JP2002008533A5 - - Google Patents

Description

表１に示すＮｏ．１〜８は、上述した実施の形態１の製法に基づく実施例に係るＰＤＰの製造方法であって、表中に示す図９〜１２の各温度プロファイルに基づいてフリット仮焼・蛍光体焼成・封着・排気を施したものである。

Claims (32)

1. 対向配置された前面基板及び背面基板を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
   前記前面基板及び背面基板における対向予定面の少なくとも一方に、蛍光体及び有機バインダを含有する生蛍光体層を形成する生蛍光体層形成ステップと、
   前記前面基板及び背面基板における対向予定面のいずれか一方の外周部に、熱で軟化する封着剤を配する封着剤配設ステップと、
   前記前面基板及び背面基板を対向配置する対向配置ステップと、
   前記両基板の間に形成される内部空間に、酸素を含む乾燥ガスを流しながら、前記対向配置ステップで対向配置された前面基板及び背面基板を加熱することによって、前記有機バインダをバーンアウトさせる焼成ステップと、
   前面基板及び背面基板を前記封着剤の軟化温度以上に保つことによって封着する封着ステップとを備え、
   前記有機バインダのバーンアウトおよび前面基板及び背面基板の封着を一回の昇降温動作の中で行うことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
2. 前記封着材配設ステップで配する封着材は、前記焼成ステップにおける最高加熱温度以下で軟化するガラスフリットであることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
3. 前記ガラスフリットは、軟化点が４００℃以上であることを特徴とする請求項２記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
4. 前記封着材配設ステップの後で対向配置ステップの前に、配されたガラスフリットを所定の温度まで加熱することによって仮焼する仮焼ステップを備えることを特徴とする請求項２記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
5. 前記封着材配設ステップで配する封着材は、結晶化ガラスからなるガラスフリットであることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
6. 前記焼成ステップでは、前記ガラスフリットが結晶化する所定の温度まで昇温して一定時間待機し、
   その後、更に昇温して前記有機材料をバーンアウトさせることを特徴とする請求項５記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
7. 前面基板及び背面基板の少なくとも一方は、２ｍｍ以下の厚さであることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
8. 前記内部空間に流す乾燥ガス流量は、当該内部空間の体積１ｃｍ³当たり１ＣＣＭ以上であることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
9. 前記内部空間に流す乾燥ガスに含まれる酸素の流量は、当該内部空間の体積１ｃｍ³当たり０．５ＣＣＭ以上であることを特徴とする請求項８記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
10. 前記焼成ステップでは、前記対向配置ステップで対向配置された前面基板及び背面基板を、複数個の圧着部材で圧着固定した状態で加熱することを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
11. 前記焼成ステップで前記圧着部材が圧着する箇所は、前面基板及び背面基板の周辺部であることを特徴とする請求項１０記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
12. 前記焼成ステップで前記圧着部材が圧着する箇所は、前記封着材配設ステップで封着材が配される箇所よりも基板中央寄りであることを特徴とする請求項１１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
13. 更に、前記内部空間から排気する排気ステップを備え、前記焼成ステップの後、室温まで冷却されることなく前記排気ステップを開始することを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
14. 前記排気ステップは、前記焼成ステップの後、室温まで降温する途中で行われることを特徴とする請求項１３記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
15. 前記排気ステップでは、一定の温度を維持しながら排気することを特徴とする請求項１４記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
16. 対向配置された前面基板及び背面基板を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
    前面基板及び背面基板における対向予定面の少なくとも一方に、蛍光体及び有機バインダを含有する生蛍光体層を形成する生蛍光体層形成ステップと、
    前面基板及び背面基板における対向予定面のいずれか一方の外周部に、熱で軟化する封着剤を配する封着剤配設ステップと、
    前面基板と背面基板とが、同一炉内に配置され、互いに離間した状態で乾燥ガスが存在する雰囲気中で加熱することによって前記有機バインダをバーンアウトさせる焼成ステップと、
    前記焼成ステップで加熱された状態を維持しつつ前面基板及び背面基板を対向配置し、前記封着剤の軟化温度以上に保つことによって封着する封着ステップとを備え、
    前記有機バインダのバーンアウト及び前面基板及び背面基板の封着を一回の昇降温動作の中で行うことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
17. 前記封着ステップでは、前記前面基板及び背面基板を前記封着材を対向配置させた後、
    前記両基板の間に形成される内部空間に、酸素を含む乾燥ガスを流通させることを特徴とする請求項１６記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
18. 前記封着材は、ガラスフリットであることを特徴とする請求項１６記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
19. 前記ガラスフリットは、軟化点が４００℃以上であることを特徴とする請求項１８記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
20. 前記封着ステップでは、前面基板及び背面基板を、４００℃以上５２０℃以下の温度まで加熱することを特徴とする請求項１９記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
21. 前記焼成ステップでは、前面基板と背面基板とを、乾燥ガスが流通する雰囲気中で加熱することを特徴とする請求項１６記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
22. 前記焼成ステップで用いる乾燥ガスは、酸素を含むものであることを特徴とする請求項１６記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
23. 前記焼成ステップで前面基板及び背面基板を加熱する際に、加熱に伴って前面基板及び背面基板から放出されるガスを強制的に除去することを特徴とする請求項１６記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
24. 前記生蛍光体層形成ステップ及び封着材配設ステップより後で焼成ステップより前に、
    前面基板と背面基板とを位置合わせしながら対向配置する対向配置ステップと、
    その後、前面基板と背面基板とを所定の経路に沿って相対移動させることによって離間させる離間ステップとを備え、
    前記封着ステップでは、
    前面基板と背面基板とを、前記所定の経路に沿って、前記離間ステップで移動した方向と逆方向に相対移動させることによって対向配置することを特徴とする請求項１６記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
25. 前記離間ステップ及び封着ステップでは、前面板および背面板を互いに平行移動させることを特徴とする請求項２４記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
26. 前記焼成ステップの前に、前面基板及び背面基板に、位置合わせ用マーカーを設け、
    前記封着ステップでは、
    前記位置合わせ用マーカーを用いて前記前面板と背面板とを位置合せしながら対向配置することを特徴とする請求項１６記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
27. 前記封着ステップを経た後、室温まで冷却されることなく前記内部空間から排気する排気ステップを備えることを特徴とする請求項１６記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
28. 前記排気ステップは、前記焼成ステップの後、室温まで降温する途中で行われることを特徴とする請求項２７記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
29. 前記排気ステップでは、一定の温度を維持しながら排気することを特徴とする請求項２８記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
30. 青色蛍光体層を形成する蛍光体としてＢａＭｇＡｌ₁₀Ｏ₁₇：Ｅｕを用いることを特徴とする請求項１または１６記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
31. 請求項１６記載の製造方法における焼成ステップ及び封着ステップで用いるプラズマディスプレイパネル用製造装置であって、
    前面基板及び背面基板を、対向配置した状態で収納し加熱する加熱炉と、
    前面基板及び背面基板間に形成される内部空間に乾燥ガスを導入する乾燥ガス供給機構とを備えることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用製造装置。
32. 前記前面基板及び背面基板間に形成される内部空間からガスを排出する排気機構を備えることを特徴とする請求項３１記載のプラズマディスプレイパネル用製造装置。