JP2002030022A - 光学活性３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オン、その製法、新規中間体および香料組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明の目的は、光学活性ムスコ
ン（３−メチルシクロペンタデカノン）の合成中間体と
して重要な、光学活性３−メチル−５−シクロペンタデ
セン−１−オン、該化合物を高収率、高純度に製造でき
る新規な製法及び新規中間体並びに香料組成物を提供す
ることである。 【解決手段】 下記式（１）−１ 【化１】 で表される（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−シクロペ
ンタデセン−１−オン。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学活性ムスコン
（３−メチルシクロペンタデカノン）の合成中間体とし
て重要な、光学活性３−メチル−５−シクロペンタデセ
ン−１−オン、該化合物を高収率、高純度に製造できる
新規な製法及び新規中間体並びに香料組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】ムスコン（３−メチルシクロペンタデカ
ノン）は、その光学異性体である（Ｒ）−（−）−体が
天然麝香の主要香気成分として存在し、特に、この
（Ｒ）−（−）−体は、（Ｓ）−（＋）−体に比べてよ
り強く、拡散性が優れたボリューム感のある香気を有
し、重要なムスク系合成香料である。

【０００３】ムスコンの合成法としてはこれまで種々の
提案がなされ、例えば、ドデカン−１，１２−ジアール
を出発原料とする合成法（特開昭５５−１１１４３８号
公報）、ノナジエン酸エステルからの合成法（Tetrahed
ron Lett.,2257(1979)）、シクロドデセンを出発原料と
する合成法（J.Org.Chem.,52,3798-3806(1987)）などが
提案されている。

【０００４】また、光学活性ムスコンの合成法として
は、例えば、３−メチル−２−シクロペンタデセン−１
−オンにルテニウム−光学活性ホスフィン錯体を触媒と
して不斉水素化する方法（特開平６−１９２１６１号公
報）、Ｒ体またはＳ体のシトロネラールと、ハロゲン化
不飽和炭化水素を反応する方法（特開２０００−２６３
６１号公報）などが提案されている。しかしながら、上
記の特開平６−１９２１６１号公報で提案されている光
学活性ムスコンの合成法は、使用されている触媒が再利
用可能であること、および高収率であるなど有効な合成
法であるが、出発原料が高価であるなどの問題がある。
また、上記の特開２０００−２６３６１号公報で提案さ
れている合成法は、光学活性シトロネラールとハロゲン
化不飽和炭化水素を反応させ、得られる１１−ヒドロキ
シ−１３，１７−ジメチルオクタデカ−１，１６−ジエ
ン誘導体とし、オゾン酸化を行った後、閉環して製造さ
れており必ずしも工業的に有利な合成法とは言い難い。

【０００５】一方、特開平６−１９２６８０号公報には
３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンが香料
化合物として有用であり、特にシス異性体がトランス異
性体より有用であることが示されている。しかしなが
ら、上記特許には該化合物の光学活性体については何ら
記載も示唆もされていない。

【０００６】さらに、（Ｓ）−（−）−３−メチル−５
−シクロペンタデセン−１−オンはそのシス−、トラン
ス−立体配位は記載されていないが、ムスコンの合成中
間体として記載されている（Ｈｕａｘｕｅ Ｘｕｅｂａ
ｏ，５３（９），９０９−９１５，１９９５参照）。し
かしながら、この化合物についての芳香特性については
記述されていない。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は光学
活性３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンお
よび該化合物を有効成分として含有するムスク様香気を
有する香料組成物を提供することである。

【０００８】また、本発明は安価な原料を使用して、か
つ高収率で、更に簡便な方法により、工業的に有利に光
学活性３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オン
を製造する方法を提供することである。

【０００９】さらに、本発明の他の目的は、光学活性３
−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンの製造の
ために有用な新規中間体を提供することである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】そこで本発明者らは、上
記の課題を解決するため鋭意検討を行った結果、上記式
（１）−１および／または上記式（１）−２で表される
（Ｒ）−（−）または（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５
−シクロペンタデセン−１−オンがムスク様の香料とし
て有用であること、また、（Ｒ）−（−）−または
（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−ヘキセンニトリルを
出発原料として１０−ウンデセニル−１−マグネシウム
ハライドと反応し、閉環するという簡便な方法で、且つ
高収率で光学活性３−メチル−５−シクロペンタデセン
−１−オンが得られることを見出し本発明を完成した。

【００１１】従って、本発明の１は下記式（１）−１

【００１２】

【化１４】 で表される（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−シクロペ
ンタデセン−１−オンである。式中、波線はシス−、ト
ランス−異性体の存在を示す。

【００１３】また本発明の２は下記式（１）−１

【００１４】

【化１５】 で表される（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−シクロペ
ンタデセン−１−オンおよび／または下記式（１）−２

【００１５】

【化１６】 で表される（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−シクロペ
ンタデセン−１−オンを有効成分として含有することを
特徴とする香料組成物である。

【００１６】また本発明の３は下記式（３）−１

【００１７】

【化１７】 で表される（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−ヘキセン
ニトリルを、有機溶媒中、１０−ウンデセニル−１−マ
グネシウムハライド（Ｃ１１Ｈ２１ＭｇＸ）とカップリ
ング反応せしめて下記式（２）−１

【００１８】

【化１８】 で表される（Ｒ）−（＋）−４−メチル−１，１６−ヘ
プタデカジエン−６−オンを形成させ、これを閉環して
下記式（１）−１

【００１９】

【化１９】 で表される（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−シクロペ
ンタデセン−１−オンの製法である。

【００２０】また本発明の４は下記式（３）−２

【００２１】

【化２０】 で表される（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−ヘキセン
ニトリルを、有機溶媒中、１０−ウンデセニル−１−マ
グネシウムハライド（Ｃ１１Ｈ２１ＭｇＸ）とカップリ
ング反応せしめて下記式（２）−２

【００２２】

【化２１】 で表される（Ｓ）−（−）−４−メチル−１，１６−ヘ
プタデカジエン−６−オンを形成させ、これを閉環して
下記式（１）−２

【００２３】

【化２２】 で表される（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−シクロペ
ンタデセン−１−オンの製法である。

【００２４】上記式（２）−１、式（２）−２、式
（３）−１および式（３）−２で表される（Ｒ）−
（＋）−４−メチル−１，１６−ヘプタデカジエン−６
−オン、（Ｓ）−（−）−４−メチル−１，１６−ヘプ
タデカジエン−６−オン、（Ｒ）−（−）−３−メチル
−５−ヘキセンニトリルおよび（Ｓ）−（＋）−３−メ
チル−５−ヘキセンニトリルは文献未記載の新規化合物
である。

【００２５】

【発明の実施の形態】本発明の製法に従って、式（３）
−１の化合物から式（１）−１の化合物を合成する態様
を反応行程［以下、（Ａ）製法と称す］で示すと、以下
の如くになる。（Ａ）製法

【００２６】

【化２３】 また、本発明の製法に従って、式（３）−２の化合物か
ら式（１）−２の化合物を合成する態様を反応行程［以
下、（Ｂ）製法と称す］で示すと、以下の如くとなる。（Ｂ）製法

【００２７】

【化２４】 本発明の光学活性３−メチル−５−シクロペンタデセン
−１−オンの製法は上記の（Ａ）製法および（Ｂ）製法
に従って合成することができる。本発明の出発原料であ
る式（３）−１の化合物および式（３）−２の化合物
は、特に限定されないが、例えば、式（３）−１の化合
物は下記式（９）−１の化合物から容易に合成すること
ができる。式（９）−１の化合物から式（３）−１の化
合物を合成する態様を反応行程［以下、（Ｃ）製法と称
す］で示すと、以下の如くとなる。（Ｃ）製法

【００２８】

【化２５】 ［式中、Ｔｓはトシル基、ＤＩＢＡＨはジイソブチルア
ルミニウムハイドライドを示す］ また例えば、式（３）−２の化合物は下記式（１８）−
２の化合物から容易に合成することができる。式（１
８）−２の化合物から式（３）−２の化合物を合成する
態様を反応行程［以下、（Ｄ）製法と称す］で示すと、
以下の如くとなる。（Ｄ）製法

【００２９】

【化２６】 ［式中、ＴＨＰはテトラヒドロピラピラニル基、Ｔｓは
トシル基、Ｂｎはベンジル基を示す］ 以下、上記の（Ａ）製法及び（Ｂ）製法に従い、各工程
別に詳細に説明する。 （Ａ）製法 （Ｒ）−（＋）−４−メチル−１，１６−ペンタデカジ
エン−６−オン［式（２）−１の化合物］の合成（第１
行程） 式（３）−１の化合物を有機溶媒中、１０−ウンデセニ
ル−１−マグネシウムハライドとカップリング反応させ
る第１行程により式（２）−１の化合物を容易に製造で
きる。

【００３０】この反応の反応温度および反応時間は、例
えば、約−２０℃〜約７０℃程度、より好ましくは約２
０℃〜約４０℃の温度範囲で、約１時間〜約２時間程度
を採用することができる。使用する１０−ウンデセニル
−１−マグネシウムハライドのハロゲン原子の種類とし
ては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素を挙げるこ
とができ、その使用量は式（３）−１の化合物１モルに
対して、例えば、約１モル以上、より好ましくは約１．
２モル〜約２モル程度の範囲を例示できる。

【００３１】また、この反応に用いる有機溶媒として
は、例えば、テトラヒドロフラン、エーテル、ジメトキ
シエタン、トルエンなどを示すことができる。これらの
有機溶媒の使用量は、例えば、式（３）−１の化合物１
重量部に対して約１〜約１０重量部の範囲を例示でき
る。反応終了後、洗浄、抽出、乾燥、蒸留、カラムクロ
マトグラフィーなどの通常の分離手段を適宜に採用して
高収率、高純度に式（２）−１の化合物が得られる。

【００３２】（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−シクロ
ペンタデセン−１−オン［式（１）−１の化合物］の合
成（第２行程） 式（２）−１の化合物をオレフィンメタセシス反応によ
る第２行程により式（１）−１の化合物を容易に製造で
きる。

【００３３】この反応の反応温度および反応時間は、例
えば、約−１０℃〜約１００℃程度、より好ましくは約
４０℃〜約５０℃の温度範囲で、約１時間〜約３時間程
度を採用することができる。この反応で使用できる触媒
としては、例えば、下記式（ａ）及び（ｂ）

【００３４】

【化２７】

【化２８】 ［式中、Ｃｙはシクロヘキシルを、Ｐｈはフェニルを意
味する］で表される化合物を挙げることができ、その使
用量は式（２）−１の化合物１モルに対して、約０．０
１モル〜約０．１０モル程度を採用することができる。
また、この反応に用いる有機溶媒としては、例えば、テ
トラヒドロフラン、エーテル、ジメトキシエタン、トル
エン、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などを
示すことができる。これらの有機溶媒の使用量は、例え
ば、式（２）−１の化合物１重量部に対して約１０〜約
１０００重量部の範囲を例示できる。反応終了後、洗
浄、抽出、乾燥、蒸留、カラムクロマトグラフィーなど
の通常の分離手段を適宜に採用して高収率、高純度に式
（１）−１の化合物が得られる。

【００３５】このようにして得られる式（１）−１で表
される（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−シクロペンタ
デセン−１−オンは、それ自体香料組成物として有用で
あるが、該化合物のオレフィンを水素化することにより
（Ｒ）−（−）−ムスコンを容易に製造できる。この反
応の反応温度および反応時間は、例えば、約１０℃〜約
１００℃程度、より好ましくは約３０℃〜約５０℃の温
度範囲で、約１時間〜約３時間程度を採用することがで
きる。この反応で使用できる触媒としては、例えば、Ｐ
ｄ−Ｃ、Ｐｄ−Ａｌｕｍｉｎａ、Ｒｕ−Ｃ、Ｒｕ−Ａｌ
ｕｍｉｎａ、Ｐｔ−Ｃを挙げることができ、その使用量
は式（１）−１の化合物１モルに対して、約０．０２モ
ル〜約０．１モル程度を採用することができる。また、
この反応に用いる有機溶媒としては、例えば、テトラヒ
ドロフラン、エーテル、ジメトキシエタン、トルエン、
エタノール、ヘキサンなどを示すことができる。これら
の有機溶媒の使用量は、例えば、式（１）−１の化合物
１重量部に対して約１〜約１０重量部の範囲を例示でき
る。反応終了後、洗浄、抽出、乾燥、蒸留、カラムクロ
マトグラフィーなどの通常の分離手段を適宜に採用して
高収率、高純度に（Ｒ）−（−）−ムスコンが得られ
る。

【００３６】次に、式（１）−２の化合物の合成法につ
いて、（Ｂ）製法に従って説明する。（Ｂ）製法 本発明のもう一方の目的化合物である式（１）−２で表
される（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−シクロペンタ
デセン−１−オンは、鏡像関係にある式（１）−１で表
される（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−シクロペンタ
デセン−１−オンの合成法に準じて製造することができ
る。

【００３７】即ち、前記反応行程図の（Ｂ）製法におい
て、式（２）−２で表される（Ｓ）−（−）−４−メチ
ル−１，１６−ヘプタデカジエン−６−オンを合成する
第３行程は、前記（Ａ）製法の式（３）−１の化合物を
式（３）−２の化合物に変える以外は（Ａ）製法と同様
に合成することができる。以下同様にして、式（１）−
２の化合物を合成する第４行程は、該行程に対応する第
２行程の製造方法と同じ操作を行うことにより、目的と
する式（１）−２で表される（Ｓ）−（＋）−３−メチ
ル−５−シクロペンタデセン−１−オンを高収率、高純
度で合成することができる。

【００３８】このようにして得られる式（１）−２で表
される（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−シクロペンタ
デセン−１−オンは、それ自体香料組成物として有用で
あるが、該化合物のオレフィンを水素化することにより
（Ｓ）−（＋）−ムスコンを容易に製造できる。この反
応の反応条件は、前記した式（１）−１で表される
（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−シクロペンタデセン
−１−オンから（Ｒ）−（−）−ムスコンを製造する方
法に準じて製造することができる。

【００３９】

【実施例】以下に本発明について実施例、参考例を挙げ
て更に詳細に説明する。

【００４０】参考例１：（Ｒ）−３−メチル−γ−ブチ
ロラクトン［式（７）−１の化合物］の合成 ３００ｍｌ４径フラスコ中に（Ｒ）−３−カルボキシブ
チリックアシッド ｔ−ブチルエステル［式（９）−１
の化合物］２５ｇ（０．１３３モル）、テトラヒドロフ
ラン５０ｍｌを仕込み、−１０〜−２０℃に冷却する。
そこへ、１Ｍボランテトラヒドロフラン溶液１３５ｍｌ
（０．１３５モル）を同温下に１．５時間で滴下した。
滴下終了後、徐々に温度を上げ室温下に一夜攪拌した。
ＧＬＣで未反応の消失を確認後、水１０ｍｌと酢酸１０
ｍｌの混合液を滴下し、テトラヒドロフランをエバポレ
ーターで濃縮する。酢酸エチルで抽出し、ソーダ灰洗
浄、硫酸マグネシウム乾燥後、濃縮し、式（８）−１で
表される化合物の粗製２１．０５ｇを得、パラトルエン
スルホン酸０．４ｇとトルエン２００ｍｌを加え、加熱
しながらラクトン化を行った。反応終了後、これに水を
加え、有機層をソーダ灰水洗、ブライン洗浄後、溶剤回
収、減圧蒸留し、式（７）−１の化合物８．６ｇを得た
（収率；６５％，ｂｐ：９２℃／２．４ＫＰａ）。

【００４１】参考例２：（Ｒ）−２−メチル−４−ペン
テン−１−オール［式（５）−１の化合物］の合成 １００ｍｌ３径フラスコ中に（Ｒ）−３−メチル−γ−
ブチロラクトン［式（７）−１の化合物］３．０ｇ（３
０ミリモル）、乾燥ジクロルエタン２０ｍｌを仕込み、
−６５〜−６０℃下に１Ｍジイソブチルアルミニウムハ
イドライドトルエン溶液３６ｍｌ（３６ミリモル）を３
０分で加え、同温下に１．５時間反応させた後、塩化ア
ンモニウム水溶液５ｍｌを加え、昇温し、エーテルで希
釈し、室温下に３０分攪拌した。常温下に溶剤回収し式
（６）−１で表される化合物の粗製を得た。次いで、２
００ｍｌ反応フラスコにアルゴン下、６０％水素化ナト
リウム２．２ｇ（０．０９モル）、ジメチルスルホキシ
ド５０ｍｌを仕込み、室温下に１時間反応を行った。メ
チルトリフェニルホスホニウムブロマイド３５．７ｇ
（０．１モル）、ジメチルスルホキシド２０ｍｌを加え
攪拌し、式（６）−１の粗製、ジメチルスルホキシド３
０ｍｌを加え、室温下に一夜放置した。水を加え攪拌
し、エーテル抽出、溶剤回収後、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにより精製し、式（５）−１の（Ｒ）−
２−メチル−４−ペンテン−１−オール１．３ｇを得た
（収率４４．４％）。

【００４２】参考例３：（Ｒ）−２−メチル−４−ペン
テン−１−イル ｐ−トルエンスルホネート［式（４）
−１の化合物］の合成 １００ｍｌ反応フラスコ中に（Ｒ）−２−メチル−４−
ペンテン−１−オール［式（５）−１の化合物］１．３
ｇ（１３．２ミリモル）、乾燥ピリジン４０ｍｌを仕込
み、氷冷下０℃でパラトルエンスルホニウムクロリド
３．３ｇ（１７．６ミリモル）を加え、冷蔵庫に一夜放
置する。反応終了後、水を加え、エーテル抽出、ブライ
ン洗浄、硫酸銅水洗浄、ブライン洗浄、ソーダ灰水洗
浄、ブライン洗浄後、溶剤回収し、式（４）−１の粗製
２．７ｇを得た（収率８１．１％）。

【００４３】実施例１：（Ｒ）−（−）−３−メチル−
５−ヘキセンニトリル［式（３）−１の化合物］の合成 １００ｍｌフラスコ中に粗製の（Ｒ）−２−メチル−４
−ペンテン−１−イルｐ−トルエンスルホネート［式
（４）−１の化合物］２．７ｇ（１０．７ミリモル）、
ジメチルスルホキシド１０ｍｌ、シアン化ナトリウム
０．８ｇ（１７．１ミリモル）を仕込み、一夜攪拌し
た。水を加え、エーテル抽出後、溶剤を常圧回収し、減
圧下に蒸留して式（３）−１の化合物１．０ｇを得た
（収率８７．６％、ｂｐ：７９〜８１℃／４．５５ｋＰ
ａ）。 ［α］２０Ｄ＝−１２．９３（ｃ＝０．７１５０、Ｍｅ
ＯＨ） １Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＴＭＳ、ＣＤＣＬ３）δ
（ｐｐｍ）５．７３（１Ｈ、ｄｄｔ、Ｊ＝１７．３Ｈ
ｚ、１０．３Ｈｚ、３．４Ｈｚ）、５．１１（１Ｈ、
ｄ、Ｊ＝１７．３Ｈｚ）、５．０８（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１
０．３Ｈｚ）、２．３６〜２．２３（２Ｈ、ｍ）、２．
１５〜２．０８（２Ｈ、ｍ）、２．０１〜１．８９（２
Ｈ、ｍ）、１．１０（３Ｈ、ｄ、Ｊ＝６．８Ｈｚ）。

【００４４】実施例２：（Ｒ）−（＋）−４−メチル−
１，１６−ヘプタデカジエン−６−オン［式（２）−１
の化合物］の合成 ３０ｍｌフラスコ中にマグネシウム０．８ｇ（３１．３
ミリモル）、乾燥エーテル２ｍｌを仕込み、ブロモ−１
０−ウンデセン６．１ｇ（２６ミリモル）を滴下した。
室温下に１時間攪拌後、同温下に（Ｒ）−（−）−３−
メチル−５−ヘキセンニトリル［式（３）−１の化合
物］１．０ｇ（９．２ミリモル）を滴下した。同温下に
２時間反応し、原料の消失を確認後、５０％塩酸水溶液
１３ｍｌを冷却下に加え、室温に戻し２時間攪拌した。
エーテル抽出、ソーダ灰水洗浄、ブライン洗浄後、溶剤
回収し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精
製し式 （２）−１の化合物を１．６ｇ得た（収率６５．４
％）。 ［α］２０Ｄ＝３．１５（ｃ＝０．７５８２、ＭｅＯ
Ｈ） １Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＴＭＳ、ＣＤＣＬ３）δ
（ｐｐｍ）５．６９（２Ｈ、ｍ）、４．９４〜４．８２
（４Ｈ、ｍ）、２．３３（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝１６．０Ｈ
ｚ、５．６Ｈｚ）、２．２７（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝７．６Ｈ
ｚ）、２．１４〜１．８６（６Ｈ、ｍ）、１．５３〜
１．２０（１４Ｈ、ｍ）、０．８３（３Ｈ、ｄ、Ｊ＝
６．４Ｈｚ）。

【００４５】実施例３：（Ｒ）−（−）−３−メチル−
５−シクロペンタデセン−１−オン［式（１）−１の化
合物］の合成 ２００ｍｌフラスコ中にルテニウム触媒０．２３ｇ
（０．２８ミリモル）を仕込み、系内をアルゴン置換す
る。（Ｒ）−（＋）−４−メチル−１，１６−ヘプタデ
カジエン−６−オン［式（２）−１の化合物］１．５ｇ
（５．６８ミリモル）、アルゴン下で蒸留した塩化メチ
レン１５００ｍｌ溶液を加え、４１℃で４時間反応を行
った。減圧下に溶媒を回収後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製し、シス異性体０．４７ｇ、ト
ランス異性体０．１５ｇを得た（収率４６．２％）。 シス異性体 ［α］２０Ｄ＝−１１．５６（ｃ＝０．７５４４、Ｍｅ
ＯＨ） １Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＴＭＳ、ＣＤＣＬ３）δ
（ｐｐｍ）５．３９〜５．２９（２Ｈ、ｍ）、２．５〜
２．２（３Ｈ、ｍ）、２．２〜１．９（６Ｈ、ｍ）、
１．６〜１．２（１４Ｈ、ｍ）、０．９３（３Ｈ、ｄ、
Ｊ＝６．１Ｈｚ） １３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐ
ｍ）１３２．７、１２９．７（オレフィン） 香気特性：強く、ピュアーなムスク様、若干暖かみがあ
り、肌くさい、ふくよかな匂い。 トランス異性体 ［α］２０Ｄ＝−４．２２（ｃ＝０．８６５４、ＭｅＯ
Ｈ） １Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＴＭＳ、ＣＤＣＬ３）δ
（ｐｐｍ）５．４７〜５．３６（２Ｈ、ｍ）、２．５〜
２．２（３Ｈ、ｍ）、２．２〜１．９（６Ｈ、ｍ）、
１．６〜１．２（１４Ｈ、ｍ）、０．９９（３Ｈ、ｄ、
Ｊ＝６．６Ｈｚ） １３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐ
ｍ）１３２．０、１２７．２（オレフィン） 香気特性：強く、ピュアーなムスク様の匂い。

【００４６】参考例４：（Ｓ）−メチル３−テトラヒド
ロピラニロキシ−２−メチルプロピオネート［式（１
７）−２の化合物］の合成 ３００ｍｌ４径フラスコ中に（Ｓ）−メチル３−ヒドロ
キシ−２−メチルプロピオネート［式（１８）−２の化
合物］２３．６ｇ（０．２０モル）、エーテル１００ｍ
ｌ、ジヒドロピラン２０．２ｇ（０．２４モル）および
パラトルエンスルホン酸０．５ｇ（２ミリモル）を仕込
み、室温下に１６時間攪拌する。反応液を重ソー水中に
注ぎ分液する。有機層をブラインで洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。溶媒回収後、減圧下に蒸留し、
式（１７）−２の化合物を３４．５ｇ得た（収率８５．
４％、ｂｐ：８３〜８８℃／０．３９ｋＰａ） 参考例５：（Ｒ）−３−テトラヒドロピラノロキシ−２
−メチルプロパノール［式（１６）−２の化合物］の合
成 １Ｌ４径フラスコ中にリチウムアルミニウムハイドライ
ド６．４ｇ（０．１７モル）および乾燥エーテル４００
ｍｌを仕込み、氷水冷却下、５〜１０℃／１時間で
（Ｓ）−メチル３−テトラヒドロピラニロキシ−２−メ
チルプロピオネート［式（１７）−２の化合物］３４．
０ｇ（０．１７モル）の乾燥エーテル１５０ｍｌ溶液を
滴下する。滴下後、室温下に４時間攪拌し、ＧＬＣで未
反応の消失を確認後、再び冷却し、硫酸ナトリウム水を
少しずつ滴下してクエンチする。固形物をろ別し、溶剤
回収後、減圧下に蒸留し、式（１６）−２を２３．６ｇ
得た（収率８０．６％、ｂｐ：９７〜９９℃／０．４６
ｋＰａ）。

【００４７】参考例６：（Ｓ）−３−ベンジロキシ−２
−メチルプロパノール［式（１４）−２の化合物］の合
成 ５００ｍｌ４径フラスコ中に６０％水素化ナトリウム
３．９ｇ（９８モル）、テトラヒドロフラン２００ｍ
ｌ、ジメチルホルムアミド９０ｍｌを仕込み加熱する。
６０〜７０℃で（Ｒ）−３−テトラヒドロピラニロキシ
−２−メチルプロパナール［式（１６）−２の化合物］
１３．０ｇ（７５ミリモル）のテトラヒドロフラン溶液
３０ｍｌを滴下し、滴下後同温下に1時間撹拌する。次
に同温下にベンジルブロミド１４．１ｇ（８２ミリモ
ル）のテトラヒドロフラン溶液３０ｍｌを滴下し、さら
に1時間撹拌する。反応液を冷却後、メタノール９．５
ｍｌを加えてクエンチし、反応液を減圧下に濃縮する。
残さをエーテルで希釈し、水、ブラインで洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。エーテルをエバポレータ
ーで濃縮し、式（１５）−２で表される化合物の粗製２
２．０ｇを得る。この粗製に、メタノール２００ｍｌを
加えて希釈し、さらにパラトルエンスルホン酸１．０ｇ
を加えて室温下に１６時間撹拌する。反応液に重ソー粉
末２ｇ加え、溶媒回収後水を加え、エーテル抽出した。
ブライン洗浄後、減圧蒸留し、式（１４）−２の化合物
を１２．５ｇ得た（収率９７．８％、ｂｐ：１１５〜１
２０℃／０．６５ｋＰａ）。

【００４８】参考例７：（Ｒ）−３−ベンジロキシ−２
−メチルプロピル ｐ−トルエンスルホネート［式（１
３）−２の化合物］の合成 ２００ｍｌ４径フラスコ中に（Ｓ）−３−ベンジロキシ
−２−メチルプロパノール［式（１４）−２の化合物］
９．０ｇ（５０ミリモル）、乾燥ピリジン６０ｍｌを仕
込み氷水冷する。パラトルエンスルホニルクロリド１
２．４ｇ（６５ミリモル）を少しづつ加えて、さらに０
℃で３時間撹拌する。反応液を冷蔵庫中で一夜放置し、
翌日、氷水中に注ぎエーテル抽出する。有機層を水洗、
硫酸銅水洗、水洗、重ソー水洗、ブライン洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。エーテルをエバポレータ
ーで濃縮し、得られた粗製１５．０ｇをシリカゲルカラ
ムクロマトにて精製し（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝
９：１）、式（１３）−２の化合物を１４．３ｇ得た
（収率８５．５％）。

【００４９】参考例８：（Ｓ）−４−ベンジロキシ−３
−メチルブタノニトリル［式（１２）−２の化合物］の
合成 １００ｍｌ反応フラスコ中に（Ｒ）−３−ベンジロキシ
−２−メチルプロピルｐ−トルエンスルホネート［式
（１３）−２の化合物］７．０ｇ（２１．０ミリモ
ル）、ジメチルスルホキシド２０ｍｌ、シアン化ナトリ
ウム１．８ｇ（３６．７ミリモル）を加え、室温下に一
夜放置した。水を加え、エーテル抽出、ブライン洗浄、
溶剤回収後、減圧下に蒸留し、式（１２）−２の化合物
を３．８ｇ得た（収率９５．０％、ｂｐ：１３０〜１３
２℃／０．３９ｋＰａ）。

【００５０】参考例９：（Ｓ）−４−ベンジロキシ−３
−メチルブタナール［式（１１）−２の化合物］の合成 １００ｍｌ反応フラスコ中に（Ｓ）−４−ベンジロキシ
−３−メチルブタノニトリル［式（１２）−２の化合
物］４．６ｇ（２４．４ミリモル）、乾燥 ジクロルエ
タン４６ｍｌを仕込み、アルゴン下に冷却した。−７８
℃で１．０Ｍのジイソブチルアルミニウムハイドライド
トルエン溶液２７ｍｌ（２７ミリモル）を３０分で加え
室温まで昇温した。反応後、５％硫酸を加え３０分攪拌
後、エーテル抽出、ソーダ灰洗浄、ブライン洗浄、溶剤
回収後、減圧下に蒸留し、式（１１）−２の化合物を
３．８ｇ得た（収率８１．４％、ｂｐ：１１５〜１２０
℃／０．６５ｋＰａ）。

【００５１】参考例１０：（Ｓ）−５−ベンジロキシ−
４−メチル−１−ペンテン［式（１０）−２の化合物］
の合成 １００ｍｌ反応フラスコ中、アルゴン下に、メチルトリ
フェニルホスホニウムブロマイド１４．３ｇ（４０ミリ
モル）、乾燥テトラヒドロフラン５０ｍｌを仕込み、ｎ
−ＢｕＬｉ／ヘキサン２２．５ｍｌ（３５．９ミリモ
ル）を−２０〜−３０℃にて３０分で加え、同温下に３
０分攪拌した。（Ｓ）−４−ベンジロキシ−３−メチル
ブタナール［式（１１）−２の化合物］４．６ｇ（２
４．０ミリモル）、乾燥テトラヒドロフラン２０ｍｌを
加え、同温下に１時間攪拌した。水を加え、エーテル抽
出、溶剤回収後、減圧下に蒸留し、式（１０）−２の化
合物を４．３ｇ得た（収率９３．８％、ｂｐ：８５〜８
７℃／０．３９ｋＰａ）。

【００５２】参考例１１：（Ｓ）−２−メチル−４−ペ
ンテノール［式（５）−２の化合物］の合成 １Ｌ４径フラスコ中に液体アンモニア２５０ｍｌを仕込
み、（Ｓ）−５−ベンジロキシ−４−メチル−１−ペン
テン［式（１０）−２の化合物］４．３ｇ（２２．５ミ
リモル）の乾燥テトラヒドロフラン溶液４０ｍｌを加え
る。−５０〜−４０℃で金属ナトリウム１．９ｇ（８
２．５ミリモル）を少しづつ加え、さらに−５０℃で１
時間撹拌する。反応液に粉末塩化アンモニウム９．２ｇ
を加えてクエンチし、昇温してアンモニアを飛ばす。残
さに塩化アンモニウム水溶液を加え、エーテル抽出、ブ
ライン洗浄、溶剤回収後、減圧下に蒸留し、式（５）−
２の化合物を２．０ｇ得た（収率８８．１％、ｂｐ：７
２〜７５℃／４．５５ｋＰａ）。

【００５３】参考例１２：（Ｓ）−２−メチル−４−ペ
ンテン−１−イル ｐ−トルエンスルホネート［式
（４）−２の化合物］の合成 １００ｍｌ反応フラスコ中に（Ｓ）−２−メチル−４−
ペンテノール［式（５）−２の化合物］１．９ｇ（１９
ミリモル）、乾燥ピリジン２０ｍｌを仕込み氷水冷す
る。パラトルエンスルホニウムクロリド５．４ｇ（２８
ミリモル）を少しづつ加えて、さらに０℃で３時間撹拌
する。反応液を冷蔵庫中で一夜放置する。反応終了後、
水を加え、エーテル抽出、ブライン洗浄、硫酸銅水洗
浄、ブライン洗浄、ソーダ灰水洗浄、ブライン洗浄後、
溶剤回収し式（４）−２の化合物の粗製を４．８ｇ得た
（収率１００．３％）。

【００５４】実施例４：（Ｓ）−（＋）−３−メチル−
５−ヘキセンニトリル［式（３）−２の化合物］の合成 １００ｍｌフラスコに粗製の（Ｓ）−２−メチル−４−
ペンテン−１−イル ｐ−トルエンスルホネート［式
（４）−２の化合物］４．８ｇ（１９．０ミリモル）、
ジメチルスルホキシド２０ｍｌ、シアン化ナトリウム
１．８ｇ（３６．７ミリモル）を仕込み一夜攪拌した。
水を加え、エーテル抽出後、溶媒を常圧回収後、減圧下
に蒸留し、式（３）−２の化合物を１．８ｇ得た（収率
８７．６％、ｂｐ：７９〜８１℃／４．５５ｋｐＰ
ａ）。 ［α］２０Ｄ＝１３．２４（ｃ＝０．８９１０、ＭｅＯ
Ｈ） １Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＴＭＳ、ＣＤＣｌ３）δ
（ｐｐｍ）５．７３（１Ｈ、ｄｄｔ、Ｊ＝１７．３Ｈ
ｚ、１０．３Ｈｚ、３．４Ｈｚ）、５．１１（１Ｈ、
ｄ、Ｊ＝１７．３Ｈｚ）、５．０８（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１
０．３Ｈｚ）、２．３６〜２．２３（２Ｈ、ｍ）、２．
１５〜２．０８（２Ｈ、ｍ）、２．０１〜１．８９（２
Ｈ、ｍ）、１．１０（３Ｈ、ｄ、Ｊ＝６．８Ｈｚ）。

【００５５】実施例５：（Ｓ）−（−）−４−メチル−
１，１６−ヘプタデカジエン−６−オン［式（２）−２
の化合物］の合成 ３０ｍｌフラスコにマグネシウム１．０ｇ（３９．１ミ
リモル）、乾燥エーテル２ｍｌを仕込み、ブロモ−１０
−ウンデセン７．６ｇ（３２．４ミリモル）を滴下し
た。室温下に１時間攪拌後、同温下に（Ｓ）−（＋）−
３−メチル−５−ヘキセンニトリル［式（３）−２の化
合物］１．８ｇ（１６．２ミリモル）を滴下した。同温
下に２時間反応し原料の消失を確認後、５０％塩酸２０
ｇを冷却下に加え、室温に戻し２時間攪拌した。エーテ
ル抽出、ソーダ灰水洗浄、ブライン洗浄後、溶剤回収
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
し、式（２）−１の化合物を３．１ｇ得た（収率７２．
８％）。 ［α］２０Ｄ＝−２．３６（ｃ＝１．０９９２、ＭｅＯ
Ｈ） １Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＴＭＳ、ＣＤＣｌ３）δ
（ｐｐｍ）５．６９（２Ｈ、ｍ）、４．９４〜４．８２
（４Ｈ、ｍ）、２．３３（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝１６．０Ｈ
ｚ、５．６Ｈｚ）、２．２７（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝７．６Ｈ
ｚ）、２．１４〜１．８６（６Ｈ、ｍ）、１．５３〜
１．２０（１４Ｈ、ｍ）、０．８３（３Ｈ、ｄ、Ｊ＝
６．４Ｈｚ）。

【００５６】実施例６：（Ｓ）−（＋）−３−メチル−
５−シクロペンタデセン−１−オン［式（１）−２の化
合物］の合成 ３０００ｍｌフラスコ中にＲｕ−ｃａｔ．０．４７ｇ
（０．５７ミリモル）を仕込み、系内をアルゴン置換す
る。（Ｓ）−（−）−４−メチル−１，１６−ヘプタデ
カジエン−６−オン［式（２）−２の化合物］２．９５
ｇ（１１．２ミリモル）、塩化メチレン溶液３０００ｍ
ｌを加え、４１℃で４時間反応を行った。減圧下に溶媒
を回収後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
精製し、式（１）−２の化合物を１．３６ｇ得た（収率
５１．５％）。このものを更に中圧カラムによりシス異
性体０．７８ｇ、トランス異性体０．２９ｇに分離し
た。 シス異性体 ［α］２０Ｄ＝１０．１７（ｃ＝０．９６３４、ＭｅＯ
Ｈ） １Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＴＭＳ、ＣＤＣｌ３）δ
（ｐｐｍ）５．３９〜５．２９（２Ｈ、ｍ）、２．５〜
２．２（３Ｈ、ｍ）、２．２〜１．９（６Ｈ、ｍ）、
１．６〜１．２（１４Ｈ、ｍ）、０．９３（３Ｈ、ｄ、
Ｊ＝６．１Ｈｚ） １３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐ
ｍ）１３２．７、１２９．７（オレフィン） 香気特性：弱い、ムスク様、ややウッディー感ある匂
い。 トランス異性体 ［α］２０Ｄ＝４．５１（ｃ＝０．９７４４、ＭｅＯ
Ｈ） １Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＴＭＳ、ＣＤＣｌ３）δ
（ｐｐｍ）５．４７〜５．３６（２Ｈ、ｍ）、２．５〜
２．２（３Ｈ、ｍ）、２．２〜１．９（６Ｈ、ｍ）、
１．６〜１．２（１４Ｈ、ｍ）、０．９３（３Ｈ、ｄ、
Ｊ＝６．６Ｈｚ） １３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐ
ｍ）１３２．０、１２７．２（オレフィン） 香気特性：弱い、ムスク様、ややウッディー感ある匂
い。

【００５７】実施例７：香料組成物の製造 実施例３および実施例６で調製した（Ｒ）−（−）−３
−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オンまたは
（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−シクロペンタデセン
−１−オンを用い、下記処方のムスクタイプの石鹸用香
料組成物を調製し、１０名の専門パネラーによる評価を
行った。その結果、本発明の（Ｒ）−（−）−３−メチ
ル−５−シクロペンタデセン−１−オンまたは（Ｓ）−
（＋）−３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オ
ンを含有した香料組成物において嗜好性の高いパウダリ
ームスク様香気が付与されることが確認された。

【００５８】

【発明の効果】本発明は、光学活性ムスコン（３−メチ
ルシクロペンタデカノン）の合成中間体として重要な、
光学活性３−メチル−５−シクロペンタデセン−１−オ
ン、該化合物を高収率、高純度に製造できるため極めて
有用である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｃ０７Ｍ 7:00 Ｃ０７Ｍ 7:00 Ｆターム(参考） 4H006 AA01 AA02 AB14 AC44 AC81 4H059 BA23 BB13 BB19 BB46 DA09

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記式（１）−１ 【化１】 で表される（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−シクロペ
   ンタデセン−１−オン。
2. 【請求項２】 下記式（１）−１ 【化２】 で表される（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−シクロペ
   ンタデセン−１−オンおよび／または下記式（１）−２ 【化３】 で表される（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−シクロペ
   ンタデセン−１−オンを有効成分として含有することを
   特徴とする香料組成物。
3. 【請求項３】 下記式（３）−１ 【化４】 で表される（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−ヘキセン
   ニトリルを、有機溶媒中、１０−ウンデセニル−１−マ
   グネシウムハライド（Ｃ１１Ｈ２１ＭｇＸ）とカップリ
   ング反応せしめて下記式（２）−１ 【化５】 で表される（Ｒ）−（＋）−４−メチル−１，１６−ヘ
   プタデカジエン−６−オンを形成させ、これを閉環して
   下記式（１）−１ 【化６】 で表される（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−シクロペ
   ンタデセン−１−オンの製法。
4. 【請求項４】 下記式（３）−２ 【化７】 で表される（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−ヘキセン
   ニトリルを、有機溶媒中、１０−ウンデセニル−１−マ
   グネシウムハライド（Ｃ１１Ｈ２１ＭｇＸ）とカップリ
   ング反応せしめて下記式（２）−２ 【化８】 で表される（Ｓ）−（−）−４−メチル−１，１６−ヘ
   プタデカジエン−６−オンを形成させ、これを閉環して
   下記式（１）−２ 【化９】 で表される（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−シクロペ
   ンタデセン−１−オンの製法。
5. 【請求項５】 下記式（２）−１ 【化１０】 で表される（Ｒ）−（＋）−４−メチル−１，１６−ヘ
   プタデカジエン−６−オン。
6. 【請求項６】 下記式（２）−２ 【化１１】 で表される（Ｓ）−（−）−４−メチル−１，１６−ヘ
   プタデカジエン−６−オン。
7. 【請求項７】 下記式（３）−１ 【化１２】 で表される（Ｒ）−（−）−３−メチル−５−ヘキセン
   ニトリル。
8. 【請求項８】 下記式（３）−２ 【化１３】 で表される（Ｓ）−（＋）−３−メチル−５−ヘキセン
   ニトリル。