JP2001331972A

JP2001331972A - 光情報記録媒体

Info

Publication number: JP2001331972A
Application number: JP2000143901A
Authority: JP
Inventors: Yoshitaka Hayashi; 嘉隆林; Toshiyuki Kawasaki; 俊之川崎
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 2000-05-16
Filing date: 2000-05-16
Publication date: 2001-11-30

Abstract

(57)【要約】【課題】媒体の強度を高め耐摩耗性、耐衝撃
性を向上させることと記録再生特性を両立させ、高密度
光情報記録媒体を提供すること。【解決手段】金属材料からなる基板を用いたこと
を特徴とする光情報記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光情報記録媒体に
代表されるような光学的に情報の記録または再生が可能
な光情報記録において、より高密度化を目指し、より小
さい光スポット径で記録を行ない、また小さい領域に記
録されている情報の再生を行なうことができる光情報記
録媒体に関するものである。そのような光情報記録媒体
を実現するために媒体の強度を高める必要があり、基板
に金属材料を用いることにより光情報記録媒体を実現す
る技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】光情報記録媒体としてはコンパクトディ
スクに代表されるようにディスク状情報記録媒体が良く
知られているが、マルチメディア、情報ネットワークの
時代になり、さらなる大容量の記録システムが必要とさ
れている。光情報記録媒体には読み出し専用、追記型、
書き換え型があるが、読み出し専用としてはＣＤ−ＲＯ
Ｍ、ＤＶＤ−ＲＯＭ、追記型としてＣＤ−Ｒなど、書き
換え型として相変化記録方式、光磁気記録方式のものが
実用化されている。

【０００３】高密度化のためには情報が記録されている
記録ピットを小さくする必要があるが、記録ピットを小
さくすると光のスポットの中に複数の記録ピットが入っ
てしまい再生が困難になる。また、情報を記録する際に
も光のスポットが大きいと小さい記録ピットを形成する
ことが困難になる。そこで光をより小さく絞り光のスポ
ットを小さくする必要がある。

【０００４】光のスポット径は、波長をλ、レンズの開
口率をＮＡとするとλ／ＮＡに比例するため、スポット
径を小さくするためには波長を小さくするか開口率を大
きくすることが考えられる。光の波長はレーザダイオー
ドなど光の発生源に依存するので、光のスポット径を小
さくする方法としてレンズの開口率ＮＡを大きくする方
法が比較的容易である。そこでＮＡを大きくする方法の
例としてとしてソリッドイマージョンレンズ（ＳＩＬ）
を用いたもの（例えば特開平８−２１２５７９号公報記
載）がある。

【０００５】また、近接場光を用いて小さいピットを記
録する試みもされている（例えば特開平７−１９１０４
６号公報等記載）。近接場光を用いると光スポットの収
束限界以下のスポットを形成可能であり、小さいスポッ
トを光磁気記録媒体上、相変化記録媒体上に形成できた
という報告もある。

【０００６】これらの方法を用いることにより小さいピ
ットが形成可能となってきたが、ソリッドイマージョン
レンズを用いた場合には開口率が大きくなり光を小さく
収束させるためより精密にスポット位置を制御する必要
があり、ヘッドと記録媒体との距離を小さくする必要が
あった。また、近接場光記録においても近接場光は光の
波長以下の微細開口の極近傍でのみ生じているためヘッ
ドと記録媒体の距離を小さくする必要があった。記録媒
体と光ヘッドとの距離を近接させた状態で制御するため
光ヘッドをスライダに載せることも考えられている（例
えば特開平９−１９８８３０号公報、特開平１１−０６
６６５８号公報等記載)。

【０００７】これらのように高密度化を行なおうとする
とヘッドと記録媒体との距離を近づける必要があり、ス
ライダを用いるなどするとヘッドと媒体が記録再生の動
作中に接触する可能性が生じてきた。また、場合によっ
ては積極的にヘッドと媒体を接触する必要が生じその場
合にも媒体の耐摩耗性など強度が必要となる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】高密度媒体を実現する
ため、記録媒体と記録ヘッドとの距離を近づけるまた
は、完全に接触させる必要が生じているが、そのため媒
体の強度を高め耐摩耗性、耐衝撃性を向上させることと
記録再生特性を両立させることが課題となる。そこで本
発明は、これらの課題を解決し高密度光情報記録媒体を
提供することを目的としている。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記課題は本発明の
（１）「金属材料からなる基板を用いたことを特徴とす
る光情報記録媒体」、（２）「前記金属材料がアルミニ
ウムまたはアルミニウム合金からなる基板を用いること
を特徴とする前記第（１）項記載の光情報記録媒体」、
（３）「前記基板の表面にＮｉ合金の皮膜を形成するこ
とを特徴とする前記第（１）項または前記第（２）項記
載の光情報記録媒体」、（４）「基板上に形成した膜の
最上面に硬質保護層を設けたことを特徴とする前記第
（１）項乃至前記第（３）項の何れか１に記載の光情報
記録媒体」、（５）「基板上に形成した膜の最上面に潤
滑層を設けたことを特徴とする前記第（１）項乃至前記
第（４）項の何れか１に記載の光情報記録媒体」、
（６）「前記基板上に下部保護層、記録層、上部保護層
の順に積層した層構成を含む多層構造を形成することを
特徴とする前記第（１）項乃至前記第（５）項の何れか
１に記載の光情報記録媒体」、（７）「前記上部保護層
を硬質保護層とすることを特徴とする前記第（６）項記
載の光情報記録媒体」、（８）「硬質保護層の主成分が
炭素からなることを特徴とする前記第（４）項乃至前記
第（７）項の何れか１に記載の光情報記録媒体」、
（９）「記録層として相変化材料を用いたことを特徴と
する前記第（１）項乃至前記第（８）項の何れか１に記
載の光情報記録媒体」、（１０）「記録層の材料として
有機色素材料を用いたことを特徴とする前記第（１）項
乃至前記第（８）項の何れか１に記載の光情報記録媒
体」、（１１）「記録層の材料として光磁気材料を用い
たことを特徴とする前記第（１）項乃至前記第（８）項
の何れか１に記載の光情報記録媒体」、（１２）「記録
層よりも光の入射側にある層の膜厚が１００ｎｍ以下で
あることを特徴とする前記第（１）項乃至前記第（１
１）項の何れか１に記載の光情報記録媒体」により達成
される。

【００１０】すなわち、上記課題を解決するために本発
明は、光情報記録媒体の一構成要素である基板に金属材
料を用いている。それにより媒体の耐摩耗性、耐衝撃性
を向上させ高密度光情報記録媒体を提供することができ
る。

【００１１】以下、本発明の構成例を示し課題を解決す
るための手段について詳細に説明する。本発明は金属材
料からなる基板を用いた光情報記録媒体に係わる。本発
明の光情報記録媒体は再生専用ディスク、追記型光情報
記録媒体、書換え型光情報記録媒体のいずれにも適用で
きる。基板材料として金属材料を用いるが、ここで用い
られる金属材料としては光の反射率が高いような材料、
例えばＡｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｕなどを用いることができ
る。これらの合金、積層合板も用いることができる。ま
た、比較的硬い金属であるＣｒ、Ｔｉ、Ｗ、Ｍｏ、Ｔａ
なども用いることができる。これらの材料を熱処理する
などしたものを用いることも好ましい。

【００１２】本発明を再生専用ディスクに適用すると反
射率の高い材料を用いることで基板上に記録ピットを形
成するだけで反射層を形成する必要がなくなり、より簡
単な層構成となり安価な媒体が実現できる。また、追記
型、書き換え型の光情報記録媒体にこの発明を用いるこ
とで、金属基板を反射放熱層として用いることが可能で
あり従来の光情報記録媒体の反射放熱層を省くことがで
きる。この基板上に記録層、保護層などを形成すること
により追記型、書き換え型の光情報記録媒体が実現でき
る。

【００１３】金属材料を用いた基板は表面をメッキのよ
うなもので被覆したり、形状などを物理的にまたは化学
的に処理したりしたものでも良い。基板表面に同心円状
または渦巻き状の溝を形成することも可能であり、ま
た、サンプルサーボなどでトラッキング制御を行なうた
めに規則的に印を形成しておくこともできる。

【００１４】請求項２に記載の発明は、基板として用い
る金属材料がアルミニウムまたはアルミニウム合金から
なる光情報記録媒体に関する。アルミニウムまたはアル
ミニウム合金は安価で加工も容易であり表面粗さを小さ
くすることが可能であるため好ましい。ここで用いるこ
とができるアルミニウム合金としては特に限定は無い
が、アルミニウム−マグネシウム合金、アルミニウム−
チタン合金、アルミニウム−クロム合金などが特に好ま
しい。

【００１５】請求項３に記載の発明は、基板の表面にＮ
ｉ合金の皮膜を形成した光情報記録媒体に関する。Ｎｉ
合金はレーザなどで高温にすると容易に形状を作ること
が可能である。ＮｉＰ、ＮｉＮｂのような合金は腐食し
にくく硬いため、基板の表面にこれらの合金を形成する
ことは好ましい。特にアルミニウム合金基板とＮｉ合金
の組み合わせは好ましい。Ｎｉ合金は無電解めっきなど
のめっき法が好ましいが、蒸着法、スパッタ法などが可
能である。

【００１６】請求項４に記載の発明は、基板上に形成し
た膜の最上面に硬質保護層を設けた光情報記録媒体に関
する。光情報記録媒体の層構成は基板上に保護層、記録
層、放熱層などを積層した多層構造とすることが可能で
あるが、それらの多層構造の最表面に硬質保護層を設け
る。硬質保護層は耐摩耗性、耐衝撃性を向上させるため
のものであり硬度が高く化学的にも熱的にも安定である
ことが必要である。硬質保護層としてはダイヤモンド、
ダイヤモンドライクカーボンのような炭素膜、ＳｉＣ、
ＳｉＮ、ＡｌＮなどが例示できる。これらはスパッタ
法、蒸着法、ＣＶＤ法などで容易に形成することができ
る。

【００１７】請求項５に記載の発明は、基板上に形成し
た膜の最上面に潤滑層を設けた光情報記録媒体に関す
る。本発明の光情報記録媒体は基板上に記録層、保護
層、反射層などを積層した多層構成からなっているが、
その最表面に潤滑層を設けることによりディスクとヘッ
ドとの潤滑が改善され接触しても媒体が損傷を受け難く
なる。また、接触させて使用する構成においても動作が
滑らかになる。本発明は上述した様々な層構成に適用可
能である。

【００１８】潤滑層としては炭化水素系潤滑剤とフッ素
系潤滑剤が用いられる。炭化水素系潤滑剤としてはステ
アリン酸、オレイン酸等のカルボン酸類、ステアリン酸
ブチル等のエステル類、オクタデシルスルホン酸等のス
ルホン酸類、リン酸モノオクタデシル等のリン酸エステ
ル類、ステアリンアルコール、オレインアルコール等の
アルコール類、ステアリン酸アミド等のカルボン酸アミ
ド類、またはステアリルアミン等のアミン類などが好ま
しい。さらに、フッ化系潤滑剤として上記炭化水素系潤
滑剤のアルキル基の一部または全部をフルオロアルキル
基もしくはパーフルオロポリエーテル基で置換した潤滑
剤がより好ましい。これらの潤滑層は、ディッピング
法、スプレー塗布法、スピンコート法などで形成され
る。特にダイヤモンドライクカーボンとフッ素系潤滑剤
は結合が強く強固な保護層の形成が可能となり好適であ
る。また、固体潤滑層としては、滑石粉、グラファイト
粉末、ウンモ、セッケン石、亜鉛華、硫化モリブデン
（IV）などを用いることができる。

【００１９】請求項６に記載の発明は、基板上に下部保
護層、記録層、上部保護層の順に積層した層構成を含む
多層構造を形成した光情報記録媒体に関する。記録層を
保護層で挟むことにより記録時に記録層にかかる熱をう
まく制御し最適な記録を行なうことができるようにな
る。保護層はその材質、膜厚などにより熱を放熱する役
割と熱を蓄える役割を同時に満たすことができるように
なる。また、記録時に記録層が溶融状態になる場合、保
護層ではさみそれを保護することにより媒体の繰り返し
特性を向上させる効果もある。

【００２０】請求項７に記載の発明は、請求項６に記載
した上部保護層を硬質保護層とする光情報記録媒体に関
する。上部保護層を硬質保護層にすることにより媒体と
ヘッドとの接触による衝撃などから媒体を保護するとい
ういわゆる硬質保護層としての効果と請求項６の発明の
ような記録層にかかる熱の放熱、蓄熱を制御し最適な記
録を行なうという効果とを一つの層で兼用することがで
きる。硬質保護層は耐摩耗性、耐衝撃性を向上させるた
めのものであり硬度が高く化学的にも熱的にも安定であ
ることが必要である。硬質保護層としてはダイヤモン
ド、ダイヤモンドライクカーボンのような炭素膜、Ｓｉ
Ｃ、ＳｉＮ、ＡｌＮ、Ａｌ₂Ｏ₃など炭化物、酸化物、窒
化物などが例示できる。これらはスパッタ法、蒸着法、
ＣＶＤ法などで容易に形成することができる。

【００２１】請求項８に記載の発明は、硬質保護層の主
成分が炭素からなる光情報記録媒体に関する。主成分が
炭素からなる材料としては、ダイヤモンドまたはダイヤ
モンドライクカーボン等が挙げられるが、これらは作製
条件などにより様々な熱伝導率をもつ膜を作ることが可
能であり記録層に対し最適な熱伝導率をもつ膜を作るこ
とができる。また、光学的な特性も制御することが可能
である。また、作製条件で膜の硬度も変化するためかな
り硬い膜を作ることが可能である。特にダイヤモンドま
たはダイヤモンドライクカーボンと呼ばれる炭素膜は硬
度が高いためディスク表面に施すことにより媒体の耐摩
耗性、耐衝撃性が向上できる。これらはＣＶＤ法、スパ
ッタリング法、などの気相成長法で作製できる。特にス
パッタリング法は装置、作成法が容易であるため好まし
く、プラズマＣＶＤ法はかなり薄い膜にでも特性の劣化
が無い膜が実現でき、膜形成速度が速く、生産性が高い
ため好適である。

【００２２】請求項９に記載の発明は、記録層として相
変化材料を用いた光情報記録媒体に関するものである。
相変化材料としてはＴｅＯ₂などのようなＴｅ系の材料
からＳｂ系の材料、ＧｅＳｂＴｅ系、ＡｇＩｎＳｂＴｅ
系のようなカルコゲン系の材料などが例示でき、これら
はスパッタ法、蒸着法、ＣＶＤ法などの真空製膜法、電
着法、ゾルゲル法などの湿式法などにより形成される。

【００２３】中でも、記録層として少なくともＡｇ、Ｉ
ｎ、Ｓｂ、Ｔｅを含む材料を用いた光情報記録媒体また
は少なくともＧｅ、Ｓｂ、Ｔｅを含む材料を用いた光情
報記録媒体は記録感度、書き換え特性、記録密度、繰り
返し特性など優れており特に好ましい。

【００２４】請求項１０に記載の発明は、記録層の材料
として有機色素材料を用いた光情報記録媒体に関する。
材料の例としてはシアニン系、フタロシアニン系、アゾ
系、などの有機色素を用いることができる。これらはス
ピンコート法、ディップ法等の塗布法により形成でき
る。

【００２５】請求項１１に記載の発明は、記録層の材料
として光磁気材料を用いた光情報記録媒体に関する。光
磁気材料としては、任意の希土類−遷移金属系の非晶質
垂直磁化膜、バリウムフェライト系材料、ＰｔＣｏ系材
料などが例示できるが、カー回転角が大きいことなどの
理由から、Ｔｂ、Ｇｄ、Ｄｙ、Ｎｄのうち少なくとも１
種類の元素と、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉのうち少なくとも１種
類の元素との合金が好ましい。また、これらに添加元素
を加えた合金系も用いることができる。また、Ｐｔ、Ｐ
ｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕの元素のなかから少なくとも１種
類の元素と、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉから選択した少なくとも
１種類の元素との合金、またはこれを主成分とする合金
は短波長に対応可能などの理由から特に好ましい。

【００２６】請求項１２に記載の発明は、記録層よりも
光の入射側にある層の膜厚が１００ｎｍ以下である光情
報記録媒体に関する。１００ｎｍ以下にすることにより
光情報記録媒体の内部に入射した光が効率よく記録層に
入射し、光のスポット径が広がらずに記録層に照射され
るためより良好に記録でき高密度記録可能な光情報記録
媒体が実現可能となる。

【００２７】

【発明の実施の形態】以下に実施例を示して、本発明を
さらに詳細に説明する。しかし、本発明はなんら実施例
に限定されるものではない。＜実施例１＞本発明の実施例の１つを示す。図１に示し
たような光情報記録媒体を用いた。この光情報記録媒体
では基板（１）としてアルミニウム−マグネシウム合金
を用いた。この基板（１）には情報信号に対応したピッ
トを表面に形成してある。基板（１）の上面には透明な
保護層（２）を形成した。保護層（２）としてはＺｎＳ
・ＳｉＯ₂、ＳｉＮｘ、ＡｌＮｘ、ＺｎＳ、ＺｎＯ、Ｓ
ｉＯ₂など酸化物、窒化物、弗化物が挙げられるが、こ
れらのうちから線速などに対応した熱設計、光学設計に
よって選択することが好ましい。これらはスパッタ法、
蒸着法、ＣＶＤなどの真空製膜法により形成される。ま
た、必要に応じて不純物を含んでも良い。ただし、これ
らの保護層材料としては記録層よりも融点が高いことが
必要である。保護層（２）の上面から光を照射し再生を
行なった。

【００２８】＜実施例２＞本発明の別の実施例を示す。
図２に示したようにアルミニウム−マグネシウム合金を
基板（１）として用い、記録層（３）と保護層（２）を
形成した。記録層（３）としては追記型、書き換え型材
料などを用いた記録層を用いることができる。また、こ
の基板は、情報信号に対応したピットを表面に形成する
ことにより再生専用媒体にも適用できる。保護層（２）
の上面から光を照射し、記録、再生を行なった。

【００２９】＜実施例３＞本発明のさらに別の実施例を
示す。図３に示したようにアルミニウム−マグネシウム
合金のようなアルミニウム合金からなる金属の基板
（１）上にＮｉ合金を皮膜し、研磨したものを用いた。
Ｎｉ合金としてはＮｉＰ合金（４）を無電解めっきを用
いて形成した。その上面に記録層（３）と保護層（２）
を形成した。記録層（３）としては追記型、書き換え型
材料などを用いた記録層を用いることができる。また、
この基板は、情報信号に対応したピットを表面に形成す
ることにより再生専用媒体にも適用できる。この媒体に
保護層（２）の上面から光を照射し記録、再生を行なっ
た。

【００３０】＜実施例４＞本発明のさらに別の実施例を
示す。図４に示したようにアルミニウム−マグネシウム
合金のようなアルミニウム合金からなる金属の基板
（１）上にＮｉＰ合金（４）を無電解めっきを用いて皮
膜し、研磨したものを用いた。その上面に記録層（３）
を形成した。記録層（３）としては追記型、書き換え型
材料などを用いた記録層を用いることができる。最上面
に硬質保護層（５）としてダイヤモンドライクカーボン
のような炭素膜を形成した。また、この基板は、情報信
号に対応したピットを表面に形成することにより再生専
用媒体にも適用できる。この媒体に硬質保護層（５）の
上面から光を照射し記録、再生を行なった。

【００３１】＜実施例５＞本発明のさらに別の実施例を
示す。図５に示したようにアルミニウム−マグネシウム
合金のようなアルミニウム合金からなる金属の基板
（１）上にＮｉＰ合金（４）を無電解めっきにより皮膜
し、研磨したものを用いた。その上面に記録層（３）を
形成した。記録層（３）としては追記型、書き換え型材
料などを用いた記録層を用いることができる。硬質保護
層（５）としてダイヤモンドライクカーボンのような炭
素膜を形成した。また、この基板は、情報信号に対応し
たピットを表面に形成することにより再生専用媒体にも
適用できる。最上面に潤滑層（６）としてフッ素系潤滑
剤を用いた。特にダイヤモンドライクカーボンとフッ素
系潤滑剤は結合が強く強固な保護層の形成が可能となり
好適である。この媒体に潤滑層（６）の上面から光を照
射し記録、再生を行なった。

【００３２】＜実施例６＞本発明のさらに別の実施例を
示す。図６のようにアルミニウム−マグネシウム合金の
ようなアルミニウム合金からなる金属の基板（１）上に
ＮｉＰ合金（４）を無電解めっきにより皮膜し、研磨し
たものを用いた。その上面に下部保護層（７）、記録層
（３）、上部保護層（８）の順の層構成とした。さらに
硬質保護層（５）としてダイヤモンドライクカーボンの
ような炭素膜を形成し、最上面に潤滑層（６）を形成し
た。この媒体に潤滑層（６）の上面から光を照射し記
録、再生を行なった。下部保護層（７）、上部保護層
（８）としてはＺｎＳ・ＳｉＯ₂膜を用いた。ＺｎＳ・Ｓ
ｉＯ₂膜以外にもＺｎＯのような酸化物、ＳｉＮのよう
な窒化物などを用いることもできる。

【００３３】＜実施例７＞本発明のさらに別の実施例を
示す。図７のように基板（１）として上面にＮｉＰ合金
（４）を皮膜し研磨したアルミニウム−マグネシウム合
金を用いた。その上面に下部保護層（７）、記録層
（３）、上部保護層（８）の順に層を構成した。上部保
護層（８）は硬質保護層としてダイヤモンドライクカー
ボンのような炭素膜を形成し、最上面に潤滑層（６）を
形成することにより本発明の光情報記録媒体とした。

【００３４】＜実施例８＞本発明のさらに別の実施例と
して実施例４、５、６または７の場合と同様に硬質保護
層を用い、硬質保護層としてはスパッタリング法、また
はプラズマＣＶＤ法により形成したダイヤモンドライク
カーボン層を用いた。

【００３５】＜実施例９＞本発明のさらに別の実施例を
示す。図６、または図７に示されるものと同様の層構成
の光情報記録媒体を用いた。その記録層（３）としてＡ
ｇＩｎＳｂＴｅ合金からなる相変化材料を用いた。

【００３６】＜実施例１０＞本発明のさらに別の実施例
を示す。図６、または図７に示されるものと同様の層構
成の光情報記録媒体を用いた。その記録層（３）として
フタロシアニン系の有機色素をスピンコートで塗布し用
いた。

【００３７】＜実施例１１＞本発明のさらに別の実施例
を示す。図６、または図７に示されるものと同様の層構
成の光情報記録媒体を用いた。その記録層（３）として
ＴｂＦｅＣｏ合金からなる光磁気材料を用いた。

【００３８】＜実施例１２＞本発明のさらに別の実施例
を示す。図６、または図７に示されるものと同様の層構
成の光情報記録媒体を用いた。上部保護層（８）として
ＺｎＳ・ＳｉＯ₂膜を２０ｎｍ、硬質保護層（５）とし
て炭素膜を１５ｎｍ、その上面に潤滑層（６）として、
パーフルオロポリエーテル系の潤滑剤を、ディッピング
法により厚み２ｎｍで形成した。記録層よりも光の入射
側にある層の膜厚は３７ｎｍである。また、上部保護層
（８）を除いた構成とすると記録層よりも光の入射側に
ある層の膜厚は１７ｎｍである。

【００３９】

【発明の効果】以上、詳細且つ具体的な説明から明らか
なように、請求項１から８に記載の本発明により耐摩耗
性、耐衝撃性などに優れた高密度光情報記録媒体を実現
でき、ヘッドと媒体の距離を小さくすることが可能とな
り、高密度光情報記録媒体を提供できる。また、請求項
９記載の本発明のように記録層に相変化材料を用いるこ
とで書換え特性に優れた高密度光情報記録媒体を提供可
能となる。さらにまた、請求項１０記載の本発明のよう
に記録層を有機色素材料とすることにより低コストで優
れた特性を持つ高密度光情報記録媒体を提供できる。さ
らにまた、請求項１１記載の本発明により記録層に光磁
気材料を用いることで書換え特性に優れた高密度光情報
記録媒体を提供可能となる。さらにまた、請求項１２記
載の本発明により膜厚を限定することにより優れた記録
再生特性を発揮する高密度光情報記録媒体を提供可能と
なる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光情報記録媒体の層構成の１例を示す
断面図である。

【図２】本発明の光情報記録媒体の層構成の別の１例を
示す断面図である。

【図３】本発明の光情報記録媒体の層構成の更に別の１
例を示す断面図である。

【図４】本発明の光情報記録媒体の層構成の更に別の１
例を示す断面図である。

【図５】本発明の光情報記録媒体の層構成の更に別の１
例を示す断面図である。

【図６】本発明の光情報記録媒体の層構成の更に別の１
例を示す断面図である。

【図７】本発明の光情報記録媒体の層構成の更に別の１
例を示す断面図である。

【符号の説明】

１基板２保護層３記録層４ＮｉＰ合金層５硬質保護層６潤滑層７下部保護層８上部保護層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ１１Ｂ 11/105 ５０１Ｇ１１Ｂ 11/105 ５０１Ａ５０１Ｚ５２１５２１Ｂ５２１Ｄ５３１５３１Ｄ５３１Ｈ５３１Ｍ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】金属材料からなる基板を用いたことを特
徴とする光情報記録媒体。
【請求項２】前記金属材料がアルミニウムまたはアル
ミニウム合金からなる基板を用いることを特徴とする請
求項１記載の光情報記録媒体。
【請求項３】前記基板の表面にＮｉ合金の皮膜を形成
することを特徴とする請求項１または２記載の光情報記
録媒体。
【請求項４】基板上に形成した膜の最上面に硬質保護
層を設けたことを特徴とする請求項１乃至３の何れか１
に記載の光情報記録媒体。
【請求項５】基板上に形成した膜の最上面に潤滑層を
設けたことを特徴とする請求項１乃至４の何れか１に記
載の光情報記録媒体。
【請求項６】前記基板上に下部保護層、記録層、上部
保護層の順に積層した層構成を含む多層構造を形成する
ことを特徴とする請求項１乃至５の何れか１に記載の光
情報記録媒体。
【請求項７】前記上部保護層を硬質保護層とすること
を特徴とする請求項６記載の光情報記録媒体。
【請求項８】硬質保護層の主成分が炭素からなること
を特徴とする請求項４乃至７の何れか１に記載の光情報
記録媒体。
【請求項９】記録層として相変化材料を用いたことを
特徴とする請求項１乃至８の何れか１に記載の光情報記
録媒体。
【請求項１０】記録層の材料として有機色素材料を用
いたことを特徴とする請求項１乃至８の何れか１に記載
の光情報記録媒体。
【請求項１１】記録層の材料として光磁気材料を用い
たことを特徴とする請求項１乃至８の何れか１に記載の
光情報記録媒体。
【請求項１２】記録層よりも光の入射側にある層の膜
厚が１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１乃
至１１の何れか１に記載の光情報記録媒体。