JPH03141048A

JPH03141048A - 酸化ケイ素被覆光情報記録媒体およびその製造方法

Info

Publication number: JPH03141048A
Application number: JP1277751A
Authority: JP
Inventors: Takenobu Hatasawa; 畠澤　剛信; Hirota Fujinawa; 藤縄　比呂他; Kenzo Yamaguchi; 山口　健三
Original assignee: Sekisui Chemical Co Ltd
Current assignee: Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date: 1989-10-24
Filing date: 1989-10-24
Publication date: 1991-06-17

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

〔産業上の利用分野〕本発明は、酸化ケイ素膜を全面に被覆した光情報記録媒
体に関し、さらに詳しくは、耐湿性、耐食性、耐擦傷性
の向上した酸化ケイ素被覆光情報記録媒体とその製造方
法に関する。〔従来の技術〕近年、光ディスクやビデオディスクなどの多種類の光情
報記録媒体が開発され、市販されて１７％る。これらの
光情報記録媒体は、回転するディスク上にレーザー光を
集光し、ディスクからの反射光の強弱を検出する基本構
成を採用しており、ポリカーボネートやポリメチルメタ
クリレートなどの透明な合成樹脂からなる基板上に記録
層を設けたものが代表的なものである。ところで、記録層に用いられる記録媒体用材料として、
Ｔｅ、Ｔｉなどの金属または金属合金、Ｔｅ低酸化物、
有機染料薄膜、銀塩薄膜、フオトクロミ、ツク化合物な
どが広く提案され、また、使用されているが、これらは
いずれも酸化や加水分解されやすい材料であるため、記
録層の劣化を防ぐための保護層の開発が進められている
。また、合成樹脂製の基板を用いた光情報記録媒体にお
いては、基板の吸水・膨潤によるソリが生じ、それに起
因して記録層が剥離したり、信号読み取りが不可能にな
ったり、あるいは透過水分により記録層が劣化するなど
の問題がある。そこで、これらの問題を解決して、光情
報媒体の長期信頼性をいかにして確保するかが重要な課
題となっている。従来、保護層として、各種合成樹脂層や二酸化ケイ素な
どの透明誘電体層を記録層面上に設けることなどが提案
されている０例えば、特開昭６１−３９９４９号公報に
は、透明基板の片面に設けられた光情報記録層の表面に
シランカップリング剤もしくはチタンカップリング剤を
１〜２分子層設け、記録層の面上あるいは記録層上よび
基板の両表面にポリ塩化ビニリデン共重合物含有層を形
成することにより、防湿性や耐食性を向上させることが
提案されている。しかしながら、記録層の表面のみをポリ塩化ビニリデン
共重合物含有層で保護した場合には、基板面側からの透
過水分を遮断することができないので、基板の吸水によ
るソリおよびそれに起因する記録層の剥離や透過水分に
よる記録層の劣化等を防ぐことはできない。この問題は
、記録層の表面を誘電体層で被覆した場合も同様である
。また、記録層の面上に反射層、あるいは誘電体層を介
して反射層を設けた構造の光情報記録媒体でも、基板側
からの吸水問題は解決されない。一方、記録層および基板の両表面にポリ塩化ビニリデン
共重合物含有層を形成すると、光の通路となる基板表面
に耐擦傷性に劣る樹脂層が形成されることになるので、
信号劣化や感度の劣化など光情報記録媒体としての基本
的性能を著しく損なう恐れがある。しかも、このように
両表面にポリ塩化ビニリデン共重合物含有層を形成して
も、耐湿性は充分ではなく、透過水分による記録層の劣
化を完全に防ぐことはできない。さらに、光情報記録媒体には、接着張り合せ構造やエア
ーサンドイッチ構造などの構造のものがあり、それらは
記録層を中心層とする両面張り合せ構造のため、ソリの
問題は軽減されるが、透過水分による記録層の劣化を防
ぐことはできない。また、記録層の上面または上下面にｓｌｏや５ｔｏ２、
ＭｇＦｇ、ＡβＮなどの透明誘電体層を積層すれば、記
録層を酸化や加水分解から防ぐことができるが、これら
の透明誘電体材料は、基板となる合成樹脂との密着性に
劣るため、基板の保護層に用いることは困難である。ところで、近年、合成樹脂成形体の表面を改質するため
に、二酸化ケイ素などの酸化物の薄膜で被覆する技術が
開発され、実用化されている。従来、酸化物膜等を被覆
する方法としては、真空蒸着、スパッタ、イオンブレー
ティング、プラズマＣＶＤなど各種の方法が知られてい
るが、これらの被膜形成法では、特別の設備を要したり
、大型成形体や複雑な形状の成形体表面に被膜を形成す
ることが困難であり、しかも合成樹脂成形体と被膜との
密着性が不充分であるという問題がある。最近、二酸化ケイ素膜を直接合成樹脂成形体表面に被覆
するのではなく、予め合成樹脂成形体表面に付着性良好
なケイ素含有被膜を第１次被膜（プライマー）として被
覆し、さらにその上に該第１次被膜と付着性良好な二酸
化ケイ素膜を作成する方法が提案されている（特開昭６
１−１２７３４号公報）。この方法によれば、プライマ
ーが硬化によってシロキサン結合を有するポリマーを形
成するため二酸化ケイ素膜とプライマーとの密着性は改
善され、従来法と比較して耐久性のよい被膜を得ること
ができる。しかも、塗布浸漬法を使用することができる
ため、大型形状あるいは複雑な形状の合成樹脂成形体に
も適用可能である。しかしながら、この方法では、プラ
イマーと合成樹脂成形体との間に強固な化学的結合がほ
とんど形成されないため、合成樹脂成形体とプライマー
との密着性が不充分であり、したがって二酸化ケイ素膜
の合成樹脂成形体に対する密着性も充分ではない。そこで、従来公知の酸化ケイ素被覆法を光情報記録媒体
の保護層形成に単に適用しても、基板との密着性に優れ
た被膜を形成することは困難である。〔発明が解決しようとする課題〕本発明の目的は、耐湿性、耐食性、耐擦傷性が向上し、
かつ吸水による形状変化が極めて小さい光情報記録媒体
を提供することにある。また、本発明の目的は、基板との密着性に優れた酸化ケ
イ素被膜を全面に有する被覆光情報記録媒体を提供する
ことにある。本発明者らは、前記従来技術の有する問題点を克服する
ために鋭意研究した結果、合成樹脂製の透明基板上に記
録層、誘電体層および／または保護層を設けた光情報記
録媒体において、光情報記録媒体の全面または透明基板
表面に有機シラン化合物からなる薄膜を形成し、次いで
、光情報記録媒体の全面に酸化ケイ素被膜を形成し、し
かる後、電子線を照射して基板と有機シラン化合物との
間に化学結合を形成させることにより、基板との密着性
に優れた酸化ケイ素被膜を形成できることを見出した。そして、この酸化ケイ素被覆光情報記録媒体は、その全
面が酸化ケイ素被膜で被覆されているために、耐湿性、
耐食性および耐擦傷性が顕著に向上し、かつ吸水性が極
めて小さいことを見出した。本発明は、これらの知見に基づいて完成するに至ったも
のである。〔課題を解決するための手段〕かくして、本発明によれば、合成樹脂製の透明基板上に
記録層、誘電体層および／または保護層を設けた光情報
記録媒体の全面または透明基板表面に、有機シラン化合
物からなる薄膜を形成し、次いで、光情報記録媒体の全
面に酸化ケイ素被膜を形成し、しかる後、プライマー層
と酸化ケイ素被膜とが重なった面に電子線を照射するこ
とを特徴とする酸化ケイ素被覆光情報記録媒体およびそ
の製造方法が提供される。以下、本発明の各構成要素について説明する。（光情報記録媒体）本発明で使用する光情報記録媒体は、合成樹脂製の透明
基板上に記録層、誘電体層および／または保護層を設け
た多層構造の光情報記録媒体である。本発明における光情報記録媒体としては、上記多層構造
を有するものであれば、単板構成や張り合せ構成など、
従来公知の構造のものが使用できる。基板の材料となる合成樹脂としては、ポリカーボネート
樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂など一般に光情報記
録媒体用として用いられている透明性に優れた合成樹脂
であれば良く、特に制限されないが、その中でも有機ケ
イ素化合物と強固な化学結合を生じるポリカーボネート
樹脂が好ましい。記録層としては、ＴｂＦｅＣｏ、ＧｄＦｅ。ＴｂＣｏ、ＤｙＦｅ、ＮｄＤｙＦｅＣｏ、ＴｂＦｅ％Ｇ
ｄＦｅＢ１．ＧｄＴｂＦｅなどからなる記録膜、あるい
は相変化型記録材料や色素系記録材料からなる膜など従
来公知のものがいずれも使用可能である。誘電体層および／または保護膜の材料としては、ＳｉＯ
，、ＳｉＮ、％５ｉＡＪ２ＯＮ、５ｉＡ１２ＮなどＳｔ
系の透明な層を形成する誘電体が好ましく使用できる。本発明で使用する光情報記録媒体の積層構成は、基板／
誘電体層／記録層／保護層または基板／記録層／保護層
が代表的なものである。また、単板構成のものだけではなく、合成樹脂製の透明
基板上に記録層、誘電体層および／または保護層を設け
た２枚の光情報記録媒体を、接着層を介して記録層側の
面どうし張り合せた構造のもの、例えば、基板／誘電体
層／記録層／保護層／／接着層／／保護層／記録層／誘
電体層／基板などの構造のものであってもよい、このよ
うな張り合せ構造のものは、ソリの問題が少ない。（有機シラン化合物）有機シラン化合物としては、ビニル基、メタクリロキシ
基、エポキシ基、アミノ基またはイソシアネート基を含
有する汎用のシラン系カップリング剤がある。その中でも、下記一般式［１］および［■）で示される
有機シラン化合物が好適に使用できる。ｘｎｓｔｙｎ−＊　　　　　　　　　　　［Ｉ］〔ただ
し、Ｘはビニル基、メタクリロキシ基、エポキシ基、ア
ミノ基またはインシアネート基を有する炭素数１〜１０
の炭化水素基、Ｙはアルコキシ基、アルコキシアルコキ
シ基、アセトキシ基または水酸基を有する炭素数１〜１
０の炭化水素基、ｎは１〜３の整数である。〕具体的には、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシア
ネートプロピルトリメトキシシラン、γ−インシアネー
トプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアネートプ
ロピルメチルジメトキシシラン、グリシドキシプロビル
トリメトキシシラン、グリシドキシプロビルトリエトキ
シシラン、グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン
、グリシドキシプロビルメチルジメトキシシラン、グリ
シドキシプロビルメチルジェトキシシラン、グリシドキ
シプロビルエチルジメトキシシラン、グリシドキシプロ
ビルエチルジェトキシシラン、グリシドキシプロピルブ
チルジメトキシシラン、グリシドキシプロビルブチルジ
ェトキシシラン、２−　（２，３−エポキシシクロヘキ
シル）エチルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエ
チル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−
アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン
、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェ
ニルアミノメチルトリメトキシシラン、Ｎ−（トリエト
キシシリルプロビル）尿素、アミノメチルトリエトキシ
シラン、Ｎ−（β−アミノエチル）アミノメチルトリメ
トキシシラン、アミノメチルジェトキシシラン、ビニル
トリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエト
キシ）シラン、ビニルアセトキシシラン、γ−メタクリ
ロキシブロビルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリメトキシシラン、等が挙げられる。Ｒ，、Ｓ　ｉ　（ＯＯＲ’　）　ｎ　　　　　［ＩＩ］
Ｅ式中、Ｒは炭素数１〜６の炭化水素基、ビニル基、メ
タクリロキシ基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基
、フッ素または塩素を有する有機基であり、Ｒ′はアル
キル基、アシル基、アリールアルキル基から選ばれる１
種もしくは複数の結合基であり、ｎは１〜４の整数であ
る。〕具体的には、例えば、ビニルトリス（ｔ−ブチル
パーオキシ）シラン、ビニルトリス（キュメンバーオキ
シ）シラン、ビニルトリス（アセチルパーオキシ）シラ
ン、ビニルトリス（ベンゾイルパーオキシ）シラン、ビ
ニルトリス（ラウロイルパーオキシ）シラン、γ−グリ
シドキシプロビルトリス（ｔ−ブチルパーオキシ）シラ
ン、γ−グリシドキシプロビルトリス（キュメンバーオ
キシ）シラン、γ−グリシドキシプロビルトリス（アセ
チルパーオキシ）シラン、γ−グリシドキシプロピルト
リス（ベンゾイルパーオキシ）シラン、γ−グリシドキ
シプロビルトリス（ラウロイルパーオキシ）シラン、γ
−メタクリロキシプロピルトリス（ｔ−ブチルパーオキ
シ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリス（キュ
メンバーオキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピル
トリス（アセチルパーオキシ）シラン、γ−メタクリロ
キシプロピルトリス（ベンゾイルパーオキシ）シラン、
γ−メタクリロキシプロピルトリス（ラウロイルパーオ
キシ）シランなどを挙げることができる。これらの有機ケイ素化合物は、それぞれ単独で、あるい
は複数種組み合わせて用いることができる。（プライマー層の形成方法）シラン　Ａ　からなる光情報記録媒体の全面または合成樹脂基板の表面に有機
シラン化合物からなる薄膜を形成するには、有機シラン
化合物をメタノール、エタノール、イソプロパツール、
イソブタノールなどのアルコール類、トルエン、ヘキサ
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ヘ
プタン、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、シクロヘ
キサノンなどの溶剤に溶解させ、その溶液をスピンコー
ド法、浸漬法、吹付は法等により塗布した後、乾燥させ
て溶剤を除去すればよい。光情報記録媒体が単板構造の場合には、記録層と反対側
の透明樹脂基板面のみへのスピンコード法が、また、張
り合せ構造の場合には、スピンコード法または光情報記
録媒体を前記溶液に浸漬してその全面にプライマー層を
形成する浸漬法が好ましい。溶液中の有機シラン化合物の濃度は、適宜定め得るが塗
布効率から見て、通常、０．１〜３０重量％、好ましく
は１〜５重量％の溶液とすることが好ましい。また、塗
布後の乾燥は、室温または乾燥機中で行ない、室温の場
合は、約１〜２時間、風乾させ、加熱する場合には、熱
風乾燥機中などで昇温条件下、例えば、９０℃程度の加
熱温度では約１〜２時間程度乾燥すればよい、これらの
乾燥条件は、当業者であれば適宜選択することができる
。ケイ　　　のン　　゛プライマー処理の後、光情報記録媒体の全面に酸化ケイ
素の被膜を形成させる。酸化ケイ素被膜としては、Ｓ　ｉ　Ｏ＊やＳｉＯなどの
Ｓｉｎ、（２≧Ｘ≧１）、５ｉＡＪ２ＯＮなどのＳｉ系
酸化物の被膜であれば、従来公知のものが適用可能であ
る。被膜の形成方法としては、蒸着法、スパッタ法、Ｃ
ＶＤ法、液相成長法など通常の薄膜化技術が採用できる
。酸化ケイ素被膜の中でも、二酸化ケイ素被膜が好ましい
、二酸化ケイ素の被膜を形成する方法としては、シラン
ガスを用いたＣＶＤ法、石英板をターゲットとしたスパ
ッタ法、有機ケイ素化合物の有機溶媒を°用いたディッ
ピング法、または二酸化ケイ素の過飽和状態のケイフッ
化水素酸溶液中に浸漬し、二酸化ケイ素被膜を析出させ
る析出法などがある。この中では析出法が作業が簡単で
、しかも均一な被膜を形成することができるため好まし
い。この析出法については、特開昭６１−１２７３４号公報
に詳細に開示されている公知の方法が適用できる。二酸
化ケイ素の過飽和状態のケイフッ化水素酸溶液とは、ケ
イフッ化水素酸溶液に二酸化ケイ素（シリカゲル、エア
ロジル、シリカガラス、その他二酸化ケイ素含有物など
）を溶解させた後、水または試薬（ホウ酸、塩化アルミ
ニウムなど）を添加し、二酸化ケイ素の過飽和状態とし
たものである。この処理液にプライマー処理した光情報
記録媒体を接触させればよい、接触は、光情報記録媒体
を処理液中に浸漬するか光情報記録媒体表面に処理液を
流下させるなどの方法があるが、均一な被膜を形成する
ためには浸漬法が好ましい。処理液中のケイフッ化水素酸の濃度は、１〜２モル／Ｃ
が好ましく、特に２モル／βより濃いケイフッ化水素酸
水溶液に二酸化ケイ素を飽和させた後、水で希釈して１
〜２上２モル２の濃度としたものが、被膜形成速度が早
く、効率よく被覆が行なえるので望ましい、過飽和状態
とするためにホウ酸を添加する場合の添加量は、処理液
中のケイフッ化水素酸１モルに対して１×１ｏ−１〜４
０Ｘ１０−”モル、好＊Ｌ＜４Ｌ１．２ｘ１０−”　〜
１Ｏｘ１０−２モルの範囲であることが、速く均質な被
膜を形成する上で望ましい。光情報記録媒体を処理液に浸漬中、連続的にボウ酸水溶
液を添加混合し、また、処理液を循環させ、フィルター
で濾過することが、均質な被膜を効率よ（得るために好
ましい。二酸化ケイ素の供給源としてシリカゲルを使用
する場合には、孔径１．５μｍ以下のフィルターが、そ
の他シリカガラスなどを用いた場合には、孔径１０μｍ
以下のフィルターが好ましい。また、処理液を浸漬槽に入れて、光情報記録媒体と接触
させる場合には、浸漬中の成形体表面において、処理液
が層流となって流れるようにすることが、むらのない均
質な被膜を形成するために好ましい。酸化ケイ素の膜厚は、特に限定されず、適宜定めること
ができるが、通常、数１００人〜数１．０００人程度で
表面改質の目的を達成することができる。！ｌ］Ｉλ計上本発明では、光情報記録媒体の全面または合成樹脂基板
の表面に有機シラン化合物からなる薄膜を形成し、次い
で、光情報記録媒体の全面に酸化ケイ素被膜を形成し、
プライマー層と酸化ケイ素被膜とが重なった面に電子線
を照射する。電子線照射は、通常、０．０５〜１０Ｍｒａｄ／Ｓ程度
の線量率で、アルゴンガスなどの不活性ガス雰囲気中で
、照射する。線量は、基板を構成する合成樹脂の種類に
よって変化するが、０．５〜数士Ｍｒａｄの範囲で、合
成樹脂表面層を分解ないしは劣化させない範囲とし、ポ
リカーボネート樹脂基板では、通常、１０Ｍｒａｄ以下
が好ましい。なお、予め電子線照射および被覆試験を行
なうことにより、当業者であれば、合成樹脂の種類に応
じて綿量の好ましい範囲を適宜選択することができる。電子線を照射することにより、有機ケイ素化合物薄膜と
合成樹脂基板との間、および有機ケイ素化合物薄膜と酸
化ケイ素被膜に化学結合が生じて、有機ケイ素化合物の
薄膜が接着層となって酸化ケイ素被膜と基板表面との間
に強固な結合が生じる。特に、有機ケイ素化合物として式［ＩＩ］で示されるシ
リルパーオキサイド化合物の中で、ビニル基やメタクリ
ロキシ基を有する化合物を用いると、電子線照射により
発生したラジカルによって架橋反応が生じるため、−層
強固な接着性を得ることができる。また、酸化ケイ素被膜の上から電子線を照射することに
より、該被膜中の残存水分を除去することができ、耐溶
剤性が向上する。〔作　用〕従来のシラン系カップリング剤などのケイ素化合物によ
るプライマー処理では、プライマー（第１次被覆層）と
合成樹脂基板表面との間に強固な化学結合は生じていな
い、密着性を改善するために、シランカップリング剤で
基板を処理した後、加熱処理する方法があるけれども、
加熱しても化学結合を効率よく形成することはできず、
しかも熱による樹脂基板における応力の発生という問題
がある。また、通常のシラン系カップリング剤によるプライマー
処理では、酸化ケイ素膜との密着性を向上させるために
、基材に塗布する前に、アルコキシ基などを加水分解し
て水酸基に変える必要があった。そして、プライマー分
子同士の結合性も弱いものであった。これに対し、合成樹脂基板の表面に有機ケイ素化合物の
薄膜を形成した後、酸化ケイ素被膜を形成し、次いで電
子線を照射すると、基板とプライマーの有機ケイ素化合
物との間に化学結合が生じて、両者が強固に結合する。基板としては、ポリカーボネートなどのカルボニル結合
（＞　Ｃ＝　Ｏ）を有するポリマーから形成されたもの
が特に効果的である。また、有機ケイ素化合物としてシ
リルパーオキサイド化合物を使用すると、フリーラジカ
ル機構で樹脂と結合するため、反応性基をもたない樹脂
基板に対しても強固な接着界面を得ることができる。一
方、有機ケイ素化合物の薄膜層と酸化ケイ素被膜との間
の密着性も良好である。電子線照射法によると、■エネルギーは、個々の電子が
もっているので、加速電圧を操作することにより、容易
にエネルギー量を制御することができ、また、■高エネ
ルギ一体であるため、合成樹脂基板とプライマー間の反
応部所への到達が容易であるため、短時間で、確実に両
者間に化学結合が形成される。このように、本発明によれば、プライマー層を介して合
成樹脂基板および酸化ケイ素膜の結合力を高め、密着性
に優れた酸化ケイ素膜被覆光情報記録媒体を得ることが
できる。また、光情報記録媒体の記録層の上に設けたＳ
ｉ系の誘電体材料からなる保護層と酸化ケイ素膜との密
着性も良好である。そして、本発明の光情報記録媒体は、その全面を密着性
に優れた酸化ケイ素膜で被覆した構造であるため、耐湿
性および耐食性に優れている。しかも、全面を緻密な酸
化ケイ素膜で覆うことができるため、大幅な耐擦傷性効
果を付与することができる。また、単板構造の光情報記
録媒体の場合には、吸水による形状変化が極めて小さく
、ソリなどの機械的特性の劣化を防止することができる
。さらに、酸化ケイ素被覆により耐熱性も向上する。

【発明の効果〕

本発明によれば、光情報記録媒体の全面に密着性の優れ
た酸化ケイ素被膜を形成することができるため、耐湿性
、耐食性、耐擦傷性が向上し、かつ吸水による形状変化
が極めて小さい光情報記録媒体を提供することができる
。したがって、広範囲の温度、湿度条件下で長期保存が
可能である。また、単板仕様の光情報記録媒体において
は、耐湿性の向上により吸水によるソリなどの機械的特
性の劣化が防止される。さらに、表面硬度が大きく、耐
擦傷性に優れているため、信号劣化や感度の劣化などが
ない。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）合成樹脂製の透明基板上に記録層、誘電体層およ
び／または保護層を設けた光情報記録媒体の全面または
透明基板表面に、有機シラン化合物の薄膜からなるプラ
イマー層を設け、次いで、光情報記録媒体の全面に酸化
ケイ素被膜を形成し、プライマー層と酸化ケイ素被膜と
が重なった面に電子線を照射して成ることを特徴とする
酸化ケイ素被覆光情報記録媒体。
（２）光情報記録媒体が、合成樹脂製の透明基板上に記
録層、誘電体層および／または保護層を設けた単板構成
の光情報記録媒体であって、その記録層と反対側の透明
基板表面に、有機シラン化合物の薄膜からなるプライマ
ー層を設けた請求項１記載の酸化ケイ素被覆光情報記録
媒体。
（３）光情報記録媒体が、合成樹脂製の透明基板上に記
録層、誘電体層および／または保護層を設けた２枚の光
情報記録媒体を、接着層を介して記録層側の面どうし張
り合せた構造のものであって、その全面に有機シラン化
合物の薄膜からなるプライマー層を設けた請求項１記載
の酸化ケイ素被覆光情報記録媒体。
（４）有機シラン化合物が下記一般式［ I ］および［
II］で示される化合物から選ばれる少なくとも１種であ
る請求項１ないし３のいずれか１項記載の酸化ケイ素被
覆光情報記録媒体。Ｘ＿ｎＳｉＹ＿４＿−＿ｎ［ I ］〔式中、Ｘはビニル基、メタクリロキシ基、エポキシ基
、アミノ基またはイソシアネート基を有する炭素数１〜
１０の炭化水素基、Ｙはアルコキシ基、アルコキシアル
コキシ基、アセトキシ基または水酸基を有する炭素数１
〜１０の炭化水素基、ｎは１〜３の整数である。〕Ｒ＿４＿−＿ｎＳｉ（ＯＯＲ′）＿ｎ［II］〔式中、Ｒ
は炭素数１〜６の炭化水素基、ビニル基、メタクリロキ
シ基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、フッ素ま
たは塩素を有する有機基であり、Ｒ′はアルキル基、ア
シル基、アリールアルキル基から選ばれる１種もしくは
複数の結合基であり、ｎは１〜４の整数である。〕
（５）合成樹脂製の透明基板上に記録層、誘電体層およ
び／または保護層を設けた光情報記録媒体において、光
情報記録媒体の全面または透明基板表面に有機シラン化
合物からなる薄膜を形成し、次いで、光情報記録媒体の
全面に酸化ケイ素被膜を形成し、しかる後、プライマー
層と酸化ケイ素被膜とが重なった面に電子線を照射する
ことを特徴とする酸化ケイ素被覆光情報記録媒体の製造
方法。
（６）光情報記録媒体が、合成樹脂製の透明基板上に記
録層、誘電体層および／または保護層を設けた単板構成
の光情報記録媒体であって、その記録層と反対側の透明
基板表面に、有機シラン化合物の薄膜からなるプライマ
ー層を設ける請求項５記載の酸化ケイ素被覆光情報記録
媒体の製造方法。
（７）光情報記録媒体が、合成樹脂製の透明基板上に記
録層、誘電体層および／または保護層を設けた２枚の光
情報記録媒体を、接着層を介して記録層側の面どうし張
り合せた構造のものであって、その全面に有機シラン化
合物の薄膜からなるプライマー層を設ける請求項５記載
の酸化ケイ素被覆光情報記録媒体の製造方法。
（８）有機シラン化合物が下記一般式［ I ］および［
II］で示される化合物から選ばれる少なくとも１種であ
る請求項５ないし７のいずれか１項記載の酸化ケイ素被
覆光情報記録媒体の製造方法。Ｘ＿ｎＳｉＹ＿４＿−＿ｎ［ I ］〔式中、Ｘはビニル基、メタクリロキシ基、エポキシ基
、アミノ基またはイソシアネート基を有する炭素数１〜
１０の炭化水素基、Ｙはアルコキシ基、アルコキシアル
コキシ基、アセトキシ基または水酸基を有する炭素数１
〜１０の炭化水素基、ｎは１〜３の整数である。〕Ｒ＿４＿−＿ｎＳｉ（ＯＯＲ′）＿ｎ［II］〔式中、Ｒ
は炭素数１〜６の炭化水素基、ビニル基、メタクリロキ
シ基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、フッ素ま
たは塩素を有する有機基であり、Ｒ′はアルキル基、ア
シル基、アリールアルキル基から選ばれる１種もしくは
複数の結合基であり、ｎは１〜４の整数である。〕
（９）酸化ケイ素被膜が二酸化ケイ素被膜であって、か
つ、光情報記録媒体の全面または透明基板表面に前記プ
ライマー層を形成した後、光情報記録媒体を二酸化ケイ
素の過飽和状態のケイフッ化水素酸溶液中に浸漬し、光
情報記録媒体の全面に二酸化ケイ素被膜を析出させる請
求項５ないし８のいずれか１項記載の酸化ケイ素被覆光
情報記録媒体の製造方法。