JP2002043099A - 加速器及び医療システムとその運転方法 - Google Patents
加速器及び医療システムとその運転方法Info
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Abstract
加速器とそれを用いて患部を所望の線量分布で照射する
のに好適な医療用加速器システムを提供する。 【解決手段】荷電粒子ビームを周回させる偏向電磁石2
及び4極電磁石5,6と、荷電粒子ビームを出射するた
めのベータトロン振動の共鳴の安定限界を発生させる多
極電磁石9と、荷電粒子ビームに高周波電磁界を加えて
荷電粒子ビームを安定限界の外側に移動させてベータト
ロン振動に共鳴を発生させるための高周波電源24を備
える周回型加速器において、高周波電源24で、瞬時周
波数が時間的に変化し、前記瞬時周波数の時間的平均値
が異なる複数種類の信号の加算信号を発生させ、加算信
号を電極25を介して荷電粒子ビームに印加する。
Description
加速した後、出射して利用する加速器とそのビーム出射
方法及び医療用システムに関する。
ビーム出射方法に関しては特許第2596292号公報
に記されている。
るように、前段加速器からの荷電粒子ビームを入射器か
ら後段加速器に入射する。後段加速器では、荷電粒子ビ
ームを治療に必要なエネルギーまで加速し、出射する。
荷電粒子は、左右或いは上下に振動しながら周回する。
これをベータトロン振動という。ベータトロン振動の周
回軌道一周あたりの振動数をチューンという。収束用4
極電磁石,発散用4極電磁石を用い、チューンを整数+
1/3もしくは整数+2/3に近付けるかあるいは整数
+1/2に近づけると同時に、周回軌道上に設けられた
共鳴発生用多重極電磁石を励磁すると、多数周回してい
る荷電粒子のうち、ある一定以上のベータトロン振動振
幅を持つ荷電粒子のベータトロン振動の振幅が急激に増
加する。この現象をベータトロン振動の共鳴という。共
鳴が発生する前記境界を安定限界と呼び、その大きさ
は、共鳴発生用多極磁場と4極磁場の強度との関係によ
り変化する。チューンを整数+1/2に近付けた時の共
鳴を2次共鳴、チューンを整数+1/3もしくは整数+
2/3に近付けた時の共鳴を3次共鳴とよび、以下3次
共鳴でチューンを整数+1/3に近付ける場合を例にと
って説明する。共鳴の安定限界の大きさは、チューンの
整数+1/3からの偏差が小さい程小さくなる。そこで
従来技術では、共鳴発生用多極電磁石の強度を一定にし
たままで、チューンをまず整数+1/3に近付け、偏向
電磁石の強度や共鳴発生用多極電磁石の強度を一定にす
るだけでなく、チューン一定、即ち、4極電磁石の磁場
強度を一定としておき、複数の周波数成分あるいは周波
数帯域を有する高周波電磁界をビームに加えてベータト
ロン振動振幅を増加させて共鳴を発生させる。前記共鳴
によるベータトロン振動の増大を利用して出射用デフレ
クタから出射する。出射したイオンビームは、イオンビ
ーム輸送系の電磁石を用いて治療室へ輸送される。
波源については、特開平7−14699号公報に記されてい
る。荷電粒子ビームは、共鳴発生用多極電磁石の作用に
より、チューンがベータトロン振動の振幅に依存して変
化する。そのため、ビーム出射のための高周波は、周波
数帯域ないし複数の周波数を有する必要がある。従来技
術では、周波数帯域内に周回型加速器から出射する荷電
粒子ビームのチューンの小数部と周回周波数の積を含ん
で周波数幅が数10kHz程度にわたる高周波を荷電粒
子ビームに加えていた。
開平10−118204号公報に記されているように、
治療室に輸送され、照射室には、照射装置が設置され
る。照射装置には、ビーム径を増加させる散乱体と径を
増加させたビームを円形に走査するビーム走査電磁石が
設置されている。この散乱体により径を増加させたビー
ムを円形に走査することにより、走査するビーム中心の
軌跡の内側の積算ビーム強度が平坦化される。強度分布
を平坦化したビームから、患者コリメータにより照射ビ
ーム形状を患部形状に合致させて患者に照射されてき
た。
を使って小径ビームを患部形状に合わせて走査する方法
での照射も行われるようになっている。この小径ビーム
の走査方法では、予め定めた位置でビームを照射するよ
うにビーム走査電磁石の電流を制御し、ビーム強度モニ
タで所定線量を照射したことを確認して、前記高周波の
ビームへの印加を停止することによりビームの照射を停
止し、ビーム走査電磁石の電流を変化させて照射位置を
変えてまた照射することを繰り返す。
医療用加速器システムでは、ビームを照射するときに散
乱体で径を増加させたビームを円形に走査して、走査円
の内側領域の積算強度分布を平坦化していた。ビーム走
査で照射する場合は、この強度分布を平坦化するため
に、ビームの強度の変化が小さいことが望ましく、特
に、数10Hzから数10kHz程度までの周波数成分
を小さく抑えることが望ましい。しかし、従来の医療用
加速器システムでは、荷電粒子ビームに加える高周波が
出射のために周波数帯域あるいは複数の周波数を有して
いることに起因して、加速器から出射されるビームの強
度が数10Hzから数10kHz程度までの周波数成分
を持って時間的に変化していた。そのため、一様な照射
能強度分布を得るために、円形走査の速さをビーム強度
の時間変化に応じて適切に選択すること、即ち、ビーム
強度の変化の周波数からずれた走査周波数を選ぶことに
より照射能強度分布を平坦化する必要があった。円形走
査周波数の十分高くすれば、上述のビーム強度の変化の
問題は解決できるが、走査用の電磁石、電源のコストが
大幅に上昇する。また、ビーム強度の時間的変化が大き
いと、ビーム強度の時間変化が小さい場合に比べて、照
射能内の強度分布の変化を許容範囲に抑えるために必要
な走査電磁石の電流の再現性,安定性等の条件が厳しく
なる。
よび径が小さなビームいずれの走査においても、ビーム
強度が時間的に変化すると、所定の照射能強度分布を確
認するために、ビーム強度モニタの時間分解能を高める
必要があった。
特に数10Hzから10kHz程度の周波数のビーム電
流の変化を抑えた加速器とそれを用いた医療用加速器シ
ステム及びその運転方法を提供することにある。
明の請求項1の特徴は、荷電粒子ビームを周回させる偏
向電磁石及び4極電磁石と、荷電粒子ビームを出射する
ためにベータトロン振動の共鳴の安定限界を発生させる
多極電磁石と、荷電粒子ビームに高周波電磁界を加えて
荷電粒子ビームを前記安定限界の外側に移動させてベー
タトロン振動に共鳴を励起するための高周波源を備え、
前記高周波源が、複数の周波数成分を含み、前記複数周
波数成分の周波数の差の最小値が500Hz以上10k
Hz以下で、前記複数の周波数成分の位相が、各周波数
成分間の位相の差に整数×π以外の値を含む位相となる
交流信号を発生させることにある。
ン振動振幅を増加させて安定限界の外側へ移動させる為
には、高周波の周波数が、荷電粒子ビームのチューン
(荷電粒子ビームが周回型加速器を1周する間に行うベ
ータトロン振動の数)の小数部と周回周波数の積、ある
いは、チューンの小数部と周回周波数の積に周回周波数
の積の整数倍に近いことが望ましい。チューンは、ベー
タトロン振動の振幅に依存して変化する。そのため、出
射のための安定限界を越えさせる為に、ベータトロン振
動振幅を増加させるためには、複数の周波数を有する高
周波が必要になる。
波数成分を含み、前記複数周波数成分間の周波数の差の
最小値が500Hz以上10kHz以下の交流信号を荷
電粒子ビームに印加するため、荷電粒子ビームのベータ
トロン振動振幅の変化の周波数成分の最小値は、500
Hz以上10kHz以下となり、特に、径が小さなビー
ムを走査する照射法で抑えることが必要な数100Hz
以下の出射電流の変化を抑えることが出来る。また、各
周波数成分の位相は、その差が整数×πであると、周波
数成分の異なる信号の重なりに起因する信号強度の増
大,減少が大きくなるが、各周波数成分の位相の差に整
数×πを除いた値を含むように選ぶことにより、出射ビ
ーム強度の変化を抑えることができる。
徴は、荷電粒子ビームを周回させる偏向電磁石及び4極
電磁石と、荷電粒子ビームを出射するためのベータトロ
ン振動の共鳴の安定限界を発生させる多極電磁石と、荷
電粒子ビームに高周波電磁界を加えて荷電粒子ビームを
前記安定限界の外側に移動させてベータトロン振動に共
鳴を励起するための高周波源を備え、前記高周波源で、
瞬時周波数が時間的に変化し、前記瞬時周波数の時間的
平均値が異なる複数種類の交流信号の加算信号を発生さ
せ、前記加算信号を荷電粒子ビームに印加することにあ
る。
ビームに加えると、荷電粒子ビームは、加速器の電磁石
の強度で決まるベータトロン振動周波数(荷電粒子ビー
ムの周回周波数とチューンの積)と出射のために加えた
高周波の周波数成分を持ってベータトロン振動し、さら
に、ベータトロン振動の振幅は、前記ベータトロン振動
周波数と出射のために加えた高周波の周波数成分の和と
差、及び、複数ある出射用高周波の周波数の和,差の周
波数で変化する。その結果、安定限界を越える荷電粒子
ビームの粒子数、即ち、出射荷電粒子ビーム強度も同様
の周波数変化を示す。このうち、医療用等の荷電粒子ビ
ームの利用で最も重要になる数10kHz以下の周波数成
分は、前記ベータトロン振動周波数と出射のために加え
た高周波の周波数成分の差、及び、複数ある出射用高周
波の周波数の差により生じている。この数10kHz以
下の出射ビームの時間変化は本発明の上記特徴により、
以下の原理により低減される。
をθiとして、Aisin(2πfit+θi)と表され、
瞬時周波数は、fi+(dθi/dt)/(2π)と表
される。瞬時周波数が時間的に変化する時、dθi/d
t≠0である。dθi/dtの平均値がゼロになるよう
に予め定めると瞬時周波数の時間的平均値は、fiであ
る。荷電粒子ビームは、ベータトロン振動振幅が、ベー
タトロン振動周波数と加えた高周波の差の周波数で変化
する。上記特徴によると、異なるfi(ただし、i=
1,2…n:nは2以上)について位相θiが時間変化
する交流信号の加算信号ΣAisin(2πfit+θi
(t))を発生させて、荷電粒子ビームに加える。
が、ベータトロン振動周波数と加えた高周波の差の周波
数で変化する。加えた周波数fiの高周波により、ベー
タトロン振動の振幅は、fi−fβで変化するが、周波
数fiの交流信号の位相θiは、時間的に変化するた
め、周波数がfi−fβのベータトロン振動振幅の変化
は、位相が荷電粒子ビームの加速器を周回する周回方向
位置、即ち、前後関係によって異なる。その結果、加速
器を周回する周回方向位置、即ち、前後関係によって、
出射されるかどうが異なり、また、出射される周回方向
位置は、周回毎に変化していく。即ち、ある時刻におい
ては、荷電粒子ビームの周回方向の先頭が出射され、周
回方向の中心から後半は出射されないが、時刻の経過と
ともに、荷電粒子ビームの周回方向中心が出射され、周
回方向の前半と後半は出射されないことが生じる。この
ように、周回方向の位置でベータトロン振動振幅の増加
の位相が異なり、さらに、ビームが出射される周回方向
位置が変化していく。従来技術では、ビームが出射され
る時は周回方向の全位置から出射され、出射が少なくな
る場合は、周回方向全位置が同様に振る舞う。従って、
本発明は、全荷電粒子ビーム数の時間的変化が極めて小
さくなる。
粒子ビームを周回させる偏向電磁石及び4極電磁石と、
荷電粒子ビームを出射するためのベータトロン振動の共
鳴の安定限界を発生させる多極電磁石と荷電粒子ビーム
に高周波電磁界を加えて荷電粒子ビームを前記安定限界
の外側に移動させてベータトロン振動に共鳴を励起する
ための高周波源を備え、前記高周波源で、瞬時周波数が
時間的に変化し、前記瞬時周波数の時間的平均値、及
び、前記瞬時周波数と前記瞬時周波数の時間変化平均値
の差が複数種類の信号の加算信号を発生させ、前記加算
信号を荷電粒子ビームに印加することに特徴がある。
をθiとして、Aisin(2πfit+θi)と表され、
瞬時周波数は、fi+(dθi/dt)/(2π)と表
される。瞬時周波数が時間的に変化する時、dθi/d
t≠0である。dθi/dtの平均値がゼロになるよう
に予め定めると瞬時周波数の時間的平均値は、fiであ
る。上記特徴によると、異なるfi(ただし、i=1,
2…n:nは2以上)について、(dθi/dt),
(dθj/dt)(i≠j)が異なる、即ち、位相θi
とθjの時間変化が異なる交流信号の加算信号ΣAisi
n(2πfit+θi(t))を発生させて、荷電粒子ビ
ームに加える。
が、加えた高周波の差の周波数で変化する。即ち、加え
た高周波の周波数fiとfjについて、ベータトロン振
動の振幅は、fi−fjで変化するが、それぞれ周波数
fiとfjを発生させる交流信号の位相θiとθjは、
時間的に異なる時間変化をするため、周波数がfi−f
jのベータトロン振動振幅の変化は、位相が荷電粒子ビ
ームの加速器を周回する周回方向位置、即ち、前後関係
によって異なる。このように、周回方向の位置でベータ
トロン振動振幅の増加の位相が異なり、さらに、それぞ
れが変化するため、本発明の請求項1と同様に出射され
る全荷電粒子ビーム数の時間的変化が極めて小さくな
る。
は、荷電粒子ビームを周回させる偏向電磁石及び4極電
磁石と、荷電粒子ビームを出射するためのベータトロン
振動の共鳴の安定限界を発生させる多極電磁石と荷電粒
子ビームに高周波電磁界を加えて荷電粒子ビームを前記
安定限界の外側に移動させてベータトロン振動に共鳴を
励起するための高周波源を備え、前記高周波源は、前記
高周波源が、時間をt、複数種類の周波数をfi、それ
ぞれの周波数fiに対応する位相をθi、振幅をAiと
して複数の各周波数の交流信号の加算信号ΣAisin(2
πfit+θi)を発生し、位相θiを予め定めた周期
で変化させる高周波源であることに特徴がある。
て、Aisin(2πfit+θi)と表され、瞬時周波数
は、2πfi+dθi/dtと表される。従って、上記
特徴のように各fiに対応するθiを予め定めた周期で
変化させると、請求項1の加速器と同様に、出射のため
のベータトロン振動の振幅の増加の位相も時々刻々変化
し、出射ビーム強度が平均化され、時間的に強度変化の
少ない荷電粒子ビームが出射される。
は、荷電粒子ビームを周回させる偏向電磁石及び4極電
磁石と、荷電粒子ビームを出射するためのベータトロン
振動の共鳴の安定限界を発生させる多極電磁石と荷電粒
子ビームに高周波電磁界を加えて荷電粒子ビームを前記
安定限界の外側に移動させてベータトロン振動に共鳴を
励起するための高周波源を備え、前記高周波源が複数の
熱雑音発生装置と、それらの出力の後段に予め定めた時
間間隔で前記複数の熱雑音発生装置の出力を切り替える
手段を備え、前記熱雑音発生装置からの出力に基づく高
周波をビームに加えることに特徴がある。
高周波の異なる周波数の位相差が予め定めた周期で変化
する。その結果、前記ベータトロン振動の振幅の変化の
位相も時々刻々変化し、出射ビーム強度が平均化され、
時間的に強度変化の少ない荷電粒子ビームが出射され
る。
は、周回型加速器と前記周回型加速器から出射された荷
電粒子ビームを輸送するシステムと前記輸送された荷電
粒子ビームを患者に照射する照射装置を備え、周回型加
速器に請求項1の周回型加速器を用いる点に特徴があ
る。
ータトロン振動の振幅の変化の低周波成分が小さくな
り、時間的に強度変化の少ない荷電粒子ビームが出射さ
れて、治療装置から時間的強度の変化の少ない荷電粒子
ビームを照射できる医療用加速器システムを得る。
は、周回型加速器と前記周回型加速器から出射された荷
電粒子ビームを輸送するシステムと前記輸送された荷電
粒子ビームを患者に照射する照射装置を備え、周回型加
速器に請求項2の周回型加速器を用いる点に特徴があ
る。
ータトロン振動の振幅の変化の位相も時々刻々変化し、
出射ビーム強度が平均化され、時間的に強度変化の少な
い荷電粒子ビームが出射されて、治療装置から時間的強
度の変化の少ない荷電粒子ビームを照射できる医療用加
速器システムを得る。
は、周回型加速器と、前記周回型加速器から出射された
荷電粒子ビームを輸送するシステムと、前記輸送された
荷電粒子ビームを患者に照射する照射装置を備え、周回
型加速器に請求項4の周回型加速器を用いる点に特徴が
ある。
子ビームの出射のために荷電粒子ビームに印加する高周
波の位相が時間変化する。その結果、前記ベータトロン
振動の振幅の変化の位相も時々刻々変化し、出射ビーム
強度が平均化され、時間的に強度変化の少ない荷電粒子
ビームが出射されて、治療装置から時間的強度の変化の
少ない荷電粒子ビームを照射できる。
ビームを周回させる偏向電磁石及び4極電磁石と、荷電
粒子ビームを出射するためのベータトロン振動の共鳴の
安定限界を発生させる多極電磁石と、荷電粒子ビームに
高周波電磁界を加えて荷電粒子ビームを前記安定限界の
外側に移動させてベータトロン振動に共鳴を発生させる
ための高周波源を備える周回型加速器と、前記周回型加
速器から出射された荷電粒子ビームを輸送するシステム
と、前記輸送された荷電粒子ビームを患者に照射する照
射装置を備えた医療用加速器システムの運転方法におい
て、前記高周波源で、荷電粒子ビームを前記安定限界の
外側に移動させるための高周波電磁界を発生させるた
め、複数の周波数成分を含み、前記複数周波数成分の周
波数の差の最小値が500Hz以上10kHz以下で、
前記複数の周波数成分の位相は、各周波数成分間の位相
の差に整数×π以外の値を含む位相である交流信号を荷
電粒子ビームに加えて荷電粒子ビームを出射し、治療装
置から照射することに特徴がある。
ータトロン振動の振幅の変化の低周波成分が小さくな
り、時間的に強度変化の少ない荷電粒子ビームが出射さ
れて、治療装置から時間的強度の変化の少ない荷電粒子
ビームが出射されて、治療装置から時間的強度の変化の
少ない荷電粒子ビームを照射できる。特に、径が小さな
ビームを走査する照射法で抑えるべき数100Hz以下
の出射電流の変化を小さく出来る。
子ビームを周回させる偏向電磁石及び4極電磁石と、荷
電粒子ビームを出射するためのベータトロン振動の共鳴
の安定限界を発生させる多極電磁石と荷電粒子ビームに
高周波電磁界を加えて荷電粒子ビームを前記安定限界の
外側に移動させてベータトロン振動に共鳴を発生させる
ための高周波源を備える周回型加速器と前記周回型加速
器から出射された荷電粒子ビームを輸送するシステムと
前記輸送された荷電粒子ビームを患者に照射する照射装
置を備えた医療用加速器システムの運転方法において、
前記高周波源で、瞬時周波数が時間的に変化し、前記瞬
時周波数の時間的平均値が異なる複数種類の信号の加算
信号を発生させ、前記加算信号を荷電粒子ビームに加え
て荷電粒子ビームを出射し、治療装置から照射すること
に特徴がある。
子ビームの出射ために荷電粒子ビームに印加する、複数
の周波数成分の高周波の位相が時間変化する。その結
果、前記ベータトロン振動振幅の変化の位相も時々刻々
変化し、出射ビーム強度が平均化され、時間的に強度変
化の少ない荷電粒子ビームが出射されて、治療装置から
時間的強度の変化の少ない荷電粒子ビームを照射でき
る。
子ビームを周回させる偏向電磁石及び4極電磁石と、荷
電粒子ビームを出射するためのベータトロン振動の共鳴
の安定限界を発生させる多極電磁石と荷電粒子ビームに
高周波電磁界を加えて荷電粒子ビームを前記安定限界の
外側に移動させてベータトロン振動に共鳴を発生させる
ための高周波源を備える周回型加速器と前記周回型加速
器から出射された荷電粒子ビームを輸送するシステムと
前記輸送された荷電粒子ビームを患者に照射する照射装
置を備えた医療用加速器システムの運転方法において、
前記荷電粒子ビームに、時間をt、複数種類の周波数を
fi(i=1,2…n)、それぞれの周波数fiに対応
する位相をθi、振幅をAiとして複数の各周波数の交
流信号の加算信号ΣAisin(2πfit+θi)を発生
し、θiが予め定めた周期で時間変化する高周波を加
え、前記高周波を加えて出射した荷電粒子ビームを前記
輸送システムで輸送し、前記照射装置から照射すること
に特徴がある。
子ビームの出射ために荷電粒子ビームに印加する複数の
周波数成分の高周波の位相が予め定めた時間毎に変化す
る。その結果、前記ベータトロン振動の振幅の変化の位
相も時々刻々変化し、出射ビーム強度が平均化され、時
間的に強度変化の少ない荷電粒子ビームが出射されて、
治療装置から時間的強度の変化の少ない荷電粒子ビーム
を照射できる。
用いて説明する。
第1の実施例で、プロトンを入射・加速し、その後、出
射する加速器111と出射したビームを治療室98へ輸
送して癌治療を行うシステムを示す図である。治療にあ
たっては、患者の情報に基づき予め治療計画装置131
で定めたビームエネルギー,ビーム照射線量,ビーム照
射時間を制御装置132に伝送し、これに基づき、加速
器111の各機器の電源113,出射ビーム輸送系機器
の電源112と治療照射系の照射装置200の電源20
1を制御する。
6,ビームを加速器111へ輸送する入射ビーム輸送系
17,入射器15、また、入射されたビームにエネルギ
ーを与える高周波加速空胴8,ビーム軌道を曲げる偏向
電磁石2,ビームのベータトロン振動を制御する4極電
磁石5,6、さらに、出射時の共鳴を励起するための6
極電磁石9,共鳴の安定限界内粒子のベータトロン振動
振幅の増加を目的に、ビームに時間変化する高周波電磁
界を加えるための電極25、及びベータトロン振動振幅
が増加した粒子を出射用ビーム輸送系102に出射する
ための出射器4から構成されている。出射ビーム輸送系
102は、偏向電磁石105,4極電磁石104等で構
成される。これらの機器のうち、共鳴発生用の6極電磁
石9とビームに高周波電磁界を加えるための電極25,
出射器4,出射ビーム輸送系の4極電磁石104及び偏
向電磁石105は、加速したビームを出射する過程での
み使用する。
する過程で偏向電磁石2で軌道が曲げられる。また、4
極電磁石の働きにより、ビームは設計軌道のまわりをベ
ータトロン振動しながら周回し、ベータトロン振動の振
動数は、収束用の4極電磁石5と発散用の4極電磁石6
の励磁量により制御できる。入射と加速時の過程でビー
ムを安定に周回させるには、加速器一周あたりのベータ
トロン振動数(チューン)が共鳴を生じない値にしてお
く必要がある。本実施例では水平方向チューンνx、垂
直方向チューンνyを整数+0.25ないし整数+0.7
5に近い値になるように4極電磁石5,6を調整してお
く。この状態でビームは加速器内を安定に周回するが、
その過程で高周波加速空胴8からエネルギーを与え、ま
た、偏向電磁石2及び4極電磁石5,6、各々の磁場強
度比を一定に保ちながら偏向電磁石2及び4極電磁石
5,6、各々の磁場強度を増加させ、ビームを加速す
る。各々の磁場強度比が一定であることから、加速器一
周あたりのベータトロン振動数、即ち、チューンは、一
定に保たれる。
の電源と発散用の4極電磁石6の電源を調整し、水平方
向チューンνxを整数+1/3+Δないし整数+2/3
+Δ(Δは0.01程度の小さな値)にする。以下では、
水平方向チューンνxを整数+1/3+Δとする場合を
例に説明する。次に6極電磁石9に共鳴励起のための電
流を流す。6極電磁石9に流す電流は、周回中のビーム
でベータトロン振動振幅が大きい粒子が安定限界内に納
まる程度の値にしておくが、その値は、あらかじめ計算
で求めるか、出射の運転の繰り返しを通じて求める。
させた高周波信号を印加する。図3に、高周波電源24
の構成を示す。図3のに示すように、電極25は板状電
極で、水平方向に対向させて時間変化信号を印加する。
電極25には、符号が逆の電流を高周波電源24から流
すようにすることにより、図3に示す方向の電界が荷電
粒子ビームに加わる。
31からの情報により制御装置132から、ビームエネル
ギーE,周回周波数fr,取り出し時間tex,目標照
射線量に関する信号を受けて、電極25に以下のような
時間変化信号を加える。即ち、制御装置132からの信
号に基づき、複数種類の周波数をf1,f2,…fn
(f1,<f2<…<fn)、それぞれの周波数fi
(i=1,2…n)に対応する位相をθi(i=1,2
…n),振幅Ai(i=1,2…n)、時間をtとして
複数の周波数の交流信号の合成信号ΣAisin(2πfi
t+θi)を発生し、かつ瞬時周波数を時間的に変化さ
せる、即ち、前記の位相θiを予め定めた時間間隔で繰
り返し変更して電極25に加える。なお、θiの時間変
化は、θi,θj(i≠j,i,j=1,2,…n)につ
いてθi,θj,θi−θjが予め定めた周期で変化す
るように選定する。複数種類の周波数f1,f2,…f
nは、周回周波数frを基に、最小値から最高値の間に
fr/3から(1/3+δ)frを含むようにする。周波
数f1,f2,…fnは、周波数fi+1と隣接する周
波数fiの間の周波数差が1kHz以上で10kHz以
下になるように設定する。周波数このような周波数成分
を持たせるのは、下記の考察に基づく。 (a)ベータトロン振動振幅が極めて小さいビームのチ
ューンは、四極電磁石で設定した整数+1/3+δにな
っているが、共鳴発生用の多重極電磁石9の効果によ
り、安定限界近くのベータトロン振動振幅の大きな粒子
のチューンは、この値からδ程度ずれ、整数+1/3に
近い値になっており、振動振幅がこれらの間にあるビー
ムのチューンも整数+1/3+δから整数+1/3の間
に連続的に分布する。 (b)荷電粒子ビームのベータトロン振動振幅を効率的
に増加させるためには、ベータトロン振動の周波数に近
い周波数の高周波を荷電粒子ビームに加える必要があ
る。 (c)荷電粒子ビームのベータトロン振動振幅には、高
周波の周波数f1,f2,…fnの差の周波数fi−f
j(i,j=1,2…n)の成分の変化が生じ、同様の
周波数変化で出射ビーム電流が変化する。従って、fi
+1−fiが、小径ビームの走査で抑えるべき500H
z以上の周波数になるようにfi(i=1,2…n)を
決める。一方、fi+1−fiを10kHz以上にする
と、実用的な電力の高周波では、ベータトロン振動振幅
を有効に増加させることが困難になる。
を用いる場合には、チューンを整数+1/2に近い値と
する。周波数幅は上記と同様である。
間をΔtとし、各周波数fiに対応する信号Aisin
(2πfit+θi)の位相θiをΔt毎にm回(m:
整数)、θ1,θ2,…θmと変化させる。m回変更し
た後は、Texrf=mΔtを1周期として、同様の位相変
更を繰り返す。
では、位相を変更する周期Texrfを荷電粒子ビームの加
速器の周回周期T(=1/fr)とし、分割数mはm=
4とする。周波数fiについて位相θi,周波数fi
(i=1,2…n)の信号強度の変化を図4に示す。図
4は、TexrfをTとして記している。各周波数fiにつ
いて時刻t=t0+kTexrf(k:整数)における位相
をθi1とし、Δt後、即ち時刻t=t0+Δt+kT
exrfに位相をθi2に変える。これを、各周波数fiに
ついて行い、時刻t=t0+2Δt+kTexrfで初期位
相をθi3、t=t0+3Δt+kTexrfで位相をθi
4と変化させる。m>4の場合は、さらにΔt毎に位相
を変化させ、…t=t0+Δt(m−1)+kTexrf=
t0+T−Δt+kTexrfでθimと変化させる。そし
て位相変更を行う周期Texrfが経過した後は、各周波数
fiについてθiを再びθi1として上記の位相変更を
繰り返す。他の周波数fjについても、上記と同様に、
位相θjを図5のように変化させる。なお、変化させる
位相θjは、異なる各周波数fi,fj間の位相差θi
k―θjk(ただしi≠j)が、Δt毎に変化するよう
に選定する。そして、各周波数の信号の和算ΣAisin
(2πfit+θi)を求めて電極25から荷電粒子ビ
ームに印加する。
ことにより、ビームの軌道勾配が電場,磁場の効果で変
化し、ビームのベータトロン振動の振幅が増加し始め、
安定限界をこえた粒子は、共鳴によりベータトロン振動
の振幅が急激に増加する。ベータトロン振動に共鳴が発
生した粒子は、振動が増加した後、出射器4から出射さ
れる。このベータトロン振動振幅の変化の周波数に、ベ
ータトロン振動周波数fβと外部から加える高周波の周
波数の差、及び、外部から加える高周波の周波数間の差
の成分が生じる。即ち、荷電粒子ビームに加える高周波
の周波数をf1,f2…fn(f1<f2…<fn)と
すると、ベータトロン振動周波数fβと外部から加える
高周波の周波数の差については、f1−fβ,f2−f
β…fn−fβの周波数が生じ、外部から加える高周波
の周波数間の差については、最高fn−f1、最小はf
1,f2…fnのうちの周波数の差fi−fj(i,
j:1,2…nでi≠j)のうちの最小周波数のベータ
トロン振動の振幅変化成分が生じる。医療用加速器シス
テムでは、周波数差の最大値fn−f1がおよそ数10
kHz程度である。
1,f2,…fnの高周波の位相を変化させることによ
り、上記のベータトロン振動振幅のfi−fβ,fi−
fj(i,j=1,2…n,i≠j)の周波数成分の位
相もΔt毎に変化する。従って、例えば、時刻t=t0
+kTexrf(k:0,1,2…,m)において位相θi
1の高周波を加えた荷電粒子ビームと、時刻t=t0+
Δt+kTexrf(k:0,1,2…,m)に位相θi2
の高周波を加えた荷電粒子ビームそれぞれのベータトロ
ン振動の振幅変化の周波数成分fi−fβ,fi−fj
(i,j=1,2…n,i≠j)の位相が異なる。この
位相の変化を繰り返し結果、ベータトロン振動振幅が安
定限界よりわずかに小さい荷電粒子ビームについて、時
刻t=t0+kTexrf,t=t0+Δt+kTexrf,t
=t0+2Δt+kTexrf,…t=t0+(k−1)Δt
+kTexrf(k:0,1,2…,m)に出射用高周波電
極位置を通過した荷電粒子ビームには、高周波の位相の
差異に起因して安定限界を越えるビームと安定限界を越
えないビームがある。例えば、t=t0+Δt+kTex
rfに高周波電極を通過したビームは、ベータトロン振動
振幅が増加する位相になり出射されるが、t=t0+
(k−1)Δt+kTexrfに高周波電極を通過したビー
ムは、ベータトロン振動振幅が減少する位相になり、出
射され無い状況が生じる。即ち、高周波電極を通過する
時間がΔt違うと荷電粒子ビームが出射されるかどうか
が替わる。さらに時間が経過すると、逆の現象が生じ、
Δt直前に出射されてもΔt後には、出射されないこと
が生じる。従って、t=t0+kTexrfからt=t0+
(k+1)Texrfまでの時間内、t=t0+(k+1)
Texrfからt=t0+(k+2)Texrfまで時間内、さ
らにt=t0+(n+2)Texrfからt=t0+(n+
3)Texrfまでの各時間内に出射されるビーム強度の変
化は小さくなる。上記の瞬時周波数の変化、即ち、位相
の変化は、各fi(i=1,2…n)に対して行うた
め、出射ビーム電流の周波数成分fi−fβ,fi−f
j(i,j=1,2…n,i≠j)、即ち、数10kH
z以下の時間変化が極めて小さくなる。
で、図1の加速器111の制御装置132からのビーム
エネルギーE,周回周波数frの情報に基づき、出射の
ために加える高周波の周波数fi(i=1,2…n)を
計算する。同時に制御装置132から荷電粒子ビームが
周回型加速器を1周する時間Tの分割数mを計算機13
3に入力する。上記入力から位相変更時間Δtは、Δt
=Texrf(=T)/mとなる。計算機133で、周波数
成分の数nと分割数mに基づいて周波数fi(i=1,
2…n)に対する位相θik(i=1,2…n;k=
1,2,…m)データを生成する。本実施例では、位相
θik(i=1,2…n;k=1,2,…m)を0から
2πまでの間で平均がπになる乱数から生成する。ただ
し、次に、周波数fi(i=1,2…n)に対する振幅
をAiとして、上記データから、t=0からΔtまでの
区間について複数の各周波数の交流信号の合成信号ΣA
isin(2πfit+θi1)を計算、次に、t=Δt
から2ΔtまでΣAisin(2πfit+θi2)を計
算、これを繰り返してt=(m−1)ΔtからmΔtまで
の時間についてΣAisin(2πfit+θim)を求
める。次にt=TexrfからΔt+TexrfまでΣAisin
(2πfit+θi1)を求め、t=Texrf+Δtから
Texrf+2ΔtまでΣAisin(2πfit+θi2)を
計算する手順を繰り返していく。これらの計算結果は、
波形データのメモリー30にストアされる。波形データ
のメモリー30の出力をDAコンバータ27によりアナ
ログ信号に変換し、増幅器28で増幅された後、電極2
5から荷電粒子ビームに加えられる。位相変更時間Δt
は、小さいほど出射ビーム電流の時間変化を小さく抑え
ることができるが、波形データのメモリー30の必要サ
イズが大きくなること、DAコンバータ27でのサンプ
リング時間を短くする必要があること、さらに、増幅器
28や電極25に広い周波数帯域を持たせる必要があ
り、これらの特性を考慮して、位相変更時間Δtを定め
ることが必要である。
タは、出射するビームのエネルギー毎に生成しておく。
出射のために加える高周波の周波数f1からfnまでの
周波数fi(i=1,2…n)は、前記周期Tの逆数で
ある周回周波数frに基づき、fr/3から(1/3+
δ)fr程度を含む範囲に設定する。δは、ビームの運
動量差に起因するチューンの変化を考慮して、十分大き
い値にする。荷電粒子ビームを加速し、出射する際に、
制御装置132からのビームエネルギー情報に基づきメ
モリー30から波形データを読み出し、DAコンバータ
27に送る。
された高周波は、図3の増幅器28により増幅されて電
極25から荷電粒子ビームに加えられる。ビームを出射
する際には、増幅器28の増幅度を制御装置134から
の信号によりメモリー31から得て変化させる。この時
間変化のパターンも、各ビームエネルギーEや、出射時
間tex毎にメモリー31に記憶しておく。このように
ビームに加える高周波電圧を時間的に変化させるのは、
単位時間当たりに出射される粒子数を一定に保つことが
その目的である。出射開始直後は、安定限界の内側に多
数の粒子があり、出射の経過とともに安定限界の内部の
粒子数が減少する。単位時間に出射される粒子数は、安
定限界にある粒子とベータトロン振動が安定限界をこえ
る速さの積に比例するから、出射の経過とともにビーム
に加える高周波電圧を増加していくことにより、単位時
間当たりに出射される粒子数を一定に保つことができ
る。患者及び患部情報により、必要なビームエネルギー
や照射線量,照射時間がきまるから、それを基に制御装
置132から制御装置134へ信号を送り、予め増幅度
バターンを覚えさせたメモリー31に記憶したデータか
ら適切なパターンを選んで増幅器28に与えてビームを
出射する。
Texrfは、荷電粒子ビームの周回周期Tとして、Δt
は、Tの1/正整数としている。これにより、高周波電
源24から荷電粒子ビームに加えるための交流信号に
は、f1からfnまでの範囲だけでなく、周回周波数を
frとして、fr+f1からfr+fn,2fr+f1
から2fr+fn,3fr+f1から3fr+fn,…
と周波数幅が同じで、周波数がfrずつずれた位置に周
波数成分が生じる。この周波数成分は、最高1/(2Δ
t)程度までに及ぶ。したがって、荷電粒子ビームに加
える周波数成分は、周回周波数の整数倍+ベータトロン
振動周波数に概ね近く、ベータトロン振動の振幅を効率
良く増加できる。従って、高周波電源24の増幅器28
や電極25は、これらの周波数の高周波を減衰させるこ
となく荷電粒子ビームに加えることができる周波数特性
を持つ必要がある。前述の分割数mを大きくし、Δtを
小さくすると、さらに高い周波数成分を持つようにな
り、これに応じた増幅器28や電極25を使用する必要
がある。
は、これらの周波数の高周波を減衰させることなく荷電
粒子ビームに加えることができる周波数特性を持つ必要
がある。前述の分割数mを大きくし、Δtを小さくする
と、さらに高い周波数成分を持つようになり、これに応
じた増幅器28や電極25を使用する必要がある。
ームの周回周期T(=1/fr)程度とするか、あるい
は、荷電粒子ビームの出射電流の時間変化で重要となる
周波数成分、即ち、数10kHzに対応する周期、即
ち、数10μs程度とすることが望ましい。これは、そ
れ以外の周期で位相を変更した場合、荷電粒子ビームに
加える高周波周波数成分にベータトロン振動の振幅を効
率良く増加できない成分が含まれ、高周波電源の電力が
有効に使われなくなるためである。前記のTexrf=T
(荷電粒子ビームの周回周期)とした場合には、上記の
高周波電源24で発生させた高周波の周波数スペクトル
は、瞬時周波数が時間的に変化することから、f1から
fnまでの範囲だけでなく、fr+f1からfr+f
n,2fr+f1から2fr+f1,…,6fr+f1
から6fr+fn程度までの範囲に及ぶ。ここで、fr
は、荷電粒子ビームの周回周波数で、瞬時周波数を変化
させる周期Tの逆数である。高周波電源24の増幅器2
8や電極25は、これらの周波数の高周波を減衰させる
ことなく荷電粒子ビームに加えることができる周波数特
性を持つ必要がある。前述の分割数mを大きくし、Δt
を小さくすると、さらに高い周波数成分を持つようにな
り、これに応じた増幅器28や電極25を使用する必要
がある。
の時間変化を抑える周波数(数10kHz)に対応する
50μs程度にした場合、高周波電源24で発生させた
高周波の周波数スペクトルは、最小周波数がf1より前
述の数10kHzの数倍程度小さくなり、最高周波数は
fnより同様に数10kHzの数倍程度高くなり、ベー
タトロン振動振幅を変化させる場合の高周波電力の効率
は若干減少する。しかし、Texrf=Tとした前述のよう
なfr+f1からfr+fn,2fr+f1から2fr
+f1のような高い周波数成分は生じない。従って、高
周波電源24の増幅器28や電極25について、位相変
更の周期Texrfを荷電粒子ビームの周回周期Tとした場
合のような広い周波数帯域は不要である。
2で治療室98に輸送されたビームは回転照射装置11
0で患者に照射される。輸送系102には、ビーム電流
ないしビーム電流に概ね比例する放射線量を計測するモ
ニタ32を設置し、このモニタ32からの出力と制御装
置132さらに計算機133から伝送されるビーム電流
の目標値33を、図3の比較器34で比較する。その差
に基づき、高周波電源24の増幅器28を制御し、荷電
粒子ビームに加える高周波電力を制御し、目標のビーム
電流を得る。比較器34から増幅器28を制御する信号
は、出射電流の実測値と目標値の差に応じて、増幅器2
8の増幅度を増減するが、出射電流の実測値と目標値の
差が同一でもビームエネルギーEが異なる場合には、増
幅度の増減量を計算機133から送られるビームエネル
ギーEに応じて変更する。このように、本発明では、出
射のために加える高周波が発生するビーム電流の時間変
化を高周波の位相、即ち、瞬時周波数を時間変化させる
ことにより低減し、それ以外の原因で出射電流が変化す
る場合を上記の制御により解決し電流を一定化する。
0について説明する。回転照射装置110は、図1の回
転軸の周りの任意の角度から患者に照射することがで
き、加速器111から出射された出射ビームを照射対象
まで輸送するための4極電磁石104および偏向電磁石
105、および4極電磁石104および偏向電磁石105
に電流を供給する電源装置112を備える。
を備える。照射ノズル200には、照射位置をx方向お
よびy方向に動かすための電磁石220,221を備え
る。ここで、x方向は偏向電磁石105の偏向面に平行
な方向、y方向は偏向電磁石105の偏向面に垂直な方
向である。電磁石220,221には電流を供給する電
源装置201が接続されている。照射ノズルを図2に示
す。電磁石220,221の下流には、ビーム径を増加
させるための散乱体300を設置する。また、散乱体3
00のさらに下流には、ビームの照射線量分布を測定す
る照射線量モニタ301を設置している。また、患部の
周囲の正常組織を傷めないように、照射対象である患者
の直前には、コリメータ226を設置する。
度分布を示す。散乱体で広げられたビームは、ほぼガウ
ス分布をしており、これを電磁石220,221を使っ
て円形に走査する。走査する円の半径rは、散乱体で広
げた荷電粒子ビームの半径の1.1倍から1.2倍程度に
設定する。その結果、走査中心の軌跡である円の内側に
照射された荷電粒子ビームの積算強度分布は平坦にな
る。従って、予め、ビームの照射位置(Xi,Yi)
(i=1,2,…n)と必要な照射線量を治療計画装置
131で定め、必要線量を照射したことを線量モニタ3
01で確認した後、照射位置を移動して、照射する手順
を繰り返していくことにより患部を均一に照射できる。
体の動きを検知する信号に基づき、緊急に荷電粒子ビー
ムの照射を停止する場合には、照射系からの緊急停止信
号に基づき、さらに、照射系の線量計で目標とする線量
を照射したことを検知した場合に発信される線量満了信
号に基づき、高周波電源24の割り込み発生装置35に
より高周波を停止する制御信号を制御装置134に送る
ほか、高周波スイッチ36で電極25への高周波の印加
を停止する。このように、高周波電源24からの高周波
印加を停止することにより、短時間で荷電粒子ビームの
出射を停止できる。また、高周波電源24内に複数の高
周波印加停止手段を設けることにより、より確実に荷電
粒子ビームの出射を停止できる。 実施例2 次に、本発明の第2の実施例を示す。
成は同一である。図3の高周波源24で、計算機133
で時間をt、荷電粒子ビームの周回周波数をfr、複数
の周波数をfi(i=1,2,…n)、それぞれの各周
波数fiに対応する位相をφi、振幅をAi,Biを定
数として異なる周波数fiに対する信号の和ΣAisin
(2πfit+Bisin(2πt/Texrf+φi))の
和で表される高周波信号を発生させて、メモリー30に
データをストアする。この信号は、実施例1と同様に、
周期Texrfで位相を変更し、瞬時周波数を変化させてい
る。ビームを出射する際に、メモリー30からデータを
DAコンバータ27に送り、アナログ信号に変換して、
さらに増幅器28で増幅した後、電極25から荷電粒子
ビームに印加する。複数の周波数をfi(i=1,2,
…n)の選び方は、実施例1とまったく同一である。φ
i(i=1,2,…n)については、平均値がπで、0
から2πまでの乱数からn個選ぶ。Biは、大きいほう
が望ましく、本実施例では2πと選ぶ。
に選んだときは、Aisin(2πfit+2πsin(2π
t/Texrf+φi) )の信号は、L/Texrf±fI=L
・fr±fi(L=1,2…,Biに近い整数まで)の
周波数スペクトルを有する。即ち、もとのfiから周回
周波数frの整数倍だけ離れたら周波数スペクトルであ
り、荷電粒子ビームのベータトロン振動振幅を増加させ
る速さは低下しないが、実施例1と同様に増幅器28や
電極25はこれらの周波数成分を減衰させない周波数特
性が必要である。
=20kHz程度に選んだときは、Aisin(2πfi
t+2πsin(2πt/Texrf+φi))の信号は、L/
Texrf±fi=L・fr±fi(L=1,2…,Biに
近い整数まで)の周波数スペクトルを有する。即ち、も
とのfiから20kHzの整数倍に及ぶ周波数スペクト
ルを有し、荷電粒子ビームのベータトロン振動振幅の増
加速さが低下する。Texrf=Tとした場合について、信
号sin(2πfit+2πsin(2πfrt+φi))
(i=1,2,…n)の瞬時周波数を変化させる位相に
ついて、2πsin(2πfrt+φ1)と2πsin(2π
frt+φ2)を各々位相1,位相2として図7に示
す。また、これに対応する信号1=sin(2πf1t+
2πsin(2πfrt+φ1)と信号2=sin(2πf2
t+2πsin(2πfrt+φ2)の強度変化を図8に
示す。図7と図8の横軸は、荷電粒子ビームの周回周期
Tに基づき記しており、これらから、荷電粒子ビームに
加える高周波信号の位相が周回方向位置で変化し、その
結果、ベータトロン振動振幅の変化の位相も周回方向位
置で変化する。
た時に出射される荷電粒子ビームの強度変化の数値シミ
ュレーション結果を図9に示す。さらに図10に、出射
用の高周波の位相を一定にした従来技術の数値シミュレ
ーション結果を記す。図9,図10とも横軸は、周回数
で時間を表し、縦軸は、出射粒子数の相対値である。本
発明による出射粒子数の一定化の効果が明確である。即
ち、従来は、周波数fiの交流信号の瞬時周波数が一定
で、位相が変化しないから、ベータトロン振動の振幅の
増加の位相は、周回方向位置に依存しない。従って、ビ
ームが出射される時は、荷電粒子ビームの周回方向の先
頭から後半まで出射され、逆に、出射されない時は、周
回方向の先頭から後半まで出射されない。それゆえ、出
射ビームの時間強度変化に、周波数がfi−fβ,fi
−fjの成分がはっきり生じていた。 実施例3 次に、本発明の第3の実施例を示す。
1,第2の実施例と同一である。図11は、本実施例の
高周波電源24を示す。本実施例の高周波源24は、n
台の発振器fi/k(i=1,2,…n)400を用い
る。kは十分大きい整数である。周波数fi/kの発振
器400を用い、これを移相器401により90度位相
をずらした信号を発生させる。周波数f1/kの発振器
400の信号をsin(2π(fi/k)t)とすると90
度位相をずらした信号は、cos(2π(fi/k)t)とな
る。発振器402を用いて信号2πsin(2πt/Texrf
+φi)/kの積の信号を発生させる。Texrfは、実施
例1,2と同様の値で、位相を変更する周期、φiは位
相である。信号2πsin(2πt/Texrf+φi)/kと
信号cos(2π(fi/k)t)の積2πsin(2πt/Te
xrf+φi)・cos(2π(fi/k)t)/kを求めた
後、信号sin(2π(fi/k)×t)と加えると、sin
(2π(fi/k)t)+2πsin(2πt/Texrf+φ
i)・cos(2π(fi/k)t)/kとなる。これ
は、2π/kが十分小さいことを考慮するとsin(2π
(fi/k)t+2πsin(2πt/Texrf+φi)/
k)と表される。従って、上記を周波数をk倍に逓倍す
る逓倍器403に入力することにより、出力sin(2π
fit+2πsin(2πt/Texrf+φi))を得る。
発振器fi/k(i=1,2,…n)の出力についてま
ったく同様の処理を施し、最終的にそれらを加算器40
4により加え合わせることにより、ΣAisin(2πf
it+2πsin(2πt/Texrf+φi))の信号を得
る。Texrfを荷電粒子ビームの周回周期Tと選ぶ、ある
いは、およそ50μ秒程度いずれにしても良いことも、
実施例1,2と同様である。加算器404で同時に加算
後、増幅器28で増幅して電極25に加えることによ
り、実施例1,2と同様の効果を得ることができる。本
実施例は、アナログ回路素子で構成することができ、デ
ジタル回路に基づく実施例1,2のようなメモリーのサ
イズやDAコンバータのサンプリング時間に対する条件
が無くなる長所がある。増幅器28や電極25の周波数
特性については、実施例1,2と同じである。 実施例4 次に、本発明の第4の実施例を示す。
1,第2の実施例と同一である。図12は、本実施例の
高周波電源24を示す。本実施例の高周波電源24は、
異なる白色ノイズ源40をm台用いる。それぞれの白色
ノイズ源40からの出力をバンドパスフィルタ41を用
いて、最低周波数f1,最高周波数fnの連続スペクト
ルの高周波を得る。m台の白色ノイズ源40からの出力
は、周波数スペクトルは同一であるが、位相は、周波数
帯域のそれぞれについて異なる。本実施例では、m台の
白色ノイズ源40からの出力を、制御装置134からの
信号に基づき、42のスイッチで、時間Δt(=T/
m)毎に切り替え、その出力を増幅器28で必要な電圧
まで増幅して電極25から荷電粒子ビームに加える。実
施例1と同様の周波数を荷電粒子ビームに加える必要か
ら、バンドパスフィルタ41は、f1からfnまでの範
囲、fr+f1からfr+fn,2fr+f1から2f
r+f1,…,6fr+f1から6fr+fnまでの周
波数の高周波を通過させ、通過させる帯域は、制御装置
134から荷電粒子ビームのエネルギー、チューンに基
づき通過周波数帯域を変更する。
源40を使っており、それらを切り替えていくことによ
り、荷電粒子ビームに加える高周波の各周波数の位相が
時間的に変化する。即ち、実施例1と同様の作用をビー
ムに及ぼすことができる。本実施例では、メモリーやD
Aコンバータを用いることなく実施例1と同様の作用を
持つ高周波電源を得ることができる。
を出射できる加速器を提供できる。加速器から出射した
荷電粒子ビームを照射装置に輸送し、照射装置から治療
に適用する医療用加速器システムにおいて、患部をより
均一に照射することができる。また、逆に、照射量を位
置によって変化させる場合においても制御が容易にな
る。さらに、照射量を制御することに必要となるビーム
モニタに必要な時間分解能を低減することができ、ビー
ムモニタとその制御系を簡素化できる。
ステムの構成図である。
時間変化と信号強度の時間変化を示す図である。
時間変化を示す図である。
ムの高周波信号における位相の時間変化を示す図であ
る。
ムにおける高周波信号の信号強度の時間変化を示す図で
ある。
強度変化の数値シミュレーション結果を示す図である。
数値シミュレーション結果を示す図である。
テムの高周波電源24の構成図である。
テムの高周波電源24の構成図である。
8…治療室、110…回転照射装置、111…加速器、
132…制御装置。
Claims (11)
- 【請求項1】荷電粒子ビームを周回させる偏向電磁石及
び4極電磁石と、荷電粒子ビームを出射するためにベー
タトロン振動の共鳴の安定限界を発生させる多極電磁石
と、荷電粒子ビームに高周波電磁界を加えて荷電粒子ビ
ームを前記安定限界の外側に移動させてベータトロン振
動に共鳴を励起するための高周波源を備える周回型加速
器において、 前記高周波源は、荷電粒子ビームを前記安定限界の外側
に移動させるための高周波電磁界を発生させるため、複
数の周波数成分を含み、前記複数周波数成分の周波数の
差の最小値が500Hz以上10kHz以下で、前記複
数の周波数成分の位相は、各周波数成分間の位相の差に
整数×π以外の値を含む位相である交流信号を発生させ
ることを特徴とする周回型加速器。 - 【請求項2】荷電粒子ビームを周回させる偏向電磁石及
び4極電磁石と、荷電粒子ビームを出射するためにベー
タトロン振動の共鳴の安定限界を発生させる多極電磁石
と、荷電粒子ビームに高周波電磁界を加えて荷電粒子ビ
ームを前記安定限界の外側に移動させてベータトロン振
動に共鳴を励起するための高周波源を備える周回型加速
器において、 前記高周波源で、瞬時周波数が時間的に変化し、前記瞬
時周波数の時間的平均値が異なる複数種類の信号の加算
信号を発生させ、前記加算信号を荷電粒子ビームに印加
することを特徴とする周回型加速器。 - 【請求項3】荷電粒子ビームを周回させる偏向電磁石及
び4極電磁石と、荷電粒子ビームを出射するためにベー
タトロン振動の共鳴の安定限界を発生させる多極電磁石
と、荷電粒子ビームに高周波電磁界を加えて荷電粒子ビ
ームを前記安定限界の外側に移動させてベータトロン振
動に共鳴を励起するための高周波源を備える周回型加速
器において、 前記高周波源で、瞬時周波数が時間的に変化し、前記瞬
時周波数の時間的平均値、及び、時間変化する値が異な
る複数種類の信号の加算信号を発生させ、前記加算信号
を荷電粒子ビームに印加することを特徴とする周回型加
速器。 - 【請求項4】荷電粒子ビームを周回させる偏向電磁石及
び4極電磁石と、荷電粒子ビームを出射するためにベー
タトロン振動の共鳴の安定限界を発生させる多極電磁石
と、荷電粒子ビームに高周波電磁界を加えて荷電粒子ビ
ームを前記安定限界の外側に移動させてベータトロン振
動に共鳴を励起するための高周波源を備える周回型加速
器において、 前記高周波源が、時間をt、複数種類の周波数をfi
(i=1,2…n)、それぞれの周波数fiに対応して予
め定めた周期で時間変化する信号θi(t)、振幅をAi
として複数の各周波数fi(i=1,2…n)に対応す
る交流信号Aisin(2πfit+θi(t))の加算信
号ΣAisin(2πfit+θi(t))を発生させる高周
波源であることを特徴とする周回型加速器。 - 【請求項5】荷電粒子ビームを周回させる偏向電磁石及
び4極電磁石と、荷電粒子ビームを出射するためのベー
タトロン振動の共鳴の安定限界を発生させる多極電磁石
と、荷電粒子ビームに高周波電磁界を加えて荷電粒子ビ
ームを前記安定限界の外側に移動させてベータトロン振
動に共鳴を励起するための高周波源を備える周回型加速
器において、 前記高周波源が、複数の熱雑音発生装置と前記複数の熱
雑音発生装置のうちの一つを選定し前記熱雑音の出力を
荷電粒子ビームに加える切り替え手段と荷電粒子ビーム
出射過程で前記選定する熱雑音発生装置を変更するよう
前期切り替え手段を制御する制御手段を備えていること
を特徴とする周回型加速器。 - 【請求項6】荷電粒子ビームを周回させる偏向電磁石及
び4極電磁石と、荷電粒子ビームを出射するためのベー
タトロン振動の共鳴の安定限界を発生させる多極電磁石
と、荷電粒子ビームに高周波電磁界を加えて荷電粒子ビ
ームを前記安定限界の外側に移動させてベータトロン振
動に共鳴を発生させるための高周波源を備える周回型加
速器と、前記周回型加速器から出射された荷電粒子ビー
ムを輸送するシステムと、前記輸送された荷電粒子ビー
ムを患者に照射する照射装置を備えた医療用加速器シス
テムにおいて、 前記高周波源が、荷電粒子ビームを前記安定限界の外側
に移動させるための高周波電磁界を発生させるため、複
数の周波数成分を含み、前記複数周波数成分の周波数の
差の最小値が500Hz以上10kHz以下で、前記複
数の周波数成分の位相は、各周波数成分間の位相の差に
整数×π以外の値を含む位相である交流信号を発生させ
ることを特徴とする医療用加速器システム。 - 【請求項7】荷電粒子ビームを周回させる偏向電磁石及
び4極電磁石と、荷電粒子ビームを出射するためのベー
タトロン振動の共鳴の安定限界を発生させる多極電磁石
と、荷電粒子ビームに高周波電磁界を加えて荷電粒子ビ
ームを前記安定限界の外側に移動させてベータトロン振
動に共鳴を発生させるための高周波源を備える周回型加
速器と、前記周回型加速器から出射された荷電粒子ビー
ムを輸送するシステムと、前記輸送された荷電粒子ビー
ムを患者に照射する照射装置を備えた医療用加速器シス
テムにおいて、 前記高周波源で、瞬時周波数が時間変化し、かつ、前記
瞬時周波数の平均値が異なる複数種類の信号の加算信号
を発生させ、前記加算信号を荷電粒子ビームに加えるこ
とを特徴とする医療用加速器システム。 - 【請求項8】荷電粒子ビームを周回させる偏向電磁石及
び4極電磁石と、荷電粒子ビームを出射するためのベー
タトロン振動の共鳴の安定限界を発生させる多極電磁石
と、荷電粒子ビームに高周波電磁界を加えて荷電粒子ビ
ームを前記安定限界の外側に移動させてベータトロン振
動に共鳴を発生させるための高周波源を備える周回型加
速器と、前記周回型加速器から出射された荷電粒子ビー
ムを輸送するシステムと、前記輸送された荷電粒子ビー
ムを患者に照射する照射装置を備えた医療用加速器シス
テムにおいて、 前記高周波源が、時間をt、複数種類の周波数をfi
(i=1,2…n)、それぞれの周波数fiに対応する
位相をθi、振幅をAiとして複数の各周波数の交流信
号の加算信号ΣAisin(2πfit+θi)を発生
し、θiが予め定めた周期で時間変化する高周波源であ
ることを特徴とする医療用加速器システム。 - 【請求項9】荷電粒子ビームを周回させる偏向電磁石及
び4極電磁石と、荷電粒子ビームを出射するためのベー
タトロン振動の共鳴の安定限界を発生させる多極電磁石
と、荷電粒子ビームに高周波電磁界を加えて荷電粒子ビ
ームを前記安定限界の外側に移動させてベータトロン振
動に共鳴を発生させるための高周波源を備える周回型加
速器と、前記周回型加速器から出射された荷電粒子ビー
ムを輸送するシステムと、前記輸送された荷電粒子ビー
ムを患者に照射する照射装置を備えた医療用加速器シス
テムの運転方法において、 前記高周波源が、複数の周波数成分を含み、前記複数周
波数成分の周波数の差の最小値が500Hz以上10k
Hz以下で、前記複数の周波数成分の位相は、各周波数
成分間の位相の差に整数×π以外の値を含む位相となる
交流信号を発生させ、前記交流信号に基づく高周波電磁
界により荷電粒子ビームを前記安定限界の外側に移動さ
せて前記周回型加速器から出射し、出射した荷電粒子ビ
ームを前記輸送システムで輸送し、前記照射装置から照
射することを特徴とする医療用加速器システムの運転方
法。 - 【請求項10】荷電粒子ビームを周回させる偏向電磁石
及び4極電磁石と、荷電粒子ビームを出射するためのベ
ータトロン振動の共鳴の安定限界を発生させる多極電磁
石と、荷電粒子ビームに高周波電磁界を加えて荷電粒子
ビームを前記安定限界の外側に移動させてベータトロン
振動に共鳴を発生させるための高周波源を備える周回型
加速器と、前記周回型加速器から出射された荷電粒子ビ
ームを輸送するシステムと、前記輸送された荷電粒子ビ
ームを患者に照射する照射装置を備えた医療用加速器シ
ステムの運転方法において、 前記高周波源から、瞬時周波数が時間的に変化し、前記
瞬時周波数の時間的平均値が異なる複数種類の信号の加
算信号を発生させて荷電粒子ビームに印加することによ
り荷電粒子ビームを前記周回型加速器から出射し、出射
した荷電粒子ビームを前記輸送システムで輸送し、前記
照射装置から照射することを特徴とする医療用加速器シ
ステムの運転方法。 - 【請求項11】荷電粒子ビームを周回させる偏向電磁石
及び4極電磁石と、荷電粒子ビームを出射するためのベ
ータトロン振動の共鳴の安定限界を発生させる多極電磁
石と、荷電粒子ビームに高周波電磁界を加えて荷電粒子
ビームを前記安定限界の外側に移動させてベータトロン
振動に共鳴を発生させるための高周波源を備える周回型
加速器と、前記周回型加速器から出射された荷電粒子ビ
ームを輸送するシステムと、前記輸送された荷電粒子ビ
ームを患者に照射する照射装置を備えた医療用加速器シ
ステムの運転方法において、 前記荷電粒子ビームに、時間をt、複数種類の周波数を
fi(i=1,2…n)、それぞれの周波数fiに対応す
る位相をθi、振幅をAiとして複数の各周波数の交流
信号の加算信号ΣAisin(2πfit+θi)で表わさ
れ、かつ、前記位相θi(i=1,2…n)を各々予め
定めた周期で時間変化させる高周波を加え、前記高周波
を加えて出射した荷電粒子ビームを前記輸送システムで
輸送し、前記照射装置から照射することを特徴とする医
療用加速器システムの運転方法。
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