JPH0973667A - 光記録媒体の製造方法 - Google Patents
光記録媒体の製造方法Info
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- JPH0973667A JPH0973667A JP25454495A JP25454495A JPH0973667A JP H0973667 A JPH0973667 A JP H0973667A JP 25454495 A JP25454495 A JP 25454495A JP 25454495 A JP25454495 A JP 25454495A JP H0973667 A JPH0973667 A JP H0973667A
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- Japan
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- substrate
- optical recording
- recording medium
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 連続的に製造される光記録媒体の特性のばら
つきを低減し、生産性を向上することのできる光記録媒
体の製造方法を提供する。 【解決手段】 基板上に複数の薄膜層を有する光記録媒
体を連続的に製造するに際し、前記基板上に少なくとも
第１層および第２層の薄膜層を形成した後該基板の分光
反射率を測定し、該分光反射率に基づいて後続の基板に
おける、少なくとも第２層の膜厚を制御することを特徴
とする光記録媒体の製造方法。
つきを低減し、生産性を向上することのできる光記録媒
体の製造方法を提供する。 【解決手段】 基板上に複数の薄膜層を有する光記録媒
体を連続的に製造するに際し、前記基板上に少なくとも
第１層および第２層の薄膜層を形成した後該基板の分光
反射率を測定し、該分光反射率に基づいて後続の基板に
おける、少なくとも第２層の膜厚を制御することを特徴
とする光記録媒体の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体の製造
方法に関し、とくに相変化型光記録媒体に好適な層構成
を有する光記録媒体の製造方法に関する。
方法に関し、とくに相変化型光記録媒体に好適な層構成
を有する光記録媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光記録媒体は、基板上に光学的に記録再
生可能な情報記録部を設け、文書やデータ等のファイル
用ディスクとして用いられている。光記録媒体を高速で
回転させながら、１μｍ程度に絞り込んだレーザ光を照
射し、焦点調整および位置検出を行いながら、記録層か
らデータを読み出したり記録層にデータを記録したりし
ている。
生可能な情報記録部を設け、文書やデータ等のファイル
用ディスクとして用いられている。光記録媒体を高速で
回転させながら、１μｍ程度に絞り込んだレーザ光を照
射し、焦点調整および位置検出を行いながら、記録層か
らデータを読み出したり記録層にデータを記録したりし
ている。
【０００３】この記録層を、レーザ光により結晶とアモ
ルファスとの可逆変化が可能な特定の合金から構成し、
オーバライト記録まで可能とした相変化型光記録媒体は
既に知られている。また、この相変化型光記録媒体にお
いて、基板を透明な材料から構成して、基板側からレー
ザ光を透過させるとともに基板を透過してきた反射光を
検出するようにし、該基板上に、たとえば、第１保護層
／記録層／第２保護層／反射層の層構成を形成した急冷
構造の光記録媒体（例えば特開平６−３４２５２９号公
報）も既に知られている。
ルファスとの可逆変化が可能な特定の合金から構成し、
オーバライト記録まで可能とした相変化型光記録媒体は
既に知られている。また、この相変化型光記録媒体にお
いて、基板を透明な材料から構成して、基板側からレー
ザ光を透過させるとともに基板を透過してきた反射光を
検出するようにし、該基板上に、たとえば、第１保護層
／記録層／第２保護層／反射層の層構成を形成した急冷
構造の光記録媒体（例えば特開平６−３４２５２９号公
報）も既に知られている。
【０００４】このような光記録媒体の記録、再生方法と
しては次のような方法で行われる。すなわち、記録時に
は結晶状態の記録層に集光したレーザパルスを短時間照
射し、記録層を部分的に溶融する。溶融した部分は熱拡
散により急冷され、固化し、非晶状態の記録マークが形
成される。この記録マークの反射率は結晶状態よりも低
いという特徴を利用して光学的に再生するものである。
さらに、消去時には、記録マーク部分にレーザ光を照射
し、記録層の融点以下、結晶化温度以上の温度に加熱す
ることによって非晶状態の記録マークを結晶化し、もと
の未記録状態に戻す。
しては次のような方法で行われる。すなわち、記録時に
は結晶状態の記録層に集光したレーザパルスを短時間照
射し、記録層を部分的に溶融する。溶融した部分は熱拡
散により急冷され、固化し、非晶状態の記録マークが形
成される。この記録マークの反射率は結晶状態よりも低
いという特徴を利用して光学的に再生するものである。
さらに、消去時には、記録マーク部分にレーザ光を照射
し、記録層の融点以下、結晶化温度以上の温度に加熱す
ることによって非晶状態の記録マークを結晶化し、もと
の未記録状態に戻す。
【０００５】このような光記録媒体の特性（たとえば、
感度やＣ／Ｎ：消去率などのパワー依存性）を評価する
ために、従来、基板上に各層を、たとえばスパッタリン
グにより形成した後に、ドライブ装置を用いて電気特性
の測定を行うことによって、光記録媒体の特性評価を行
っていた。
感度やＣ／Ｎ：消去率などのパワー依存性）を評価する
ために、従来、基板上に各層を、たとえばスパッタリン
グにより形成した後に、ドライブ装置を用いて電気特性
の測定を行うことによって、光記録媒体の特性評価を行
っていた。
【０００６】しかし、上述の電気特性を評価するために
は、製造プロセスの必要な工程を通した後にドライブ装
置を用いて検査・評価することが必要であった。たとえ
ば、薄膜成膜後、さらに基板上に形成された薄膜を保護
するために有機樹脂層を設ける塗布工程、基板上に形成
された記録層にレーザ光を照射して記録媒体全面を結晶
化させる初期化工程等を経る必要がある。したがって、
電気特性による評価結果は種々の工程を経た後に初めて
得られるために、所定の特性を発現しないことがわかっ
た後には既に多量の不良品が製造されてしまうという弊
害が想定され、製造工程へのフィードバックが遅いとい
う問題が生じていた。
は、製造プロセスの必要な工程を通した後にドライブ装
置を用いて検査・評価することが必要であった。たとえ
ば、薄膜成膜後、さらに基板上に形成された薄膜を保護
するために有機樹脂層を設ける塗布工程、基板上に形成
された記録層にレーザ光を照射して記録媒体全面を結晶
化させる初期化工程等を経る必要がある。したがって、
電気特性による評価結果は種々の工程を経た後に初めて
得られるために、所定の特性を発現しないことがわかっ
た後には既に多量の不良品が製造されてしまうという弊
害が想定され、製造工程へのフィードバックが遅いとい
う問題が生じていた。
【０００７】このため、かかる問題点を解消すべく先に
本出願人により、スパッタリング後直ちにディスクの色
彩を測定し、該測定に基づき、すなわち測定値をスパッ
タリング工程に適宜フィードバックすることにより、後
続のディスクの第１層（保護層）の膜厚を制御し、第１
層の膜厚変動による特性のばらつきを低減する方法が提
案されている（特開平７−１４１７０３号公報）。
本出願人により、スパッタリング後直ちにディスクの色
彩を測定し、該測定に基づき、すなわち測定値をスパッ
タリング工程に適宜フィードバックすることにより、後
続のディスクの第１層（保護層）の膜厚を制御し、第１
層の膜厚変動による特性のばらつきを低減する方法が提
案されている（特開平７−１４１７０３号公報）。
【０００８】上記提案によれば、スパッタリング工程に
おいてスパッタリング条件を修正することにより、各デ
ィスク間の特性のばらつきを大幅に低減することが可能
となり、生産性を向上することができるが、本発明者ら
は、他層の膜厚も制御することによりさらに一層効果的
に生産性を向上できることを見出し、本発明の完成に至
った。
おいてスパッタリング条件を修正することにより、各デ
ィスク間の特性のばらつきを大幅に低減することが可能
となり、生産性を向上することができるが、本発明者ら
は、他層の膜厚も制御することによりさらに一層効果的
に生産性を向上できることを見出し、本発明の完成に至
った。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、連続
的に製造される光記録媒体の特性のばらつきを大幅に低
減し、生産性をより一層向上することのできる光記録媒
体の製造方法を提供することにある。
的に製造される光記録媒体の特性のばらつきを大幅に低
減し、生産性をより一層向上することのできる光記録媒
体の製造方法を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の光記録媒体の製造方法は、基板上に複数の
薄膜層を有する光記録媒体を連続的に製造するに際し、
前記基板上に少なくとも第１層および第２層の薄膜層を
形成した後該基板の分光反射率を測定し、該分光反射率
または色相、彩度、明度からなる三刺激値に基づいて後
続の基板における、少なくとも第２層の膜厚を制御する
ことを特徴とする方法からなる。
に、本発明の光記録媒体の製造方法は、基板上に複数の
薄膜層を有する光記録媒体を連続的に製造するに際し、
前記基板上に少なくとも第１層および第２層の薄膜層を
形成した後該基板の分光反射率を測定し、該分光反射率
または色相、彩度、明度からなる三刺激値に基づいて後
続の基板における、少なくとも第２層の膜厚を制御する
ことを特徴とする方法からなる。
【００１１】また、上記分光反射率または色相、彩度、
明度からなる三刺激値に基づいて後続の基板における第
１層および第２層の膜厚を制御すれば、一層効果的に特
性のばらつきを低減できる。
明度からなる三刺激値に基づいて後続の基板における第
１層および第２層の膜厚を制御すれば、一層効果的に特
性のばらつきを低減できる。
【００１２】また、上記課題を解決するために、もう一
つの本発明の光記録媒体の製造方法は、基板上に複数の
薄膜層を有する光記録媒体を連続的に製造するに際し、
前記基板上に第１層の薄膜層を形成した後該基板の分光
反射率を測定し、続いて第２層の薄膜層を形成した後該
基板の分光反射率を測定し、両分光反射率または色相、
彩度、明度からなる三刺激値に基づいて後続の基板にお
ける第１層および第２層の膜厚を制御することを特徴と
する方法からなる。
つの本発明の光記録媒体の製造方法は、基板上に複数の
薄膜層を有する光記録媒体を連続的に製造するに際し、
前記基板上に第１層の薄膜層を形成した後該基板の分光
反射率を測定し、続いて第２層の薄膜層を形成した後該
基板の分光反射率を測定し、両分光反射率または色相、
彩度、明度からなる三刺激値に基づいて後続の基板にお
ける第１層および第２層の膜厚を制御することを特徴と
する方法からなる。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明の製造方法においては、分
光反射率またはそれから計算される色相、彩度、明度か
らなる三刺激値のいずれかを用いて膜厚を制御する。こ
こで分光反射率とは、波長の異なる複数の光を成膜面の
反対側から照射し基板からの反射光を測定し、波長に対
する反射率の曲線として得られるものである。また、色
相、彩度、明度からなる三刺激値とは波長に対する分光
反射率から計算される色に関する評価基準をいう。その
測定原理を以下に示す。
光反射率またはそれから計算される色相、彩度、明度か
らなる三刺激値のいずれかを用いて膜厚を制御する。こ
こで分光反射率とは、波長の異なる複数の光を成膜面の
反対側から照射し基板からの反射光を測定し、波長に対
する反射率の曲線として得られるものである。また、色
相、彩度、明度からなる三刺激値とは波長に対する分光
反射率から計算される色に関する評価基準をいう。その
測定原理を以下に示す。
【００１４】人間の目の分光感度（国際照明委員会（Ｃ
ＩＥ）１９３１）等色関数である可視領域に相当する等
色関数ｘ２λ（Ｘの長波長側ピーク）、ｙλ、ｚλの感
度をもつセンサにより測定試料からの反射光を測定する
とともにｘ２λ、ｙλ、ｚλの感度をもつセンサで照明
光源を直接測定して、試料の三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを算出
し各種の色度を演算する。三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚは色相、
彩度、明度の３つの独立関数に基づくものであり、これ
らから各種色度（表色系色度）を算出する。表色系色度
はＣＩＥに基づきＸＹＺ表色系（ＪＩＳ Ｚ８７１）や
Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊表色系（ＪＩＳ Ｚ７２９）やＵＣＳ
（ＪＩＳ Ｚ８７２９）などがある。
ＩＥ）１９３１）等色関数である可視領域に相当する等
色関数ｘ２λ（Ｘの長波長側ピーク）、ｙλ、ｚλの感
度をもつセンサにより測定試料からの反射光を測定する
とともにｘ２λ、ｙλ、ｚλの感度をもつセンサで照明
光源を直接測定して、試料の三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを算出
し各種の色度を演算する。三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚは色相、
彩度、明度の３つの独立関数に基づくものであり、これ
らから各種色度（表色系色度）を算出する。表色系色度
はＣＩＥに基づきＸＹＺ表色系（ＪＩＳ Ｚ８７１）や
Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊表色系（ＪＩＳ Ｚ７２９）やＵＣＳ
（ＪＩＳ Ｚ８７２９）などがある。
【００１５】また、分光反射率から直接膜厚を求めるに
は、基板に白色光（たとえば波長が４００〜５００ｎｍ
あるいは７００〜９００ｎｍといった範囲を含む可視・
赤外・紫外光など）を照射して分光反射率をもとめ、２
〜５層を有する多層膜の分光反射率のふるまいを記述す
る。分光反射率の式において、各膜厚を未知数とする非
線型の最小２乗法等のカーブフィッティングを行うこと
によっても、各層の膜厚を求めることができる。
は、基板に白色光（たとえば波長が４００〜５００ｎｍ
あるいは７００〜９００ｎｍといった範囲を含む可視・
赤外・紫外光など）を照射して分光反射率をもとめ、２
〜５層を有する多層膜の分光反射率のふるまいを記述す
る。分光反射率の式において、各膜厚を未知数とする非
線型の最小２乗法等のカーブフィッティングを行うこと
によっても、各層の膜厚を求めることができる。
【００１６】本発明の光記録媒体の製造方法は、基板上
に少なくとも第１層および第２層の薄膜層を形成した後
上述したように該基板の分光反射率を測定し、該分光反
射率または色相、彩度、明度からなる三刺激値に基づい
て、後続の基板における第２層、または第１層と第２層
の膜厚を制御するものである。つまり、少なくとも第１
層、第２層と順次成膜した時点で基板の分光反射率を測
定し、該分光反射率の測定結果を、成膜工程（スパッタ
リング工程）に随時フィードバックすることにより、後
続の基板に対する第２層または第１層と第２層の成膜条
件（たとえば、スパッタ電圧、スパッタ時間、ガス圧
等）を修正し、分光反射率が予め定められた設定値にな
るよう膜厚を制御するものである。このような制御を行
ないながら光記録媒体を製造することにより、連続的な
製造工程において、一定レベル以上の品質を確保できる
とともに不良品の発生を抑制できるので、生産性が向上
する。なお、膜厚を制御する方法としては、スパッタ時
間またはスパッタ電圧を制御する方法が最も精度良く制
御できるために好ましく用いることができる。
に少なくとも第１層および第２層の薄膜層を形成した後
上述したように該基板の分光反射率を測定し、該分光反
射率または色相、彩度、明度からなる三刺激値に基づい
て、後続の基板における第２層、または第１層と第２層
の膜厚を制御するものである。つまり、少なくとも第１
層、第２層と順次成膜した時点で基板の分光反射率を測
定し、該分光反射率の測定結果を、成膜工程（スパッタ
リング工程）に随時フィードバックすることにより、後
続の基板に対する第２層または第１層と第２層の成膜条
件（たとえば、スパッタ電圧、スパッタ時間、ガス圧
等）を修正し、分光反射率が予め定められた設定値にな
るよう膜厚を制御するものである。このような制御を行
ないながら光記録媒体を製造することにより、連続的な
製造工程において、一定レベル以上の品質を確保できる
とともに不良品の発生を抑制できるので、生産性が向上
する。なお、膜厚を制御する方法としては、スパッタ時
間またはスパッタ電圧を制御する方法が最も精度良く制
御できるために好ましく用いることができる。
【００１７】また、第１層成膜後の基板の分光反射率を
測定し、続いて第２層成膜後の基板の分光反射率を測定
し、上記両分光反射率または色相、彩度、明度からなる
三刺激値に基づき後続の基板における第１層、第２層の
膜厚を制御するようにすれば、後続基板の各層の膜厚
を、より精細に最適範囲に制御できるから、さらに光記
録媒体間の特性のばらつきを小さく抑えることが可能と
なる。
測定し、続いて第２層成膜後の基板の分光反射率を測定
し、上記両分光反射率または色相、彩度、明度からなる
三刺激値に基づき後続の基板における第１層、第２層の
膜厚を制御するようにすれば、後続基板の各層の膜厚
を、より精細に最適範囲に制御できるから、さらに光記
録媒体間の特性のばらつきを小さく抑えることが可能と
なる。
【００１８】本発明に係る光記録媒体においては、基板
上に形成される薄膜層は、複数の積層構造に構成されて
おり、たとえば、基板上に、第１層（第１保護層）／第
２層（記録層）／第３層（第２保護層）／第４層（反射
層）または第１層（第１保護層）／第２層（記録層）／
第３層（第２保護層）／第４層（光吸収層）／第５層
（反射層）の積層構成とされる。
上に形成される薄膜層は、複数の積層構造に構成されて
おり、たとえば、基板上に、第１層（第１保護層）／第
２層（記録層）／第３層（第２保護層）／第４層（反射
層）または第１層（第１保護層）／第２層（記録層）／
第３層（第２保護層）／第４層（光吸収層）／第５層
（反射層）の積層構成とされる。
【００１９】記録層には、とくに相変化型光記録媒体の
記録層には、たとえば、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｐｄ合金、
Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｐｄ−Ｎｂ合金、Ｎｂ−Ｇｅ−Ｓｂ
−Ｔｅ合金、Ｐｔ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｎｉ−Ｇｅ
−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｃｏ−Ｇｅ
−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｉｎ−Ｓｅ
合金、およびこれらを主成分とする合金が用いられる。
とくにＴｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｐｄ合金、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ
−Ｐｄ−Ｎｂ合金が、記録消去再生を繰り返しても劣化
が起こり難く、さらに熱安定性が優れているので好まし
い。
記録層には、たとえば、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｐｄ合金、
Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｐｄ−Ｎｂ合金、Ｎｂ−Ｇｅ−Ｓｂ
−Ｔｅ合金、Ｐｔ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｎｉ−Ｇｅ
−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｃｏ−Ｇｅ
−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｉｎ−Ｓｅ
合金、およびこれらを主成分とする合金が用いられる。
とくにＴｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｐｄ合金、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ
−Ｐｄ−Ｎｂ合金が、記録消去再生を繰り返しても劣化
が起こり難く、さらに熱安定性が優れているので好まし
い。
【００２０】また、上記組成は次式で表される範囲にあ
ることが熱安定性と繰り返し安定性に優れている点から
好ましい。 Ｍz （Ｓｂx Ｔｅ(1-x) ）1-y-z （Ｇｅ0.5 Ｔｅ0.5 ）y ０．３５≦ｘ≦０．５ ０．２０≦ｙ≦０．５ ０ ≦ｚ≦０．０５ ここでＭはパラジウム、ニオブ、白金、銀、金、コバル
トから選ばれる少なくとも一種の金属、Ｓｂはアンチモ
ン、Ｔｅはテルル、Ｇｅはゲルマニウムを表す。また、
ｘ、ｙ、ｚおよび数字は各元素の原子の数（各元素のモ
ル数）を表す。とくにパラジウム、ニオブについては少
なくとも一種を含むことが好ましい。
ることが熱安定性と繰り返し安定性に優れている点から
好ましい。 Ｍz （Ｓｂx Ｔｅ(1-x) ）1-y-z （Ｇｅ0.5 Ｔｅ0.5 ）y ０．３５≦ｘ≦０．５ ０．２０≦ｙ≦０．５ ０ ≦ｚ≦０．０５ ここでＭはパラジウム、ニオブ、白金、銀、金、コバル
トから選ばれる少なくとも一種の金属、Ｓｂはアンチモ
ン、Ｔｅはテルル、Ｇｅはゲルマニウムを表す。また、
ｘ、ｙ、ｚおよび数字は各元素の原子の数（各元素のモ
ル数）を表す。とくにパラジウム、ニオブについては少
なくとも一種を含むことが好ましい。
【００２１】第１保護層および第２保護層は、記録層を
機械的に保護するとともに、基板や記録層が記録による
熱によって変形したり記録消去再生特性が劣化したりす
るのを防止したり、記録層に耐湿熱性や耐酸化性を持た
せる役割を果たす。このような保護層としてはＺｎＳ、
ＳｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ5 、ＩＴＯ、ＺｒＣ、ＴｉＣ、Ｍｇ
Ｆ2 などの無機膜やそれらの混合膜が使用できる。とく
にＺｎＳとＳｉＯ2 およびＺｎＳとＭｇＦ2 の混合膜は
耐湿熱性に優れており、さらに記録消去再生時の記録層
の劣化を抑制するので好ましい。
機械的に保護するとともに、基板や記録層が記録による
熱によって変形したり記録消去再生特性が劣化したりす
るのを防止したり、記録層に耐湿熱性や耐酸化性を持た
せる役割を果たす。このような保護層としてはＺｎＳ、
ＳｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ5 、ＩＴＯ、ＺｒＣ、ＴｉＣ、Ｍｇ
Ｆ2 などの無機膜やそれらの混合膜が使用できる。とく
にＺｎＳとＳｉＯ2 およびＺｎＳとＭｇＦ2 の混合膜は
耐湿熱性に優れており、さらに記録消去再生時の記録層
の劣化を抑制するので好ましい。
【００２２】反射層としては、金属または、金属酸化
物、金属窒化物、金属炭化物などと金属との混合物、例
えばＺｒ、Ｈｒ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ａｌ、Ａｕ、Ｐ
ｄ、Ｈｆなどの金属やこれらの合金、これらとＺｒ酸化
物、Ｓｉ酸化物、Ｓｉ窒化物、Ａｌ酸化物などを混合し
たものを使用できる。特にＡｌ、Ａｕ、Ｔａやそれらの
合金やＡｌ、Ｈｆ、Ｐｄの合金などは膜の形成が容易で
あり好ましい。
物、金属窒化物、金属炭化物などと金属との混合物、例
えばＺｒ、Ｈｒ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ａｌ、Ａｕ、Ｐ
ｄ、Ｈｆなどの金属やこれらの合金、これらとＺｒ酸化
物、Ｓｉ酸化物、Ｓｉ窒化物、Ａｌ酸化物などを混合し
たものを使用できる。特にＡｌ、Ａｕ、Ｔａやそれらの
合金やＡｌ、Ｈｆ、Ｐｄの合金などは膜の形成が容易で
あり好ましい。
【００２３】基板上に、各薄膜を形成する方法として
は、真空雰囲気中での薄膜形成方法、たとえばスパッタ
リング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法などを
用いることができる。特に組成、膜厚のコントロールが
容易なことからスパッタリング法が好ましい。
は、真空雰囲気中での薄膜形成方法、たとえばスパッタ
リング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法などを
用いることができる。特に組成、膜厚のコントロールが
容易なことからスパッタリング法が好ましい。
【００２４】上記スパッタリングを行う工程は、たとえ
ば、１つのトレーに複数枚（たとえば１２枚程度）の基
板がセットされ、各トレーが、各層毎のスパッタリング
を行うスパッタ室を順次移動し、各層が順次成膜される
ような工程または１つのスパッタ室に複数のターゲット
を設置し、順次ターゲットを放電してスパッタする工程
が考えられる。
ば、１つのトレーに複数枚（たとえば１２枚程度）の基
板がセットされ、各トレーが、各層毎のスパッタリング
を行うスパッタ室を順次移動し、各層が順次成膜される
ような工程または１つのスパッタ室に複数のターゲット
を設置し、順次ターゲットを放電してスパッタする工程
が考えられる。
【００２５】基板としては、基板側から記録再生を行う
ためにはレーザ光が良好に透過する材料を用いることが
好ましく、たとえばポリメチルメタアクリレート樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、エポキシ
樹脂などの有機高分子樹脂、それらの混合物、共重合体
物などやガラスなどを用いることができる。中でも、昨
今はポリカーボネート樹脂が主流となっている。
ためにはレーザ光が良好に透過する材料を用いることが
好ましく、たとえばポリメチルメタアクリレート樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、エポキシ
樹脂などの有機高分子樹脂、それらの混合物、共重合体
物などやガラスなどを用いることができる。中でも、昨
今はポリカーボネート樹脂が主流となっている。
【００２６】基板は、円盤体に成形されるものである。
成形方法は特に限定しないが、たとえば射出成形による
ことができ、金型内に、表面に所定のグルーブやピット
雄型が形成されたスタンパを装着し、スタンパからの転
写により、表面に所望のトラックが形成された基板を形
成できる。
成形方法は特に限定しないが、たとえば射出成形による
ことができ、金型内に、表面に所定のグルーブやピット
雄型が形成されたスタンパを装着し、スタンパからの転
写により、表面に所望のトラックが形成された基板を形
成できる。
【００２７】基板の大きさは、光記録媒体ドライブ装置
からの要求規格に合わせる必要がある。たとえば、直径
９０ｍｍや１２０ｍｍの基板に成形することなどが規定
される。
からの要求規格に合わせる必要がある。たとえば、直径
９０ｍｍや１２０ｍｍの基板に成形することなどが規定
される。
【００２８】このような基板上に、順に、少なくとも第
１層および第２層が積層される。薄膜の上に、さらに有
機樹脂保護層を設けてもよい。有機樹脂保護層として
は、重合性モノマーおよびオリゴマーを主成分とする光
硬化性樹脂組成物や、熱硬化性樹脂組成物を用いること
ができる。また、同様なものを光の入射面側の基板上
に、耐摩耗性、耐刷性向上などの基板保護の目的や、ホ
コリ付着防止のための制電性付与の目的で設けてもよ
い。
１層および第２層が積層される。薄膜の上に、さらに有
機樹脂保護層を設けてもよい。有機樹脂保護層として
は、重合性モノマーおよびオリゴマーを主成分とする光
硬化性樹脂組成物や、熱硬化性樹脂組成物を用いること
ができる。また、同様なものを光の入射面側の基板上
に、耐摩耗性、耐刷性向上などの基板保護の目的や、ホ
コリ付着防止のための制電性付与の目的で設けてもよ
い。
【００２９】上記のような構成を有する光記録媒体にお
いて、本発明では、少なくとも第１層および第２層が成
膜された段階で分光反射率が測定される。この測定結果
を、後続の光記録媒体の成膜条件にフィードバックする
ことにより、製造プロセス全部を通した後の検査や測定
情報をフィードバックする場合に比べ、迅速なフィード
バックが効き、不良品発生率を最小に抑えることができ
る。
いて、本発明では、少なくとも第１層および第２層が成
膜された段階で分光反射率が測定される。この測定結果
を、後続の光記録媒体の成膜条件にフィードバックする
ことにより、製造プロセス全部を通した後の検査や測定
情報をフィードバックする場合に比べ、迅速なフィード
バックが効き、不良品発生率を最小に抑えることができ
る。
【００３０】また、第２層までの測定情報が入っている
から、第１層および第２層の膜厚制御にフィードバック
でき、より高品質の製品を生産性よく製造することが可
能となる。
から、第１層および第２層の膜厚制御にフィードバック
でき、より高品質の製品を生産性よく製造することが可
能となる。
【００３１】［特性の測定方法］以下に、本発明および
実施例の説明に用いた各特性の測定方法について説明す
る。 （１）外周感度 線速度１４ｍ／ｓで、対物レンズの開口数０．５、半導
体レーザの波長７８０ｎｍの光学ヘッドを使用して、ピ
ークパワー８〜１７ｍＷ、バイアスパワー４〜９ｍＷの
各条件に変調した半導体レーザ光で１００回オーバーラ
イト記録した後、再生パワー１．０ｍＷの半導体レーザ
光を照射してディスク外周部分（半径３８ｍｍ）のキャ
リア対ノイズ比（Ｃ／Ｎ）を測定した。ピークパワーに
対するＣ／Ｎ曲線からＣ／Ｎの値が４５ｄＢになる時の
ピークパワーの値を感度として求めた。
実施例の説明に用いた各特性の測定方法について説明す
る。 （１）外周感度 線速度１４ｍ／ｓで、対物レンズの開口数０．５、半導
体レーザの波長７８０ｎｍの光学ヘッドを使用して、ピ
ークパワー８〜１７ｍＷ、バイアスパワー４〜９ｍＷの
各条件に変調した半導体レーザ光で１００回オーバーラ
イト記録した後、再生パワー１．０ｍＷの半導体レーザ
光を照射してディスク外周部分（半径３８ｍｍ）のキャ
リア対ノイズ比（Ｃ／Ｎ）を測定した。ピークパワーに
対するＣ／Ｎ曲線からＣ／Ｎの値が４５ｄＢになる時の
ピークパワーの値を感度として求めた。
【００３２】
【実施例】ポリカーボネート樹脂からなる直径９０ｍｍ
の透明基板上に、以下に示す構成の薄膜を表１に示す膜
厚になるようにスパッタリング装置を用いて作製した。
なお、各層の膜厚を水晶発振子モニター計によりモニタ
ーしながら成膜した。このディスクのスパッタ面上にス
ピンコート法によってアクリル酸エステル系紫外線硬化
樹脂を８μｍ厚で形成し、光記録媒体を得た。 第１層 第１保護層： ＺｎＳ（７０．６）−ＳｉＯ2 （２６．４） （ｍｏｌ％） 第２層 記録層 ： Ｔｅ（５５．００）−Ｇｅ（１９．０）−Ｓｂ （２５．４）−Ｐｄ（０．０８）−Ｎｂ（０．５） （ａｔｍ％） 第３層 第２保護層： ＺｎＳ（７０．６）−ＳｉＯ2 （２６．４） （ｍｏｌ％） 第４層 反射層 ： Ａｌ（９８．３）−Ｈｆ（１．４）−Ｐｄ（０． ２） （ａｔｍ％）
の透明基板上に、以下に示す構成の薄膜を表１に示す膜
厚になるようにスパッタリング装置を用いて作製した。
なお、各層の膜厚を水晶発振子モニター計によりモニタ
ーしながら成膜した。このディスクのスパッタ面上にス
ピンコート法によってアクリル酸エステル系紫外線硬化
樹脂を８μｍ厚で形成し、光記録媒体を得た。 第１層 第１保護層： ＺｎＳ（７０．６）−ＳｉＯ2 （２６．４） （ｍｏｌ％） 第２層 記録層 ： Ｔｅ（５５．００）−Ｇｅ（１９．０）−Ｓｂ （２５．４）−Ｐｄ（０．０８）−Ｎｂ（０．５） （ａｔｍ％） 第３層 第２保護層： ＺｎＳ（７０．６）−ＳｉＯ2 （２６．４） （ｍｏｌ％） 第４層 反射層 ： Ａｌ（９８．３）−Ｈｆ（１．４）−Ｐｄ（０． ２） （ａｔｍ％）
【００３３】
【表１】
【００３４】得られた光記録媒体を反射物体ＣＩＥ表色
系デジタル色彩色差計ＣＲ−３００（ミノルタ（株）
製）を用いて測定した各波長に対する反射率（分光反射
率）およびＬ＊、ａ＊、ｂ＊値を、図１、図２および表
１に示す。図１および図２から分光反射率は第１層膜厚
のみではなく第２層膜厚によっても変化する。また、表
１の結果から第２層膜厚に対するＬ＊（Ｎｏ．２、４、
５）を図３に、第１層膜厚に対するｂ＊／ａ＊（Ｎｏ．
１、２、３）を図４にプロットしたが、これらの物性値
は膜厚に対してリニアに変化する。なお、Ｌ＊とｂ＊／
ａ＊はともに厳密には第１層および第２層の膜厚に依存
するため、両方の値が所定の膜厚の値になるように両層
の膜厚を制御することが必要である。したがって、標準
とする反射率曲線からのずれまたは標準とする色度から
のずれを第１層および／または第２層膜厚を変化させる
ことによって補正することができる。
系デジタル色彩色差計ＣＲ−３００（ミノルタ（株）
製）を用いて測定した各波長に対する反射率（分光反射
率）およびＬ＊、ａ＊、ｂ＊値を、図１、図２および表
１に示す。図１および図２から分光反射率は第１層膜厚
のみではなく第２層膜厚によっても変化する。また、表
１の結果から第２層膜厚に対するＬ＊（Ｎｏ．２、４、
５）を図３に、第１層膜厚に対するｂ＊／ａ＊（Ｎｏ．
１、２、３）を図４にプロットしたが、これらの物性値
は膜厚に対してリニアに変化する。なお、Ｌ＊とｂ＊／
ａ＊はともに厳密には第１層および第２層の膜厚に依存
するため、両方の値が所定の膜厚の値になるように両層
の膜厚を制御することが必要である。したがって、標準
とする反射率曲線からのずれまたは標準とする色度から
のずれを第１層および／または第２層膜厚を変化させる
ことによって補正することができる。
【００３５】実施例１ 自公転式スパッタ装置（１トレー当たり１２枚ディス
ク）を用いてディスクＮｏ．２の膜厚構成のディスクを
作製し、トレーごとに１枚ディスクを抜き取り反射率曲
線を測定してスパッタ時間を調整変更することにより、
第１層および第２層の膜厚を補正しながら３０トレー分
（計３６０枚）成膜し、光記録媒体を得た。さらに、こ
の光記録媒体に波長８２０ｎｍの半導体レーザーのビー
ムを照射してディスク全面の記録層を結晶化し、初期化
した。そして、１つのトレー（１２枚）中からディスク
を１枚無作為に取り出し外周感度を測定した。
ク）を用いてディスクＮｏ．２の膜厚構成のディスクを
作製し、トレーごとに１枚ディスクを抜き取り反射率曲
線を測定してスパッタ時間を調整変更することにより、
第１層および第２層の膜厚を補正しながら３０トレー分
（計３６０枚）成膜し、光記録媒体を得た。さらに、こ
の光記録媒体に波長８２０ｎｍの半導体レーザーのビー
ムを照射してディスク全面の記録層を結晶化し、初期化
した。そして、１つのトレー（１２枚）中からディスク
を１枚無作為に取り出し外周感度を測定した。
【００３６】比較例１〜２ 全く膜厚補正をしなかった場合（比較例１）、および第
１層膜厚のみ補正した場合（比較例２）についても実施
例１と同様の方法で外周感度を測定した。
１層膜厚のみ補正した場合（比較例２）についても実施
例１と同様の方法で外周感度を測定した。
【００３７】図５にトレー番号に対して外周感度をプロ
ットした。第１層および第２層の膜厚を制御しない場合
（比較例１）には、ターゲットの消費とともにスパッタ
レートが変動するために当初の設定膜厚から次第にず
れ、徐々に外周感度が低下する。第１層の膜厚を制御す
ることによって外周感度の低下を抑制できる（比較例
２）が、さらに第２層目まで制御することによって外周
感度の低下を抑制でき、トレー間での感度のばらつきが
大きく減少することがわかる（実施例１）。
ットした。第１層および第２層の膜厚を制御しない場合
（比較例１）には、ターゲットの消費とともにスパッタ
レートが変動するために当初の設定膜厚から次第にず
れ、徐々に外周感度が低下する。第１層の膜厚を制御す
ることによって外周感度の低下を抑制できる（比較例
２）が、さらに第２層目まで制御することによって外周
感度の低下を抑制でき、トレー間での感度のばらつきが
大きく減少することがわかる（実施例１）。
【００３８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の光記録媒
体の製造方法によるときは、基板上に第１層、第２層の
薄膜層を形成した後、該基板の分光反射率に基づいて後
続の基板の少なくとも第２層の膜厚が制御されるので、
各トレー間の特性のばらついが低減され、生産性を向上
できる。
体の製造方法によるときは、基板上に第１層、第２層の
薄膜層を形成した後、該基板の分光反射率に基づいて後
続の基板の少なくとも第２層の膜厚が制御されるので、
各トレー間の特性のばらついが低減され、生産性を向上
できる。
【図１】第１層膜厚と分光反射率との関係図である。
【図２】第２層膜厚と分光反射率との関係図である。
【図３】第２層膜厚とＬ＊との関係図である。
【図４】第１層膜厚とｂ＊／ａ＊との関係図である。
【図５】実施例１、比較例１〜２の各トレーと外周感度
との関係図である。
との関係図である。
Claims (4)
- 【請求項１】 基板上に複数の薄膜層を有する光記録媒
体を連続的に製造するに際し、前記基板上に少なくとも
第１層および第２層の薄膜層を形成した後該基板の分光
反射率を測定し、該分光反射率または色相、彩度、明度
からなる三刺激値に基づいて後続の基板における、少な
くとも第２層の膜厚を制御することを特徴とする光記録
媒体の製造方法。 - 【請求項２】 前記分光反射率または色相、彩度、明度
からなる三刺激値に基づいて後続の基板における第１層
および第２層の膜厚を制御する、請求項１の光記録媒体
の製造方法。 - 【請求項３】 基板上に複数の薄膜層を有する光記録媒
体を連続的に製造するに際し、前記基板上に第１層の薄
膜層を形成した後該基板の分光反射率を測定し、続いて
第２層の薄膜層を形成した後該基板の分光反射率を測定
し、両分光反射率または色相、彩度、明度からなる三刺
激値に基づいて後続の基板における第１層および第２層
の膜厚を制御することを特徴とする光記録媒体の製造方
法。 - 【請求項４】 前記第１層が保護層であり、前記第２層
が記録層である、請求項１ないし３のいずれかに記載の
光記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25454495A JPH0973667A (ja) | 1995-09-05 | 1995-09-05 | 光記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25454495A JPH0973667A (ja) | 1995-09-05 | 1995-09-05 | 光記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0973667A true JPH0973667A (ja) | 1997-03-18 |
Family
ID=17266521
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25454495A Pending JPH0973667A (ja) | 1995-09-05 | 1995-09-05 | 光記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0973667A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1760423A1 (en) | 2005-09-06 | 2007-03-07 | Ricoh Company, Ltd. | Method of inspecting optical recording medium |
| WO2010013429A1 (ja) * | 2008-07-30 | 2010-02-04 | 株式会社ニレコ | 膜厚測定装置及び膜厚測定方法 |
-
1995
- 1995-09-05 JP JP25454495A patent/JPH0973667A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1760423A1 (en) | 2005-09-06 | 2007-03-07 | Ricoh Company, Ltd. | Method of inspecting optical recording medium |
| WO2010013429A1 (ja) * | 2008-07-30 | 2010-02-04 | 株式会社ニレコ | 膜厚測定装置及び膜厚測定方法 |
| JP4482618B2 (ja) * | 2008-07-30 | 2010-06-16 | 株式会社ニレコ | 膜厚測定装置及び膜厚測定方法 |
| JPWO2010013429A1 (ja) * | 2008-07-30 | 2012-01-05 | 株式会社ニレコ | 膜厚測定装置及び膜厚測定方法 |
| US8339617B2 (en) | 2008-07-30 | 2012-12-25 | Nireco Corporation | Film thickness measuring device and film thickness measuring method |
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