JPH11268408A

JPH11268408A - 被記録基材

Info

Publication number: JPH11268408A
Application number: JP10377083A
Authority: JP
Inventors: Masahiro Shinkai; 正博新海; Noriyoshi Nanba; 憲良南波
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1995-03-09
Filing date: 1998-12-28
Publication date: 1999-10-05

Abstract

(57)【要約】【課題】水溶性染料を含有するインクによる書き込み
が可能で、速乾性、耐水性などに優れる被記録表面層を
有する被記録基材を提供する。【解決手段】３個のアルキル基を有する４級アンモニ
ウム塩基を有し、これら３個のアルキル基の総炭素原子
数が４以上の化合物とカルボン酸基を有する化合物とを
含有し、これらの化合物のうち少なくとも１種はエチレ
ン性不飽和反応性基を有するモノマーである塗膜を放射
線硬化して被記録表面層を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はインクジェット記録
方式に用いられる被記録基材に関する。

【０００２】

【従来の技術】環境問題の高まりなどから、有機溶剤を
可能な限り使用しない種々の水溶性インクの使用が増加
している。特に、インクジェット記録方式の発展によっ
て多くの基体に対する書き込みが検討されている。イン
クジェット記録方式に用いられるインクは、通常、酸性
染料または直接染料などの水溶性染料と、溶媒としての
水が主成分であり、多くの場合、さらに少量の多価アル
コールが含有されている。

【０００３】インクジェット記録方式に使用される被記
録基体としては、従来、通常の紙や多孔質のインク受容
層を設けたインクジェット用の特殊紙など親水性表面を
有する基体が使用されている。また、基体表面に被記録
層を設ける例も多く、その材料としてデンプン、ゼラチ
ン、カゼイン、アラビアゴム、アルギン酸ソーダ、カル
ボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルピロリドン、ポリアクリル酸ソーダなどの水溶性
ポリマー層、合成ゴムラテックスなどの合成樹脂ラテッ
クス、ポリビニルブチラール、ポリ塩化ビニルなどの有
機溶剤可溶性樹脂層などを設けることが行われている。
また、カチオン系のイオンを有するポリマーを用いるこ
とが提案されている。インクジェット用水溶性染料がス
ルホン酸などのアニオンを有することが多いためにイオ
ン結合によるインクの再溶出防止を期待したものと言え
る。このようなカチオン系ポリマーとしては、例えば第
４級アンモニウム塩基を有するポリビニルアルコール、
ポリアクリル酸エステル、ポリアクリル酸アミドなどの
ポリマーが知られている（特開昭６１−２２８９８４号
公報、その他）。また、色彩性を改善するために、ポリ
エチレングリコールジカルボン酸の使用も提案されてい
る（特公平４−１７０６号公報）。

【０００４】これらの水溶性ポリマーは、親水性が非常
に強いため、基体として紙などの親水性のものを用いる
場合には基体となじみやすく、これらのポリマーを用い
て基体表面に被記録層を設ける際、密着性等に問題は生
じない。しかし、例えば光記録媒体の保護膜等に多用さ
れている紫外線硬化樹脂など、疎水性の強い表面を有す
る基体に対しては、密着性に欠けるため、設層後簡単に
剥離してしまったり、さらに被記録層自体の耐水性が低
かったり、また印字後、水滴によるインクのにじみ等が
大きく、実用性に問題がある。さらには、被記録層の硬
度が十分でないという問題もある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、一度
の塗布工程で得られ、速乾性に優れ、かつ水濡れ後に拭
き取っても印字や層全体の剥離がないなど、密着性、耐
水性および印字の安定性に優れ、しかも表面硬度が十分
であり、さらにはカラー印刷性に優れ、水溶性染料を含
有するインクによる書き込みが可能な被記録表面層を有
する被記録基材を提供することである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（１２）の本発明により達成される。（１）基体上に、水溶性染料を含有するインクによる書
き込み可能な被記録表面層を有し、前記被記録表面層
が、３個のアルキル基をもつ４級アンモニウム塩基を有
する化合物とカルボン酸基を有する化合物とを含有し、
前記化合物のうちの少なくとも１種が末端にエチレン性
不飽和反応性基を有するモノマーであり、かつ前記４級
アンモニウム塩基の３個のアルキル基の総炭素原子数が
４以上である塗膜を放射線硬化したものである被記録基
材。（２）前記４級アンモニウム塩基を有する化合物が下記
化３または化４で表されるモノマーである上記（１）の
被記録基材。

【０００７】

【化３】

【０００８】

【化４】

【０００９】〔化３および化４のそれぞれにおいて、Ｒ
⁰ は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ¹ 、Ｒ² および
Ｒ³ は、それぞれアルキル基を表し、これら３個のアル
キル基の総炭素原子数は４以上である。Ｌ¹ はオキシ基
（−Ｏ−）およびカルボニル基（−ＣＯ−）のうちの１
種以上が介在してもよい。炭素原子数１〜８のアルキレ
ン基を表す。Ｘ^- はハロゲン化物イオンを表す。〕（３）前記Ｒ¹ 、Ｒ² およびＲ³ のうちの１個が炭素原
子数３〜１０のアルキル基である上記（２）の被記録基
材。（４）前記カルボン酸基を有する化合物が（メタ）アク
リル酸およびその誘導体のうちの少なくとも１種である
上記（１）〜（３）のいずれかの被記録基材。（５）前記硬化が紫外線硬化である上記（１）〜（４）
のいずれかの被記録基材。（６）前記塗膜が、さらに水酸基を有する化合物を含有
する上記（１）〜（５）のいずれかの被記録基材。（７）前記塗膜が、さらにモルフォリノ基を有する化合
物を含有する上記（１）〜（６）のいずれかの被記録基
材。（８）前記被記録表面層が、さらに多孔質粒子を含む上
記（１）〜（７）のいずれかの被記録基材。（９）前記書き込みを、インクジェット記録方式で行う
上記（１）〜（８）のいずれかの被記録基材。（１０）前記基体が、放射線硬化保護膜を有する光記録
媒体である上記（１）〜（９）のいずれかの被記録基
材。（１１）前記基体が、紫外線硬化保護膜を有する光記録
媒体である上記（１）〜（10）のいずれかの被記録基
材。（１２）前記光記録媒体が記録層に密着して反射層を有
し、この反射層上に前記保護膜を含む少なくとも１層の
保護膜を有し、前記被記録表面層および前記保護膜のう
ちの少なくとも１層が白色顔料を含有する上記（10）ま
たは（11）の被記録基材。

【００１０】

【作用】本発明の被記録基材では、被記録表面層形成用
の塗膜に３個のアルキル基をもつ４級アンモニウム塩基
を有する化合物とカルボン酸基を有する化合物とを含有
させている。この場合、これらの化合物のうちの少なく
とも１種が、末端にエチレン性不飽和反応性基を有する
モノマーである。また、４級アンモニウム塩基を有する
化合物は、４級アンモニウム塩基の有する３個のアルキ
ル基の総炭素原子数が４以上、好ましくは５以上であ
り、さらに好ましくは炭素原子数３〜１０のアルキル基
を１個含むものである。そして、これらの化合物を含有
する塗膜に放射線硬化、好ましくは紫外線硬化を行って
被記録表面層を形成している。

【００１１】上記のような４級アンモニウム塩基を有す
る化合物を用いることによって耐水性が向上するととも
に、塗布液の調製が容易になる。また、カルボン酸基を
有する化合物を用いることによって、乾燥性に優れたも
のになる。このため、これらの化合物を用いた被記録基
材は、速乾性である。また、耐水性に優れ、例えば流水
にさらしても印字のにじみがなく、流水にさらした後拭
き取っても膜剥れが生じない。さらに、印字の安定性も
良好であり、従来に比べ、表面硬度が高く、耐久性に優
れる。また、ドットのにじみがなく高解像度になりカラ
ー印刷性に優れる。また、光記録媒体の保護膜表面のよ
うな疎水性表面に被記録表面層を形成する場合であって
も、密着性は十分である。

【００１２】なお、これに対し、どちらか一方の化合物
のみではこのような効果は得られず、４級アンモニウム
塩基を有する化合物のみでは乾燥性が不十分となり、カ
ルボン酸基を有する化合物のみでは耐水性が不十分とな
る。また、４級アンモニウム塩基の３個のアルキル基の
総炭素原子数が３以下となると、塗布液調製の際の混合
を十分に行うことができず、白濁が生じてしまう。

【００１３】なお、特開平１−１８８３８７号公報に
は、４級アンモニウム塩を有するモノマー単位を１重量
％以上含有し、かつ水に実質上不溶性であるコポリマー
をインク受容層（本発明における被記録表面層と同義）
に用いることが提案されている。しかし、本発明と異な
り、４級アンモニウム塩基の有する３個のアルキル基の
総炭素原子数は３である。また、カルボン酸基を有する
化合物を併用することも、塗膜を形成したのち放射線硬
化することも行われてはいない。さらには、４級アンモ
ニウム塩基を有する化合物をモノマーとして塗膜中に含
有させることも行われてはいない。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的構成につい
て詳細に説明する。

【００１５】本発明の被記録基材は、基体上に水溶性染
料を含有するインクによる書き込み可能な被記録表面層
を有し、この被記録表面層形成用の塗膜は３個のアルキ
ル基をもつ４級アンモニウム塩基を有する化合物とカル
ボン酸基を有する化合物とを含有する。

【００１６】本発明に用いる４級アンモニウム塩基を有
する化合物は、４級アンモニウム塩基の有する３個のア
ルキル基の総炭素原子数が４以上、好ましくは５以上の
ものである。さらには、炭素原子数３〜１０のアルキル
基を１個有することが好ましい。この場合の３個のアル
キル基の総炭素原子数の上限は通常２０個程度、好まし
くは１５個程度である。

【００１７】このような４級アンモニウム塩基を有する
化合物としては、化３または化４で表される化合物が好
ましい。化３、化４について説明すると、化３、化４に
おいて、Ｒ⁰ は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ¹ 、
Ｒ² およびＲ³ は、それぞれアルキル基を表し、これら
３個のアルキル基の総炭素原子数は４以上である。さら
に、Ｒ¹ 〜Ｒ³ のアルキル基の総炭素原子数は５以上で
あることが好ましく、より好ましくは５〜１５、特に好
ましくは５〜１２である。そして、Ｒ¹ 〜Ｒ³のなかの
１個は炭素原子数３〜１０のアルキル基であることが好
ましい。

【００１８】Ｒ¹ 〜Ｒ³ で表されるアルキル基は、それ
ぞれ直鎖状であっても分岐を有するものであってもよ
く、その炭素原子数はそれぞれ１〜１０程度であること
が好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プ
ロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ
−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチ
ル基、ｉｓｏ−ペンチル基、ｎｅｏ−ペンチル基、ｔ−
ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎｅｏ−ヘキシル基、ｉ
ｓｏ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、
ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。これらの
なかから炭素原子数が上記条件を満足するようにＲ¹ 〜
Ｒ³ を選択すればよいが、Ｒ¹ 〜Ｒ³ のなかの１個が炭
素原子数３〜１０のアルキル基であって、かつＲ¹ 〜Ｒ
³ のなかの２個が炭素原子数１〜５のアルキル基である
ことが好ましい。特には、Ｒ¹ 〜Ｒ³ のなかの１個が炭
素原子数３〜１０のアルキル基であって、かつＲ¹ 〜Ｒ
³ のなかの２個がメチル基であることが好ましい。

【００１９】また、これらのアルキル基は無置換である
ことが好ましいが、置換基を有していてもよく、このよ
うな置換基としては、ヒドロキシ基、エーテル基、エス
テル基等が挙げられる。なかでもアルキル基の末端が水
酸基で置換されているものが好ましく、特に炭素原子数
３〜１０のアルキル基の末端が水酸基で置換されている
ものが好ましい。

【００２０】化３、化４においてＬ¹ は炭素原子数１〜
８のアルキレン基を表す。さらに炭素原子数は２〜５で
あることが好ましく、アルキレン基は直鎖状であっても
分岐状であってもよいが、直鎖状であることが好まし
い。また、エーテル基、エステル基等の置換基を有して
いてもよいが、無置換のものが好ましい。また、これら
のアルキレン基はオキシ基（−Ｏ−）およびカルボニル
基（−ＣＯ−）のうちの１種以上、例えばオキシ基（−
Ｏ−）やカルボニルオキシ基（−ＣＯＯ−）などが介在
していてもよい。

【００２１】具体的には−（ＣＨ₂ ）_p −（ｐ＝１〜
８）、−Ｃ（ＣＨ₃ ）Ｈ−ＣＨ₂ −、−〔（ＣＨ₂ ）₂
−Ｏ〕_q −（ＣＨ₂ ）−（ｑ＝１〜２）、−〔（ＣＨ
₂ ）₂ −ＣＯＯ〕_r −（ＣＨ₂ ）−（ｒ＝１〜２）等が
挙げられ、なかでも−（ＣＨ₂ ）₂ −、−（ＣＨ₂ ）₃
−、−（ＣＨ₂ ）₄ −、−（ＣＨ₂ ）₅ −等が好まし
い。

【００２２】Ｘ^- はハロゲン化物イオンを表し、Ｂｒ
^- 、Ｃｌ^- 、Ｉ^- 等である。

【００２３】４級アンモニウム塩基を有する化合物の具
体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。

【００２４】

【化５】

【００２５】このような４級アンモニウム塩基を有する
化合物は、アルキルアミノ基を有する（メタ）アクリレ
ート化合物とハロゲン化アルキルとをトルエン等の有機
溶媒中で重合禁止剤（ｍ−ジニトロベンゼン等）の存在
下で反応させることによって得られる。反応は、室温
（１５℃〜３０℃）程度の温度〜１５０℃程度の温度
で、５〜５０時間程度攪拌することによって行えばよ
い。

【００２６】以下に合成例を示す。

【００２７】合成例１例示化合物ａ−１の合成ジメチルアミノプロピルメタクリレート１８g とｎ−ペ
ンチルブロミド１５gとをトルエン中に入れ、ｍ−ジニ
トロベンゼンを４wt% となるようにさらに加えた。この
溶液を室温で３０時間攪拌し、白色の沈澱物を得た。こ
れを濾過した後さらにトルエンで洗浄し、精製して目的
物を得た。

【００２８】合成例２例示化合物ａ−２の合成ジメチルアミノプロピルメタクリレート１８g とｎ−プ
ロピルクロライド９．５g とをトルエン中に入れ、ｍ−
ジニトロベンゼンを４wt% となるように加えた。この溶
液を１００℃で３０時間攪拌し、白色の沈澱物を得た。
これを濾過した後さらにトルエンで洗浄し、精製して目
的物を得た。

【００２９】このほかの化合物も上記と同様に合成し
た。

【００３０】このような化合物は、元素分析、 ¹Ｈ核磁
気共鳴スペクトル（ ¹ＨＮＭＲ）、赤外吸収スペクトル
（ＩＲ）等によって同定することができる。

【００３１】４級アンモニウム塩基を有する化合物は１
種のみを用いても２種以上を併用してもよい。これらの
化合物の被記録表面層における含有量は、塗膜中の含有
量として１〜５０wt% 、さらには３〜３０wt% であるこ
とが好ましい。このような含有量とすることによって耐
水性が十分に向上する。これに対し、このものの含有量
が少なくなりすぎると本発明の実効が得られず、含有量
が多くなりすぎると、他の塗布液成分との相溶性が悪く
なり、結晶化を起こしてしまう。また放射線硬化後にお
いても耐水性が十分に得られなくなってしまい、塗膜強
度が弱くなってしまう。

【００３２】なお、４級アンモニウム塩基の存在は、ス
ルホン酸アニオンなどのアニオンを有する水溶性染料を
含有するインクを用いる場合、印字の安定性などの点で
有利である。

【００３３】本発明に用いるカルボン酸基を有する化合
物としては、カルボン酸基を１個以上有する化合物であ
れば特に制限はないが、（メタ）アクリル酸およびその
誘導体のうちの１種以上であることが好ましい。そのな
かでも化６で表される化合物が好ましい。

【００３４】

【化６】

【００３５】化６において、Ｒ⁰ は水素原子またはメチ
ル基を表す。Ｌ² はアルキレン基を表す。アルキレン基
は直鎖状であっても分岐を有するものであってもよく、
炭素原子数は１〜８であることが好ましい。具体的に
は、−（ＣＨ₂ ）_s −（ｓ＝１〜８）、−Ｃ（ＣＨ₃ ）
Ｈ−ＣＨ₂ −等が挙げられ、なかでも−（ＣＨ₂ ）₂
−、−（ＣＨ₂ ）₅ −等が好ましい。また無置換である
ことが好ましいが置換基を有していてもよく、この場合
の置換基としてはカルボン酸基、ヒドロキシ基等が挙げ
られる。

【００３６】ｔは０または１〜５であり、さらには０ま
たは１〜３であることが好ましい。化６の化合物の具体
例としては以下のものを例示することができる。

【００３７】

【化７】

【００３８】なお、上記の例示化合物中、ｂ−７はアロ
ニックスＭ−５６００（東亜合成化学社製）として、ま
たｂ−８はアロニックスＭ−５３００（東亜合成化学社
製）として市販されている。

【００３９】また、上記のほかの（メタ）アクリル酸の
誘導体としては、以下のものが挙げられる。

【００４０】

【化８】

【００４１】

【化９】

【００４２】化８、化９において、Ｒ⁰ は水素原子また
はメチル基を表す。Ｌ³ はカルボン酸基などで置換され
ていてもよい炭素原子数２〜６のアルキレン基、Ｌ⁴ は
カルボン酸基などで置換されていてもよい炭素原子数２
〜６のアルキレン基、フェニレン基などのアリーレン基
または複素環基を表す。ｕは１〜５、特に１または２で
ある。

【００４３】化８の化合物の具体例としては化１０のも
のが挙げられる。

【００４４】

【化１０】

【００４５】なお、化８において、Ｒ⁰ がＨであり、ｕ
＝１、Ｌ³ およびＬ⁴ がエチレン基である化合物はアロ
ニックスＭ−５８００（東亜合成化学社製）として、ま
たＲ⁰ がＨであり、ｕ＝１、Ｌ³ がエチレン基、Ｌ⁴ が
ｏ−フェニレン基である化１０の化合物はアロニックス
Ｍ−５４００（東亜合成化学社製）として市販されてい
るものである。

【００４６】また、化１１、化１２の化合物も用いるこ
とができる。

【００４７】

【化１１】

【００４８】

【化１２】

【００４９】このほかのカルボン酸基を有する化合物と
して、アリル酢酸、アリルオキシプロピオン酸、イタコ
ン酸、マレイン酸、アリルマロン酸およびこれらの誘導
体（例えばイタコン酸モノエチルエステル、イタコン酸
モノメチルエステル、マレイン酸モノアミド、マレイン
酸モノメチルエステルおよびマレイン酸モノエチルエス
テル）が挙げられる。

【００５０】なお、上記のカルボン酸基を有する化合物
は、いずれもモノマーとして用いることが好ましいが、
オリゴマーとして用いてもよい。

【００５１】カルボン酸基を有する化合物は１種のみを
用いても２種以上を併用してもよい。これらの化合物の
被記録表面層における含有量は、硬化前の塗膜中の含有
量として５〜７０wt% 、さらには１５〜６０wt% である
ことが好ましい。このような含有量とすることによって
乾燥性が十分に向上する。これに対し、このものの含有
量が少なくなりすぎると本発明の実効が得られず、含有
量が多くなりすぎると、インクのはじき、ドットのにじ
みなどの印字品質の低下がみられる。

【００５２】なお、塗膜中における４級アンモニウム塩
基を有する化合物とカルボン酸基を有する化合物との比
率は、４級アンモニウム塩基を有する化合物／カルボン
酸基を有する化合物の重量比で、３／１〜１／２０、好
ましくは２／１〜１／１０とすることが好ましい。この
ような比率とすることで、本発明の効果が向上する。

【００５３】本発明では、４級アンモニウム塩基を有す
る化合物およびカルボン酸基を有する化合物のなかの少
なくとも１種が末端にエチレン性不飽和反応性基を有す
るモノマーであればよいが、より好ましくは４級アンモ
ニウム塩基を有する化合物およびカルボン酸基を有する
化合物のなかのそれぞれの少なくとも１種が、末端にエ
チレン性不飽和反応性基を有するモノマーであることが
好ましい。そして、それぞれの化合物を２種以上用いる
ときは、すべての化合物が末端にエチレン性不飽和反応
性基を有するモノマーであることが好ましい。

【００５４】このような化合物を用いることによって放
射線硬化が可能になるとともに、硬化後の耐水性の向上
が見られる。また、印字のドットのにじみがなくなり印
字品質が向上する。

【００５５】本発明では、さらに、被記録表面層の塗膜
に水酸基を有する化合物を含有させることが好ましい。
これにより、膜質の改善効果が得られ、タックなどが生
じにくくなる。

【００５６】このような水酸基を有する化合物として
は、（メタ）アクリレート系の化合物が好ましく、具体
的にはポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレー
ト〔ＣＨ₂ ＝ＣＨ−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｏ）
_n −Ｈ、ＣＨ₂ ＝Ｃ（ＣＨ₃ ）−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ
₂ ＣＨ₂ Ｏ）_n −Ｈ：ｎ＝１〜４〕、ペンタエリスリト
ールビス（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール
トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

【００５７】このような化合物を含有させるときの塗膜
中の含有量は３０wt% 以下、好ましくは１〜２５wt% と
することが好ましい。このような含有量とすることによ
って上記の効果がより向上する。これに対し、この量が
少なくなると実効がなく、多くなりすぎると、耐水性の
低下や硬化不良などが生じる。

【００５８】本発明では、水酸基を有する化合物ととも
に、あるいはこれにかえて被記録表面層の塗膜にモルフ
ォリノ基を有する化合物を用いてもよい。このような化
合物を用いることによって水酸基を有する化合物と同様
に膜質改善の効果が得られる。

【００５９】このようなモルフォリノ基を有する化合物
としては、（メタ）アクリレート系の化合物が好まし
く、具体的にはアクリロイルモルホリン、メタアクリロ
イルモルホリン等が挙げれられる。

【００６０】このような化合物を含有させるときの塗膜
中の含有量は４０wt% 以下、好ましくは５〜３５wt% と
することが好ましい。このような含有量とすることによ
って上記の効果が向上する。これに対し、この量が少な
くなると実効がなく、多くなりすぎると硬化不良や印字
品質の低下等が生じる。

【００６１】被記録表面層は、塗膜を放射線硬化して形
成されるが、硬化に用いられる放射線としては電子線、
紫外線等が挙げられ、特に紫外線が好ましい。従って、
塗膜には重合開始剤、特に光重合開始剤を含有させるこ
とが好ましい。

【００６２】光重合開始剤としては、特に制限はなく、
安息香酸エステル類、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾイ
ン誘導体、チオキサントン誘導体、アセトフェノン誘導
体、プロピオフェノン誘導体およびベンジルなどを用い
ることができる。

【００６３】具体的には、メチル−オルソベンゾイルベ
ンゾエート、ベンゾフェノン、４，４−ビスジエチルア
ミノベンゾフェノン、ジベンゾスベロン、ベンゾイルア
ルキルエーテル（炭素原子数１〜８の分岐を含んでもよ
いアルキル基を有する）、１−フェニル−１，２−プロ
パンジオン−２−（ο−エトキシカルボニル）オキシ
ム、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ο
−ベンゾイル）オキシム、２，２−ジメトキシ−２−フ
ェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェ
ノン、塩素化アセトフェノン誘導体、４−イソプロピル
−２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオフェノン、２
−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒド
ロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン
およびベンジル等が挙げられる。これらのうちでも特に
好ましい重合開始剤としては、２−ヒドロキシ−２−メ
チル−１−フェニルプロパン−１−オン、２，２−ジメ
トキシ−２−フェニルアセトフェノン、メチル−オルソ
ベンゾイルベンゾエート等である。なお、これら特に好
ましい重合開始剤のうち、２−ヒドロキシ−２−メチル
−１−フェニルプロパン−１−オンは、ダロキュア１１
７３（メルク社製）、２，２−ジメトキシ−２−フェニ
ルアセトフェノンは、イルガキュア６５１（日本チバガ
イギー社製）として市販されているものである。

【００６４】被記録表面層の塗膜中の重合開始剤の含有
量は、好ましくは１０wt% 以下、より好ましくは０．１
〜１０wt% 、特に好ましくは０．３〜１０wt% である。
含有量が少ないと重合開始剤としての作用が十分に得ら
れず、また、多すぎると着色、耐候黄変、腐蝕等が生じ
る。

【００６５】さらに、本発明の被記録表面層の塗膜に
は、前出の４級アンモニウム塩基を有する化合物やカル
ボン酸基を有する化合物などのほか、必要に応じ、さら
にエチレン性不飽和反応性基をもつモノマーもしくはオ
リゴマー、あるいはこれらの両方を含有させることがで
きる。

【００６６】このような化合物としては特に制限はな
く、例えば、アクリレート系、アクリルアミド系、ビニ
ル系等の化合物をいずれも用いることができる。

【００６７】より具体的にはアクリルアミド系のＮ，Ｎ
−メチレンビスアクリルアミド、アクリレート系のエチ
レングリコールビス（メタ）アクリレート、ジエチレン
グリコールビス（メタ）アクリレート、トリエチレング
リコールビス（メタ）アクリレート、ヘキサエチレング
リコールビス（メタ）アクリレート、プロピレングリコ
ールビス（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオー
ルビスアクリレート、１，６−ヘキサンジオールビスア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、ビニル系の３，９−ジビニルスピロビ（ｍ−ジオキ
サン）、アジピン酸ジビニル等が挙げられ、これらのう
ちで特に好ましいものとしては、Ｎ，Ｎ−メチレンビス
アクリルアミド、トリエチレングリコールビスメタクリ
レート、ヘキサエチレングリコールビス（メタ）アクリ
レート等が挙げられる。

【００６８】これらの化合物を含有させるときの添加量
は、分子中の末端に存在するエチレン性不飽和反応性基
の数や他の成分等に依存して決定されるが、被記録表面
層の塗膜の好ましくは５０wt% 以下、より好ましくは４
０wt% 以下、特に好ましくは、２５wt% 以下である。こ
の範囲で含有させることで、被記録表面層の、例えば、
流水中にさらしても膜物性が変化しないなどの耐水性が
さらに向上し、印字の耐水性も一層向上する。また、イ
ンクの吸着性を保ちながら膜の硬度を向上させることが
できるので適度な硬度が得られる。これに対し、添加量
が多すぎると被記録表面層が硬く、もろくなりやすく、
インクの吸収速度が低下し、インクの乾きも遅くなって
しまい、インクによる膨潤やインクによるクラックが発
生してしまう。

【００６９】本発明の被記録表面層には、さらに、樹脂
を含有させることができる。このような樹脂としては、
他の成分にもよるが、他の成分との相溶性が良好なもの
であればよい。例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系
樹脂、ナイロン等のポリアミド、メラミン樹脂、セルロ
ース系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリエステル等で
あってよい。このような樹脂は、放射線硬化可能なモノ
マーないしオリゴマーを塗膜中に含有させて塗膜を硬化
することによって樹脂としたものであってもよい。

【００７０】樹脂を含有させるときの添加量は、被記録
表面層の塗膜の５０wt% 以下とすることが好ましく、さ
らには３０wt% 以下とすることが好ましい。このような
添加量とすることで、塗膜強度が向上し、耐水性も向上
する。また、基体の反りが緩和する。これに対し、添加
量が多くなりすぎると、インクをハジきやすくなり、イ
ンクの速乾性が劣化しやすくなる。

【００７１】本発明の被記録表面層中には、染料を拡散
させずに溶剤のみを速やかに広範囲に浸透させ、インク
受容層としての機能を向上させて乾燥を促進させるため
に、さらに多孔質粒子を含有させることが好ましい。多
孔質粒子としては、このような目的で、通常用いられて
いる多孔質粒子を用いることができる。このような多孔
質粒子としては、シリカ、クレー、タルク、ケイソウ
土、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、
ケイ酸アルミニウム、合成ゼオライト、アルミナ、酸化
亜鉛、酸化チタン、リトボン、チタンホワイト等の無機
質顔料が挙げられる。

【００７２】これらの多孔質粒子の平均粒径は、好まし
くは０．００１〜５０μm 、より好ましくは０．００１
〜３０μm である。平均粒径が大きすぎると、膜がもろ
くなったり、表面が粗面になったりしやすい。また小さ
すぎると、溶剤の浸透が遅くなりやすい。

【００７３】このようななかで、本発明において用いる
ことが好ましい多孔質粒子としては、シリカ、アルミ
ナ、酸化チタン等が挙げられる。シリカとしては、超微
粒子状無水シリカが好ましく、その１次粒子の平均粒径
は０．００１〜３０μm であることが好ましい。このよ
うなものとしては、アエロジルＴＴ６００、ＯＸ５０、
３８０、２００、１３０、３００、ＭＯＸ８０、ＭＯＸ
１７０、ＣＯＫ８４（アエロジル社製、ＳｉＬＣＲＯＮ
Ｇ−１００、Ｇ−１００Ｔ、Ｇ−６００、Ｇ−６０１、
Ｇ−６０２、Ｇ−６０３（ＳＣＭケミカルズ社製）の商
品名で市販されているものが挙げられる。また、アルミ
ナとしてはAluminium Oxide C （アエロジル社製）、酸
化チタンとしてはTitanium Oxide P25（アエロジル社
製）などの商品名で市販されているものが挙げられる。

【００７４】また、これらの多孔質粒子は、その用途や
目的により添加量を決定すればよい。しかし、多すぎる
とインクの拡散効果は高まるが、被記録表面層がもろ
く、耐久性が不足しやすくなるため、含有量は、好まし
くは７０wt% 以下、より好ましくは５０wt% 以下であ
る。このような多孔質粒子を２種以上を混合して用いる
場合、多孔質粒子の合計で、好ましくは７０wt% 以下で
ある。なお、添加量の下限には特に制限はないが、通常
１０wt% 程度である。

【００７５】また、このような多孔質粒子として、スメ
クタイトを用いることもできる。

【００７６】また、本発明の被記録表面層には、トリエ
タノールアミン、２−（ジメチルアミノ）エチルベンゾ
エート等の光重合促進剤、連鎖移動剤、さらにフェノチ
アジン等のラジカル重合防止剤、Ｎ−ニトロソフェニル
ヒドロキシルアミンアルミニウム塩等のキレート剤等の
安定剤を添加してもよい。

【００７７】本発明において、被記録表面層を基体上に
形成するには、まず、４級アンモニウム塩基を有する化
合物やカルボン酸基を有する化合物などの被記録表面層
の塗膜の含有成分を含有する塗布液を調製し、この塗布
液を基体上に塗布する。

【００７８】塗布液を調製する場合、溶媒を用いてもよ
いが、塗布液の含有成分に液体成分があるときは、必ず
しも溶媒を用いなくともよい。本発明に用いる４級アン
モニウム塩基を有する化合物やカルボン酸基を有する化
合物はエチレン性不飽和反応性基を有するモノマーであ
るとき液体であるので通常溶媒を用いる必要はない。

【００７９】溶媒を用いるときの溶媒としては、メタノ
ール、エタノール、ブチルカルビトール、エチルセロソ
ルブ等が好ましい。また、これらの溶媒を２種類以上混
合して用いてもよい。この場合、塗布液に用いる溶媒の
種類や含有量、あるいは複数の溶媒の混合比等に特に制
限はなく、塗布液の組成、調製方法あるいは塗布方法等
を考慮して適宜決定すればよい。

【００８０】塗布方法としては、スピンコート法、スプ
レーコート法、ディッピング法、グラビアロール法、ナ
イフコーター法、リバースロール法、スクリーン印刷法
およびバーコーター法等、通常用いられる方法をいずれ
も用いることができる。なお、親油性スメクタイトを含
有し、粘度を適当に調整した塗布液を用いる場合は、ス
クリーン印刷法、グラビアロール法、バーコーター法等
を用いて良好に塗布することができる。

【００８１】本発明では、このようにして得られた塗膜
に放射線を照射して硬化する。なお、塗布液に溶媒を用
いる場合は、前記適当な方法で基体上に塗布した後、乾
燥により用いた溶媒を除いて塗布膜とし、放射線を照射
して硬化すればよい。用いる放射線としては、前述した
ように紫外線が好ましい。この場合照射する紫外線強度
は、５０mW/cm²程度以上、照射量は２００〜２０００mJ
/cm²程度とすればよい。また、紫外線源としては、水銀
灯などの通常のものを用いればよい。

【００８２】このようにして設けた被記録表面層の厚さ
は、１〜１００μm 、より好ましくは３〜３０μm であ
る。厚すぎると被記録基材に反りを生じたり、硬化が不
十分になりやすくなる。また薄すぎると溶剤の浸透性が
低下し、印字後のインクが乾燥しにくくなる。

【００８３】また、被記録表面層の２５℃での水との接
触角は、好ましくは６０°以下、より好ましくは４０°
以下である。このような接触角をもつことで、疎水性基
体とのすぐれた密着性をもち、かつ水溶性染料を含有す
るインクによる書き込みが可能な被記録表面層が得られ
る。接触角が高すぎると水溶性染料を含有するインクに
よる書き込みが難しくなる。

【００８４】本発明の被記録表面層を有する基体として
は、通常インクジェット記録方式に用いられる基体、例
えば紙、スライドフィルム、ＯＨＰ（オーバーヘッドプ
ロジェクター）用フィルム、ＣＭＦ（カラーモザイクフ
ィルター）等いずれも用いることができる。ただし、よ
り特徴を発揮する基体としては、疎水性表面をもつもの
であり、好ましくは、放射線硬化保護膜を有する光記録
媒体、特に紫外線硬化性保護膜を有する記録可能なコン
パクトディスクなどの光記録媒体である。疎水性表面を
もつこのような記録可能なコンパクトディスクの、通常
レーベルが印刷される側の面に形成した本発明の被記録
表面層は、基体の疎水性表面との密着性も高い。そし
て、この被記録表面層上に、ユーザーが光記録の内容を
インクジェット用インクのような水溶性染料を含有する
インクを用いて記録することが可能になる。

【００８５】光記録媒体の紫外線硬化保護膜としては、
通常このような記録可能なコンパクトディスクの保護膜
として用いられるものであればどのようなものであって
もよく、特に制限はない。例えば、多官能オリゴエステ
ルアクリレート等の紫外線硬化型化合物を含有し、０．
５〜１００μm 程度の厚さとしたもの等種々のものであ
ってよい。なお、本発明は、疎水性基体として、２５℃
での水との接触角が４０°以上、特に６０〜９０°のも
のに有効である。

【００８６】本発明の被記録表面層を有する光記録媒体
の一例が図１に示されている。

【００８７】図１に示される光記録媒体１１は、基板１
２上に色素を主成分とする記録層１３を有し、記録層１
３に密着して反射層１４を有し、さらに保護膜１５を有
し、保護膜１５上に被記録表面層１７を有するものであ
る。

【００８８】基板１２は、記録光および再生光（波長６
００〜９００nm程度、特に波長７７０〜９００nm程度の
半導体レーザー光、特に７８０nm）に対し、実質的に透
明（好ましくは透過率８８％以上）な樹脂あるいはガラ
スから形成されたものを用いればよい。これにより、基
板裏面側からの記録および再生が可能となる。

【００８９】基板材質としては、樹脂を用いることが好
ましく、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、アモル
ファスポリオレフィン、ＴＰＸ等の各種熱可塑性樹脂が
好適である。基板１２は射出成形等の公知の方法に従い
製造すればよい。また、その際、トラッキング用やアド
レス用等のために、グルーブ２１等の所定のパターンを
基板表面に形成することが好ましい。なお、基板１２製
造後に、２Ｐ法等によりグルーブ等の所定のパターンを
有する樹脂層を形成してもよい。

【００９０】記録層１３は、１種類の色素だけを含有し
てもよく、あるいは２種以上の色素が相溶した構成であ
ってもよい。

【００９１】記録層１３に用いる光吸収性の色素として
は、吸収極大が６００〜９００nm、好ましくは６００〜
８００nm、より好ましくは６５０〜７５０nmであれば、
他に特に制限はなく、例えばシアニン系、フタロシアニ
ン系、ナフタロシアニン系、アントラキノン系、アゾ
系、トリフェニルメタン系、ピリリウムないしチアピリ
リウム塩系、スクワリリウム系、クロコニウム系、金属
錯体色素系等から１種ないし２種以上を目的に応じて適
宜選択すればよい。

【００９２】また、光吸収色素にクエンチャーを混合し
てもよい。さらに、色素カチオンとクエンチャーアニオ
ンとのイオン結合体を光吸収色素として用いてもよい。

【００９３】クエンチャーとしては、アセチルアセトナ
ート系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビスフェニルジ
チオール系などのビスジチオール系、チオカテコール
系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビスフェノレ
ート系等の金属錯体が好ましい。また、窒素のラジカル
カチオンを有するアミン系化合物やヒンダードアミン等
のアミン系のクエンチャーも好適である。

【００９４】結合体を構成する色素としては、インドレ
ニン環を有するシアニン色素が、またクエンチャーとし
てはビスフェニルジチオール金属錯体等の金属錯体色素
が好ましい。

【００９５】記録層１３は、色素および有機溶剤を含有
する塗布液を用い、この塗布液を回転する基板上に展開
塗布するスピンコート法により形成される。

【００９６】記録形成のための塗布液に用いる有機溶剤
としては、脂肪族炭化水素系、アルコール系、ケトン
系、エステル系、エーテル系、芳香族系、ハロゲン化ア
ルキル系等から、用いる色素に応じて適宜選択すればよ
い。スピンコート後、必要に応じて塗膜を乾燥させる。

【００９７】このようにして形成される記録層１３の厚
さは、目的とする反射率などに応じて適宜設定されるも
のであるが、通常、１０００〜３０００A 程度である。

【００９８】記録層１３上には、直接密着して反射層１
４が設層される。反射層１４には高反射率材料を用い
る。このような材料としては、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ
やこれらを含む合金などが好ましい。

【００９９】反射層１４を形成するには、スパッタリン
グ、蒸着等の各種気相成膜法を用いればよい。

【０１００】反射層１４の厚さは５００A 以上であるこ
とが好ましい。また、厚さの上限は特にないが、コス
ト、生産作業時間等を考慮すると、１７００A 程度以下
であることが好ましい。

【０１０１】反射層１４上には保護膜１５が設けられ
る。保護膜１５は、前述のように、例えば紫外線硬化樹
脂等の各種樹脂材質から、通常は、好ましくは、０．５
〜１００μm 程度、さらには１〜５０μm 、特には３〜
３０μm の厚さに設層すればよい。保護膜１５は、層状
であってもシート状であってもよい。保護膜１５は、ス
ピンコート、グラビア塗布、スプレーコート、ディッピ
ング等の通常の方法により形成すればよい。保護膜が薄
すぎると保護膜としての効果が十分に得られなくなり、
記録信号のエラーを生じやすくなる。また、厚すぎる
と、このような樹脂膜の硬化の際に伴う収縮により、記
録媒体の反りや保護膜中のクラックが生じやすくなる。
なお、図示例の保護膜は１層のみとしているが、２層以
上の多層構成としてもよい。２層以上とするときは合計
膜厚が上記範囲となるようにすればよい。

【０１０２】本発明では、反射層１４上に設けられる保
護膜１５および被記録表面層１７のうちの少なくとも１
層に白色顔料を含有させることが好ましい。なお、保護
膜が多層構成であるとき、いずれの保護膜であってもよ
く、２層以上に含有させてもよい。

【０１０３】白色顔料としては硫酸カルシウム、硫酸バ
リウム、酸化亜鉛、酸化チタン、リトボン、チタンホワ
イト等を用いることができる。これらの白色顔料を用い
ることによって、カラー印刷における発色性が向上す
る。用いる白色顔料の平均粒径に特に制限はないが、３
０μm 以下、好ましくは０．００１〜２０μm 程度であ
る。平均粒径が大きすぎると膜がもろくなりやすくなる
からである。また、その含有量は、層全体の０．１〜２
０wt% 程度とすることが好ましい。含有量が少なくなり
すぎると添加の実効がなく、多くなりすぎると膜がもろ
くなってしまうからである。特に本発明では保護膜を２
層以上設け、その１層に白色顔料を含有させることが好
ましい。

【０１０４】このような被記録表面層をもつ光記録媒体
に書き込みを行う場合、水溶性染料を含むインクを用い
て通常のペン等で書き込んでもよいが、エラーの増加等
の恐れがあるため、インクジェット記録方式の書き込み
装置を用いることが好ましい。

【０１０５】用いるインクとしては、水溶性染料を含む
インクであれば特に制限はなく、インクジェット記録方
式の書き込み装置に用いるインクであればいずれも使用
できる。

【０１０６】水溶性染料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ダ
イレクトブラック１７、１９、３２、５１、７１、１０
８、１４６、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブルー６、２２、２
５、７１、８６、９０、１０６、１９９、Ｃ．Ｉ．ダイ
レクトレッド１、４、１７、２８、８３、Ｃ．Ｉ．ダイ
レクトイエロー１２、２４、２６、８６、９８、１４
２、Ｃ．Ｉ．ダイレクトオレンジ３４、３９、４４、４
６、６０、Ｃ．Ｉ．ダイレクトバイオレット４７、４
８、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブラウン１０９、Ｃ．Ｉ．ダイ
レクトグリーン５９等の直接染料、Ｃ．Ｉ．アシッドブ
ラック２、７、２４、２６、３１、５２、６３、１１
２、１１８、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー９、２２、４０、
５９、９３、１０２、１０４、１１３、１１７、１２
０、１６７、２２９、２３４、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド
１、６、３２、３７、５１、５２、８０、８５、８７、
９２、９４、１１５、１８０、２５６、３１７、３１
５、Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー１１、１７、２３、２
５、２９、４２、６１、７１、Ｃ．Ｉ．アシッドオレン
ジ７、１９、Ｃ．Ｉ．アシッドバイオレット４９等の酸
性染料が好ましく、その他、Ｃ．Ｉ．ベーシックブラッ
ク２、Ｃ．Ｉ．ベーシックブルー１、３、５、７、９、
２４、２５、２６、２８、２９、Ｃ．Ｉ．ベーシックレ
ッド１、２、９、１２、１３、１４、３７、Ｃ．Ｉ．ベ
ーシックバイオレット７、１４、２７、Ｃ．Ｉ．フード
ブラック１、２、ウォータブラック１８７Ｌ等が挙げら
れる。これらの染料のなかにも該当するものがあるが、
分子中にスルホン酸基ないしその塩、あるいはフェノー
ル性の水酸基、カルボン酸基などアニオン性の基を有す
るものも好ましい。

【０１０７】

【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
する。

【０１０８】実施例１下記組成の液をミキサーにかけ、１時間攪拌して塗布液
No. １を調製した。化合物ａ−１１０重量部化合物ｂ−７（アロニックスＭ−５６００：東亜合成化学社製）４０重量部エチレングリコールモノメタアクリレート２０重量部重合開始剤［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（ダロキュア１１７３：メルク社製）］５重量部架橋剤（ブレンマーＧＭＲ：日本油脂製）５重量部多孔質物質（アロエジルＴＴ−６００：アロエジル社製：平均粒径０．０４μ m ）２０重量部

【０１０９】この塗布液No. １を用いて、追記型コンパ
クトディスク（ＣＤ−Ｒ）を基体として保護膜上にスク
リーン印刷により塗膜を形成し、乾燥した後、８００mJ
/cm²の照射量で紫外線硬化を行って、被記録表面層（８
μm 厚）を形成した（図１参照）。

【０１１０】なお、ＣＤ−Ｒの保護膜は、以下の組成の
塗膜を紫外線硬化させたものであり、膜厚は６μm であ
った。また反射層の材質は金である。

【０１１１】保護膜組成多官能オリゴエステルアクリレート９７重量部（アロニックスM-8100：東亜合成化学社製）２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン３重量部（ダロキュア1173：メルク社製）

【０１１２】このようにして得られた光記録媒体をサン
プルNo. １とする。

【０１１３】サンプルNo. １において、被記録表面層形
成用の塗布液No. １の化合物ａ−１を化合物ａ−２にか
えた塗布液No. ２を用いて被記録表面層を形成した。こ
れをサンプルNo. ２とする。

【０１１４】また、塗布液No. １において、化合物ａ−
１のかわりに化合物ａ−３を用い、これを２０重量部と
し、化合物ｂ−７を３５重量部、エチレングリコールモ
ノメタアクリレート２０重量部をエチレングリコールモ
ノアクリレート１５重量部にかえるほかは同様にして塗
布液No. ３の調製を調製した。塗布液No. ３を用いて被
記録表面層を形成したものをサンプルNo. ３とする。

【０１１５】さらに、塗布液No. １において、化合物ａ
−１のかわりに化合物ａ−４を用い、これを１５重量部
とし、化合物ｂ−３を３５重量部、エチレングリコール
モノメタアクリレートのかわりにアクリロイルモルホリ
ンを用いるほかは同様にして塗布液No. ４を調製した。
この塗布液No. ４を用いて被記録表面層を形成したもの
をサンプルNo. ４とする。

【０１１６】塗布液No. １において、化合物ａ−１のか
わりに下記化１３の比較化合物を用いて同様に塗布液N
o. ５の調製を試みたところ、うまく混合できず白濁が
生じた。この塗布液No. ５を用いて被記録表面層を形成
したものをサンプルNo. ５とする。

【０１１７】

【化１３】

【０１１８】塗布液No. １において、化合物ａ−１を添
加せず、化合物ｂ−７を５０重量部、エチレングリコー
ルモノメタアクリレート２０重量部とするほかは同様に
塗布液No. ６を調製した。この塗布液No. ６を用いて被
記録表面層を形成したものをサンプルNo. ６とする。

【０１１９】さらに、塗布液No. １において、化合物ｂ
−７を添加せず、化合物ａ−１を２０重量部、エチレン
グリコールモノメタアクリレートを５０重量部とするほ
かは同様に塗布液No. ７を調製した。この塗布液No. ７
を用いて被記録表面層を形成したものをサンプルNo. ７
とする。

【０１２０】サンプルNo. １〜７について、下記の組成
をもつインクを用い、インクジェット記録方式で記録し
た。

【０１２１】インク組成黄インクＣ．Ｉ．ダイレクトイエロー８６２重量部ジエチレングリコール２０重量部ポリエチレングリコール１０重量部水７０重量部赤インクＣ．Ｉ．アシッドレッド３５２重量部ジエチレングリコール２０重量部ポリエチレングリコール１０重量部水７０重量部青インクＣ．Ｉ．ダイレクトブルー８６２重量部ジエチレングリコール２０重量部ポリエチレングリコール１０重量部水７０重量部黒インクＣ．Ｉ．フードブラック２２重量部ジエチレングリコール２０重量部ポリエチレングリコール１０重量部水７０重量部

【０１２２】このように記録したものについて下記の評
価を行った。結果を表１に示す。

【０１２３】（１）印字の乾燥時間（速乾性）印字を行い、印字後、印字表面に指触したときインクが
指に付着しなくなるまでの時間を乾燥時間とし、次の基
準により表中に表示した。乾燥時間が３０秒以下の場合
を◎、乾燥時間が３０秒を超え、１分以下の場合を○、
乾燥時間が１分を超える場合を△、２４時間以上乾燥し
ないのものを×とした。

【０１２４】（２）耐水性印字を行い、印字の乾燥後に被記録表面層を流水中に１
分間さらし、以下について調べた。

【０１２５】（２−１）インク吸着性流水に１分間印字面をさらす前とさらした後の文字を目
視により観察して、文字の濃さを調べた。文字の濃さが
流水中にさらす前後でほとんど変化しないものを○、や
や薄くなったが、読みとれる場合を△、文字が消えて読
めなくなる場合を×で表中に表示する。

【０１２６】（２−２）膜質流水に１分間さらしても層表面がほとんど変化しない場
合を○、多少軟化する場合を△、流水と一緒に流れた
り、剥離したりする場合を×で表中に表示する。

【０１２７】（２−３）拭き取り性流水に１分間さらした後の層表面を布（タオル等）や紙
（ペーパータオル、ティッシュぺーパー等）で拭き取っ
たときに、層表面に変化がない場合を○、強くこすった
ときに部分的に剥離する場合を△、層全体が簡単に剥離
してしまうものを×として表中に表示している。

【０１２８】（３）解像度印字ドットを実体顕微鏡で観察し、にじみが生じている
かどうかを調べることによった。にじみがない場合を
○、少々にじみが出る場合を△、にじみがひどい場合を
×として表中に表示している。

【０１２９】

【表１】

【０１３０】表１より、本発明の効果は明らかである。
なお、本発明のサンプルNo. １〜No. ４については保護
膜と被記録表面層との密着性も良好であった。密着性
は、３Ｍ社製のスコッチクリアテープ６００を用い、
１．２cm×１．０cmの接着面を被記録表面層に貼り付け
た後、引き剥して被記録表面層の剥離の有無を調べるこ
とによった。本発明のサンプルはいずれも剥離がなかっ
た。

【０１３１】実施例２実施例１のサンプルNo. １の塗布液No. １において、化
合物ａ−１のかわりに化合物ａ−２と化合物ａ−４とを
５重量部と５重量部用いるほかは同様にして塗布液を調
製し、同様にサンプルを得た。

【０１３２】このサンプルについて実施例１と同様に評
価を行ったところ、サンプルNo. １と同等の良好な結果
が得られることがわかった。

【０１３３】実施例３実施例１のサンプルNo. １〜No. ４の各塗布液におい
て、化合物ｂ−７のかわりに、化合物ｂ−１〜ｂ−６、
ｂ−８を各々用いて塗布液を調製し、これらの塗布液を
用いてサンプルを各々作製し、実施例１と同様に特性を
評価したところ、サンプルNo. １〜No. ４と同様の良好
な結果が得られた。また、化合物ｂ−３とｂ−４とを２
０重量部ずつ用いて調製した塗布液を用いても同様の良
好な結果が得られた。結果の一部を表１に併記する。

【０１３４】実施例４実施例１のサンプルNo. ３の塗布液No. ３において、エ
チレングリコールモノアクリレート１５重量部のかわり
にアクリロイルモルホリン１０重量部とエチレングリコ
ールモノアクリレート５重量部を用いるほかは同様に塗
布液を調製し、同様にサンプルを作製し、同様に特性を
評価したところ、サンプルNo. ３と同様の良好な結果が
得られた。

【０１３５】実施例５実施例１のサンプルNo. １において、多孔質物質として
アエロジルＴＴ−６００のかわりに、ＳｉＬＣＲＯＮＧ
−１００、Ｇ−１００Ｔ、Ｇ−６００、Ｇ−６０１、Ｇ
−６０２、Ｇ−６０３（ＳＣＭケミカルズ社製）を各々
用いて、同様にサンプルを各々作製し、同様に評価した
ところ、サンプルNo. １と同様の良好な結果が得られ
た。

【０１３６】実施例６実施例１の本発明のサンプルNo. １〜No. ４および実施
例２〜５の各サンプルにおいて、ＣＤ−Ｒ基体の保護膜
を２層構成とするほかは同様にしてサンプルを得た。こ
れらの各サンプルについて実施例１と同様に評価を行っ
たところ、それぞれ対応する各サンプルと同様の良好な
結果が得られた。また、これらのサンプルでは、第二の
保護膜に白色顔料を含有させているため、発色性が良好
でみやすかった。

【０１３７】なお、第一および第二の保護膜の組成およ
び膜厚は以下のとおりであり、実施例１のＣＤ−Ｒの保
護膜と同様に作製したものである。

【０１３８】第一の保護膜（反射層側：６μm 厚）多官能オリゴエステルアクリレート９７重量部（アロニックスM-8100：東亜合成化学社製）２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン３重量部（ダロキュア1173：メルク社製）第二の保護膜（表面被覆層側：１０μm 厚）多官能オリゴエステルアクリレート９２重量部（アロニックスM-8100：東亜合成化学社製）２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン３重量部（ダロキュア1173：メルク社製）チタンホワイト（平均粒径０．０３μm ）５重量部

【０１３９】

【発明の効果】本発明によれば、流水にさらした後に拭
きとっても印字や層全体の剥離がないなどの耐水性に優
れた被記録表面層を有する被記録基材が得られる。ま
た、基体との密着性が良好で表面硬度も十分であり、一
度の塗布工程で塗設が可能である。さらに、重要な効果
として、印字の安定性も良好であり、従来に比べ、イン
クを使って書き込んでからの乾燥時間が短く、表面硬度
が高く、耐久性に優れ、ドットのにじみがなく高解像度
になり特にカラー印刷性に優れる。さらに、モノマーが
溶剤の役割をするので、溶剤が不要であるという利点も
有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光記録媒体の一例を示す部分断面図で
ある。

【符号の説明】

１１光記録媒体１２基板１３記録層１４反射層１５保護膜１７被記録表面層２１グルーブ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基体上に、水溶性染料を含有するインク
による書き込み可能な被記録表面層を有し、前記被記録表面層が、３個のアルキル基をもつ４級アン
モニウム塩基を有する化合物とカルボン酸基を有する化
合物とを含有し、前記化合物のうちの少なくとも１種が
末端にエチレン性不飽和反応性基を有するモノマーであ
り、かつ前記４級アンモニウム塩基の３個のアルキル基
の総炭素原子数が４以上である塗膜を放射線硬化したも
のである被記録基材。
【請求項２】前記４級アンモニウム塩基を有する化合
物が下記化１または化２で表されるモノマーである請求
項１の被記録基材。【化１】【化２】〔化１および化２のそれぞれにおいて、Ｒ⁰ は水素原子
またはメチル基を表す。Ｒ¹ 、Ｒ² およびＲ³ は、それ
ぞれアルキル基を表し、これら３個のアルキル基の総炭
素原子数は４以上である。Ｌ¹ はオキシ基（−Ｏ−）お
よびカルボニル基（−ＣＯ−）のうちの１種以上が介在
してもよい。炭素原子数１〜８のアルキレン基を表す。
Ｘ^- はハロゲン化物イオンを表す。〕
【請求項３】前記Ｒ¹ 、Ｒ² およびＲ³ のうちの１個
が炭素原子数３〜１０のアルキル基である請求項２の被
記録基材。
【請求項４】前記カルボン酸基を有する化合物が（メ
タ）アクリル酸およびその誘導体のうちの少なくとも１
種である請求項１〜３のいずれかの被記録基材。
【請求項５】前記硬化が紫外線硬化である請求項１〜
４のいずれかの被記録基材。
【請求項６】前記塗膜が、さらに水酸基を有する化合
物を含有する請求項１〜５のいずれかの被記録基材。
【請求項７】前記塗膜が、さらにモルフォリノ基を有
する化合物を含有する請求項１〜６のいずれかの被記録
基材。
【請求項８】前記被記録表面層が、さらに多孔質粒子
を含む請求項１〜７のいずれかの被記録基材。
【請求項９】前記書き込みを、インクジェット記録方
式で行う請求項１〜８のいずれかの被記録基材。
【請求項１０】前記基体が、放射線硬化保護膜を有す
る光記録媒体である請求項１〜９のいずれかの被記録基
材。
【請求項１１】前記基体が、紫外線硬化保護膜を有す
る光記録媒体である請求項１〜１０のいずれかの被記録
基材。
【請求項１２】前記光記録媒体が記録層に密着して反
射層を有し、この反射層上に前記保護膜を含む少なくと
も１層の保護膜を有し、前記被記録表面層および前記保
護膜のうちの少なくとも１層が白色顔料を含有する請求
項１０または１１の被記録基材。