JPH1021580A - 光記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
光記録媒体およびその製造方法Info
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- JPH1021580A JPH1021580A JP8191453A JP19145396A JPH1021580A JP H1021580 A JPH1021580 A JP H1021580A JP 8191453 A JP8191453 A JP 8191453A JP 19145396 A JP19145396 A JP 19145396A JP H1021580 A JPH1021580 A JP H1021580A
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- JP
- Japan
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- layer
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- optical recording
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 光記録媒体の内周部側と外周部側における感
度差、繰り返し特性差を大幅に低減し、優れた電気特性
を有する光記録媒体およびその製造方法を提供する。 【解決手段】 基板上に少なくとも記録層を有する光記
録媒体において、記録層の膜厚に基板径方向の分布をも
たせたことを特徴とする光記録媒体およびその製造方
法。
度差、繰り返し特性差を大幅に低減し、優れた電気特性
を有する光記録媒体およびその製造方法を提供する。 【解決手段】 基板上に少なくとも記録層を有する光記
録媒体において、記録層の膜厚に基板径方向の分布をも
たせたことを特徴とする光記録媒体およびその製造方
法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体および
その製造方法に関し、とくに相変化型光記録媒体に好適
な層構成を有する光記録媒体およびその製造方法に関す
る。
その製造方法に関し、とくに相変化型光記録媒体に好適
な層構成を有する光記録媒体およびその製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】光記録媒体は、基板上に光学的に記録再
生可能な情報記録部を設け、文書やデータ等のファイル
用ディスクとして用いられている。光記録媒体を高速で
回転させながら、１μｍ程度に絞り込んだレーザ光を照
射し、焦点調整および位置検出を行いながら、記録層か
らデータを読み出したり記録層にデータを記録したりし
ている。
生可能な情報記録部を設け、文書やデータ等のファイル
用ディスクとして用いられている。光記録媒体を高速で
回転させながら、１μｍ程度に絞り込んだレーザ光を照
射し、焦点調整および位置検出を行いながら、記録層か
らデータを読み出したり記録層にデータを記録したりし
ている。
【０００３】この記録層を、レーザ光により結晶とアモ
ルファスとの可逆変化が可能な特定の合金から構成し、
オーバライト記録まで可能とした相変化型光記録媒体は
既に知られている。また、この相変化型光記録媒体にお
いて、基板を透明な材料から構成して、基板側からレー
ザ光を透過させるとともに基板を透過してきた反射光を
検出するようにし、該基板上に、少なくとも第１保護層
／記録層／第２保護層／反射層の層構成を形成した急冷
構造の光記録媒体（例えば特開平６−３４２５２９号公
報）も既に知られている。
ルファスとの可逆変化が可能な特定の合金から構成し、
オーバライト記録まで可能とした相変化型光記録媒体は
既に知られている。また、この相変化型光記録媒体にお
いて、基板を透明な材料から構成して、基板側からレー
ザ光を透過させるとともに基板を透過してきた反射光を
検出するようにし、該基板上に、少なくとも第１保護層
／記録層／第２保護層／反射層の層構成を形成した急冷
構造の光記録媒体（例えば特開平６−３４２５２９号公
報）も既に知られている。
【０００４】このような光記録媒体の記録、再生は次の
ような方法で行われる。すなわち、記録時には結晶状態
の記録層に集光したレーザパルスを短時間照射し、記録
層を部分的に溶融する。溶融した部分は熱拡散により急
冷され、固化し、非晶状態の記録マークが形成される。
この記録マークの反射率が結晶状態と異なるという特徴
を利用して光学的に再生するものである。さらに、消去
時には、記録マーク部分にレーザ光を照射し、記録層の
融点以下、結晶化温度以上の温度に加熱することによっ
て非晶状態の記録マークを結晶化し、もとの未記録状態
に戻す。
ような方法で行われる。すなわち、記録時には結晶状態
の記録層に集光したレーザパルスを短時間照射し、記録
層を部分的に溶融する。溶融した部分は熱拡散により急
冷され、固化し、非晶状態の記録マークが形成される。
この記録マークの反射率が結晶状態と異なるという特徴
を利用して光学的に再生するものである。さらに、消去
時には、記録マーク部分にレーザ光を照射し、記録層の
融点以下、結晶化温度以上の温度に加熱することによっ
て非晶状態の記録マークを結晶化し、もとの未記録状態
に戻す。
【０００５】上記記録層は、０．５〜１．５μｍ程度の
ピッチで円周状の溝を多数有する基板上に形成されてお
り、光記録媒体を高速で回転させながら、該溝部にレー
ザ光を照射することによって情報の記録が行われ、該溝
部からの反射光によって情報の読み出しが行われるよう
になっている。
ピッチで円周状の溝を多数有する基板上に形成されてお
り、光記録媒体を高速で回転させながら、該溝部にレー
ザ光を照射することによって情報の記録が行われ、該溝
部からの反射光によって情報の読み出しが行われるよう
になっている。
【０００６】また、光記録媒体には、使用するドライブ
側の要求として、安価で特性が安定し、長寿命な低パワ
ーのレーザ光を用いて正確にかつ高速で情報の記録や再
生を行うことが求められており、極めて高い感度が要求
される。また、光記録媒体は、とくに相変化型光記録媒
体は、繰り返し情報の記録、消去、再生が行われるもの
であるから、多数回繰り返し使用しても所定の性能が維
持される特性、つまり優れた繰り返し特性が要求され
る。
側の要求として、安価で特性が安定し、長寿命な低パワ
ーのレーザ光を用いて正確にかつ高速で情報の記録や再
生を行うことが求められており、極めて高い感度が要求
される。また、光記録媒体は、とくに相変化型光記録媒
体は、繰り返し情報の記録、消去、再生が行われるもの
であるから、多数回繰り返し使用しても所定の性能が維
持される特性、つまり優れた繰り返し特性が要求され
る。
【０００７】また、上記光記録媒体への情報の記録、消
去、再生に際しては、上述の如く光記録媒体を高速で回
転させる必要があるが、該回転方式としては角速度一定
方式（ＣＡＶ方式）と線速度一定方式（ＣＬＶ方式）の
２つの方式がある。
去、再生に際しては、上述の如く光記録媒体を高速で回
転させる必要があるが、該回転方式としては角速度一定
方式（ＣＡＶ方式）と線速度一定方式（ＣＬＶ方式）の
２つの方式がある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、光記録
媒体は円盤状であるから、ＣＡＶ方式を採用した場合、
光記録媒体の外周部側では線速度が速く、内周部側では
線速度が遅くなる。このため、光記録媒体の外周部側と
内周部側とで記録特性の差を生じるおそれがある。かか
る問題点を解消すべく、ドライブ側のレーザ光のパワー
あるいはパルス幅を、光記録媒体の外周部側と内周部側
とで変化させることが一般的であるが、光記録媒体の外
周部側と内周部側との特性差が大きいとドライブ設計が
複雑になり、コスト面で不利である。
媒体は円盤状であるから、ＣＡＶ方式を採用した場合、
光記録媒体の外周部側では線速度が速く、内周部側では
線速度が遅くなる。このため、光記録媒体の外周部側と
内周部側とで記録特性の差を生じるおそれがある。かか
る問題点を解消すべく、ドライブ側のレーザ光のパワー
あるいはパルス幅を、光記録媒体の外周部側と内周部側
とで変化させることが一般的であるが、光記録媒体の外
周部側と内周部側との特性差が大きいとドライブ設計が
複雑になり、コスト面で不利である。
【０００９】また、かかる光記録媒体の内、外周部の特
性差をそのままにして、その両方に合うような一定のレ
ーザ光のパワーやパルス幅に設定されている場合、ある
いは、ドライブ側の設計上有利な一定のレーザ光パワー
やパルス幅に設定されている場合、記録特性の許容幅が
狭くなり、光記録媒体の生産にあたり、これらの内、外
周部における特性を、これらドライブ側特性と一致する
ように常にチューニングする必要がある。
性差をそのままにして、その両方に合うような一定のレ
ーザ光のパワーやパルス幅に設定されている場合、ある
いは、ドライブ側の設計上有利な一定のレーザ光パワー
やパルス幅に設定されている場合、記録特性の許容幅が
狭くなり、光記録媒体の生産にあたり、これらの内、外
周部における特性を、これらドライブ側特性と一致する
ように常にチューニングする必要がある。
【００１０】本発明の課題は、光記録媒体の内周部側と
外周部側における感度差、繰り返し特性差を大幅に低減
し、あるいは光記録媒体側の内、外周部の特性をチュー
ニングして、ドライブ側特性との特性差を最小とするよ
うにし、優れた記録特性を有する光記録媒体およびその
製造方法を提供することにある。
外周部側における感度差、繰り返し特性差を大幅に低減
し、あるいは光記録媒体側の内、外周部の特性をチュー
ニングして、ドライブ側特性との特性差を最小とするよ
うにし、優れた記録特性を有する光記録媒体およびその
製造方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の光記録媒体は、基板上に少なくとも記録層
を有する光記録媒体において、記録層の膜厚に基板径方
向の分布をもたせたことを特徴とするものからなる。
に、本発明の光記録媒体は、基板上に少なくとも記録層
を有する光記録媒体において、記録層の膜厚に基板径方
向の分布をもたせたことを特徴とするものからなる。
【００１２】上記記録層の膜厚は基板径方向に単調変化
していることが好ましい。ドライブ側の設計特性に合わ
せて上記記録層の膜厚を、内周部側が厚くなるよう膜厚
分布を生ぜしめることも外周部側が厚くなるよう膜厚分
布を生ぜしめることも可能である。内、外周部の感度差
を少なくする場合には、外周部側よりも内周部側を厚く
することが好ましい。具体的には、上記記録層の膜厚が
基板外周部側よりも内周部側の方が５％以上厚いものが
望ましい。
していることが好ましい。ドライブ側の設計特性に合わ
せて上記記録層の膜厚を、内周部側が厚くなるよう膜厚
分布を生ぜしめることも外周部側が厚くなるよう膜厚分
布を生ぜしめることも可能である。内、外周部の感度差
を少なくする場合には、外周部側よりも内周部側を厚く
することが好ましい。具体的には、上記記録層の膜厚が
基板外周部側よりも内周部側の方が５％以上厚いものが
望ましい。
【００１３】なお、本発明において、内周部、外周部と
は、光記録媒体の記録層を形成した部分の最も内側と最
も外側、たとえば直径１３０ｍｍの基板であれば、半径
３０ｍｍの部分を内周部といい、半径６０ｍｍの部分を
外周部というものとする。
は、光記録媒体の記録層を形成した部分の最も内側と最
も外側、たとえば直径１３０ｍｍの基板であれば、半径
３０ｍｍの部分を内周部といい、半径６０ｍｍの部分を
外周部というものとする。
【００１４】また、上記課題を解決するために、本発明
の光記録媒体の製造方法は、基板上に少なくとも記録層
を成膜する光記録媒体の製造方法において、成膜される
記録層の厚さを基板径方向に変化させることを特徴とす
る方法からなる。
の光記録媒体の製造方法は、基板上に少なくとも記録層
を成膜する光記録媒体の製造方法において、成膜される
記録層の厚さを基板径方向に変化させることを特徴とす
る方法からなる。
【００１５】また、記録層の基板上への成膜をたとえば
スパッタリングで行う場合、ターゲットに台形あるいは
扇形の形状のものを用い、台形のターゲットあるいは扇
形のターゲットを所定方向に向けて配置しスパッタリン
グすれば、あるいはマグネトロンスパッタの場合にはマ
グネットの配置を調整し、磁界分布を所望の分布となる
よう制御すれば成膜される記録層の厚さを容易に基板径
方向に変化させることができる。
スパッタリングで行う場合、ターゲットに台形あるいは
扇形の形状のものを用い、台形のターゲットあるいは扇
形のターゲットを所定方向に向けて配置しスパッタリン
グすれば、あるいはマグネトロンスパッタの場合にはマ
グネットの配置を調整し、磁界分布を所望の分布となる
よう制御すれば成膜される記録層の厚さを容易に基板径
方向に変化させることができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明の光記録媒体においては、
記録層の膜厚に基板径方向の分布が付与されている。す
なわち、図１に示すように、従来の光記録媒体において
は記録層の膜厚は基板径方向にできるだけ均一になるよ
う成膜されているが、本発明の光記録媒体においては、
たとえば記録層の膜厚は、外周部側よりも内周部側の方
が厚くなるように成膜される。このように記録層の膜厚
に基板径方向の分布をもたせることにより、図２に示す
ように従来に比べて低パワーでの立ち上がりが認めら
れ、外周部の感度を向上させることができる。一方、図
３に示すように内周部の感度については従来と略同等に
設定できる。したがって、内外周部における感度差が大
幅に低減され、光記録媒体として優れた記録特性を発揮
できる。また、上記感度差を低減することによりドライ
ブ設計を容易化できる。
記録層の膜厚に基板径方向の分布が付与されている。す
なわち、図１に示すように、従来の光記録媒体において
は記録層の膜厚は基板径方向にできるだけ均一になるよ
う成膜されているが、本発明の光記録媒体においては、
たとえば記録層の膜厚は、外周部側よりも内周部側の方
が厚くなるように成膜される。このように記録層の膜厚
に基板径方向の分布をもたせることにより、図２に示す
ように従来に比べて低パワーでの立ち上がりが認めら
れ、外周部の感度を向上させることができる。一方、図
３に示すように内周部の感度については従来と略同等に
設定できる。したがって、内外周部における感度差が大
幅に低減され、光記録媒体として優れた記録特性を発揮
できる。また、上記感度差を低減することによりドライ
ブ設計を容易化できる。
【００１７】また、記録層の膜厚は基板径方向に単調変
化していればよく、たとえば該膜厚を基板外周部側より
も内周部側を５％以上厚くするように、外周部側から内
周部側に向けて径方向に単調増加させることにより、本
発明の目的をより効果的に達成することができる。
化していればよく、たとえば該膜厚を基板外周部側より
も内周部側を５％以上厚くするように、外周部側から内
周部側に向けて径方向に単調増加させることにより、本
発明の目的をより効果的に達成することができる。
【００１８】また、上記のように記録層の膜厚を基板径
方向に変化させるには、たとえばスパッタリングによる
成膜において、次のように記録層を成膜すればよい。す
なわち図４に示すように、基板１は、キャリヤ２の基板
自転公転機構３のホルダ８に装着される。そして、ホル
ダ８内の基板１は、一点鎖線矢印方向に、基板自転公転
機構３自身は実線矢印方向にそれぞれ回転するようにな
っている。この状態で、図５に示すよう台形のターゲッ
ト４を用いてスパッタリングが行われる。つまり図４に
示したように台形のターゲット４の短辺４ａ側は主とし
て基板１の外周部側を、長辺４ｂ側は基板１の内周部側
をスパッタリングすることになるので、記録層の膜厚は
基板１の外周部側では薄く、そして内周部側に向けて徐
々に厚くなるよう成膜できる。これら台形の長辺４ｂ、
短辺４ａの長さは、スパッタ装置の寸法、マグネトロン
方式の場合には、マグネットの強さ、配置等により最適
に設計することができる。
方向に変化させるには、たとえばスパッタリングによる
成膜において、次のように記録層を成膜すればよい。す
なわち図４に示すように、基板１は、キャリヤ２の基板
自転公転機構３のホルダ８に装着される。そして、ホル
ダ８内の基板１は、一点鎖線矢印方向に、基板自転公転
機構３自身は実線矢印方向にそれぞれ回転するようにな
っている。この状態で、図５に示すよう台形のターゲッ
ト４を用いてスパッタリングが行われる。つまり図４に
示したように台形のターゲット４の短辺４ａ側は主とし
て基板１の外周部側を、長辺４ｂ側は基板１の内周部側
をスパッタリングすることになるので、記録層の膜厚は
基板１の外周部側では薄く、そして内周部側に向けて徐
々に厚くなるよう成膜できる。これら台形の長辺４ｂ、
短辺４ａの長さは、スパッタ装置の寸法、マグネトロン
方式の場合には、マグネットの強さ、配置等により最適
に設計することができる。
【００１９】また、図６に示すような扇形のターゲット
５を用いても記録層の膜厚を上記の如く変化させること
ができる。この場合は、扇形ターゲット５の要部６側で
基板１の外周部側、円弧部７側で基板１の内周部側をス
パッタリングするように扇形ターゲット５を配置すれば
よい。この扇形ターゲットの形状についても、台形の場
合と同じく、スパッタ装置により最適な形状を求めるこ
とができる。
５を用いても記録層の膜厚を上記の如く変化させること
ができる。この場合は、扇形ターゲット５の要部６側で
基板１の外周部側、円弧部７側で基板１の内周部側をス
パッタリングするように扇形ターゲット５を配置すれば
よい。この扇形ターゲットの形状についても、台形の場
合と同じく、スパッタ装置により最適な形状を求めるこ
とができる。
【００２０】なお、本実施態様においては、ターゲット
形状を変更することにより記録層の膜厚を基板径方向に
変化させているが、たとえば、基板１のスパッタ面に対
してターゲットを傾斜させるように配置して、基板１の
内外周部側でターゲットとの間隔を変化させるようにし
てもよいし、マグネトロンスパッタにおいてはマグネッ
ト配置を変更し、内、外周の磁界分布を異なるようにす
る方法を用いてもよい。
形状を変更することにより記録層の膜厚を基板径方向に
変化させているが、たとえば、基板１のスパッタ面に対
してターゲットを傾斜させるように配置して、基板１の
内外周部側でターゲットとの間隔を変化させるようにし
てもよいし、マグネトロンスパッタにおいてはマグネッ
ト配置を変更し、内、外周の磁界分布を異なるようにす
る方法を用いてもよい。
【００２１】以上、光記録媒体の内周部側を外周部側に
比べ厚くする場合を例にとって本発明の実施の形態を示
したが、本発明の趣旨は、記録層の膜厚を基板径方向に
変化させることにあり、たとえば、ドライブ側における
設計特性によっては、外周部側を内周部側よりも厚くし
た方が良い場合にも適用できることは言うまでもない。
この場合、台形あるいは扇形のターゲットを図４の表示
とは逆に設置すればよい。
比べ厚くする場合を例にとって本発明の実施の形態を示
したが、本発明の趣旨は、記録層の膜厚を基板径方向に
変化させることにあり、たとえば、ドライブ側における
設計特性によっては、外周部側を内周部側よりも厚くし
た方が良い場合にも適用できることは言うまでもない。
この場合、台形あるいは扇形のターゲットを図４の表示
とは逆に設置すればよい。
【００２２】本発明においては、記録層自身の組成的な
構成はとくに限定されないが、相変化型光記録媒体の記
録層には、たとえば、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｐｄ合金、Ｔ
ｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｐｄ−Ｎｂ合金、Ｎｂ−Ｇｅ−Ｓｂ−
Ｔｅ合金、Ｐｔ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｎｉ−Ｇｅ−
Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｃｏ−Ｇｅ−
Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｉｎ−Ｓｅ合
金、およびこれらを主成分とする合金が用いられる。と
くにＴｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｐｄ合金、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−
Ｐｄ−Ｎｂ合金が、記録消去再生を繰り返しても劣化が
起こり難く、さらに熱安定性が優れているので好まし
い。
構成はとくに限定されないが、相変化型光記録媒体の記
録層には、たとえば、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｐｄ合金、Ｔ
ｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｐｄ−Ｎｂ合金、Ｎｂ−Ｇｅ−Ｓｂ−
Ｔｅ合金、Ｐｔ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｎｉ−Ｇｅ−
Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｃｏ−Ｇｅ−
Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｉｎ−Ｓｅ合
金、およびこれらを主成分とする合金が用いられる。と
くにＴｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｐｄ合金、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−
Ｐｄ−Ｎｂ合金が、記録消去再生を繰り返しても劣化が
起こり難く、さらに熱安定性が優れているので好まし
い。
【００２３】また、上記組成は次式で表される範囲にあ
ることが熱安定性と繰り返し安定性に優れている点から
好ましい。 Ｍz （Ｓｂx Ｔｅ(1-x) ）1-y-z （Ｇｅ0.5 Ｔｅ0.5 ）
y ０．３５≦ｘ≦０．５ ０．２０≦ｙ≦０．５ ０ ≦ｚ≦０．０５ ここでＭはパラジウム、ニオブ、白金、銀、金、コバル
トから選ばれる少なくとも一種の金属を表す。また、
ｘ、ｙ、ｚおよび数字は各元素の原子の数（各元素のモ
ル数）を表す。とくにパラジウム、ニオブについては少
なくとも一種を含むことが好ましい。
ることが熱安定性と繰り返し安定性に優れている点から
好ましい。 Ｍz （Ｓｂx Ｔｅ(1-x) ）1-y-z （Ｇｅ0.5 Ｔｅ0.5 ）
y ０．３５≦ｘ≦０．５ ０．２０≦ｙ≦０．５ ０ ≦ｚ≦０．０５ ここでＭはパラジウム、ニオブ、白金、銀、金、コバル
トから選ばれる少なくとも一種の金属を表す。また、
ｘ、ｙ、ｚおよび数字は各元素の原子の数（各元素のモ
ル数）を表す。とくにパラジウム、ニオブについては少
なくとも一種を含むことが好ましい。
【００２４】本発明に係る光記録媒体は、基板上に記録
層を設けたものであるが、基板上に形成される層は、通
常、複数の層の積層構造に構成される。たとえば、基板
上に、第１層（第１保護層）／第２層（記録層）／第３
層（第２保護層）／第４層（反射層）または第１層（第
１保護層）／第２層（記録層）／第３層（第２保護層）
／第４層（光吸収層）／第５層（反射層）をこの順に設
けた積層構成とされる。
層を設けたものであるが、基板上に形成される層は、通
常、複数の層の積層構造に構成される。たとえば、基板
上に、第１層（第１保護層）／第２層（記録層）／第３
層（第２保護層）／第４層（反射層）または第１層（第
１保護層）／第２層（記録層）／第３層（第２保護層）
／第４層（光吸収層）／第５層（反射層）をこの順に設
けた積層構成とされる。
【００２５】上記第１保護層および第２保護層は、記録
層を機械的に保護するとともに、基板や記録層が記録に
よる熱によって変形したり記録消去再生特性が劣化した
りするのを防止したり、記録層に耐湿熱性や耐酸化性を
持たせる役割を果たす。このような保護層としてはＺｎ
Ｓ、ＳｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ5 、ＩＴＯ、ＺｒＣ、ＴｉＣ、
ＭｇＦ2 などの無機膜やそれらの混合膜が使用できる。
とくにＺｎＳとＳｉＯ2 およびＺｎＳとＭｇＦ2 の混合
膜は耐湿熱性に優れており、さらに記録消去再生時の記
録層の劣化を抑制するので好ましい。
層を機械的に保護するとともに、基板や記録層が記録に
よる熱によって変形したり記録消去再生特性が劣化した
りするのを防止したり、記録層に耐湿熱性や耐酸化性を
持たせる役割を果たす。このような保護層としてはＺｎ
Ｓ、ＳｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ5 、ＩＴＯ、ＺｒＣ、ＴｉＣ、
ＭｇＦ2 などの無機膜やそれらの混合膜が使用できる。
とくにＺｎＳとＳｉＯ2 およびＺｎＳとＭｇＦ2 の混合
膜は耐湿熱性に優れており、さらに記録消去再生時の記
録層の劣化を抑制するので好ましい。
【００２６】反射層としては、金属または、金属酸化
物、金属窒化物、金属炭化物などと金属との混合物、例
えばＺｒ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ａｌ、Ａｕ、Ｐ
ｄ、Ｈｆなどの金属やこれらの合金、これらとＺｒ酸化
物、Ｓｉ酸化物、Ｓｉ窒化物、Ａｌ酸化物などを混合し
たものを使用できる。特にＡｌ、Ａｕ、Ｔａやそれらの
合金やＡｌ、Ｈｆ、Ｐｄの合金などは膜の形成が容易で
あり好ましい。
物、金属窒化物、金属炭化物などと金属との混合物、例
えばＺｒ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ａｌ、Ａｕ、Ｐ
ｄ、Ｈｆなどの金属やこれらの合金、これらとＺｒ酸化
物、Ｓｉ酸化物、Ｓｉ窒化物、Ａｌ酸化物などを混合し
たものを使用できる。特にＡｌ、Ａｕ、Ｔａやそれらの
合金やＡｌ、Ｈｆ、Ｐｄの合金などは膜の形成が容易で
あり好ましい。
【００２７】基板としては、基板側から記録再生を行う
ためにはレーザ光が良好に透過する材料を用いることが
好ましく、たとえばポリメチルメタアクリレート樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、エポキシ
樹脂などの有機高分子樹脂、それらの混合物、共重合体
物などやガラスなどを用いることができる。中でも、昨
今はポリカーボネート樹脂が主流となっている。
ためにはレーザ光が良好に透過する材料を用いることが
好ましく、たとえばポリメチルメタアクリレート樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、エポキシ
樹脂などの有機高分子樹脂、それらの混合物、共重合体
物などやガラスなどを用いることができる。中でも、昨
今はポリカーボネート樹脂が主流となっている。
【００２８】基板は、円盤体に成形されるものである。
成形方法は特に限定しないが、たとえば射出成形による
ことができ、金型内に、表面に所定のグルーブやピット
雄型が形成されたスタンパを装着し、スタンパからの転
写により、表面に所望のトラックが形成された基板を形
成できる。
成形方法は特に限定しないが、たとえば射出成形による
ことができ、金型内に、表面に所定のグルーブやピット
雄型が形成されたスタンパを装着し、スタンパからの転
写により、表面に所望のトラックが形成された基板を形
成できる。
【００２９】基板の大きさは、光記録媒体ドライブ装置
からの要求規格に合わせる必要がある。たとえば、直径
９０ｍｍ、１２０ｍｍあるいは１３０ｍｍの基板に成形
することなどが規定される。
からの要求規格に合わせる必要がある。たとえば、直径
９０ｍｍ、１２０ｍｍあるいは１３０ｍｍの基板に成形
することなどが規定される。
【００３０】このような基板上に、たとえば前述の如
く、第１保護層／記録層／第２保護層／反射層が積層さ
れる。この反射層の上に、さらに有機樹脂保護層を設け
てもよい。有機樹脂保護層としては、重合性モノマーお
よびオリゴマーを主成分とする光硬化性樹脂組成物や、
熱硬化性樹脂組成物を用いることができる。また、同様
なものを光の入射面側の基板上に、耐摩耗性、耐刷性向
上などの基板保護の目的や、ホコリ付着防止のための制
電性付与の目的で設けてもよい。
く、第１保護層／記録層／第２保護層／反射層が積層さ
れる。この反射層の上に、さらに有機樹脂保護層を設け
てもよい。有機樹脂保護層としては、重合性モノマーお
よびオリゴマーを主成分とする光硬化性樹脂組成物や、
熱硬化性樹脂組成物を用いることができる。また、同様
なものを光の入射面側の基板上に、耐摩耗性、耐刷性向
上などの基板保護の目的や、ホコリ付着防止のための制
電性付与の目的で設けてもよい。
【００３１】［特性の測定方法］以下に、本発明および
実施例の説明に用いた各特性の測定方法について説明す
る。
実施例の説明に用いた各特性の測定方法について説明す
る。
【００３２】（１）感度 一定回転数で、対物レンズの開口数０．５、半導体レー
ザの波長７８０ｎｍの光学ヘッドを使用して、ピークパ
ワー８〜１７ｍＷ、バイアスパワー４〜９ｍＷの各条件
に変調した半導体レーザ光で１００回オーバーライト記
録した後、再生パワー１．０ｍＷの半導体レーザ光を照
射してディスク外周部分および内周部分のキャリア対ノ
イズ比（Ｃ／Ｎ）を測定した。ピークパワーに対するＣ
／Ｎ曲線からＣ／Ｎの値が４５ｄＢになる時のピークパ
ワーの値を感度として求めた。
ザの波長７８０ｎｍの光学ヘッドを使用して、ピークパ
ワー８〜１７ｍＷ、バイアスパワー４〜９ｍＷの各条件
に変調した半導体レーザ光で１００回オーバーライト記
録した後、再生パワー１．０ｍＷの半導体レーザ光を照
射してディスク外周部分および内周部分のキャリア対ノ
イズ比（Ｃ／Ｎ）を測定した。ピークパワーに対するＣ
／Ｎ曲線からＣ／Ｎの値が４５ｄＢになる時のピークパ
ワーの値を感度として求めた。
【００３３】（２）Ｌ（内）／Ｌ（外） ディスク内周部における記録層の膜厚Ｌ（内）と外周部
における記録層の膜厚Ｌ（外）を走査型または透過型電
子顕微鏡で断面を観察することにより測定し、この測定
値からディスク外周部に対する内周部の膜度比Ｌ（内）
／Ｌ（外）を求めた。
における記録層の膜厚Ｌ（外）を走査型または透過型電
子顕微鏡で断面を観察することにより測定し、この測定
値からディスク外周部に対する内周部の膜度比Ｌ（内）
／Ｌ（外）を求めた。
【００３４】
実施例１〜４、比較例１〜３ ポリカーボネート樹脂からなる直径１３０ｍｍの透明基
板上に以下に示すような構成の薄膜をスパッタした。な
お実施例１〜４の第２層（記録層）の成膜に際しては図
５に示した台形のターゲットを用いた。これに対し、比
較例１〜３の第２層（記録層）の成膜には基板スパッタ
面よりも大きな長方形のターゲットを用いた。このディ
スクのスパッタ面上にスピンコート法によってアクリル
酸エステル系紫外線硬化樹脂を８μｍ厚で形成し、光記
録媒体を得た。さらに、この光記録媒体に波長８２０ｎ
ｍの半導体レーザのビームを照射して、ディスク全面の
記録層を結晶化させ、初期化した。 第１層 第１保護層： ＺｎＳ（７０．６）−ＳｉＯ2
（２６．４）（ａｔｍ％） 第２層 記録層 ： Ｔｅ（５５．０）−Ｇｅ（１
９．０）−Ｓｂ（２５．４）−Ｐｄ（０．０８）−Ｎｂ
（０．５）（ａｔｍ％） 第３層 第２保護層： ＺｎＳ（７０．６）−ＳｉＯ2
（２６．４）（ａｔｍ％） 第４層 反射層 ： Ａｌ（９８．３）−Ｈｆ（１
１．４）−Ｐｄ（０．２）
（ａｔｍ％）
板上に以下に示すような構成の薄膜をスパッタした。な
お実施例１〜４の第２層（記録層）の成膜に際しては図
５に示した台形のターゲットを用いた。これに対し、比
較例１〜３の第２層（記録層）の成膜には基板スパッタ
面よりも大きな長方形のターゲットを用いた。このディ
スクのスパッタ面上にスピンコート法によってアクリル
酸エステル系紫外線硬化樹脂を８μｍ厚で形成し、光記
録媒体を得た。さらに、この光記録媒体に波長８２０ｎ
ｍの半導体レーザのビームを照射して、ディスク全面の
記録層を結晶化させ、初期化した。 第１層 第１保護層： ＺｎＳ（７０．６）−ＳｉＯ2
（２６．４）（ａｔｍ％） 第２層 記録層 ： Ｔｅ（５５．０）−Ｇｅ（１
９．０）−Ｓｂ（２５．４）−Ｐｄ（０．０８）−Ｎｂ
（０．５）（ａｔｍ％） 第３層 第２保護層： ＺｎＳ（７０．６）−ＳｉＯ2
（２６．４）（ａｔｍ％） 第４層 反射層 ： Ａｌ（９８．３）−Ｈｆ（１
１．４）−Ｐｄ（０．２）
（ａｔｍ％）
【００３５】表１は、Ｌ（内）／Ｌ（外）を変化させた
ときの外周部と内周部との内外感度差（外周感度−内周
感度）を示したものである。なお、表１において実施例
１〜４、比較例１〜３の第２層の膜厚は外周部の膜厚を
示している。
ときの外周部と内周部との内外感度差（外周感度−内周
感度）を示したものである。なお、表１において実施例
１〜４、比較例１〜３の第２層の膜厚は外周部の膜厚を
示している。
【００３６】
【表１】
【００３７】表１から明らかなように、第２層（記録
層）の膜厚に基板径方向の分布をもたせることによって
内周部と外周部との感度差を自由に増減できることがわ
かった。また、内周部と外周部の感度差を低減するため
には第２層の膜厚が外周部側よりも内周部側の方が４％
厚い場合は、内外感度差の大幅な低減は期待できないこ
とから（比較例１）、少なくとも５％以上厚くすること
が望ましい。なお、逆に意図的に内外感度差を大きくつ
けたい場合、実施例４に示すように、外周部側を内周部
側に比べ逆に厚くすることにより、実現できることがわ
かった。
層）の膜厚に基板径方向の分布をもたせることによって
内周部と外周部との感度差を自由に増減できることがわ
かった。また、内周部と外周部の感度差を低減するため
には第２層の膜厚が外周部側よりも内周部側の方が４％
厚い場合は、内外感度差の大幅な低減は期待できないこ
とから（比較例１）、少なくとも５％以上厚くすること
が望ましい。なお、逆に意図的に内外感度差を大きくつ
けたい場合、実施例４に示すように、外周部側を内周部
側に比べ逆に厚くすることにより、実現できることがわ
かった。
【００３８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の光記録媒
体およびその製造方法によるときは、光記録媒体の内周
部側と外周部側における感度差、繰り返し特性差を大幅
に低減したり、ドライブの設計特性に合わせた内、外感
度差にチューニングすることができるので、優れた記録
特性を有する光記録媒体を得ることができる。
体およびその製造方法によるときは、光記録媒体の内周
部側と外周部側における感度差、繰り返し特性差を大幅
に低減したり、ドライブの設計特性に合わせた内、外感
度差にチューニングすることができるので、優れた記録
特性を有する光記録媒体を得ることができる。
【００３９】さらに、光記録媒体の内外周部における感
度差が低減される場合には、ドライブの設計を容易化す
ることができる。
度差が低減される場合には、ドライブの設計を容易化す
ることができる。
【図１】本発明の光記録媒体と従来の光記録媒体との記
録層の膜厚分布図の１例である。
録層の膜厚分布図の１例である。
【図２】本発明の光記録媒体と従来の光記録媒体との外
周部におけるＣ／Ｎ（キャリヤ／ノイズ比）とレーザ光
出射パワーとの関係図である。
周部におけるＣ／Ｎ（キャリヤ／ノイズ比）とレーザ光
出射パワーとの関係図である。
【図３】本発明の光記録媒体と従来の光記録媒体との内
周部におけるＣ／Ｎとレーザ光出射パワーとの関係図で
ある。
周部におけるＣ／Ｎとレーザ光出射パワーとの関係図で
ある。
【図４】本発明に係る光記録媒体の製造方法を実施する
ためのスパッタリング装置の概略図である。
ためのスパッタリング装置の概略図である。
【図５】図４の装置に用いられるターゲットの正面図で
ある。
ある。
【図６】図５のターゲットとは別の態様のターゲットの
正面図である。
正面図である。
１ 基板 ２ キャリヤ ３ 基板自転公転機構 ４ 台形のターゲット ４ａ 短辺 ４ｂ 長辺 ５ 扇形ターゲット ６ 要部 ７ 円弧部 ８ ホルダ
Claims (5)
- 【請求項１】 基板上に少なくとも記録層を有する光記
録媒体において、記録層の膜厚に基板径方向の分布をも
たせたことを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項２】 前記記録層の膜厚が基板径方向に単調変
化している、請求項１の光記録媒体。 - 【請求項３】 前記記録層の膜厚が基板外周部側よりも
内周部側の方が５％以上厚い、請求項１または２の光記
録媒体。 - 【請求項４】 基板上に少なくとも記録層を成膜する光
記録媒体の製造方法において、成膜される記録層の厚さ
を基板径方向に変化させることを特徴とする光記録媒体
の製造方法。 - 【請求項５】 前記記録層の成膜に台形のターゲットも
しくは扇形のターゲットを用いる、請求項４の光記録媒
体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8191453A JPH1021580A (ja) | 1996-07-02 | 1996-07-02 | 光記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8191453A JPH1021580A (ja) | 1996-07-02 | 1996-07-02 | 光記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1021580A true JPH1021580A (ja) | 1998-01-23 |
Family
ID=16274892
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8191453A Pending JPH1021580A (ja) | 1996-07-02 | 1996-07-02 | 光記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1021580A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999067778A3 (en) * | 1998-06-22 | 2000-03-16 | Koninkl Philips Electronics Nv | Rewritable optical information medium |
| WO2007129805A1 (en) | 2006-05-04 | 2007-11-15 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical recording media and recording/reproducing methods and apparatuses for the same |
-
1996
- 1996-07-02 JP JP8191453A patent/JPH1021580A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999067778A3 (en) * | 1998-06-22 | 2000-03-16 | Koninkl Philips Electronics Nv | Rewritable optical information medium |
| WO2007129805A1 (en) | 2006-05-04 | 2007-11-15 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical recording media and recording/reproducing methods and apparatuses for the same |
| KR100823262B1 (ko) * | 2006-05-04 | 2008-04-17 | 삼성전자주식회사 | 광 기록 매체, 그 기록/재생 방법 및 장치 |
| EP2013876A1 (en) * | 2006-05-04 | 2009-01-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical recording media and recording/reproducing methods and apparatuses for the same |
| EP2013876A4 (en) * | 2006-05-04 | 2009-04-08 | Samsung Electronics Co Ltd | Optical recording media and recording / reproducing methods and apparatus therefor |
| US7870573B2 (en) | 2006-05-04 | 2011-01-11 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical recording media and recording/reproducing methods and apparatuses for the same |
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