JPH11100527A - コーティング用組成物及び光記録媒体 - Google Patents

コーティング用組成物及び光記録媒体

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JPH11100527A
JPH11100527A JP9279651A JP27965197A JPH11100527A JP H11100527 A JPH11100527 A JP H11100527A JP 9279651 A JP9279651 A JP 9279651A JP 27965197 A JP27965197 A JP 27965197A JP H11100527 A JPH11100527 A JP H11100527A
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JP
Japan
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meth
radiation
water
coating composition
weight
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JP9279651A
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Takeshi Komaki
壮 小巻
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Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 疎水性基体との密着性、耐水性及び印字の安
定性に優れたインク受理層を形成できるコーティング用
組成物、及びこの組成物から形成されたインク受理層を
有する光記録媒体を提供する。 【解決手段】 組成物は、単官能（メタ）アクリル系モ
ノマー５０〜９０重量％及び多官能（メタ）アクリル系
モノマーオリゴマー１０〜５０重量％から構成される放
射線硬化性化合物（Ａ）と、（Ａ）に対して、吸水性有
機フィラー（Ｃ）１０〜６０重量％と、吸水性無機フィ
ラー（Ｄ）１〜２０重量％とを含む。この組成物を保護
膜６上に塗布し硬化させて、インク受理層７を形成し、
光ディスク１を得る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、放射線硬化性化合
物を含むコーティング用組成物に関し、より詳しくは、
インクジェット方式によって画像情報や文字情報を印字
し得るインク受理層を形成できるコーティング用放射線
硬化性組成物に関する。また、本発明は、このコーティ
ング用放射線硬化性組成物から形成されたインク受理層
を有する光記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、光記録媒体において、光学的書き
込み／読み取りを行う面とは反対側の面にインク受理層
（レーベル印刷面）を設け、媒体の記録内容を表す画像
や文字をインクジェット記録方式で印字し整理を行う要
求が高まってきている。
【０００３】インクジェット記録方式に用いられるイン
クは、通常水性のものが使用され、このインクには、ノ
ズルの目詰まり防止のため多価アルコール等が添加され
ている場合が多い。
【０００４】一方、インクジェット記録方式における被
記録基体としては、従来、通常の紙や、多孔質のインク
受理層を設けたインクジェット用特殊紙などの親水性処
理されたものが使用されている。このようなインク受理
層として、例えば、特開昭６０−１６８６５１号公報に
は、ポリビニルアルコールとポリアクリル酸系水溶性高
分子の使用が記載され、特開昭６０−２６２６８５号公
報には、ヒドロキシエチルセルロースの使用が記載さ
れ、特開昭６１−１８１６７９号公報には、カルボキシ
メチルセルロースとポリエチレンオキサイドの混合物の
使用が記載され、特開昭６１−１９３８７９号公報に
は、水溶性セルロースとポリビニルピロリドンの混合物
の使用が記載されている。これら公報に記載の水溶性ポ
リマーは親水性が非常に強いため、紙などの親水性の基
体にはなじみやすく、親水性基体表面にこれら水溶性ポ
リマーからなるインク受理層を設ける場合には、基体と
インク受理層の密着性に問題は生じない。
【０００５】しかしながら、例えば、光記録媒体の保護
膜に多用されている紫外線硬化樹脂など、疎水性の強い
表面を有する基体に対しては、上記公報に記載の水溶性
ポリマーはなじみにくい。そのため、疎水性基体表面に
これら水溶性ポリマーからなるインク受理層を設ける場
合には、疎水性基体とインク受理層の密着性が悪く、積
層後、容易に剥離してしまったり、また、インク受理層
自体の耐水性が低く、印字後水滴によるインクの滲みの
発生や表面のベタ付き等があり、実用性に問題がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明の目的
は、上記従来技術の問題点を解決し、画像の鮮明性と速
乾性に優れ、かつ水濡れ後に拭き取っても印字落ちや層
全体の剥離がないなど、疎水性基体との密着性、耐水性
及び印字の安定性に優れたインク受理層を一度の塗布工
程で形成できるコーティング用組成物を提供することに
ある。また、本発明は、このコーティング用組成物から
形成されたインク受理層を有する光記録媒体を提供する
ことにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者は鋭意検討した
結果、放射線硬化性アクリル系化合物に、吸水性有機フ
ィラーと吸水性無機フィラーとを添加した組成物によっ
て、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成
するに至った。
【０００８】すなわち、本発明のコーティング用組成物
は、単官能（メタ）アクリル系モノマー及び２官能以上
の多官能（メタ）アクリル系モノマーを含む放射線硬化
性化合物（Ａ）と、吸水性有機フィラー（Ｃ）と、吸水
性無機フィラー（Ｄ）とを含む。
【０００９】本発明の組成物において、放射線硬化性化
合物（Ａ）は、単官能（メタ）アクリル系モノマー５０
〜９０重量％と、２官能以上の多官能（メタ）アクリル
系モノマー１０〜５０重量％とを含むことが好ましい。
本発明の組成物において、放射線硬化性化合物（Ａ）に
対して、吸水性有機フィラー（Ｃ）１０〜６０重量％
と、吸水性無機フィラー（Ｄ）１〜２０重量％とを含む
ことが好ましい。本発明の組成物において、放射線硬化
性化合物（Ａ）に対して、重合開始剤０．００１〜１０
重量％を含むことが好ましい。
【００１０】また、本発明の記録材料は、疎水性支持基
体の少なくとも片面に、上記のコーティング用組成物の
放射線硬化物からなるインク受理層を有する。本発明の
光記録媒体は、光記録媒体の光学的書き込み／読み取り
を行う面とは反対側の面に、上記のコーティング用組成
物の放射線硬化物からなるインク受理層を有する。
【００１１】以下、本発明について詳しく説明する。本
発明の組成物において、放射線硬化性化合物（Ａ）は、
単官能（メタ）アクリル系モノマー及び架橋剤としての
２官能以上の多官能（メタ）アクリル系モノマーを含
む。
【００１２】（メタ）アクリル系の硬化物は、高硬度、
高密着性、高架橋であり、光記録媒体の保護膜に多用さ
れている紫外線硬化樹脂など、疎水性表面を有する基体
に対して密着性が良い。
【００１３】本発明において、単官能（メタ）アクリル
系モノマーとしては、特に限定されるものではないが、
例えば、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メ
タ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、
２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等のアルキル
（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、（メタ）
アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−置換
（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アク
リルアミド、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、
カルボキシエチル（メタ）アクリレート、（メタ）アク
リロイルモルフォリン、エチレングリコールモノ（メ
タ）アクリレート、ジエチレングリコールモノ（メタ）
アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）ア
クリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリル
アミド、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート
等が挙げられる。
【００１４】これらのうち、ヒドロキシ基、カルボキシ
基、アミノ基、モルフォリノ基、テトラヒドロフルフリ
ル基を有する親水性の高いモノマーが好ましい。
【００１５】架橋剤としての２官能以上の多官能（メ
タ）アクリル系モノマーとしては、特に限定されるもの
ではないが、例えば、エチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、1,6-ヘキサングリコールジ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペ
ンタエリスリトール（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロー
ルプロパンジ（メタ）アクリレート、ウレタンエラスト
マーのアクリル変性体、あるいはこれらのものにＣＯＯ
Ｈ等の官能基が導入されたもの等が挙げられる。
【００１６】これらのうち、エチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレ
ート、ペンタエリスリトール（メタ）アクリレート、ト
リメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリ
メチロールプロパンジ（メタ）アクリレート等が好まし
い。
【００１７】本発明の組成物において、放射線硬化性化
合物（Ａ）は、単官能（メタ）アクリル系モノマー５０
〜９０重量％と、２官能以上の多官能（メタ）アクリル
系モノマー１０〜５０重量％とを含むことが好ましい。
【００１８】架橋剤としての多官能（メタ）アクリル系
モノマーが１０重量％未満であると、組成物を硬化させ
る時の硬化性や、硬化膜の強度に問題が生じやすい。一
方、５０重量％を超えると、得られる硬化膜の疎水性が
強くなりすぎ、印字性が低下する傾向がある。
【００１９】放射線硬化性化合物（Ａ）は、単官能（メ
タ）アクリル系モノマー６０〜９０重量％と、多官能
（メタ）アクリル系モノマー１０〜４０重量％とを含む
ことがより好ましい。
【００２０】また、本発明の組成物において、架橋剤と
しての（メタ）アクリル系オリゴマー、ポリマーを、本
発明の目的を損なわない程度に加えることも可能であ
る。放射線硬化性化合物（Ａ）は、放射線照射、特に紫
外線照射により重合硬化されるので、本組成物中には光
重合開始剤ないし増感剤が含有されることが好ましい。
用いる光重合開始剤ないし増感剤に特に制限はなく、例
えば、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノ
ン系、チオキサントン系等の通常のものから適宜選択す
ればよい。なお、光重合開始剤ないし増感剤として、複
数の化合物を併用してもよい。光重合開始剤の含有量
は、放射線硬化性化合物（Ａ）に対して、０．００１〜
１０重量％、好ましくは０．５〜９重量％程度とすれば
良い。
【００２１】本発明の組成物において、吸水性有機フィ
ラー（Ｃ）としては、特に限定されるものではないが、
例えば、表面及び／又は内部にヒドロキシ基、カルボキ
シ基、アミノ基などを有するようなフィラーが挙げら
れ、より具体的には、スタフィロイドＡＣ−３８３２
（武田薬品工業（株）製）、フロービーズＥＡ２０９
（住友精化学（株）製）、コラーゲンパウダーなどの動
物性蛋白質超微粒子等が挙げられる。
【００２２】また、本発明の組成物において、吸水性無
機フィラー（Ｄ）としては、特に限定されるものではな
いが、例えば、高純度アルミナ、シリカゲル、シリカ−
アルミナ、タルク、ケイソウ土、炭酸カルシウム、硫酸
カルシウム、合成ゼオライト等が挙げられる。より具体
的には、例えば、ＳｉｌｃｒｏｎＧ−６００（ＳＣＭケ
ミカルズ社製）、アエロジルＴＴ−６００（アエロジル
社製）等が挙げられる。
【００２３】上記吸水性有機フィラー（Ｃ）は、組成物
の放射線硬化後の印字性能を向上させる作用があり、一
方、上記吸水性無機フィラー（Ｄ）は、組成物の基体上
への塗布性を向上させる作用がある。従って、本発明の
組成物は、吸水性有機フィラー（Ｃ）及び吸水性無機フ
ィラー（Ｄ）の両者を必須成分として含む。フィラー成
分が吸水性有機フィラー（Ｃ）のみであると、塗布性や
ポットライフに問題が生じ、吸水性無機フィラー（Ｄ）
のみであると、十分な印字性が得られない。有機フィラ
ー（Ｃ）及び無機フィラー（Ｄ）の両者を含むことによ
り、塗布性と印字性の両方に優れた特性を得ることがで
きる。
【００２４】本発明の組成物は、放射線硬化性化合物
（Ａ）に対して、吸水性有機フィラー（Ｃ）１０〜６０
重量％と、吸水性無機フィラー（Ｄ）１〜２０重量％と
を含むことが好ましい。有機フィラー（Ｃ）の量が１０
重量％未満であると、満足な印字性能が得られにくく、
一方、有機フィラー（Ｃ）が６０重量％を超えると、十
分な硬度を有する硬化膜が得られにくい。また、無機フ
ィラー（Ｄ）の量が１重量％未満であると、塗布性が悪
くなりやすく、一方、無機フィラー（Ｄ）が２０重量％
を超えると、著しい増粘により塗布性が悪くなる。より
好ましいフィラーの配合量は、放射線硬化性化合物
（Ａ）に対して、吸水性有機フィラー（Ｃ）２０〜５０
重量％、吸水性無機フィラー（Ｄ）３〜１５重量％であ
る。
【００２５】また、本発明の組成物において、吸水性有
機フィラー（Ｃ）及び吸水性無機フィラー（Ｄ）の粒径
は、０．００１〜２０μｍであることが好ましい。粒径
が０．００１μｍ未満であると、吸水性が悪くなりやす
く、一方、粒径が２０μｍを超えると、塗布表面の平滑
性が悪くなり、膜がもろくなりやすい。より好ましい吸
水性有機フィラー（Ｃ）及び吸水性無機フィラー（Ｄ）
の粒径は、０．１〜１０μｍ程度である。なお、本明細
書における粒径は、レーザーを用いた粒度測定法によっ
て得られる値であり、例えば、日機装製のマイクロトラ
ック等を用いて測定することができる。なお、レーザー
を用いた粒度測定法については、例えば、超微粒子ハン
ドブック（１９９０年９月５日、フジ・テクノシステム
社発行）の「2.2 粒子と電磁波の相互作用」の項（p.85
−p.87）に記載されている。
【００２６】また、本発明の組成物においては、上記各
成分の他に、マレイン酸、イタコン酸、Ｎ−ビニルピロ
リドン等のアクリル系モノマーと共重合可能なモノマー
を、本発明の目的を損なわない程度に加えることも可能
である。
【００２７】本発明のコーティング用組成物を、例え
ば、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ア
クリル系樹脂等の疎水性支持基体の片面又は両面に塗布
し、紫外線などの放射線を照射して硬化させることによ
り、インクジェット方式に好適なインク受理層を有する
記録シートが得られる。
【００２８】放射線の照射については、紫外線の代わり
に電子線等を照射してもよく、場合によっては加熱後に
紫外線を照射してもよい。塗膜に照射する紫外線強度
は、通常、５０ｍＷ／ｃｍ2 程度以上、照射量は、通
常、２００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2 程度とすればよい。
また、紫外線源としては、水銀灯などの通常のものを用
いればよい。紫外線の照射により、上記各化合物はラジ
カル重合し硬化する。
【００２９】本発明のコーティング用組成物を、光記録
媒体の保護膜上に塗布し、紫外線などの放射線を照射し
て硬化させることにより、インクジェット方式に好適な
インク受理層を有する光記録媒体が得られる。
【００３０】光記録媒体として、例えば光記録ディスク
は、例えば図１に示すような層構成である。すなわち、
図１は、光記録ディスクの一例の部分断面を示す図であ
り、光記録ディスク(1) は、基板(2) 上に、色素を主成
分とする塗布型の記録層(3)、反射層(5) および保護膜
(6) をこの順で有し、保護膜(6) 上に本発明のコーティ
ング用組成物の放射線硬化物からなるインク受理層(7)
を有する。
【００３１】基板(2) は、記録光および再生光（波長６
００〜９００nm程度、特に波長７７０〜８００nm程度の
半導体レーザー光、特に７８０nm）に対し、実質的に透
明（好ましくは透過率８８％以上）な樹脂あるいはガラ
スから形成される。これにより、基板裏面側からの記録
および再生が可能となる。
【００３２】基板(2) は、通常のサイズのディスク状で
あって、記録可能なＣＤとして用いる場合、厚さは１．
２mm程度、直径は８０〜１２０mm程度とする。基板材質
としては、樹脂を用いることが好ましく、ポリカーボネ
ート樹脂、アクリル樹脂、アモルファスポリオレフィ
ン、ＴＰＸ等の各種熱可塑性樹脂が好適である。基板
(2) は射出成形等の公知の方法に従い製造すればよい。
また、その際、トラッキング用やアドレス用等のため
に、グルーブ(21)等の所定のパターンを基板表面に形成
することが好ましい。なお、基板(2) 製造後に、２Ｐ法
等によりグルーブ等の所定のパターンを有する樹脂層を
形成してもよい。
【００３３】グルーブは、渦巻状の連続型グルーブであ
ることが好ましく、深さは５００〜３０００A 、幅は
０．２〜１．１μm 、特に０．３〜０．６μm 、ランド
（隣り合うグルーブ同士の間の部分）幅は０．５〜１．
４μm 、特に１．０〜１．３μm であることが好まし
い。グルーブをこのような構成とすることにより、グル
ーブ部の反射レベルを下げることなく、良好なトラッキ
ング信号を得ることができる。なお、グルーブには、ア
ドレス信号用の凹凸を設けることもできる。また、記録
光は、グルーブ内の記録層に照射されるよう構成される
ことが好ましい。
【００３４】記録層(3) は、１種類の色素だけを含有し
てもよく、あるいは２種以上の色素が相溶した構成であ
ってもよい。ＣＤ信号を記録する場合には、記録層(3)
の記録光および再生光波長における消衰係数（複素屈折
率の虚部）ｋは、０．０３〜０．２５であることが好ま
しい。ｋが０．０３未満となると記録層の吸収率が低下
し、通常の記録パワーで記録を行なうことが困難とな
る。また、ｋが０．２５を超えると、反射率が６０％を
下回ってしまい、ＣＤ規格による再生を行なうことが困
難となる。なお、ｋが０．０３〜０．２０、特に０．０
３〜０．１５であると、きわめて好ましい結果が得られ
る。
【００３５】また、記録層(3) の屈折率（複素屈折率の
実部）ｎは、１．８〜４．０、より好ましくは、２．０
〜３．０であることが好ましい。ｎ＜１．８では反射率
が低下し、また信号変調度が小さくなり、ＣＤプレーヤ
による再生が困難となる傾向にある。また、ｎ＞４．０
とするためには、原料色素の入手が難しい。
【００３６】記録層(3) に用いる光吸収性の色素として
は、吸収極大が６００〜９００nm、好ましくは６００〜
８００nm、より好ましくは６５０〜７５０nmであれば、
他に特に制限はなく、例えばシアニン系、フタロシアニ
ン系、ナフタロシアニン系、アントラキノン系、アゾ
系、トリフェニルメタン系、ピリリウムないしチアピリ
リウム塩系、スクワリリウム系、クロコニウム系、ホル
マザン系、金属錯体色素系等から１種ないし２種以上を
目的に応じて適宜選択すればよい。
【００３７】シアニン系色素としては、芳香族縮合環を
有してもよいインドレニン環、特にベンゾインドレニン
環を有するシアニン色素が好ましい。また、インドレニ
ン環はペンタメチン鎖を介して結合したものであること
が好ましい。
【００３８】また、光吸収色素に一重項酸素クエンチャ
ーを混合して用いることが好ましい。さらに、色素カチ
オンと一重項酸素クエンチャーアニオンとのイオン結合
体を光吸収色素として用いることも好ましい。
【００３９】クエンチャーとしては、アセチルアセトナ
ート系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビスフェニルジ
チオール系などのビスジチオール系、チオカテコール
系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビスフェノレ
ート系等の金属錯体が好ましい。また、窒素のラジカル
カチオンを有するアミン系化合物やヒンダードアミン等
のアミン系のクエンチャーも好適である。
【００４０】結合体を構成する色素としては、インドレ
ニン環を有するシアニン色素が、またクエンチャーとし
てはビスフェニルジチオール金属錯体等の金属錯体色素
が好ましい。
【００４１】なお、クエンチャーは、光吸収色素と別個
に添加しても、結合体の形として用いてもよいが、光吸
収色素の総計の１モルに対し１モル以下、特に０．０５
〜０．５モル程度添加することが好ましい。これによ
り、耐光性が向上する。
【００４２】記録層に用いる色素には、上記のような光
吸収性の色素、色素−クエンチャー混合物、色素−クエ
ンチャー結合体から上記範囲のｎおよびｋを有するもの
を選択すればよいが、新たに分子設計を行ない合成して
もよい。
【００４３】なお、色素の記録光および再生光に対する
ｋは、その骨格や置換基により０〜２程度まで種々変化
しているため、例えばｋが０．０３〜０．２５の色素を
選定するに際しては、その骨格や置換基に制限がある。
このため、塗布溶剤に制限を生じたり、基板材質によっ
ては塗工できないこともある。あるいは気相成膜できな
いこともある。また、新たに分子設計を行なう場合、設
計および合成に大きな労力を必要とする。
【００４４】このことは、波長依存性の改善にも適用で
きる。半導体レーザーの波長は通常±１０nmの範囲にあ
り、市販のＣＤプレーヤにおいては、７７０nmから７９
０nmの範囲で７０％以上の反射率を確保する必要があ
る。一般に色素のｋ値は大きな波長依存性をもつものが
多く、７８０nmでは適切な値であっても、７７０nmある
いは７９０nmでは大きくはずれてしまう場合が多い。こ
のような場合には、第二の色素を混合することによっ
て、７８０±１０nmの範囲で常に適切なｎおよびｋ値が
得られるように設定することができる。
【００４５】この結果、塗布溶剤等の制約などの制限が
緩和され、また、合成が容易で安価な色素の使用や、特
性の良好な色素の使用や、難溶性の色素の使用をも可能
とすることができる。
【００４６】記録層(3) を混合色素層とする場合、用い
る色素は、ｎ＝１．６〜６．５、ｋ＝０〜２の範囲内の
ものから選択すればよい。なお、ｎおよびｋの測定に際
しては、所定の透明基板上に記録層を例えば４０〜１０
０ｎｍ程度の厚さに実際の条件にて設層して、測定用サ
ンプルを作製する。次いで、この測定用サンプルの基板
を通しての反射率あるいは記録層側からの反射率を測定
する。反射率は、記録再生光波長を用いて鏡面反射（５
°程度）にて測定する。また、サンプルの透過率を測定
する。これらの測定値から、例えば、共立全書「光学」
石黒浩三Ｐ１６８〜１７８に準じ、ｎ、ｋを算出すれば
よい。
【００４７】記録層は、色素および有機溶剤を含有する
塗布液を用い、この塗布液を回転する基板上に展開塗布
するスピンコート法により形成される。記録層形成のた
めの塗布液に用いる有機溶剤としては、アルコール系、
ケトン系、エステル系、エーテル系、芳香族系、ハロゲ
ン化アルキル系等から、用いる色素に応じて適宜選択す
ればよいが、一分子中に２つ以上の官能基を有する有機
溶剤が好適である。スピンコート後、必要に応じて塗膜
を乾燥させる。
【００４８】このようにして形成される記録層の厚さ
は、目的とする反射率などに応じて適宜設定されるもの
であるが、通常、１００〜３００ｎｍ程度である。
【００４９】記録層(3) 上には、直接密着して反射層
(5) が設層される。反射層(5) は、Ａｕ、Ａｇ又はＡｇ
系合金から構成されるが、反射率が高いこと、耐食性が
良好であることから、Ａｕが好ましい。
【００５０】Ａｇ系合金としては、Ａｇに加え、Ｃｕ、
Ｔｉ、Ｖ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕ、Ａｌ等から選ばれる１
種以上の元素を含むものが好ましいが、高反射率を得る
ためにはＡｇの含有率を４０原子％以上とすることが好
ましい。
【００５１】反射層(5) を形成するには、スパッタ、蒸
着等の各種気相成膜法を用いればよい。また、反射層
(5) の厚さは、２０ｎｍ以上であることが好ましい。厚
さが小さくなると反射率が不十分となる傾向にある。
【００５２】反射層を上記のような構成とすることによ
り、光記録ディスクとしたときの基板を通しての反射率
（未記録部）は、６０％以上、特に７０％以上が得られ
る。
【００５３】反射層(5) 上には、保護膜(6) が設けられ
る。保護膜(6) は、反射層(5) の損傷を避けるためにス
ピンコート法により形成されることが好ましいが、スク
リーン印刷法、ディッピング法またはスプレーコート法
等を用いてもよい。保護膜(6) の形成条件は特に限定さ
れず、塗布液の粘度や目的とする厚さなどに応じて適宜
決定すればよい。
【００５４】保護膜の厚さは１〜２０μｍ程度とするこ
とが好ましい。厚さが小さくなると反射層や記録層の防
食効果が不十分となる傾向にある。厚さが大きくなる
と、硬化の際の収縮によりクラックが生じたり、ディス
クに反りが発生しやすくなってくる。
【００５５】保護膜は、放射線硬化樹脂から構成するこ
とが好ましい。具体的には、放射線硬化型化合物やその
重合用組成物を放射線硬化させた物質から構成されるこ
とが好ましい。このようなものとしては、イオン化エネ
ルギーに感応し、ラジカル重合性を示す不飽和二重結合
を有するアクリル酸、メタクリル酸、あるいはそれらの
エステル化合物のようなアクリル系二重結合、ジアリル
フタレートのようなアリル系二重結合、マレイン酸、マ
レイン酸誘導体等の不飽和二重結合等の放射線照射によ
る架橋あるいは重合する基を分子中に含有または導入し
たモノマー、オリゴマーおよびポリマー等を挙げること
ができる。これらは多官能、特に３官能以上であること
が好ましく、１種のみ用いても２種以上併用してもよ
い。
【００５６】放射線硬化性モノマーとしては、分子量２
０００未満の化合物が、オリゴマーとしては分子量２０
００〜１００００のものが好適である。これらはスチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
メタクリレート、1,6-ヘキサングリコールジアクリレー
ト、1,6-ヘキサングリコールジメタクリレート等も挙げ
られるが、特に好ましいものとしては、ペンタエリスリ
トールテトラ（メタ) アクリレート、ペンタエリスリト
ール（メタ) アクリレート、トリメチロールプロパント
リ（メタ) アクリレート、トリメチロールプロパンジ
（メタ) アクリレート、ウレタンエラストマーのアクリ
ル変性体、あるいはこれらのものにＣＯＯＨ等の官能基
が導入されたもの、フェノールエチレンオキシド付加物
の（メタ) アクリレート、特開平１−１６５０５０号公
報（特公平８−２７９９０号公報）に示されるペンタエ
リスリトール縮合環に（メタ) アクリル基またはε−カ
プロラクトン−アクリル基のついた化合物、特殊アクリ
レート類等のアクリル基含有モノマーおよび／またはオ
リゴマーが挙げられる。この他、放射線硬化性オリゴマ
ーとしては、オリゴエステルアクリレートやウレタンエ
ラストマーのアクリル変性体、あるいはこれらのものに
ＣＯＯＨ等の官能基が導入されたもの等が挙げられる。
【００５７】また、上記の化合物に加えて、あるいはこ
れにかえて熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによ
って得られる放射線硬化型化合物を用いてもよい。この
ような放射線硬化性樹脂の具体例としては、ラジカル重
合性を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、メタク
リル酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアク
リル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系
二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結
合等の、放射線照射による架橋あるいは重合する基を熱
可塑性樹脂の分子中に含有、または導入した樹脂であ
る。放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例と
しては、塩化ビニル系共重合体、飽和ポリエスルテル樹
脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エポキシ系樹脂、フ
ェノキシ系樹脂、繊維素誘導体等を挙げることができ
る。その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂
としては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエス
テル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体（Ｐ
ＶＰオレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミ
ド樹脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸
基を含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステ
ルを重合成分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等
も有効である。
【００５８】重合用塗布組成物は放射線照射、特に紫外
線照射により硬化されるので、重合用組成物中には光重
合開始剤ないし増感剤が含有されることが好ましい。用
いる光重合開始剤ないし増感剤に特に制限はなく、例え
ば、前述したものと同様のものが挙げられる。重合用組
成物中における光重合開始剤の含有量は、通常０．５〜
５重量％程度とすればよい。このような重合用組成物
は、常法に従い合成してもよく、市販の化合物を用いて
調製してもよい。
【００５９】保護膜を形成するための放射線硬化型化合
物を含有する組成物としては、エポキシ樹脂および光カ
チオン重合触媒を含有する組成物も好適に使用される。
エポキシ樹脂としては、脂環式エポキシ樹脂が好まし
く、特に、分子内に２個以上のエポキシ基を有するもの
が好ましい。脂環式エポキシ樹脂としては、３，４−エ
ポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロ
ヘキサンカルボキシレート、ビス−（３，４−エポキシ
シクロヘキシルメチル）アジペート、ビス−（３，４−
エポキシシクロヘキシル）アジペート、２−（３，４−
エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エ
ポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス
（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、ビニル
シクロヘキセンジオキシド等の１種以上が好ましい。脂
環式エポキシ樹脂のエポキシ当量に特に制限はないが、
良好な硬化性が得られることから、６０〜３００、特に
１００〜２００であることが好ましい。
【００６０】光カチオン重合触媒は、公知のいずれのも
のを用いてもよく、特に制限はない。例えば、１種以上
の金属フルオロホウ酸塩および三フッ化ホウ素の錯体、
ビス（ペルフルオロアルキルスルホニル）メタン金属
塩、アリールジアゾニウム化合物、６Ａ族元素の芳香族
オニウム塩、５Ａ族元素の芳香族オニウム塩、３Ａ族〜
５Ａ族元素のジカルボニルキレート、チオピリリウム
塩、ＭＦ6 アニオン（ただしＭは、Ｐ、ＡｓまたはＳ
ｂ）を有する６Ａ族元素、トリアリールスルホニウム錯
塩、芳香族イオドニウム錯塩、芳香族スルホニウム錯塩
等を用いることができ、特に、ポリアリールスルホニウ
ム錯塩、ハロゲン含有錯イオンの芳香族スルホニウム塩
またはイオドニウム塩、３Ａ族元素、５Ａ族元素および
６Ａ族元素の芳香族オニウム塩の１種以上を用いること
が好ましい。
【００６１】また、有機金属化合物と光分解性を有する
有機けい素化合物とを含有する光カチオン重合触媒も用
いることができる。このような光カチオン重合触媒は非
強酸系であるため、光磁気記録ディスクの腐食性の高い
記録層に対する悪影響を避けることができる。有機金属
化合物としては、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａl 、Ｚｒ等の金属原子に、アルコ
キシ基、フェノキシ基、β−ジケトナト基等が結合した
錯体化合物が好ましい。これらのうち特に有機アルミニ
ウム化合物が好ましく、具体的には、トリスメトキシア
ルミニウム、トリスプロピオナトアルミニウム、トリス
トリフルオロアセチルアルミニウム、トリスエチルアセ
トアセトナトアルミニウムが好ましい。
【００６２】光分解性を有する有機けい素化合物は、紫
外線等の光照射によりシラノールを生じるものであり、
ペルオキシシラノ基、ｏ−ニトロベンジル基、α−ケト
シリル基等を有するけい素化合物が好ましい。
【００６３】組成物中の光カチオン重合触媒の含有量
は、エポキシ樹脂１００重量部に対し、０．０５〜０．
７重量部、特に０．１〜０．５重量部であることが好ま
しい。
【００６４】このようななかでも、放射線硬化型化合物
としてアクリル基を有するものを用い、光重合増感剤な
いし開始剤を含有する塗膜を放射線、特に紫外線硬化し
たものであることが好ましい。
【００６５】保護膜を形成する際には、上記したような
重合用組成物の塗膜に紫外線又は電子線等を照射して硬
化する。なお、保護膜には、必要に応じて各種顔料粒子
が含まれていてもよい。
【００６６】この保護膜(6) 上に本発明のコーティング
用組成物の放射線硬化物からなるインク受理層(7) が設
けられる。コーティング用組成物は、例えばスクリーン
印刷法により塗布され、これに紫外線などの放射線を照
射して硬化させることにより、インクジェット方式に好
適なインク受理層となる。
【００６７】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はこれらのみに限定されるものでは
ない。 ［実施例１］図１に示した構成の追記型コンパクトディ
スク（ＣＤ−Ｒ）を作成した。まず、保護膜(6) 形成ま
でを行った。すなわち、渦巻状の連続グルーブを有する
直径１２０mm、厚さ１．２mmのポリカーボネート樹脂基
板(2) 上に、スピンコート法により色素を含有する記録
層(3) を形成した。この記録層(3) 上に反射層(5) を形
成し、さらに、保護膜(6) を順次形成した。
【００６８】記録層(3) 形成に用いた塗布液は、色素お
よび有機溶剤を含有するものであり、色素としては、下
記化１の色素Ａ１およびＡ２ならびに一重項酸素クエン
チャーＱを用い、色素中のＡ１含有率は６０重量％、Ａ
２含有率は３０重量％、一重項酸素クエンチャー含有率
は１０重量％とした。
【００６９】
【化１】
【００７０】また、有機溶剤としては、ジアセトンアル
コールを用いた。そして、塗布液中の色素含有率は５重
量％とした。また、記録層の厚さは２００ｎｍとした。
続いて、これら各ディスクについて、反射層をスパッタ
法により形成した。反射層の厚さ及び組成は次の通りで
あった。 反射層（８０ｎｍ）：Ａｕ
【００７１】次に、反射層(5) 上に保護膜(6) を形成し
た。保護膜(6) は、紫外線硬化型樹脂：ＳＤ−２１１
（大日本インキ化学工業（株）製）をスピンコートによ
り塗工し、紫外線硬化を行なって形成した。硬化後の保
護膜厚は５μｍであった。
【００７２】次に、このディスク（Ａ）の保護膜(6) 上
に、インク受理層(7) を以下のようにして形成した。下
記組成の各成分をミキサー中で１時間攪拌して、塗布液
Ｎｏ．１１を調製した。
【００７３】 （塗布液Ｎｏ．１１の組成） 単官能モノマー： ａ−１（アロニックスＭ−５６００、東亜合成化学（株）製）３０重量部 アクリロイルモルフォリン １０重量部 多官能モノマー： ｂ−１（Ａ−６００、新中村化学工業（株）製） ２０重量部 重合開始剤：イルガキュアー６５１（チバガイギー社製） ５重量部 有機フィラー： スタフィロイドＡＣ−３８３２（粒径、０．３μｍ） ３０重量部 無機フィラー： ＳｉｌｃｒｏｎＧ−６００（粒径、４．７μｍ） ５重量部
【００７４】この塗布液Ｎｏ．１１を用いて、前記ディ
スクの保護膜(6) 上にスクリーン印刷により塗膜を形成
した。この塗膜に、超高圧水銀灯を用いて照射面のラン
プ強度が５００ｍＪ／ｃｍ2 となるように紫外線を照射
して硬化させ、約１０μｍのインク受理層(7) を形成し
た。このようにして得られた光記録媒体をサンプルＮ
ｏ．１１とする。
【００７５】塗布液Ｎｏ．１１において、モノマーｂ−
１の代わりに、トリメチロールプロパントリアクリレー
トを用いた以外は同様の塗布液Ｎｏ．１２を調製し、こ
の塗布液Ｎｏ．１２を用いて、同様にしてインク受理層
を形成した。この光記録媒体をサンプルＮｏ．１２とす
る。
【００７６】塗布液Ｎｏ．１１において、モノマーａ−
１の３０重量部の代わりにモノマーａ−２（アロニック
スＭ−５７００、東亜合成化学（株）製）２５重量部、
アクリロイルモルフォリン１０重量部の代わりにポリエ
チレングリコール９０メタクリレート１５重量部をそれ
ぞれ用いた以外は同様の塗布液Ｎｏ．１３を調製し、こ
の塗布液Ｎｏ．１３を用いて、同様にしてインク受理層
を形成した。この光記録媒体をサンプルＮｏ．１３とす
る。
【００７７】塗布液Ｎｏ．１３において、モノマーａ−
２（アロニックスＭ−５７００）の代わりに、ジメチル
アミノプロピルアクリルアミドを用いた以外は同様の塗
布液Ｎｏ．１４を調製し、この塗布液Ｎｏ．１４を用い
て、同様にしてインク受理層を形成した。この光記録媒
体をサンプルＮｏ．１４とする。
【００７８】なお、本実施例で用いたアロニックスＭ−
５６００、アロニックスＭ−５７００、Ａ−６００、イ
ルガキュアー６５１の構造は、下記化２の通りである。
【００７９】
【化２】
【００８０】［比較例１］実施例１における塗布液Ｎ
ｏ．１１、Ｎｏ．１２それぞれにおいて、有機フィラ
ー：スタフィロイドＡＣ−３８３２を添加せず、無機フ
ィラー：ＳｉｌｃｒｏｎＧ−６００を３５重量部とした
以外は同様の塗布液Ｎｏ．１５、Ｎｏ．１６をそれぞれ
調製し、塗布液Ｎｏ．１５、Ｎｏ．１６それぞれを用い
て、同様にしてインク受理層を形成した。これらの光記
録媒体をサンプルＮｏ．１５、Ｎｏ．１６とする。
【００８１】実施例１における塗布液Ｎｏ．１３、Ｎ
ｏ．１４それぞれにおいて、無機フィラー：Ｓｉｌｃｒ
ｏｎＧ−６００を添加せず、有機フィラー：スタフィロ
イドＡＣ−３８３２を３５重量部とした以外は同様の塗
布液Ｎｏ．１７、Ｎｏ．１８をそれぞれ調製し、塗布液
Ｎｏ．１７、Ｎｏ．１８それぞれを用いて、同様にして
インク受理層を形成した。これらの光記録媒体をサンプ
ルＮｏ．１７、Ｎｏ．１８とする。
【００８２】得られたサンプルＮｏ．１１〜Ｎｏ．１８
のインク受理層面に、インクジェットカラープリンター
（（株）マスターマインド製、ｍｙＰＲＩＮＴＬＡＢ）
を用いて印字を行った。インクは、Ｃａｎｏｎ ＢＪＣ
６００Ｊ用のカラーインクを使用した。
【００８３】印字性については、以下のように表面性、
解像度、乾燥性の評価を行った。 （表面性）スクリーン印刷の表面を観察し、次のように
評価した。 ◎：非常になめらかであり、表面がさらさらしているも
の ○：なめらかでベタ付き感のないもの △：表面はなめらかであるが、指触したときベタ付き感
のあるもの ×：表面にメッシュ痕や気泡痕の残るもの
【００８４】（解像度）インクとインクの重なり部分ま
たは印刷の境界部分において、 ◎：滲みが見られない ○：０．４ｍｍ以下の滲みのあるもの △：０．４ｍｍより大きく０．８ｍｍ以下の滲みのある
もの ×：０．８ｍｍより大きい滲みやインクのハジキがある
もの
【００８５】（乾燥性）印字を行い、印字後、印字表面
に指触したとき、インクが指に付着しなくなるまでの時
間を乾燥時間とし、以下の基準で評価した。 ◎：乾燥時間が３０秒以下の場合 ○：乾燥時間が３０秒を超え２分以下の場合 △：乾燥時間が２分を超え１０分以下の場合 ×：乾燥時間が１０分を超える場合 耐水性については、印字を行い、印字を乾燥した後、印
字面を流水中に１分間さらし、以下のようにインク吸着
性、膜質の評価を行った。
【００８６】（インク吸着性）印字面を流水中に１分間
さらす前と後で、印字文字や絵を目視で観察して、印字
の濃さの変化を調べた。 ○：印字の濃さがほとんど変化しないもの △：印字の濃さがやや薄くなったが、読み取れるもの ×：印字が消えて読み取れなくなったもの
【００８７】（膜質）印字面を流水中に１分間さらす前
と後で、コーテイング層の状態を目視で観察した。 ○：層表面がほとんど変化しない場合 △：層表面が多少軟化する場合 ×：層が流水と一緒に流れたり剥離する場合
【００８８】以上の各光記録媒体サンプルの性能評価の
結果を表１に示す。表１より、本発明によるサンプルＮ
ｏ．１１〜Ｎｏ．１４のインク受理層は、インクジェッ
ト記録方式において実用上十分な性能を有することが明
らかである。一方、比較サンプルＮｏ．１５、Ｎｏ．１
６のインク受理層は、表面性には優れるものの、解像
度、乾燥性やインク吸着性に劣る。また、比較サンプル
Ｎｏ．１７、Ｎｏ．１８のインク受理層は、表面性、膜
質に劣る。
【００８９】
【表１】
【００９０】［実施例２及び比較例２］実施例１及び比
較例１で用いた各塗布液Ｎｏ．１１〜Ｎｏ．１８におい
て、有機フィラー：スタフィロイドＡＣ−３８３２の代
わりにフロービーズＥＡ２０９（粒径、１０μｍ）を用
い、無機フィラー：ＳｉｌｃｒｏｎＧ−６００の代わり
にアエロジルＴＴ−６００（粒径、０．０４μｍ）を用
いた以外は同様の塗布液Ｎｏ．２１〜Ｎｏ．２８をそれ
ぞれ調製し、これら各塗布液Ｎｏ．２１〜Ｎｏ．２８を
用いて、同様にしてインク受理層を形成した。これら各
光記録媒体をサンプルＮｏ．２１〜Ｎｏ．２８とする。
【００９１】得られたサンプルＮｏ．２１〜Ｎｏ．２８
について、実施例１と同様の評価を行った。表２に示す
ように、本発明によるサンプルＮｏ．２１〜Ｎｏ．２４
のインク受理層は、インクジェット記録方式において実
用上十分な性能を有することが明らかである。一方、比
較サンプルＮｏ．２５、Ｎｏ．２６のインク受理層は、
表面性には優れるものの、解像度に劣る。また、比較サ
ンプルＮｏ．２７、Ｎｏ．２８のインク受理層は、表面
性、膜質に劣る。
【００９２】
【表２】
【００９３】［実施例３及び比較例３］実施例２及び比
較例２で用いた各塗布液Ｎｏ．２１〜Ｎｏ．２４、Ｎ
ｏ．２７〜Ｎｏ．２８において、有機フィラー：フロー
ビーズＥＡ２０９の代わりに動物性蛋白質微粒子（粒
径、５μｍ）を用いた以外は同様の塗布液Ｎｏ．３１〜
Ｎｏ．３４、Ｎｏ．３７〜Ｎｏ．３８をそれぞれ調製
し、これら各塗布液を用いて、同様にしてインク受理層
を形成した。これら各光記録媒体をサンプルＮｏ．３１
〜Ｎｏ．３４、Ｎｏ．３７〜Ｎｏ．３８とする。
【００９４】得られたサンプルＮｏ．３１〜Ｎｏ．３
４、Ｎｏ．３７〜Ｎｏ．３８について、実施例１と同様
の評価を行った。表３に示すように、本発明によるサン
プルＮｏ．３１〜Ｎｏ．３４のインク受理層は、インク
ジェット記録方式において実用上十分な性能を有するこ
とが明らかである。一方、比較サンプルＮｏ．３７、Ｎ
ｏ．３８のインク受理層は、表面性、膜質に劣る。
【００９５】
【表３】
【００９６】［実施例４］この実施例は、保護膜(6) が
１層構成であるディスク（Ａ）の代わりに、保護膜(6)
が２層構成であるディスク（Ｂ）を用いた実施例であ
る。実施例１でのディスク（Ａ）の作成の場合と全く同
様にして、反射層(5) までの形成を行った。この反射層
(5) 上に、紫外線硬化型樹脂：ＳＤ−２１１をスピンコ
ートにより塗工し、紫外線硬化を行なって、硬化後の厚
さ５μｍの下部保護膜を形成した。続いて、下部保護膜
上に、大日本インキ化学工業（株）製のスクリーン印刷
用白インキ（ＳＳＤ Ｆ２７ ＷＨＩＴＥ）を用い、ス
クリーン印刷により厚さ８μｍの上部保護膜を形成し、
ディスク（Ｂ）を作成した。
【００９７】次に、このディスク（Ｂ）の上部保護膜上
に、実施例１で用いた塗布液Ｎｏ．１１〜Ｎｏ．１４を
それぞれ用いて、同様にしてインク受理層(7) を形成し
た。これら各光記録媒体をサンプルＮｏ．４１〜Ｎｏ．
４４とする。
【００９８】また、実施例２で用いた塗布液Ｎｏ．２１
〜Ｎｏ．２４をそれぞれ用いて、同様にしてインク受理
層(7) を形成した。これら各光記録媒体をサンプルＮ
ｏ．５１〜Ｎｏ．５４とする。
【００９９】さらに、実施例３で用いた塗布液Ｎｏ．３
１〜Ｎｏ．３４をそれぞれ用いて、同様にしてインク受
理層(7) を形成した。これら各光記録媒体をサンプルＮ
ｏ．６１〜Ｎｏ．６４とする。
【０１００】得られたサンプルＮｏ．４１〜Ｎｏ．４
４、Ｎｏ．５１〜Ｎｏ．５４、Ｎｏ．６１〜Ｎｏ．６４
について、実施例１と同様の評価を行った。表４に示す
ように、これらサンプルのインク受理層は、インクジェ
ット記録方式において実用上十分な性能を有することが
明らかである。これらのサンプルは、上部保護膜中に白
色顔料を含有させたので、発色性が良好ではっきりとし
たものになった。
【０１０１】
【表４】
【０１０２】
【発明の効果】本発明のコーティング用組成物によれ
ば、上述のように、この組成物を放射線硬化させること
により、インクジェット記録方式における画像鮮明性、
耐水性及び基体との密着性に優れるインク受理層を形成
することができる。従って、本発明のコーティング用組
成物は、通常のインクジェット記録材料のインク受理層
や、特に光記録媒体のインク受理層形成用として非常に
有用である。
【０１０３】本発明の光記録媒体によれば、このコーテ
ィング用組成物から形成されたインク受理層を有するの
で、従来に比べ、カラー印字性に優れ、インクの滲みや
ハジキなどがなく、且つベタ付きのない被記録表面層を
有する被記録媒体が提供される。特に、インク受理層は
速乾性に優れるので、高解像度のグラフィックや写真の
印刷に適しており、色の滲みのない優れた印刷を行うこ
とができる。さらに、流水にさらした後に拭き取っても
印字落ちや層全体の剥離がなく、耐水性にも優れてい
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明による光記録ディスクの一例の部分断
面を示す図である。
【符号の説明】
(1) ：光記録ディスク (2) ：基板 (21)：グルーブ (3) ：記録層 (5) ：反射層 (6) ：保護膜 (7) ：インク受理層

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 単官能（メタ）アクリル系モノマー及び
    ２官能以上の多官能（メタ）アクリル系モノマーを含む
    放射線硬化性化合物（Ａ）と、吸水性有機フィラー
    （Ｃ）と、吸水性無機フィラー（Ｄ）とを含む、コーテ
    ィング用組成物。
  2. 【請求項２】 放射線硬化性化合物（Ａ）は、単官能
    （メタ）アクリル系モノマー５０〜９０重量％と、２官
    能以上の多官能（メタ）アクリル系モノマー１０〜５０
    重量％とを含む、請求項１に記載のコーティング用組成
    物。
  3. 【請求項３】 放射線硬化性化合物（Ａ）に対して、吸
    水性有機フィラー（Ｃ）１０〜６０重量％と、吸水性無
    機フィラー（Ｄ）１〜２０重量％とを含む、請求項１又
    は２項に記載のコーティング用組成物。
  4. 【請求項４】 フィラー（Ｃ）（Ｄ）の粒径は、０．０
    ０１〜２０μｍである、請求項１〜３項のうちのいずれ
    か１項に記載のコーティング用組成物。
  5. 【請求項５】 放射線硬化性化合物（Ａ）に対して、重
    合開始剤０．００１〜１０重量％を含む、請求項１〜４
    項のうちのいずれか１項に記載のコーティング用組成
    物。
  6. 【請求項６】 疎水性支持基体の少なくとも片面に、請
    求項１〜５項のうちのいずれか１項に記載のコーティン
    グ用組成物の放射線硬化物からなるインク受理層を有す
    る、記録材料。
  7. 【請求項７】 光記録媒体の光学的書き込み／読み取り
    を行う面とは反対側の面に、請求項１〜５項のうちのい
    ずれか１項に記載のコーティング用組成物の放射線硬化
    物からなるインク受理層を有する、光記録媒体。
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