JPH06274941A - 光記録媒体 - Google Patents
光記録媒体Info
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- JPH06274941A JPH06274941A JP5061904A JP6190493A JPH06274941A JP H06274941 A JPH06274941 A JP H06274941A JP 5061904 A JP5061904 A JP 5061904A JP 6190493 A JP6190493 A JP 6190493A JP H06274941 A JPH06274941 A JP H06274941A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- optical recording
- film
- substrate
- laser
- Prior art date
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- Pending
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 レーザによる記録／消去の繰り返しを行って
も保護層や反射層に生じるクラック，記録膜の物質移動
などが抑制され、繰り返し特性に優れた光記録媒体を実
現すること。 【構成】 基板と基板の表面にトラッキング制御を行う
ために円周に沿った溝が設けられ、この基板上にレーザ
を照射することによって光学的変化が生じる記録膜を成
膜する光記録媒体であって、トラック溝７の底部に微細
な突起，凹形，または凹凸を形成した光記録媒体。
も保護層や反射層に生じるクラック，記録膜の物質移動
などが抑制され、繰り返し特性に優れた光記録媒体を実
現すること。 【構成】 基板と基板の表面にトラッキング制御を行う
ために円周に沿った溝が設けられ、この基板上にレーザ
を照射することによって光学的変化が生じる記録膜を成
膜する光記録媒体であって、トラック溝７の底部に微細
な突起，凹形，または凹凸を形成した光記録媒体。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、大容量記録媒体として
用いられる光記録媒体に関するものである。
用いられる光記録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、情報の高記録密度化が進み、レー
ザを用いた光記録媒体は大容量記録が可能であり、また
光ヘッドと光記録媒体がハードディスクドライブとは異
なり非接触であるため、光記録媒体の損傷も少なく信頼
性が高いことから大容量記録媒体として有望視されてい
る。
ザを用いた光記録媒体は大容量記録が可能であり、また
光ヘッドと光記録媒体がハードディスクドライブとは異
なり非接触であるため、光記録媒体の損傷も少なく信頼
性が高いことから大容量記録媒体として有望視されてい
る。
【０００３】高密度記録が可能な光記録媒体には、再生
専用型，一度だけ情報の書き込み可能な追記型，記録・
消去が可能な書換型の３タイプがある。これらの光記録
媒体の基本構成は、プラスチック，ガラス等からなる円
盤状の透明基板とその上に設けられた積層薄膜よりな
る。再生専用型の光記録は、凹凸を形成したポリカーボ
ネート基板上に反射膜であるＡl，Ａuを形成し、基板側
からレーザを集光して照射し、反射膜より戻ってくる光
の反射光強度を検出する。
専用型，一度だけ情報の書き込み可能な追記型，記録・
消去が可能な書換型の３タイプがある。これらの光記録
媒体の基本構成は、プラスチック，ガラス等からなる円
盤状の透明基板とその上に設けられた積層薄膜よりな
る。再生専用型の光記録は、凹凸を形成したポリカーボ
ネート基板上に反射膜であるＡl，Ａuを形成し、基板側
からレーザを集光して照射し、反射膜より戻ってくる光
の反射光強度を検出する。
【０００４】追記型の光記録媒体は、１回だけ情報を記
録することが可能で主に文書，静止画像ファイルとして
用いられる。追記型の光記録媒体には、数種類の記録方
式があり、レーザの熱で昇華させることにより穴を開け
情報を記録する穴開きタイプ、記録膜の結晶状態とアモ
ルファス状態の光学定数の変化による反射率の差を用い
た相変化タイプ、レーザによりバブルを形成するバブル
タイプ、さらに有機色素を用いたタイプ等がある。追記
型の光記録媒体はこれらの反応が非可逆的のものである
ため１回しか記録できないが、再生は何度でも可能であ
る。
録することが可能で主に文書，静止画像ファイルとして
用いられる。追記型の光記録媒体には、数種類の記録方
式があり、レーザの熱で昇華させることにより穴を開け
情報を記録する穴開きタイプ、記録膜の結晶状態とアモ
ルファス状態の光学定数の変化による反射率の差を用い
た相変化タイプ、レーザによりバブルを形成するバブル
タイプ、さらに有機色素を用いたタイプ等がある。追記
型の光記録媒体はこれらの反応が非可逆的のものである
ため１回しか記録できないが、再生は何度でも可能であ
る。
【０００５】書換型の光記録媒体の記録方式としては、
レーザの照射により記録膜が加熱され、その加熱された
部分が外部磁界より磁化の向きが反転することにより記
録ピットを形成して記録が行われ、また再生には記録膜
のカー効果を利用する光磁気記録、光を用いて異なる吸
収スペクトルを持つ２つの状態の可逆変化を利用した光
モード記録、そして相変化記録がある。
レーザの照射により記録膜が加熱され、その加熱された
部分が外部磁界より磁化の向きが反転することにより記
録ピットを形成して記録が行われ、また再生には記録膜
のカー効果を利用する光磁気記録、光を用いて異なる吸
収スペクトルを持つ２つの状態の可逆変化を利用した光
モード記録、そして相変化記録がある。
【０００６】図19は従来の相変化記録による光記録媒体
の断面を示すものであり、基板１に第１の誘電体膜２，
記録膜３，第２の誘電体膜４，反射膜５，ＵＶ硬化樹脂
６を順に積層させた構造を持ち、基板１上にはトラッキ
ング制御を行うため、図20に示すようなトラック溝７が
形成されている。記録方法としては、図21に示されるよ
うにレーザ８を媒体の基板側から集光，照射し、レーザ
８が記録パワーで光記録媒体９に照射されると、照射さ
れた部分の記録膜が融解して急冷されアモルファスにな
る。また、レーザ８が消去パワーで光記録媒体９に照射
されると、結晶化可能な温度まで記録膜が加熱されるの
で、記録膜は結晶状態になる。再生は記録，消去パワー
よりも低いレーザパワーを用いてアモルファス，結晶間
の相転移による光学定数の差を利用して行う。相変化光
ディスクは、単一ビームでのオーバーライトが可能であ
り、しかも光学系も単純化できることから研究開発が活
発に進められている。
の断面を示すものであり、基板１に第１の誘電体膜２，
記録膜３，第２の誘電体膜４，反射膜５，ＵＶ硬化樹脂
６を順に積層させた構造を持ち、基板１上にはトラッキ
ング制御を行うため、図20に示すようなトラック溝７が
形成されている。記録方法としては、図21に示されるよ
うにレーザ８を媒体の基板側から集光，照射し、レーザ
８が記録パワーで光記録媒体９に照射されると、照射さ
れた部分の記録膜が融解して急冷されアモルファスにな
る。また、レーザ８が消去パワーで光記録媒体９に照射
されると、結晶化可能な温度まで記録膜が加熱されるの
で、記録膜は結晶状態になる。再生は記録，消去パワー
よりも低いレーザパワーを用いてアモルファス，結晶間
の相転移による光学定数の差を利用して行う。相変化光
ディスクは、単一ビームでのオーバーライトが可能であ
り、しかも光学系も単純化できることから研究開発が活
発に進められている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、相変化
光ディスクにおいてレーザ照射により記録膜を溶融し、
急冷させることで記録マークである非晶質を形成するた
め、記録／消去を繰り返し行うと基板上に形成した薄膜
に欠陥が生じる場合がある。薄膜に欠陥が生じる原因と
しては、保護層や反射層に生じるクラック，記録膜の物
質移動などであり、そのためレーザによる記録／消去の
繰り返し特性が劣化するといった問題がある。
光ディスクにおいてレーザ照射により記録膜を溶融し、
急冷させることで記録マークである非晶質を形成するた
め、記録／消去を繰り返し行うと基板上に形成した薄膜
に欠陥が生じる場合がある。薄膜に欠陥が生じる原因と
しては、保護層や反射層に生じるクラック，記録膜の物
質移動などであり、そのためレーザによる記録／消去の
繰り返し特性が劣化するといった問題がある。
【０００８】本発明は上記従来の問題を解決するもので
あり、基板と基板上に構成される薄膜との密着性を向上
させ、保護層や反射層に生じるクラックや記録膜の流動
性を抑え込み、繰り返し特性に優れた光記録媒体を提供
することを目的とするものである。
あり、基板と基板上に構成される薄膜との密着性を向上
させ、保護層や反射層に生じるクラックや記録膜の流動
性を抑え込み、繰り返し特性に優れた光記録媒体を提供
することを目的とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため、基板上にレーザ光を照射することにより光学
的変化が生じる記録膜を成膜する記録媒体において、ト
ラック溝に底部に微細な突起，凹形または凹凸形を形成
し、その凹形の粗さが10Å以上500Å以下であることを
特徴とする光記録媒体である。
するため、基板上にレーザ光を照射することにより光学
的変化が生じる記録膜を成膜する記録媒体において、ト
ラック溝に底部に微細な突起，凹形または凹凸形を形成
し、その凹形の粗さが10Å以上500Å以下であることを
特徴とする光記録媒体である。
【００１０】
【作用】したがって、本発明による光記録媒体は、トラ
ック溝の底部に微細な突起，凹形または凹凸形を形成す
ることで、基板と基板上に成膜する薄膜との密着性を高
め、それによりレーザの照射による記録膜の結晶，非晶
質化の繰り返しにより生ずる保護層や反射層のクラッ
ク，記録膜の物質移動の発生を抑え、光記録媒体の繰り
返し特性を向上させることができる。
ック溝の底部に微細な突起，凹形または凹凸形を形成す
ることで、基板と基板上に成膜する薄膜との密着性を高
め、それによりレーザの照射による記録膜の結晶，非晶
質化の繰り返しにより生ずる保護層や反射層のクラッ
ク，記録膜の物質移動の発生を抑え、光記録媒体の繰り
返し特性を向上させることができる。
【００１１】
【実施例】以下に、本発明による実施例について説明す
る。光記録媒体の基板としては、ポリカーボネート，ア
クリル樹脂，エポキシ樹脂またはガラスやセラミック，
アルミ等が用いられる。また、光記録媒体の作製方法
は、まずガラス原盤に感光剤を塗布し、レーザによる露
光を行い現像することにより、トラック溝および微細な
突起，凹形，凹凸形を形成する。この原盤にニッケル電
気構造を行い、剥離，洗浄することでスタンパを形成す
る。このスタンパに上記した基板を載せ、樹脂を充填さ
せ硬化させることで媒体上にトラック溝および微細な突
起，凹形，凹凸形を形成する。トラック溝を形成した基
板に誘電体膜，記録膜，誘電体膜，ＵＶ硬化樹脂の順で
成膜する。
る。光記録媒体の基板としては、ポリカーボネート，ア
クリル樹脂，エポキシ樹脂またはガラスやセラミック，
アルミ等が用いられる。また、光記録媒体の作製方法
は、まずガラス原盤に感光剤を塗布し、レーザによる露
光を行い現像することにより、トラック溝および微細な
突起，凹形，凹凸形を形成する。この原盤にニッケル電
気構造を行い、剥離，洗浄することでスタンパを形成す
る。このスタンパに上記した基板を載せ、樹脂を充填さ
せ硬化させることで媒体上にトラック溝および微細な突
起，凹形，凹凸形を形成する。トラック溝を形成した基
板に誘電体膜，記録膜，誘電体膜，ＵＶ硬化樹脂の順で
成膜する。
【００１２】誘電体膜の材料としては、ＡlＮ，ＧeＮ，
ＳiＣ，Ｓi3Ｎ4，Ａl2Ｏ3，ＺrＯ2，ＺnＳ・ＳiＯ2，Ｔ
a2Ｏ5，ＣeＯ2，ＴiＯ2等がある。なお、誘電体膜は記
録膜の両側に設けることが好ましいが、いずれか一方で
もよい。記録膜の材料としては、結晶と非晶質との間で
可逆的に相変化する材料が選ばれ、このような材料とし
て、Ｇe−Ｔe，Ｇe−Ｓb−Ｔe，Ｇe−Ｔe−Ｓ，Ｇe−Ｓ
e−Ｓb，Ｉn−Ｓb−Ｔe，Ｇe−Ａs−Ｓe，Ｉn−Ｔe，Ｓ
e−Ｔe，Ｓe−Ａs，Ｉn−Ｓb等がある。反射膜として
は、Ａu，Ａl，ＣuまたはＡlＣr，ＡlＮ等の金属材料や
反射率の大きな多層膜が使える。
ＳiＣ，Ｓi3Ｎ4，Ａl2Ｏ3，ＺrＯ2，ＺnＳ・ＳiＯ2，Ｔ
a2Ｏ5，ＣeＯ2，ＴiＯ2等がある。なお、誘電体膜は記
録膜の両側に設けることが好ましいが、いずれか一方で
もよい。記録膜の材料としては、結晶と非晶質との間で
可逆的に相変化する材料が選ばれ、このような材料とし
て、Ｇe−Ｔe，Ｇe−Ｓb−Ｔe，Ｇe−Ｔe−Ｓ，Ｇe−Ｓ
e−Ｓb，Ｉn−Ｓb−Ｔe，Ｇe−Ａs−Ｓe，Ｉn−Ｔe，Ｓ
e−Ｔe，Ｓe−Ａs，Ｉn−Ｓb等がある。反射膜として
は、Ａu，Ａl，ＣuまたはＡlＣr，ＡlＮ等の金属材料や
反射率の大きな多層膜が使える。
【００１３】上記薄膜は、真空蒸着法，電子ビーム蒸着
法，イオンプレーティング法，プラズマＣＶＤ法，光Ｃ
ＶＤ法，スパッタリング法等によって形成できる。薄膜
の成膜は、Ａrガスによるスパッタリング法が適する
が、材料によっては(Ａr＋Ｎ2)ガス，(Ａr＋Ｈ2)ガス，
Ｎ2ガス，Ｈ2ガスによるスパッタリングが適する。
法，イオンプレーティング法，プラズマＣＶＤ法，光Ｃ
ＶＤ法，スパッタリング法等によって形成できる。薄膜
の成膜は、Ａrガスによるスパッタリング法が適する
が、材料によっては(Ａr＋Ｎ2)ガス，(Ａr＋Ｈ2)ガス，
Ｎ2ガス，Ｈ2ガスによるスパッタリングが適する。
【００１４】また、ＵＶ硬化樹脂は、スピンコータによ
って被膜する。基板に薄膜を成膜した後、薄膜を内側に
対向するように張り合わせを行う。光記録媒体の張り合
わせを行う際に用いる接着剤としては、ホットメルトタ
イプがよく知られている。このような製造過程を経て、
光記録媒体が作製される。なお、張り合わせを行った光
記録媒体の表面上に潤滑剤または帯電防止剤を塗布して
もかまわない。
って被膜する。基板に薄膜を成膜した後、薄膜を内側に
対向するように張り合わせを行う。光記録媒体の張り合
わせを行う際に用いる接着剤としては、ホットメルトタ
イプがよく知られている。このような製造過程を経て、
光記録媒体が作製される。なお、張り合わせを行った光
記録媒体の表面上に潤滑剤または帯電防止剤を塗布して
もかまわない。
【００１５】次に、本発明の光記録媒体について具体的
に説明する。図１は本発明の第１の実施例における光記
録媒体の断面図であって、図１に示されるように、直径
86mmの基板(ガラスディスク基板)１上に第１の誘電体膜
２としてＺnＳ・ＳiＯ2、記録膜３としてＧe−Ｓb−Ｔ
e、第２の誘電体膜４としてＺnＳ・ＳiＯ2、反射膜５と
してＡrＣr、反射膜５の上にＵＶ硬化樹脂６を順次積層
させた構造となっている。また、基板１上には、図２に
示されるようにトラッキング制御を行うためのトラック
溝７と、そのトラック溝７の底部に突起物12が形成され
ている。突起物12の高さは100Åであり、この突起物12
が幅0.8μm，深さ700Åのトラック溝７の底部に均一に
多数形成されている。なお、基板１の表面に潤滑剤10ま
たは帯電防止剤11を塗布しても構わない。
に説明する。図１は本発明の第１の実施例における光記
録媒体の断面図であって、図１に示されるように、直径
86mmの基板(ガラスディスク基板)１上に第１の誘電体膜
２としてＺnＳ・ＳiＯ2、記録膜３としてＧe−Ｓb−Ｔ
e、第２の誘電体膜４としてＺnＳ・ＳiＯ2、反射膜５と
してＡrＣr、反射膜５の上にＵＶ硬化樹脂６を順次積層
させた構造となっている。また、基板１上には、図２に
示されるようにトラッキング制御を行うためのトラック
溝７と、そのトラック溝７の底部に突起物12が形成され
ている。突起物12の高さは100Åであり、この突起物12
が幅0.8μm，深さ700Åのトラック溝７の底部に均一に
多数形成されている。なお、基板１の表面に潤滑剤10ま
たは帯電防止剤11を塗布しても構わない。
【００１６】次に、光記録媒体の製造方法について説明
する。図３に示すように、表面を研磨したガラス原盤13
を洗浄，乾燥させてその上に記録剤であるフォトレジス
ト14を膜厚700Åでコーティングする。コーティングを
行ったガラス原盤13は、ベーキングによりガラス原盤13
とフォトレジスト14との密着性を高めさせる。次に、フ
ォトレジスト(レジスト膜)14をコーティングしたガラス
原盤13は、変調を受けたレーザ８により図４に示すよう
に露光され、露光後フォトレジスト14を除去すると図５
に示すようにガラス原盤13に0.8μm，深さ700Åの溝16
が形成される。この原盤13にさらに図６に示すように、
フォトレジスト14aを膜厚100Åコーティングし、レーザ
を露光し、フォトレジスト部分を除去すると図７のよう
にガラス原盤に高さ100Åの凹形17が形成される。次
に、このガラス原盤13に対しニッケル電気鋳造を行い、
剥離，洗浄を行うことで、スタンパを形成する。このス
タンパに、直径86mmの基板(ガラスディスク基板)１を載
せ、図８のようにスタンパとガラスディスク基板１の間
にフォトポリマー樹脂15を充填あるいは塗布し、赤外線
を照射することで液体上であった樹脂は光架端反応によ
り硬化する。その後、ガラスディスク基板１と硬化した
フォトポリマーをはぎ取ると、図２に示すようにガラス
ディスク基板１上にトラック溝７とトラック溝７の底部
に微細な突起物12を形成させる。
する。図３に示すように、表面を研磨したガラス原盤13
を洗浄，乾燥させてその上に記録剤であるフォトレジス
ト14を膜厚700Åでコーティングする。コーティングを
行ったガラス原盤13は、ベーキングによりガラス原盤13
とフォトレジスト14との密着性を高めさせる。次に、フ
ォトレジスト(レジスト膜)14をコーティングしたガラス
原盤13は、変調を受けたレーザ８により図４に示すよう
に露光され、露光後フォトレジスト14を除去すると図５
に示すようにガラス原盤13に0.8μm，深さ700Åの溝16
が形成される。この原盤13にさらに図６に示すように、
フォトレジスト14aを膜厚100Åコーティングし、レーザ
を露光し、フォトレジスト部分を除去すると図７のよう
にガラス原盤に高さ100Åの凹形17が形成される。次
に、このガラス原盤13に対しニッケル電気鋳造を行い、
剥離，洗浄を行うことで、スタンパを形成する。このス
タンパに、直径86mmの基板(ガラスディスク基板)１を載
せ、図８のようにスタンパとガラスディスク基板１の間
にフォトポリマー樹脂15を充填あるいは塗布し、赤外線
を照射することで液体上であった樹脂は光架端反応によ
り硬化する。その後、ガラスディスク基板１と硬化した
フォトポリマーをはぎ取ると、図２に示すようにガラス
ディスク基板１上にトラック溝７とトラック溝７の底部
に微細な突起物12を形成させる。
【００１７】このようにして作製したガラスディスク基
板１を真空スパッタ装置内に設置し、チャンバー内を高
真空にする。次にチャンバー内にＡrガスを導入し、Ｚn
Ｓ・ＳiＯ2ターゲットをスパッタリングしてガラスディ
スク基板１に第１の誘電体膜２を200nm形成する。この
第１の誘電体膜２上にターゲットの多元同時スパッタリ
ング、または記録膜組成に調整されたＧe−Ｓb−Ｔeの
合金ターゲットをスパッタリングすることにより、記録
膜３を20nm形成する。次に記録膜３上にＺnＳ・ＳiＯ2
ターゲットをスパッタリングして第２の誘電体膜４を60
nm形成する。さらに、この誘電体膜４上に反射膜５の材
料であるＡlＣrターゲットをスパッタリングして反射膜
５を40nm形成する。その後、スピンコータによりＵＶ硬
化樹脂６を被膜する。なお、ガラスディスク基板１表面
に潤滑剤10または帯電防止剤11を塗布しても構わない。
成膜後の記録膜は非晶質状態であるので、ディスクを回
転させながらレーザをディスク前面に照射させ記録膜を
結晶化し、これを初期状態とした。
板１を真空スパッタ装置内に設置し、チャンバー内を高
真空にする。次にチャンバー内にＡrガスを導入し、Ｚn
Ｓ・ＳiＯ2ターゲットをスパッタリングしてガラスディ
スク基板１に第１の誘電体膜２を200nm形成する。この
第１の誘電体膜２上にターゲットの多元同時スパッタリ
ング、または記録膜組成に調整されたＧe−Ｓb−Ｔeの
合金ターゲットをスパッタリングすることにより、記録
膜３を20nm形成する。次に記録膜３上にＺnＳ・ＳiＯ2
ターゲットをスパッタリングして第２の誘電体膜４を60
nm形成する。さらに、この誘電体膜４上に反射膜５の材
料であるＡlＣrターゲットをスパッタリングして反射膜
５を40nm形成する。その後、スピンコータによりＵＶ硬
化樹脂６を被膜する。なお、ガラスディスク基板１表面
に潤滑剤10または帯電防止剤11を塗布しても構わない。
成膜後の記録膜は非晶質状態であるので、ディスクを回
転させながらレーザをディスク前面に照射させ記録膜を
結晶化し、これを初期状態とした。
【００１８】次に、この光記録媒体に対し、繰り返し特
性の試験を行った。試験方法としては、ディスクの線速
度10ｍ／ｓで半導体レーザを使用して信号の書き込みを
行った。使用した半導体レーザの波長は、λ＝830nmで
繰り返し特性として光記録媒体のエラービット数，Ｃ／
Ｎ，消去率(ＥＲＳ)の測定を行った。
性の試験を行った。試験方法としては、ディスクの線速
度10ｍ／ｓで半導体レーザを使用して信号の書き込みを
行った。使用した半導体レーザの波長は、λ＝830nmで
繰り返し特性として光記録媒体のエラービット数，Ｃ／
Ｎ，消去率(ＥＲＳ)の測定を行った。
【００１９】図18に従来の記録媒体の繰り返し特性を示
し、図９に本発明の第１実施例による光記録媒体の繰り
返し特性を示している。図９と図18によりトラック溝７
の底部に微細な突起物12を形成することで従来の光記録
媒体に比べ、107回のエラービット数の増加が見られ
ず、また消去率は50dB以上であり、トラック溝７の底部
に微細な突起物12を形成することで繰り返し特性の向上
が認められる。
し、図９に本発明の第１実施例による光記録媒体の繰り
返し特性を示している。図９と図18によりトラック溝７
の底部に微細な突起物12を形成することで従来の光記録
媒体に比べ、107回のエラービット数の増加が見られ
ず、また消去率は50dB以上であり、トラック溝７の底部
に微細な突起物12を形成することで繰り返し特性の向上
が認められる。
【００２０】図10は本発明の第２の実施例としてトラッ
ク溝７の底部に形成された微細な凹形18を示す図であ
る。凹形18の深さは100Å程である。この凹形18が幅0.8
μm，深さ700Åのトラック溝７の底部に均一に多数形成
されている。この光記録媒体の膜構造は、図１と同じで
あるのでその記載を省略する。
ク溝７の底部に形成された微細な凹形18を示す図であ
る。凹形18の深さは100Å程である。この凹形18が幅0.8
μm，深さ700Åのトラック溝７の底部に均一に多数形成
されている。この光記録媒体の膜構造は、図１と同じで
あるのでその記載を省略する。
【００２１】次に、光記録媒体の製造方法について説明
する。表面を研磨したガラス原盤13を洗浄，乾燥させそ
の上に記録剤であるフォトレジスト14を図３のように膜
厚700Åでコーティングする。次に、フォトレジスト14
をコーティングしたガラス原盤13は、レーザ８により図
４に示すように露光され、露光後フォトレジスト１４を
除去すると図５に示すようにガラス原盤１３に幅0.8μ
m，深さ700Åの溝16が形成される。
する。表面を研磨したガラス原盤13を洗浄，乾燥させそ
の上に記録剤であるフォトレジスト14を図３のように膜
厚700Åでコーティングする。次に、フォトレジスト14
をコーティングしたガラス原盤13は、レーザ８により図
４に示すように露光され、露光後フォトレジスト１４を
除去すると図５に示すようにガラス原盤１３に幅0.8μ
m，深さ700Åの溝16が形成される。
【００２２】このガラス原盤13にさらにフォトレジスト
14aを膜厚100Åコーティングし、レーザ８を図11のよう
に露光し、レジスト部分を除去すると図12のようにガラ
ス原盤13に100Åの凸形19が形成される。次に、上記の
ガラス原盤13に対しニッケル電気鋳造を行い、剥離，洗
浄を行うことでスタンパを形成する。このスタンパに、
直径86mmのガラスディスク基板１を載せ、図８のように
スタンパとガラスディスク基板１の間にフォトポリマー
樹脂15を充填あるいは塗布し、赤外線を照射すること
で、図10に示されるようにガラスディスク基板１上にト
ラック溝７とトラック溝７の底部に微細な凹形18を形成
させる。この光記録媒体の成膜方法は、実施例１と同様
であるからその記載を省略する。
14aを膜厚100Åコーティングし、レーザ８を図11のよう
に露光し、レジスト部分を除去すると図12のようにガラ
ス原盤13に100Åの凸形19が形成される。次に、上記の
ガラス原盤13に対しニッケル電気鋳造を行い、剥離，洗
浄を行うことでスタンパを形成する。このスタンパに、
直径86mmのガラスディスク基板１を載せ、図８のように
スタンパとガラスディスク基板１の間にフォトポリマー
樹脂15を充填あるいは塗布し、赤外線を照射すること
で、図10に示されるようにガラスディスク基板１上にト
ラック溝７とトラック溝７の底部に微細な凹形18を形成
させる。この光記録媒体の成膜方法は、実施例１と同様
であるからその記載を省略する。
【００２３】次に、この光記録媒体に対し、実施例１と
同様の繰り返し特性の試験を行った。その結果を図13に
示す。図13と図18より、トラック溝７の底部に微細な凹
形18を形成することで、107回サイクル試験を行っても
従来の記録媒体に比べ、ビットエラー数，Ｃ／Ｎ，ＥＲ
Ｓのいずれにおいても特性の劣化が認められず、本発明
により特性の改善が図られた。
同様の繰り返し特性の試験を行った。その結果を図13に
示す。図13と図18より、トラック溝７の底部に微細な凹
形18を形成することで、107回サイクル試験を行っても
従来の記録媒体に比べ、ビットエラー数，Ｃ／Ｎ，ＥＲ
Ｓのいずれにおいても特性の劣化が認められず、本発明
により特性の改善が図られた。
【００２４】図14は本発明の第３の実施例としてトラッ
ク溝７の底部に形成された微細な凹凸形20を示す図であ
る。凹凸形20の凹形の深さは100Åであり、凸形の高さ
は50Åである。この凹凸形20が幅0.8μm，深さ700Åの
トラック溝７の底部に均一に多数形成されている。この
光記録媒体の膜構造は、図１と同様であるからその記載
を省略する。
ク溝７の底部に形成された微細な凹凸形20を示す図であ
る。凹凸形20の凹形の深さは100Åであり、凸形の高さ
は50Åである。この凹凸形20が幅0.8μm，深さ700Åの
トラック溝７の底部に均一に多数形成されている。この
光記録媒体の膜構造は、図１と同様であるからその記載
を省略する。
【００２５】次に、光記録媒体の製造方法について説明
する。表面を研磨したガラス原盤13を洗浄，乾燥させそ
の上に記録剤であるフォトレジスト14を図３のように膜
厚700Åでコーティングする。次に、フォトレジスト14
をコーティングしたガラス原盤13は、レーザ８により図
４に示すように露光され、露光後レジストを除去すると
図５に示すようにガラス原盤13に幅0.8μm，深さ700Å
の溝16が形成される。
する。表面を研磨したガラス原盤13を洗浄，乾燥させそ
の上に記録剤であるフォトレジスト14を図３のように膜
厚700Åでコーティングする。次に、フォトレジスト14
をコーティングしたガラス原盤13は、レーザ８により図
４に示すように露光され、露光後レジストを除去すると
図５に示すようにガラス原盤13に幅0.8μm，深さ700Å
の溝16が形成される。
【００２６】このガラス原盤13にさらにフォトレジスト
14aを膜厚100Åコーティングし、溝16の底部にレーザ８
を図15のように露光し、レジスト部分を除去すると、図
16のようにガラス原盤13に高さ100Åの凸部および深さ5
0Åの凹部の凹凸形21が形成される。次に、微細な凹凸
形21を形成したガラス原盤13に対しニッケル電気鋳造を
行い、剥離，洗浄を行うことでスタンパを形成する。こ
のスタンパに、直径86mmのガラスディスク基板１を載
せ、図８のようにスタンパとガラスディスク基板１の間
にフォトポリマー樹脂15を充填あるいは塗布し、赤外線
を照射することで、図14に示されるようにガラスディス
ク基板１上にトラック溝７とトラック溝７の底部に微細
な凹凸形20を形成させる。
14aを膜厚100Åコーティングし、溝16の底部にレーザ８
を図15のように露光し、レジスト部分を除去すると、図
16のようにガラス原盤13に高さ100Åの凸部および深さ5
0Åの凹部の凹凸形21が形成される。次に、微細な凹凸
形21を形成したガラス原盤13に対しニッケル電気鋳造を
行い、剥離，洗浄を行うことでスタンパを形成する。こ
のスタンパに、直径86mmのガラスディスク基板１を載
せ、図８のようにスタンパとガラスディスク基板１の間
にフォトポリマー樹脂15を充填あるいは塗布し、赤外線
を照射することで、図14に示されるようにガラスディス
ク基板１上にトラック溝７とトラック溝７の底部に微細
な凹凸形20を形成させる。
【００２７】次に、この光記録媒体に対し、実施例１と
同様の繰り返し特性の試験を行った。その結果を図17に
示す。図17，図18よりトラック溝７の底部に微細な凹凸
形20を形成することで銃等の光記録媒体に比べＣ／Ｎは
ほとんど変わらないものの、ビットエラー数，ＥＲＳに
関しては特性の向上が確認された。
同様の繰り返し特性の試験を行った。その結果を図17に
示す。図17，図18よりトラック溝７の底部に微細な凹凸
形20を形成することで銃等の光記録媒体に比べＣ／Ｎは
ほとんど変わらないものの、ビットエラー数，ＥＲＳに
関しては特性の向上が確認された。
【００２８】
【発明の効果】上記各実施例から明らかなように、本発
明によれば、光記録媒体におけるトラック溝の底部に微
細な突起，凹形，凹凸形を形成することにより、基板と
基板上に構成される薄膜との密着性が高まり、レーザ照
射による記録／消去の繰り返しによって保護層や反射層
に生じるクラック，記録膜の物質移動などが抑制され、
繰り返し特性に優れた光記録媒体を提供することができ
るという効果を有する。
明によれば、光記録媒体におけるトラック溝の底部に微
細な突起，凹形，凹凸形を形成することにより、基板と
基板上に構成される薄膜との密着性が高まり、レーザ照
射による記録／消去の繰り返しによって保護層や反射層
に生じるクラック，記録膜の物質移動などが抑制され、
繰り返し特性に優れた光記録媒体を提供することができ
るという効果を有する。
【図１】本発明の実施例における光記録媒体の断面図で
ある。
ある。
【図２】本発明の第１の実施例におけるトラック溝の底
部に形成された微細な突起を示す図である。
部に形成された微細な突起を示す図である。
【図３】本発明の実施例におけるガラス原盤にフォトレ
ジストをコーティングした図である。
ジストをコーティングした図である。
【図４】本発明の実施例においてフォトレジストをコー
ティングしたガラス原盤を露光する状態を示す図であ
る。
ティングしたガラス原盤を露光する状態を示す図であ
る。
【図５】本発明の第１の実施例におけるガラス原盤に形
成されたトラック溝を示す図である。
成されたトラック溝を示す図である。
【図６】本発明の第１の実施例におけるトラック溝のフ
ォトレジストに対するレーザ照射部分を示す図である。
ォトレジストに対するレーザ照射部分を示す図である。
【図７】本発明の第１の実施例におけるガラス原盤上に
形成された微細な凹部を示す図である。
形成された微細な凹部を示す図である。
【図８】本発明の実施例においてスタンパとガラスディ
スク基板の間にフォトポリマー樹脂を充填した状態を示
した図である。
スク基板の間にフォトポリマー樹脂を充填した状態を示
した図である。
【図９】本発明の第１の実施例における光記録媒体のオ
ーバーライト特性を示した図である。
ーバーライト特性を示した図である。
【図１０】本発明の第１の実施例におけるトラック溝の
底部に形成された微細な凹部を示す図である。
底部に形成された微細な凹部を示す図である。
【図１１】本発明の第２の実施例におけるフォトレジス
トに対するレーザ照射部分を示す図である。
トに対するレーザ照射部分を示す図である。
【図１２】本発明の第２の実施例におけるガラス原盤上
に形成された微細な突起を示す図である。
に形成された微細な突起を示す図である。
【図１３】本発明の第２の実施例における光記録媒体の
オーバーライト特性を示した図である。
オーバーライト特性を示した図である。
【図１４】本発明の第３の実施例におけるトラック溝の
底部に形成された微細な凹凸部を示す図である。
底部に形成された微細な凹凸部を示す図である。
【図１５】本発明の第３の実施例におけるフォトレジス
トに対するレーザ照射部分を示す図である。
トに対するレーザ照射部分を示す図である。
【図１６】本発明の第３の実施例におけるガラス原盤上
に形成された微細な凹凸を示す図である。
に形成された微細な凹凸を示す図である。
【図１７】本発明の第３の実施例における光記録媒体の
オーバーライト特性を示した図である。
オーバーライト特性を示した図である。
【図１８】従来の光記録媒体のオーバーライト特性を示
した図である。
した図である。
【図１９】従来の光記録媒体の断面を示す図である。
【図２０】従来の光記録媒体のトラック溝を示す図であ
る。
る。
【図２１】光記録媒体の記録方式を示す図である。
１…基板(ガラスディスク基板)、 ２…第１の誘電体
膜、 ３…記録膜、 ４…第２の誘電体膜、 ５…反射
膜、 ６…ＵＶ硬化樹脂、 ７…トラック溝、 ８…レ
ーザ、 ９…光記録媒体、 10…潤滑剤、 11…帯電防
止剤、 12…突起物、 13…ガラス原盤、 14，14a…
フォトレジスト、 15…フォトポリマー樹脂、 16…
溝、 17，18…凹形、 19…凸形、 20，21…凹凸形。
膜、 ３…記録膜、 ４…第２の誘電体膜、 ５…反射
膜、 ６…ＵＶ硬化樹脂、 ７…トラック溝、 ８…レ
ーザ、 ９…光記録媒体、 10…潤滑剤、 11…帯電防
止剤、 12…突起物、 13…ガラス原盤、 14，14a…
フォトレジスト、 15…フォトポリマー樹脂、 16…
溝、 17，18…凹形、 19…凸形、 20，21…凹凸形。
Claims (2)
- 【請求項１】 基板と基板の表面にトラッキング制御を
行うために円周に沿った溝が設けられ、この基板上にレ
ーザを照射することによって光学的変化が生じる記録層
を有する光記録媒体であって、トラッキング制御を行う
溝の底部に凸形，凹形または凹凸形を設けることを特徴
とする光記録媒体。 - 【請求項２】 前記トラッキング制御を行う溝の底部に
設けられた凹形の粗さが10Å以上500Å以下であること
を特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5061904A JPH06274941A (ja) | 1993-03-22 | 1993-03-22 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5061904A JPH06274941A (ja) | 1993-03-22 | 1993-03-22 | 光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06274941A true JPH06274941A (ja) | 1994-09-30 |
Family
ID=13184612
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5061904A Pending JPH06274941A (ja) | 1993-03-22 | 1993-03-22 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06274941A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19990025527A (ko) * | 1997-09-12 | 1999-04-06 | 윤종용 | 기록 가능한 광기록 매체 |
| CN100440347C (zh) * | 2004-10-19 | 2008-12-03 | 三洋电机株式会社 | 光记录介质、光记录方法、光再生方法及其装置 |
-
1993
- 1993-03-22 JP JP5061904A patent/JPH06274941A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19990025527A (ko) * | 1997-09-12 | 1999-04-06 | 윤종용 | 기록 가능한 광기록 매체 |
| CN100440347C (zh) * | 2004-10-19 | 2008-12-03 | 三洋电机株式会社 | 光记录介质、光记录方法、光再生方法及其装置 |
| US7719953B2 (en) | 2004-10-19 | 2010-05-18 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Optical recording medium, optical recording method, optical reproducing method, optical recording apparatus, and optical reproducing apparatus |
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