JP2000268407A

JP2000268407A - 光ディスク

Info

Publication number: JP2000268407A
Application number: JP11075772A
Authority: JP
Inventors: Yoshitaka Hayashi; 嘉隆林
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1999-03-19
Filing date: 1999-03-19
Publication date: 2000-09-29

Abstract

(57)【要約】【課題】より正確に小さいピットを記録するため、記
録層の流動、熱伝導、急冷構造などをより正確に制御
し、又、媒体の硬度を高め耐摩耗性を向上する。【解決手段】基板上に記録層及び反射層を少なくとも
有する光記録媒体において、ダイヤモンドまたはダイヤ
モンドライクカーボン層を設けた光ディスクである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光ディスクに代表さ
れるような光学的に情報の記録または再生が可能な光情
報記録においてより小さい光スポット径で記録再生を行
うために媒体の構成要素としてダイヤモンドまたはダイ
ヤモンドライク薄膜を用いることにより大容量光情報記
録を実現する技術に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】光記録媒体としてはコンパクトディスク
に代表されるようにディスク状情報記録媒体が良く知ら
れているが、マルチメディア、情報ネットワークの時代
になりさらなる大容量の記録システムが必要とされてい
る。

【０００３】光ディスクメモリとしては読み出し専用、
追記型、書き換え型があるが、読み出し専用としてはＣ
Ｄ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＯＭ、追記型としてＣＤ−Ｒな
ど、書き換え型として相変化記録方式、光磁気記録方式
のものが実用化されている。大容量化の方法としては大
きく分けて記録ピットを小さくする、同一場所に複数の
情報を記録する２つに分けられる。記録ピットを小さく
していくと再生時に再生光スポットの中に複数のピット
が入ってしまうため、各情報を読み出すのが困難とな
る。小さい記録ピットを記録再生するためには光をより
小さく絞りスポットサイズを小さくすることが必要であ
る。小さいピットの再生としては、スポットサイズ以下
のピットを読み出すための方法として光磁気記録方式を
中心に超解像再生が提案されている。これは記録層の上
にマスク層を設け再生光のスポット内の温度分布を利用
してスポット径よりも微少なピットを再生しようという
方法である。マスク層として相変化材料を利用し、相変
化層が相変化することにより光学定数が変化することを
利用している方法、また、フォトクロミック層をマスク
層として用いる方法も報告されている。

【０００４】また、小さいピットを記録するためにスポ
ット径を小さくする試みとしてレンズの開口率ＮＡを大
きくする方法がある。スポット径は波長をλとするとλ
／ＮＡに比例するためスポット径を小さくするためには
波長を小さくするか開口率を大きくすることが考えられ
る。波長は半導体レーザーの進歩に依存するため開口率
を大きくする方法が提案されている。その例としてソリ
ッドイマージョンレンズ（ＳＩＬ）を用いたもの（例え
ば特開平８−２１２５７９）がある。

【０００５】また、近接場光を用いて小さいピットを記
録する試みもされている（例えば特開平７−１９１０４
６など）。近接場光を用いると光スポットの収束限界以
下のスポットを形成可能であり、小さいスポットを光磁
気記録媒体上、相変化記録媒体上に形成できたという報
告もある。

【０００６】これらの方法を用いることにより小さいピ
ットが形成可能となってきたが、ソリッドイマージョン
レンズを用いた場合には開口率が大きくなり光を小さく
収束させるためより精密にスポット位置を制御する必要
がある。そのためヘッドと記録媒体との距離を小さくす
る必要があった。また、近接場光記録においても近接場
光は光の波長以下の微細開口の極近傍でのみ生じている
ためヘッドと記録媒体の距離を小さくする必要があっ
た。

【０００７】これらのように高密度化を行おうとすると
ヘッドと記録媒体との距離を近づける必要があり、その
ため、ヘッドと媒体が記録再生の動作中に接触する可能
性が生じてきた。また、場合によってはヘッドと媒体を
接触する必要が生じその場合にも媒体の耐摩耗性など強
度が必要となっていた。

【０００８】また、媒体自体も記録密度の向上とともに
小さい領域で記録をする必要があり、そのためには小さ
い領域で熱が急激に上昇して急激に冷却されるような材
料、構造をとる必要があった。つまり小さい領域にピッ
トを形成するためには熱が拡散しにくい材料、構造とす
る必要が生じてきた。また、熱衝撃から記録層を保護す
るための方法も必要となっていた。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】高密度媒体を実現する
ため、小さいピットを形成する必要があり、より正確に
小さいピットを記録するため記録層の流動、熱伝導、急
冷構造などをより正確に制御することが課題となってい
た。

【００１０】また、記録密度の向上にともない、媒体、
ヘッド間の間隔を狭くする必要が生じているがそのため
媒体の硬度を高め耐摩耗性を向上させることと記録再生
特性の両立が課題であった。そこで本発明では、請求項
１から請求項１０までの発明においてこれらの課題を解
決し高密度光ディスクを提供することを目的としてい
る。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は、光ディスクの一構成要素としてダイヤモン
ドまたはダイヤモンドライク薄膜を用いている。それに
より媒体の耐摩耗性を向上させ、また記録媒件の熱伝導
条件などを制御する構成を実現し高密度光ディスクを提
供する。以下で本発明の構成例を示し課題を解決するた
めの手段について説明する。

【００１２】請求項１記載の発明はディスク表面にダイ
ヤモンドまたはダイヤモンドライクカーボン層を設けた
光ディスクに関するものである。本発明の光ディスクは
表面にダイヤモンドまたはダイヤモンドライクカーボン
層を施すことにより再生専用ディスク、追記型光ディス
ク、書換え型光ディスクのいずれにも適用できる。記録
ヘッド、再生ヘッド側の媒体表面にダイヤモンドまたは
ダイヤモンドライクカーボン層を設ける。この場合の光
記録媒体は透過型方式、反射型方式のどちらでも適用で
きる。例えば、図１に示したように記録領域１をもつ光
ディスクの表面にダイヤモンドまたはダイヤモンドライ
クカーボン層２を設ける構成である。記録領域１は再生
専用ディスクであれば情報信号を記録した基板であり、
追記型、書換え型では図２のように基板３上の記録層を
含む領域である。高密度化にともない高ＮＡレンズを用
いた方式や近接場光を用いた方式が提案されているが、
これらの方式では記録媒体と光ヘッドとの距離を小さく
する必要がある。そのため媒体とヘッドが接触するなど
で損傷を受ける場合がある。また、記録密度をさらに向
上させるため、媒体とヘッドを接触させる構成とする場
合がある。ダイヤモンドまたはダイヤモンドライクカー
ボン層は硬度が高いためディスク表面に施すことにより
ディスクの耐摩耗性が向上できる。ダイヤモンドまたは
ダイヤモンドライクカーボン薄膜はＣＶＤ法、スパッタ
リング法などの気相成長法で作製できる。特にプラズマ
ＣＶＤ法は膜形成速度が速く、生産性が高いため好適で
ある。

【００１３】請求項２記載の発明は、基板３上に少なく
とも１層以上の保護層と記録層を含む多層構造を含み、
ダイヤモンドまたはダイヤモンドライクカーボン層を表
面に設けた光ディスクに関するものである。主に追記型
光ディスク、書換え型光ディスクに適用でき、例えば図
３に示したように基板３上に記録層４を設けその上に保
護層５、ダイヤモンドまたはダイヤモンドライクカーボ
ン層２を設ける構成である。基板３としては樹脂、ガラ
ス、セラミクスなどが例示できるが樹脂基板が成形性、
コストの点で好適である。また、表面の平坦性という点
でガラスが好ましい場合がある。樹脂の例としてはポリ
カーボネート樹脂、アクリル樹脂、ェポキシ樹脂、ポリ
スチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコン樹脂、フ
ッ素系樹脂、シクロオレフィン系樹脂などが挙げられる
が加工性、光学特性などの点でポリカーボネート樹脂が
好ましい。記録層４としては追記型記録に用いられる有
機色素材料などが挙げられる。書換え型記録媒体に用い
られるような相変化材料、光磁気記録材料なども例示で
きる。保護層５としてはＺｎＳ・ＳｉＯ₂、ＳｉＮ_x、Ａ
ｌＮ_x、ＺｎＳ、ＺｎＯ、ＳｉＯ₂などが挙げられるが、
これらのうちから線速などに対応した熱設計、光学設計
によって選択することが好ましい。これらはスパッタ
法、蒸着法、ＣＶＤなどの真空製膜法により形成され
る。また、必要に応じて不純物を含んでも良い。ただ
し、これらの保護層材料としては記録層よりも融点が高
いことが必要である。基板３と記録層４との間に保護層
５を設けるような構成も好ましい。また、反射層、放熱
層として金属層を設けることもできる。

【００１４】請求項３記載の発明は、保護層としてダイ
ヤモンドまたはダイヤモンドライクカーボン層を用いた
光ディスクに関するものである。追記型記録媒体、書換
え型記録媒体において主に記録時の熱衝撃から記録層を
保護するための保護層としてダイヤモンドまたはダイヤ
モンドライクカーボンが用いられる。図４に示したよう
に追記型記録媒体に適用する場合は例えば基板３上に反
射層６、記録層４の順に設けその上面に保護層５として
ダイヤモンドまたはダイヤモンドライクカーボン層を設
ける構成とする。ダイヤモンドまたはダイヤモンドライ
クカーボンは熱伝導率が高いため急冷構造とすることが
可能となり、熱の拡散を抑えられるため小さいピット形
成が可能となる。また、主に記録時に記録層４が高温と
なることによる熱的な損傷を防ぐ役割をになう。記録層
４としては有機色素などが挙げられる。図５に示したよ
うに書換え型記録媒体に適用する場合には基板３上に反
射層６、下部保護層７、記録層４、上部保護層８の順の
多層構成とするディスクが例としてあげられる。上部保
護層８をダイヤモンドまたはダイヤモンドライクカーボ
ン層とする構成であるが、下部保護層７、上部保護層８
の両方をダイヤモンドまたはダイヤモンドライクカーボ
ンとすることも可能である。このような構成にすること
により熱拡散を制御でき、熱衝撃に対しても強くなる。
また、上部保護層７をダイヤモンドまたはダイヤモンド
ライクカーボンとすることにより機械的強度が向上する
のでヘッドなどにより媒体表面がこすれても耐摩耗性が
向上し記録特性が低下することはない。記録層４として
はＴｂＦｅＣｏ系、ＰｔＣｏのような光磁気材料、Ｇｅ
ＳｂＴｅ系、ＡｇＩｎＳｂＴｅ系のようなカルコゲン系
の材料に代表される相変化材料などがあげられ、これら
はスパッタ法、蒸着法、ＣＶＤ法などの真空製膜法、電
着法、ゾルゲル法などの湿式法などにより形成される。
反射層６は放熱の役割も担いＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌな
どの金属やその合金系が例示できるが光の反射率が高く
熱伝導率が高いものであれば特に限定はない。

【００１５】請求項４記載の発明は記録層として少なく
ともＡｇ、Ｉｎ、Ｓｂ、Ｔｅを含む材料を用いた光ディ
スクに関するものである。この光ディスクの構成は請求
項１，２、および３のような構成であれば十分であり、
記録層４としてＡｇＩｎＳｂＴｅ合金などが用いられ
る。また、必要に応じて不純物を含んでも良い。例えば
図６に示したように、基板３、反射放熱層６、下部保護
層７、記録層４、上部保護層８のような構成で上部保護
層上にダイヤモンドまたはダイヤモンドライクカーボン
層２を用いるような構成が可能である。

【００１６】請求項５記載の発明は記録層の材料として
有機色素材料を用いた光ディスクに関するものである。
記録層４として材料の例としてはシアニン系、フタロシ
アニン系、アゾ系などの有機色素を用いることができ
る。これらはスピンコート法、ディップ法等の塗布法に
より形成できる。ディスクの層構成としては上述した発
明で述べた例のような構成が可能である。

【００１７】請求項６に記載の発明はディスク表面に施
したダイヤモンドまたはダイヤモンドライクカーボン層
２の上に潤滑層９を設けた光ディスクに関するものであ
る。図７に示したように上述した構成のようなディスク
の上面にダイヤモンドまたはダイヤモンドライクカーボ
ン層２を設け、その上の表面に潤滑層９を設けることに
よりディスクとヘッドとの潤滑が改善され接触しても媒
体が損傷を受け難くなる。また、接触させて使用する構
成においても動作が滑らかになる。本発明は上述した様
々なディスク構成に準用可能である。潤滑層としては炭
化水素系潤滑剤とフッ素系潤滑剤が用いられる。炭化水
素系潤滑剤としてはステアリン酸、オレイン酸等のカル
ボン酸類、ステアリン酸ブチル等のエステル類、オクタ
デシルスルホン酸等のスルホン酸類、リン酸モノオクタ
デシル等のリン酸エステル類、ステアリンアルコール、
オレインアルコール等のアルコール類、ステアリン酸ア
ミド等のカルボン酸アミド類、またはステアリルアミン
等のアミン類などが好ましい。さらに、フッ化系潤滑剤
として上記炭化水素系潤滑剤のアルキル基の一部または
全部をフルオロアルキル基もしくはパーフルオロポリエ
ーテル基で置換した潤滑剤がより好ましい。これらの潤
滑層９は、ディッピング法、スプレー塗布法、スピンコ
ート法などで形成される。特にダイヤモンドライクカー
ボンとフッ素系潤滑剤は結合が強く強固な保覆層の形成
が可能となり好適である。

【００１８】請求項７記載の発明は基板としてガラスを
用いた光ディスクに関するものである。基板としてガラ
スを用いることにより樹脂基板を用いた場合に比べより
平滑な面を作ることが可能となる。平滑面とすることで
ヘッドと媒体の接触による損傷が避けられ、また接触で
使用する場合においてもディスク面の凹凸でヘッドなど
を壊す心配が無くなる。

【００１９】請求項８記載の発明は基板としてアルミニ
ウムまたはアルミニウム合金を用いた光ディスクに関す
るものである。アルミニウムまたはアルミニウム合金は
樹脂製基板に比べより平滑な面を作ることが可能とな
る。平滑面とすることでヘッドと媒体の接触による損傷
が避けられるためヘッドと媒体の距離をさらに小さくで
きる、または接触させた場合でもヘッド、媒体双方に損
傷を生じることを避けられる。また、反射層、放熱層と
しての役割を持つ金属層の役割を兼ねることができる。

【００２０】請求項９記載の発明は基板上に構成した多
層膜の一部または多層膜それ自体が図８のような下部保
護層７、記録層４、ダイヤモンドまたはダイヤモンドラ
イクカーボン層２、潤滑層９の順に積層した層構成を含
む多層膜を構成要素とする光ディスクに関するものであ
る。この構成を含むことにより熱特性、光学特性の両立
をし優れた記録特性を示す光ディスクが実現可能とな
る。

【００２１】請求項１０記載の発明は記録層よりも光の
入射側にある層の膜厚が１００ｎｍ以下である光ディス
クに関するものである。１００ｎｍ以下にすることによ
りディスク内部に入射した光が感度よく記録層に入射
し、より良好に記録でき高密度記録可能な光ディスクが
実現可能となる。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下に実施例を示して、本発明を
さらに詳細に説明する。しかし、本発明はなんら実施例
に限定されるものではない。

【００２３】実施例１請求項１の発明の実施例を示す。図１、図２のような記
録媒体を用いた。図１に示した再生専用ディスクでは記
録領域１として情報信号に対応したピットを形成したポ
リカーボネートまたはガラス基板上にＡｌ合金膜を１２
０ｎｍ作製したものを用い、その上にＥＣＲプラズマＣ
ＶＤ法で作製したダイヤモンドライク薄膜２を２０ｎｍ
形成した。図２の書換え型光ディスクでは基板３として
直径１２０ｍｍφのポリカーボネートまたはガラスを用
い、記録領域１としてＡｌ合金膜を１２０ｎｍ、ＺｎＳ
・ＳｉＯ₂膜を１５０ｎｍ、ＧｅＳｂＴｅ膜を１７ｎ
ｍ、ＺｎＳ・ＳｉＯ₂膜を３０ｎｍ形成し、その上にＥ
ＣＲプラズマＣＶＤ法で作製したダイヤモンドライク薄
膜２を２０ｎｍ形成することで光ディスクを作製した。

【００２４】実施例２請求項２の発明の実施例を以下に示す。図３のような層
構成で、直径１２０ｍｍφのガラス基板３上に記録層４
としてＧｅＳｂＴｅ層を２０ｎｍ、保護層５としてＺｎ
Ｓ・ＳｉＯ₂層を２０ｎｍとし、その上にＥＣＲプラズ
マＣＶＤ法で作製したダイヤモンドライク薄膜２を２０
ｎｍ形成した。これを請求項２の発明の光ディスクとし
た。この光ディスクはダイヤモンドライク薄膜側から光
を入射し、再生は透過光を利用する。

【００２５】実施例３請求項３の発明の実施例を以下に示す。図４，５のよう
な層構成のディスクとした。図４に示した追記型光ディ
スクの場合は、直径１２０ｍｍφのポリカーボネート基
板３上に反射層６としてＡｌＴｉ合金層を１００ｎｍ、
記録層４としてフタロシアニン系の有機色素をスピンコ
ートで塗布し、保護層５としてＣＶＤ法で作製したダイ
ヤモンドライク薄膜２を２０ｎｍ形成した。図５の書換
え型ディスクは直径１２０ｍｍφのポリカーボネート基
板３上に反射層６としてＡｌＴｉ合金層を１００ｎｍ、
下部保護層７としてＳｉＮ層を１３０ｎｍ、記録層４と
してＴｂＦｅＣｏ膜を１５ｎｍ、上部保護層８としてＣ
ＶＤ法で作製したダイヤモンドライク層を２５ｎｍ形成
し光ディスクを作製した。

【００２６】実施例４請求項４の発明の実施例を以下に示す。図５のような層
構成のディスクとした。直径１２０ｍｍφのガラス基板
３上に反射層６としてＡｌＣｒ合金層を１００ｎｍ、下
部保護層７としてＺｎＳ・ＳｉＯ₂層を１５０ｎｍ、記
録層４としてＡｇＩｎＳｂＴｅ膜を１７ｎｍ、上部保護
層８としてＣＶＤ法で作製したダイヤモンドライク層を
２０ｎｍ形成し光ディスクを作製した。

【００２７】実施例５請求項５の発明の実施例を以下に示す。図４のような層
構成で、直径１２０ｍｍφのガラス基板３上に反射層６
としてＡｕ層を１００ｎｍ、記録層４としてフタロシア
ニン系の有機色素をスピンコートで塗布し保護層５とし
てＣＶＤ法で作製したダイヤモンドライク薄膜２を２０
ｎｍ形成した。これを請求項５の発明の光ディスクとし
た。

【００２８】実施例６請求項６の発明の実施例を示す。図７のように上述した
例のようなディスク表面にＣＶＤ法で作製したダイヤモ
ンドライク薄膜２を２０ｎｍ形成した。その上面に潤滑
層９として、パーフルオロポリエーテル系の潤滑剤を、
ディッピング法により厚み１．０ｎｍで形成した。これ
を請求項６の発明の光ディスクとした。

【００２９】実施例７請求項７の発明の実施例を示す。図６のような構成の光
ディスクを用いた。直径１２０ｍｍφのガラス基板３上
に反射層６としてＡｌＴｉ合金層を１２０ｎｍ、下部保
護層７としてダイヤモンドライク層を１５０ｎｍ、記録
層４としてＡｇＩｎＳｂＴｅ膜を１７ｎｍ、上部保護層
８としてＣＶＤ法で作製したダイヤモンドライク層を２
０ｎｍ形成し光ディスクを作製した。

【００３０】実施例８請求項８の発明の実施例を示す。図８のような構成の光
ディスクを用いた。直径１２０ｍｍφのアルミニウム基
板３上に下部保護層７としてＺｎＳ・ＳｉＯ₂層を１５
０ｎｍ、記録層４としてＡｇＩｎＳｂＴｅ膜を１７ｎ
ｍ、ＣＶＤ法で作製したダイヤモンドライク層２を２０
ｎｍ形成し、その上面に潤滑層９として、パーフルオロ
ポリエーテル系の潤滑剤を、ディッピング法により厚み
１．０ｎｍで形成した。これを請求項８の発明の光ディ
スクとした。

【００３１】実施例９請求項９の発明の実施例を以下に示す。図９のような構
成の光ディスクを用いた。直径１２０ｍｍφのガラス基
板３上に反射層６としてＡｌＴｉ合金層を１２０ｎｍ、
下部保護層７としてＺｎＳ・ＳｉＯ₂層を１５０ｎｍ、
記録層４としてＡｇＩｎＳｂＴｅ膜を１８ｎｍ、ＣＶＤ
法で作製したダイヤモンドライク層２を２０ｎｍ形成
し、その上面に潤滑層９として、パーフルオロポリエー
テル系の潤滑剤を、ディッピング法により厚み２ｎｍで
形成した。これを請求項９の発明の光ディスクとした。
光ディスクを作製した。

【００３２】実施例１０請求項１０の発明の実施例として、上記の例のように記
録層よりも光の入射側にある層の膜厚が１００ｎｍ以下
にする構成を請求項１０の発明の光ディスクとした。例
えば実施例９で示した例では記録層よりも光の入射側に
ある層の膜厚は２２ｎｍである。

【００３３】

【発明の効果】１．請求項１の発明により高密度光ディ
スクを提供できる。２．請求項２の発明によりヘッドと媒体の距離を小さく
することが可能となり追記型光ディスクや書換え型光デ
ィスクにおいても高密度化が可能となる。３．請求項３の発明により耐摩耗性などに優れた高密度
光ディスクを提供できる。

【００３４】４．請求項４の発明のように記録層にＡｇ
ＩｎＳｂＴｅ系の材料を用いることで書換え特性に優れ
た高密度光ディスクを提供可能となる。５．請求項５の発明のように記録層を有機色素材料とす
ることにより低コストで優れた特性を持つ高密度光ディ
スクを提供できる。６．請求項６の発明によりヘッドと媒体の間隔を小さく
しても良好な動作が得られ高密度記録が可能となる。

【００３５】７．請求項７の発明により平滑性に優れた
ディスクが実現できヘッドと媒体の距離をさらに小さく
することが可能となるためより高密度な光ディスクを提
供できる。８．請求項８の発明により平滑性に優れたディスクが実
現できヘッドと媒体の距離をさらに小さくすることが可
能となる。また反射層を兼用できるため簡単な構成で高
密度光ディスクを実現できることになる。

【００３６】９．請求項９の発明により層構成を限定し
記録再生特性に優れた高密度光ディスクを提供可能とな
る。１０．請求項１０の発明により膜厚を限定することによ
り優れた記録再生特性を発揮する高密度光ディスクを提
供可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】ディスク表面にダイヤモンドまたはダイヤモン
ドライクカーボン層を設けた光ディスクの一構成例を示
す断面図。

【図２】ディスク表面にダイヤモンドまたはダイヤモン
ドライクカーボン層を設けた光ディスクの一構成例を示
す断面図。

【図３】基板上に少なくとも１層以上の保護層と記録層
を含む多層構造からなる光ディスクの一構成例を示す断
面図。

【図４】保護層としてダイヤモンドまたはダイヤモンド
ライクカーボン層を用いた光ディスクの一構成例を示す
断面図。

【図５】保護層としてダイヤモンドまたはダイヤモンド
ライクカーボン層を用いた光ディスクの一構成例を示す
断面図。

【図６】記録層として少なくともＡｇ、Ｉｎ、Ｓｂ、Ｔ
ｅを含む材料を用いた光ディスクの一構成例を示す断面
図。

【図７】ディスク表面に施したダイヤモンドまたはダイ
ヤモンドライクカーボン層の上に潤滑層を設けた光ディ
スクの一構成例を示す断面図。

【図８】基板上に下部保護層、記録層、ダイヤモンドま
たはダイヤモンドライクカーボン層、潤滑層の順に積層
した層構成を含む多層膜を構成する光ディスクの一構成
例を示す断面図。

【図９】本発明の光ディスクの代表的な一構成例を示す
断面図。

【符号の説明】

１記録領域２ダイヤモンドまたはダイヤモンドライクカーボン層３基板４記録層５保護層６反射層７下部保護層８上部保護層９潤滑層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３５Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３５Ｇ５３５Ｈ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に記録層及び反射層を少なくとも
有する光情報記録媒体において、ダイヤモンドまたはダ
イヤモンドライクカーボン層を設けたことを特徴とする
光ディスク。
【請求項２】１層以上の保護層と記録層を含む多層構
造からなる請求項１記載の光ディスク。
【請求項３】ダイヤモンドまたはダイヤモンドライク
カーボン層を保護層として用いた請求項１又は２記載の
光ディスク。
【請求項４】記録層として少なくともＡｇ，Ｉｎ，Ｓ
ｂ，Ｔｅを含む材料を用いる請求項１ないし３のいずれ
か１項に記載の光ディスク。
【請求項５】記録層の材料として有機色素材料を用い
る請求項１ないし３のいずれか１項に記載の光ディス
ク。
【請求項６】ダイヤモンドまたはダイヤモンドライク
カーボン層の上に潤滑層を設けてなる請求項１ないし５
のいずれか１項に記載の光ディスク。
【請求項７】基板がガラスである請求項１ないし６の
いずれか１項に記載の光ディスク。
【請求項８】基板がアルミニウムまたはアルミニウム
合金である請求項１ないし６のいずれか１項に記載の光
ディスク。
【請求項９】基板上に下部保護層、記録層、ダイヤモ
ンドまたはダイヤモンドライクカーボン層、潤滑層の順
に積層した層構成を含む多層膜を構成することを特徴と
する光ディスク。
【請求項１０】記録層よりも光の入射側にある層の膜
厚が１００ｎｍ以下である請求項１ないし９のいずれか
１項に記載の光ディスク。