JP2525647B2 - 光記録媒体 - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高速データフィルや映像記録等の記録媒体
として有用な光記録媒体の改良に関するものであり特に
特性の経時劣化の改良された光記録媒体に関するもので
ある。
として有用な光記録媒体の改良に関するものであり特に
特性の経時劣化の改良された光記録媒体に関するもので
ある。
高密度で大容量であることまた記録再生ヘッドと非接
触であること等多くの特徴を有する光記録は、近年その
開発実用化が活発に進められている。そしてその記録媒
体としては、消去、再記録が容易であるということから
光磁気記録媒体及び相変化型記録媒体等が注目されてい
る。
触であること等多くの特徴を有する光記録は、近年その
開発実用化が活発に進められている。そしてその記録媒
体としては、消去、再記録が容易であるということから
光磁気記録媒体及び相変化型記録媒体等が注目されてい
る。
光磁気記録媒体の記録層には磁性体が利用され情報が
磁化の変化として記録され再生光の偏光状態の変化とし
て記録された情報を読み取る。その磁性体としてはGb,T
b,Dy等の希土類金属とFe,Co,Ni等の遷移金属との合金を
主成分とする非晶質希土類遷移金属（例えば、GdLo,GdF
e,TbFe,DyFe,GdTbFe,GdFeCo,TbFeCo,TbFeNi等）が磁気
光学効果が優れているということから一般的である。そ
して、この非晶質希土類遷移金属をスパッタ法等により
薄膜の記録層として光磁気記録媒体に供せられる。とこ
ろが、この希土類遷移金属は、極めて酸化され易く、酸
化により保持力等の磁気特性が低下してしまい光磁気記
録媒体が経時によりその特性が劣化して安定に記録再生
が行えないという問題があった。従って、非晶質希土類
遷移金属よりなる記録層の酸化を防止することが光磁気
記録媒体の長期信頼性を保持して実用化を図る上で大き
な課題であった。
磁化の変化として記録され再生光の偏光状態の変化とし
て記録された情報を読み取る。その磁性体としてはGb,T
b,Dy等の希土類金属とFe,Co,Ni等の遷移金属との合金を
主成分とする非晶質希土類遷移金属（例えば、GdLo,GdF
e,TbFe,DyFe,GdTbFe,GdFeCo,TbFeCo,TbFeNi等）が磁気
光学効果が優れているということから一般的である。そ
して、この非晶質希土類遷移金属をスパッタ法等により
薄膜の記録層として光磁気記録媒体に供せられる。とこ
ろが、この希土類遷移金属は、極めて酸化され易く、酸
化により保持力等の磁気特性が低下してしまい光磁気記
録媒体が経時によりその特性が劣化して安定に記録再生
が行えないという問題があった。従って、非晶質希土類
遷移金属よりなる記録層の酸化を防止することが光磁気
記録媒体の長期信頼性を保持して実用化を図る上で大き
な課題であった。
一方、相変化型記録媒体には、例えば結晶／非晶質間
相変化型のものが一般的であり、ヒートモードで記録し
てその相変化に伴う反射率の変化から記録された情報を
読み取る。その記録層には、Te系と非Te系とがある。
相変化型のものが一般的であり、ヒートモードで記録し
てその相変化に伴う反射率の変化から記録された情報を
読み取る。その記録層には、Te系と非Te系とがある。
相変化型記録媒体においても光磁気記録媒体の場合程
ではないが、記録相が大気中の酸素や水分の影響を受け
その特性が劣化するという問題があり、特性の経時劣化
の改良はやはり実用化上の大きな課題であった。
ではないが、記録相が大気中の酸素や水分の影響を受け
その特性が劣化するという問題があり、特性の経時劣化
の改良はやはり実用化上の大きな課題であった。
光磁気記録媒体の記録層の経時劣化を防止する方法と
しては例えば記録層中にAl,Ti,Cr,Pt等の金属を添加す
る方法が提案されているが、大幅な耐蝕性、耐候性の向
上は望めなかった。また、保護層も提案されており、こ
れには大きく分けて無機物の保護層を用いる方法及び有
機物を用いる方法がある。無機物の保護層としてはSiO
x,SiNx,AlNx及びZnS等の酸化物、窒化物及び硫化物等の
誘電体保護層が知られている。SiOxは、酸化物であるた
め保護層を形成する際にかえて記録層の磁気特性を劣化
させてしまう危険性があった。SiNx,AlNx及びZnS等にお
いては非酸化物であるので大気を遮断する効果は優れて
いるが効果を充分ならしめるほどの膜厚にするのに長い
名膜時間を要した。また、膜厚が大きくなると内部応力
に起因したクラックが発生し易くさらに熱の吸収が大き
くなるため光磁気記録媒体の感度の低下をもたらした。
しては例えば記録層中にAl,Ti,Cr,Pt等の金属を添加す
る方法が提案されているが、大幅な耐蝕性、耐候性の向
上は望めなかった。また、保護層も提案されており、こ
れには大きく分けて無機物の保護層を用いる方法及び有
機物を用いる方法がある。無機物の保護層としてはSiO
x,SiNx,AlNx及びZnS等の酸化物、窒化物及び硫化物等の
誘電体保護層が知られている。SiOxは、酸化物であるた
め保護層を形成する際にかえて記録層の磁気特性を劣化
させてしまう危険性があった。SiNx,AlNx及びZnS等にお
いては非酸化物であるので大気を遮断する効果は優れて
いるが効果を充分ならしめるほどの膜厚にするのに長い
名膜時間を要した。また、膜厚が大きくなると内部応力
に起因したクラックが発生し易くさらに熱の吸収が大き
くなるため光磁気記録媒体の感度の低下をもたらした。
また、有機物の保護層としては、ホットメルト樹脂、
紫外線・電子線硬化樹脂の保護層が知られている。ホッ
トメルト樹脂の保護層は、例えば特開昭61−68750号公
報に開示されており、ロールコーター等により記録層上
に形成されるが、形成速度も比較的早く膜厚も大きくし
易い等の利点はあるが、金属ロールとの接触のために記
録層がしばしば損傷を受けるという問題があった。紫外
線硬化樹脂は、電子線硬化樹脂に比べて設備投資が少な
いという利点があり、また厚膜化も容易であり、被膜の
耐熱性、耐擦傷性にも優れピンホールの発生も少ない等
保護層として優れた特徴を有している。紫外線硬化樹脂
としては、例えば特開昭60−117430号公報、特開昭61−
133067号公報、特開昭61−144744号公報、特開昭62−18
9651号公報等に開示されている。紫外線硬化樹脂の保護
層は、厚膜化も比較的容易で耐熱性、耐擦傷性にも優れ
ている。しかしながら、紫外線硬化樹脂の保護層は残留
モノマーや光開始剤または接触等の影響により記録層に
ピンホールや腐食を生じさせることがあった。
紫外線・電子線硬化樹脂の保護層が知られている。ホッ
トメルト樹脂の保護層は、例えば特開昭61−68750号公
報に開示されており、ロールコーター等により記録層上
に形成されるが、形成速度も比較的早く膜厚も大きくし
易い等の利点はあるが、金属ロールとの接触のために記
録層がしばしば損傷を受けるという問題があった。紫外
線硬化樹脂は、電子線硬化樹脂に比べて設備投資が少な
いという利点があり、また厚膜化も容易であり、被膜の
耐熱性、耐擦傷性にも優れピンホールの発生も少ない等
保護層として優れた特徴を有している。紫外線硬化樹脂
としては、例えば特開昭60−117430号公報、特開昭61−
133067号公報、特開昭61−144744号公報、特開昭62−18
9651号公報等に開示されている。紫外線硬化樹脂の保護
層は、厚膜化も比較的容易で耐熱性、耐擦傷性にも優れ
ている。しかしながら、紫外線硬化樹脂の保護層は残留
モノマーや光開始剤または接触等の影響により記録層に
ピンホールや腐食を生じさせることがあった。
相変化型記録媒体においても経時劣化の問題を改良す
るために光磁気記録媒体と同様の方法で保護層が設けら
れてきたが、上述したのと同様な問題があった。
るために光磁気記録媒体と同様の方法で保護層が設けら
れてきたが、上述したのと同様な問題があった。
本発明は、上記の従来技術に伴う問題点を改良し、経
時劣化の少ない長期信頼性の優れた光記録媒体を提供す
ることを目的とするものである。
時劣化の少ない長期信頼性の優れた光記録媒体を提供す
ることを目的とするものである。
上記本発明の目的は、基板上に少なくとも記録層を有
する光記録媒体において、ウレタンアクリレート、Ｎ−
ビニルピロリドン、３官能以上のアクリレート及び光開
始剤を含有する組成物の紫外線硬化樹脂からなる保護層
を有することを特徴とする光記録媒体により達成され
る。
する光記録媒体において、ウレタンアクリレート、Ｎ−
ビニルピロリドン、３官能以上のアクリレート及び光開
始剤を含有する組成物の紫外線硬化樹脂からなる保護層
を有することを特徴とする光記録媒体により達成され
る。
本発明においては、Ｎ−ビニルピロリドン及び３官能
以上のアクリレートが樹脂組成物の硬化速度を速める働
きがあり紫外線硬化樹脂組成物中における残留モノマー
を減少させもって記録層に生じるピンホールや腐食の発
生を抑えている。さらに、ウレタンアクリレートは柔軟
性に富むので例えば使用環境の急激な温度変化等で生じ
た歪みを緩和して繰り返し使用に耐える耐久性に優れた
光記録媒体とすることができる。
以上のアクリレートが樹脂組成物の硬化速度を速める働
きがあり紫外線硬化樹脂組成物中における残留モノマー
を減少させもって記録層に生じるピンホールや腐食の発
生を抑えている。さらに、ウレタンアクリレートは柔軟
性に富むので例えば使用環境の急激な温度変化等で生じ
た歪みを緩和して繰り返し使用に耐える耐久性に優れた
光記録媒体とすることができる。
本発明において紫外線硬化樹脂組成物を構成するウレ
タンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネ
ート及び水酸基含有アクリレートを常法により反応させ
て得られるもので、なかでも２価アルコール、２価イソ
シアネート、及び水酸基含有アクリレートを反応させて
得られるものが好んで用いられる。多価アルコールとし
て、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、イソフタル
酸、テレフタル酸等の有機多塩基酸とエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、1,
2−ブチレングリコール、1,3−ブチレングリコール、1,
4−ブチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ネオ
ペンチルグリコール、トリメチロールプロパン等の多価
アルコール類とのエステル反応やε−カプロラクトンの
開環重合などにより得ることが出来るポリエステルポリ
オールを用いた場合、ウレタンアクリレートは、硬化物
の強度及び伸び率が大きいものを得ることが出来る。ま
た、ポリエチレングリコール、ポプロピレングリコー
ル、ポリテトラメチレングリコール、ビスフェノールＡ
の酸化エチレン付加物等のポリエーテルポリオールを多
価アルコールとして用いた場合は、粘度が低く、耐加水
分解性に優れたウレタンアクリレートを得ることが出来
る。多価イソシアネートとしては、トリレンジイソシア
ネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、
1,5−ナフチレンジイソシアネート、トリジンジイソシ
アネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族イソ
シアネート及び1,6−ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネートなどの脂環式イソシア
ネートを用いることが出来る。このウレタンアクリレー
トのアクリロイル基１個当たりの分子量（アクリロイル
当量）は、400〜1500であるのが好ましい。アクリロイ
ル基１個当たりの分子量（アクリロイル当量）が400よ
り小さいと、耐久性が不十分となる場合がある。一方、
アクリロイル基１個当たりの分子量（アクリロイル当
量）が1500より大きくなると、粘度上昇による作業性の
低下や硬化速度の低下という問題を生じる場合がある。
またこの組成物におけるウレタンアクリレート配合量
は、35〜70重量％であるのが好ましい。配合量が35重量
％より少ないと充分な耐久性を得られないことがあり、
70重量％より多いと、粘度上昇による作業性の低下を招
くことがある。
タンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネ
ート及び水酸基含有アクリレートを常法により反応させ
て得られるもので、なかでも２価アルコール、２価イソ
シアネート、及び水酸基含有アクリレートを反応させて
得られるものが好んで用いられる。多価アルコールとし
て、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、イソフタル
酸、テレフタル酸等の有機多塩基酸とエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、1,
2−ブチレングリコール、1,3−ブチレングリコール、1,
4−ブチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ネオ
ペンチルグリコール、トリメチロールプロパン等の多価
アルコール類とのエステル反応やε−カプロラクトンの
開環重合などにより得ることが出来るポリエステルポリ
オールを用いた場合、ウレタンアクリレートは、硬化物
の強度及び伸び率が大きいものを得ることが出来る。ま
た、ポリエチレングリコール、ポプロピレングリコー
ル、ポリテトラメチレングリコール、ビスフェノールＡ
の酸化エチレン付加物等のポリエーテルポリオールを多
価アルコールとして用いた場合は、粘度が低く、耐加水
分解性に優れたウレタンアクリレートを得ることが出来
る。多価イソシアネートとしては、トリレンジイソシア
ネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、
1,5−ナフチレンジイソシアネート、トリジンジイソシ
アネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族イソ
シアネート及び1,6−ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネートなどの脂環式イソシア
ネートを用いることが出来る。このウレタンアクリレー
トのアクリロイル基１個当たりの分子量（アクリロイル
当量）は、400〜1500であるのが好ましい。アクリロイ
ル基１個当たりの分子量（アクリロイル当量）が400よ
り小さいと、耐久性が不十分となる場合がある。一方、
アクリロイル基１個当たりの分子量（アクリロイル当
量）が1500より大きくなると、粘度上昇による作業性の
低下や硬化速度の低下という問題を生じる場合がある。
またこの組成物におけるウレタンアクリレート配合量
は、35〜70重量％であるのが好ましい。配合量が35重量
％より少ないと充分な耐久性を得られないことがあり、
70重量％より多いと、粘度上昇による作業性の低下を招
くことがある。
市販のウレタンアクリレートの例としては、アロニッ
クスＭ−1100、アロニックスＭ−1200、アロニックスＭ
−1310（以上東亜合成化学工業（部）製）やビスコート
813、ビスコート823（以上大阪有機工業（株）製）、Eb
ecry1210、Ebecry1270（以上UCB社製）などをあげるこ
とができる。
クスＭ−1100、アロニックスＭ−1200、アロニックスＭ
−1310（以上東亜合成化学工業（部）製）やビスコート
813、ビスコート823（以上大阪有機工業（株）製）、Eb
ecry1210、Ebecry1270（以上UCB社製）などをあげるこ
とができる。
また３官能以上のアクリレートとしては、多価アルコ
ールのポリアクリレート例えばトリメチロールプロパン
トリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラア
クリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、及び３官
能以上のその他のアクリレート例えばデナコールDA−31
4（長瀬産業（株）製）、アロニックスＭ−7100、アロ
ニックスＭ−8030、アロニックスＭ−8060（以上東亜合
成化学工業（株）製）などのごときエポキシポリアクリ
レート、ポリエステルポリアクリレートなどを使うこと
が出来る。本発明におけるこれらの３官能以上のアクリ
レートの配合量は、２〜15重量％であるのが好ましい。
配合量が２重量％より少ないと記録層に腐食を生じるこ
とがあり、15重量％より多いと保護層と記録層の密着不
良が生じる場合がある。
ールのポリアクリレート例えばトリメチロールプロパン
トリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラア
クリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、及び３官
能以上のその他のアクリレート例えばデナコールDA−31
4（長瀬産業（株）製）、アロニックスＭ−7100、アロ
ニックスＭ−8030、アロニックスＭ−8060（以上東亜合
成化学工業（株）製）などのごときエポキシポリアクリ
レート、ポリエステルポリアクリレートなどを使うこと
が出来る。本発明におけるこれらの３官能以上のアクリ
レートの配合量は、２〜15重量％であるのが好ましい。
配合量が２重量％より少ないと記録層に腐食を生じるこ
とがあり、15重量％より多いと保護層と記録層の密着不
良が生じる場合がある。
光開始剤としては、ベンジル、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフェノ
ン、3,3′−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、
2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチ
オキサントン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）
フェニル〕−２−モルホリノプロパノン、２−ヒドロキ
シ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、
１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−
２−メチルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタ
ール、メチルベンゾイルフォメート、などを単独あるい
は２種以上混合して用いることが出来る。またベンゾフ
ェノン、3,3′−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノ
ン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピ
ルチオキサントンなどの光開始剤に関してはｐ−ジメチ
ルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸
イソアミルなどの光重合促進剤を併用することも可能で
ある。光開始剤及び場合により併用される光重合促進剤
の配合量は、各種のアクリレートを硬化性成分とする紫
外線硬化性組成物において通常使用されている量とすれ
ば良い。
テル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフェノ
ン、3,3′−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、
2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチ
オキサントン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）
フェニル〕−２−モルホリノプロパノン、２−ヒドロキ
シ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、
１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−
２−メチルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタ
ール、メチルベンゾイルフォメート、などを単独あるい
は２種以上混合して用いることが出来る。またベンゾフ
ェノン、3,3′−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノ
ン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピ
ルチオキサントンなどの光開始剤に関してはｐ−ジメチ
ルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸
イソアミルなどの光重合促進剤を併用することも可能で
ある。光開始剤及び場合により併用される光重合促進剤
の配合量は、各種のアクリレートを硬化性成分とする紫
外線硬化性組成物において通常使用されている量とすれ
ば良い。
なおこの紫外線硬化型樹脂組成物にその性能を損なわ
ない範囲で、他の単官能モノマー、２官能モノマーある
いはオリゴマー、消泡剤やレベリング剤などを添加する
ことはなんら差し障りない。
ない範囲で、他の単官能モノマー、２官能モノマーある
いはオリゴマー、消泡剤やレベリング剤などを添加する
ことはなんら差し障りない。
本発明の光記録媒体における保護層は、以上に説明し
た組成物に紫外線を照射し反応させることによって形成
される硬化物で構成されており、この紫外線の照射条件
はアクリル系紫外線硬化性樹脂組成物に関して一般に採
用されている条件に従えば良い。
た組成物に紫外線を照射し反応させることによって形成
される硬化物で構成されており、この紫外線の照射条件
はアクリル系紫外線硬化性樹脂組成物に関して一般に採
用されている条件に従えば良い。
本発明の光記録媒体における紫外線硬化樹脂からなる
前記保護層の厚さは２乃至30μｍ、望ましくは５乃至10
μｍである。あまり厚さが小さいと保護層としての効果
がなく、またあまり大きいと、硬化収縮による応力集中
が起こり、光記録媒体に反りが生じる。
前記保護層の厚さは２乃至30μｍ、望ましくは５乃至10
μｍである。あまり厚さが小さいと保護層としての効果
がなく、またあまり大きいと、硬化収縮による応力集中
が起こり、光記録媒体に反りが生じる。
本発明において前記光記録媒体が光磁気記録媒体であ
る場合記録層としては各種の酸化物及び金属の磁性体の
薄膜が使用できる。例えば、MnBi,MnAlGe,MnCuBi等の結
晶性材料、GdIG,BiSmErGaIG,BiSmYbCoGeIG,等の単結晶
材料、さらに、GdCo,GdFe,TbFe,DyFe,GdFeBi,GdTbFe,Gd
FeCo,TbFeCo,TbFeNi等の非晶質材料を用いた薄膜であ
る。中でも感度、C/N等の点で希土類金属、遷移金属を
主体とする記録層が好ましい。
る場合記録層としては各種の酸化物及び金属の磁性体の
薄膜が使用できる。例えば、MnBi,MnAlGe,MnCuBi等の結
晶性材料、GdIG,BiSmErGaIG,BiSmYbCoGeIG,等の単結晶
材料、さらに、GdCo,GdFe,TbFe,DyFe,GdFeBi,GdTbFe,Gd
FeCo,TbFeCo,TbFeNi等の非晶質材料を用いた薄膜であ
る。中でも感度、C/N等の点で希土類金属、遷移金属を
主体とする記録層が好ましい。
また、本発明において前記光記録媒体が相変化型記録
媒体である場合の記録層としては、Te系及び非Te系の各
種の合金が使用される。
媒体である場合の記録層としては、Te系及び非Te系の各
種の合金が使用される。
Te系としてTeSe系、TeSb系、TeAs系、TeGe系、TeIn
系、TeOx系、TeSn系等が上げられ、これらに更に他元素
Sb−As、Ge、In、Ｓ、Sn、Ｏ等を加える場合もあるが、
これらのうちTeGeSnOx、TeSb、TeGeSbが好ましい。
系、TeOx系、TeSn系等が上げられ、これらに更に他元素
Sb−As、Ge、In、Ｓ、Sn、Ｏ等を加える場合もあるが、
これらのうちTeGeSnOx、TeSb、TeGeSbが好ましい。
非Te系としては、SeSb系、SeGa系、SeIn系、InSb系、
SeS系、Sb−Ga系、InBi系、SeGeSb系等が上げられ、こ
れらにさらに他元素Se、Sb、As、Ge、In等を加える場合
もあるが、これらのうちSeIn、InSb、InSbSe、InSeTlが
好ましく、これら記録層を薄膜化して相変化型記録層が
形成される。
SeS系、Sb−Ga系、InBi系、SeGeSb系等が上げられ、こ
れらにさらに他元素Se、Sb、As、Ge、In等を加える場合
もあるが、これらのうちSeIn、InSb、InSbSe、InSeTlが
好ましく、これら記録層を薄膜化して相変化型記録層が
形成される。
さらに本発明では、前記紫外線硬化樹脂組成物の硬化
物からなる保護層を無機物の保護層と併用しても良い。
すなわち、前記記録層に接して無機物の保護層を設けた
上にさらに前記硬化物の保護層を設けることにより前記
光磁気記録媒体の経時劣化をより完全に防止しかつ無機
物の保護層としてSiNxのような誘電体を用いることによ
り記録層の光磁気効果を高めもって光磁気記録媒体の特
性を改良することができる。
物からなる保護層を無機物の保護層と併用しても良い。
すなわち、前記記録層に接して無機物の保護層を設けた
上にさらに前記硬化物の保護層を設けることにより前記
光磁気記録媒体の経時劣化をより完全に防止しかつ無機
物の保護層としてSiNxのような誘電体を用いることによ
り記録層の光磁気効果を高めもって光磁気記録媒体の特
性を改良することができる。
本発明で用いることができる無機物の保護層としては
例えばSiOx,SiNx,AlNx及びZnS等の酸化物、窒化物及び
硫化物等の誘電体が好ましい。
例えばSiOx,SiNx,AlNx及びZnS等の酸化物、窒化物及び
硫化物等の誘電体が好ましい。
また本発明の前記紫外線硬化樹脂組成物の硬化物によ
る保護層は記録層もしくは記録層に接して設けられた無
機物の保護層等の他の層の最上面のみならずそれらの層
の側面をも被覆することが望ましい。
る保護層は記録層もしくは記録層に接して設けられた無
機物の保護層等の他の層の最上面のみならずそれらの層
の側面をも被覆することが望ましい。
本発明で用いる前記基板としては、通常ポリカーボネ
ート、ポリメチルメタクリレート、エポキシ、ガラス等
が用いられる。
ート、ポリメチルメタクリレート、エポキシ、ガラス等
が用いられる。
本発明の光記録媒体は、基板の記録層がない面を外側
に向け、保護層同士を接着剤層を介して２枚貼り合わせ
たいわゆる両面記録型の媒体においても有効なことは勿
論である。
に向け、保護層同士を接着剤層を介して２枚貼り合わせ
たいわゆる両面記録型の媒体においても有効なことは勿
論である。
以下の実施例により本発明の特徴を具体的に説明す
る。
る。
〔実施例−１〕 第１図に示すように130Φ、厚さ1.2mmのポリカーボネ
ート基板１上に、マグネトロンスパッタ法でSiNxの層２
を1000Å次いでTb22Fe66Co12の組成の非晶質希土類遷移
金属合金からなる記録層３を1000Åさらにその上にSiNx
の保護層４を1000Å順次積層した。次に以下の構成から
なる紫外線硬化樹脂組成物をスピンコート法で厚さ10μ
ｍの保護層５として第１図のようにSiNxの保護層の上面
及び前記の各層が積層された側端面が被覆されるように
設けた。しかる後、ほぼ50mW/cm2、２分間の紫外線照射
を行い、前記紫外線硬化樹脂組成物を硬化し、光磁気記
録媒体６を得た。
ート基板１上に、マグネトロンスパッタ法でSiNxの層２
を1000Å次いでTb22Fe66Co12の組成の非晶質希土類遷移
金属合金からなる記録層３を1000Åさらにその上にSiNx
の保護層４を1000Å順次積層した。次に以下の構成から
なる紫外線硬化樹脂組成物をスピンコート法で厚さ10μ
ｍの保護層５として第１図のようにSiNxの保護層の上面
及び前記の各層が積層された側端面が被覆されるように
設けた。しかる後、ほぼ50mW/cm2、２分間の紫外線照射
を行い、前記紫外線硬化樹脂組成物を硬化し、光磁気記
録媒体６を得た。
後記のウレタンアクリレートＡ（芳香族イソシアネート
／ポリエステルポリオール） 60重量 ３官能以上のポリエステルポリアクリレート（東亜合成
化学工業（株）製アロニックスＭ−8060） 10重量部 Ｎ−ビニルピロリドン 20重量部 ２−ヒドロキシフェニル−３−フェノキシプロピルアク
リレート（東亜合成化学工業（株）製アロニックスＭ−
5700） 10重量部 ２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン
−１−オン（メルクジャパン（株）製Darocur1173） 5
重量部 〔比較例−１〕 実施例−１において、紫外線硬化樹脂組成物として以
下の構成の紫外線硬化樹脂組成物を使用した。その他の
条件は実施例−１と同一にした。
／ポリエステルポリオール） 60重量 ３官能以上のポリエステルポリアクリレート（東亜合成
化学工業（株）製アロニックスＭ−8060） 10重量部 Ｎ−ビニルピロリドン 20重量部 ２−ヒドロキシフェニル−３−フェノキシプロピルアク
リレート（東亜合成化学工業（株）製アロニックスＭ−
5700） 10重量部 ２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン
−１−オン（メルクジャパン（株）製Darocur1173） 5
重量部 〔比較例−１〕 実施例−１において、紫外線硬化樹脂組成物として以
下の構成の紫外線硬化樹脂組成物を使用した。その他の
条件は実施例−１と同一にした。
後者のウレタンアクリレートＡ（芳香族イソシアネート
／ポリエステルポリオール） 60重量部 Ｎ−ビニルピロリドン 30重量部 ２−ヒドロキシフェニル−３−フェノキシプロピルアク
リレート（東亜合成化学工業（株）製アロニックスＭ−
5700） 10重量部 ２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン
−１−オン（メルクジャパン（株）製Darocur1173） 5
重量部 〔比較例−２〕 実施例−１において、紫外線硬化樹脂組成物として以
下の構成の紫外線硬化樹脂組成物を使用した。その他の
条件は実施例−１と同一にした。
／ポリエステルポリオール） 60重量部 Ｎ−ビニルピロリドン 30重量部 ２−ヒドロキシフェニル−３−フェノキシプロピルアク
リレート（東亜合成化学工業（株）製アロニックスＭ−
5700） 10重量部 ２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン
−１−オン（メルクジャパン（株）製Darocur1173） 5
重量部 〔比較例−２〕 実施例−１において、紫外線硬化樹脂組成物として以
下の構成の紫外線硬化樹脂組成物を使用した。その他の
条件は実施例−１と同一にした。
後記のウレタンアクリレートＢ（芳香族イソシアネート
／ポリエステルポリオール） 60重量部 ３官能以上のポリエステルポリアクリレート（東亜合成
化学工業（株）製アロニックス−8060） 10重量部 エチルカルビトールアクリレート（大阪有機化学工業
（株）製ビスコート190） 30重量部 ２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン
−１−オン（メルクジャパン（株）製Darocur1173） 5
重量部 〔比較例−３〕 実施例−１において、紫外線硬化樹脂組成物として以
下の構成の紫外線硬化樹脂組成物を使用した。その他の
条件は実施例−１と同一にした。
／ポリエステルポリオール） 60重量部 ３官能以上のポリエステルポリアクリレート（東亜合成
化学工業（株）製アロニックス−8060） 10重量部 エチルカルビトールアクリレート（大阪有機化学工業
（株）製ビスコート190） 30重量部 ２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン
−１−オン（メルクジャパン（株）製Darocur1173） 5
重量部 〔比較例−３〕 実施例−１において、紫外線硬化樹脂組成物として以
下の構成の紫外線硬化樹脂組成物を使用した。その他の
条件は実施例−１と同一にした。
ビスフェノールＡ−ジグリシジルエーテルジアクリレー
ト 70重量部 エチルカルビトールアクリレート（大阪有機化学工業
（株）製ビスコート190） 30重量部 ２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン
−１−オン（メルクジャパン（株）製Darocur1173） 5
重量部 なお、上記のウレタンアクリレートＡ及びウレタンア
クリレートＢは以下のような条件で合成して得た。
ト 70重量部 エチルカルビトールアクリレート（大阪有機化学工業
（株）製ビスコート190） 30重量部 ２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン
−１−オン（メルクジャパン（株）製Darocur1173） 5
重量部 なお、上記のウレタンアクリレートＡ及びウレタンア
クリレートＢは以下のような条件で合成して得た。
（ウレタンアクリレートＡ） アジピン酸４モル、ネオペンチルグリコール５モルを
反応容器に仕込み、窒素を0.05／分の割合で吹き込み
ながら150〜200℃に加熱し、脱水エステル化反応を行い
平均縮合度が４であるポリエステルポリオールを得た。
続いてこのポリエステルポリオールにトリレンジイソシ
アネートを加え85℃に加熱したのち、さらに２−ヒドロ
キシエチルアクリレートを加え、空気を0.05／分の割
合で吹き込みながら85℃に加熱し、アクリロイル当量約
550のウレタンアクリレートＡを得た。
反応容器に仕込み、窒素を0.05／分の割合で吹き込み
ながら150〜200℃に加熱し、脱水エステル化反応を行い
平均縮合度が４であるポリエステルポリオールを得た。
続いてこのポリエステルポリオールにトリレンジイソシ
アネートを加え85℃に加熱したのち、さらに２−ヒドロ
キシエチルアクリレートを加え、空気を0.05／分の割
合で吹き込みながら85℃に加熱し、アクリロイル当量約
550のウレタンアクリレートＡを得た。
（ウレタンアクリレートＢ） アジピン酸６モル、エチレングリコール7.3モル及び
1,2−プロピレングリコール3.6モルを反応容器に仕込
み、窒素を0.05／分の割合で吹き込みながら150〜200
℃に加熱し、脱水エステル化反応を行った後、5mmHgの
減圧下で150〜200℃に加熱して縮合反応を行い、数平均
分子量約3800のポリエテルポリオールを得た。続いて上
記ウレタンアクリレートＡと同様に、このポリエステル
ポリオールとトリレンジイソシアネート及び２−ヒドロ
キシエチルアクリレートを反応させ、アクリロイル当量
約2200のウレタンアクリレートＢを得た。
1,2−プロピレングリコール3.6モルを反応容器に仕込
み、窒素を0.05／分の割合で吹き込みながら150〜200
℃に加熱し、脱水エステル化反応を行った後、5mmHgの
減圧下で150〜200℃に加熱して縮合反応を行い、数平均
分子量約3800のポリエテルポリオールを得た。続いて上
記ウレタンアクリレートＡと同様に、このポリエステル
ポリオールとトリレンジイソシアネート及び２−ヒドロ
キシエチルアクリレートを反応させ、アクリロイル当量
約2200のウレタンアクリレートＢを得た。
実施例−１、比較例−１、比較例−２及び比較例−３
で得た光磁気記録媒体６について経時変化を促進させる
目的で80℃、85％RHに設定した恒温恒湿槽中に200時間
放置した後、外観観察、C/N及びBER（ビットエラーレー
ト）を以下のような条件で測定し、初期の測定値との比
較により経時劣化の影響を評価した。
で得た光磁気記録媒体６について経時変化を促進させる
目的で80℃、85％RHに設定した恒温恒湿槽中に200時間
放置した後、外観観察、C/N及びBER（ビットエラーレー
ト）を以下のような条件で測定し、初期の測定値との比
較により経時劣化の影響を評価した。
外観観察：目視により、記録層上の記録領域の形態の異
常を透過光で観察した。第１表中、ピンホールは、数10
μｍ以下の異常のことであり、腐食発生は、100μｍ以
上の異常のことである。
常を透過光で観察した。第１表中、ピンホールは、数10
μｍ以下の異常のことであり、腐食発生は、100μｍ以
上の異常のことである。
C/N:1800rpmで各光磁気記録媒体を回転させキャリヤー
3.7MHzの単一周波数で繰り返しレーザー光をパルス照射
したときのC/Nを評価した。
3.7MHzの単一周波数で繰り返しレーザー光をパルス照射
したときのC/Nを評価した。
BER:（再生誤りbit数）／（記録bit数）と定義した。
得られた測定値を第１表に示す。
なお、C/N（ｏ）及びBER（ｏ）はそれぞれ恒温恒湿槽
中に放置する前の初期の特性の測定値であり、C/N
（ｔ）及びBER（ｔ）はそれぞれ恒温恒湿槽中に200時間
放置された後の特性の測定値である。
中に放置する前の初期の特性の測定値であり、C/N
（ｔ）及びBER（ｔ）はそれぞれ恒温恒湿槽中に200時間
放置された後の特性の測定値である。
第１表の測定結果から、本発明の紫外線硬化樹脂組成
物からなる保護層を有した光磁気記録媒体である実施例
−１では高温高湿下に長時間放置されても特性の変化が
ほとんどないことが分かった。一方、比較例−１、比較
例−２、比較例−３においては80℃、85％RHに設定した
恒温恒湿槽中に200時間放置した後では記録層上には腐
食やピンホールの発生がみられ、そのためにバーストエ
ラーが発生したりしてBERがかなり悪化した。
物からなる保護層を有した光磁気記録媒体である実施例
−１では高温高湿下に長時間放置されても特性の変化が
ほとんどないことが分かった。一方、比較例−１、比較
例−２、比較例−３においては80℃、85％RHに設定した
恒温恒湿槽中に200時間放置した後では記録層上には腐
食やピンホールの発生がみられ、そのためにバーストエ
ラーが発生したりしてBERがかなり悪化した。
〔実施例−２〕 第２図に示すように130Φ、厚さ1.2mmのポリカーボネ
ート基板７上に、マグネトロンスパッタ法でSiO2の層を
1000Å次いで第２表に示す組成の相変化型光記録層９を
1000Å設けさらにその上にSiO2の保護層10を1000Å順次
積層した。次に実施例−１で用いたのと同じ紫外線硬化
樹脂組成物をスピンコート法で厚さ10μｍの保護層11と
して第２図のようにSiO2の保護層の上面及び前記の各層
が積層された側端面が被覆されるように設けた。しかる
後、ほぼ50mW/cm2、２分間の紫外線照射を行い、前記紫
外線硬化樹脂組成物を硬化して、相変化型記録媒体12を
得た。
ート基板７上に、マグネトロンスパッタ法でSiO2の層を
1000Å次いで第２表に示す組成の相変化型光記録層９を
1000Å設けさらにその上にSiO2の保護層10を1000Å順次
積層した。次に実施例−１で用いたのと同じ紫外線硬化
樹脂組成物をスピンコート法で厚さ10μｍの保護層11と
して第２図のようにSiO2の保護層の上面及び前記の各層
が積層された側端面が被覆されるように設けた。しかる
後、ほぼ50mW/cm2、２分間の紫外線照射を行い、前記紫
外線硬化樹脂組成物を硬化して、相変化型記録媒体12を
得た。
〔比較例−４〕 実施例−２において、紫外線硬化樹脂組成物として比
較例−１で用いたのと同一の構成の紫外線硬化樹脂組成
物を使用した。その他の条件は実施例−２と同一にし
た。
較例−１で用いたのと同一の構成の紫外線硬化樹脂組成
物を使用した。その他の条件は実施例−２と同一にし
た。
〔比較例−５〕 実施例−２において、紫外線硬化樹脂組成物として比
較例−２で用いたのと同一の構成の紫外線硬化樹脂組成
物を使用した。その他の条件は実施例−２と同一とし
た。
較例−２で用いたのと同一の構成の紫外線硬化樹脂組成
物を使用した。その他の条件は実施例−２と同一とし
た。
〔比較例−６〕 実施例−２において、紫外線硬化樹脂組成物として比
較例−３で用いたのと同一の構成の紫外線硬化樹脂組成
物を使用した。その他の条件は実施例−２と同一にし
た。
較例−３で用いたのと同一の構成の紫外線硬化樹脂組成
物を使用した。その他の条件は実施例−２と同一にし
た。
実施例−２、比較例−４、比較例−５及び比較例−６
で得た相変化型記録媒体について60℃、90％RHに設定し
た恒温恒湿槽中に30日間放置した後、外観観察、C/N及
びBER（ビットエラーレート）を以下のような条件で測
定して初期の特性と比較することにより経時劣化の影響
を評価した。
で得た相変化型記録媒体について60℃、90％RHに設定し
た恒温恒湿槽中に30日間放置した後、外観観察、C/N及
びBER（ビットエラーレート）を以下のような条件で測
定して初期の特性と比較することにより経時劣化の影響
を評価した。
外観観察：実施例−１と同じ C/N:実施例−１と同じ BER:実施例−１と同じ 得られた測定値を第３表に示す。
なお、C/N（ｏ）及びBER（ｏ）はそれぞれ恒温恒湿槽
中に放置する前の初期の特性の測定値であり、C/N
（ｔ）Ｔ及びBER（ｔ）はそれぞれ恒温恒湿槽中に30日
間放置された後の特性の測定値である。
中に放置する前の初期の特性の測定値であり、C/N
（ｔ）Ｔ及びBER（ｔ）はそれぞれ恒温恒湿槽中に30日
間放置された後の特性の測定値である。
第３表の測定結果から、本発明の紫外線硬化樹脂組成
物からなる保護層を有した相変化型記録媒体である実施
例−２では高温高湿下に長時間放置されても特性の変化
がほとんどないことが分かった。一方、比較例−４、比
較例−５、比較例−６においては60℃、90％RHに設定し
た恒温恒湿槽中に30日間放置した後では記録層の面状は
かなり変化しておりそのためBERの増加がみられた。特
に、比較例−４では面状の劣化が大きくBERが大きく増
加し、TeGeSnO,InSeTl等の記録層ではC/Nの経時劣化も
大きくなった。
物からなる保護層を有した相変化型記録媒体である実施
例−２では高温高湿下に長時間放置されても特性の変化
がほとんどないことが分かった。一方、比較例−４、比
較例−５、比較例−６においては60℃、90％RHに設定し
た恒温恒湿槽中に30日間放置した後では記録層の面状は
かなり変化しておりそのためBERの増加がみられた。特
に、比較例−４では面状の劣化が大きくBERが大きく増
加し、TeGeSnO,InSeTl等の記録層ではC/Nの経時劣化も
大きくなった。
第１図は、本発明の紫外線硬化樹脂組成物の保護層を設
けた光磁気記録媒体の一例を示す図。 第２図は、本発明の紫外線硬化樹脂組成物の保護層を相
変化型記録媒体に設けた一例を示す図。 １、７……基板 ２、４、８、10……無機物の保護層 ３、９……記録層 ５、11……紫外線硬化樹脂組成物の硬化物による保護層
けた光磁気記録媒体の一例を示す図。 第２図は、本発明の紫外線硬化樹脂組成物の保護層を相
変化型記録媒体に設けた一例を示す図。 １、７……基板 ２、４、８、10……無機物の保護層 ３、９……記録層 ５、11……紫外線硬化樹脂組成物の硬化物による保護層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 実松 徹司 愛知県名古屋市港区船見町１丁目１番地 東亞合成化学工業株式会社研究所内 審査官 岡本 利郎
Claims (4)
- 【請求項１】基板上に少なくとも記録層を有する光記録
媒体において、ウレタンアクリレート、Ｎ−ビニルピロ
リドン、３官能以上のアクリレート及び光開始剤を含有
する組成物の紫外線硬化樹脂からなる保護層を有するこ
とを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項２】ウレタンアクリレートが１分子中に少なく
とも２個以上のアクリロイル基を有しかつ該アクリロイ
ル基１個当たりの分子量が400乃至1500であることを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の光記録媒体。 - 【請求項３】ウレタンアクリレートの含有量が35乃至70
重量％である組成物の紫外線硬化樹脂であることを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の光記録媒体。 - 【請求項４】組成物中における３官能以上のアクリレー
トの含有量が２乃至15重量％であることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の光記録媒体。
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|---|---|---|---|
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| US07/381,424 US4983505A (en) | 1988-07-19 | 1989-07-18 | Optical recording medium |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63179761A JP2525647B2 (ja) | 1988-07-19 | 1988-07-19 | 光記録媒体 |
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1988
- 1988-07-19 JP JP63179761A patent/JP2525647B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-07-18 US US07/381,424 patent/US4983505A/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2008056832A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Toagosei Co Ltd | 活性エネルギー線硬化型組成物 |
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| JPH0229947A (ja) | 1990-01-31 |
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