JP2002251787A

JP2002251787A - 光情報記録媒体

Info

Publication number: JP2002251787A
Application number: JP2001051515A
Authority: JP
Inventors: Yoshitaka Hayashi; 嘉隆林; Toshiyuki Kawasaki; 俊之川崎
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 2001-02-27
Filing date: 2001-02-27
Publication date: 2002-09-06

Abstract

(57)【要約】【課題】情報の記録、再生、消去、または記録・再生
を光学的に行うことが可能な光情報記録媒体において、
より高密度記録化のため近接場光を用い、より小さい光
スポット径で記録ができ、また、小さい領域に記録され
ている情報の再生ができる、耐摩耗性や耐衝撃性に優れ
た光情報記録媒体を提供する。【解決手段】基板上に記録層を少なくとも備えた構成
層を有し、近接場光で記録、再生、消去、または記録・
再生を行う光情報記録媒体であって、基板１と記録層３
との間の構成層中に膜厚が３０ｎｍ以下の金属層（例
えばＡｇ層）を設けるか、もしくは金属層を設けない構
成とすることにより、耐摩耗性、耐衝撃性等の強度を向
上させるものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、情報の記録、再
生、消去、または記録・再生を光学的に行うことが可能
な光情報記録媒体において、より高密度記録化のため近
接場光を用い、より小さい光スポット径で記録ができ、
また小さい領域に記録されている情報の再生ができる耐
摩耗性や耐衝撃性の強度が優れた光情報記録媒体に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】光情報記録媒体としては、コンパクトデ
ィスク（ＣＤ：ＣｏｍｐａｃｔＤｉｓｃ）に代表され
るようにディスク状情報記録媒体が良く知られている
が、マルチメディア、情報ネットワークの時代になり、
これら情報記録媒体の記録密度の増大が求められてお
り、さらに大容量の記録システムが必要とされている。
光情報記録媒体には読み出し専用の再生専用型、自由に
記録のできる追記可能型、重ね書きのできる書替可能型
があり、例えば、再生専用型としてはＣＤ―ＲＯＭ（Ｃ
ｏｍｐａｃｔＤｉｓｃ―ＲｅａｄＯｎｌｙＭｅｍ
ｏｒｙ）、ＤＶＤ―ＲＯＭ (ＤｉｇｉｔａｌＶｉｄ
ｅｏＤｉｓｃ―ＲｅａｄＯｎｌｙＭｅｍｏｒ
ｙ)、追記可能型としてＣＤ―Ｒ（ＣｏｍｐａｃｔＤ
ｉｓｃ―Ｒｅｃｏｒｄａｂｌｅ）など、書替可能型とし
て相変化記録方式を用いたＣＤ―ＲＷ（Ｃｏｍｐａｃｔ
Ｄｉｓｃ―Ｒｅｗｒｉｔａｂｌｅ）や光磁気記録方式
のものが実用化されている。

【０００３】これらの光情報記録媒体は、基板と記録層
を共通構成層に備えているが、再生専用型、追記可能
型、書替可能型などの用途に応じて、その構成層を設計
する必要があり、記録、再生，消去、または記録・再生
など目的に応じて多様な構成から選択することができ
る。特に、記録、再生，消去、または記録・再生におい
て、必要の場合には、半導体レーザなどの光の反射強度
を向上させたり、光によって発生する熱を放熱するた
め、あるいは反射と放熱をするための役割を担う構成層
（本発明の「金属層」に該当）を設けることが知られて
いる。

【０００４】高密度化のためには情報が記録されている
記録ピットを小さくする必要があるが、記録ピットを小
さくすると、光ヘッド（以下、ヘッドという）から照射
の光スポット中に複数の記録ピットが入ってしまい再生
が困難になる。また、情報を記録する際にも光のスポッ
トが大きいと、小さい記録ピットを形成することが困難
になるため、光をより小さく絞り、光のスポットを小さ
くする必要がある。しかし、従来の光情報記録装置で
は、光の回折限界によって、これまで以上の微小スポッ
ト化、すなわち高密度記録化の実現は困難となってき
た。このため、回折限界を打開する方法として近接場光
の使用が必要となっている。

【０００５】近接場光の実現方法としてはソリッドイマ
ージョンレンズ（ＳＩＬ：ＳｏｌｉｄＩｍｍｅｒｓｉ
ｏｎＬｅｎｓ／固体液浸レンズ）を用いる方法と微小
開口を用いる方法がある。

【０００６】光のスポット径は波長をλ、レンズの開口
率をＮＡとするとλ／ＮＡに比例するため、スポット
径を小さくするには、波長を小さくするか開口率を大き
くすることが考えられる。光の波長はレーザーダイオー
ドなど光の発生源に依存するので、光のスポット径を小
さくする方法として、レンズの開口率ＮＡを大きくす
る方法が比較的容易である。そこで、ＮＡを大きくす
る技術として、スタンフォード大学のＧ．Ｋｉｎｏらの
提案によるソリッドイマージョンレンズ（ＳＩＬ）を
光記録に応用した例(特許番号２５５３２７５号)などが
ある。この提案では、入射光はソリッドイマージョンレ
ンズの球面に対して垂直に入射され、出射側の平面の中
心に収束する。この方式ではソリッドイマージョンレン
ズの屈折率をｎとすると、最小ビーム径は回折限界ビー
ム径のｎ分の一まで小さくすることができる。このた
め、記録媒体をレンズ（ＳＩＬ）に近づけることによ
り、この微小ビームが近接場光的に伝播し微小スポット
の光を媒体に照射することができる。

【０００７】一方、微小開口（小さな開口）に光を照射
するとその開口近傍では近接場光が発生する。その近接
場光を用いて小さいピットを記録する試みもなされてい
る（例えば特開平７−１９１０４６号公報）。近接場光
を用いると、光スポットの収束限界以下のスポットを形
成することが可能であり、１００Ｇｂｉｔ／iｎ^２以上
の記録密度に相当する小さいスポットを光磁気記録媒体
上や、相変化記録媒体上に形成できるとされている。

【０００８】従って、前記の方法を用いることにより、
小さい記録ピットの形成が可能となるが、ソリッドイマ
ージョンレンズを用いた場合には、開口率が大きくなる
ので、光を小さく収束させるため、より精密にスポット
位置を制御する必要がある。これを解決するには、光ヘ
ッドと記録媒体との間隔（以下、距離という）を小さく
する必要があった。また、微小開口を用いた近接場光記
録においても、近接場光は光の波長以下で微小開口の極
近傍でのみ生じているため、ヘッドと記録媒体との距離
を小さくする必要がある。記録媒体と光ヘッドとの距離
を近接させた状態で制御する例（光ヘッドをスライダに
搭載）としては、例えば特開平９―１９８８３０号公
報、特開平１１―６６６５８号公報などがある。

【０００９】以上のように、近接場光はその発生源の近
傍でのみ利用可能となるため、ヘッドと記録媒体との距
離を極端に近づける必要がある。このため、ヘッドと記
録媒体の位置する距離が大きく、それぞれが接触する可
能性がほとんどなく問題とされなかった従来の光情報記
録とは異なり、近接接触の心配が生ずる。また、更なる
高密度化のためにはヘッドと記録媒体を接触させる方式
も考えられる。このため、ヘッドと記録媒体の近接接触
による双方の損傷の可能性が生じ、接触による損傷を防
止するために、光情報記録媒体の耐摩耗性、耐衝撃性な
どの強度向上が必要となってきた。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な問題点に鑑みなされたもので、その目的は、近接場光
を用いた高密度記録、再生、消去、または記録再生を実
現するため、ヘッドと記録媒体の距離を小さくしても近
接接触による損傷等の問題を生じないような耐摩耗性、
耐衝撃性を高めた光情報記録媒体を提供することにあ
る。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明に係る光情報記録媒体は、基板上に記録層を
少なくとも備えた構成層を有し、近接場光で記録、再
生、消去、または記録・再生を行う光情報記録媒体であ
って、前記基板と前記記録層との間の構成層中に膜厚が
３０ｎｍ以下の金属層を設けるか、もしくは金属層を
設けない構成とすることにより、耐摩耗性、耐衝撃性を
向上させたものである。

【００１２】本発明において「金属層」は、光情報記録
媒体の構成層として半導体レーザなどヘッドから照射さ
れる光の反射強度を向上させたり、光によって発生する
熱を放熱したり、あるいは反射と放熱をする役割を担う
構成層である。本発明に係る光情報記録媒体は、上記金
属層の膜厚範囲において、各構成層（基板、金属層、記
録層など）の層構成、材質や膜厚の選択によって耐摩耗
性、耐衝撃性を向上することが可能である。

【００１３】以下、本発明について具体的に説明する。
請求項１の発明は、基板上に記録層を少なくとも備えた
構成層を有し、近接場光で記録、再生、消去、または記
録・再生を行う光情報記録媒体において、前記基板と前
記記録層との間の構成層中に膜厚が３０ｎｍ以下の金
属層を設けるか、もしくは金属層を設けないことを特徴
とする光情報記録媒体である。

【００１４】請求項２の発明は、請求項１の光情報記録
媒体において、金属層にＡｇ、Ａｌ、Ａｇ合金、または
Ａｌ合金のうち１種類を用いることを特徴とする光情報
記録媒体である。

【００１５】請求項３の発明は、請求項１の光情報記録
媒体において、金属層がＷ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｃｒ、
Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｎｂのうち少なくとも一種類、また
はこれらの元素を含む合金のうち少なくとも一種類の材
料を用いることを特徴とする光情報記録媒体である。

【００１６】請求項４の発明は、請求項１、２または３
の光情報記録媒体において、記録媒体を構成する各層を
形成するための基板としてガラス基板を用いることを特
徴とする光情報記録媒体である。

【００１７】請求項５の発明は、請求項１、２、または
３の光情報記録媒体において、基板として金属材料から
なる基板を用いることを特徴とする光情報記録媒体であ
る。

【００１８】請求項６の発明は、請求項１、２または３
の光情報記録媒体において、記録媒体を構成する各層を
形成するための基板として、ＡｌまたはＡｌ合金から
なるものを用いることを特徴とする光情報記録媒体であ
る。

【００１９】請求項７の発明は、請求項５、または６の
光情報記録媒体において、基板の表面にＮｉ合金の皮
膜を形成することを特徴とする光情報記録媒体である。

【００２０】請求項８の発明は、請求項１、２、または
３の光情報記録媒体において、記録媒体を構成する各層
を形成するための基板として、Ｗ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、
Ｃｒ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｎｂのうち少なくとも一種
類、またはこれらの元素を含む合金のうち少なくとも一
種類の材料からなるものを用いることを特徴とする光情
報記録媒体である。

【００２１】請求項９の発明は、請求項１〜８の光情報
記録媒体において、基板上に形成した記録媒体を構成す
る各層の最上面に硬質保護層を設けることを特徴とする
光情報記録媒体である。

【００２２】請求項１０の発明は、請求項１〜８の光情
報記録媒体において、基板上に形成した記録媒体を構成
する各層の最上面に潤滑層を設けることを特徴とする光
情報記録媒体である。

【００２３】請求項１１の発明は、請求項９の光情報記
録媒体において、硬質保護層と記録層とが直接接するよ
うに層を構成することを特徴とする光情報記録媒体であ
る。

【００２４】請求項１２の発明は、請求項１〜１１の光
情報記録媒体において、記録媒体を構成する基板上に形
成した構成層に下部保護層、記録層、上部保護層の順に
積層した層構成を含む多層構造を用いることを特徴とす
る光情報記録媒体である。

【００２５】請求項１３の発明は、請求項９または１１
の光情報記録媒体において、硬質保護層として炭素を主
成分とする硬質保護層を設けることを特徴とする光情報
記録媒体である。

【００２６】請求項１４の発明は、請求項１〜１３の光
情報記録媒体において、記録層の材料として相変化材料
を用いることを特徴とする光情報記録媒体である。

【００２７】請求項１５の発明は、請求項１〜１３の光
情報記録媒体において、記録層の材料として有機色素材
料を用いることを特徴とする光情報記録媒体である。

【００２８】請求項１６の発明は、請求項１〜１３の光
情報記録媒体において、記録層の材料として光磁気材料
を用いることを特徴とする光情報記録媒体である。

【００２９】請求項１７の発明は、請求項１〜１６の光
情報記録媒体において、記録層よりも光の入射側にある
層全体の膜厚を１００ｎｍ以下にすることを特徴とする
光情報記録媒体である。

【００３０】前記請求項１〜１７の構成によれば、ヘッ
ドの近接接触に対して耐摩耗性や耐衝撃性の高い、損傷
に強い光情報記録媒体が提供される。

【００３１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。請求項１の発明は、基板上に記録層を少な
くとも備えた構成層を有し、近接場光で記録、再生、消
去、または記録・再生を行う光情報記録媒体にであっ
て、前記基板と前記記録層との間の構成層中に膜厚が３
０ｎｍ以下の金属層を設けるか、もしくは金属層を設
けないことを特徴とする光情報記録媒体に関する。本発
明で述べている金属層は再生専用型媒体などのように光
を反射するための役割に用いられたり、追記可能型媒
体、書替可能型媒体のように熱を放熱する役割を担うも
のとして用いられているものを示している。これらの金
属層を近接場光を用いて記録、再生、消去、または記録
・再生を行う光情報記録媒体に用いる場合、膜厚の厚い
金属層を用いると記録媒体の強度が下がり、他の構成層
を硬くしてもヘッドなどの接触による衝撃により、へこ
みや傷を生じてしまう問題がある。

【００３２】このため、本発明者らは記録媒体の強度を
高める方法として、金属層の膜厚と強度について検討し
た結果、金属層を３０ｎｍ以下の厚さとすることによ
り、耐衝撃性や耐摩耗性など強度の高い光情報記録媒体
が実現できることを確認した。この場合、金属層を３０
ｎｍを超える膜厚とすると耐摩耗性や耐衝撃性などの
強度が低下して充分な強度が得られないという問題が生
じる。また、金属層を用いない構成とすることも、強度
を高める上で好ましいことが判った。

【００３３】本発明では金属層の材料として、光の反射
率が高い材料、例えばＡｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｕなど
を用いることができるほか、これらの合金を用いること
もできる。これにより、強度の高い光情報記録媒体が実
現できる。また、金属層を薄い膜厚で構成するため、光
が透過することもできるので反射、透過のどちらの方式
でも記録、再生、消去、消去、または記録・再生を行う
ことが可能となる特徴がある。

【００３４】請求項２の発明は、金属層がＡｇ、Ａｌ、
Ａｇ合金またはＡｌ合金のうち１種類からなる光情報
記録媒体に関する。Ａｇ、Ａｌ、Ａｇ合金、Ａｌ合金
は光の反射率および熱伝導率が高いため、金属層を薄く
した場合においても充分な光の反射、熱の放熱を行うこ
とができる。また、Ａｇ、Ａｌはリサイクルが比較的
容易な材料であるため効率の良い利用が可能であり、そ
の結果コストの面からも有利となる。

【００３５】請求項３の発明は、金属層がＷ、Ｍｏ、Ｔ
ａ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｎｂのうち少なく
とも一種類、またはこれらの元素を含む合金のうち少な
くとも一種類の材料からなる光情報記録媒体に関する。
これらの金属は硬度が高いため、これらを金属層として
用いた場合、媒体の強度を高くすることが可能となる。

【００３６】請求項４の発明は、請求項１，２、３と
同様な構成で、基板としてガラス基板を用いた光情報記
録媒体に関する。ヘッドと記録媒体の距離を小さくする
ため、記録媒体が変形しにくい基板を用いるのが好まし
い。ガラスは剛性が高いため基板とした場合、記録媒体
が変形することは少なくなり、記録媒体とヘッドとの距
離を一定に保つことができるので記録、再生、消去特性
などの向上が望める。また、硬度や強度も高いため、耐
衝撃性、耐傷性にも優れている。また、加工性が良好で
あるため基板の平坦性、平滑性を高くすることができ、
記録媒体の表面性向上にもつながる。その結果、機械的
な特性に優れ、コスト的にも有利な光情報記録媒体を実
現することが可能となる。

【００３７】請求項５の発明は、基板として金属材料基
板を用い、請求項１，２、または３と同様な層構成を
持つ光情報記録媒体に関する。金属材料は剛性が高く、
加工も容易であり平坦性、平滑性を容易に高めることが
可能であるため、媒体とヘッドとの距離が小さい場合に
おいても良好な特性を示すことができる。さらに媒体の
強度を高めるために表面処理などを施した金属基板を用
いることも好ましい。

【００３８】請求項６の発明は、基板としてＡｌまたは
Ａｌ合金からなるものを用いた光情報記録媒体に関す
る。ＡｌまたはＡｌ合金は、安価で加工も容易であり、
表面粗さを小さくすることが可能であるため、基板とし
て好ましい。基板の平坦性、平滑性を高めることによ
り、光情報記録媒体の表面性状が向上する。その結果、
媒体とヘッドとの距離を一定にすることが可能となり、
距離を小さくしても良好な特性を示すことができる。こ
こで用いることができるＡｌ合金には特に限定はない
が、Ａｌ―Ｍｇ系合金、Ａｌ―Ｔｉ系合金、Ａｌ―Ｃｒ
系合金、Ａｌ―Ｓｉ系合金などが特に好ましい。

【００３９】請求項７の発明は、基板の表面にＮｉ合金
の皮膜を形成した光情報記録媒体に関する。Ｎｉ合金は
レーザーなどで高温にすることで、容易に所望の形状に
加工できる。例えばＮｉＰ、ＮｉＮｂは腐食しにくく、
しかも硬いため、基板表面にこれらの合金膜を形成する
ことが好ましい。Ａｌ合金基板、中でもＡｌ―Ｍｇ系合
金基板とＮｉ合金の組み合わせは特に好ましい。基板表
面へのＮｉ合金膜の成膜方法としては無電解めっきなど
のめっき法が好ましいが、蒸着法、スパッタ法なども可
能である。

【００４０】請求項８の発明は、Ｗ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔ
ｉ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｎｂのうち少なくとも一
種類、またはこれらの元素を含む合金のうち少なくとも
一種類の材料からなる基板を用いた光情報記録媒体に関
する。これらの材料は硬度が高く基板に用いた場合、記
録媒体の強度が向上する。

【００４１】請求項９の発明は、構成層の最上面が硬質
保護層である光情報記録媒体に関する。光情報記録媒体
の層構成は基板上に保護層、記録層、放熱層などを積層
した多層構成とすることが可能であるが、それらの多層
構造の最上面に硬質保護層を設けるものである。硬質保
護層は耐摩耗性、耐衝撃性を向上させるためのものであ
り、硬度が高く化学的にも熱的にも安定であることが必
要である。硬質保護層としては例えばダイヤモンドや、
ダイヤモンドライクカーボンのような炭素膜、また、Ｂ
Ｎ、ＳiＣ、ＳｉＮ、ＡｌＮ、ＴａＯなどの窒化物、炭
化物、酸化物を用いることができる。これらはスパッタ
法、蒸着法、ＣＶＤ法などで容易に形成することがで
きる。

【００４２】請求項１０の発明は、基板上に形成した膜
の最上面に潤滑層を設けた光情報記録媒体に関する。本
発明の光情報記録媒体は基板上に記録層、保護層、反射
層などを積層した多層構成からなっているが、その最表
面に潤滑層を設けることにより記録媒体とヘッドとの潤
滑が改善され、接触しても記録媒体が損傷を受け難くな
る。また、接触させて使用する構成においては、動作が
滑らかになる。本発明は上述した様々な層構成に適用可
能である。

【００４３】潤滑層には炭化水素系潤滑剤とフッ素系潤
滑剤が用いられる。炭化水素系潤滑剤としてはステアリ
ン酸、オレイン酸等のカルボン酸類、ステアリン酸ブチ
ル等のエステル類、オクタデシルスルホン酸等のスルホ
ン酸類、リン酸モノオクタデシル等のリン酸エステル
類、ステアリンアルコール、オレインアルコール等のア
ルコール類、ステアリン酸アミド等のカルボン酸アミド
類、またはステアリルアミン等のアミン類などが好まし
い。さらに、フッ化系潤滑剤として上記炭化水素系潤滑
剤のアルキル基の一部または全部をフルオロアルキル基
もしくはパーフルオロポリエーテル基で置換した潤滑剤
がより好ましい。これらの潤滑層は、ディッピング法、
スプレー塗布法、スピンコート法などで形成される。特
に、ダイヤモンドライクカーボンとフッ素系潤滑剤とで
は、結合が強く強固な保護層の形成が可能となり好適で
ある。また、有機系化合物、層状の無機化合物、酸化
物、硫化物など潤滑性を有していれば、限定なく固体潤
滑層として用いることができる。

【００４４】請求項１１の発明は、硬質保護層と記録層
とが直接接するように構成された光情報記録媒体に関す
る。記録層にかかる熱を制御したり、記録層が酸化など
の劣化することを防止するため保護層を用いることが有
効であることが知られているが、その保護層を上述した
ような硬質な保護層とすることにより記録層を保護する
役割と媒体の強度を向上するための役割を兼ねた効果が
ある。そのため、保護層と硬質保護層の両方を構成要素
として持つ必要がなくなりコスト面でも効果がある。

【００４５】請求項１２の発明は、構成層が下部保護
層、記録層、上部保護層の順に積層した層構成を含む多
層構造からなる光情報記録媒体に関する。記録層を保護
層で挟むことにより記録時に記録層にかかる熱をうまく
制御し最適な記録を行うことができるようになる。保護
層はその材質、膜厚などにより熱を放熱する役割と熱を
蓄える役割を同時に満たすことができるようになる。ま
た、記録時に記録層が溶融状態になる場合、保護層では
さみそれを保護することにより媒体の繰り返し特性を向
上させる効果もある。さらに保護層を硬質保護層とする
ことにより記録媒体の硬度を高めることができ効果があ
る。

【００４６】請求項１３の発明は、硬質保護層の主成分
が炭素からなる光情報記録媒体に関する。主成分が炭素
からなる材料としては、ダイヤモンドまたはダイヤモン
ドライクカーボン等が挙げられるが、これらは作製条件
などにより様々な熱伝導率の膜を作ることが可能であ
り、記録層に対し最適な熱伝導率をもつ膜を作ることが
できる。また、光学的な特性も制御することが可能であ
る。また、作製条件で膜の硬度も変化するため、硬い膜
を作ることが可能である。特に、ダイヤモンドまたはダ
イヤモンドライクカーボンと呼ばれる炭素膜は硬度が高
いため、記録媒体表面に施すことにより記録媒体の耐摩
耗性、耐衝撃性が向上できる。これらはＣＶＤ法、スパ
ッタリング法、などの気相成長法で作製できる。特にス
パッタリング法は装置、作製法が容易であるため好まし
く、プラズマＣＶＤ法はかなり薄い膜でも特性劣化のな
い膜が実現でき、膜形成速度が速く、生産性が高いため
好適である。

【００４７】請求項１４の発明は、記録層の材料として
相変化材料を用いた光情報記録媒体に関するものであ
る。相変化材料としてはＴｅＯ_２などのようなＴｅ系の
材料からＳｂ系の材料、ＧｅＳｂＴｅ系、ＡｇＩｎＳｂ
Ｔｅ系のようなカルコゲン系の材料などが例示でき、こ
れらはスパッタ法、蒸着法、ＣＶＤ法などの真空製膜
法、電着法、ゾルゲル法などの湿式法などにより形成さ
れる。中でも、記録層として少なくともＡｇ、Ｉｎ、Ｓ
ｂ、Ｔｅを含む材料を用いた光情報記録媒体、または少
なくともＧｅ、Ｓｂ、Ｔｅを含む材料を用いた光情報記
録媒体は記録感度、書替特性、記録密度、繰り返し特性
などに優れており特に好ましい。

【００４８】請求項１５記載の発明は、記録層の材料と
して有機色素材料を用いた光情報記録媒体に関する。有
機色素材料としてはシアニン系、フタロシアニン系、ア
ゾ系などの有機色素を用いることができる。これらはス
ピンコート法、ディップ法等の塗布法により形成できる

【００４９】請求項１６の発明は、記録層の材料として
光磁気材料を用いた光情報記録媒体に関する。光磁気材
料としては、任意の希土類―遷移金属系の非晶質垂直磁
化膜、バリウムフェライト系材料、ＰｔＣｏ系材料など
が例示できるが、カー回転角が大きいことなどの理由か
らＴｂ、Ｇｄ、Ｄｙ、Ｎｄのうち少なくとも一種類の元
素とＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉのうち少なくとも一種類の元素と
の合金が好ましい。また、これらに添加元素を加えた合
金系も用いることができる。またＰｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａ
ｇ、Ｃｕの元素のなかから少なくとも一種類の元素とＦ
ｅ，Ｃｏ，Ｎｉから選択した少少なくとも一種類の元
素との合金、またはこれを主成分とする合金は短波長に
対応可能であるなどの理由から特に好ましい。

【００５０】請求項１７の発明は、記録層よりも光の入
射側にある層全体の膜厚が１００ｎｍ以下である光情報
記録媒体に関する。この理由は、波長の極めて短い近接
場光を用いて記録，再生，消去、あるいは記録・再生を
行うため、光入射側の膜厚を薄くする必要があるためで
ある。

【００５１】以下、実施例により本発明を更に詳細に説
明する。ただし、本発明はなんら実施例に限定されるも
のではない。

【００５２】

【実施例】実施例１請求項１の発明の実施例を示す。これは、近接場光を反
射または、熱を放熱するための金属層を形成しない光情
報記録媒体の構成例である。図１に示したような光情報
記録媒体を作製した。基板１としてＡｌＭｇ合金基板を
用いた。その上面に下部保護層２としてＺｎＳ・ＳｉＯ
_２を１９ｎｍの厚さで形成した。さらに記録層３として
ＧｅＳｂＴｅ合金を１５ｎｍ、上部保護層４としてＺｎ
Ｓ・ＳｉＯ_２を２０ｎｍ形成した。この記録媒体では、
本発明でいう「金属層」は形成されていない。なお、記
録層３がＧｅＳｂＴｅ合金で形成されているが、これは
本発明の「金属層」には該当しない（他の実施例におい
ても同じ）。この記録媒体の強度を引っかき試験で測定
した結果を図２に示した。この試験はダイヤモンド針で
微小荷重をかけ、その針で引っかくことによってどの程
度摩耗痕ができるかをＡＦＭ（原子間力顕微鏡）で測定
しているものでＣＰＭ(コンタクトプロファイルメ
ーター)と呼んでいるものである。強度が高いほど摩耗
痕が小さいことになる。本実施例の記録媒体は比較例１
で示したＡｇ層が１２０ｎｍの記録媒体と比較して摩耗
痕深さが小さく、強度の高いことがわかる。

【００５３】上記基板１は特に限定はなくポリカーボネ
ート、ポリオレフィンなどの単体または、これらの誘導
体もしくは複合体などの樹脂基板を用いることができ
る。また強化ガラス、セラミックス、金属などを用いる
ことも可能である。しかし、ヘッドと記録媒体との間の
距離が小さいため、表面粗さが小さく、平坦性の高い基
板が好ましい。下部保護層２、上部保護層４としてはＺ
ｎＳ・ＳｉＯ_２、ＳｉＮｘ、ＡｌＮｘ、ＺｎＳ、Ｚｎ
Ｏ、ＳｉＯ_２、ＭｇＦなど酸化物、窒化物、弗化物が挙
げられるが、これらのうちから線速などに対応した熱設
計、光学設計によって選択することが好ましい。これら
の層はスパッタ法、蒸着法、ＣＶＤなどの真空製膜法
により形成される。また、必要に応じて不純物を含んで
も良い。ただし、これらの保護層材料としては記録層よ
りも融点が高いことが必要である。

【００５４】比較例１図３のような層構成で比較例の記録媒体を形成した。す
なわち、基板１として樹脂基板を用い、「金属層」として
１２０ｎｍの厚さのＡｇ層を基板の上面に形成し、その
上面に下部保護層２としてＺｎＳ・ＳｉＯ_２を１９ｎｍ
の厚さで形成した。さらに記録層３としてＧｅＳｂＴｅ
合金を１５ｎｍ、上部保護層４としてＺｎＳ・ＳｉＯ_２
を２０ｎｍ形成した。この記録媒体の引っかき試験の結
果を図４に示した。

【００５５】実施例２請求項２の発明の実施例を示す。これは、金属層として
薄いＡｇ層を設けた光情報記録媒体の構成例である。図
３に示したと同様の層構成で、基板１として結晶化ガラ
ス基板を用いた。その上面にＡｇ層を２０ｎｍ、下部保
護層２としてＺｎＳ・ＳｉＯ_２を１９ｎｍの厚さで形
成した。さらに記録層３としてＡｇＩｎＳｂＴｅ合金を
１５ｎｍ、上部保護層４としてＺｎＳ・ＳｉＯ_２を２０
ｎｍ形成し、光情報記録媒体とした。この記録媒体にお
いては、本発明でいう「金属層」はＡｇ層（膜厚２０ｎ
ｍ）である。この記録媒体の引っかき試験の結果を図５
に示した。比較例１に較べて摩耗痕深さが小さく、強度
の高いことがわかる。

【００５６】実施例３請求項３の発明の実施例では、図６に示すように、基板
１として表面粗さが８ｎｍ以下にした結晶化ガラス基板
を用い、その上面にＣｒ層を２０ｎｍ形成し、その上に
記録層３として有機色素膜をスピンコート法で形成し
た。さらに上部保護層４としてＺｎＳ・ＳｉＯ_２を２
０ｎｍ形成し光情報記録媒体とした。この記録媒体で
は、本発明でいう「金属層」はＣｒ層（膜厚２０ｎｍ）
である。このような記録媒体の構成とすることによって
比較例１に較べて摩耗痕深さが小さく、強度が大幅に改
善されることが判った。

【００５７】実施例４請求項４の発明の実施例を示す。図３と同様な層構成
で、この光情報記録媒体では基板１として表面粗さが８
ｎｍ以下にした結晶化ガラス基板を用いた。その上面に
Ａｇ層を２０ｎｍ形成し、下部保護層２としてＺｎＳ・
ＳｉＯ_２を１９ｎｍの厚さで形成した。さらに記録層３
としてＧｅＳｂＴｅ合金を１５ｎｍ、上部保護層４と
してＺｎＳ・ＳｉＯ_２を２０ｎｍ形成し、光情報記録媒
体とした。この記録媒体においては、本発明でいう「金
属層」はＡｇ層（膜厚２０ｎｍ）である。引っかき試験
は図５の結果とほぼ同様の結果が得られた。

【００５８】実施例５請求項５、６、８の発明の実施例を示す。図３に示した
層構成と同様の構成を用い、基板１としてＡｌ―Ｍｇ系
合金を用いた。その上面にＡｇ層を２０ｎｍ、下部保護
層２としてＺｎＳ・ＳｉＯ_２を１９ｎｍの厚さで形成し
た。さらに記録層３としてＡｇＩｎＳｂＴｅ合金を１５
ｎｍ、上部保護層４としてＺｎＳ・ＳｉＯ_２を２０ｎｍ
のこの順で形成し、光情報記録媒体とした。この記録媒
体においては、本発明でいう「金属層」はＡｇ層（膜厚
２０ｎｍ）である。引っかき試験の結果を図７に示し
た。Ａｌ合金など金属基板を用いることにより、比較例
１に較べて摩耗痕深さが小さく、強度の高いことが判
る。

【００５９】実施例６請求項７の発明の実施例を示す。図８に示したような層
構成を用いた。この光情報記録媒体では基板１としてＡ
ｌ―Ｍｇ合金を用いた。その上面に電着法によりＮｉＰ
合金を１０〜２０μｍ形成した。さらに下部保護層２と
してＺｎＳ・ＳｉＯ_２を１９ｎｍ、記録層３としてＡｇ
ＩｎＳｂＴｅ合金を１５ｎｍ、上部保護層４としてＺｎ
Ｓ・ＳｉＯ_２を２０ｎｍ形成し、光情報記録媒体とし
た。この記録媒体において本発明でいう「金属層」は、
形成されていない。このような記録媒体の構成とするこ
とによって比較例１に較べて摩耗痕深さが小さく、強度
が向上することが判った。

【００６０】実施例７請求項９の発明の実施例を示す。図９に示したように、
基板１として結晶化ガラス基板を用いた。その上面にＡ
ｇ層を２０ｎｍ、下部保護層２としてＺｎＳ・ＳｉＯ_２
を１９ｎｍの厚さで形成した。さらに記録層３としてＡ
ｇＩｎＳｂＴｅ合金を１５ｎｍ、上部保護層４としてＺ
ｎＳ・ＳｉＯ_２を２０ｎｍ形成した。さらに、膜の最上
面に硬質保護層５としてダイヤモンドライクカーボン層
を形成し、光情報記録媒体とした。この記録媒体におい
て本発明でいう「金属層」は、Ａｇ層（膜厚２０ｎｍ）
である。引っかき試験の結果を図１０に示した。比較例
１に較べて摩耗痕深さが小さく、強度の高いことが判っ
た。

【００６１】実施例８請求項１０の発明の実施例を示す。図１１に示したよう
に、基板１として結晶化ガラス基板を用いた。その上面
にＡｇ層を２０ｎｍ、下部保護層２としてＺｎＳ・Ｓ
ｉＯ_２を１９ｎｍの厚さで形成した。さらに、記録層
３としてＡｇＩｎＳｂＴｅ合金を１５ｎｍ、上部保護
層４としてＺｎＳ・ＳｉＯ_２を２０ｎｍ形成した。さら
に、膜の最上面に硬質保護層５としてダイヤモンドライ
クカーボン層を形成し、その上面に潤滑層６としてフッ
素系潤滑剤を塗布し、光情報記録媒体とした。この記録
媒体において本発明でいう「金属層」は、Ａｇ層（膜厚
２０ｎｍ）である。このような記録媒体の構成とするこ
とによって比較例１に較べて摩耗痕深さが小さく、強度
が向上することが判った。

【００６２】実施例９請求項１１の発明の実施例を示す。図１２に示したよう
に、基板１としてＡｌ―Ｍｇ合金を用いた。その上面に
電着法によりＮｉＰ合金を１０〜２０μｍ形成した。さ
らに下部保護層２としてＺｎＳ・ＳｉＯ_２を１９ｎｍ、
記録層３としてＡｇＩｎＳｂＴｅ合金を１５ｎｍ、硬質
保護層５としてダイヤモンドライクカーボン層を１５ｎ
ｍ形成し、その上面に潤滑層６としてフッ素系潤滑剤を
塗布し、光情報記録媒体とした。この記録媒体において
本発明でいう「金属層」は、形成されていない。このよ
うな記録媒体の構成とすることによって比較例１に較べ
て摩耗痕深さが小さく、強度が向上することが判った。

【００６３】実施例１０請求項１２の発明の実施例を示す。図１３に示したよう
な層構成の光情報記録媒体を用いた。基板１にＡｌ―Ｍ
ｇ合金基板を用い、その上面に電着法によりＮｉＰ合金
を１０〜２０μｍ形成した。さらにＡｇ層を２０ｎｍ、
下部保護層２としてＺｎＳ・ＳｉＯ_２を１９ｎｍ、記録
層３としてＡｇＩｎＳｂＴｅ合金を１５ｎｍ、上部保護
層４としてＺｎＳ・ＳｉＯ_２を２０ｎｍ、硬質保護層５
としてダイヤモンドライクカーボン層を１５ｎｍ形成し
た。その上面に潤滑層６としてフッ素系潤滑剤を塗布
し、光情報記録媒体とした。この記録媒体において本発
明でいう「金属層」は、Ａｇ層（膜厚２０ｎｍ）であ
る。図１４に引っかき試験の結果を示した。比較例１に
較べて摩耗痕深さが小さく、強度の高いことが判った。

【００６４】実施例１１請求項１３の発明の実施例を示す。図１５に示したよう
に、基板１にＡｌ―Ｍｇ系合金基板を用い、その上面に
電着法によりＮｉＰ合金を１０〜２０μｍ形成した。さ
らに下部保護層２としてＺｎＳ・ＳｉＯ_２を１９ｎｍ、
記録層３としてＡｇＩｎＳｂＴｅ合金を１５ｎｍ、上部
保護層４としてＺｎＳ・ＳｉＯ_２を２０ｎｍ、硬質保護
層５としてダイヤモンドライクカーボン層を１５ｎｍ形
成したものを光情報記録媒体として用いた。この記録媒
体において本発明でいう「金属層」は、形成されていな
い。このような記録媒体の構成とすることによって比較
例１に較べて摩耗痕深さが小さく、強度が向上すること
が判った。

【００６５】実施例１２請求項１４の発明の実施例を示す。図１３に示したのと
同様な層構成の光情報記録媒体を用いた。基板１にＡｌ
―Ｍｇ合金基板を用い、その上面に電着法によりＮｉＰ
合金を１０〜２０μｍ形成した。さらにＡｇ層を２０ｎ
ｍ、下部保護層２としてＺｎＳ・ＳｉＯ_２を１９ｎｍ、
記録層３として層変化材料のＧｅＳｂＴｅ合金を１５
ｎｍ、上部保護層４としてＺｎＳ・ＳｉＯ_２を２０ｎ
ｍ、硬質保護層５としてダイヤモンドライクカーボン層
を１５ｎｍ形成し、その上面に潤滑層６としてフッ素系
潤滑剤を塗布し、光情報記録媒体とした。この記録媒体
において本発明でいう「金属層」は、Ａｇ層（膜厚２０
ｎｍ）である。このような記録媒体の構成とすることに
よって比較例１に較べて摩耗痕深さが小さく、強度が向
上することが判った。

【００６６】実施例１３請求項１５の発明の実施例を示す。図１６に示したよう
に基板１としてＡｌ合金基板を用い、その上面に記録
層３としてフタロシアニン系の有機色素膜を形成し、そ
の上面に硬質保護層５としてダイヤモンドライクカーボ
ン層を形成し、その上面に潤滑層６としてフッ素系潤滑
剤を塗布し、光情報記録媒体とした。この記録媒体で
は、本発明でいう「金属層」は形成されていない。この
ような記録媒体の構成とすることによって比較例１に較
べて摩耗痕深さが小さく、強度が向上することが判っ
た。

【００６７】実施例１４請求項１６の発明の実施例を示す。図１７に示したよう
に基板１としてＡｌ―Ｍｇ系合金基板を用い、下部保
護層２としてＳｉＮを、記録層３として光磁気材料であ
るＴｂＦｅＣｏ合金を形成し、上部保護層４としてＳｉ
Ｎを、その上面に硬質保護層５としてダイヤモンドライ
クカーボン層を形成し、その上面に潤滑層６としてフッ
素系潤滑剤を塗布し、本発明の光情報記録媒体とした。
この記録媒体では、本発明でいう「金属層」は形成され
ていない。このような記録媒体の構成とすることによっ
て比較例１に較べて摩耗痕深さが小さく、強度が向上す
ることが判った。

【００６８】実施例１５請求項１７の発明の実施例を示す。図１３に示したよう
な層構成の光情報記録媒体を用いた。基板１にＡｌ―Ｍ
ｇ合金基板を用い、その上面に電着法によりＮｉＰ合金
を１０〜２０μｍ形成した。さらにＡｇ層を２０ｎｍ、
下部保護層２としてＺｎＳ・ＳｉＯ_２を１９ｎｍ、記録
層３としてＡｇＩｎＳｂＴｅ合金を１５ｎｍ、上部保護
層４としてＺｎＳ・ＳｉＯ_２を６０ｎｍ、硬質保護層５
としてダイヤモンドライクカーボン層を１５ｎｍ形成
し、その上面に潤滑６としてフッ素系潤滑剤を塗布し、
光情報記録媒体とした。記録層よりも光の入射側の層
は、上部保護層４の６０ｎｍ、硬質保護層５の１５ｎｍ
の合計７５ｎｍであり、この面に接触させるようにヘッ
ドが摺動することにより良好な記録、再生が可能となっ
た。

【００６９】

【発明の効果】本発明によれば、近接場光を用いた記
録、再生、消去、または記録・再生を行うことが可能と
なるようにヘッドと記録媒体との距離を小さくすること
ができる、耐摩耗性や、耐衝撃性などに優れた強度の高
い情報記録媒体が実現でき、これにより、高密度光情報
記録媒体が提供される。

【００７０】請求項１に係る発明では、３０ｎｍ以下の
厚さの薄い金属層を用いた層構成、または金属層を除い
た光情報記録媒体の層構成の光情報記録媒体とすること
により、記録媒体の耐摩耗性、耐衝撃性が高まる。その
結果、ＳＩＬ、微小開口利用の近接場光を用い、ヘッド
と記録媒体との距離を小さくすることができて、高密度
の記録再生が可能となる。

【００７１】請求項２に係る発明では、金属層を光の反
射率および熱伝導率が高いＡｇ、Ａｌ、Ａｇ合金、また
はＡｌ合金で形成するため、充分な光の反射、熱の放熱
を行うことができ、３０ｎｍ以下の厚さの金属層におい
ても記録、再生、消去、または記録・再生など特性の顕
著な向上効果がある。また、Ａｇはリサイクルが比較的
容易な材料であるため、資源の効率良い利用が可能であ
り、その結果コストの面からも有利となる。

【００７２】請求項３に係る発明では、金属層をＷ、Ｍ
ｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｎｂのうち
少なくとも一種類、またはこれらの元素を含む合金のう
ち少なくとも一種類の材料にすることにより媒体の強度
は高くなり、耐摩耗性や耐衝撃性などに優れた光情報記
録媒体が実現できる。

【００７３】請求項４に係る発明では、基板として硬
度、強度の高いガラス基板を用いるので、記録媒体が変
形することが少なくなり、記録媒体とヘッドの距離を一
定に保つことができるため記録、再生、消去、または記
録・再生など特性が向上する。また、耐衝撃性、耐傷性
にも優れている。さらに、また、ガラス基板は加工性が
良好であるため、基板の平坦性、平滑性を高くすること
ができ、記録媒体の表面性向上にもつながる。その結
果、機械的な特性に優れ、コスト的にも優れた光情報記
録媒体を実現することが可能となる。

【００７４】請求項５に係る発明では、金属材料からな
る基板を用いるので、基板の平坦性、平滑性を容易に高
めることが可能であり、記録媒体と光ヘッドとの距離が
小さい場合においても良好な特性を示すことができる。
また、機械的にも優れた光情報記録媒体を実現すること
が可能となる。

【００７５】請求項６に係る発明では、基板として安価
で加工も容易なＡｌまたはＡｌ合金からなるものを用い
るので、容易に表面粗さを小さくすることが可能であ
り、基板の平坦性、平滑性を高めることにより、光情報
記録媒体の表面性が向上する。その結果、記録媒体と光
ヘッドとの距離を一定にすることが可能となり、近接場
光を用いた光情報記録において良好な特性を示すことが
できる。

【００７６】請求項７に係る発明では、基板の表面に腐
食しにくく、しかも硬いＮｉ合金の皮膜を形成するので
基板の耐久性が向上し、優れた特性の光情報記録媒体を
提供することができる。

【００７７】請求項８に係る発明では、Ｗ、Ｍｏ、Ｔ
ａ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｎｂのうち少なく
とも一種類、またはこれらの元素を含む合金のうち少な
くとも一種類の材料からなる基板を用いることにより記
録媒体の強度が向上する。

【００７８】請求項９に係る発明では、構成層の最上面
が、耐摩耗性、耐衝撃性の硬質保護層であるため、機械
的強度の高い光情報記録媒体を提供することができる。

【００７９】請求項１０に係る発明では、構成層の最上
面が潤滑層であるため、光情報記録媒体とヘッドとの間
での潤滑が改善され、接触しても記録媒体が損傷を受け
難くなる。また、接触させて使用する構成においては、
動作が滑らかになるという効果がある。

【００８０】請求項１１に係る発明では、硬質保護層と
記録層が直接接することにより、硬質保護層が記録層を
保護する役割と媒体の強度を向上するための役割を兼ね
た効果がある。そのため、保護層を省略することによる
製造上のコスト効果がある。

【００８１】請求項１２に係る発明では、記録層を保護
層で挟むことにより、記録時に記録層にかかる熱を適切
に制御し、最適な記録を行うことができるようになる。
また、記録時に記録層が溶融状態になる場合、保護層で
はさみそれを保護することにより、媒体の繰り返し特性
を向上させる効果もある。さらに保護層を硬質保護層と
することにより記録媒体の硬度を高める効果がある。

【００８２】請求項１３に係る発明では、硬質保護層の
主成分が炭素からなるため、硬質保護層の作製条件など
により様々な熱伝導率をもつ膜を作ることが可能であ
り、記録層に対し最適な熱伝導率をもつ膜を作ることが
できる。また、光学的な特性も制御することが可能であ
る。また、作製条件で膜の硬度も変化するため、非常に
硬い膜を作ることが可能である。特に、ダイヤモンドま
たはダイヤモンドライクカーボンと呼ばれる炭素膜は硬
度が高いため、記録媒体表面に施すことにより記録媒体
の耐摩耗性、耐衝撃性を向上させることができる。

【００８３】請求項１４に係る発明では、記録層の材料
として相変化材料を用いるので、近接場光を用いた書替
特性に優れた高密度光情報記録媒体を提供することがで
きる。

【００８４】請求項１５に係る発明では、記録層の材料
として有機色素材料を用いるので、近接場光を用いた低
コストで優れた特性を持つ高密度光情報記録媒体を提供
することができる。

【００８５】請求項１６に係る発明では、記録層の材料
として光磁気材料を用いるので、近接場光を用いた書替
特性に優れた高密度光情報記録媒体を提供することがで
きる。

【００８６】請求項１７に係る発明では、膜厚を限定す
ることにより近接場光で良好に記録、再生、消去、また
は記録・再生を行うことができる光情報記録媒体を提供
することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】金属層を形成しない光情報記録媒体の層構成断
面図である。

【図２】図１の光情報記録媒体の摩耗痕深さと荷重との
関係を示した図である。

【図３】金属層として１２０ｎｍの厚膜のＡｇ層設けた
光情報記録媒体の層構成断面図である。

【図４】図３の光情報記録媒体の摩耗痕深さと荷重との
関係を示した図である。

【図５】図３と同様の層構成とし、金属層として薄膜の
Ａｇ層を設けた光情報記録媒体の摩耗痕深さと荷重との
関係を示した図である。

【図６】金属層として薄膜のＣｒ層を設けた光情報記録
媒体の層構成断面図である。

【図７】図３と同様の層構成とし、Ａｌ基板またはＡｌ
合金基板を用いた光情報記録媒体の摩耗痕深さと荷重と
の関係を示した図である。

【図８】Ｎｉ合金皮膜を有する金属基板を用いた光情報
記録媒体の層構成断面図である。

【図９】硬質保護層を設けた光情報記録媒体の層構成断
面図である。

【図１０】図９の光情報記録媒体の摩耗痕深さと荷重と
の関係を示した図である。

【図１１】硬質保護層の上面に潤滑層を形成した光情報
記録媒体の層構成断面図である。

【図１２】硬質保護層と記録層とが直接接するように構
成した光情報記録媒体の層構成断面図である。

【図１３】基板上に形成した構成層が下部保護層、記録
層、上部保護層の順に積層した層構成を含む多層構造か
らなる光情報記録媒体の層構成断面図である。

【図１４】図１３の光情報記録媒体の摩耗痕深さと荷重
との関係を示した図である。

【図１５】炭素を主成分とする硬質保護層を設けた光情
報記録媒体の層構成断面図である。

【図１６】記録層の材料として有機色素材料を用いた光
情報記録媒体の層構成断面図である。

【図１７】記録層の材料として光磁気材料を用いた光情
報記録媒体の層構成断面図である。

【符号の説明】

１基板２下部保護層３記録層４上部保護層５硬質保護層６潤滑層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３５Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３５ＧＢ４１Ｍ 5/26 Ｂ４１Ｍ 5/26 ＸＹ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に記録層を少なくとも備えた構成
層を有し、近接場光で記録、再生、消去、または記録・
再生を行う光情報記録媒体であって、前記基板と前記記
録層との間の構成層中に膜厚が３０ｎｍ以下の金属層
を設けるか、もしくは金属層を設けないことを特徴とす
る光情報記録媒体。
【請求項２】前記金属層がＡｇ、Ａｌ、Ａｇ合金、ま
たはＡｌ合金のうち１種類からなることを特徴とする請
求項１記載の光情報記録媒体。
【請求項３】前記金属層がＷ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｃ
ｒ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｎｂのうち少なくとも一種類、
またはこれらの元素を含む合金のうち少なくとも一種類
の材料からなることを特徴とする請求項１記載の光情報
記録媒体。
【請求項４】前記基板がガラス基板であることを特徴
とする請求項１、２、または３記載の光情報記録媒体。
【請求項５】前記基板が金属材料からなることを特徴
とする請求項１、２、または３記載の光情報記録媒体。
【請求項６】前記基板がＡｌ、またはＡｌ合金からな
ることを特徴とする請求項１、２、または３記載の光情
報記録媒体。
【請求項７】前記基板の表面にＮｉ合金の皮膜を形成
したことを特徴とする請求項５または６記載の光情報記
録媒体。
【請求項８】前記基板がＷ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｃ
ｒ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｎｂのうち少なくとも一種類、
またはこれらの元素を含む合金のうち少なくとも一種類
の材料からなることを特徴とする請求項１、２、または
３記載の光情報記録媒体。
【請求項９】前記構成層の最上面が硬質保護層からな
ることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項記載の
光情報記録媒体。
【請求項１０】前記構成層の最上面が潤滑層からなる
ことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項記載の光
情報記録媒体。
【請求項１１】前記硬質保護層と記録層とが直接接す
るように構成されていることを特徴とする請求項９記載
の光情報記録媒体。
【請求項１２】前記構成層が下部保護層、記録層、上
部保護層の順に積層した層構成を含む多層構造からなる
ことを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項記載の
光情報記録媒体。
【請求項１３】前記硬質保護層は、炭素を主成分とす
るものであることを特徴とする請求項９または１１記載
の光情報記録媒体。
【請求項１４】前記記録層の材料として相変化材料
を用いたことを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１
項記載の光情報記録媒体。
【請求項１５】前記記録層の材料として有機色素材
料を用いたことを特徴とする請求項１〜１３のいずれか
１項記載の光情報記録媒体。
【請求項１６】前記記録層の材料として光磁気材料
を用いたことを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１
項記載の光情報記録媒体。
【請求項１７】前記記録層よりも光の入射側にある層全
体の膜厚が１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求
項１〜１６のいずれか１項記載の光情報記録媒体。