JPH0373434A - 酸化ケイ素被覆光情報記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

〔産業上の利用分野〕 本発明は、酸化ケイ素膜を全面に被覆した光情報記録媒
体に関し、さらに詳しくは、耐湿性、耐食性、耐擦傷性
の向上した酸化ケイ素被覆光情報記録媒体とその製造方
法に関する。 〔従来の技術〕 近年、光ディスクやビデオディスクなどの多種類の光情
報記録媒体が開発され、市販されている。これらの光情
報記録媒体は、回転するディスク上にレーザー光を集光
し、ディスクからの反射光の強弱を検出する基本構成を
採用しており、ポリカーボネートやポリメチルメタクリ
レートなどの透明な合成樹脂からなる基板上に記録層を
設けたものが代表的なものである。 ところで、記録層に用いられる記録媒体用材料として、
Ｔｅ、Ｔ１などの金属または金属合金、Ｔｅ低酸化物、
有機染料薄膜、銀塩薄膜、フォトクロミック化合物など
が広く提案され、また、使用されているが、これらはい
ずれも酸化や加水分解されやすい材料であるため、記録
層の劣化を防ぐための保護層の開発が進められている。 また、合成樹脂製の基板を用いた光情報記録媒体におい
ては、基板の吸水・膨潤によるソリが生じ、それに起因
して記録層が剥離したり、信号読み取りが不可能になっ
たり、あるいは透過水分により記録層が劣化するなどの
問題がある。そこで、これらの問題を解決して、光情報
媒体の長期信頼性をいかにして確保するかが重要な課題
となっている。 従来、保護層として、各種合成樹脂層や二酸化ケイ素な
どの透明誘電体層を記録層面上に設けることなどが提案
されている。例えば、特開昭６１−３９９４９号公報に
は、透明基板の片面に設けられた光情報記録層の表面に
シランカップリング剤もしくはチタンカップリング剤を
１〜２分子層設け、記録層の面上あるいは記録層および
基板の両表面にポリ塩化ビニリデン共重合物含有層を形
成することにより、防湿性や耐食性を向上させることが
提案されている。 しかしながら、記録層の表面のみをポリ塩化ビニリデン
共重合物含有層で保護した場合には、基板面側からの透
過水分を遮断することができないので、基板の吸水によ
るソリおよびそれに起因する記録層の剥離や透過水分に
よる記録層の劣化等を防ぐことはできない、この問題は
、記録層の表面を誘電体層で被覆した場合も同様である
。また、記録層の面上に反射層、あるいは誘電体層を介
して反射層を設けた構造の光情報記録媒体でも、基板側
からの吸水問題は解決されない。 一方、記録層および基板の両表面にポリ塩化ビニリデン
共重合物含有層を形成すると、光の通路となる基板表面
に耐擦傷性に劣る樹脂層が形成されることになるので、
信号劣化や感度の劣化など光情報記録媒体としての基本
的性能を著しく損なう恐れがある。しかも、このように
両表面にポリ塩化ビニリデン共重合物含有層を形成して
も、耐湿性は充分ではなく、透過水分による記録層の劣
化を完全に防ぐことはできない。 さらに、光情報記録媒体には、接着張り合せ構造やエア
ーサンドイッチ構造などの構造のものがあり、それらは
記録層を中心層とする両面張り合せ構造のため、ソリの
問題は軽減されるが、透過水分による記録層の劣化を防
ぐことはできない。 また、記録層の上面または上下面にＳｉＯやＳ　ｉ　Ｏ
ｘ　、ＭｇＦｓ　、ＡＱＮなどの透明誘電体層を積層す
れば、記録層を酸化や加水分解から防ぐことができるが
、これらの透明誘電体材料は、基板となる合成樹脂との
密着性に劣るため、基板の保護層に用いることは困難で
ある。 ところで、近年、合成樹脂成形体の表面を改質するため
に、二酸化ケイ素などの酸化物の薄膜で被覆する技術が
開発され、実用化されている。従来、酸化物膜等を被覆
する方法としては、真空蒸着、スパッタ、イオンブレー
ティング、プラズマＣＶＤなど各種の方法が知られてい
るが、これらの被膜形成法では、特別の設備を要したり
、大型成形体や複雑な形状の成形体表面に被膜を形成す
ることが困難であり、しかも合成樹脂成形体と被膜との
密着性が不充分であるという問題がある。 最近、二酸化ケイ素膜を直接合成樹脂成形体表面に被覆
するのではむく、予め合成樹脂成形体表面に付着性良好
なケイ素含有被膜を第１次被膜（プライマー）として被
覆し、さらにその上に該第１次被膜と付着性良好な二酸
化ケイ素膜を作成する方法が提案されている（特開昭６
１−１２７３４号公報）、この方法によれば、プライマ
ーが硬化によってシロキサン結合を有するポリマーを形
成するため二酸化ケイ素膜とプライマーとの密着性は改
善され、従来法と比較して耐久性のよい被膜を得ること
ができる。しかも、塗布浸漬法を使用することができる
ため、大型形状あるいは複雑な形状の合成樹脂成形体に
も適用可能である。しかしながら、この方法では、プラ
イマーと合成樹脂成形体との間に強固な化学的結合がほ
とんど形成されないため、合成樹脂成形体とプライマー
との密着性が不充分であり、したがって二酸化ケイ素膜
の合成樹脂成形体に対する密着性も充分ではない。 そこで、従来公知の酸化ケイ素被覆法を光情報記録媒体
の保護層形成に単に適用しても、基板との密着性に優れ
た被膜を形成することは困難である。 ［発明が解決しようとする課題］ 本発明の目的は、耐湿性、耐食性、耐擦傷性が向上し、
かつ吸水による形状変化が極めて小さい光情報記録媒体
を提供することにある。 また、本発明の目的は、基板との密着性に優れた酸化ケ
イ素被膜を全面に有する被覆光情報記録媒体を提供する
ことにある。 本発明者らは、前記従来技術の有する問題点を克服する
ために鋭意研究した結果、合成樹脂製の清明基板上に記
録層、誘電体層および／または保護層を設けた光情報記
録媒体において、光情報記録媒体の全面または透明基板
表面に、アミノ基を少なくとも１つ以上有するアミノ化
合物からなるプライマー層を形成し、次いで、光情報記
録媒体の全面に酸化ケイ素被膜を形成することにより、
基板との密着性に優れた酸化ケイ素被膜を形成できるこ
とを見出した。 そして、この酸化ケイ素被覆光情報記録媒体は、その全
面が酸化ケイ素被膜で被覆されているために、耐湿性、
耐食性および耐擦傷性が顕著に向上し、かつ吸水性が極
めて小さいことを見出した。 本発明は、これらの知見に基づいて完成するに至ったも
のである。

【課題を解決するための手段】

かくして、本発明によれば、合成樹脂製の透明基板上に
記録層、誘電体層および／または保護層を設けた光情報
記録媒体の全面または透明基板表面に、アミノ基を少な
くとも１つ以上有するアミノ化合物からなるプライマー
層を設け、次いで、光情報記録媒体の全面に酸化ケイ素
被膜を形成して成ることを特徴とする酸化ケイ素被覆光
情報記録媒体およびその製造方法が提供される。 以下、本発明の各構成要素について説明する。 （光情報記録媒体） 本発明で使用する光情報記録媒体は、合成樹脂製の透明
基板上に記録層、誘電体層および／または保護層を設け
た多層構造の光情報記録媒体である。 基板の材料となる合成樹脂としては、ポリカーボネート
、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリウレ
タン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイミドなど、
分子鎖中にカルボニル結合（＞Ｃ＝Ｏ）を有するものが
好ましい。 記録層としては、ＴｂＦｅＣｏ、ＧｄＦｅ、ＴｂＣｏ、
ＤｙＦｅ、ＮｄＤｙＦｅＣｏ、ＴｂＦｅ％ＧｄＦｅＢ１
．ＧｄＴｂＦｅなどからなる記録膜、あるいは相変化型
記録材料や色素系記録材料からなる膜など従来公知のも
のがいずれも使用可能である。 誘電体層および／または保護膜の材料としては、５ｉＯ
１、ＳｉＮ工、ＳｉＡβＯＮ％５ｉＡＪ２ＮなどＳｉ系
の透明な層を形成する誘電体が好ましく使用できる。 本発明で使用する光情報記録媒体の積層構成は、基板／
誘電体層／記録層／保護層または基板／記録層／保護層
が代表的なものである。 また、単板構成のものだけではなく、合或樹脂製の透明
基板上に記録層、誘電体層および／または保護層を設け
た２枚の光情報記録媒体を、接着層を介して記録層側の
面どうし張り合せた構造のもの、例えば、基板／誘電体
層／記録層／保護層／／接着層／／保護層／記録層／誘
電体層／基板などの構造のものであってもよい。このよ
うな張り合せ構造のものは、ソリの問題が少ない。 （アミノ基を有する化合物） 本発明で用いる少なくとも１つのアミノ基を有する化合
物としては、例えば、脂肪族第１アミノ、脂肪族第２ア
ミノ、脂肪族第３アミノ、脂肪族不飽和アミノ、脂環式
アミノ、芳香族アミノ、アミノアルコールなど各種のも
のがある。 具体例としては、例えば、メチルアミノ、ジメチルアミ
ノ、エチルアミノ、ジエチルアミノ、イソプロピルアミ
ノ、プロピルアミノ、ジプロピルアミノ、ブチルアミノ
、ジイソプロピルアミノ、イソブチルアミノ、５ｅｃ−
ブチルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ、ジブチルアミ
ノ、ジイソブチルアミノ、ペンチルアミノ、ジペンチル
アミノ、２−エチルヘキシルアミノ、アリルアミノ、ア
ニリン、トルイジン、シクロヘキシルアミノ、エチレン
ジアミノ、プロピレンジアミノ、ジエチレントリアミノ
、１．６−ヘキサジアミノ、１．３−プロパンジアミノ
、など脂肪層族アミノや芳香族アミノ、脂環式アミノな
どを挙げることができる。 また、アミノアルコールとしては、異なった炭素原子に
第１アミノ基もしくは第２７ミノ基と水酸基を有する化
合物であって、具体的には、モノエタノールアミノ、２
−アミノプロパン−１−オール、１−アミノプロパン−
２−オール、３−アミノプロパン−１−オール、１−ア
ミノブタン−２−オール、２−アミノブタン−１−オー
ル、ジェタノールアミノ、Ｎ−メチルエタノールアミノ
、Ｎ−エチルエタノールアミノなどを挙げることができ
る。 これらのアミノ基を有する化合物は、１種または２種以
上を使用する。 （プライマー層の形成方法） 光情報記録媒体の全面または合成樹脂基板の表面に、ア
ミノ基を有する化合物の少なくとも１種を被覆して、プ
ライマー層を形成する。 まず、少なくとも１つのアミノ基を有する化合物の１種
類以上を、メタノール、エタノール、イソプロパノール
、イソブタノール等のアルコール類や水に溶解し、プラ
イマー溶液を作成する。 溶液の濃度は、適宜定めることができるが、処理の容易
さから見て、０．１〜５重量％程度が好ましい。 このプライマー溶液を光情報記録媒体の全面または合成
樹脂基板の表面に、スピンコード法、浸漬法、吹き付は
法等により塗布した後、アルコールや水を除去し、プラ
イマー層を形成する。水溶液の場合には、６０〜８０℃
で浸漬し、風乾するか、加熱乾燥することが好ましい。 溶剤を除去するには、成形体の大きさにもよるが、例え
ば、約１〜２時間室温で風乾させるか、あるいは昇温条
件下で加熱乾燥させればよい、加熱乾燥する場合には、
例えば、熱風乾燥機中で、９０℃程度まで昇温した場合
には１〜５分間程度乾燥させればよい。 （酸化ケイ素被膜の形成方法） プライマー処理の後、光情報記録媒体の全面に酸化ケイ
素の被膜を形成させる。 酸化ケイ素としては、ｓｉｏ富やＳｉＯなとのＳｉｎ、
（２≧ｘ≧１）、５ＬＡＩ２ＯＮなど（７）Ｓｉ系酸化
物であれば、従来公知のものが適用可能である。被膜の
形成方法としては、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法、液
相成長法など通常の薄膜化技術が採用できる。 酸化ケイ素被膜としては、二酸化ケイ素被膜が好ましい
。二酸化ケイ素の被膜を形成する方法としては、シラン
ガスを用いたＣＶＤ法、石英板をターゲットとしたスパ
ッタ法、有機ケイ素化合物の有機溶媒を用いたディッピ
ング法、または二酸化ケイ素の過飽和状態のケイフッ化
水素酸溶液中に浸漬し、二酸化ケイ素被膜を析出させる
析出法などがある。この中では析出法が作業が簡単で、
しかも均一な被膜を形成することができるため好ましい
。 この析出法については、特開昭６１−１２７３４号公報
に詳細に開示されている公知の方法が適用できる。二酸
化ケイ素の過飽和状態のケイフッ化水素酸溶液とは、ケ
イフッ化水素酸溶液に二酸化ケイ素（シリカゲル、エア
ロジル、シリカガラス、その他二酸化ケイ素含有物など
）を溶解させた後、水または試薬（ホウ酸、塩化アルミ
ニウムなど）を添加し、二酸化ケイ素の過飽和状態とし
たものである。この処理液にプライマー処理した光情報
記録媒体を接触させればよい、接触は、光情報記録媒体
を処理液中に浸漬するか光情報記録媒体表面に処理液を
流下させるなどの方法があるが、均一な被膜を形成する
ためには浸漬法が好ましい。 処理液中のケイフッ化水素酸の濃度は、工〜２モル／β
が好ましく、特に２モル／βより濃いケイフッ化水素酸
水溶液に二酸化ケイ素を飽和させた後、水で希釈して１
〜２モル／βの濃度としたものが、被膜形成速度が早く
、効率よく被覆が行なえるので望ましい、過飽和状態と
するためにホウ酸を添加する場合の添加量は、処理液中
のケイフッ化水素酸１モルに対してｌＸｌ０−”〜４０
Ｘｔｏ−”モル、好ましくは１．２Ｘ１０−”〜１０×
ｉｏ−’−ｔルの範囲であることが、速く均質な被膜を
形成する上で望ましい。 光情報記録媒体を処理液に浸漬中、連続的にホウ酸水溶
液を添加混合し、また、処理液を循環させ、フィルター
で濾過することが、均質な被膜を効率よく得るために好
ましい、二酸化ケイ素の供給源としてシリカゲルを使用
する場合には、孔径１．５μｍ以下のフィルターが、そ
の他シリカガラスなどを用いた場合には、孔径１０μｍ
以下のフィルターが好ましい。 また、処理液を浸漬槽に入れて、光情報記録媒体と接触
させる場合には、浸漬中の成形体表面において、処理液
が層流となって流れるようにすることが、むらのない均
質な被膜を形成するために好ましい。 酸化ケイ素の膜厚は、適宜定めることができるが、通常
、数１００人〜数１，０００人程度で表面改質の目的を
達成することができる。 〔作　用〕 従来のシラン系カップリング剤などのケイ素化合物によ
るプライマー処理では、プライマー（第１次被覆層）と
合成樹脂基板表面との間に強固な化学結合は生じていな
い。 これに対し、本発明の方法では、例えば、基板であるポ
リカーボネート樹脂の炭酸エステル結合中のカルボニル
基Ｃ＞Ｃ＝Ｏ基）とアミノ基を有する化合物のアミノ基
（−ＮＨＩ　）とが化学反応し、ポリカーボネート樹脂
成形体の表面において、該成形体とプライマー層との間
に化学結合が生成すると推定できる。化学結合の結果、
成形体表面には、水酸基（−ＯＨ）やカルボキシル基（
−ＣＯＯＨ）　、アミノ基（−ＮＨ−）などの官能性基
が生成または結合し、また、アミノアルコールを用いた
場合には、アルコール残基（−ＯＨ）が結合している。 そして、アミノ基を有する化合物でプライマー処理した
き成樹脂成形体に、例えば、二酸化ケイ素の過飽和状態
のケイフッ化水素酸溶液での析出法を用いて酸化ケイ素
被膜を形成させると、析出した５ｉ（ＯＨｉが二酸化ケ
イ素（Ｓ　ｉ　Ｏ，）への縮重合を行う過程において、
成形体表面の水酸基やカルボキシル基、あるいはアミノ
アルコールのＯＨ基も縮重合に加わるため、アミノ化合
物の被覆層を介してポリカーボネート樹脂成形体と二酸
化ケイ素被膜とが化学結合により強固に密着するものと
推定できる。また、アミノ基（−ＮＨ−）は、二酸化ケ
イ素被膜と直接化学結合を生じないけれども、水素結合
によって密着力を高めるものと思われる。 同様のことは、他の合成樹脂成形体および酸化ケイ素被
膜についてもいえる。 このように、本発明におけるプライマー処理によれば、
合成樹脂基板の表面がアミノ化合物によって被覆かつ変
性され、その結果、プライマー層を介して合成樹脂基板
および酸化ケイ素膜の結合力を高め、密着性に優れた酸
化ケイ素膜被覆光情報記録媒体を得ることができる。 また、光情報記録媒体の記録層の上に設けたＳｉ系の誘
電体材料からなる保護層と酸化ケイ素膜との密着性も良
好である。 そして、本発明の光情報記録媒体は、その全面を密着性
に優れた酸化ケイ素膜で被覆した構造であるため、耐湿
性および耐食性に優れている。しかも、全面を緻密な酸
化ケイ素膜で覆うことができるため、大幅な耐擦傷性効
果を付与することができる。また、単板構造の光情報記
録媒体の場合には、吸水による形状変化が極めて小さく
、ソリなどの機械的特性の劣化を防止することができる
。さらに、酸化ケイ素被覆により耐熱性も向上する。 〔実施例１ 以下、本発明について実施例および比較例を挙げて具体
的に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定され
るものではない、なお、実施例および比較例における加
速劣化試験の方法は、次のとおりである。 く加速劣化試験〉 垣温恒湿機にて、６５℃、９５％ＲＨの条件で、酸化ケ
イ素被覆光情報記録媒体（ディスク）を３週間保持した
後、Ｃ／Ｎ、媒体欠陥の最大バースト長、機械特性の評
価を行なった。 ＬＺさ： 回転数１，８００ｒｐｍ、周波数３．７ＭＨｚで測定、
書き込みレーザーパワーは、２次高周波が最小になるよ
うにした結果、約５ｒｎＷであった。測定位置は、ディ
スクの最内周部、結果は１００トラツク測定の平均値で
ある。 の　　バースト　　バ　ト （２・７）ＲＬＬ変調方式により信号を書き込み、加速
劣化試験前後での比較を行なった。測定位置は、ディス
クの最内周部、結果は１００トラック分の測定結果であ
る。 棗扱笠１ ６５℃、９５％ＲＨの雰囲気下に３週間保持した後、デ
ィスクの半径方向傾きを測定した。測定位置はディスク
中心より半径方向に４５ｍｍの位置である。なお、単板
仕様ディスクについてのみ評価を行なった。 ［実施例１］ ポリカーボネート樹脂からなる光デイスク基板（直径１
３０ｒｎｍ、厚さ１．２ｍｍ）の上に、誘電体層（Ｓ　
ｉ　Ａｌ２０Ｎ）／記録７１Ｆ（ＴｂＦｅＣ。 ）／保護層（ＳｉＡｎＯＮ）をこの順に設けた構造の光
情報記録媒体を作成した。 上記光情報記録媒体に、第１表に示す各種アミノアルコ
ールのイソブタノール溶液（濃度１重量％）をスピンコ
ーターで塗布し、９０℃の熱風にて５分間の加熱乾燥を
行なった。膜厚は約３ＯＡであった。 上記処理を行なった、各光情報記録媒体の全面に、特開
昭６１−１２７３４号公報に示されているのと同様の二
酸化ケイ素被膜製造装置を用いて、二酸化ケイ素被膜を
析出させた。 すなわち、二酸化ケイ素被膜製造装置は、外槽と内槽か
ら成る浸漬槽を有し、内槽と外槽の間には水が満しであ
る。この水は温度が３５℃となるようヒーターで加熱さ
れ、かつ、温度分布均一化のため撹拌機で撹拌されてい
る。内槽は前部、中部、後部から成り各部には工業用シ
リカゲル粉末を二酸化ケイ素の供給源として、二酸化ケ
イ素を溶解、飽和させた２、０モル／βの濃度のケイフ
ッ化水素酸水溶液を水を用いて倍に希釈した３βの反応
液が満たしである。ここで、循環ポンプを作動させ内槽
後部の反応液を一定量ずつ放出してフィルターで濾過し
、内槽前部へ戻す処理液循環を開始した。 その後、０．５そル／βのホウ酸水溶液を連続的に内槽
後部に摘下し１０時間保持した。この状態で反応液は適
度な二酸化ケイ素過飽和度を有する処理液となった。 ここでフィルターの絶対除去率を１．５μｍおよび処理
液循環量を２４０ｍ１２／分（処理液全量が約３忍であ
るので、循環量は８％／分である）に調整した。 そして、上記処理を行なった光情報記録媒体を内槽中部
に垂直に浸漬し、前記条件（０２５モル／ｉのホウ酸水
溶液を０．２ｍβ／分で添加し、８％／分の循環を行な
い、１．５μｍのフィルターで濾過する）で３時間保持
した。 得られた被覆光情報記録媒体の二酸化ケイ素被覆層の膜
厚は約９００人であった。 得られた各二酸化ケイ素被覆光情報記録媒体の加速劣化
試験を行なった結果を第１表に示す、また、プライマー
処理を行なわなかった以外は実施例１と同様にして二酸
化ケイ素被覆光情報記録媒体を得、同様に加速劣化試験
を行ない、その結果を併せて第１表に示す。 （以下余白） ［実施例２］ 実施例１で作成した単板使用の光デイスク２枚を、記録
層側どうしをアクリル系接着剤により張り合せて、張り
合せ構造の光情報記録媒体を作成した。 上記光情報記録媒体に、第２表に示す各種アミノアルコ
ールのイソブタノール溶液（濃度１重量％）をスピンコ
ーターで塗布し、９０’Ｃの熱風にて５分間の加熱乾燥
を行なった。膜厚は約２５人であった。 次いで、実施例１と同様にして光情報記録媒体の全面に
二酸化ケイ素被膜を形成した。 得られた各＝１ａ化ケイ素被覆光情報記録媒体の加速劣
化試験を行なった結果を第２表に示す。また、プライマ
ー処理を行なわなかった以外は実施例２と同様にして二
酸化ケイ素被覆光情報記録媒体を得、同様に加速劣化試
験を行ない、その結果を併せて第２表に示す。 （以下余白） 第１表および第２表から明らかなように、本発明の被覆
光情報記録媒体は、優れた加速劣化試験特性を示し、耐
湿性、耐食性が向上し、かつ吸水による形状変化が極め
て小さく、耐久性に優れている。また、二酸化ケイ素膜
で被覆されているため、耐擦傷性や耐熱性も向上してい
る。 ［実施例３］ 実施例１で作成したポリカーボネート樹脂基板を用いた
光情報記録媒体を、１．６−ヘキサンジアミノのイソブ
タノール溶液（濃度１重量％）に浸漬した後、９０℃の
熱風乾燥機中で３分間加熱乾燥した。膜厚は１００人で
あ−）た。 プライマー処理された光情報記録媒体を、実施例１と同
様に、二酸化ケイ素被膜製造装置の内漕中部に里腹に浸
漬し、１６時間保持したところ、膜厚約３００ＯＡの二
酸化ケイ素被膜で全面が覆われた光情報記録媒体を得た
。 ［実施例４］ アミノ基を有する化合物として、１．３−プロパンジア
ミノを用いたこと以外は、実施例３と同様に処理して二
酸化ケイ素被覆光情報記録媒体を得た。 ［実施例５］ アミノ基を有する化合物として、１．６−ヘキサンジア
ミノ（０，５重量％）とエタノールアミノ（０，５重量
％）の混合イソブタノール溶液を使用した以外は、実施
例３と同様に処理して二酸化ケイ素被覆光情報記録媒体
を得た。 実施例３〜５で得られた二酸化ケイ素被覆光情報記録媒
体について加速劣化試験を行ない、その結果を第３表に
示す。 （以下余白） Ｃ実施例６］ 実施例２で作成した張り合せ構造の光情報記録媒体を用
いたこと以外は、実施例３と同様にして、１．６−ヘキ
サンジアミノのイソブタノール溶液（濃度１重量％）で
プライマー処理した後、ニー酸化ケイ素被膜で全面が覆
われた光情報記録媒体を製造した。 ［実施例７］ アミノ基を有する化合物として、１．３−プロパンジア
ミノを用いたを用いたこと以外は、実施例６と同様に処
理して二酸化ケイ素被覆光情報記録媒体を得た。 ［実施例８〕 アミノ基を有する化合物として、１．６−ヘキサンジア
ミノ（０，５重量％）とエタノールアミノ（０，５重量
％）の混合インブタノール溶液を使用した以外は、実施
例６と同様に処理して二酸化ケイ素被覆光情報記録媒体
を得た。 実施例６〜８について、加速劣化試験の結果を第４表に
示す。 〔発明の効果】 本発明によれば、光情報記録媒体の全面に密着性の優れ
た酸化ケイ素被膜を形成することができるため、耐湿性
、耐食性、耐擦傷性が向上し、かつ吸水による形状変化
が極めて小さい光情報記録媒体を提供することができる
。したがって、広範囲の温度、湿度条件下で長期保存が
可能である。 また、単板仕様の光情報記録媒体においては、耐湿性の
向上により吸水によるソリなどの機械的特性の劣化が防
止される。さらに、表面硬度が大きく、耐擦傷性に優れ
ているため、信号劣化や感度の劣化などがない。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）合成樹脂製の透明基板上に記録層、誘電体層およ
   び／または保護層を設けた光情報記録媒体の全面または
   透明基板表面に、アミノ基を少なくとも１つ以上有する
   アミノ化合物からなるプライマー層を設け、次いで、光
   情報記録媒体の全面に酸化ケイ素被膜を形成して成るこ
   とを特徴とする酸化ケイ素被覆光情報記録媒体。
2. （２）光情報記録媒体が、合成樹脂製の透明基板上に記
   録層、誘電体層および／または保護層を設けた２枚の光
   情報記録媒体を、接着層を介して記録層側の面どうし張
   り合せた構造のものである請求項１記載の二酸化ケイ素
   被覆光情報記録媒体。
3. （３）合成樹脂製の透明基板上に記録層、誘電体層およ
   び／または保護層を設けた光情報記録媒体において、光
   情報記録媒体の全面または透明基板表面に、アミノ基を
   少なくとも１つ以上有するアミノ化合物からなるプライ
   マー層を形成し、次いで、光情報記録媒体の全面に酸化
   ケイ素被膜を形成することを特徴とする酸化ケイ素被覆
   光情報記録媒体の製造方法。
4. （４）光情報記録媒体が、合成樹脂製の透明基板上に記
   録層、誘電体層および／または保護層を設けた２枚の光
   情報記録媒体を、接着層を介して記録層側の面どうし張
   り合せた構造のものである請求項３記載の酸化ケイ素被
   覆光情報記録媒体の製造方法。
5. （５）酸化ケイ素被膜が二酸化ケイ素被膜であって、か
   つ、光情報記録媒体の全面または透明基板表面に前記プ
   ライマー層を形成した後、光情報記録媒体を二酸化ケイ
   素の過飽和状態のケイフッ化水素酸溶液中に浸漬し、光
   情報記録媒体の全面に二酸化ケイ素被膜を析出させる請
   求項３または４記載の酸化ケイ素被覆光情報記録媒体の
   製造方法。