JPH10340487A - 光記録媒体の製造方法 - Google Patents
光記録媒体の製造方法Info
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- JPH10340487A JPH10340487A JP14803397A JP14803397A JPH10340487A JP H10340487 A JPH10340487 A JP H10340487A JP 14803397 A JP14803397 A JP 14803397A JP 14803397 A JP14803397 A JP 14803397A JP H10340487 A JPH10340487 A JP H10340487A
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- Japan
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- sputtering
- optical recording
- chambers
- film thickness
- recording medium
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Abstract
(57)【要約】
【課題】膜厚を容易に制御し、かつ、スパッタリング条
件変更に伴う廃棄光記録媒体を減少できる光記録媒体の
製造方法を提供する。 【解決手段】複数のチャンバを有するスパッタリング装
置を用いて、同一層の薄膜を２つ以上のチャンバで連続
して成膜する光記録媒体の製造方法であって、該２つ以
上のチャンバのうち１つのチャンバを用いて膜厚を制御
する。
件変更に伴う廃棄光記録媒体を減少できる光記録媒体の
製造方法を提供する。 【解決手段】複数のチャンバを有するスパッタリング装
置を用いて、同一層の薄膜を２つ以上のチャンバで連続
して成膜する光記録媒体の製造方法であって、該２つ以
上のチャンバのうち１つのチャンバを用いて膜厚を制御
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体の製造
方法に関し、特に相変化型光記録媒体に好適な層構成を
有する光記録媒体の製造方法に関する。
方法に関し、特に相変化型光記録媒体に好適な層構成を
有する光記録媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光記録媒体は、成形された基板上に光学
的に記録再生可能な情報記録部を設け、文書やデータ等
のファイル用ディスクとして用いられている。光記録媒
体を高速で回転させながら、１μｍ程度に絞り込んだレ
ーザー光を照射し、焦点調整および位置検出を行いなが
ら、記録層からデータを読出し、または記録層にデータ
を記録する。
的に記録再生可能な情報記録部を設け、文書やデータ等
のファイル用ディスクとして用いられている。光記録媒
体を高速で回転させながら、１μｍ程度に絞り込んだレ
ーザー光を照射し、焦点調整および位置検出を行いなが
ら、記録層からデータを読出し、または記録層にデータ
を記録する。
【０００３】以下に相変化型光記録媒体の具体的な記録
再生方法の例を示す。記録時には結晶状態の記録層に集
光したレーザーパルスを短時間照射し、記録層を部分的
に溶融する。溶融した部分は熱拡散により急冷され、固
化し、非晶状態の記録マークが形成される。この記録マ
ークの反射率が、例えば結晶状態よりも低く設定してお
くとその反射率差を利用して光学的に情報が再生でき
る。さらに、消去時には記録マーク部分にレーザー光を
照射し、記録層の融点以下、結晶化温度以上の温度に加
熱することによって非晶状態の記録マークを結晶化し、
もとの未記録状態に戻す。
再生方法の例を示す。記録時には結晶状態の記録層に集
光したレーザーパルスを短時間照射し、記録層を部分的
に溶融する。溶融した部分は熱拡散により急冷され、固
化し、非晶状態の記録マークが形成される。この記録マ
ークの反射率が、例えば結晶状態よりも低く設定してお
くとその反射率差を利用して光学的に情報が再生でき
る。さらに、消去時には記録マーク部分にレーザー光を
照射し、記録層の融点以下、結晶化温度以上の温度に加
熱することによって非晶状態の記録マークを結晶化し、
もとの未記録状態に戻す。
【０００４】この記録層材料としては、テルルなどを主
成分とするＧｅ2Ｓｂ2Ｔｅ5 などの合金（N.Yamada et
al, Proc. Int. Symp. on Optical Memory 1987 p61-6
6）が知られている。これらＴｅ合金を記録層とした光
記録媒体では、結晶化速度が速く、照射パワーを変調す
るだけで、円形の１ビームによる高速のオーバーライト
が可能である。これらの記録層を使用した光記録媒体で
は、通常、記録層の両面に耐熱性と透光性を有する誘電
体層を設け、記録時に記録層に変形、開孔が発生するこ
とを防いでいる。
成分とするＧｅ2Ｓｂ2Ｔｅ5 などの合金（N.Yamada et
al, Proc. Int. Symp. on Optical Memory 1987 p61-6
6）が知られている。これらＴｅ合金を記録層とした光
記録媒体では、結晶化速度が速く、照射パワーを変調す
るだけで、円形の１ビームによる高速のオーバーライト
が可能である。これらの記録層を使用した光記録媒体で
は、通常、記録層の両面に耐熱性と透光性を有する誘電
体層を設け、記録時に記録層に変形、開孔が発生するこ
とを防いでいる。
【０００５】このような光記録媒体の製造は、一般に射
出成形された基板上にスパッタリング等の方法で記録
層、保護層等を形成することによって行われる。その
後、有機樹脂保護層をスピンコート等により塗布するこ
とにより光記録媒体が製造される。
出成形された基板上にスパッタリング等の方法で記録
層、保護層等を形成することによって行われる。その
後、有機樹脂保護層をスピンコート等により塗布するこ
とにより光記録媒体が製造される。
【０００６】この光記録媒体の薄膜形成工程であるスパ
ッタリングにおいては、自公転トレー搬送方式や枚葉式
といった装置が用いられている。このスパッタリング装
置を用いて光記録媒体を成膜する時は、特に膜厚の厚い
層の成膜において、１チャンバでの成膜時間を均一化し
生産性を向上させるため、同一層を２チャンバあるいは
３チャンバ以上といった複数チャンバにて連続してスパ
ッタリングすることにより、所望の膜厚の同一層薄膜を
形成することが行われることがある。
ッタリングにおいては、自公転トレー搬送方式や枚葉式
といった装置が用いられている。このスパッタリング装
置を用いて光記録媒体を成膜する時は、特に膜厚の厚い
層の成膜において、１チャンバでの成膜時間を均一化し
生産性を向上させるため、同一層を２チャンバあるいは
３チャンバ以上といった複数チャンバにて連続してスパ
ッタリングすることにより、所望の膜厚の同一層薄膜を
形成することが行われることがある。
【０００７】一方、上記スパッタリング装置を用いて光
記録媒体を製造する場合には、スパッタリングターゲッ
トの消費等により成膜速度が経時的に変化する恐れがあ
り、結果的に得られた薄膜の膜厚が所望の膜厚にならな
いといった問題が生ずる。
記録媒体を製造する場合には、スパッタリングターゲッ
トの消費等により成膜速度が経時的に変化する恐れがあ
り、結果的に得られた薄膜の膜厚が所望の膜厚にならな
いといった問題が生ずる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】このような膜厚の変動
に対処するためには、薄膜の膜厚が管理値から外れた場
合、所定管理値内になるようにスパッタリング条件を変
更する必要がある。複数チャンバで、同一層の薄膜を成
膜する場合には、通常すべてのチャンバにおけるスパッ
タリング条件を一括して変更する。ここでいうスパッタ
リング条件とは、カソードへの投入電力、スパッタリン
グ時間、アルゴンガスなどのスパッタリングガス流量お
よびスパッタリング圧力である。
に対処するためには、薄膜の膜厚が管理値から外れた場
合、所定管理値内になるようにスパッタリング条件を変
更する必要がある。複数チャンバで、同一層の薄膜を成
膜する場合には、通常すべてのチャンバにおけるスパッ
タリング条件を一括して変更する。ここでいうスパッタ
リング条件とは、カソードへの投入電力、スパッタリン
グ時間、アルゴンガスなどのスパッタリングガス流量お
よびスパッタリング圧力である。
【０００９】しかしながら、上記方法では膜厚が、所定
管理値内になるようにスパッタリング条件を変更するこ
とが容易ではなく、また、条件変更を実施した時、チャ
ンバ内に既に存在する光記録媒体は所定管理値内の膜厚
とはならず、廃棄しなければならないという問題があっ
た。
管理値内になるようにスパッタリング条件を変更するこ
とが容易ではなく、また、条件変更を実施した時、チャ
ンバ内に既に存在する光記録媒体は所定管理値内の膜厚
とはならず、廃棄しなければならないという問題があっ
た。
【００１０】本発明は、かかる問題点を改良し、複数の
チャンバを有するスパッタリング装置を用いて、同一層
の薄膜を２つ以上のチャンバで連続して成膜することに
より所望の膜厚を得る光記録媒体の製造方法において、
膜厚を容易に制御し、かつ、スパッタリング条件変更に
伴う廃棄光記録媒体を減少できる製造方法を提供するこ
とを目的とする。
チャンバを有するスパッタリング装置を用いて、同一層
の薄膜を２つ以上のチャンバで連続して成膜することに
より所望の膜厚を得る光記録媒体の製造方法において、
膜厚を容易に制御し、かつ、スパッタリング条件変更に
伴う廃棄光記録媒体を減少できる製造方法を提供するこ
とを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、複数の
チャンバを有するスパッタリング装置を用いて、同一機
能層の薄膜を２つ以上のチャンバで連続して成膜する光
記録媒体の製造方法であって、該２つ以上のチャンバの
うち１つのチャンバを用いて膜厚を制御することを特徴
とする光記録媒体の製造方法によって達成される。
チャンバを有するスパッタリング装置を用いて、同一機
能層の薄膜を２つ以上のチャンバで連続して成膜する光
記録媒体の製造方法であって、該２つ以上のチャンバの
うち１つのチャンバを用いて膜厚を制御することを特徴
とする光記録媒体の製造方法によって達成される。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明に係る光記録媒体は、基板
上に少なくとも記録層と保護層を有するものである。好
ましくは、複数の積層構造に構成されており、例えば基
板上に第１層（第１保護層）／第２層（記録層）／第３
層（第２保護層）／第４層（反射層）をこの順に設けた
積層構成、または第１層（第１保護層）／第２層（記録
層）／第３層（第２保護層）／第４層（光吸収層）／第
５層（反射層）などが挙げられる。
上に少なくとも記録層と保護層を有するものである。好
ましくは、複数の積層構造に構成されており、例えば基
板上に第１層（第１保護層）／第２層（記録層）／第３
層（第２保護層）／第４層（反射層）をこの順に設けた
積層構成、または第１層（第１保護層）／第２層（記録
層）／第３層（第２保護層）／第４層（光吸収層）／第
５層（反射層）などが挙げられる。
【００１３】第１および第２保護層の効果は、記録層の
腐食防止、記録時に基板、記録層などの熱による変形で
生じる記録特性の劣化防止、光学的な干渉効果により再
生時の信号コントラストを改善する効果がある。この場
合の第１保護層の厚さは、通常５０ｎｍ〜４００ｎｍと
される。第２保護層の厚さは１０ｎｍ〜１００ｎｍであ
ることが、書換の繰返しによる記録特性の劣化が少な
く、また消去パワーのパワー・マージンが広い点で優れ
ているので好ましい。
腐食防止、記録時に基板、記録層などの熱による変形で
生じる記録特性の劣化防止、光学的な干渉効果により再
生時の信号コントラストを改善する効果がある。この場
合の第１保護層の厚さは、通常５０ｎｍ〜４００ｎｍと
される。第２保護層の厚さは１０ｎｍ〜１００ｎｍであ
ることが、書換の繰返しによる記録特性の劣化が少な
く、また消去パワーのパワー・マージンが広い点で優れ
ているので好ましい。
【００１４】このような保護層としては、ＺｎＳ、Ｓｉ
Ｏ2 、Ｔａ2Ｏ5、ＩＴＯ、ＺｒＣ、ＴｉＣ、ＭｇＦ2 な
どの無機膜やそれらの混合膜が使用できる。特にＺｎＳ
とＳｉＯ2 およびＺｎＳとＭｇＦ2 の混合膜は長期保存
信頼性に優れており、さらに記録消去時の劣化を抑制す
るので好ましい。また、これらに炭素や、ＭｇＦ2 など
のフッ化物を混合したものも、膜の残留応力が小さいこ
とから好ましい。特にＺｎＳとＳｉＯ2 の混合膜あるい
は、ＺｎＳとＳｉＯ2 と炭素の混合膜は、記録、消去の
繰り返しによっても、記録感度、Ｃ／Ｎ、消去率などの
劣化が起きにくいことから好ましく特にＺｎＳとＳｉＯ
2 と炭素の混合膜が好ましい。
Ｏ2 、Ｔａ2Ｏ5、ＩＴＯ、ＺｒＣ、ＴｉＣ、ＭｇＦ2 な
どの無機膜やそれらの混合膜が使用できる。特にＺｎＳ
とＳｉＯ2 およびＺｎＳとＭｇＦ2 の混合膜は長期保存
信頼性に優れており、さらに記録消去時の劣化を抑制す
るので好ましい。また、これらに炭素や、ＭｇＦ2 など
のフッ化物を混合したものも、膜の残留応力が小さいこ
とから好ましい。特にＺｎＳとＳｉＯ2 の混合膜あるい
は、ＺｎＳとＳｉＯ2 と炭素の混合膜は、記録、消去の
繰り返しによっても、記録感度、Ｃ／Ｎ、消去率などの
劣化が起きにくいことから好ましく特にＺｎＳとＳｉＯ
2 と炭素の混合膜が好ましい。
【００１５】記録層としては、構成元素として少なくと
もＧｅ、Ｓｂ、Ｔｅの３元素を含む合金を用いることが
高速でオーバーライトが可能である点から好ましい。さ
らに、その組成は次式で表される範囲にあることが熱安
定性と繰返し安定性に優れている点から好ましい。
もＧｅ、Ｓｂ、Ｔｅの３元素を含む合金を用いることが
高速でオーバーライトが可能である点から好ましい。さ
らに、その組成は次式で表される範囲にあることが熱安
定性と繰返し安定性に優れている点から好ましい。
【００１６】 Ｍz（Ｓｂx Ｔｅ1-x ）1-y-z （Ｇｅ0.5 Ｔｅ0.5 ）y ０．３５≦ｘ≦０．５ ０．２≦ｙ≦０．５ ０．０００５≦ｚ≦０．０１ ここで、Ｍはパラジウム，ニオブ、白金、銀、金、コバ
ルトから選ばれる少なくとも一種の金属、Ｓｂはアンチ
モン、Ｔｅはテルル、Ｇｅはゲルマニウムを表す。ま
た、ｘ，ｙ，ｚ、および数字は、各元素の原子の数（各
元素のモル数）を表す。特に、パラジウム，ニオブにつ
いては少なくとも一種を含むことが好ましい。
ルトから選ばれる少なくとも一種の金属、Ｓｂはアンチ
モン、Ｔｅはテルル、Ｇｅはゲルマニウムを表す。ま
た、ｘ，ｙ，ｚ、および数字は、各元素の原子の数（各
元素のモル数）を表す。特に、パラジウム，ニオブにつ
いては少なくとも一種を含むことが好ましい。
【００１７】第２保護層または光吸収層の上に形成され
た光反射層には、光学的な干渉効果により、再生時の信
号コントラストを改善すると共に、冷却効果により、非
晶状態の記録マークの形成を容易にし、かつ消去特性、
繰り返し特性を改善する効果が期待される。この記録層
膜厚としては、１０〜１００ｎｍであることが好まし
い。
た光反射層には、光学的な干渉効果により、再生時の信
号コントラストを改善すると共に、冷却効果により、非
晶状態の記録マークの形成を容易にし、かつ消去特性、
繰り返し特性を改善する効果が期待される。この記録層
膜厚としては、１０〜１００ｎｍであることが好まし
い。
【００１８】反射層の材質としては、光反射性を有する
Ａｌ、Ａｕなどの金属、およびこれらを主成分とし、Ｔ
ｉ、Ｃｒ、Ｈｆなどの添加元素を含む合金およびＡｌ、
Ａｕなどの金属にＡｌ、Ｓｉなどの金属窒化物、金属酸
化物、金属カルコゲン化物などの金属化合物を混合した
ものなどがあげられる。Ａｌ、Ａｕなどの金属、および
これらを主成分とする合金は、光反射性が高く、かつ熱
伝導率を高くできることから好ましい。前述の合金の例
として、ＡｌにＳｉ、Ｍｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｔｉ、Ｃｒ、
Ｈｆ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｍｎなどの少なくとも１種の元素を
合計で５原子％以下、１原子％以上加えたもの、あるい
は、ＡｕにＣｒ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｎｉなどの
少なくとも１種の元素を合計で２０原子％以下１原子％
以上加えたものなどがある。特に、材料の価格が安くで
きることから、Ａｌを主成分とする合金が好ましく、と
りわけ、耐腐食性が良好なことから、ＡｌにＴｉ、Ｃ
ｒ、Ｔａ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｍｎ、Ｐｄから選ばれる少なく
とも１種以上の金属を合計で５原子％以下０．５原子％
以上添加した合金が好ましい。とりわけ、耐腐食性が良
好でかつヒロックなどの発生が起こりにくいことから、
添加元素を合計で０．５原子％以上３原子％未満含む、
Ａｌ−Ｈｆ−Ｐｄ合金、Ａｌ−Ｈｆ合金、Ａｌ−Ｔｉ合
金、Ａｌ−Ｔｉ−Ｈｆ合金、Ａｌ−Ｃｒ合金、Ａｌ−Ｔ
ａ合金、Ａｌ−Ｔｉ−Ｃｒ合金、Ａｌ−Ｓｉ−Ｍｎ合金
のいずれかのＡｌを主成分とする合金が反射層材料とし
て好ましい。
Ａｌ、Ａｕなどの金属、およびこれらを主成分とし、Ｔ
ｉ、Ｃｒ、Ｈｆなどの添加元素を含む合金およびＡｌ、
Ａｕなどの金属にＡｌ、Ｓｉなどの金属窒化物、金属酸
化物、金属カルコゲン化物などの金属化合物を混合した
ものなどがあげられる。Ａｌ、Ａｕなどの金属、および
これらを主成分とする合金は、光反射性が高く、かつ熱
伝導率を高くできることから好ましい。前述の合金の例
として、ＡｌにＳｉ、Ｍｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｔｉ、Ｃｒ、
Ｈｆ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｍｎなどの少なくとも１種の元素を
合計で５原子％以下、１原子％以上加えたもの、あるい
は、ＡｕにＣｒ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｎｉなどの
少なくとも１種の元素を合計で２０原子％以下１原子％
以上加えたものなどがある。特に、材料の価格が安くで
きることから、Ａｌを主成分とする合金が好ましく、と
りわけ、耐腐食性が良好なことから、ＡｌにＴｉ、Ｃ
ｒ、Ｔａ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｍｎ、Ｐｄから選ばれる少なく
とも１種以上の金属を合計で５原子％以下０．５原子％
以上添加した合金が好ましい。とりわけ、耐腐食性が良
好でかつヒロックなどの発生が起こりにくいことから、
添加元素を合計で０．５原子％以上３原子％未満含む、
Ａｌ−Ｈｆ−Ｐｄ合金、Ａｌ−Ｈｆ合金、Ａｌ−Ｔｉ合
金、Ａｌ−Ｔｉ−Ｈｆ合金、Ａｌ−Ｃｒ合金、Ａｌ−Ｔ
ａ合金、Ａｌ−Ｔｉ−Ｃｒ合金、Ａｌ−Ｓｉ−Ｍｎ合金
のいずれかのＡｌを主成分とする合金が反射層材料とし
て好ましい。
【００１９】記録媒体用の基板としては、基板側から記
録再生を行うためにはレーザー光が良好に透過する材料
を用いることが好ましく、たとえばポリメチルメタクリ
レート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹
脂、エポキシ樹脂などの有機高分子樹脂、それらの混合
物、共重合体物などを用いることができる。中でも、ポ
リカーボネート樹脂を光学特性と耐熱性の観点から最も
好まく用いることができる。
録再生を行うためにはレーザー光が良好に透過する材料
を用いることが好ましく、たとえばポリメチルメタクリ
レート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹
脂、エポキシ樹脂などの有機高分子樹脂、それらの混合
物、共重合体物などを用いることができる。中でも、ポ
リカーボネート樹脂を光学特性と耐熱性の観点から最も
好まく用いることができる。
【００２０】この熱可塑性樹脂を用いて、例えば射出成
形や射出圧縮成形によって円板状の基板を作製する。こ
の基板成型時、金型内に所定のグルーブやピット雄型が
表面に形成されたスタンパを装着し、スタンパからの転
写により表面に所望のトラックが形成された基板を成形
する。
形や射出圧縮成形によって円板状の基板を作製する。こ
の基板成型時、金型内に所定のグルーブやピット雄型が
表面に形成されたスタンパを装着し、スタンパからの転
写により表面に所望のトラックが形成された基板を成形
する。
【００２１】基板の大きさは光記録媒体ドライブ装置か
らの要求規格に合わせる必要がある。例えば、直径とし
ては８０ｍｍ、９０ｍｍ、１２０ｍｍまたは１３０ｍｍ
の基板が規定されている。厚みとしては１.２ｍｍおよ
び０.６ｍｍともに用いることができる。
らの要求規格に合わせる必要がある。例えば、直径とし
ては８０ｍｍ、９０ｍｍ、１２０ｍｍまたは１３０ｍｍ
の基板が規定されている。厚みとしては１.２ｍｍおよ
び０.６ｍｍともに用いることができる。
【００２２】このような基板上に少なくとも前述の層が
必要に応じ適正な厚みで積層される。この層の上には有
機樹脂保護層を設けても良い。有機樹脂保護層として
は、重合性モノマーおよびオリゴマーを主成分とする光
硬化性樹脂組成物や、熱硬化性樹脂組成物が用いられ、
一般にスピンコート法によって形成される。また、同様
な有機樹脂組成物からなる保護層を光の入射面側の基板
上に、耐摩耗性、耐刷性向上などの基板保護の目的や、
ホコリ付着防止のための制電性付与の目的で設けてもよ
い。
必要に応じ適正な厚みで積層される。この層の上には有
機樹脂保護層を設けても良い。有機樹脂保護層として
は、重合性モノマーおよびオリゴマーを主成分とする光
硬化性樹脂組成物や、熱硬化性樹脂組成物が用いられ、
一般にスピンコート法によって形成される。また、同様
な有機樹脂組成物からなる保護層を光の入射面側の基板
上に、耐摩耗性、耐刷性向上などの基板保護の目的や、
ホコリ付着防止のための制電性付与の目的で設けてもよ
い。
【００２３】本発明において、膜厚の変動を管理する方
法としては、種々の方法を用いて行うことができる。例
えば、スパッタ後の光記録媒体の色彩を測定して第１層
膜厚を制御する方法、光記録媒体の分光反射率を測定
し、該分光反射率または、色相、彩度、明度からなる三
刺激値に基づいて膜厚を制御する方法、エリプソメータ
ーを用いて膜厚を求め制御する方法などを用いることが
できる。これらの膜厚は、成膜された光記録媒体全てに
ついて測定することがより厳密にコントロールできる点
で好ましいが、サンプリングした光記録媒体について測
定する方法もレート変動が小さい場合には好ましく用い
ることができる。
法としては、種々の方法を用いて行うことができる。例
えば、スパッタ後の光記録媒体の色彩を測定して第１層
膜厚を制御する方法、光記録媒体の分光反射率を測定
し、該分光反射率または、色相、彩度、明度からなる三
刺激値に基づいて膜厚を制御する方法、エリプソメータ
ーを用いて膜厚を求め制御する方法などを用いることが
できる。これらの膜厚は、成膜された光記録媒体全てに
ついて測定することがより厳密にコントロールできる点
で好ましいが、サンプリングした光記録媒体について測
定する方法もレート変動が小さい場合には好ましく用い
ることができる。
【００２４】本発明は、複数のチャンバを有するスパッ
タリング装置を用いて、複数チャンバのうち、２チャン
バ以上で同一層の薄膜を連続してスパッタリングにより
成膜する場合に用いられる。ここでいう同一層とは、同
一の機能を持っている層を２つ以上のチャンバで連続し
て成膜する場合をいうのであり、必ずしも組成が同一で
ある必要はない。すなわち、本発明の効果を損なわない
範囲において、記録層、保護層、反射層等の各機能を持
った層の中で、組成に変化があってもよい。スパッタリ
ング装置としては、自公転式、トレー搬送方式、枚葉式
等が知られており、これらどの装置でも利用することが
できる。
タリング装置を用いて、複数チャンバのうち、２チャン
バ以上で同一層の薄膜を連続してスパッタリングにより
成膜する場合に用いられる。ここでいう同一層とは、同
一の機能を持っている層を２つ以上のチャンバで連続し
て成膜する場合をいうのであり、必ずしも組成が同一で
ある必要はない。すなわち、本発明の効果を損なわない
範囲において、記録層、保護層、反射層等の各機能を持
った層の中で、組成に変化があってもよい。スパッタリ
ング装置としては、自公転式、トレー搬送方式、枚葉式
等が知られており、これらどの装置でも利用することが
できる。
【００２５】以下に、枚葉式スパッタリング装置を用い
て、本発明の概要を説明する。図１に、枚葉式スパッタ
リング装置の概略的な平面図を示す。基板着脱ハンドラ
８にて取り付けられた基板１０は基板移載アーム９によ
りチャンバ１に運ばれる。ここでスパッタリングされ、
基板１０はその隣に位置するチャンバ２に運ばれる。こ
こでまたスパッタリングされる。これらを繰り返して基
板に薄膜を形成する。
て、本発明の概要を説明する。図１に、枚葉式スパッタ
リング装置の概略的な平面図を示す。基板着脱ハンドラ
８にて取り付けられた基板１０は基板移載アーム９によ
りチャンバ１に運ばれる。ここでスパッタリングされ、
基板１０はその隣に位置するチャンバ２に運ばれる。こ
こでまたスパッタリングされる。これらを繰り返して基
板に薄膜を形成する。
【００２６】枚葉式スパッタリング装置において、膜厚
が所定管理値から外れた場合には、一般に全てのチャン
バにおけるスパッタリング条件を変更する方法が用いら
れる。このように、全てのチャンバのスパッタリング条
件を変更する場合には既にチャンバ内に存在する光記録
媒体は、所定管理値内の膜厚とはなっていないため、廃
棄する必要が生ずる。また、廃棄を避けるためには、こ
れらの光記録媒体が所定膜厚になるようにしつつ、新た
に投入される光記録媒体も所定管理値内の膜厚になるよ
うに、膜厚コントロールする必要が生じ、膜厚制御法が
煩雑となり、生産には適さない。
が所定管理値から外れた場合には、一般に全てのチャン
バにおけるスパッタリング条件を変更する方法が用いら
れる。このように、全てのチャンバのスパッタリング条
件を変更する場合には既にチャンバ内に存在する光記録
媒体は、所定管理値内の膜厚とはなっていないため、廃
棄する必要が生ずる。また、廃棄を避けるためには、こ
れらの光記録媒体が所定膜厚になるようにしつつ、新た
に投入される光記録媒体も所定管理値内の膜厚になるよ
うに、膜厚コントロールする必要が生じ、膜厚制御法が
煩雑となり、生産には適さない。
【００２７】一方、本発明における方法では、膜厚の制
御は同一層薄膜を成膜するうちの１チャンバで行うため
に、このような煩雑な制御は必要なくなる。また、既に
チャンバ内に存在する光記録媒体も容易に膜厚を制御す
ることができ、光記録媒体を廃棄する必要が少なくな
る。
御は同一層薄膜を成膜するうちの１チャンバで行うため
に、このような煩雑な制御は必要なくなる。また、既に
チャンバ内に存在する光記録媒体も容易に膜厚を制御す
ることができ、光記録媒体を廃棄する必要が少なくな
る。
【００２８】膜厚コントロールは、スパッタ時間または
スパッタパワーのどちらでも行うことができ、膜厚制御
のための１チャンバのレート（成膜速度）は、制御可能
な時間またはパワーの設定中心値とすることが好まし
い。このように設定することにより、どちらの方向への
変動にも対応できる。また、レートがターゲットの消費
とともに増加する場合には、膜厚コントロール用の１チ
ャンバの初期のレートを大きくとり、ターゲットの消費
とともにレートを下げることができるよう、他のチャン
バの初期のレートを低めに設定することが好ましい。
スパッタパワーのどちらでも行うことができ、膜厚制御
のための１チャンバのレート（成膜速度）は、制御可能
な時間またはパワーの設定中心値とすることが好まし
い。このように設定することにより、どちらの方向への
変動にも対応できる。また、レートがターゲットの消費
とともに増加する場合には、膜厚コントロール用の１チ
ャンバの初期のレートを大きくとり、ターゲットの消費
とともにレートを下げることができるよう、他のチャン
バの初期のレートを低めに設定することが好ましい。
【００２９】さらに、所望の膜厚となるよう膜厚を制御
することに用いるチャンバを、同一層の薄膜を連続して
成膜する２つ以上のチャンバのうち最終チャンバとする
ことにより、前記最終チャンバの前までの膜厚をモニタ
し、最終チャンバにフィードバックすることにより最終
チャンバのスパッタリング条件を随時変更し、得られる
光記録媒体の膜厚を一定化することが可能となる。
することに用いるチャンバを、同一層の薄膜を連続して
成膜する２つ以上のチャンバのうち最終チャンバとする
ことにより、前記最終チャンバの前までの膜厚をモニタ
し、最終チャンバにフィードバックすることにより最終
チャンバのスパッタリング条件を随時変更し、得られる
光記録媒体の膜厚を一定化することが可能となる。
【００３０】本発明は、種々の光記録媒体の製造に用い
ることができるが、特に相変化型光記録媒体の製造に好
ましく用いることができる。相変化型光記録媒体は一般
に記録層の発熱から基板を保護するために保護層の膜厚
が厚い。また、この誘電体層は高周波（ＲＦ）電源によ
り成膜されるため、直流（ＤＣ）電源と比較して、スパ
ッタのレートが遅いことが一般的である。従って、製造
時間短縮のため、複数のチャンバでこの薄膜を成膜する
必要性が非常に大きいからである。
ることができるが、特に相変化型光記録媒体の製造に好
ましく用いることができる。相変化型光記録媒体は一般
に記録層の発熱から基板を保護するために保護層の膜厚
が厚い。また、この誘電体層は高周波（ＲＦ）電源によ
り成膜されるため、直流（ＤＣ）電源と比較して、スパ
ッタのレートが遅いことが一般的である。従って、製造
時間短縮のため、複数のチャンバでこの薄膜を成膜する
必要性が非常に大きいからである。
【００３１】
【実施例】ポリカーボネート樹脂からなる直径１２０ｍ
ｍの透明基板上に、以下に示す構成の薄膜を、表１に示
す膜厚になるように、図１に示すような７チャンバの枚
葉式スパッタリング装置を用いて作製した。７チャンバ
のターゲットの配置は表２に示すとおりである。このデ
ィスクのスパッタリング面上にスピンコート法によって
アクリル酸エステル系紫外線硬化樹脂を８μｍ厚で形成
し、光記録媒体を得た。
ｍの透明基板上に、以下に示す構成の薄膜を、表１に示
す膜厚になるように、図１に示すような７チャンバの枚
葉式スパッタリング装置を用いて作製した。７チャンバ
のターゲットの配置は表２に示すとおりである。このデ
ィスクのスパッタリング面上にスピンコート法によって
アクリル酸エステル系紫外線硬化樹脂を８μｍ厚で形成
し、光記録媒体を得た。
【００３２】 第１層 第１保護層： ＺｎＳ(80.0)−ＳｉＯ2(20.0)(mol%) 第２層 記録層 ： Ｔｅ(55.0)−Ｇｅ(19.0)−Ｓｂ(26.0)(atm%) 第３層 第２保護層： ＺｎＳ(80.0)−ＳｉＯ2(20.0)(mol%) 第４層 反射層 ： Ａｌ
【表１】
【００３３】
【表２】
【００３４】実施例１ チャンバ１、２はスパッタリング条件を固定し、水晶発
振子モニタ計により各チャンバで成膜された膜厚を随時
測定し、最終的に所望の膜厚になるようにチャンバ３の
スパッタリング条件を随時制御した。
振子モニタ計により各チャンバで成膜された膜厚を随時
測定し、最終的に所望の膜厚になるようにチャンバ３の
スパッタリング条件を随時制御した。
【００３５】実施例２ 成膜開始時に所望の膜厚になるようにスパッタリング条
件を決定し、その後スパッタリング条件は変更すること
なく光記録媒体を作製した。
件を決定し、その後スパッタリング条件は変更すること
なく光記録媒体を作製した。
【００３６】光記録媒体を２００枚成膜するごとに、チ
ャンバ１〜３での第１保護層の成膜膜厚を水晶発振子モ
ニタ計で測定し、各チャンバで成膜された膜厚の合計を
得られた光記録媒体の膜厚とした。光記録媒体の膜厚が
１４６ｎｍを越えた時点で、チャンバ３のみスパッタリ
ング条件を変更して、所望の膜厚になるように制御し
た。
ャンバ１〜３での第１保護層の成膜膜厚を水晶発振子モ
ニタ計で測定し、各チャンバで成膜された膜厚の合計を
得られた光記録媒体の膜厚とした。光記録媒体の膜厚が
１４６ｎｍを越えた時点で、チャンバ３のみスパッタリ
ング条件を変更して、所望の膜厚になるように制御し
た。
【００３７】比較例１ 成膜開始時からスパッタリング条件を変更することなく
成膜した。
成膜した。
【００３８】図２にディスク数に対しての第１保護層の
膜厚をプロットした。第１層の膜厚を制御しない場合
（比較例１）には、ターゲットの消費とともに成膜速度
が変動するために当初の設定膜厚から次第にずれ、徐々
に膜厚が増加した。それに対し、第１層膜厚を成膜する
チャンバのうち、成膜速度の変動をチャンバ３のスパッ
タリング条件の変更としてフィードバックすることによ
り、いずれも膜厚の増加を制御でき、経時的な膜厚の変
動を最小限にする事ができた（実施例１、実施例２）。
また、光記録媒体を廃棄する必要もなかった。
膜厚をプロットした。第１層の膜厚を制御しない場合
（比較例１）には、ターゲットの消費とともに成膜速度
が変動するために当初の設定膜厚から次第にずれ、徐々
に膜厚が増加した。それに対し、第１層膜厚を成膜する
チャンバのうち、成膜速度の変動をチャンバ３のスパッ
タリング条件の変更としてフィードバックすることによ
り、いずれも膜厚の増加を制御でき、経時的な膜厚の変
動を最小限にする事ができた（実施例１、実施例２）。
また、光記録媒体を廃棄する必要もなかった。
【００３９】
【発明の効果】複数のチャンバを有するスパッタリング
装置を用いて、複数チャンバにて連続して同一組成のタ
ーゲットをスパッタリングすることにより、所望の膜厚
の同一組成薄膜を得る光記録媒体の製造であって、前記
同一組成ターゲットをスパッタリングする複数チャンバ
のうちの１チャンバのみを用いて膜厚を制御することに
より、以下の効果を得ることができる。
装置を用いて、複数チャンバにて連続して同一組成のタ
ーゲットをスパッタリングすることにより、所望の膜厚
の同一組成薄膜を得る光記録媒体の製造であって、前記
同一組成ターゲットをスパッタリングする複数チャンバ
のうちの１チャンバのみを用いて膜厚を制御することに
より、以下の効果を得ることができる。
【００４０】１．スパッタリング条件の変更が容易にな
る。
る。
【００４１】２．スパッタリング条件変更に伴う廃棄基
板を減少できる。
板を減少できる。
【００４２】３．スパッタリング膜厚を均一化できる。
【図１】枚葉式スパッタリング装置の概略的な平面図で
ある。
ある。
【図２】実施例１〜２、比較例１のスパッタリング枚数
と膜厚との関係図である。
と膜厚との関係図である。
１〜７：スパッタリングチャンバ ８：基板着脱ハンドラ ９：基板移載アーム １０：光記録基板 １１：第１保護層ターゲット １２：記録層ターゲット １３：第２保護層ターゲット １４：反射層ターゲット
Claims (4)
- 【請求項１】複数のチャンバを有するスパッタリング装
置を用いて、同一層の薄膜を２つ以上のチャンバで連続
して成膜する光記録媒体の製造方法であって、該２つ以
上のチャンバのうち１つのチャンバを用いて膜厚を制御
することを特徴とする光記録媒体の製造方法。 - 【請求項２】膜厚を制御することに用いるチャンバが、
前記連続して成膜する２つ以上のチャンバのうちの最終
チャンバであることを特徴とする請求項１に記載の光記
録媒体の製造方法。 - 【請求項３】スパッタリング装置が枚葉式スパッタリン
グ装置であることを特徴とする請求項１または請求項２
に記載の光記録媒体の製造方法。 - 【請求項４】光記録媒体が相変化型光記録媒体であるこ
とを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載
の光記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14803397A JPH10340487A (ja) | 1997-06-05 | 1997-06-05 | 光記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14803397A JPH10340487A (ja) | 1997-06-05 | 1997-06-05 | 光記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10340487A true JPH10340487A (ja) | 1998-12-22 |
Family
ID=15443621
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14803397A Pending JPH10340487A (ja) | 1997-06-05 | 1997-06-05 | 光記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10340487A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010280987A (ja) * | 2009-06-02 | 2010-12-16 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 蒸着装置及びその制御方法 |
-
1997
- 1997-06-05 JP JP14803397A patent/JPH10340487A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010280987A (ja) * | 2009-06-02 | 2010-12-16 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 蒸着装置及びその制御方法 |
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