基
（ＳｉＣｌnＸ3-n基、ｎ＝１、２、３、Ｘは官能基）を
有し他の一端に直鎖状フッ化炭素基を含むクロロシラン
系界面活性剤を基体表面に化学吸着し単分子吸着膜を累
積する工程とを含む。
の表面に凸凹を作成する工程と、クロロシリル基を複数
個含む物質を混ぜた非水系溶媒に接触させて前記基体表
面の水酸基と前記クロロシリル基を複数個含む物質のク
ロロシリル基とを反応させて前記物質を前記基体表面に
析出させる工程と、非水系有機溶媒を用い前記基体上に
残った余分なクロロシリル基を物質を洗浄除去した後、
水と反応させて、前記基体上にシラノール基を複数個含
む物質より成るシリカ単分子膜（この膜をシリカ下地層
ともいう）を形成する工程と、一端にクロルシラン基
（ＳｉＣｌnＸ3-n基、ｎ＝１、２、３、Ｘは官能基）を
有し他の一端に直鎖状フッ化炭素基を含むクロロシラン
系界面活性剤を基体表面に化学吸着し単分子吸着膜を累
積する工程とを含む。
【００１８】前記本発明の第１または２番目の実施形態
においては、基体表面に凸凹なシリカリカ下地層を形成
する工程において、微粒子及びシリケートグラスを混合
し基体表面に塗布した後、基体諸とも加熱ベーキングを
行なう方法、電解エッチング法、化学エッチング法、サ
ンドブラスト法、スパッタリング法、またはラビング法
から選ばれる少なくとも一種の方法を用いる。
においては、基体表面に凸凹なシリカリカ下地層を形成
する工程において、微粒子及びシリケートグラスを混合
し基体表面に塗布した後、基体諸とも加熱ベーキングを
行なう方法、電解エッチング法、化学エッチング法、サ
ンドブラスト法、スパッタリング法、またはラビング法
から選ばれる少なくとも一種の方法を用いる。
【００１９】また前記本発明の第１または２番目の実施
形態においては、基体表面にシリカ下地層（以下、シリ
カ単分子膜も含めてシリカ下地層という）を形成する工
程と、一端にクロルシラン基（ＳｉＣｌn Ｘ3-n 基、ｎ
＝１、２、３、Ｘは官能基）を有するフロロカーボン系
直鎖分子からなるフロロシラン系界面活性剤を用いて基
体上に化学吸着膜を形成する工程とを含む。
形態においては、基体表面にシリカ下地層（以下、シリ
カ単分子膜も含めてシリカ下地層という）を形成する工
程と、一端にクロルシラン基（ＳｉＣｌn Ｘ3-n 基、ｎ
＝１、２、３、Ｘは官能基）を有するフロロカーボン系
直鎖分子からなるフロロシラン系界面活性剤を用いて基
体上に化学吸着膜を形成する工程とを含む。
【００２０】また前記本発明の第１または２番目の実施
形態においては、フロロカーボン基及びクロロシラン基
を含む物質として、ＣＦ3-（ＣＦ2）n-Ｒ-ＳｉＸpＣｌ
3-p（ペルフルオロアルキル アルキル シラン系のペ
ルフルオロアルキル アルキルクロロシラン；ｎは０ま
たは整数、Ｒはアルキレン基、エチレン基、アセチレン
基、またはＳｉ、酸素原子を含む置換基、ＸはＨまたは
アルキル基、シクロアルキル基、アリル基またはこれら
の誘導体から選ばれる置換基、ｐは０，１または２）を
用いる。
形態においては、フロロカーボン基及びクロロシラン基
を含む物質として、ＣＦ3-（ＣＦ2）n-Ｒ-ＳｉＸpＣｌ
3-p（ペルフルオロアルキル アルキル シラン系のペ
ルフルオロアルキル アルキルクロロシラン；ｎは０ま
たは整数、Ｒはアルキレン基、エチレン基、アセチレン
基、またはＳｉ、酸素原子を含む置換基、ＸはＨまたは
アルキル基、シクロアルキル基、アリル基またはこれら
の誘導体から選ばれる置換基、ｐは０，１または２）を
用いる。
【００２１】また前記本発明の第１または２番目の実施
形態においては、フロロカーボン基及びアルコキシシラ
ン基を含む物質として、ＣＦ3−（ＣＦ2）n−Ｒ−Ｓｉ
Ｙq（ＯＡ）3-q（ペルフルオロアルキル アルキルシラ
ン系のペルフルオロアルキルアルキル アルコキシシラ
ン；ｎは０または整数、Ｒはアルキレン基、エチレン
基、アセチレン基、またはＳｉ、酸素原子を含む置換
基、ＸはＨまたはアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ル基またはこれらの誘導体から選ばれる置換基、ＯＡは
アルコキシ基（ただし、ＡはＨまたはアルキル基）、ｑ
は０，１または２）を用いる。
形態においては、フロロカーボン基及びアルコキシシラ
ン基を含む物質として、ＣＦ3−（ＣＦ2）n−Ｒ−Ｓｉ
Ｙq（ＯＡ）3-q（ペルフルオロアルキル アルキルシラ
ン系のペルフルオロアルキルアルキル アルコキシシラ
ン；ｎは０または整数、Ｒはアルキレン基、エチレン
基、アセチレン基、またはＳｉ、酸素原子を含む置換
基、ＸはＨまたはアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ル基またはこれらの誘導体から選ばれる置換基、ＯＡは
アルコキシ基（ただし、ＡはＨまたはアルキル基）、ｑ
は０，１または２）を用いる。
【００２２】前記本発明の実施形態によれば、シリカ下
地層が形成された基体の表面に、少なくともシロキサン
結合を介してフッ素を含む化学吸着単分子膜が形成され
ているので、基体と密着性よく且つピンホール無く、し
かも撥水撥油性（非濡れ性）、耐熱性、耐候性、耐摩耗
性等が優れたフッ素系コーティング膜とすることができ
る。
地層が形成された基体の表面に、少なくともシロキサン
結合を介してフッ素を含む化学吸着単分子膜が形成され
ているので、基体と密着性よく且つピンホール無く、し
かも撥水撥油性（非濡れ性）、耐熱性、耐候性、耐摩耗
性等が優れたフッ素系コーティング膜とすることができ
る。
【００２３】また、本発明においては、予めフロロカー
ボン系コーティング膜形成用基体表面に、ガラス微粒子
及びシリケートグラスを混合塗布後ベーキングして表面
がサブミクロン乃至ミクロンオーダで凸凹のガラス状シ
リカ下地層を作成したり、基体そのものをエッチングや
サンドブラスト処理して粗面加工する工程を含めること
により、後工程で作成されたフロロカーボン系コーティ
ング膜の表面に微細な凸凹を形成できる作用がある。従
って、表面に任意の凸凹のあるきわめて撥水撥油性の優
れたフロロカーボン系コーティング膜（以下、フロロカ
ーボン系ポリマー膜ともいう。）を形成できる。
ボン系コーティング膜形成用基体表面に、ガラス微粒子
及びシリケートグラスを混合塗布後ベーキングして表面
がサブミクロン乃至ミクロンオーダで凸凹のガラス状シ
リカ下地層を作成したり、基体そのものをエッチングや
サンドブラスト処理して粗面加工する工程を含めること
により、後工程で作成されたフロロカーボン系コーティ
ング膜の表面に微細な凸凹を形成できる作用がある。従
って、表面に任意の凸凹のあるきわめて撥水撥油性の優
れたフロロカーボン系コーティング膜（以下、フロロカ
ーボン系ポリマー膜ともいう。）を形成できる。
【００２４】なお、このときフロロカーボン基を有する
ポリマーは−Ｏ−を介して基体と化学結合されているた
め、極めて密着性が優れている。また微粒子を塗布する
方法においては、表面の凸凹の荒さは、シリケートグラ
スに添加する微粒子の直径と添加量で制御できる。
ポリマーは−Ｏ−を介して基体と化学結合されているた
め、極めて密着性が優れている。また微粒子を塗布する
方法においては、表面の凸凹の荒さは、シリケートグラ
スに添加する微粒子の直径と添加量で制御できる。
【００２５】さらにまた、表面に凸凹を作成する工程の
後、クロロシリル基を複数個含む物質を混ぜた非水系溶
媒に接触させて前記基体表面の水酸基と前記クロロシリ
ル基を複数個含む物質のクロロシリル基とを反応させて
前記物質を前記基体表面に析出させる工程と、非水系有
機溶媒を用い前記基体上に残った余分なクロロシリル基
を複数個含む物質を洗浄除去した後水と反応させる工程
を挿入し、前記基体上にシラノール基を複数個含む純粋
なシリカ単分子膜を形成する工程と、一端にクロルシラ
ン基（ＳｉＣｌnＸ3-n基、ｎ＝１、２、３、Ｘは官能
基）を有し他の一端に直鎖状フッ化炭素基を含むクロロ
シラン系界面活性剤を基体表面に化学吸着し単分子吸着
膜を累積する工程を行なえば、より分子吸着密度の大き
なフッ化炭素系（フロロカーボン系）化学吸着単分子膜
を作製できる作用がある。
後、クロロシリル基を複数個含む物質を混ぜた非水系溶
媒に接触させて前記基体表面の水酸基と前記クロロシリ
ル基を複数個含む物質のクロロシリル基とを反応させて
前記物質を前記基体表面に析出させる工程と、非水系有
機溶媒を用い前記基体上に残った余分なクロロシリル基
を複数個含む物質を洗浄除去した後水と反応させる工程
を挿入し、前記基体上にシラノール基を複数個含む純粋
なシリカ単分子膜を形成する工程と、一端にクロルシラ
ン基（ＳｉＣｌnＸ3-n基、ｎ＝１、２、３、Ｘは官能
基）を有し他の一端に直鎖状フッ化炭素基を含むクロロ
シラン系界面活性剤を基体表面に化学吸着し単分子吸着
膜を累積する工程を行なえば、より分子吸着密度の大き
なフッ化炭素系（フロロカーボン系）化学吸着単分子膜
を作製できる作用がある。
【００２６】また、フロロカーボン基及びクロロシラン
基を含む物質としては、ＣＦ3−（ＣＦ2）n−Ｒ−Ｓｉ
ＸpＣｌ3-p、さらにフロロカーボン基及びアルコキシシ
ラン基を含む物質としては、ＣＦ3−（ＣＦ2）n−Ｒ−
ＳｉＹq（ＯＡ）3-qを用いることが可能である（ここ
で、ｎ、Ｒ、ｐ、ｑは、前記と同じである。）。
基を含む物質としては、ＣＦ3−（ＣＦ2）n−Ｒ−Ｓｉ
ＸpＣｌ3-p、さらにフロロカーボン基及びアルコキシシ
ラン基を含む物質としては、ＣＦ3−（ＣＦ2）n−Ｒ−
ＳｉＹq（ＯＡ）3-qを用いることが可能である（ここ
で、ｎ、Ｒ、ｐ、ｑは、前記と同じである。）。
【００２７】さらに、形成されたフロロカーボン系ポリ
マー膜の硬度を調節するためには、フロロカーボン基及
びクロロシラン基を含む物質を混ぜた非水系の溶媒の場
合は、前記物質の架橋剤としてＳｉＸsＣｌ4-s（ＸはＨ
またはアルキル基などの置換基、ｓは０または１または
２）を添加して用い、フロロカーボン基及びアルコキシ
シラン基を含む物質を混ぜた溶媒の場合は、架橋剤とし
てＳｉＹt（ＯＡ）4-t（Ｙはアルキル基などの置換基、
ＯＡはアルコキシ基、（ただし、ＡはＨまたはアルキル
基）ｔは０または１または２）を用いることで、作成さ
れたフロロカーボン系ポリマー膜内の３次元架橋密度が
調整でき、表面に形成された非濡れ性フロロカーボン系
ポリマー膜の硬度を制御できる作用がある。
マー膜の硬度を調節するためには、フロロカーボン基及
びクロロシラン基を含む物質を混ぜた非水系の溶媒の場
合は、前記物質の架橋剤としてＳｉＸsＣｌ4-s（ＸはＨ
またはアルキル基などの置換基、ｓは０または１または
２）を添加して用い、フロロカーボン基及びアルコキシ
シラン基を含む物質を混ぜた溶媒の場合は、架橋剤とし
てＳｉＹt（ＯＡ）4-t（Ｙはアルキル基などの置換基、
ＯＡはアルコキシ基、（ただし、ＡはＨまたはアルキル
基）ｔは０または１または２）を用いることで、作成さ
れたフロロカーボン系ポリマー膜内の３次元架橋密度が
調整でき、表面に形成された非濡れ性フロロカーボン系
ポリマー膜の硬度を制御できる作用がある。
【００２８】
【実施例】本発明が適用できる基体としては、ガラス、
セラミック、金属、プラスチック等様々なものがある
が、ガラス基体に適用するのが最も好ましい。以下一例
を挙げて説明する。なお、以下の実施例においては、単
に％としているのは、重量％を意味する。
セラミック、金属、プラスチック等様々なものがある
が、ガラス基体に適用するのが最も好ましい。以下一例
を挙げて説明する。なお、以下の実施例においては、単
に％としているのは、重量％を意味する。
【００２９】
【実施例１】たとえば、図１に示すように、親水性基体
１［ガラス等のセラミクッス、ＡｌやＣｕ等の金属、表
面を親水化したプラスチック基体（プラスチックの様な
表面に酸化膜を持たない物質であれば、予め表面を酸素
を含むプラズマ雰囲気中で、例えば１００Ｗで２０分処
理して親水性化、すなわち表面に水酸基を導入しておけ
ばよい。）］の表面に直径が１乃至２０ミクロン（好ま
しくは１０ミクロン程度）のシリカ微粒子２（例えば、
旭硝子社製のミクロシェヤアーゲルＤＦ１０−６０Ａま
たは１２０Ａ等）及びシリケートグラス（例えば、信越
化学工業社製のハードコーティング剤ＫＰ−１１００Ａ
または１１００Ｂや東京応化工業社製のＳｉ−８０００
０等がある。これらのコーティング剤は、コーティング
後加熱処理することでシリカ被膜になる。）を１：１程
度の組成で混合しキャスト法で塗布した後、温度：５０
０℃、３０分加熱処理したりプラズマアッシング（３０
０Ｗ、２０分程度）を行うと、表面にミクロンオーダの
凸凹のあるガラス状のシリカ下地層（以下シリカ下地層
ともいう）３が形成できた（図２）。次に、フロロカー
ボン基及びクロロシラン基を含む物質を混合した非水系
の溶媒(例えば、ＣＦ3−（ＣＦ2）n−Ｒ−ＳｉＸpＣｌ
3-p(ｎ、Ｒ、Ｘ、ｐは前記したとおり)を数パーセント
の濃度でノルマルヘキサデカン９０％、クロロホルム１
０％の溶媒に溶解したもの)を塗布し、水分を含む雰囲
気中で、温度：２００℃、３０分程度ベーキングを行う
と、ガラス状のシリカ下地層３の表面は−ＯＨ基が露出
しているため、フッ素を含むクロロシラン系界面活性剤
のクロロシリル基と−ＯＨ基が脱塩酸反応して表面に、
…Ｓｉ（Ｏ−）3 の結合が生成され、表面にミクロンオ
ーダの凸凹のあるガラス状のシリカ下地層表面にフッ素
を含むシロキサンフロロカーボン系ポリマー膜４が化学
結合した状態で凸凹に形成された（図２）。
１［ガラス等のセラミクッス、ＡｌやＣｕ等の金属、表
面を親水化したプラスチック基体（プラスチックの様な
表面に酸化膜を持たない物質であれば、予め表面を酸素
を含むプラズマ雰囲気中で、例えば１００Ｗで２０分処
理して親水性化、すなわち表面に水酸基を導入しておけ
ばよい。）］の表面に直径が１乃至２０ミクロン（好ま
しくは１０ミクロン程度）のシリカ微粒子２（例えば、
旭硝子社製のミクロシェヤアーゲルＤＦ１０−６０Ａま
たは１２０Ａ等）及びシリケートグラス（例えば、信越
化学工業社製のハードコーティング剤ＫＰ−１１００Ａ
または１１００Ｂや東京応化工業社製のＳｉ−８０００
０等がある。これらのコーティング剤は、コーティング
後加熱処理することでシリカ被膜になる。）を１：１程
度の組成で混合しキャスト法で塗布した後、温度：５０
０℃、３０分加熱処理したりプラズマアッシング（３０
０Ｗ、２０分程度）を行うと、表面にミクロンオーダの
凸凹のあるガラス状のシリカ下地層（以下シリカ下地層
ともいう）３が形成できた（図２）。次に、フロロカー
ボン基及びクロロシラン基を含む物質を混合した非水系
の溶媒(例えば、ＣＦ3−（ＣＦ2）n−Ｒ−ＳｉＸpＣｌ
3-p(ｎ、Ｒ、Ｘ、ｐは前記したとおり)を数パーセント
の濃度でノルマルヘキサデカン９０％、クロロホルム１
０％の溶媒に溶解したもの)を塗布し、水分を含む雰囲
気中で、温度：２００℃、３０分程度ベーキングを行う
と、ガラス状のシリカ下地層３の表面は−ＯＨ基が露出
しているため、フッ素を含むクロロシラン系界面活性剤
のクロロシリル基と−ＯＨ基が脱塩酸反応して表面に、
…Ｓｉ（Ｏ−）3 の結合が生成され、表面にミクロンオ
ーダの凸凹のあるガラス状のシリカ下地層表面にフッ素
を含むシロキサンフロロカーボン系ポリマー膜４が化学
結合した状態で凸凹に形成された（図２）。
【００３０】例えば、ガラス基体表面に、微粒子として
直径が約１０ミクロンのＤＦ１０−６０Ａ、シリケート
グラスとしてＫＰ−１１００Ａを用いディップコートし
３５０℃で熱処理（ベーキング）すると、表面に１０ミ
クロン（μｍ）程度の凸凹のあるガラス状のシリカ下地
層が得られた。さらにその後、ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）
15ＳｉＣｌ3を用い、１重量％程度の濃度で溶かした８
０％ｎ−ヘキサデカン、１２％四塩化炭素、８％クロロ
ホルム溶液を調整し、前記表面にＳｉＯＨ結合を数多く
持つポリシロキサン塗膜の形成された基体表面に塗布
し、水分を含む雰囲気中で、温度：２００℃、３０分程
度ベーキングを行なうと、ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15Ｓ
ｉ（Ｏ−）3の結合が生成され、１０ミクロン程度の凸
凹を持つ１〜５ミクロン厚さのシロキサンフロロカーボ
ン系ポリマー膜（フロロカーボン系コーティング膜とも
いう）４が製造できた（図２）。なお、この塗膜は碁番
目試験を行なっても殆ど剥離することがなかった。
直径が約１０ミクロンのＤＦ１０−６０Ａ、シリケート
グラスとしてＫＰ−１１００Ａを用いディップコートし
３５０℃で熱処理（ベーキング）すると、表面に１０ミ
クロン（μｍ）程度の凸凹のあるガラス状のシリカ下地
層が得られた。さらにその後、ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）
15ＳｉＣｌ3を用い、１重量％程度の濃度で溶かした８
０％ｎ−ヘキサデカン、１２％四塩化炭素、８％クロロ
ホルム溶液を調整し、前記表面にＳｉＯＨ結合を数多く
持つポリシロキサン塗膜の形成された基体表面に塗布
し、水分を含む雰囲気中で、温度：２００℃、３０分程
度ベーキングを行なうと、ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15Ｓ
ｉ（Ｏ−）3の結合が生成され、１０ミクロン程度の凸
凹を持つ１〜５ミクロン厚さのシロキサンフロロカーボ
ン系ポリマー膜（フロロカーボン系コーティング膜とも
いう）４が製造できた（図２）。なお、この塗膜は碁番
目試験を行なっても殆ど剥離することがなかった。
【００３１】このときまた、フロロカーボン基及びクロ
ロシラン基を含む物質を混合した非水系の溶媒中に前記
物質の架橋剤としてＳｉＸsＣｌ4-s（ＸはＨまたはアル
キル基などの置換基、ｓは０または１または２）を添加
（例えば、ＳｉＣｌ4を３重量パーセント）しておけ
ば、ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15Ｓｉ（Ｏ−）3の結合が−
Ｓｉ（Ｏ−）3の結合を介して３次元的に架橋されて、
ＳｉＣｌ4を添加してない場合に比べ約２倍の硬度のフ
ロロカーボン系コーティング膜が製造できた。ちなみ
に、このようにして作成された表面に１０ミクロン（μ
ｍ）程度の凹凸があるフロロカーボン系コーティング膜
の水滴５に対する濡れ角度は約１３０〜１４０度であっ
た（図３）。
ロシラン基を含む物質を混合した非水系の溶媒中に前記
物質の架橋剤としてＳｉＸsＣｌ4-s（ＸはＨまたはアル
キル基などの置換基、ｓは０または１または２）を添加
（例えば、ＳｉＣｌ4を３重量パーセント）しておけ
ば、ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15Ｓｉ（Ｏ−）3の結合が−
Ｓｉ（Ｏ−）3の結合を介して３次元的に架橋されて、
ＳｉＣｌ4を添加してない場合に比べ約２倍の硬度のフ
ロロカーボン系コーティング膜が製造できた。ちなみ
に、このようにして作成された表面に１０ミクロン（μ
ｍ）程度の凹凸があるフロロカーボン系コーティング膜
の水滴５に対する濡れ角度は約１３０〜１４０度であっ
た（図３）。
【００３２】
【実施例２】実施例１と同様に、図１に示したように基
体上に表面が凸凹なガラス状のシリカ下地層を形成した
後、フロロカーボン基及びアルコキシシラン基を含む物
質を混合したアルコール溶媒（例えば、ＣＦ3 −（ＣＦ
2 ）n −Ｒ−ＳｉＹq （ＯＡ）3-q （ｎは０または整
数、Ｒはアルキレン基、エチレン基、アセチレン基、Ｓ
ｉまたは酸素原子を含む置換基、ＹはＨまたはアルキル
基などの置換基、ＯＡはアルコキシ基（ただし、ＡはＨ
またはアルキル基）、ｑは０または１または２）を数パ
ーセントの濃度でメタノールに溶解したもの）を塗布
し、温度：２００℃、３０分程度ベーキングを行うとガ
ラス状のシリカ下地層３は表面に−ＯＨ基が露出してい
るため、フッ素を含むアルコキシシラン系界面活性剤の
アルコキシ基と−ＯＨ基が脱アルコール反応して表面に
−Ｓｉ（Ｏ−）3 の結合が生成され、凸凹なガラス状の
シリカ下地層表面にフッ素を含むシロキサンフロロカー
ボン系ポリマー膜が実施例１と同様に形成された。
体上に表面が凸凹なガラス状のシリカ下地層を形成した
後、フロロカーボン基及びアルコキシシラン基を含む物
質を混合したアルコール溶媒（例えば、ＣＦ3 −（ＣＦ
2 ）n −Ｒ−ＳｉＹq （ＯＡ）3-q （ｎは０または整
数、Ｒはアルキレン基、エチレン基、アセチレン基、Ｓ
ｉまたは酸素原子を含む置換基、ＹはＨまたはアルキル
基などの置換基、ＯＡはアルコキシ基（ただし、ＡはＨ
またはアルキル基）、ｑは０または１または２）を数パ
ーセントの濃度でメタノールに溶解したもの）を塗布
し、温度：２００℃、３０分程度ベーキングを行うとガ
ラス状のシリカ下地層３は表面に−ＯＨ基が露出してい
るため、フッ素を含むアルコキシシラン系界面活性剤の
アルコキシ基と−ＯＨ基が脱アルコール反応して表面に
−Ｓｉ（Ｏ−）3 の結合が生成され、凸凹なガラス状の
シリカ下地層表面にフッ素を含むシロキサンフロロカー
ボン系ポリマー膜が実施例１と同様に形成された。
【００３３】例えば、ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15Ｓｉ
（ＯＣＨ3）3 を用い、１％程度の濃度で溶かしたエタ
ノール溶液を調整し、前記表面にＳｉＯＨ結合を数多く
持つポリシロキサン塗膜（この膜も、シリカ下地膜であ
る）の形成された基体表面に塗布し、２００℃、３０分
程度ベーキングを行なうと、ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15
Ｓｉ（Ｏ−）3の結合が生成され、１０ミクロン程度の
凸凹のある１〜５ミクロン厚さのフロロカーボン系ポリ
マー膜４が製造できた（図２）。なお、この塗膜は碁番
目試験を行なっても殆ど剥離することがなかった。
（ＯＣＨ3）3 を用い、１％程度の濃度で溶かしたエタ
ノール溶液を調整し、前記表面にＳｉＯＨ結合を数多く
持つポリシロキサン塗膜（この膜も、シリカ下地膜であ
る）の形成された基体表面に塗布し、２００℃、３０分
程度ベーキングを行なうと、ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15
Ｓｉ（Ｏ−）3の結合が生成され、１０ミクロン程度の
凸凹のある１〜５ミクロン厚さのフロロカーボン系ポリ
マー膜４が製造できた（図２）。なお、この塗膜は碁番
目試験を行なっても殆ど剥離することがなかった。
【００３４】また、このときフロロカーボン基及びアル
コキシシラン基を含む物質を混合した溶媒中に前記物質
の架橋剤としてＳｉＹt（ＯＡ）4-t（Ｙはアルキル基な
どの置換基、ＯＡはアルコキシ基、（ただし、ＡはＨま
たはアルキル基）ｔは０または１または２）を添加（例
えば、Ｓｉ（ＯＣＨ3）4を５重量パーセント）しておけ
ば、ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15Ｓｉ（Ｏ−）3の結合が、
−Ｓｉ（Ｏ−）3の結合を介して３次元的に架橋され
て、Ｓｉ（ＯＣＨ3）4を添加してない場合に比べ約２〜
２．５倍の硬度のフロロカーボン系ポリマー膜が製造で
きた。
コキシシラン基を含む物質を混合した溶媒中に前記物質
の架橋剤としてＳｉＹt（ＯＡ）4-t（Ｙはアルキル基な
どの置換基、ＯＡはアルコキシ基、（ただし、ＡはＨま
たはアルキル基）ｔは０または１または２）を添加（例
えば、Ｓｉ（ＯＣＨ3）4を５重量パーセント）しておけ
ば、ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15Ｓｉ（Ｏ−）3の結合が、
−Ｓｉ（Ｏ−）3の結合を介して３次元的に架橋され
て、Ｓｉ（ＯＣＨ3）4を添加してない場合に比べ約２〜
２．５倍の硬度のフロロカーボン系ポリマー膜が製造で
きた。
【００３５】ちなみに、このようにして作成された表面
に１０ミクロン程度の凹凸があるフロロカーボン系ポリ
マー膜に水滴５を滴下した場合、水滴は突起部でのみフ
ロロカーボン系ポリマー膜と接触するので、図３に示し
た如く極めて撥水性が高く、水に対する濡れ角度は約１
３５〜１４０度であった。
に１０ミクロン程度の凹凸があるフロロカーボン系ポリ
マー膜に水滴５を滴下した場合、水滴は突起部でのみフ
ロロカーボン系ポリマー膜と接触するので、図３に示し
た如く極めて撥水性が高く、水に対する濡れ角度は約１
３５〜１４０度であった。
【００３６】このときまた、フロロカーボン基及びアル
コキシシラン基を含む物質を混合した溶媒中に前記物質
の架橋剤としてＳｉ（ＯＣ3Ｈ7）4を１０重量パーセン
ト添加しておいた場合、約４倍の硬度のフロロカーボン
系ポリマー膜が製造できた。また、同様のコーティング
をフロロカーボン系ポリマー（ポリ４フッ化エチレン）
の微粒子をさらに２０％分散添加したフロロカーボン基
及びアルコキシシラン基を含む物質を混合した非水系の
溶媒を用いて行った場合、硬度は従来並となったが従来
に比べて極めて密着性が優れた撥水撥油性の高いフロロ
カーボン系ポリマー膜が製造できた。
コキシシラン基を含む物質を混合した溶媒中に前記物質
の架橋剤としてＳｉ（ＯＣ3Ｈ7）4を１０重量パーセン
ト添加しておいた場合、約４倍の硬度のフロロカーボン
系ポリマー膜が製造できた。また、同様のコーティング
をフロロカーボン系ポリマー（ポリ４フッ化エチレン）
の微粒子をさらに２０％分散添加したフロロカーボン基
及びアルコキシシラン基を含む物質を混合した非水系の
溶媒を用いて行った場合、硬度は従来並となったが従来
に比べて極めて密着性が優れた撥水撥油性の高いフロロ
カーボン系ポリマー膜が製造できた。
【００３７】さらにまた、上記実施例では試薬としてＣ
Ｆ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ
2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3を用いたが、アルキ
ル鎖部分にエチレン基やアセチレン基を付加したり組み
込んでおけば、塗膜形成後５メガラド程度の電子線照射
で架橋できるのでさらに１０倍程度の硬度の塗膜も容易
に得られる。
Ｆ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ
2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3を用いたが、アルキ
ル鎖部分にエチレン基やアセチレン基を付加したり組み
込んでおけば、塗膜形成後５メガラド程度の電子線照射
で架橋できるのでさらに１０倍程度の硬度の塗膜も容易
に得られる。
【００３８】またフロロカーボン系界面活性剤として上
記のもの以外にも、ＣＦ3（ＣＨ2） 2Ｓｉ（ＣＨ3）
2（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、Ｆ（ＣＦ2）8（Ｃ
Ｈ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、Ｃ
Ｆ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3等が利用でき
る。
記のもの以外にも、ＣＦ3（ＣＨ2） 2Ｓｉ（ＣＨ3）
2（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、Ｆ（ＣＦ2）8（Ｃ
Ｈ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、Ｃ
Ｆ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3等が利用でき
る。
【００３９】
【実施例３】実施例１と同様に、図１に示したようにガ
ラス基体上に表面が凸凹なガラス状のシリカ下地層を形
成した後、フロロカーボン基及びクロロシラン基を含む
物質を混合した非水系の溶媒、例えば、ＣＦ3（ＣＦ2）
7（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3を用い、１％程度の濃度で溶かし
た８０％ｎ−ヘキサデカン、１２％四塩化炭素、８％ク
ロロホルム溶液を調整し、前記表面にＳｉＯＨ結合を数
多く持つ単分子膜の形成された基材を３０分程度浸漬す
ると、基体表面にＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（Ｏ
−）3の結合が生成され、フッ素を含む撥水撥油膜４
（化学吸着単分子膜）がガラス状のシリカ下地層と化学
結合した状態で凸凹に形成できた（図４）。なお、この
撥水撥油膜４´（単分子膜）は碁番目試験を行なっても
全く剥離することがなかった。また、この場合、フロロ
カーボン基は配向した状態で表面に形成されるため、表
面エネルギーが極めて低く、水に対する濡れ角度は１３
５〜１４５度であった。
ラス基体上に表面が凸凹なガラス状のシリカ下地層を形
成した後、フロロカーボン基及びクロロシラン基を含む
物質を混合した非水系の溶媒、例えば、ＣＦ3（ＣＦ2）
7（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3を用い、１％程度の濃度で溶かし
た８０％ｎ−ヘキサデカン、１２％四塩化炭素、８％ク
ロロホルム溶液を調整し、前記表面にＳｉＯＨ結合を数
多く持つ単分子膜の形成された基材を３０分程度浸漬す
ると、基体表面にＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（Ｏ
−）3の結合が生成され、フッ素を含む撥水撥油膜４
（化学吸着単分子膜）がガラス状のシリカ下地層と化学
結合した状態で凸凹に形成できた（図４）。なお、この
撥水撥油膜４´（単分子膜）は碁番目試験を行なっても
全く剥離することがなかった。また、この場合、フロロ
カーボン基は配向した状態で表面に形成されるため、表
面エネルギーが極めて低く、水に対する濡れ角度は１３
５〜１４５度であった。
【００４０】さらにまた、上記実施例では、フロロカー
ボン系界面活性剤としてＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓ
ｉＣｌ3を用いたが、アルキル鎖部分にエチレン基やア
セチレン基を付加したり組み込んでおけば、単分子膜形
成後５メガラド程度の電子線照射で架橋できるのでさら
に硬度を向上させることも可能である。
ボン系界面活性剤としてＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓ
ｉＣｌ3を用いたが、アルキル鎖部分にエチレン基やア
セチレン基を付加したり組み込んでおけば、単分子膜形
成後５メガラド程度の電子線照射で架橋できるのでさら
に硬度を向上させることも可能である。
【００４１】なお、フロロカーボン系界面活性剤として
上記のもの以外にもＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15ＳｉＣ
ｌ3、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）15Ｓｉ
Ｃｌ3、Ｆ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（Ｃ
Ｈ2）9ＳｉＣｌ3、ＣＦ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3等
が利用できる。
上記のもの以外にもＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15ＳｉＣ
ｌ3、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）15Ｓｉ
Ｃｌ3、Ｆ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（Ｃ
Ｈ2）9ＳｉＣｌ3、ＣＦ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3等
が利用できる。
【００４２】
【実施例４】まず、加工の終了したガラス板を用意し、
有機溶媒で洗浄した後、表面をサンドブラスト法を用い
て粗面処理して表面にサブミクロン（０．１乃至１．
０）オーダーの凸凹、例えば０．４乃至０．９ミクロン
程度凸凹を形成する。なお、この方法以外にフッ酸を用
いた化学エッチング法やサンドペーパーによるラビング
法が利用できる。次に、フッ化炭素基及びクロロシラン
基を含む物質を混合した非水系の溶媒、例えば、ＣＦ3
（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3を用い、１％程度の濃
度で溶かした８０％ｎ−ヘキサデカン（トルエン、キシ
レン、ジシクロヘキシルでもよい）、１２％四塩化炭
素、８％クロロホルム溶液を調整し、前記ガラス板を２
時間程度浸漬すると、ガラス板の表面は自然酸化膜が形
成されており、その酸化膜表面には水酸基が多数含まれ
ているので、フッ化炭素基及びクロロシラン基を含む物
質のＳｉＣｌ基と前記水酸基が反応し脱塩酸反応が生じ
ガラス表面全面に亘り、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓ
ｉ（Ｏ−）3の結合が生成され、フッ素を含む単分子膜
ガガラス板の表面と化学結合した状態で約１５オングス
トロームの膜厚で形成できた。なお、単分子膜はきわめ
て強固に化学結合しているので全く剥離することがなか
った。なお、ガラス板の材質が、アクリル樹脂やポリカ
ーボネート樹脂等のプラスチックの場合には、粗面化処
理後、表面をプラズマ処理（３００Ｗ、１０分程度）し
て表面を酸化し親水性とすること、および吸着液をフレ
オン溶剤に換えることで同様の技術を用いることが可能
であつた。
有機溶媒で洗浄した後、表面をサンドブラスト法を用い
て粗面処理して表面にサブミクロン（０．１乃至１．
０）オーダーの凸凹、例えば０．４乃至０．９ミクロン
程度凸凹を形成する。なお、この方法以外にフッ酸を用
いた化学エッチング法やサンドペーパーによるラビング
法が利用できる。次に、フッ化炭素基及びクロロシラン
基を含む物質を混合した非水系の溶媒、例えば、ＣＦ3
（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3を用い、１％程度の濃
度で溶かした８０％ｎ−ヘキサデカン（トルエン、キシ
レン、ジシクロヘキシルでもよい）、１２％四塩化炭
素、８％クロロホルム溶液を調整し、前記ガラス板を２
時間程度浸漬すると、ガラス板の表面は自然酸化膜が形
成されており、その酸化膜表面には水酸基が多数含まれ
ているので、フッ化炭素基及びクロロシラン基を含む物
質のＳｉＣｌ基と前記水酸基が反応し脱塩酸反応が生じ
ガラス表面全面に亘り、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓ
ｉ（Ｏ−）3の結合が生成され、フッ素を含む単分子膜
ガガラス板の表面と化学結合した状態で約１５オングス
トロームの膜厚で形成できた。なお、単分子膜はきわめ
て強固に化学結合しているので全く剥離することがなか
った。なお、ガラス板の材質が、アクリル樹脂やポリカ
ーボネート樹脂等のプラスチックの場合には、粗面化処
理後、表面をプラズマ処理（３００Ｗ、１０分程度）し
て表面を酸化し親水性とすること、および吸着液をフレ
オン溶剤に換えることで同様の技術を用いることが可能
であつた。
【００４３】このガラス板を用い実使用を試みたが、処
理しないものに比べ汚物の付着を大幅に低減できた、ま
た、たとえ付着した場合にもブラシでこする程度で簡単
に除去できた。このとき、傷は全く付かなかった。ま
た、油脂分汚れでも除去は水洗のみで可能であった。水
に対する濡れ性は蓮の葉並みであり、濡れ角度は１５５
度であった。
理しないものに比べ汚物の付着を大幅に低減できた、ま
た、たとえ付着した場合にもブラシでこする程度で簡単
に除去できた。このとき、傷は全く付かなかった。ま
た、油脂分汚れでも除去は水洗のみで可能であった。水
に対する濡れ性は蓮の葉並みであり、濡れ角度は１５５
度であった。
【００４４】
【実施例５】親水性ではあるが水酸基を含む割合が少な
いアルミ板６の場合、表面を電解エッチングしてして表
面に０．５乃至０．８ミクロン程度凸凹を形成する。な
おこの方法以外にフッ酸を用いた化学エッチング法や真
空中でのプラズマによるスパッタリング法、サンドペー
パーによるラビング法などが利用できる。また金属なら
すべて同じように使用可能であるが、材質が、アクリル
樹脂やポリカーボネート樹脂等のプラスチックの場合に
は、表面を荒した後、２００Ｗ、１０分程度プラズマ処
理して表面を酸化し親水性とすることで、同様の技術を
用いることが可能となる。
いアルミ板６の場合、表面を電解エッチングしてして表
面に０．５乃至０．８ミクロン程度凸凹を形成する。な
おこの方法以外にフッ酸を用いた化学エッチング法や真
空中でのプラズマによるスパッタリング法、サンドペー
パーによるラビング法などが利用できる。また金属なら
すべて同じように使用可能であるが、材質が、アクリル
樹脂やポリカーボネート樹脂等のプラスチックの場合に
は、表面を荒した後、２００Ｗ、１０分程度プラズマ処
理して表面を酸化し親水性とすることで、同様の技術を
用いることが可能となる。
【００４５】次に、クロロシリル基を複数個含む物質
（例えば、ＳｉＣｌ4、またはＳｉＨＣｌ3、ＳｉＨ2Ｃ
ｌ2、Ｃｌ−（ＳｉＣｌ2Ｏ）n−ＳｉＣｌ3（ｎは整
数）、特に、ＳｉＣｌ4を用いれば、分子が小さく水酸
基に対する活性も大きいので、アルミ板表面を均一に親
水化する効果が大きい）を混合した非水系溶媒、例えば
クロロホルム溶媒に１重量パーセント溶解した溶液に３
０分間程度浸漬すると、アルミ板表面には親水性の−Ｏ
Ｈ基が多少とも存在するので表面で脱塩酸反応が生じク
ロロシリル基を複数個含む物質のクロロシラン単分子膜
が形成される。
（例えば、ＳｉＣｌ4、またはＳｉＨＣｌ3、ＳｉＨ2Ｃ
ｌ2、Ｃｌ−（ＳｉＣｌ2Ｏ）n−ＳｉＣｌ3（ｎは整
数）、特に、ＳｉＣｌ4を用いれば、分子が小さく水酸
基に対する活性も大きいので、アルミ板表面を均一に親
水化する効果が大きい）を混合した非水系溶媒、例えば
クロロホルム溶媒に１重量パーセント溶解した溶液に３
０分間程度浸漬すると、アルミ板表面には親水性の−Ｏ
Ｈ基が多少とも存在するので表面で脱塩酸反応が生じク
ロロシリル基を複数個含む物質のクロロシラン単分子膜
が形成される。
【００４６】例えば、クロロシリル基を複数個含む物質
としてＳｉＣｌ4を用いれば、アルミ板表面には少量の
親水性の−ＯＨ基が露出されているので、表面で脱塩酸
反応が生じＣｌ3ＳｉＯ− や Ｃｌ2Ｓｉ（Ｏ−）2の
様に分子が−ＳｉＯ−結合を介して表面に固定される。
としてＳｉＣｌ4を用いれば、アルミ板表面には少量の
親水性の−ＯＨ基が露出されているので、表面で脱塩酸
反応が生じＣｌ3ＳｉＯ− や Ｃｌ2Ｓｉ（Ｏ−）2の
様に分子が−ＳｉＯ−結合を介して表面に固定される。
【００４７】その後、非水系の溶媒例えばクロロホルム
で洗浄して、さらに水で洗浄すると、アルミ板と反応し
ていないＳｉＣｌ4 分子は除去され、アルミ板表面に
（ＯＨ）3ＳｉＯ− や （ＯＨ）2Ｓｉ（Ｏ−）2等の
シロキサン単分子膜７（純粋なシリカ下地層）が得られ
た。
で洗浄して、さらに水で洗浄すると、アルミ板と反応し
ていないＳｉＣｌ4 分子は除去され、アルミ板表面に
（ＯＨ）3ＳｉＯ− や （ＯＨ）2Ｓｉ（Ｏ−）2等の
シロキサン単分子膜７（純粋なシリカ下地層）が得られ
た。
【００４８】なお、このときできた単分子膜はアルミ板
とは−ＳｉＯ−の化学結合を介して完全に結合されてい
るので剥がれることが全く無い。また、得られた単分子
膜は表面にＳｉＯＨ（シラノール）結合を数多く持つ。
当初の水酸基の約３倍程度の数が生成される。
とは−ＳｉＯ−の化学結合を介して完全に結合されてい
るので剥がれることが全く無い。また、得られた単分子
膜は表面にＳｉＯＨ（シラノール）結合を数多く持つ。
当初の水酸基の約３倍程度の数が生成される。
【００４９】そこでさらに、フッ化炭素基及びクロロシ
ラン基を含む物質を混合した非水系の溶媒、例えば、Ｃ
Ｆ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3を用い、１％程度の
濃度で溶かした８０％ｎ−ヘキサデカン、１２％四塩化
炭素、８％クロロホルム溶液を調整し、前記表面にＳｉ
ＯＨ結合を数多く持つシリカ単分子膜の形成されたアル
ミ板を１時間程度浸漬すると、アルミ板表面にＣＦ
3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（Ｏ−）3の結合が生成さ
れ、フッ素を含むポリマー膜４が下層のシロキサン単分
子膜と化学結合した状態でアルミ板表面全面に亘り約１
５ｎｍの膜厚で形成できた（図５）。なお、このポリマ
ー膜は剥離試験を行なっても全く剥離することがなかっ
た。また、水に対する濡れ角度は約１５５度であった。
ラン基を含む物質を混合した非水系の溶媒、例えば、Ｃ
Ｆ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3を用い、１％程度の
濃度で溶かした８０％ｎ−ヘキサデカン、１２％四塩化
炭素、８％クロロホルム溶液を調整し、前記表面にＳｉ
ＯＨ結合を数多く持つシリカ単分子膜の形成されたアル
ミ板を１時間程度浸漬すると、アルミ板表面にＣＦ
3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（Ｏ−）3の結合が生成さ
れ、フッ素を含むポリマー膜４が下層のシロキサン単分
子膜と化学結合した状態でアルミ板表面全面に亘り約１
５ｎｍの膜厚で形成できた（図５）。なお、このポリマ
ー膜は剥離試験を行なっても全く剥離することがなかっ
た。また、水に対する濡れ角度は約１５５度であった。
【００５０】さらにまた、上記実施例では、フッ化炭素
系界面活性剤としてＣＦ3（ＣＦ2） 7（ＣＨ2）2ＳｉＣ
ｌ3を用いたが、フッ化炭素系界面活性剤として上記の
もの以外にもＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3、ＣＦ
3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3、Ｆ
（ＣＦ2）4（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9ＳｉＣ
ｌ3、ＣＦ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3、ＣＦ3（Ｃ
Ｆ2）5（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3等が利用できる。
系界面活性剤としてＣＦ3（ＣＦ2） 7（ＣＨ2）2ＳｉＣ
ｌ3を用いたが、フッ化炭素系界面活性剤として上記の
もの以外にもＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3、ＣＦ
3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3、Ｆ
（ＣＦ2）4（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9ＳｉＣ
ｌ3、ＣＦ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3、ＣＦ3（Ｃ
Ｆ2）5（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3等が利用できる。
【００５１】なお、第４の実施例において、アルミ板の
代わりにガラス板を用い、フッ化炭素基及びクロロシラ
ン基を含む物質を化学吸着する際、防曇効果を付与する
ため親水性のままで残したい面（例えば内面）に有機溶
媒不溶性の親水性被膜（例えば、ポバール（ポリビニル
アルコール）やプルランの水溶液を塗布し数ミクロン厚
さのとする）を形成しておくことで、吸着終了後前記親
水性被膜を水洗除去して、表面が撥水撥油防汚性単分子
膜で、内面が親水性の水酸基を有する単分子膜（シロキ
サンより成るシリカ膜）の透光ガラスが得られた。この
ガラスで防曇効果を確かめたが、親水性のままで残した
ガラス面は、水に対してきわめて濡れ易く全く曇ること
がなかった。
代わりにガラス板を用い、フッ化炭素基及びクロロシラ
ン基を含む物質を化学吸着する際、防曇効果を付与する
ため親水性のままで残したい面（例えば内面）に有機溶
媒不溶性の親水性被膜（例えば、ポバール（ポリビニル
アルコール）やプルランの水溶液を塗布し数ミクロン厚
さのとする）を形成しておくことで、吸着終了後前記親
水性被膜を水洗除去して、表面が撥水撥油防汚性単分子
膜で、内面が親水性の水酸基を有する単分子膜（シロキ
サンより成るシリカ膜）の透光ガラスが得られた。この
ガラスで防曇効果を確かめたが、親水性のままで残した
ガラス面は、水に対してきわめて濡れ易く全く曇ること
がなかった。
【００５２】また、吸着用試薬の分子の長さを変えたも
の２種を混合して（例えば、Ｆ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓ
ｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3と、Ｆ（ＣＦ2）
8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）6ＳｉＣｌ3、ある
いは、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2） 2ＳｉＣｌ3と、ＣＦ3
（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3の組合せで、組成を
３：１〜１：３とする）吸着すれば、部材表面を分子レ
ベルで凸凹にする事が可能であり、撥水撥油性がさらに
良くなる。
の２種を混合して（例えば、Ｆ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓ
ｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9ＳｉＣｌ3と、Ｆ（ＣＦ2）
8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）6ＳｉＣｌ3、ある
いは、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2） 2ＳｉＣｌ3と、ＣＦ3
（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3の組合せで、組成を
３：１〜１：３とする）吸着すれば、部材表面を分子レ
ベルで凸凹にする事が可能であり、撥水撥油性がさらに
良くなる。
【００５３】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明の方法を用い
れば、ＡｌやＣｕ、ステンレスの様な金属や金属酸化物
のセラミクスあるいはガラスやプラスチック基体にも、
撥水撥油性膜の優れたフロロカーボン系単分子膜を基体
と化学結合した状態で高密度にピンホール無く形成でき
る。従って、耐久性が極めて高く撥水撥油性の優れた高
性能フロロカーボン系被膜を提供できる効果がある。
れば、ＡｌやＣｕ、ステンレスの様な金属や金属酸化物
のセラミクスあるいはガラスやプラスチック基体にも、
撥水撥油性膜の優れたフロロカーボン系単分子膜を基体
と化学結合した状態で高密度にピンホール無く形成でき
る。従って、耐久性が極めて高く撥水撥油性の優れた高
性能フロロカーボン系被膜を提供できる効果がある。
【図１】 本発明の実施例１の撥水撥油性被膜の製造工
程を説明するための工程断面概念図である。
程を説明するための工程断面概念図である。
【図２】 本発明の実施例１の撥水撥油性被膜の製造工
程を説明するための工程断面概念図である。
程を説明するための工程断面概念図である。
【図３】 本発明の実施例１の撥水撥油性被膜上に水滴
を滴下した場合の断面概念図である。
を滴下した場合の断面概念図である。
【図４】 本発明の実施例３においての単分子膜状撥水
撥油性被膜の製造工程を説明するために分子レベルまで
拡大した撥水撥油性被膜の断面概念図である。
撥油性被膜の製造工程を説明するために分子レベルまで
拡大した撥水撥油性被膜の断面概念図である。
【図５】 実施例５において、図２におけるＡ部分を分
子レベルまで拡大した撥水撥油性被膜断面概念図であ
る。
子レベルまで拡大した撥水撥油性被膜断面概念図であ
る。
【符号の説明】 １ ガラス基体 ２ 微粒子 ３ シリケートガラス膜 ４ ポリマー膜状撥水撥油膜 ４´ 単分子膜状撥水撥油膜 ５ 水滴 ６ アルミ板 ７ シロキサン単分子膜
Claims (16)
- 【請求項１】 ガラス基体の表面の少なくとも一部分が ａ．シリカ下地層、及び ｂ．ペルフルオロアルキル アルキル シランで処理さ
れていることを特徴とする撥水撥油性被膜を有するガラ
ス基体からなる物品。 - 【請求項２】 ペルフルオロアルキル アルキル シラ
ンが、一般式ＣＦ3−(ＣＦ2)n−Ｒ−ＳｉＸpＣｌ
3-p（ｎは０または整数、Ｒはアルキレン基、エチレン
基、アセチレン基、またはＳｉ、酸素原子を含む置換
基、ＸはＨまたはアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ル基またはこれらの誘導体から選ばれる置換基、ｐは
０，１または２）、またはＣＦ3−（ＣＦ2）n−Ｒ−Ｓ
ｉＹq（ＯＡ）3-q（ｎは０または整数、Ｒはアルキレン
基、エチレン基、アセチレン基、またはＳｉ、酸素原子
を含む置換基、ＸはＨまたはアルキル基、シクロアルキ
ル基、アリル基またはこれらの誘導体から選ばれる置換
基、ＯＡはアルコキシ基（ただし、ＡはＨまたはアルキ
ル基）、ｑは０，１または２）である請求項１に記載の
ガラス基体からなる物品。 - 【請求項３】 ペルフルオロアルキル アルキル シラ
ンで処理されている撥水撥油性被膜が、ポリマー状また
は単分子膜状である請求項１または２に記載のガラス基
体からなる物品。 - 【請求項４】 ペルフルオロアルキル アルキル シラ
ンが、下記の化合物から選ばれる少なくとも一つである
請求項１に記載のガラス基体からなる物品。 (1) ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3 (2) ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3 (3) ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3 (4) ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）15Ｓｉ
Ｃｌ3 (5) Ｆ（ＣＦ2）4（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）
9ＳｉＣｌ3 (6) ＣＦ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3 (7) ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3 (8) Ｆ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）
9ＳｉＣｌ3 (9) Ｆ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）
6ＳｉＣｌ3 (10) ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 (11) ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3 (12) ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）15Ｓｉ
（ＯＣＨ3）3 (13) Ｆ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）
9Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 (14) ＣＦ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3 - 【請求項５】 シリカ下地層により、基体の表面が粗面
化されている請求項１〜４のいずれかに記載のガラス基
体からなる物品。 - 【請求項６】 シリカ下地層の表面の粗面化の程度が、
サブミクロン乃至ミクロンオーダの凸凹である請求項５
に記載の撥水撥油性被膜を有する物品。 - 【請求項７】 シリカ下地層とペルフルオロアルキル
アルキル シランとが、脱塩化水素反応又は脱アルコー
ル反応により処理されている請求項１〜６のいずれかに
記載のガラス基体からなる物品。 - 【請求項８】 シリカ下地層が、ガラス基材表面にシリ
ケートグラスを塗布し、さらに加熱処理またはプラズマ
アッシング処理することにより形成されている請求項１
〜７のいずれかに記載のガラス基体からなる物品。 - 【請求項９】 シリカ下地層が、ガラス基材表面にＳｉ
Ｃｌ4 、ＳｉＨＣｌ3、ＳｉＨ2Ｃｌ2 、Ｃｌ−（ＳｉＣ
ｌ2Ｏ）n−ＳｉＣｌ3（ｎは整数）から選ばれる少なく
とも一つの化合物を接触させ、脱塩化水素反応処理させ
て形成されている請求項１〜７のいずれかに記載のガラ
ス基体からなる物品。 - 【請求項１０】 ａ．ガラスの表面にシリカ下地層を付
着させ、そして ｂ．前記シリカ下地層をペルフルオロアルキル アルキ
ル シランからなる組成物と接触させる、工程を含むこ
とを特徴とするガラス基体表面に非濡れ性表面を形成す
る方法。 - 【請求項１１】 ガラス基体の表面に形成したシリカ下
地層と、ペルフルオロアルキル アルキル シランとを
接触後、脱塩化水素反応又は脱アルコール反応させる工
程を含む請求項１０に記載の方法。 - 【請求項１２】 ペルフルオロアルキル アルキル シ
ランとして、一般式ＣＦ3−(ＣＦ2)n−Ｒ−ＳｉＸpＣｌ
3-p（ｎは０または整数、Ｒはアルキレン基、エチレン
基、アセチレン基、またはＳｉ、酸素原子を含む置換
基、ＸはＨまたはアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ル基またはこれらの誘導体から選ばれる置換基、ｐは
０，１または２）、またはＣＦ3−（ＣＦ2）n−Ｒ−Ｓ
ｉＹq（ＯＡ） 3-q（ｎは０または整数、Ｒはアルキレン
基、エチレン基、アセチレン基、またはＳｉ、酸素原子
を含む置換基、ＯＡはアルコキシ基（ただし、ＡはＨま
たはアルキル基）、ｑは０，１または２）で示される化
合物を用いる請求項１０または１１に記載の方法。 - 【請求項１３】 ペルフルオロアルキル アルキル シ
ランが、下記の化合物から選ばれる少なくとも一つであ
る請求項１０または１１に記載の方法。 (1) ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3 (2) ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3 (3) ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3 (4) ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）15Ｓｉ
Ｃｌ3 (5) Ｆ（ＣＦ2）4（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）
9ＳｉＣｌ3 (6) ＣＦ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3 (7) ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3 (8) Ｆ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）
9ＳｉＣｌ3 (9) Ｆ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）
6ＳｉＣｌ3 (10) ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 (11) ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3 (12) ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）15Ｓｉ
（ＯＣＨ3）3 (13) Ｆ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）
9Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 (14) ＣＦ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3 - 【請求項１４】 シリカ下地層形成時にシリケートグラ
スに微粒子を混合しておき、基体の非濡れ性表面を粗面
化する請求項１０〜１３のいずれかに記載の方法。 - 【請求項１５】 ガラス基材表面にシリケートグラスを
塗布し、さらに加熱処理またはプラズマアッシング処理
することによりシリカ下地層を形成する請求項１０〜１
４のいずれかに記載の方法。 - 【請求項１６】 ガラス基材表面にＳｉＣｌ4、ＳｉＨ
Ｃｌ3、ＳｉＨ2Ｃｌ2、Ｃｌ−（ＳｉＣｌ2Ｏ）n−Ｓｉ
Ｃｌ3（ｎは整数）から選ばれる少なくとも一つの化合
物を接触させ、脱塩化水素反応および加水分解反応させ
ることによりシリカ下地層を形成する請求項１０〜１４
のいずれかに記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8095198A JP3444524B2 (ja) | 1991-01-23 | 1998-03-27 | 撥水撥油性被膜を有する物品及びガラス物品 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3-24024 | 1991-01-23 | ||
| JP3024024A JPH04239633A (ja) | 1991-01-23 | 1991-01-23 | 撥水撥油性被膜及びその製造方法 |
| JP8095198A JP3444524B2 (ja) | 1991-01-23 | 1998-03-27 | 撥水撥油性被膜を有する物品及びガラス物品 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3036775A Division JP2809889B2 (ja) | 1991-01-23 | 1991-02-05 | 撥水撥油性被膜及びその製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003132146A Division JP2004002187A (ja) | 1991-01-23 | 2003-05-09 | 撥水撥油性被膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10310455A true JPH10310455A (ja) | 1998-11-24 |
| JP3444524B2 JP3444524B2 (ja) | 2003-09-08 |
Family
ID=26361486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8095198A Expired - Lifetime JP3444524B2 (ja) | 1991-01-23 | 1998-03-27 | 撥水撥油性被膜を有する物品及びガラス物品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3444524B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004002187A (ja) * | 1991-01-23 | 2004-01-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 撥水撥油性被膜 |
| WO2012061240A1 (en) * | 2010-11-01 | 2012-05-10 | Corning Incorporated | Transparent substrate having durable hydrophobic/oleophobic surface |
| KR20140045430A (ko) | 2011-07-11 | 2014-04-16 | 도레이 카부시키가이샤 | 성형 재료, 도료 조성물 및 성형 재료의 제조 방법 |
| WO2015139824A1 (de) * | 2014-03-19 | 2015-09-24 | Rodenstock Gmbh | Hydrophobierung von hartlackierungsoberflächen |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58147483A (ja) * | 1982-02-26 | 1983-09-02 | Asahi Glass Co Ltd | ガラス表面の撥水撥油剤 |
| JPS6040254A (ja) * | 1983-08-16 | 1985-03-02 | 旭硝子株式会社 | 撥水撥油性多層膜 |
| JPS623046A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-09 | Asahi Glass Co Ltd | 酸化珪素被膜の形成方法 |
| JPS63175671A (ja) * | 1987-01-14 | 1988-07-20 | Nissan Motor Co Ltd | ポリアセタ−ル樹脂の塗装方法 |
| JPH01315431A (ja) * | 1988-06-15 | 1989-12-20 | Matsushita Electric Works Ltd | 熱硬化性樹脂成形品の表面処理方法 |
| JPH02248480A (ja) * | 1989-03-22 | 1990-10-04 | Asahi Glass Co Ltd | 撥水性．防汚性を有する透明基材およびそれを装着した構造物 |
| JPH02311332A (ja) * | 1989-05-26 | 1990-12-26 | Sekisui Chem Co Ltd | 撥水性ガラスの製造方法 |
| JPH04288349A (ja) * | 1991-01-23 | 1992-10-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 撥水撥油性被膜及びその製造方法 |
| JPH05238781A (ja) * | 1991-11-29 | 1993-09-17 | Ppg Ind Inc | 耐久撥水性表面を有するガラス物品 |
-
1998
- 1998-03-27 JP JP8095198A patent/JP3444524B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58147483A (ja) * | 1982-02-26 | 1983-09-02 | Asahi Glass Co Ltd | ガラス表面の撥水撥油剤 |
| JPS6040254A (ja) * | 1983-08-16 | 1985-03-02 | 旭硝子株式会社 | 撥水撥油性多層膜 |
| JPS623046A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-09 | Asahi Glass Co Ltd | 酸化珪素被膜の形成方法 |
| JPS63175671A (ja) * | 1987-01-14 | 1988-07-20 | Nissan Motor Co Ltd | ポリアセタ−ル樹脂の塗装方法 |
| JPH01315431A (ja) * | 1988-06-15 | 1989-12-20 | Matsushita Electric Works Ltd | 熱硬化性樹脂成形品の表面処理方法 |
| JPH02248480A (ja) * | 1989-03-22 | 1990-10-04 | Asahi Glass Co Ltd | 撥水性．防汚性を有する透明基材およびそれを装着した構造物 |
| JPH02311332A (ja) * | 1989-05-26 | 1990-12-26 | Sekisui Chem Co Ltd | 撥水性ガラスの製造方法 |
| JPH04288349A (ja) * | 1991-01-23 | 1992-10-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 撥水撥油性被膜及びその製造方法 |
| JPH05238781A (ja) * | 1991-11-29 | 1993-09-17 | Ppg Ind Inc | 耐久撥水性表面を有するガラス物品 |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004002187A (ja) * | 1991-01-23 | 2004-01-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 撥水撥油性被膜 |
| WO2012061240A1 (en) * | 2010-11-01 | 2012-05-10 | Corning Incorporated | Transparent substrate having durable hydrophobic/oleophobic surface |
| KR20140045430A (ko) | 2011-07-11 | 2014-04-16 | 도레이 카부시키가이샤 | 성형 재료, 도료 조성물 및 성형 재료의 제조 방법 |
| US20140148547A1 (en) * | 2011-07-11 | 2014-05-29 | Toray Industries, Inc. | Forming material, paint material composition and production method for forming material |
| US9371467B2 (en) | 2011-07-11 | 2016-06-21 | Toray Industries, Inc. | Forming material, paint material composition and production method for forming material |
| WO2015139824A1 (de) * | 2014-03-19 | 2015-09-24 | Rodenstock Gmbh | Hydrophobierung von hartlackierungsoberflächen |
| JP2017515649A (ja) * | 2014-03-19 | 2017-06-15 | ローデンシュトック ゲーエムベーハー | 疎水化ハードペイント表面 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3444524B2 (ja) | 2003-09-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2809889B2 (ja) | 撥水撥油性被膜及びその製造方法 | |
| JP3588364B2 (ja) | 表面処理された基材および基材の表面処理方法 | |
| JP4198598B2 (ja) | 超撥水性基体 | |
| JP2506234B2 (ja) | 透光性基体の製造方法 | |
| CA2060294C (en) | Chemically absorbed film and method of manufacturing the same | |
| EP0497189A2 (en) | Water- and oil-repelling absorbed film and method of manufacturing the same | |
| JPWO2004052640A1 (ja) | 機能性皮膜被覆物品、その製造方法及び機能性皮膜形成用塗工材料 | |
| JP3165672B2 (ja) | 撥水撥油性被膜を有する物品及びその製造方法 | |
| JPH04239633A (ja) | 撥水撥油性被膜及びその製造方法 | |
| JP2622316B2 (ja) | 撥水撥油性フィルム及びその製造方法 | |
| JP2007137767A (ja) | 撥水撥油性ガラス基体 | |
| JP3017965B2 (ja) | 撥水撥油性被膜を有する物品及びその形成方法 | |
| JP2004002187A (ja) | 撥水撥油性被膜 | |
| JP3150133B2 (ja) | 撥水撥油性面と親水性面を有する物品及びその製造方法 | |
| JP2004136630A (ja) | 機能性皮膜被覆物品、およびその製造方法 | |
| JP2500150B2 (ja) | 撥水撥油コ―ティング膜及びその製造方法 | |
| JP3444524B2 (ja) | 撥水撥油性被膜を有する物品及びガラス物品 | |
| JPH0786146B2 (ja) | 撥水撥油防汚性被膜及びその製造方法 | |
| JPH04367721A (ja) | フッ素系化学吸着単分子累積膜及びその製造方法 | |
| JP3285250B2 (ja) | 帯電防止防汚処理基材及びその製造方法 | |
| JP2001214156A (ja) | 撥水撥油性被膜を有する物品及びその製造方法 | |
| JP2690876B2 (ja) | 透光性基体 | |
| JP2807451B2 (ja) | 透光性基体の製造方法 | |
| JP2577203B2 (ja) | 防汚性ガラスの製造方法 | |
| JPH04255345A (ja) | 防汚性光学部材およびその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080627 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090627 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100627 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100627 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110627 Year of fee payment: 8 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110627 Year of fee payment: 8 |