JPH1081964A - 光記録媒体用スパッタホルダおよび光記録媒体の製造方法 - Google Patents
光記録媒体用スパッタホルダおよび光記録媒体の製造方法Info
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- JPH1081964A JPH1081964A JP23328296A JP23328296A JPH1081964A JP H1081964 A JPH1081964 A JP H1081964A JP 23328296 A JP23328296 A JP 23328296A JP 23328296 A JP23328296 A JP 23328296A JP H1081964 A JPH1081964 A JP H1081964A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- substrate
- optical recording
- holder
- sputtering
- Prior art date
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】光記録媒体の反り、チルト、加速度等の機械特
性を改善し、歪みの少ない光記録媒体を作製する。 【解決手段】ホルダに記録媒体基板を保持し、少なくと
も記録層をスパッタする光記録媒体の製造方法におい
て、該基板を保持するホルダーの基板に接触する外周部
と内周部との高さが異なることを特徴とする光記録媒体
用スパッタホルダおよびそれを用いた光記録媒体の製造
方法。
性を改善し、歪みの少ない光記録媒体を作製する。 【解決手段】ホルダに記録媒体基板を保持し、少なくと
も記録層をスパッタする光記録媒体の製造方法におい
て、該基板を保持するホルダーの基板に接触する外周部
と内周部との高さが異なることを特徴とする光記録媒体
用スパッタホルダおよびそれを用いた光記録媒体の製造
方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光記録媒体の製造方
法に関し、特に相変化型光記録媒体の製造における生産
性を向上させるとともに、簡易なプロセスでスパッタ後
の光記録媒体の反り、チルト、加速度等の機械特性を改
善し、歪みの少ない光記録媒体を作製するためのスパッ
タホルダおよびそれを用いた光記録媒体の製造方法に関
するものである。
法に関し、特に相変化型光記録媒体の製造における生産
性を向上させるとともに、簡易なプロセスでスパッタ後
の光記録媒体の反り、チルト、加速度等の機械特性を改
善し、歪みの少ない光記録媒体を作製するためのスパッ
タホルダおよびそれを用いた光記録媒体の製造方法に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】光記録媒体は、成形された基板上に光学
的に記録再生可能な情報記録部を設け、文書やデータ等
のファイル用ディスクとして用いられている。光記録媒
体を高速で回転させながら、１μm 程度に絞り込んだレ
ーザー光を照射し、焦点調整および位置検出を行いなが
ら、記録層からデータを読出し、または記録層にデータ
を記録する。
的に記録再生可能な情報記録部を設け、文書やデータ等
のファイル用ディスクとして用いられている。光記録媒
体を高速で回転させながら、１μm 程度に絞り込んだレ
ーザー光を照射し、焦点調整および位置検出を行いなが
ら、記録層からデータを読出し、または記録層にデータ
を記録する。
【０００３】相変化型光記録媒体を例に挙げると、具体
的な記録再生方法は以下のような原理で行われる。記録
時には結晶状態の記録層に集光したレーザーパルスを短
時間照射し、記録層を部分的に溶融する。溶融した部分
は熱拡散により急冷され、固化し、非晶状態の記録マー
クが形成される。この記録マークの反射率が結晶状態よ
りも低いという特徴を利用して光学的に情報を再生す
る。さらに、消去時には記録マーク部分にレーザー光を
照射し、記録層の融点以下、結晶化温度以上の温度に加
熱することによって非晶状態の記録マークを結晶化し、
もとの未記録状態に戻す。
的な記録再生方法は以下のような原理で行われる。記録
時には結晶状態の記録層に集光したレーザーパルスを短
時間照射し、記録層を部分的に溶融する。溶融した部分
は熱拡散により急冷され、固化し、非晶状態の記録マー
クが形成される。この記録マークの反射率が結晶状態よ
りも低いという特徴を利用して光学的に情報を再生す
る。さらに、消去時には記録マーク部分にレーザー光を
照射し、記録層の融点以下、結晶化温度以上の温度に加
熱することによって非晶状態の記録マークを結晶化し、
もとの未記録状態に戻す。
【０００４】この記録層材料としては、テルルなどを主
成分とするＧｅ2 Ｓｂ2 Ｔｅ5 などの合金（N.Yamada e
t al, Proc. Int. Symp. on Optical Memory 1987 p61-
66）が知られている。これらＴｅ合金を記録層とした光
記録媒体では、結晶化速度が速く、照射パワーを変調す
るだけで、円形の１ビームによる高速のオーバーライト
が可能である。これらの記録層を使用した光記録媒体で
は、通常、記録層の両面に耐熱性と透光性を有する誘電
体層を設け、記録時に記録層に変形、開孔が発生するこ
とを防いでいる。
成分とするＧｅ2 Ｓｂ2 Ｔｅ5 などの合金（N.Yamada e
t al, Proc. Int. Symp. on Optical Memory 1987 p61-
66）が知られている。これらＴｅ合金を記録層とした光
記録媒体では、結晶化速度が速く、照射パワーを変調す
るだけで、円形の１ビームによる高速のオーバーライト
が可能である。これらの記録層を使用した光記録媒体で
は、通常、記録層の両面に耐熱性と透光性を有する誘電
体層を設け、記録時に記録層に変形、開孔が発生するこ
とを防いでいる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このような光記録媒体
の製造は、一般にアウターおよびインナーマスクを用い
て基板をホルダに固定し、スパッタ等の方法で記録膜、
保護層等を形成することによって行われる。その後、オ
ーバーコート等の工程を経て光記録媒体が製造される
が、スパッタ時における膜応力等により製造される光記
録媒体の機械特性が悪化しないよう管理することが製造
上重要であった。
の製造は、一般にアウターおよびインナーマスクを用い
て基板をホルダに固定し、スパッタ等の方法で記録膜、
保護層等を形成することによって行われる。その後、オ
ーバーコート等の工程を経て光記録媒体が製造される
が、スパッタ時における膜応力等により製造される光記
録媒体の機械特性が悪化しないよう管理することが製造
上重要であった。
【０００６】近年における光記録媒体の製造において生
産効率向上のため、短タクト化を目的にスパッタ時間を
短縮化させる傾向にあるが、スパッタ時間の短縮はスパ
ッタパワーを上昇させることにより行われることが多
い。特に誘電体層を有する光記録媒体では誘電体層を高
周波（ＲＦ）電源を用いたスパッタにより形成するが、
スパッタパワーを上昇させると、この誘電体層の成膜時
に基板表面温度が上昇することにより、樹脂基板の歪み
が大きくなるという問題が生じていた。この問題は他の
層、例えば記録層の形成においても同様である。
産効率向上のため、短タクト化を目的にスパッタ時間を
短縮化させる傾向にあるが、スパッタ時間の短縮はスパ
ッタパワーを上昇させることにより行われることが多
い。特に誘電体層を有する光記録媒体では誘電体層を高
周波（ＲＦ）電源を用いたスパッタにより形成するが、
スパッタパワーを上昇させると、この誘電体層の成膜時
に基板表面温度が上昇することにより、樹脂基板の歪み
が大きくなるという問題が生じていた。この問題は他の
層、例えば記録層の形成においても同様である。
【０００７】このため、スパッタ時の基板温度を低くす
るため、スパッタパワーを低下させる方法や基板とター
ゲットの間隔を大きくする方法によって基板表面温度の
上昇を抑えることが考えられる。しかし、基板温度を下
げるためには大幅にスパッタレートを下げる必要があ
り、生産効率が極端に悪化する。また、基板をスパッタ
時に強制的に冷却することも考えられるが、冷却装置が
必要となるためプロセスが複雑となるという欠点を有す
る。
るため、スパッタパワーを低下させる方法や基板とター
ゲットの間隔を大きくする方法によって基板表面温度の
上昇を抑えることが考えられる。しかし、基板温度を下
げるためには大幅にスパッタレートを下げる必要があ
り、生産効率が極端に悪化する。また、基板をスパッタ
時に強制的に冷却することも考えられるが、冷却装置が
必要となるためプロセスが複雑となるという欠点を有す
る。
【０００８】また、記録マークの大きさをより小さくし
て光記録媒体の高密度化を達成するために、レーザー光
をより絞り込める大きな開口数を持つ光ヘッドがドライ
ブに採用されようとしている。さらにはより大きな開口
数の光ヘッドを使用しても安定な記録再生を行えるよう
光記録媒体の基板はこれまでＣＤやＣＤ−ＲＯＭで用い
られてきた１．２ｍｍ厚基板から０．６ｍｍ厚へと薄く
する方向にある。そのため、記録再生時のフォーカシン
グやトラッキングに影響を与える基板の機械特性は今ま
で以上に厳しく管理する必要が生じている。
て光記録媒体の高密度化を達成するために、レーザー光
をより絞り込める大きな開口数を持つ光ヘッドがドライ
ブに採用されようとしている。さらにはより大きな開口
数の光ヘッドを使用しても安定な記録再生を行えるよう
光記録媒体の基板はこれまでＣＤやＣＤ−ＲＯＭで用い
られてきた１．２ｍｍ厚基板から０．６ｍｍ厚へと薄く
する方向にある。そのため、記録再生時のフォーカシン
グやトラッキングに影響を与える基板の機械特性は今ま
で以上に厳しく管理する必要が生じている。
【０００９】本発明の課題は上述した問題点を改良し、
光記録媒体の製造における生産性を向上させるととも
に、設備的に大幅な改良をともなうことなく簡易なプロ
セスでスパッタ後の基板の反り、チルト、加速度等の機
械特性を改善し、歪みの少ない光記録媒体を製造する方
法を提供することを目的とする。
光記録媒体の製造における生産性を向上させるととも
に、設備的に大幅な改良をともなうことなく簡易なプロ
セスでスパッタ後の基板の反り、チルト、加速度等の機
械特性を改善し、歪みの少ない光記録媒体を製造する方
法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明は下記の構成からなる。すなわち、スパッタ
時に光記録媒体基板を保持するためのホルダであって、
該基板を保持するホルダの基板に接触する外周部と内周
部との高さが異なることを特徴とする光記録媒体用スパ
ッタホルダに関するものである。
に、本発明は下記の構成からなる。すなわち、スパッタ
時に光記録媒体基板を保持するためのホルダであって、
該基板を保持するホルダの基板に接触する外周部と内周
部との高さが異なることを特徴とする光記録媒体用スパ
ッタホルダに関するものである。
【００１１】また、本発明は、光記録媒体基板をホルダ
で保持してスパッタを行う光記録媒体の製造方法であっ
て、該基板を保持するホルダの基板に接触する外周部と
内周部との高さが異なることを特徴とする光記録媒体の
製造方法に関するものである。
で保持してスパッタを行う光記録媒体の製造方法であっ
て、該基板を保持するホルダの基板に接触する外周部と
内周部との高さが異なることを特徴とする光記録媒体の
製造方法に関するものである。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の内容について詳述
する。
する。
【００１３】光記録媒体用のスパッタホルダは図２、３
に示すように一般に記録媒体基板を同じ高さの外周と内
周部分で保持し、基板をフラットな状態に保つような構
造となっている。本発明のホルダにおいては、例えば図
１に示すようにフラットな状態に対して外周部と内周部
との高さが異なるホルダを用いて、記録媒体用基板をフ
ラットではなく円錐状に保持することを特徴とする。
に示すように一般に記録媒体基板を同じ高さの外周と内
周部分で保持し、基板をフラットな状態に保つような構
造となっている。本発明のホルダにおいては、例えば図
１に示すようにフラットな状態に対して外周部と内周部
との高さが異なるホルダを用いて、記録媒体用基板をフ
ラットではなく円錐状に保持することを特徴とする。
【００１４】基板が反る方向と逆の方向に、歪ませてス
パッタを行うことにより、スパッタ終了時に、スパッタ
膜の応力による基板の歪みが低減され、機会特性の良好
な光記録媒体が得られるのである。
パッタを行うことにより、スパッタ終了時に、スパッタ
膜の応力による基板の歪みが低減され、機会特性の良好
な光記録媒体が得られるのである。
【００１５】ホルダを保持する外周部と内周部は、用い
る基板の反りの方向によって外周部分が高い場合または
内周部が高い場合どちらでも用いることができるが、内
周側が上向きに反る場合が多いので、外周部を内周部よ
り高くすることが好ましい。このホルダ部の傾きは、フ
ラットな状態に対して内周部と外周部の保持部分がなす
角度をθ(deg) とすると、ｔａｎθが０．０１〜０．１
５であることが好ましく、０．０３〜０．１２であるこ
とがより好ましい。０．０１未満では機械特性の改良効
果は非常に小さく、０．１５より大きくなると基板を保
持した時の基板の歪みが非常に大きくなるため好ましく
ない。
る基板の反りの方向によって外周部分が高い場合または
内周部が高い場合どちらでも用いることができるが、内
周側が上向きに反る場合が多いので、外周部を内周部よ
り高くすることが好ましい。このホルダ部の傾きは、フ
ラットな状態に対して内周部と外周部の保持部分がなす
角度をθ(deg) とすると、ｔａｎθが０．０１〜０．１
５であることが好ましく、０．０３〜０．１２であるこ
とがより好ましい。０．０１未満では機械特性の改良効
果は非常に小さく、０．１５より大きくなると基板を保
持した時の基板の歪みが非常に大きくなるため好ましく
ない。
【００１６】ホルダ外周部分の保持部分は、円周全体に
連続的であっても不連続であっても良いが、連続的であ
ることがより好ましい。また、ディスクを支える部分と
しては図１に例示するように外周と内周の２点で支える
方法、図４に例示するように内周から外周へと複数の同
心円状の保持部分で支える方法、及び内周から外周へと
連続的に支える方法等のいずれも用いることができる。
中でも図１に例示するように内周と外周部の２点で支
え、中心部分に基板から発生するガスを取り除くための
ガス抜き穴を設けたものが最も好ましい。
連続的であっても不連続であっても良いが、連続的であ
ることがより好ましい。また、ディスクを支える部分と
しては図１に例示するように外周と内周の２点で支える
方法、図４に例示するように内周から外周へと複数の同
心円状の保持部分で支える方法、及び内周から外周へと
連続的に支える方法等のいずれも用いることができる。
中でも図１に例示するように内周と外周部の２点で支
え、中心部分に基板から発生するガスを取り除くための
ガス抜き穴を設けたものが最も好ましい。
【００１７】本発明の光記録媒体を製造する場合、例え
ば誘電体層を高周波（ＲＦ）電源でスパッタするが、生
産性向上のためこの誘電体層スパッタ時のスパッタレー
トを上昇させて行うことが好ましい。スパッタレートを
上昇させる方法としては、スパッタパワーを高くするこ
と、または基板とターゲットの間隔を小さくする方法が
考えられる。この時、従来法では基板表面温度を４０℃
未満に抑えることが、機械特性の良好な記録媒体を得る
には、重要であるが、本発明によれば、表面基板温度が
４０℃以上になるまでスパッタレートを上昇させても、
機械特性の良好な記録媒体を得ることができる。また、
５０℃以上、さらには、６０℃以上でスパッタを行って
も、機械特性の良好な記録媒体を得ることができる。
ば誘電体層を高周波（ＲＦ）電源でスパッタするが、生
産性向上のためこの誘電体層スパッタ時のスパッタレー
トを上昇させて行うことが好ましい。スパッタレートを
上昇させる方法としては、スパッタパワーを高くするこ
と、または基板とターゲットの間隔を小さくする方法が
考えられる。この時、従来法では基板表面温度を４０℃
未満に抑えることが、機械特性の良好な記録媒体を得る
には、重要であるが、本発明によれば、表面基板温度が
４０℃以上になるまでスパッタレートを上昇させても、
機械特性の良好な記録媒体を得ることができる。また、
５０℃以上、さらには、６０℃以上でスパッタを行って
も、機械特性の良好な記録媒体を得ることができる。
【００１８】本発明に係る光記録媒体は、基板上に少な
くとも記録層と保護層を有するものである。好ましく
は、複数の積層構造に構成されており、たとえば基板上
に第１層（第１保護層）／第２層（記録層）／第３層
（第２保護層）／第４層（反射層）をこの順に設けた積
層構成、または第１層（第１保護層）／第２層（記録
層）／第３層（第２保護層）／第４層（光吸収層）／第
５層（反射層）などが挙げられる。
くとも記録層と保護層を有するものである。好ましく
は、複数の積層構造に構成されており、たとえば基板上
に第１層（第１保護層）／第２層（記録層）／第３層
（第２保護層）／第４層（反射層）をこの順に設けた積
層構成、または第１層（第１保護層）／第２層（記録
層）／第３層（第２保護層）／第４層（光吸収層）／第
５層（反射層）などが挙げられる。
【００１９】第１及び第２保護層の効果は、記録層の腐
食防止、記録時に基板、記録層などの熱による変形で生
じる記録特性の劣化防止、光学的な干渉効果により再生
時の信号コントラストを改善する効果がある。この場合
の第１保護層の厚さは、通常５０ｎｍ〜４００ｎｍとさ
れる。第２保護層の厚みは２０ｎｍ程度に薄く構成した
「急冷構造」では、誘電体層を２００ｎｍ程度に厚くし
た「徐冷構造」に比べ、書換の繰返しによる記録特性の
劣化が少なく、また消去パワーのパワー・マージンが広
い点で優れている。従って、第２保護層の厚さは１０ｎ
ｍ〜１００ｎｍであることが好ましい。
食防止、記録時に基板、記録層などの熱による変形で生
じる記録特性の劣化防止、光学的な干渉効果により再生
時の信号コントラストを改善する効果がある。この場合
の第１保護層の厚さは、通常５０ｎｍ〜４００ｎｍとさ
れる。第２保護層の厚みは２０ｎｍ程度に薄く構成した
「急冷構造」では、誘電体層を２００ｎｍ程度に厚くし
た「徐冷構造」に比べ、書換の繰返しによる記録特性の
劣化が少なく、また消去パワーのパワー・マージンが広
い点で優れている。従って、第２保護層の厚さは１０ｎ
ｍ〜１００ｎｍであることが好ましい。
【００２０】このような保護層としては、ＺｎＳ、Ｓｉ
Ｏ2 、Ｔａ2 Ｏ5 、ＩＴＯ、ＺｒＣ、ＴｉＣ、ＭｇＦ2
などの無機膜やそれらの混合膜が使用できる。特にＺｎ
ＳとＳｉＯ2 およびＺｎＳとＭｇＦ2 の混合膜は耐湿熱
性に優れており、さらに記録消去時の劣化を抑制するの
で好ましい。また、これらに炭素や、ＭｇＦ2 などのフ
ッ化物を混合したものも、膜の残留応力が小さいことか
ら好ましい。特にＺｎＳとＳｉＯ2 の混合膜あるいは、
ＺｎＳとＳｉＯ2 と炭素の混合膜は、記録、消去の繰り
返しによっても、記録感度、Ｃ／Ｎ、消去率などの劣化
が起きにくいことから好ましく特にＺｎＳとＳｉＯ2 と
炭素の混合膜が好ましい。
Ｏ2 、Ｔａ2 Ｏ5 、ＩＴＯ、ＺｒＣ、ＴｉＣ、ＭｇＦ2
などの無機膜やそれらの混合膜が使用できる。特にＺｎ
ＳとＳｉＯ2 およびＺｎＳとＭｇＦ2 の混合膜は耐湿熱
性に優れており、さらに記録消去時の劣化を抑制するの
で好ましい。また、これらに炭素や、ＭｇＦ2 などのフ
ッ化物を混合したものも、膜の残留応力が小さいことか
ら好ましい。特にＺｎＳとＳｉＯ2 の混合膜あるいは、
ＺｎＳとＳｉＯ2 と炭素の混合膜は、記録、消去の繰り
返しによっても、記録感度、Ｃ／Ｎ、消去率などの劣化
が起きにくいことから好ましく特にＺｎＳとＳｉＯ2 と
炭素の混合膜が好ましい。
【００２１】記録層としては、構成元素として少なくと
もＧｅ、Ｓｂ、Ｔｅの３元素を少なくとも含む合金を用
いることが高速でオーバーライトが可能である点から好
ましい。さらに、その組成は次式で表される範囲にある
ことが熱安定性と繰返し安定性に優れている点から好ま
しい。
もＧｅ、Ｓｂ、Ｔｅの３元素を少なくとも含む合金を用
いることが高速でオーバーライトが可能である点から好
ましい。さらに、その組成は次式で表される範囲にある
ことが熱安定性と繰返し安定性に優れている点から好ま
しい。
【００２２】 Ｍz （Ｓｂx Ｔｅ1-x ）1-y-z （Ｇｅ0.5 Ｔｅ0.5 ）y ０．３５≦ｘ≦０．５ ０．２≦ｙ≦０．５ ０．０００５≦ｚ≦０．０１ ここで、Ｍはパラジウム、ニオブ、白金、銀、金、コバ
ルトから選ばれる少なくとも一種の金属、Ｓｂはアンチ
モン、Ｔｅはテルル、Ｇｅはゲルマニウムを表す。ま
た、ｘ、ｙ、ｚ、及び数字は、各元素の原子の数（各元
素のモル数）を表す。特に、パラジウム、ニオブについ
ては少なくとも一種を含むことが好ましい。
ルトから選ばれる少なくとも一種の金属、Ｓｂはアンチ
モン、Ｔｅはテルル、Ｇｅはゲルマニウムを表す。ま
た、ｘ、ｙ、ｚ、及び数字は、各元素の原子の数（各元
素のモル数）を表す。特に、パラジウム、ニオブについ
ては少なくとも一種を含むことが好ましい。
【００２３】第２保護層または光吸収層の上に形成され
た光反射層は、光学的な干渉効果により、再生時の信号
コントラストを改善すると共に、冷却効果により、非晶
状態の記録マークの形成を容易にし、かつ消去特性、繰
り返し特性を改善する技術が知られている。この記録層
膜厚としては、１０〜１００ｎｍであることが好まし
い。
た光反射層は、光学的な干渉効果により、再生時の信号
コントラストを改善すると共に、冷却効果により、非晶
状態の記録マークの形成を容易にし、かつ消去特性、繰
り返し特性を改善する技術が知られている。この記録層
膜厚としては、１０〜１００ｎｍであることが好まし
い。
【００２４】反射層の材質としては、光反射性を有する
Ａｌ、Ａｕなどの金属、及びこれらを主成分とし、Ｔ
ｉ、Ｃｒ、Ｈｆなどの添加元素を含む合金及びＡｌ、Ａ
ｕなどの金属にＡｌ、Ｓｉなどの金属窒化物、金属酸化
物、金属カルコゲン化物などの金属化合物を混合したも
のなどがあげられる。Ａｌ、Ａｕなどの金属、及びこれ
らを主成分とする合金は、光反射性が高く、かつ熱伝導
率を高くできることから好ましい。前述の合金の例とし
て、ＡｌにＳｉ、Ｍｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｈ
ｆ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｍｎなどの少なくとも１種の元素を合
計で５原子％以下、１原子％以上加えたもの、あるい
は、ＡｕにＣｒ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｎｉなどの
少なくとも１種の元素を合計で２０原子％以下１原子％
以上加えたものなどがある。特に、材料の価格が安くで
きることから、Ａｌを主成分とする合金が好ましく、と
りわけ、耐腐食性が良好なことから、ＡｌにＴｉ、Ｃ
ｒ、Ｔａ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｍｎ、Ｐｄから選ばれる少なく
とも１種以上の金属を合計で５原子％以下０．５原子％
以上添加した合金が好ましい。とりわけ、耐腐食性が良
好でかつヒロックなどの発生が起こりにくいことから、
添加元素を合計で０．５原子％以上３原子％未満含む、
Ａｌ−Ｈｆ−Ｐｄ合金、Ａｌ−Ｈｆ合金、Ａｌ−Ｔｉ合
金、Ａｌ−Ｔｉ−Ｈｆ合金、Ａｌ−Ｃｒ合金、Ａｌ−Ｔ
ａ合金、Ａｌ−Ｔｉ−Ｃｒ合金、Ａｌ−Ｓｉ−Ｍｎ合金
のいずれかのＡｌを主成分とする合金が反射層材料とし
て好ましい。
Ａｌ、Ａｕなどの金属、及びこれらを主成分とし、Ｔ
ｉ、Ｃｒ、Ｈｆなどの添加元素を含む合金及びＡｌ、Ａ
ｕなどの金属にＡｌ、Ｓｉなどの金属窒化物、金属酸化
物、金属カルコゲン化物などの金属化合物を混合したも
のなどがあげられる。Ａｌ、Ａｕなどの金属、及びこれ
らを主成分とする合金は、光反射性が高く、かつ熱伝導
率を高くできることから好ましい。前述の合金の例とし
て、ＡｌにＳｉ、Ｍｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｈ
ｆ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｍｎなどの少なくとも１種の元素を合
計で５原子％以下、１原子％以上加えたもの、あるい
は、ＡｕにＣｒ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｎｉなどの
少なくとも１種の元素を合計で２０原子％以下１原子％
以上加えたものなどがある。特に、材料の価格が安くで
きることから、Ａｌを主成分とする合金が好ましく、と
りわけ、耐腐食性が良好なことから、ＡｌにＴｉ、Ｃ
ｒ、Ｔａ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｍｎ、Ｐｄから選ばれる少なく
とも１種以上の金属を合計で５原子％以下０．５原子％
以上添加した合金が好ましい。とりわけ、耐腐食性が良
好でかつヒロックなどの発生が起こりにくいことから、
添加元素を合計で０．５原子％以上３原子％未満含む、
Ａｌ−Ｈｆ−Ｐｄ合金、Ａｌ−Ｈｆ合金、Ａｌ−Ｔｉ合
金、Ａｌ−Ｔｉ−Ｈｆ合金、Ａｌ−Ｃｒ合金、Ａｌ−Ｔ
ａ合金、Ａｌ−Ｔｉ−Ｃｒ合金、Ａｌ−Ｓｉ−Ｍｎ合金
のいずれかのＡｌを主成分とする合金が反射層材料とし
て好ましい。
【００２５】記録媒体用の基板としては、基板側から記
録再生を行うためにはレーザー光が良好に透過する材料
を用いることが好ましく、たとえばポリメチルメタクリ
レート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹
脂、エポキシ樹脂などの有機高分子樹脂、それらの混合
物、共重合体物などを用いることができる。中でも、ポ
リカーボネート樹脂を光学特性と耐熱性の観点から最も
好まく用いることができる。
録再生を行うためにはレーザー光が良好に透過する材料
を用いることが好ましく、たとえばポリメチルメタクリ
レート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹
脂、エポキシ樹脂などの有機高分子樹脂、それらの混合
物、共重合体物などを用いることができる。中でも、ポ
リカーボネート樹脂を光学特性と耐熱性の観点から最も
好まく用いることができる。
【００２６】この熱可塑性樹脂を用いて、例えば射出成
形や射出圧縮成形によって円板状の基板を作製する。こ
の基板成型時、金型内に所定のグルーブやピット雄型が
表面に形成されたスタンパを装着し、スタンパからの転
写により表面に所望のトラックが形成された基板を成形
する。
形や射出圧縮成形によって円板状の基板を作製する。こ
の基板成型時、金型内に所定のグルーブやピット雄型が
表面に形成されたスタンパを装着し、スタンパからの転
写により表面に所望のトラックが形成された基板を成形
する。
【００２７】基板の大きさは光記録媒体ドライブ装置か
らの要求規格に合わせる必要がある。例えば、直径とし
ては８０ｍｍ、９０ｍｍ、１２０ｍｍまたは１３０ｍｍ
の基板等が規定されている。厚みとしては１．２mmない
し０．６mmが通常用いられるが、本発明の効果は、基板
厚みが薄い方が、顕著にあらわれるため、１mm以下、特
に０．６mm以下の場合に効果が高い。
らの要求規格に合わせる必要がある。例えば、直径とし
ては８０ｍｍ、９０ｍｍ、１２０ｍｍまたは１３０ｍｍ
の基板等が規定されている。厚みとしては１．２mmない
し０．６mmが通常用いられるが、本発明の効果は、基板
厚みが薄い方が、顕著にあらわれるため、１mm以下、特
に０．６mm以下の場合に効果が高い。
【００２８】このような基板上に少なくとも第１層／第
２層／第３層／第４層が積層される。この層の上には有
機樹脂保護層を設けても良い。有機樹脂保護層として
は、重合性モノマーおよびオリゴマーを主成分とする光
硬化性樹脂組成物や、熱硬化性樹脂組成物が用いられ、
スピンコート法によって一般に形成される。また、同様
な有機樹脂組成物からなる保護層を光の入射面側の基板
上に、耐摩耗性、耐刷性向上などの基板保護の目的や、
ホコリ付着防止のための制電性付与の目的で設けること
もできる。
２層／第３層／第４層が積層される。この層の上には有
機樹脂保護層を設けても良い。有機樹脂保護層として
は、重合性モノマーおよびオリゴマーを主成分とする光
硬化性樹脂組成物や、熱硬化性樹脂組成物が用いられ、
スピンコート法によって一般に形成される。また、同様
な有機樹脂組成物からなる保護層を光の入射面側の基板
上に、耐摩耗性、耐刷性向上などの基板保護の目的や、
ホコリ付着防止のための制電性付与の目的で設けること
もできる。
【００２９】
実施例１ 図１に示すホルダを用いて、表１に示す条件で直径１２
０ｍｍのポリカーボネートからなる透明基板上に以下に
示す構成の薄膜をスパッタリング装置を用いてスパッタ
し、光ディスクを作製した。各層の膜厚は水晶発振子式
膜厚計によりモニタしながら行った。非可逆性の温度シ
ールテープを用いて透明基板上の温度を測定したとこ
ろ、表面温度は７０℃であった。
０ｍｍのポリカーボネートからなる透明基板上に以下に
示す構成の薄膜をスパッタリング装置を用いてスパッタ
し、光ディスクを作製した。各層の膜厚は水晶発振子式
膜厚計によりモニタしながら行った。非可逆性の温度シ
ールテープを用いて透明基板上の温度を測定したとこ
ろ、表面温度は７０℃であった。
【００３０】得られたディスクのスパッタ面にスピンコ
ート法によってアクリル酸エステル系紫外線硬化樹脂を
８μm 形成し、光記録媒体を得た。さらに、この光記録
媒体に波長８２０ｎｍの半導体レーザーのビームを照射
して、ディスク全面の記録層を結晶化させ、初期化し
た。
ート法によってアクリル酸エステル系紫外線硬化樹脂を
８μm 形成し、光記録媒体を得た。さらに、この光記録
媒体に波長８２０ｎｍの半導体レーザーのビームを照射
して、ディスク全面の記録層を結晶化させ、初期化し
た。
【００３１】ここで、θとは図に示したように水平状態
に対して内周部と外周部の保持部分がなす角度をいう。
に対して内周部と外周部の保持部分がなす角度をいう。
【００３２】 第１層 第１保護層 80ＺｎＳ−20ＳｉＯ2 (mol%) 160nm 第２層 記録層 55Ｔｅ19Ｇｅ26Ｓｂ 25nm 第３層 第２保護層 80ＺｎＳ−20ＳｉＯ2 (mol%) 40nm 第４層 反射層 Ａｌ 100nm 温度２３℃、湿度５０％の状態で一日放置後、光記録媒
体の機械特性を機械特性測定装置（小野測器（株）社
製、ＬＭ１００）で測定した。表１に記録媒体外周部分
（半径５６mm）のディスク反り量（ＤＥＦ）とチルト角
を示す。
体の機械特性を機械特性測定装置（小野測器（株）社
製、ＬＭ１００）で測定した。表１に記録媒体外周部分
（半径５６mm）のディスク反り量（ＤＥＦ）とチルト角
を示す。
【００３３】実施例２〜４ 基板厚みおよびθを表１に示すように変えた以外は、実
施例１と同様にして光ディスクを作製した。結果を表１
に示す。
施例１と同様にして光ディスクを作製した。結果を表１
に示す。
【００３４】比較例１〜２ 基板厚みおよびθを表１に示すようにし、図３に示すホ
ルダを用いた以外は、実施例１と同様にしてディスクを
作製した。結果を表１に示す。スパッタ時の基板表面温
度は同様に７０℃であった。
ルダを用いた以外は、実施例１と同様にしてディスクを
作製した。結果を表１に示す。スパッタ時の基板表面温
度は同様に７０℃であった。
【００３５】
【表１】 表１に示す結果から、本発明のホルダを用いることによ
って光記録媒体の機械特性が改善されることがわかる。
って光記録媒体の機械特性が改善されることがわかる。
【００３６】
【発明の効果】本発明によれば、光記録媒体の製造にお
いて、生産性を向上させるとともに、簡易なプロセスで
スパッタ後の光記録媒体の反り、チルト、加速度等の機
械特性を改善し、歪みの少ない光ディスクを作製するこ
とができる。
いて、生産性を向上させるとともに、簡易なプロセスで
スパッタ後の光記録媒体の反り、チルト、加速度等の機
械特性を改善し、歪みの少ない光ディスクを作製するこ
とができる。
【図１】本発明のスパッタホルダの一形態の断面図を表
す。
す。
【図２】スパッタホルダの上面図を表す。
【図３】従来のスパッタホルダの断面図を表す。
【図４】本発明のスパッタホルダの一形態の断面図を表
す
す
Claims (8)
- 【請求項１】スパッタ時に光記録媒体基板を保持するた
めのホルダであって、該基板を保持するホルダの基板に
接触する外周部と内周部との高さが異なることを特徴と
する光記録媒体用スパッタホルダ。 - 【請求項２】ホルダの外周部が内周部より高くなってい
ることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体用スパッ
タホルダ。 - 【請求項３】水平方向に対してホルダの内周部の保持部
分と外周部の保持部分がなす角度をθ(deg) とすると、
ｔａｎθが０．０１以上となることを特徴とする請求項
２記載の光記録媒体用スパッタホルダ。 - 【請求項４】光記録媒体基板をホルダで保持してスパッ
タを行う光記録媒体の製造方法であって、該基板を保持
するホルダの基板に接触する外周部と内周部との高さが
異なることを特徴とする光記録媒体の製造方法。 - 【請求項５】ホルダの外周部が内周部より高くなってい
ることを特徴とすることを特徴とする請求項４記載の光
記録媒体の製造方法。 - 【請求項６】水平方向に対してホルダの内周部の保持部
分と外周部の保持部分がなす角度をθ(deg) とすると、
ｔａｎθが０．０１以上となることを特徴とする請求項
４記載の光記録媒体の製造方法。 - 【請求項７】スパッタ時の基板表面の最高温度が４０℃
以上となるような条件で製造することを特徴とする請求
項４記載の光記録媒体の製造方法。 - 【請求項８】基板が熱可塑性樹脂を射出成形した厚み
１．２ｍｍ以下の基板であることを特徴とする請求項４
記載の光記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23328296A JPH1081964A (ja) | 1996-09-03 | 1996-09-03 | 光記録媒体用スパッタホルダおよび光記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23328296A JPH1081964A (ja) | 1996-09-03 | 1996-09-03 | 光記録媒体用スパッタホルダおよび光記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1081964A true JPH1081964A (ja) | 1998-03-31 |
Family
ID=16952660
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23328296A Pending JPH1081964A (ja) | 1996-09-03 | 1996-09-03 | 光記録媒体用スパッタホルダおよび光記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1081964A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6841049B2 (en) | 1999-02-09 | 2005-01-11 | Ricoh Company, Ltd. | Optical device substrate film-formation apparatus, optical disk substrate film-formation method, substrate holder manufacture method, substrate holder, optical disk and a phase-change recording type of optical disk |
| US7027385B1 (en) * | 1998-11-06 | 2006-04-11 | Hitachi Maxell, Ltd. | Optical disk, disk substrate, and drive |
-
1996
- 1996-09-03 JP JP23328296A patent/JPH1081964A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7027385B1 (en) * | 1998-11-06 | 2006-04-11 | Hitachi Maxell, Ltd. | Optical disk, disk substrate, and drive |
| US6841049B2 (en) | 1999-02-09 | 2005-01-11 | Ricoh Company, Ltd. | Optical device substrate film-formation apparatus, optical disk substrate film-formation method, substrate holder manufacture method, substrate holder, optical disk and a phase-change recording type of optical disk |
| US7273534B2 (en) | 1999-02-09 | 2007-09-25 | Ricoh Company, Ltd. | Optical device substrate film-formation apparatus, optical disk substrate film-formation method, substrate holder manufacture method, substrate holder, optical disk and a phase-change recording type of optical disk |
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