JP2001520953A - 平版印刷版の製造 - Google Patents
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Abstract
Description
した平版印刷版前駆体自体、及びその使用に関する。
づき、従来の方法では、インクが画像もしくはパターン部に優先的に保持され、
水もしくは湿し水が優先的に非画像もしくは非パターン部に優先的に保持される
。適切に調製された表面を水で湿らせ、その後インクを塗布した場合、画像部が
インクを受容して水を撥く一方で、背景もしくは非画像部は水を保持する。画像
部上のインクは、その後画像を再生しようとする物質、例えば、紙、布等の表面
上に転写される。一般的には、インクはブランケットと呼称される中間物質に転
写され、今度はこのブランケットがインクを、画像を再生しようとする物質の表
面上に転写する。
的にインク受容性である画像部及び撥インク性非画像部のみが使用される。
ティングした印刷版を意味する)は、アルミニウム基板に施された放射感受性コ
ーティングを有する。ネガ型平版印刷版前駆体は、適当な波長の放射を画像状に
受けると露光部が硬化する放射感受性コーティングを備えている。現像の際、コ
ーティングされた組成物の非露光部が除去されて画像を残す。その一方で、ポジ
型平版印刷版前駆体は放射感受性コーティングを備え、これは適当な波長の放射
に画像状に露光させた後、露光させた部分において非露光部よりも現像液に可溶
性となる。いずれの場合も印刷版自体の画像部のみがインク受容性である。
印刷版前駆体に接着される露光行程中に生じる。印刷版前駆体は、その後放射源
にあてられるが、従来はこれはUV光源である。ポジ型の前駆体を使用する場合
、印刷版前駆体における画像に対応するフィルム部分は不透明であって、印刷版
前駆体に光が射すことはなく、一方で非画像部に対応するフィルム状部分は透明
であって、光はコーティングに伝わり、コーティングが溶解度を増して現像の際
に除去される。
解度の抑制に依存している。従来、これは、ジアジド部分、特にナフトキノンジ
アジド(NQD)部分の使用を通じて達成され、UV光を受けて初めて現像液に
可溶性となる組成物が提供されてきた。
は限定的になってきた。さらに、デジタルもしくはレーザー画像技術が、平版印
刷用のコーティングに新たな需要を生み出している。
B1245924によって既知である。熱は、放射吸収成分、例えばカーボンブ
ラックもしくはMilori Blue(C.I. Pigment Blue 27)の補助を得て赤外線によ ってもたらされてもよい。しかしながら、非露光部の市販の現像液に対する現像
液レジスタンスは低く、NQD部分を含む市販のUV感受性組成物に比べて溶解
性の差は僅かである。
受性システムを考案した。発明者の新たなシステム及び方法は、発明者の特許出
願PCT/GB97/01117、GB9700877.5(以降PCT/GB
98/00132とする)、GB9714169.1(以降PCT/GB98/
01953、MY PI 9803095及びZA98/5913とする)、G
B9714172.5(以降PCT/GB98/01957、MY PI 98
03069及びZA98/5912とする)、及びGB9722862.1の主
題であって、これらは全て本出願の優先日には未公開であった。発明者の新たな
システムにおいては、熱感受性組成物を基板に塗布して乾燥した後にその感受性
に経時的な変化が生じ得、こうした作用が、露光前にも時が経つにつれて未露光
組成物の現像液溶解度が減少する結果であることを観察している。このように、
発明者が本明細書中で“感受性”と言及する場合、発明者は露光と現像の全行程
の状況に置いてとらえている。発明者は、露光される組成物部分が、以下に露光
に反応するかという問題に言及しているのではない。時にこの“感受性”は、当
業者間では“操作速度”と呼称される。
的で安定な原料がエンドユーザーに供給可能である。本発明はまた、フェノール
樹脂を含む他の組成物、例えば既述のGB1245924並びに以下に述べるU
S5491046、5466557,5372915,5372907及びUS
4708925のものなどに応用しても良い。
体の製造方法が提供され、該コーティングはフェノール樹脂を含むポジ型組成物
を含み、該製造方法は基板への溶媒中の組成物の塗布、該組成物の乾燥、及び、
これに続くコーティングした基板の熱処理を含む。
、パターン状露光の間に、その加熱された部分において現像液中の溶解度が増大
するようなものである。好適には、これは直接の熱によって、あるいは、いずれ
の場合もコーティングによって熱に転化される荷電粒子放射または電磁気放射に
よって、パターン状に露光可能である。後者の場合には、コーティングがこれに
対して感受性である電磁気放射は、好ましくは450nmを越える波長の(すなわ
ち完全にまたは主に450nmを越える)もの、好ましくは500nmを越える、さ
らに好ましくは600nmを越えるものである。前駆体をパターン状に露光する際
には、電磁気放射の使用が好ましい。
整手段を含む。こうした調整手段は、好ましくは、前記調整手段が前記組成物中
に存在しない場合に対して組成物の現像液溶解度を変更するように整えられる。
前記調整手段は、前記フェノール樹脂に共有結合しても、前記フェノール樹脂に
共有結合されない化合物であってもよい。
されるもの; ・ジアジド部分; ・少なくとも一の窒素原子が、四級化されているか、複素環中に導入されている
か、あるいは四級化されて複素環中に導入されている窒素含有化合物であって、
以下のあらゆる既述において“’117発明”として言及されるもの; ・さらに別の組成物に関して以下のあらゆる既述に記載される潜在的ブレンステ
ッド酸、オニウム塩もしくは酸生成化合物; から選択可能である。
通過することが好ましく、ここでは試験における“活性ポリマー”なる表示は、
前記調整手段無しに既述された前記フェノール樹脂との表示に置き換えるべきで
あり;“可逆不溶化化合物”なる表示は、前記調整手段に置き換えられるべきで
ある。
部分を含む組成物がUV光以外、例えば直接の熱、もしくは荷電粒子放射もしく
は500nmを越える電磁気放射によってパターン状に露光可能である。本発明は
、これ以降“’172発明”と表示される。こうした組成物の露光行程用には、
赤外光が好ましく、こうした組成物は適当な赤外光吸収剤を含むことが好ましい
。本発明はこうしたあらゆる組成物に有用に応用可能であるが、ジアジド部分を
含む組成物にも応用可能であり、従来のUV露光方法を意図する、もしくはこれ
に適合される。
物の熱処理が含まれる。
であり;また、後述する’117発明について記載の試験6に合格するものであ
ることが好ましい。
ものとなることが判っている。更にまた、発明者は、それぞれの前駆体の製造の
間に本発明による熱処理を施した場合、実際的な方法においてのみ露光可能な組
成物があることも見出した。
すべきであるが;有効な条件の範囲、及び本質的には経時的に一定の感受性を達
成するための、実際的ななレベルでの最適な条件は、各場合によって異なり、試
行錯誤によって容易に決定可能である。適切な熱処理により、組成物中の安定な
網目構造の形成が促進される。前記高温が低過ぎるならば、この安定な網目構造
の形成に要する時間は、実際的というには長過ぎる。さらにまた、好適とされる
最低の温度について、前記高温が、前駆体が輸送中もしくは貯蔵中に典型的にさ
らされうる温度より低くはないことが望ましく、そうでないと感受性の変化が起
こり得る。したがって、熱処理は、少なくとも40℃、好ましくは少なくとも4
5℃、最も好ましくは少なくとも50℃で行うことが好ましい。上限については
、あまりに高温であると所望の感受性のレベル及び安定性を得るために熱処理を
行うべき時間が過度に臨界的となりがちであり、また、感受性が好適に安定な場
合でさえも使用に処するには低過ぎる傾向がある。またしても、試行錯誤により
この決定を容易に行うことができるが、指標としては、90℃を越えない温度、
好ましくは85℃を超えない温度、最も好ましくは60℃を超えない温度を適用
することが好ましい。50−60℃の範囲(境界を含む)が、本発明の方法にお
いて最も好ましい。
処理のための温度が低い程、時間を長くすべきである。しかしながら、全ての場
合において、熱処理を少なくとも4時間、好ましくは少なくとも24時間、最も
好ましくは、特に低温の場合には、少なくとも48時間行うことが望ましい。
良い。熱処理段階は、乾燥段階よりも低温で、より長時間行われることが好まし
い。乾燥段階においては、目的は、組成物を“フラッシュ・ドライ”することで
ある。時間は、典型的には15−600秒、特に25−250秒であるとよく、
温度は、典型的には少なくとも70℃、好適には80−150℃、特に90−1
40℃であるとよい。乾燥段階は、コーティングが自己支持性となり、触れて乾
燥した状態となるまで実行すべきである。しかしながら、乾燥段階(もしくは後
の熱処理段階)において全ての溶媒を除去する必要はない(おそらく不可能でさ
えある)。実際、残留溶媒含量は、付加的な組成変量と見なすことができ、これ
によって該組成物が最適化可能であり、溶媒が高含量であると後のパターン状露
光及び現像段階にとって有益であることが判っており;保持溶媒の多量な組成物
であるほど、保持溶媒が少量の対応する組成物よりも高い感受性を示すことが判
っている。
後の露光行程の間の熱の送達と対照することができ、熱感受性であってこの行程
に好ましい組成物については、後の熱の送達は非常に短期間で非常に高強度のも
のである。
後に蒸発によって除去可能なあらゆる溶媒が使用可能である。
少なくすることであることは理解されよう。これは、おそらくは最も長い間隔で
ある期間、印刷版前駆体の製造から使用者による印刷版前駆体の使用までの間、
適切に検定される。この検定には、1時間が適当な時間であると思われる。厳密
には、熱処理は、前記組成物の熱処理1年後に、既定の実際の現像液、例えばメ
タケイ酸ナトリウム五水和物の14重量%水溶液中での感受性減少が、15%を
越えない;好ましくは10%を越えないようなものであることが好ましい。
可能なレベルとすること;ただし、400mJcm-2以下、好ましくは250mJcm-2 以下、最も好ましくは200mJcm-2以下とすることである。
ル自体、C-アルキル置換フェノール(クレゾール、キシレノール、p-tert-ブチ
ル-フェノール、p-フェニルフェノール及びノニルフェノールを含む)、ジフェ ノール、例えばビスフェノールA(2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロ
パン)、及び適当なアルデヒド、例えばホルムアルデヒド、クロラール、アセト
アルデヒド及びフルフルアルデヒドの間の縮合反応生成物であるので好適である
。フェノール樹脂の調製に使用される触媒のタイプ及び反応物のモル比が、その
分子構造を決定し、よって樹脂の物理特性を決定する。アルデヒド:フェノール
比は0.5:1から1:1、好ましくは0.5:1から0.8:1であり、酸触
媒が、ノボラックとして一般的に既知であり熱可塑性の特徴を有するこれらのフ
ェノール樹脂の調製に使用される。アルデヒド:フェノール比が1:1より大で
3:1までとより高く、塩基性触媒を用いると、レゾールとして既知のフェノー
ル樹脂が生成し、これらは高温で熱硬化する性能によって特徴付けられる。
(例えばビスフェノールA)及びアルデヒド(例えばホルムアルデヒド)の間の
相互作用による縮合生成物である。縮合物の調製経路によって、多岐に渡る構造
及び特性を有するフェノール物質が生成可能である。本発明において特に有用な
のは、ノボラック樹脂、レゾール樹脂及びノボラック/レゾール樹脂混合物であ
る。最も好ましいのはノボラック樹脂である。好適なノボラック樹脂の例は、下
記の一般式を有する。
フェノール樹脂類総計で少なくとも20%、より好ましくは少なくとも50%、
最も好ましくは少なくとも70%含有する。該組成物中にフェノール樹脂と混合
して含まれる別の好適なポリマーには、ポリ-4-ヒドロキシスチレン;4-ヒド ロキシスチレンのコポリマー、例えば3-メチル-4-ヒドロキシスチレンもしく は4-メトキシスチレンとのコポリマー;メタクリル酸のコポリマー、例えば、 スチレンとのコポリマー;マレイイミドのコポリマー、例えばスチレンとのコポ
リマー;ヒドロキシもしくはカルボキシ官能化セルロース;ジアルキルマレイイ
ミドエステル;マレイン酸無水物のコポリマー、例えばスチレンとのコポリマー
;及び特にマレイン酸無水物の加水分解ポリマーが含まれる。
ることが好ましい。広義には、組成物にパターン状に熱を送達するために現在使
用されるものでは、下記の三方法がある。 ・直接の熱、これは伝導によって、熱した物質から直接熱を送達することを意味
する。例えば、該組成物は熱ペンによる接触を受けても;あるいは該組成物がコ
ーティングされた基板の裏面に熱した物質を接触させてもよい。熱した物質は、
熱ペンであるとよい。 ・偶発的な電磁放射の使用により該組成物を露光させ、電磁放射を直接的にもし
くは該組成物の成分が化学反応を経ることにより熱に転換する。電磁放射は、組
成物によって、例えば赤外光または紫外光または可視光でよい。好ましくは赤外
光である。 ・荷電粒子放射、例えば電子ビーム放射の使用。明らかに、根本的なレベルでは
、荷電粒子式及び電磁式は相似であるが、実施レベルでは相違は明白である。
、電磁放射を使用する露光を意図した態様に、付加的な成分、例えば偶発的な電
磁放射を吸収して熱に転換することのできる放射吸収化合物(以降“放射吸収化
合物”)を含むことが有用である。荷電粒子放射を用いた露光を目的とする態様
において、適当な放射吸収化合物を含むこともまた望ましい。
ーを用いて直接露光可能なものであるとよい。好ましくは、こうしたレーザーは
450nm、好ましくは500nm、さらに好ましくは600nm、特に700nmを越
える光線を放出する。最も好ましくは、800nmを越える光線を放出する。好適
には、これは1400nm未満、好ましくは1200nm未満の波長の光線を放出す
る。こうした組成物において、放射を熱に転換するのに好適な放射吸収化合物は
、黒体放射吸収剤、例えばカーボンブラックまたはグラファイトであると有用で
ある。これは市販の顔料、例えばBASF社提供のHeliogen GreenもしくはNH Labor
atories Inc提供のNigrosine Base NG1もしくはAldrich提供のMilori Blue(C.I.
Pigment Blue 27)でもよい。
から1400nm、特に600nmから1100nmにて放射する半導体ダイオードレ
ーザーが含まれる。例としては、1064nmにて放出するNd YAGレーザーがある
が、十分な造影力を有し、その放射を該組成物によって吸収されるあらゆるレー
ザーが使用可能である。
て吸収の著しいものであることが好ましく、これは本発明の方法により製造され
た前駆体のパターン状露光において使用される。有機顔料もしくは染料、例えば
フタロシアニン顔料であると有用である。あるいはまた、スクエリーリウム(sq
uarylium)、メロシアニン、シアニン、インドリジン、ピリリウムもしくは金属
ジチオリン族の染料もしくは顔料であってもよい。
液溶解度が偶発的なUV光もしくは可視光によって増大されず、組成物の扱いが
容易であることが好ましい。こうした組成物は、いかなるUV光または可視光感
受性成分も含まないことが好ましい。しかしながら、他の成分、例えばUV光ま
たは可視光吸収染料もしくはUV光または可視光吸収性表層の存在のためにUV
光または可視光によって活性化されないUV光または可視光感受性成分は、こう
した組成物中に存在可能である。
広帯域吸収剤であり、好ましくは200nmを越える、好ましくは400nmを越え
る波長領域の電磁放射を効率よく吸収し、熱に転化することができる。一般的に
これらは放射によって分解されない。これらは一般的に、非加熱組成物の現像液
への溶解度には全く影響しないか、または僅かな影響しか及ぼさない。対照的に
、染料は一般的に組成物中に可溶性である。一般的にこれらは狭帯域吸収剤であ
り、典型的には100nmを越えない波長領域の電磁放射でないと効率よく吸収し
て熱に転化することができないため、造影に用いようとする放射の波長を考慮し
て選択せねばならない。多くの染料が非加熱組成物の現像液への溶解度に著しい
効果を有し、典型的には溶解度を格段に低下させ、こうした染料を使用すること
は本発明の範疇ではない。
とも0.25%、好ましくは少なくとも0−5%、さらに好ましくは少なくとも
1%、最も好ましくは少なくとも2%、好ましくは25%まで、更に好ましくは
20%まで、最も好ましくは15%までを構成する。放射吸収化合物の好ましい
重量範囲は、組成物全重量に対して2−15%と表示可能である。特に、染料の
場合には、この範囲は組成物全重量に対して0.25−15%、好ましくは0.
5−8%であるとよく、一方で顔料の場合には、この範囲は組成物全重量に対し
て1−25%、好ましくは2−15%であるとよい。顔料については、5−15
%が特に好適である。各場合において、記載の数字は組成物全重量に対するパー
センテージを表す。一以上の放射吸収化合物があってもよい。ここにこうした化
合物の割合を表示したのは、これらの総含量を表示したものである。
、別の成分、例えば安定化添加剤、不活性着色剤、及び付加的な不活性ポリマー
結合剤を含有可能である。
可能である。この多層構造によって画像形成層の機能に影響を与えずにより多量
の吸収剤が使用可能であるため、高感受性とする方法を供することができる。原
則としては、所望の吸収帯で十分に強く吸収するあらゆる放射吸収物質が、均一
なコーティング中に導入もしくは組合わせ可能である。染料、金属及び顔料(金
属酸化物を含む)が蒸着層の形態で使用可能である。こうしたフィルムの形成及
び使用のための技術は、例えばEP0652483に記載の通り、当業者にはよ
く知られている。
。前記基板は、非インク受容性としてもよい。前記基板は、湿し水を用いる従来
の平版印刷に使用される親水性表面を備えていても、無水印刷における使用に好
適な剥離表面(release surface)を備えていても良い。
ク、紙などの層が含まれる。好ましいプラスチックにはポリエステル、特にポリ
エチレンテレフタラートが含まれる。
えば、これはシリンダーもしくは好ましくは平板を含んでも良い。
、支持板の表面を印刷背景として作用させることができる、通常の陽極処理、砂
目立て及び前陽極処理(post-anodic treatment)を経たアルミニウム板である と良い。平版として本発明において使用可能な別の基板は、写真工業において使
用されるプラスチック物質基材もしくは加工紙基材である。特に有用なプラスチ
ック物質基材は、その表面親水性を付与するため代用されるポリエチレンテレフ
タラートである。また、いわゆるコロナ放電処理を施した塗被紙も使用可能であ
る。
行程において有用な程度に選択された現像液に可溶であることを意味する。組成
物が現像液不溶性であると述べた場合、これは平版印刷版現像行程において有用
な程度に選択された現像液に不溶であることを意味する。
によって製造される前駆体のパターン状露光及び現像の後に得られる。パターン
状露光の間に熱にさらされた後、該組成物の現像液可溶性は、対応する非露光組
成物の溶解度を上回る。好ましい実施態様では、ここに記載したとおり、この溶
解度の差は、付加的な成分によって、及び/または樹脂調整によって増大する。
好ましくは、こうした手段がパターン状露光に先立って樹脂の溶解度を減少させ
る。続くパターン状露光を受け、該組成物の露光部は、現像液に対して非露光部
よりも溶解度が高まる。したがって、パターン状露光を受け、非露光組成物及び
露光組成物との溶解度の差に変化が生じる。こうして露光部では該組成物が溶解
してパターンを形成する。
には記録材料に接触させた元画像の背景部から透過もしくは反射された高強度の
放射に短期間あてることにより、間接的にパターン状に加熱可能である。
水性現像液の共通成分は、界面活性剤、キレート剤、例えばエチレンジアミン四
酢酸の塩、有機溶媒、例えばベンジルアルコール、及びアルカリ性成分、例えば
無機メタケイ酸塩、有機メタケイ酸塩、水酸化物もしくは重炭酸塩である。
リ性現像液である。
合物を含有する。好適な赤外吸収化合物の例は、下記の通りである。
and提供のKF654B PINAが挙げられる。
能であるが、特にパターン状露光により前駆体の選択部分に熱が送達されるよう
に準備した組成物に適用可能である。
24に記載の熱感受性フェノール樹脂システムに応用可能であるが、これらはフ
ェノール樹脂及び放射吸収剤、好ましくは黒体吸収剤、例えばカーボンブラック
もしくはMilori Blueを含み、パターン状露光の際に組成物の溶解度の相違を助 長する別の成分を含まない単純なシステムである。
記載のシステムに応用可能であるが、その熱感受性組成物には潜在的ブレンステ
ッド酸が含まれる。これらはネガ型及びポジ型であり、本発明の内容においては
、後者が懸案となっている。
脂、ノボラック樹脂、潜在的ブレンステッド酸及び赤外吸収剤を含有可能であり
、前記組成物は紫外光及び赤外光のいずれにも感受性であるよう調製される。
る。前記ノボラック樹脂はm-クレゾール及びホルムアルデヒドから調製可能で ある。
成する前駆体を意味する。この目的に好適なブレンステッド酸の典型例はトリフ
ルオロメタンスルホン酸及びヘキサフルオロリン酸である。
ム塩、特にヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウム、セレノニウム、ジアゾ
ニウム及びアルソニウム塩が含まれる。特に有用なオニウム塩の特定の例には、
ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウ
ムヘキサフルオロアンチモナート、フェニルメチル-オルト-シアノベンジルスル
ホニウム=トリフルオロメタン=スルホナート、及び2-メトキシ-4-アミノフェ ニル=ジアゾニウム=ヘキサフルオロホスファートが含まれる。
式の化合物が含まれ: R3CH2X R3CHX2 R3CX3 R3(CH2X)2 及びR3(CH2X)3 式中、XがCl、Br、F、またはCF2SO3であって、R3が芳香族基、脂肪 族基もしくは芳香族及び脂肪族の組み合わせである。
合、R7としてはアリール基、置換アリール基、脂肪族基もしくは置換脂肪族基 が可能である。Wとしては、BF4、CF3SO3、SbF6、CCl3CO2、Cl
O4、AsF6、PF6、もしくはそのpHが3未満の対応するあらゆる酸が可能 である。
ゆるオニウム塩が潜在的ブレンステッド酸として使用可能である。
らは赤外領域では他のブレンステッド酸と同等の感受性を、紫外領域ではより高
い感受性を供する。
ものとする米国特許第3779778号に記載されている。
びR10は、個別にハロアルキル基である。
置換基を含有可能である。こうした置換基は、アルキル基及びアルコキシ基を含
む。
ン原子であることが好ましい。
むこととする米国特許第5466557号、5372915号及び537290
7号に記載の同様のシステムに応用可能である。
ール樹脂に応用可能である。好適なオニウム塩には、ヨードニウム、スルホニウ
ム、ブロモニウム、クロロニウム、オキシスルホニウム、スルホキソニウム、セ
レノニウム、テルロニウム、ホスホニウム及びアルソニウム塩が含まれる。好ま
しくは、ヨードニウム、スルホニウムもしくはオキシスルホニウム塩が存在する
。
量に対して1から40%の範囲の量で含まれる。オニウム塩の量は、非露光組成
物と露光組成物との間に所望の溶解度の差を生じさせるように選択される。レゾ
ール樹脂は、十分な溶解度の差を保証するため、通常はフェノール樹脂及びオニ
ウム塩の全重量に対して少なくとも5重量%のオニウム塩を要する。一般的に、
レゾール樹脂を用いる組成物は、少なくとも7重量%のオニウム塩を含む。より
少量のオニウム塩、一般的には1から40重量%の範囲のオニウム塩を含むノボ
ラック樹脂を含む組成物において、十分な溶解度の差を達成することができる。
好適には、こうした組成物の別の成分としては、組成物中10重量%までのスペ
クトル増感剤であって、以下の群より選択される:ジフェニルメタン、キサンテ
ン、アクリジン、メチン及びポリメチン(オキソノール、シアニン及びメロシア
ニンを含む)染料、チアゾール、チアジン、アジン、アミノケトン、ポルフィリ
ン、有色の芳香族多環式炭化水素、p-置換アミノスチリル化合物、アミノトリ アジルメタン、ポリアリーレン、ポリアリールポリレン、2,5-ジフェニルイ ソベンゾフラン、2,5-ジアリールシクロペンタジエン、ジアリールフラン、 ジアリールチオフラン、ジアリールピロール、ポリアリールフェニレン、クマリ
ン及びポリアリール-2-ピラゾリン。これらの組成物についての更なる情報は、
米国4708925号に開示されており、その記載をここに参照用として取り込
むものとする。
の新規なシステムを、個別に詳細に説明する。
出願PCT/GB97/01117に記載の出願人による新規な組成物に応用可
能である。この特許出願は、本発明の優先日には未公開であり、その後国際特許
出願公開97/39894号として公開された。続く頁は、PCT明細書から導
入したものである。これらの段落では“水性現像液可溶性ポリマー物質”及び“
活性ポリマー”なる語を用いており、熱処理による安定化を含む本発明の内容に
おいては、これらの用語はフェノール樹脂を意味する。
液可溶性ポリマー物質を含むインク受容性熱感受性組成物、及び、以下“可逆不
溶化化合物”と呼称され、ポリマー物質の水性現像液溶解度を減少させる化合物
が供され、該組成物の水性現像液溶解度は加熱に際して増大し、該組成物の水性
現像液溶解度が偶発的なUV光によっては増大しないことを特徴とする。
ティングを備え、前記可逆不溶化化合物が親水性表面を有する基板上にコーティ
ングされてなり、該組成物の水性現像液溶解度が加熱に際して増大し、該組成物
の水性現像液溶解度が偶発的なUV光によって増大しないことを特徴とするポジ
型平版印刷版前駆体が提供される。
すなわち、放射を吸収して熱に転化することのできる放射吸収化合物を配合する
ことが有用である。好適な放射吸収化合物の例は、その好ましい量と共に、上記
の通りである。
ーティングが放射を優先的に吸収し、前記放射を熱に転化するように好適に適合
させたものである。
板上に前記活性ポリマーを含むインク受容性熱感受性組成物、前記可逆不溶化化
合物及び前記放射吸収化合物を備え、該組成物の水性現像液溶解度が加熱に際し
て増大し、該組成物の水性現像液溶解度が偶発的なUV光によって増大しないこ
とを特徴とする熱感受性ポジ型背反印刷版前駆体が提供される。
であって、前記コーティングが、インク受容性及び熱感受性の組成物の下に更に
別の層を備え、該付加的な層が放射吸収化合物を含むものが提供される。
記活性ポリマー及び、前記可逆不溶化化合物であって前記放射吸収化合物でもあ
る化合物を含むインク受容性で熱感受性の組成物を備えてなり、該組成物の水性
現像液溶解度が加熱に際して増大せず、該組成物の水性現像液溶解度が偶発的な
UV光によって増大しないことを特徴とする熱感受性ポジ型平版印刷版前駆体が
提供される。
て増大するとの記載は、これが実質的に、すなわち平版印刷行程に有用な量で増
大することを意味する。該組成物の水性現像液溶解度が偶発的なUV光によって
増大しないとの記載は、これが実質的に、すなわちUV安全光を適用せねばなら
ないことを意味する量では増大しないことを意味する。したがって、UV放射に
際しての溶解度の僅かな増大は、’117発明の範囲内で許容可能である。
現像の後にポジ型平版印刷版が得られる。コーティングされた組成物の水性現像
液溶解度は、活性ポリマー単独の溶解度に対して著しく減少する。続く適当な放
射への露光に際して、該組成物の加熱部分は、未処理部分よりも現像溶液中に可
溶性が高くなる。したがって、パターン状露光に際し、非露光組成物と露光組成
物との溶解度の差における変化が生じる。こうして、露光部において該組成物は
溶解し、印刷版の隠れた表面を露呈する。
ても限定されることを望まない一方、活性ポリマーと可逆不溶化化合物との間に
熱に脆い複合体が形成される。この複合体は可逆的に形成され、該複合体への熱
の適用により分解して該組成物に水性現像液溶解度を回復させることができる。
本願発明における使用に好適なポリマー物質は、複合化されていない場合に電子
豊富な官能基を有し、また、該ポリマー物質の水性現像液溶解度を減少させる適
当な化合物は電子不足であると思われる。該組成物内での成分の分解が必要であ
るとも、もしくは今日までに試験されたあらゆる実施例においていかなる本質的
な分解がおきたとも思われない。
化合物として使用に処されている。 可逆不溶化化合物の有用な群は、窒素含有化合物であって、少なくとも一の窒
素原子が四級化されているか、複素環に導入されているか、または四級化されて
複素間に導入されているものである。
l Violet (CI basic violet 3)及びEthyl Violet及びテトラアルキルアンモニウ
ム化合物、例えばCetrimideである。
4-トリアゾールである。 最も好ましい可逆不溶化化合物は、四級化複素環化合物である。
、Monazoline O、Monazoline CY及びMonazoline Tで、全てMona Industries製の
もの、キノリニウム化合物、例えば1-エチル-2-メチル-キノリニウムヨード及
び1-エチル-4-メチルキノリニウムヨード、及びベンゾチアゾリウム化合物、 例えば3-エチル-2-メチルベンゾチアゾリウムヨード、及びピリジニウム化合 物、例えばセチルピリジニウムブロミド、エチルビオロゲンジブロミド及びフル
オロピリジニウムテトラフルオロボラートである。
ン染料、例えばキノリジンブルー及び3-エチル-2-[3-(3-エチル-2(3H )-ベンゾチアゾリリデン)-2-メチル-1-プロペニル]ベンゾチアゾリウムヨー
ド、及び下式の化合物である。
、2,3-ジフェニル-1-インデネオン、フラボン、フラバノン、キサントン、 ベンゾフェノン、N-(4-ブロモブチル)フタルイミド及びフェナントレンキノ
ンである。
エトキシ基を表す。
nge 15)である。 他の有用な可逆不溶化化合物は、フェロセニウム化合物、例えばフェロセニウ
ムヘキサフルオロホスファートである。
該組成物は、このように相互作用せず、ここに記載したような現像液レジスト手
段ではないポリマー物質を含有可能である。ポリマー物質の混合物を有するこう
した組成物においては、活性ポリマーは付加的なポリマー物質よりも低重量で存
在可能であることに注意すべきである。好適には、活性ポリマーは、組成物中に
存在するポリマー物質全重量に対して少なくとも10%、好ましくは少なくとも
25%、さらに好ましくは少なくとも50%、の量で存在する。最も好ましくは
、しかしながら、活性ポリマーは、相互作用しない前記のあらゆる付加的ポリマ
ーを除外して存在する。
であって、相互作用しないものを含むポリマー物質から構成されることが好まし
い。該組成物のより残り部分は可逆不溶化化合物によって構成されることが好ま
しい。
なくとも65%、最も好ましくは少なくとも80%であると好適である。 ここに定義した残り部分とは、組成物全重量の50%未満、好ましくは20%
まで、最も好ましくは15%までであると好適である。
少なくとも2%、好ましくは15%まで、より好ましくは25%までを構成する
。
15%ということができる。
こうした物質の割合は、その総含量について言及したとおりである。同様に、こ
のように相互作用しない一以上のポリマー物質があってもよい。こうした物質の
割合は、その総含量について言及したとおりである。同様に、一以上の可逆不溶
化化合物があってもよい。こうした物質の割合は、その総含量について言及した
とおりである。
組成物及び適当な水性現像液が’117発明に記載されている使用に好適か否か
を決定することができる。
にコーティングし、乾燥させる。その後、該表面にインクを盛った。均一なイン
クコーティングが得られるならば、該組成物は層としておいた際に親油性である
。 試験2:可逆不溶化化合物を含まず、活性ポリマーを含む組成物でコーティング
された親水性支持板を、適当な水性現像液中で、試行錯誤によって決定される適
当な時間、但し典型的には30から60秒間、室温にて処理し、その後濯ぎ、乾
燥させてインク盛りする。インク表面が全く得られなければ、該組成物が現像液
中に溶解しているのである。 試験3:活性ポリマー及び可逆不溶化化合物を含む組成物を親水性支持板にコー
ティングし、乾燥させ、インク盛りする。均一なインクコーティングが得られれ
ば、該組成物は層としておいた際に親油性である。
親水性支持板を、適当な水性現像液中で、試行錯誤によって決定される適当な時
間、但し典型的には30から60秒間、室温にて処理し、その後濯ぎ、乾燥させ
てインク盛りする。均一なインクコーティングが得られれば、該組成物は現像液
中に本質的には溶解しない。 試験5:活性ポリマー及び可逆不溶化化合物を含む組成物でコーティングされた
親水性支持板を、オーブン中で加熱し、該組成物を適当な温度の下に適当な時間
おく。その後これを適当な水性現像液中で、相応な時間、室温にて処理する。該
表面を乾燥させ、インク盛りする。インク表面が全く得られない場合は、加熱し
た組成物が現像液中に溶解している。
な試行錯誤実験を行って適切な条件が決定可能である。こうした実験によって試
験に合格する条件が見出せない場合は、結論として、該組成物がこの試験に合格
しないということになる。
む組成物を、オーブン中で加熱し、該組成物が50℃から160℃の温度に5か
ら20秒間達するようにする。その後これを適当な水性現像液中で、試行錯誤に
よって決定される適当な時間、但し典型的には30から120秒間、室温にて処
理する。 最も好ましくは、活性ポリマー及び可逆不溶化化合物を含む組成物を、オーブ
ン中で加熱し、該組成物が50℃から120℃の温度に10から15秒間達する
ようにする。その後これを適当な水性現像液中で、30から90秒間、室温にて
処理する。
親水性支持板を、試行錯誤によって決定される適当な時間、但し典型的には30
秒間、UV光にあてる。その後、これを適当な水性現像液中で、試行錯誤によっ
て決定される適当な時間、但し典型的には30から60秒間、室温にて処理する
。その後、該表面を乾燥させ、インク盛りする。コーティングがインク盛りされ
たならば、UV光により誘発される該組成物の溶解は起こっておらず、したがっ
て組成物は、通常の露光条件に対して好適な強度を有している。
る使用に好適である。
に好適な光吸収性化合物でもある化合物は、好ましくはシアニン染料、最も好ま
しくは600nmより高い波長で吸収するキノリニウムシアニン染料である。
エニル]-1-エチルキノリニウムブロミド
エニル]キノリニウムヨード
エニル]-1-エチルキノリニウムヨード
エニル]キノリニウムヨード
は本発明を応用可能である。
号(以降、’169発明と呼称)で、現在PCT/GB98/01953,MY
PI 9803095及びZA 98/5913として手続中のものに記載の
出願人による新規な組成物に応用可能である。以下の頁は、これらの明細書から
挿入されている。これらの文では“ポリマー物質”なる用語を用いているが、本
発明の内容において、この語はフェノール樹脂を示す。
作成する方法が提供され、該方法は、基板を含み、その上にコーティングが施さ
れ、コーティングにはポジ型組成物が含まれてなる前駆体への放射のパターン状
の適用;及び現像液を用いた該パターンの現像を含み;前記組成物が官能基Qを
有するポリマー物質を含み、官能化ポリマー物質が放射の送達前には現像液不溶
性であり、その後は現像液可溶性となる特性を有し、官能基Qがナフトキノンジ
アジド(NQD)もしくはベンゾキノンジアジド(BQD)基を含まないことを
特徴とする。
作成する方法が提供され、該方法は、基板を含み、その上にコーティングが施さ
れ、コーティングにはポジ型組成物が含まれてなる前駆体への放射のパターン状
の適用;及び現像液を用いた該パターンの現像を含み;前記組成物が官能基Qを
有するポリマー物質を含み、官能化ポリマー物質が放射の送達前には現像液不溶
性であり、その後は現像液可溶性となる特性を有し、官能基Qがジアジド基を含
まないことを特徴とする。
作成する方法が提供され、該方法は、基板を含み、その上にコーティングが施さ
れ、コーティングにはポジ型組成物が含まれてなる前駆体への放射のパターン状
の適用;及び現像液を用いた該パターンの現像を含み;前記組成物が官能基Qを
有するポリマー物質を含み、官能化ポリマー物質が放射の送達前には現像液不溶
性であり、その後は現像液可溶性となる特性を有し、官能基が前記放射を受けて
化学的に分解しないことを特徴とする。“化学的に分解しない”は、共有結合が
、前記放射によって全く破壊されないことを意味するが、これは該方法の有効性
を顕著に示す。
作成する方法が提供され、該方法は、基板を含み、その上にコーティングが施さ
れ、コーティングにはポジ型組成物が含まれてなる前駆体への放射のパターン状
の適用;及び現像液を用いた該パターンの現像を含み;前記組成物が官能基Qを
有するポリマー物質を含み、官能化ポリマー物質が放射の送達前には現像液不溶
性であり、その後は現像液可溶性となる特性を有し、官能基Qが酸基もしくは酸
生成基を含まず、いずれの場合も前記放射を受けて除去される不安定な保護基に
よって保護されてなることを特徴とする。
作成する方法が提供され、該方法は、基板を含み、その上にコーティングが施さ
れ、コーティングにはポジ型組成物が含まれてなる前駆体への放射のパターン状
の適用;及び現像液を用いた該パターンの現像を含み;前記組成物が官能基Qを
有するポリマー物質を含み、官能化ポリマー物質が放射の送達前には現像液不溶
性であり、その後は現像液可溶性となる特性を有し、官能基Qがさらに前記放射
の吸収に本質的に関与するのではないことを特徴とする。
とを比べた溶解度の差異には、幾つかの作用が含まれるが、前記放射を受けた際
の酸生成は、既存のシステムに対して顕著ではないとされている。さらに、重要
な作用の一つは、官能基Qとポリマー物質の別の基との間の水素結合相互作用で
あるとされている。分子内水素結合は、より重要である確率が高いが、分子間水
素結合もまた重要であり、幾つかのシステムではより重要性が高い。したがって
、官能化ポリマー物質が、官能基Qとポリマー物質との共有結合に加えて前記官
能基Qとポリマー物質の別の基との間の水素結合を有するものであると好適であ
る。
作成する方法が提供され、該方法は、基板を含み、その上にコーティングが施さ
れ、コーティングにはポジ型組成物が含まれてなる前駆体への放射のパターン状
の適用;及び現像液を用いた該パターンの現像を含み;前記組成物が官能基Qを
有するポリマー物質を含み、官能化ポリマー物質が放射の送達前には現像液不溶
性であり、その後は現像液可溶性となる特性を有し、前記官能基Qとポリマー物
質の同一分子もしくは別の分子の他の基との間に水素結合があることを特徴とす
る。
な成分、すなわち、放射を吸収し、これを熱に転化することのできる放射吸収化
合物を含むことが有用である。好適な放射吸収組成物の例は、好ましい量と共に
、上記の通りである。
ない成分から選択されることが好ましい。 好ましくは、対応する非官能化ポリマー物質は、官能基Qによって官能化され
た対応のポリマー物質と比べ、選択された現像液に対する可溶性が著しい。好ま
しくは、これを実質的に可溶性ポリマー物質と考えても良い。
有効性に対して、共有結合の開裂は要しないとされている。
いが、好ましくは前記の相当する非官能化ポリマー物質がヒドロキシ基を有し、
これが官能基Qによって官能化されている。好ましくは、前記官能化ポリマー物
質ヒドロキシ基を保有する。すなわち、官能基Qはポリマー物質と、そのヒドロ
キシ基との反応によって共有結合していてもよいが、ヒドロキシ基の全てがこの
ように反応していないことが好ましい。
物質中のヒドロキシ基に対する割合は、1:100から1:2である。更に好ま
しくは、前記官能基の比は1:50から1:3である。最も好ましくは前記官能
基の比が1:20から1:6の範囲である。
有利なことが知られ、官能基Qにより構成されてもよい好適な部分Qには、アミ
ノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アミド、モノアルキルアミド、ジ
アルキルアミド、クロロ、フルオロ、カルボニル、スルフィニル及びスルホニル
部分が含まれる。
エステルを形成する。
表す。
ー鎖Rに水素結合可能な部分を表し、Zがポリマー鎖Rに水素結合し得るか否か
によらない別の部分を表す基を表す。こうした場合では、ポリマー鎖Rは水素結
合に関与しうる他の置換基、例えば水酸基を要する。
にスルホニル基を表す。
るものがある。例えばQは、式-O-X(Z)-O-においてXが結合部分を表し、
Zが前記の別の部分を表す基として定義可能である。例えば、これは、リン酸又
はリンオキシハロゲン化物との反応によって生成する所定のリン変性ノボラック
樹脂において起こりうる。
結合可能である。 こうした実施態様においては、前記結合部分Xは式-P(O)-の基であると好
適である。
シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、非芳香族複素環、アラルキルまた
はヘテロアラルキル基が可能である。
原子を含む直鎖または分枝状のものであって、好適な例としてはメチル、エチル
、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、へプチル、オクチル、ビニル、アリ
ル及びプロパルギルである。非分枝状の基が好ましいが、分枝状の記も使用可能
である。 ・シクロアルキル基は、3から12、好ましくは3から8の炭素原子を含み、好
適にはシクロプロピルまたはシクロヘキシルであるが、縮合/橋かけ構造、例え
ば10-カンフォリル等も可能である。
ル)ナフチル、特にベンジルまたはナフチルメチルである。 ・好適な複素環式芳香族または複素環基は、それぞれ芳香族または非芳香族基で
あって、炭素原子環内に、酸素、硫黄及び窒素から個別に選択される1から4の
異種原子を含む。縮合複素環式芳香族または複素環基を使用可能であるが、好ま
しくは該基は環内に5または6の原子を有する単環である。
キニル及び複素環(非芳香族)基及び、アラルキル及びヘテロアラルキル基のア
ルキレン部分の任意の置換基について、こうした置換基の特定の例にはハロ、ニ
トロ、シアノ、カルボニル、ヒドロキシ、チオール、アミノ、モノ-C1-4アルキ
ルアミノ、ジC1-4アルキルアミノ、アミド(-CONH2)、モノ-(C1-4アル キルキル)アミド(-CONHR1)、ジ-(C1-4アルキル)アミド(-CONR1 R2)、C1-4アルコキシ、C1-4ハロアルコキシ、(C1-4アルキル)カルボニル
アミノ(R3C(O)NH-、例えばアセタミド)、-COOH、(C1-4アルキル
)カルボニル及び(C1-4アルコキシ)カルボニル基が含まれる。しかしながら 、無置換の脂肪族部分を用いて優れた結果が得られる。
ロアリール部分の任意の置換基について、任意の置換基には、ハロ、ニトロ、シ
アノ、ヒドロキシ、チオール、アミノ、モノ-C1-4アルキルアミノ、ジC1-4ア ルキルアミノ、アミド(-CONH2)、モノ-(C1-4アルキルキル)アミド(- CONHR1)、ジ-(C1-4アルキル)アミド(-CONR1R2)、C2-4アルケ ニル、C1-4アルキル、C1-4アルコキシ、(C1-4アルキル)カルボニルアミノ (R3C(O)NH-、例えばアセタミド)、-COOH、(C1-4アルキル)カル
ボニル及び(C1-4アルコキシ)カルボニル基が含まれる。前記アリールまたは ヘテロアリール基に置換のある場合、1から3の置換基が好適に用いられる。前
記アリールまたはヘテロアリール基に坦持されるアルキル、アルキルアミノ、ア
ルキルアミド、アルキルカルボニルアミノ、アルケニル、アルコキシ、アルキル
カルボニル及びアルコキシカルボニル部分は、好ましくは無置換であるが、脂肪
族部分について列挙したものから選択される置換基によって置換可能である。 ・ハロ部分は、好ましくはフルオロ、クロロまたはブロモ基である。
キル基である。特に好ましいアリール基は、ヒドロキシ、ハロ、C1-4アルキル (特にメチル)、C1-4アルキル(特にメチル)、C1-4ハロアルキル(特にCF 3 )、C1-4アルコキシ(特にメトキシ)、アミノ、モノ-(C1-4アルキル)アミ
ノ(特にメチルアミノ)、及びジ-(C1-4アルキル)アミノ(特にジメチルアミ
ノから個別に選択される1−3の部分によって任意に置換されたフェニルまたは
ナフチル基である。特に好ましいアリール基は、ナフチル基、ダンシル基、フェ
ニル基または4-メチルフェニル基である。特に好ましい任意に置換されたアル キル基は、C2-8アルキル基、特にn−C3-6アルキル基である。
hから選択される部分が結合してなるフェノール樹脂を含む。
することによる所定の態様を特徴とすることに留意すべきである。しかしながら
、官能基Qと、“さらに”ジアジド基が存在するものは、発明の上記定義から除
外されない。 また、組成物中に単純ジアジド化合物、例えばNQDまたはBQD化合物が存
在することは、’169発明の上記定義から除外されない。
ジアジド部分が結合してなり、別のヒドロキシ基に好ましくは-O-SO2-トリル
、-O-ダンシル、-O-SO2-チエニル、-O-SO2-ナフチル及び-O-CO-Ph から選択されるQ部分が結合してなるフェノール樹脂が含まれる。
あって’169発明のさらなる態様を構成する。さらにまた、ジアジド基及び前
項に例を挙げたQ基を別々の官能基として担持する樹脂は、新規であって、好適
には共エステル化によるその調製方法と共に’169発明のさらなる態様を構成
する。
香環または複素芳香環を経てカルボニル基に共役結合したジアジド基=N2を含 むことが好ましい。こうした部分においては、カルボニル基は、芳香環または複
素芳香環に、ジアジド基の環上における隣の位置にて結合することが好ましい。
好ましい部分は、O-ベンゾキノンジアジド(BQD)部分(しばしばO-キノン
ジアジドと呼称)及びO-ナフトキノンジアジド(NQD)部分である。
ジアジド部分を含むとよい。 NQD部分は、例えば、1,4-、2,1-、または最も好ましくは、1,2- ナフトキノンジアジドを含むとよい。 一般的に、’169発明の実施において使用するには、BQD部分よりもNQ
D部分が好ましい。 ’169発明の実施に使用するのに、最も好ましいジアジド部分は、1,2- ナフトキノンジアジド部分である。
非官能化フェノール樹脂を含有可能である。これらは、任意レベルの固有の現像
液溶解度を有し、官能化されておらず、その固有の現像液溶解度を変化させない
点で“不活性”と見なされ、あるいは、例えばNQD樹脂エステルを含む付加的
な“活性”ポリマー物質と見なされる。ポリマー物質の混合物を含むこうした組
成物中には、’169発明の官能化ポリマーは、他のポリマー物質よりも低重量
%で存在可能である。好適には、’169発明のポリマー物質は、該組成物中に
存在するポリマー物質全重量に対して少なくとも10%、好ましくは少なくとも
20%の量で存在可能である。
て異なる。例えば、非常に有効な官能基Qの選択とは、’169発明の官能化ポ
リマー物質を低割合で用いたポリマー物質の混合物が使用されること;及び/ま
たは、より有効性の低い官能基を選択した場合には前記官能基の比をより低くす
ることを意味する。選択されるパターン形成条件及び使用する現像液もまた関係
する。官能基の率を高く選択することは、’169発明のポリマー物質がその混
合物中に低率で使用されることを意味し;本来的により可溶性の高い非官能化ポ
リマー物質については、より弱い現像液が使用可能なことを意味する(環境のた
めに有利)、またはより少量の放射送達、またはより低率での官能基、または放
射送達あるいは現像時間のいずれか、または両方の意味でより迅速な現像速度が
採用される。したがって、記載の発明に有利に使用可能な造影及び現像にはいく
つかの可変要素がある。
には“不活性”ポリマー物質を含むポリマー物質によって構成されることが好ま
しい。好ましくは、該組成物のより小なる部分は、存在する場合には付加的成分
によって構成されることが好ましい。 ここに定義した大部分とは、好適には組成物全重量に対して少なくとも50%
、好ましくは少なくとも65%、最も好ましくは少なくとも80%である。
満、好ましくは上限20%、最も好ましくは上限15%である。
)nであって、式中Rはポリマー物質のポリマー鎖であり、Qは化学式-O-T1- Zを表して式中T1がカルボニル基、スルフィニル基またはスルホニル基、もし くは化学式-O-X(Z)-O-においてXが-P(O)-を表す基を表し;式中Zは
アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリー
ル、非芳香族複素環、アラルキルもしくはヘテロアラルキル基であって;ここで
アリール及びヘテロアリール基の任意の置換基、またアラルキルもしくはヘテロ
アラルキル基のアリール及びヘテロアリール部分の任意の置換基は、ハロ、ニト
ロ、シアノ、ヒドロキシ、チオール、アミノ、任意に置換されたモノ-C1-4アル
キルアミノ、任意に置換されたジ-C1-4アルキルアミノ、アミド、任意に置換さ
れたモノ-(C1-4アルキル)アミド、任意に置換されたジ-(C1-4アルキル)ア
ミド、任意に置換されたC2-4アルケニル、任意に置換されたC1-4アルキル、任
意に置換されたC1-4アルコキシ、(C1-4アルキル)カルボニルアミノ、-CO OH、任意に置換された(C1-4アルキル)カルボニル及び任意に置換された( C1-4アルコキシ)カルボニル基;及び式中、アルキル、アルケニル、アルキニ ル、シクロアルキル及び非芳香族複素環基の、及びアラルキル及びヘテロアラル
キル基のアルキル部分の、及び前記アリールもしくはヘテロアリール部分を任意
に置換するアルキル、アルコキシ、アルキルアミノ、アルキルアミド、アルキル
カルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルアミノ及びアルケニル
部分の任意の置換基は、ハロ、ニトロ、シアノ、カルボニル、ヒドロキシ、チオ
ール、アミノ、モノ-C1-4アルキルアミノ、ジ-C1-4アルキルアミノ、アミド、
モノ-(C1-4アルキル)アミド、ジ-(C1-4アルキル)アミド、C1-4アルコキ シ、-COOH、(C1-4アルキル)カルボニルアミノ、(C1-4アルキル)カル ボニル及び(C1-4アルコキシ)カルボニル基から選択される。
定するために簡単な試験が実行可能である。こうした試験は、’117発明の“
活性ポリマー”及び“活性ポリマー及び可逆不溶化化合物”ではなく’169発
明の“非官能化ポリマー物質”及び“官能化ポリマー物質”に適用すること以外
;また、’169の組成物がUV光に感受性であるように製剤されない場合は’
117発明に関して上述した試験6が無関係となること以外は、実質的に’11
7発明に関して上述した通りである。
を応用可能なものである。
以下’172発明と呼称)であって、現在PCT/GB98/01957、MY
PI9803069及びZA98/5912として手続き進行中の出願に記載
の組成物に適用可能である。
する方法が提供されており、該方法には:基板を備え、その上にコーティングが
施され、該コーティングにはポジ型組成物が含まれてなる前駆体へのパターン状
の放射の適用;及びコーティングへの現像液の適用;ここで該組成物はポリマー
物質及びジアジド部分を含み、ここで、前記組成物は、前記放射の送達前には現
像液不溶性であるが、後には現像液可溶性となる特性を有するが、前記放射とは
、完全にまたは優位に、直接の熱放射であるか波長500nmを越える電磁放射線
である。
を有する対応するポリマー物質よりも、格段に選択される現像液への溶解度が高
い。好ましくは、実質的にはこれは可溶性ポリマー物質と見なすことができる。
わち放射を吸収し、熱に転換することのできる放射吸収化合物を含むことが有益
である。こうした放射吸収組成物の例は、その好ましい量と共に記述の通りであ
る。
環を介してカルボニル基に共役結合してなるジアジド基=N2を含むことが好ま しい。こうした部分においては、カルボニル基が、環上でのジアゾ基の隣の位置
にて芳香環または複素芳香環に結合していることが好ましい。好ましい部分は、
O-ベンゾキノンジアジド(BQD)部分(しばしばO-キノンジアジドと呼称)
及びO-ナフトキノンジアジド(NQD)部分である。
ジアジド部分を含むとよい。 NQD部分は、例えば、1,4-、2,1-、または最も好ましくは、1,2- ナフトキノンジアジドを含むとよい。 一般的に、’172発明の実施において使用するには、BQD部分よりもNQ
D部分が好ましい。 ’172発明の実施に使用するのに、最も好ましいジアジド部分は、1,2- ナフトキノンジアジド部分である。
テルまたはBQDまたはNQD化合物を、例えば、エステルとフェノール性ポリ
マー物質の混合物を含む。好ましいエステルは、スルホン酸エステルである。
米国特許2,766,118号;同2,767,092号;同2,772,97
2号;同2,859,112号;同2,907,665号;同3,046,11
0号;同3,046,111号;同3,046,115号;同3,046,11
8号;同3,046,119号;同3,046,120号;同3,046,12
1号;同3,046,122号;同3,046,123号;同3,061,43
0号;同3,102,809号;同3,105,465号;同3,635,70
9号;及び同3,647,443号等の様々な文献に記載されている。これらの
中で、好ましいのは、芳香族ヒドロキシル化合物のO-ナフトキノンジアジドス ルホン酸エステルまたはO-ナフトキノンジアジドカルボン酸エステル;芳香族 アミン化合物のO-ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドまたはO-ナフトキノ
ンジアジドカルボン酸アミド、例えば、ナフトキノン-1,2-ジアジドスルホン
酸とポリヒドロキシフェニルとのエステル;ナフトキノン-1,2-ジアジド-4-
スルホン酸またはナフトキノン-1,2-ジアジド-5-スルホン酸とピロガロール
/アセトン樹脂とのエステル;ナフトキノン-1,2-ジアジドスルホン酸とノボ
ラックタイプのフェノール/ホルムアルデヒド樹脂またはノボラックタイプのク
レゾール/ホルムアルデヒド樹脂とのエステル;ナフトキノン-1,2-ジアジド
-4-スルホン酸またはナフトキノン-1,2-ジアジド-5-スルホン酸とポリ(p
-アミノスチレン)のアミド;ナフトキノン-1,2-ジアジド-4-スルホン酸ま たはナフトキノン-1,2-ジアジド-5-スルホン酸とポリ(p-ヒドロキシスチ レン)のエステル;及びナフトキノン-1,2-ジアジド-4-スルホン酸とポリマ
ー性アミンのアミドである。ここに用いた“エステル”なる語には、部分エステ
ルも含まれる。
。該ジアジド部分は、ポリマー物質と混合された単純化合物として、または、好
ましくは、ポリマー物質に共有結合した部分として存在可能である。ジアジド部
部を含まない部分もまたポリマー物質にさらに共有結合可能であること;あるい
は、これが該組成物内のさらなるポリマー物質の官能基であると有利であること
は注目に値する。こうした部分は、前述の通り’169発明のQ部分であると好
適であり、その先行の定義がここで応用される。
ネガ型の方法が可能なこともまた判明している。これには、放射の前記パターン
状の適用の後、現像液のコーティングへの前記の適用に先立ち、UV光に完全に
露光させることが必要である。こうすると、パターン状放射に露光されていない
コーティング部が溶解することが判明する。このことが、’172発明の別の態
様を構成する。本発明の熱処理方法は、この方式の照射を目的とした前駆体に有
利に適用可能である。
発明のポジ型の方法に適当であるか否かを決定するために簡単な試験が実行可能
である。試験は、’117発明の“活性ポリマー”及び“活性ポリマー及び可逆
不溶化化合物”ではなく’172発明の“ポリマー物質”及び“ポリマー物質及
びジアジド部分”に適用すること以外;また、’169の組成物がUV光に感受
性であるように製剤されない場合は’117発明に関して上述した試験6が不要
となること以外は、’117発明に関して上述した通りである。
を応用可能なものである。
5号(以下’877発明と呼称)であって、現在PCT/GB98/00132
として手続き進行中の出願に記載の出願人による新規組成物のポジ型の態様に応
用可能である。以下のページは、これらの明細書から取り込んだものである。
剤、放射感受性の潜在的な酸生成化合物及び赤外吸収化合物を含有可能である。 赤外吸収化合物の例は、その好ましい量と共に上記の通りである。 前記縮合剤は、任意に置換されたポリビニルフェノール化合物またはビスヒド
ロキシアルキル化合物であるとよい。 好ましいポリビニルフェノール化合物は、下記の単位を含むコポリマーである
。
あり、2,6-ビス(ヒドロキシメチル)-p-クレゾールが特に好ましい。 前記の潜在的な酸生成化合物は、潜在的ブレンステッド酸、例えば本発明が応
用可能な他の組成物に関して上述のものであるとよい。好ましい潜在的な酸生成
化合物は、下記の通りである。
を応用可能なものである。
1号(以下、“’862発明”と呼称)に記載の出願人による新規組成物に応用
可能である。以下のページは、この出願の明細書から取り込んだものである。以
下の記載中に使用した“感熱性組成物”なる語は、本発明によるフェノール樹脂
を含む組成物を示す。
供しており、該前駆体は、その水性現像液への溶解度が加熱部分で増大するよう
調整されてなる感熱性組成物、及び感熱性組成物の非加熱部の水性現像液への溶
解に対する抵抗を増大させるための手段(以下、“現像液レジスト手段”と呼称
)を備え、ここで前記現像液レジスト手段には、 (A)ポリ(アルキレンオキシド)単位を含む化合物; (B)シロキサン;及び (C)多価アルコールのエステル、エーテル及びアミド を含む群から選択される一以上の化合物が含まれる。
スト手段が存在しない場合の抵抗に比べて、非加熱部の抵抗において比較的大き
な増大を供することが判明している。例えば、前記現像液レジスト手段を含有す
る第一の感熱性組成物が、現像液(例えば、典型的な市販の平版印刷用現像液)
に完全に溶解するために要する時間は、前記現像液レジスト手段を含有しないが
、他の全ての点で前記第一の感熱性組成物と同一である感熱性組成物の完全な溶
解にかかる時間に比して、少なくとも50%増大可能である。いくつかの態様に
おいては、この増大は65%より大、さらには80%よりも大である。
界面活性剤である。
には上限10の、好ましくは上限8の、さらに好ましくは上限6の、特に上限4
の炭素原子を含有可能である。
た”と記載されているが、これは下記の一以上の基: ハロゲン原子、特にフッ素、塩素または臭素原子;ヒドロキシまたはシアノ基;
カルボキシル基またはカルボキシ誘導体、例えばカルボン酸塩;及び任意に置換
されたアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アミノ、スルフィニル
、スルホニル、スルホナート及びカルボニル基 によって置換可能である。
位は、1-または、好ましくは、2-オキシプロピレン単位を表す。 好適には、yは500未満であり、好ましくは350未満であり、好ましくは
200未満、特に100未満である。
意に置換された、好ましくは無置換のアルキルまたはフェニル基を表し;lは0
から3、好ましくは1を表し;zは好適には500未満、好ましくは350未満
、さらに好ましくは200未満、特に100未満である。
アルキルエーテルRO(CrH2rO)yH;ポリオキシアルキレンアルキルエーテ
ル;ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル
ルキルエーテルを形成;ランダムポリマーを含む);
もの
ール、ビーズワックスフィトステロールまたはフィトスタノール;及びポリオキ
シアルキレンソルビトール脂肪酸のエステル及び/またはエーテル、例えばソル
ビトール脂肪酸またはポリオキシプロピレンソルビトール脂肪酸、またはポリオ
キシエチレン−ポリオキシプロピレンソルビトール脂肪酸のもの。
テアラート、ポリオキシエチレンソルビトールテトラステアラート、ポリオキシ
エチレンソルビトールテトラオレアート、ポリオキシエチレンソルビトールヘキ
サオレアート、ポリオキシエチレンソルビトールモノオレアート、ポリオキシエ
チレンソルビトールモノラウラート、ポリオキシエチレンソルビトールテトララ
ウラート、ポリオキシエチレンソルビトールヘキサラウラート、ポリオキシプロ
ピレンソルビトールヘキサステアラート、ポリオキシプロピレンソルビトールテ
トラオレアート、ポリオキシプロピレンソルビトールヘキサオレアート、ポリオ
キシプロピレンソルビトールモノラウラート、ポリオキシエチレン−ポリオキシ
プロピレンソルビトールヘキサステアラート、ポリオキシエチレン−ポリオキシ
プロピレンソルビトールテトラステアラート、ポリオキシエチレン−ポリオキシ
プロピレンソルビトールモノオレアート、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロ
ピレンソルビトールテトラオレアート、ポリオキシエチレンソルビトールヘキサ
ステアリルエーテル、ポリオキシエチレンソルビトールテトラステアリルエーテ
ル、ポリオキシエチレンソルビトールテトラ−オレイルエーテル、ポリオキシエ
チレンソルビトールモノラウリルエーテル及びポリオキシエチレンソルビトール
モノオレイルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチ
レンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチ
レンオレイルエーテル、ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル、ポリオキ
シエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエー
テル、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウラート、ポリオキシエチレンソル
ビタンモノパーミタート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアラート、ポ
リオキシエチレンソルビタントリステアラート、ポリオキシエチレンソルビタン
モノオレアート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレアート、ポリオキシエ
チレンソルビトールテトラオレアート、ポリエチレングリコールモノオレアート
、ポリエチレングリコールジステアラート、ポリオキシエチレンノニルフェニル
エーテル-ホルムアルデヒド縮合物、オキシエチレン−オキシプロピレンブロッ クコポリマー、ポリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリオキ
シエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンソルビトールラウリルエス
テル、及びポリオキシエチレンヒマシ油から選択される。
によって置換されたシロキサンが含まれる。前記シロキサンは、直鎖状、環状ま
たは複合的に架橋したものであってよい。好ましいシロキサンは、フェニルアル
キルシロキサン及びジアルキルシロキサンである。
ニル基を表し、xは整数を表す。 xは少なくとも2、好ましくは10、さらに好ましくは少なくとも20である
とよい。xは100未満、好ましくは60未満であるとよい。
い。こうしたポリシロキサンの分子量は1800から40,000、好ましくは
3500から16000であるとよい。好ましいポリシロキサンは、ジメチルジ
クロロシラン、エチレンオキシド及びプロピレンオキシドのコポリマーを含み、
好適には25℃にて9cm2/秒の粘度及び18mN/mの表面張力を有するもの;ジメ
チルジクロロシラン及びエチレンオキシドのコポリマーを含み、好適には約15
から25のシロキサン単位及び50から70のオキシエチレン単位を各分子中に
含み、約5,000の分子量を有するもの;ジメチルジクロロシラン及びプロピ
レンオキシドのコポリマーを含み、7,000の分子量を有するもの;及び、分
子中に25から40のジメチルシロキサン単位、120から150のオキシエチ
レン単位及び80から100のオキシプロピレン単位を含み、約13,500の
分子量を有するコポリマーが含まれる。
まれる。好ましい多価アルコールは、化学式: CsHs+2(OH)s であり、式中、sは2から20、好ましくは4から10である。特に好ましい多
価アルコールはソルビトールである。
び2から30、好ましくは4から25、さらに好ましくは6から20の炭素原子
が含まれる。好ましいエステルは、ラウラート、パーミタート、ステアラート及
びオレアートから選択される。好ましいエーテルは、ラウリル、セチル、ステア
リル、オレイル及びフェニルエーテルから選択される。好ましいアミドは、脂肪
酸アルカノールアミドであり、ラウリルエタノールアミドが特に好ましい。
るが、こうした化合物のポリアルキレンオキシド単位は例外とする。
単一の均一な層を成さずともよい。前記前駆体には、その上部表面または上部表
面に向けて、少なくともいくつかの現像液レジスト手段が含まれる。
も制限されることを望まないが、前駆体の最上部表面に現像液レジスト手段の少
なくとも一部が存在することが重要な要因であると思われる。したがって、前駆
体には、前記現像液レジスト手段をいくつか含む上部表面(これは現像の際に現
像液によって適切に接触せられる)が含まれることが好ましい。
。この場合は、該前駆体は、前記感熱性組成物及び前記現像液レジスト手段を含
む混合物を使用して調製可能である。ある段階で、現像液レジスト手段の少なく
とも一部が感熱性組成物から分離し、表面に移動すると思われる。したがって、
現像液の攻撃への抵抗は、本発明の前駆体の表面において、特に明示されるよう
である。動的接触角(Dynamic contact angle)の研究(Cahn Angle Analyzerを
使用)では、ここに記載した前駆体の表面での著しい効果を明らかに示している
。例えば、典型的なポジ型平版印刷前駆体は、水中での前進及び退行接触角(ad
vancing and receding contact angle)が、それぞれ約95°と48°であるが
、感熱性組成物及び、例えばフェニルメチルポリシロキサン等の現像液レジスト
手段を含む前駆体(基板に混合物として塗布)は、水中での前進及び退行接触角
が、それぞれ約95°と67°である。同様のフェニルメチルポリシロキサン単
独の表面が同様の基板に塗布された表面は、水中での前進及び退行接触角が、そ
れぞれ約95°と67°である。したがって、該前駆体の表面は単一成分として
ポリシロキサンでコーティングされたものと同様の性質のものである。
/または別々の層として供される場合、前記単一層及び別々の層中の(A)、(
B)または(C)群から選択される化合物の量の合計は、少なくとも0.3wt%
、好適には少なくとも1wt%、好ましくは少なくとも1.5wt%、さらに好まし
くは2wt%、特に、少なくとも3wt%であるとよい。この量の合計は、10wt%
以下、好適には8wt%以下、好ましくは7wt%以下、さらに好ましくは6wt%以
下であるとよい。
的な加熱によって、露光部の水性現像液溶解度の増大が引き起こされるという点
で、感熱性である。
液レジスト手段は、熱及び/または光及び/またはUVに対して感受性でないこ
とが好ましい。
製するための前駆体が供され、該前駆体には、以下のもの: 感熱性組成物、その水性現像液への溶解度が、加熱部分で増大するようなもの
であって、水性現像液可溶性ポリマー物質(これまで“活性ポリマー”と呼称)
及び該ポリマー物質の水性現像液溶解度を減少させる化合物(これまで“可逆不
溶化化合物”と呼称)を含む組成物;及び 界面活性剤; が含まれ、ここで、該組成物の水性現像液溶解度は加熱に際して増大し、該組成
物の水性現像液溶解度は、偶発的なUV光によっては増大しない。
のであってよく、本発明はこれに応用可能である。この’862発明には、前述
の熱式組成物のどのような成分としてでも、前記現像液レジスト手段の挿入物を
含む。これらの発明に関して記載された上述の簡単な試験方法は、’862発明
の組成物がおそらくは印刷版コーティングとして好適であることを決定するため
に使用可能である。
説明を終了するが、これは本発明を応用可能なものである。
される。コーティングには、熱によってパターン状に露光されるフェノール樹脂
組成物が含まれることが好ましい。多数の例を上記した。
方法が供され、これは、該組成物の選択部分を露光させて現像液可溶性とし、次
いで現像液中での現像により前記選択部分を除去する露光段階を含む。露光は、
該選択部分の加熱を伴うことが好ましい。選択部分の加熱は、様々な組成物に対
して、上述の様々な適用可能な方法によって行うことができる。
される。
lite, UK社により提供。 樹脂B:LB744−クレゾール ノボラック樹脂、Bakelite社提供。 樹脂C:LB6564 下記の通り、p-トルエンスルホニルクロライドとの単 純な反応によって変性されてなるフェノール樹脂。
8g中に溶解させた。 2.500mlの三口丸底フラスコをホットプレート/スターラー上においた水浴
中に浸した。フラスコに、スターラーグランド、攪拌ロッド及び温度計を取り付
けた。 3.フラスコ中に樹脂溶液を入れ、高速の攪拌を開始した。 4.蒸留水25.6gを、沈殿を最小に保ちつつ、ゆっくりと、滴々と添加した 。 5.フラスコに炭酸水素ナトリウム(4.3g)を添加した。固体全量は溶解し なかった。 6.激しく攪拌しつつ酸塩化物(1.18g)をゆっくりと添加した。 7.反応混合物を攪拌しつつ、6時間に渡って40℃に加温した。 8.6時間後、フラスコを水浴から取り除き、放冷した(約30分間)。 9.1.18s.g.塩酸8.6gを蒸留水354gに添加することによって希釈溶液
を調製した。 10.エステル化樹脂を、攪拌と共に希酸中にゆっくりと滴下した。 11.蒸留水中に再懸濁させることにより、可能ならば沈殿物を少なくとも3回
、濾液のpHが6.0となるまで濾過及び洗浄した。 12.沈殿物を40℃の真空オーブン中で乾燥させた。75%の収率であった。
同定はIRスペクトルによって確認した。
ns UK, South Wirral, UKにより提供。 樹脂F:LG 724、フェノールノボラック樹脂、Bakelite, UK提供。 樹脂G:LB6564 下記の通り、214−NQDクロライドとの単純な反応
によって変性されてなるフェノール樹脂。
8g中に溶解させた。 2.500mlの三口丸底フラスコをホットプレート/スターラー上においた水浴
中に浸した。フラスコに、スターラーグランド、攪拌ロッド及び温度計を取り付
けた。 3.フラスコ中に樹脂溶液を入れ、高速の攪拌を開始した。 4.蒸留水25.6gを、沈殿を最小に保ちつつ、ゆっくりと、滴々と添加した 。 5.フラスコに炭酸水素ナトリウム(4.3g)を添加した。固体全量は溶解し なかった。 6.激しく攪拌しつつ酸塩化物(4.5g)をゆっくりと添加した。 7.反応混合物を攪拌しつつ、6時間に渡って40℃に加温した。 8.6時間後、フラスコを水浴から取り除き、放冷した(約30分間)。 9.1.18s.g.塩酸8.6gを蒸留水354gに添加することによって希釈溶液
を調製した。 10.エステル化樹脂を、攪拌と共に希酸中にゆっくりと滴下した。 11.蒸留水中に再懸濁させることにより、可能ならば沈殿物を少なくとも3回
、濾液のpHが6.0となるまで濾過及び洗浄した。 12.沈殿物を40℃の真空オーブン中で乾燥させた。75%の収率であった。
同定はIRスペクトルによって確認した。 (214-NQDクロライド −下式の化合物、A. H. Marks, Bradford, UKによ
り提供)
Ohio, USAにより提供。 染料A−KF654B PINA、Riedel de Haan UK, Middlesex, UKにより提
供され、下記の構造を有すると考えられる。
2555、Gentian Violet)、Aldrich Chemical Company, Dorset, UKにより提
供され、下記の構造を有すると考えられる。
、下記の構造を有すると考えられる。
00)、Aldrich Chemical Company, Dorset, UKにより提供され、下記の構造を
有する。
USAにより提供。
Industries Inc, New Jersey, USAにより提供され、下記の構造を有すると考え られる。
search Chemicals Ltd, Heysham, Lancashire, UKにより提供。
rvice GmbH of Essen, Germanyにより提供。 カーボンブラックFW2−チャネルタイプカーボンブラック、Degussa, of Macc
lesfield, UKにより提供。 プルシアンブルー−フェリックフェロシアニド、CI pigment Blu
e 27、Aldrichにより提供。 現像液A−メタケイ酸ナトリウム五水和物の14wt%水溶液。 現像液B−メタケイ酸ナトリウム五水和物の7wt%水溶液。 基板A−電解研磨し、陽極化し、無機リン酸の水性溶液を用いて陽極化後処理を
施した0.3mmのシート状アルミニウム
ー、Creo Products Inc. of, Canadaにより提供される、Procomm Plus software
を使用し、波長830nmにて上限8Wの電力で作動するTrendsetter 3244で造影 させた。
基板を直径102mmの円に切り取り、毎分2500回転の一定速度で回転可能な
ディスク上においた。回転ディスクの隣のトランスレートテーブルは、レーザー
光源を保持し、コーティングされたした基板にレーザー光が垂直に当たるように
する一方で、回転ディスクに対して直線状となるように、トランスレートテーブ
ルはレーザー光を放射状に動かした。露光した画像は渦巻き状であり、これによ
り、渦巻きの中心の画像はレーザーの走査速度が遅いこと及び露光時間の長いこ
とが表わされ、渦巻きの外端部は走査速度が速く、露光時間の短いことが表わさ
れた。
0nmの200mWレーザーダイオードである。レーザー出力の供給は、安定化され
た一定の電流源であった。
AG, Germanyにより提供されるMathis labdryer oven中、100℃にて3分間の 乾燥を経た後、コーティング重量が2.5gm-2の特定の乾燥フィルム組成物を供
するように選択した。
el Grant, UKにより提供)で覆い、紙(Samuel Grant, U.K.により提供される無
漂白、光滑剤無しのクラフト紙、90gm-2、低密度のマットな黒色ポリエチレン
20gm-2でコーティングされたもの)で包み、Sanyo Gallenkamp plc of Leices
ter, U.K.により提供されるファン付きでサイズ2のGallenkamp hotbox oven中 、50℃にて、それぞれ0、2、3、5及び12日間おいた。
クリーン画像で、造影エネルギー密度120、140、160、180、200
及び220mJcm-2にて造影した。該平版は、現像液Aを収容してなるHorsell Me
rcury Mark V平版処理装置を使用して22℃にて現像した。処理速度は1000
mm/分にセットした。最後に、得られた画像を目視によって評価し、50%造影
した平版の製造に要したエネルギーを記録した(mJcm-2)。
て80秒間の乾燥を経た後、コーティング重量が2.0gm-2の特定の乾燥フィル
ム組成物を得た。
度のマットな黒色ポリエチレン20gm-2でコーティングされたもの)で包み、下
記の条件でファン付きでサイズ2のGallenkamp hotbox oven中においた。
0%の網目スクリーン画像で、造影エネルギー密度200mJcm-2にて造影した。
該平版は、現像液Aを収容してなるHorsell Mercury Mark V平版処理装置を使用
して22℃にて現像した。処理速度は700mm/分にセットした。最後に、得ら
れた画像をTobias Associates Inc. of Ivyland, Pennsylvania, U. S. A.によ り提供されるTobias plate check densitomerを使用して読みとり、以下の表に 示した。
ation oven)中、140℃にて30秒間の乾燥を経た後、コーティング重量が2
.5gm-2の特定の乾燥フィルム組成物を供するように選択した。
のクラフト紙、90gm-2、低密度のマットな黒色ポリエチレン20gm-2でコーテ
ィングされたもの)で包み、ファン付きでサイズ2のGallenkamp hotbox oven中
、50℃にて、それぞれ0、17、24及び70時間おいた。得られた熱処理平
版を、Creo Trendsetterを8ワットで用い、50%の網目スクリーン画像で、造
影エネルギー密度180mJcm-2にて造影した。該平版は、現像液Aを収容してな
るHorsell Mercury Mark V平版処理装置を使用して22℃にて現像した。処理速
度は1000mm/分にセットした。最後に、得られた画像をTobias plate check
densitomerを使用して読みとった。 Creo Trendsetterによって露光された50%網目スクリーン画像のデンシトメ
ータの表示を以下の表に示した。
く工場用の装置を用いた。
定の乾燥フィルム組成物を得た。
の網目スクリーン画像で、造影エネルギー密度120、140、160、180
、200及び220mJcm-2にて造影した。該平版は、現像液Aを収容してなるHo
rsell Mercury Mark V平版処理装置を使用して22℃にて現像した。処理速度は
1000mm/分にセットした。
したエネルギーが180mJcm-2であったことを記録した。
を経た後、コーティング重量が2.0gm-2の特定の乾燥フィルム組成物を得た。
剤無しのクラフト紙、90gm-2、低密度のマットな黒色ポリエチレン20gm-2で
コーティングされたもの)で包み、、下記の条件にてファン付きでサイズ2のGa
llenkamp hotbox oven中においた。
クリーン画像で、前記の通り造影エネルギー密度500mJcm-2にて造影した。該
平版は、現像液Aを収容してなるHorsell Mercury Mark V平版処理装置を使用し
て22℃にて現像した。処理速度は700mm/分にセットした。最後に、得られ
た画像をTobias plate check densitomerを使用して読みとった。 Creo Trendsetterによって露光された50%網目スクリーン画像のデンシトメ
ータの表示を以下の表に示した。
間の乾燥を経た後、コーティング重量が2.0gm-2の特定の乾燥フィルム組成物
を得た。
ラフト紙、90gm-2、低密度のマットな黒色ポリエチレン20gm-2でコーティン
グされたもの)で13の平版束として包んだ。 2.間紙で覆いはせず、紙(無漂白、光滑剤無しのクラフト紙、90gm-2、低密
度のマットな黒色ポリエチレン20gm-2でコーティングされたもの)で13の平
版束として包んだ。
々な期間(0から80時間)おいた。得られた熱処理平版を、前記の通りCreo T
rendsetterを用い、50%の網目スクリーン画像で、造影エネルギー密度200
mJcm-2にて造影した。該平版は、現像液Aを収容してなるHorsell Mercury Mark
V平版処理装置を使用して22℃にて現像した。処理速度は700mm/分にセッ
トした。最後に、得られた画像をTobias plate check densitomerを使用して読 みとり、以下の表に示した。
3分間の乾燥を経た後、コーティング重量が2.0gm-2の特定の乾燥フィルム組
成物を得た。
漂白、光滑剤無しのクラフト紙、90gm-2、低密度のマットな黒色ポリエチレン
20gm-2でコーティングされたもの)で包み、ファン付きでサイズ2のGallenka
mp hotbox oven中、様々な期間(0から17日間)に渡って様々な温度(室温か
ら50℃)下においた。得られた熱処理平版を、前記の通りCreo Trendsetterを
用い、50%の網目スクリーン画像で、造影エネルギー密度200mJcm-2にて造
影した。該平版は、現像液Aを収容してなるHorsell Mercury Mark V平版処理装
置を使用して22℃にて現像した。処理速度は500及び1500mm/分にセッ
トした。最後に、得られた画像をTobias plate check densitomerを使用して読 みとり、以下の表に示した。
処理条件が最適とは程遠いことに注目すべきである。しかしながら、この結果に
よれば、優れた安定性を得るためには室温よりも高い温度が必要であり、少なく
とも40℃の温度にて1から6日間の熱処理によれば、適切な安定性の組成物が
得られると思われる。
板Aにコーティングした。該溶液の濃度は、Mathis labdryer oven中、100℃
にて3分間の乾燥を経た後、コーティング重量が2.5gm-2の特定の乾燥フィル
ム組成物を供するように選択した。
密度のマットな黒色ポリエチレン20gm-2でコーティングされたもの)で包み、 1)室温にて、0、1、2及び4日間貯蔵した または、 2)ファン付きでサイズ2のGallenkamp hotbox oven中に、55℃にて0、1、
2及び4日間おいた。
%の網目スクリーン画像で、造影エネルギー密度150、200、250及び3
00mJcm-2にて造影した。該平版は、現像液Aを収容してなるHorsell Mercury
Mark V平版処理装置を使用して22℃にて現像した。処理速度は750mm/分に
セットした。最後に、得られた画像を目視で評価し、50%造影を選るのに要し
たエネルギーを記録した。
1-メトキシプロパン-2-オール/ジメチルホルムアミド50:50(w:w)中の
溶液として、実施例14については1-メトキシプロパン-2-オール中の溶液と して調製した。該製剤を、前記の通り基板Aにコーティングし、Mathis labdrye
r oven中、130℃にて80秒間の乾燥を経た後、実施例12及び13について
はコーティング重量が1.2gm-2の、実施例14についてはコーティング重量が
2.5gm-2の特定の乾燥フィルム組成物を得た。
無漂白、光滑剤無しのクラフト紙、90gm-2、低密度のマットな黒色ポリエチレ
ン20gm-2でコーティングされたもの)で包み、 1)ファン付きでサイズ2のGallenkamp hotbox oven中に、50℃にて2日間お
いた または、 2)室温にて、2日間貯蔵した。
実施例13については現像液Aに20℃にて含浸させ、実施例12及び14につ
いては現像液Bに20℃にて含浸させることにより現像し、これによって造影コ
ーティング部が除去されて渦巻き状画像が残った。120mJcm-2の造影エネルギ
ー密度を有する画像を得るのに必要な含浸時間は、下記の表の第一列に記載した
。
間含浸させることによって現像能(developability)を試験し、実施例13及び
14の平版サンプルについて、現像液Aに35℃にて適当な時間含浸させること
によって現像能を試験した。下記の表の第二列には、該組成物についてのこれら
の簡単な現像能試験の結果をまとめた。
未満の粒子径を有するものとした。
にかけた。 実施例17については、カーボンブラックFW2及び樹脂Bを上記の通りボー
ルミルにかけた。
濃度は、Mathis labdryer oven中、110℃にて90秒間の乾燥を経た後、コー
ティング重量が2.5gm-2の特定の乾燥フィルム組成物を供するように選択した
。
el Grant, UKにより提供)で覆い、低密度のマットな黒色ポリエチレン(20gm -2 、Samuel Grant, UKにより提供)でコーティングされた紙(無漂白、光滑剤無
しのクラフト紙、90gm-2)で包み、Sanyo Gallenkamp plc of Leicester, U.K
.により提供されるファン付きでサイズ2のGallenkamp hotbox oven中、55℃ にて4日間おいた。
0(50%網目スクリーン)で、10W、200mJcm-2、127rpmにて造影した
。
ことによって処理した。他のサンプルは、現像液Aを収容してなり、平版速度が
1500mm/分であるHorsell Mercury Mark V処理装置を使用して22.5℃に
て現像した。画像(50%網点で表示)を、Tobias Associates Inc. of Ivylan
d, Pennsylvania, U. S. A.により提供されるTobias plate check densitomerを
使用して測定した。
であれば、これらの光の典型的な波長範囲は認識しているであろう。しかしなが
ら、あらゆる疑義を回避するため、UV光は典型的には約450nmを越えない波
長を有する(450nmを越えると弱いことを意味する)。可視光は約400kら
700nmの波長を有する。赤外光は、典型的には600nmを越える波長範囲を有
し、UV光と可視光、及び赤外光と可視光との境界は、鮮明ではない。
前に出願され、本明細書と共に総覧に供されている全ての論文及び文献に向けら
れるが、こうした論文及び文献の全ての内容をここに参照のために取り込むもの
とする。
特徴、及び/または開示されたあらゆる方法または行程の全ての段階は、こうし
た特徴及び/または段階の少なくともいくつかが相互に排他的である組み合わせ
以外は、あらゆる組み合わせで組み合わせ可能である。
は、否定的な記載のない限り、同一、等価または類似の目的のための代替的な機
構と置き換え可能である。したがって、否定的な記載のない限り、開示された各
特徴は、一連の等価または類似の特徴に属する一例に過ぎない。
る従属クレーム、ようやく及び図面を含む)に開示された特徴のあらゆる新規な
一つ、またはあらゆる新規な組み合わせに、もしくはここに開示されたあらゆる
方法または行程のあらゆる新規な一つ、またはあらゆる新規な組み合わせにまで
拡張される。
Claims (76)
- 【請求項1】 基板上のコーティングを備え、該コーティングがフェノー ル樹脂を含むポジ型組成物を含む印刷版前駆体の製造方法であって、溶媒中の組
成物の基板への塗布、該組成物の乾燥、及びこうしてコーティングされた基板の
熱処理を含む製造方法。 - 【請求項2】 熱処理が、40から90℃の温度で行われる請求項1に記 載の方法。
- 【請求項3】 熱処理が、45から85℃で行われる請求項2に記載の方 法。
- 【請求項4】 熱処理が、50から60℃で行われる請求項3に記載の方 法。
- 【請求項5】 熱処理が、少なくとも4時間行われる請求項1から4のい ずれか一項に記載の方法。
- 【請求項6】 熱処理が、少なくとも24時間行われる請求項1から5の いずれか一項に記載の方法。
- 【請求項7】 組成物の乾燥が、溶媒中の組成物を備えた基板を、熱処理 のために選択した温度を超える温度の下に熱処理のために選択した期間よりも短
期間おくことにより行われる請求項1から6のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項8】 組成物の乾燥が、溶媒中の組成物を備えた基板を、70℃ を超える温度の下に少なくとも15秒の(但し該組成物に自己支持性を与えるに
十分な)間、但し600秒未満の間おくことにより行われる請求項1から7のい
ずれか一項に記載の方法。 - 【請求項9】 熱処理が、前記の熱処理を施した組成物の感受性低下が一 年に渡って15%を越えないものである請求項1から8のいずれか一項に記載の
方法。 - 【請求項10】 前記低下が、10%を越えない請求項9に記載の方法。
- 【請求項11】 該組成物が、その現像液への溶解度が偶発的なUV光に よって増大しないものである請求項1から11のいずれか一項に記載の方法。
- 【請求項12】 該組成物が、ジアジド部分を含まない請求項1から11 のいずれか一項に記載の方法。
- 【請求項13】 前記組成物が、直接の熱によって、もしくはいずれの場 合もコーティングによって熱に変換される荷電粒子放射または電磁気放射によっ
て、パターン状に露光可能である請求項1から12のいずれか一項に記載の方法
。 - 【請求項14】 該組成物が、完全にもしくは主に450nmを越える波長 の光に対して感受性である請求項13に記載の組成物。
- 【請求項15】 該組成物が、完全にもしくは主に500nmを越える波長 の光に対して感受性である請求項14に記載の組成物。
- 【請求項16】 該組成物が、完全にもしくは主に600から1400nm の範囲の電磁放射線に対して感受性である請求項15に記載の組成物。
- 【請求項17】 レーザーによって供給される放射によりパターン状に露 光可能である請求項13から16のいずれか一項に記載の方法。
- 【請求項18】 該コーティングが、放射にパターン状に露光させた際、 前記放射を熱に変換するものである請求項13から17のいずれか一項に記載の
方法。 - 【請求項19】 該組成物が、放射に画像状に露光させた際、前記組成物 自体が前記放射を吸収し、前記放射を熱に変換する請求項13から17のいずれ
か一項に記載の方法。 - 【請求項20】 前記組成物が、前記放射を吸収し、これを熱に変換する 放射吸収化合物を含む請求項19に記載の方法。
- 【請求項21】 前記コーティングが、前記組成物の下に付加的な層を備 え、該付加的な層が前記放射を吸収し、これを熱に変換する放射吸収化合物を含
む請求項18に記載の方法。 - 【請求項22】 放射吸収化合物が、顔料である請求項20または21に 記載の方法。
- 【請求項23】 放射吸収化合物が、カーボンブラックである請求項20 から22のいずれか一項に記載の方法。
- 【請求項24】 顔料が、有機顔料である請求項22に記載の方法。
- 【請求項25】 顔料が、フタロシアニン顔料である請求項24に記載の 方法。
- 【請求項26】 顔料が、無機顔料である請求項22に記載の方法。
- 【請求項27】 顔料が、プルシアンブルー(藍色顔料)、ヘリオゲング リーン(Heliogen Green)またはニグロシンより選択される請求項26に記載の
方法。 - 【請求項28】 放射吸収化合物が、下記の種類のうちの一つ、スクアリ ーリウム(squarylium)、メロシアニン(merocyanine)、シアニン、インドリ ジン、ピリリウム(pyrylium)または金属ジチオリンから選択される染料である
請求項20または21に記載の方法。 - 【請求項29】 別個の放射吸収層が、染料もしくは顔料の薄層である請 求項21に記載の方法。
- 【請求項30】 別個の放射吸収層が、金属もしくは金属酸化物の薄層で ある請求項21に記載の方法。
- 【請求項31】 組成物が、水性現像液に可溶なフェノール樹脂及び該フ ェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物を含む請求項1から30の
いずれか一項に記載の方法であって、該組成物の水性現像液溶解度が加熱に際し
て増大し、該組成物の水性現像液溶解度が偶発的なUV光によって増大しないこ
とを特徴とする方法。 - 【請求項32】 フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる前記化 合物が、少なくとも一の四級化された窒素原子を含む化合物である請求項31に
記載の方法。 - 【請求項33】 フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物 が、少なくとも一の複素環に導入された窒素原子を含む化合物である請求項31
に記載の方法。 - 【請求項34】 フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物 が、キノリン及びトリアゾールから選択される請求項33に記載の方法。
- 【請求項35】 フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物 が、少なくとも一の複素環に導入された四級化窒素原子を含む化合物である請求
項31に記載の方法。 - 【請求項36】 フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物 が、イミダゾリン化合物、キノリニウム化合物、ベンゾチアゾリウム化合物及び
ピリジニウム化合物より選択される請求項35に記載の方法。 - 【請求項37】 キノリニウム化合物がシアニン染料である請求項36に 記載の方法。
- 【請求項38】 ベンゾチアゾリウム化合物がシアニン染料である請求項 36に記載の方法。
- 【請求項39】 フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物 が、トリアリールメタン化合物である請求項31に記載の方法。
- 【請求項40】 フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物 が、カルボニル官能基を含む請求項31に記載の方法。
- 【請求項41】 フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物 が、フラボン化合物より選択される請求項40に記載の方法。
- 【請求項42】 フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物 が、フラボン、キサントン、ベンゾフェノン、N-(4-ブロモブチル)フタルイ
ミド、2,3-ジフェニル-1-インデネオン及びフェナントレンキノンより選択 される請求項40に記載の方法。 - 【請求項43】 フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物 が、一般式: Q1-S(O)n-Q2 において、Q1が任意に置換されたフェニルもしくはアルキル基を表し、nが0 、1もしくは2を表し、Q2がハロゲン原子もしくはアルコキシ基を表す化合物 である請求項31に記載の方法。
- 【請求項44】 フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物 が、エチル-p-トルエンスルホナート及びp-トルエンスルホニルクロライドよ り選択される請求項31に記載の方法。
- 【請求項45】 フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物 が、アクリジンオレンジベース(CI溶媒オレンジ15)である請求項31に記
載の方法。 - 【請求項46】 フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物 が、フェロセニウム化合物である請求項31に記載の方法。
- 【請求項47】 フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させる化合物 が、放射吸収化合物でもあり、前記放射を吸収し、熱に転化させることが可能な
請求項20に記載の方法。 - 【請求項48】 フェノール樹脂の水性現像液溶解度を低下させ、放射吸 収化合物でもある化合物が、キノリニウム部分を含むシアニン染料である請求項
47に記載の方法。 - 【請求項49】 フェノール樹脂が官能基Qを有し、このため官能化フェ ノール樹脂が放射の送達前には現像液不溶性であって、その後には現像液可溶性
となる特性を有し、官能基Qがナフトキノンジアジドもしくはベンゾキノンジア
ジド基を有しない請求項1から30のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項50】 フェノール樹脂が官能基Qを有し、このため官能化フェ ノール樹脂が放射の送達前には現像液不溶性であって、その後には現像液可溶性
となる特性を有し、官能基Qがジアジド基を有しない請求項1から30のいずれ
か一項に記載の方法。 - 【請求項51】 フェノール樹脂が官能基Qを有し、このため官能化フェ ノール樹脂が放射の送達前には現像液不溶性であって、その後には現像液可溶性
となる特性を有し、官能基Qが前記放射を受けた際に化学的に分解されない請求
項1から30のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項52】 フェノール樹脂が官能基Qを有し、このため官能化フェ ノール樹脂が放射の送達前には現像液不溶性であって、その後には現像液可溶性
となる特性を有し、官能基Qが酸基もしくは酸生成基を含まず、それぞれの場合
において前記放射を受けた際に除去される不安定な保護基によって保護されてな
る請求項1から30のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項53】 フェノール樹脂が官能基Qを有し、このため官能化フェ ノール樹脂が放射の送達前には現像液不溶性であって、その後には現像液可溶性
となる特性を有し、官能基Qがさらに前記放射の吸収に本質的には寄与しない請
求項1から30のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項54】 フェノール樹脂が官能基Qを有し、このため官能化フェ ノール樹脂が放射の送達前には現像液不溶性であって、その後には現像液可溶性
となる特性を有し、前記官能基Qと同一分子のもしくはポリマー物質の他の分子
との間に水素結合が存在する請求項1から30のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項55】 官能基Qが、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキル アミノ、アミド、モノアルキルアミド、ジアルキルアミド、クロロ、フルオロ、
カルボニル、スルフィニルもしくはスルホニル部分を含む群から選択される請求
項49から54のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項56】 官能化フェノール樹脂が、式R-(Q)nによって定義さ れ、式中、Rがフェノル樹脂のポリマー鎖を表し、(Q)nがこれに結合した官 能基を表し、ここでQは式-T-Zの基を表し、Tが同一分子もしくは隣接分子の
ポリマー鎖Rに水素結合する部分を表し、Zが同一分子もしくは隣接分子のポリ
マー鎖Rに任意に水素結合する別の部分を表す請求項49から55のいずれか一
項に記載の方法。 - 【請求項57】 Tが、カルボニル基、スルフィニル基もしくはスルホニ ル基を表す請求項56に記載の方法。
- 【請求項58】 Tが、式-O-X(Z)-O-を表し、式中Xが結合部分を 表し、Zが同一分子もしくは隣接分子のポリマー鎖Rに任意に水素結合する部分
である請求項56または57に記載の方法。 - 【請求項59】 Zが任意に置換されたアルキル、アルケニル、アルキニ ル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、複素環、アラルキルもしくは
ヘテロアラルキル基を表す請求項56,57もしくは58に記載の方法。 - 【請求項60】 Zが、任意に置換されたアリール基、任意に置換された ヘテロアリール基もしくは任意に置換されたアルキル基を表す請求項59に記載
の方法。 - 【請求項61】 官能化フェノール樹脂中の官能基Qの、対応する非官能 化フェノール樹脂中のヒドロキシ基に対する比率が、1:100から1:2の範
囲である請求項56から60のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項62】 前記比率が、1:50から1:3の範囲である請求項6 1に記載の方法。
- 【請求項63】 前記比率が、1:20から1:6の範囲である請求項6 2に記載の方法。
- 【請求項64】 フェノール樹脂が、一般式R(Q)nの樹脂エステルであ
って、式中、Rがフェノール樹脂のポリマー鎖であり、Qが-O-T1-Zを表し、
式中T1はカルボニル基、スルフィニル基もしくはスルホニル基、もしくは化学 式-O-X(Z)-O-においてXが-P(O)-を表す基を表し;式中Zはアルキル
、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、非芳
香族複素環、アラルキルもしくはヘテロアラルキル基であって、これらの各基は
任意に置換され;ここでアリール及びヘテロアリール基の、及びアラルキルもし
くはヘテロアラルキル基のアリール及びヘテロアリール部分の任意の置換基は、
ハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、チオール、アミノ、任意に置換されたモノ
-C1-4アルキルアミノ、任意に置換されたジ-C1-4アルキルアミノ、アミド、任
意に置換されたモノ-(C1-4アルキル)アミド、任意に置換されたジ-(C1-4ア
ルキル)アミド、任意に置換されたC2-4アルケニル、任意に置換されたC1-4ア
ルキル、任意に置換されたC1-4アルコキシ、(C1-4アルキル)カルボニルアミ
ノ、-COOH、任意に置換された(C1-4アルキル)カルボニル及び任意に置換
された(C1-4アルコキシ)カルボニル基;及び式中、アルキル、アルケニル、 アルキニル、シクロアルキル及び非芳香族複素環基の、及びアラルキル及びヘテ
ロアラルキル基のアルキル部分の、及び前記アリールもしくはヘテロアリール部
分を任意に置換するアルキル、アルコキシ、アルキルアミノ、アルキルアミド、
アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルアミノ及びア
ルケニル部分の任意の置換基は、ハロ、ニトロ、シアノ、カルボニル、ヒドロキ
シ、チオール、アミノ、モノ-C1-4アルキルアミノ、ジ-C1-4アルキルアミノ、
アミド、モノ-(C1-4アルキル)アミド、ジ-(C1-4アルキル)アミド、C1-4 アルコキシ、-COOH、(C1-4アルキル)カルボニルアミノ、(C1-4アルキ ル)カルボニル及び(C1-4アルコキシ)カルボニル基から選択される請求項4 9から55のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項65】 T1が、スルホニルもしくはカルボニル基を表し、Zがジ
アルキルアミノもしくはアルキル基で任意に置換されたフェニルもしくはナフチ
ル基を表し;または、Zがチエニル基もしくはC2-8アルキル基を表す請求項6 4に記載の方法。 - 【請求項66】 該組成物が、レゾール樹脂、ノボラック樹脂、潜在的ブ レンステッド酸及び赤外吸収化合物を含む請求項1から30のいずれか一項に記
載の方法。 - 【請求項67】 該組成物が、ノボラック樹脂、放射感受性潜在的酸発生 化合物、ノボラック樹脂用の縮合剤及び赤外吸収化合物を含む請求項1から30
のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項68】 縮合剤が、任意に置換されたポリビニルフェノール化合 物もしくはビス-ヒドロキシアルキル化合物である請求項67に記載の方法。
- 【請求項69】 該組成物が、フェノール樹脂及び光分解可能なオニウム 塩を含む請求項1から30のいずれか一項に記載の方法。
- 【請求項70】 該組成物が、オニウム塩用のスペクトル増感剤を含む請 求項69に記載の方法。
- 【請求項71】 該組成物が、水性現像液への溶解に対する感熱性組成物 の非加熱部の抵抗を増大させるための手段(以下、“現像液レジスト手段”)を
含み、前記現像液レジスト手段が、以下: (A)ポリ(アルキレンオキシド)単位を含む化合物; (B)シロキサン; (C)多価アルコールのエステル、エーテル及びアミド; より選択される一以上の化合物を含む請求項1から70のいずれか一項に記載の
方法。 - 【請求項72】 該組成物が、フェノール樹脂及びジアジド部分を含む請 求項1から10のいずれか一項に記載の方法。
- 【請求項73】 請求項1から72のいずれか一項に記載の方法によって 製造されるポジ型平版印刷版自体。
- 【請求項74】 請求項73に記載の前駆体の組成物の選択された部分の 有効な加熱の露光段階を含み、こうした部分を現像液可溶性とし、次いで水性現
像液中での現像により前記の選択された部分が除去される印刷版の製造方法。 - 【請求項75】 請求項74に記載の方法によって製造される平版印刷版 。
- 【請求項76】 それぞれ個別に、本質的に実施例について記載された通 りの印刷版前駆体の製造方法、もしくは印刷版前駆体自体、もしくは印刷版の製
造方法もしくは印刷版自体。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003072877A1 (fr) | 2002-02-27 | 2003-09-04 | Tokushu Paper Mfg. Co., Ltd. | Panneau de revetement pour plaque lithographique et son procede de fabrication, et plaque lithographique protegee et empilement correspondant |
JP2013025265A (ja) * | 2011-07-25 | 2013-02-04 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版、平版印刷版及び平版印刷版の作製方法 |
Families Citing this family (66)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB9722861D0 (en) * | 1997-10-29 | 1997-12-24 | Horsell Graphic Ind Ltd | Improvements in relation to the manufacture of lithographic printing forms |
US6573022B1 (en) | 1997-10-17 | 2003-06-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive type photosensitive image-forming material for an infrared laser and a positive type photosensitive composition for an infrared laser |
GB9722862D0 (en) * | 1997-10-29 | 1997-12-24 | Horsell Graphic Ind Ltd | Pattern formation |
US6352811B1 (en) | 1998-06-23 | 2002-03-05 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
US6534238B1 (en) | 1998-06-23 | 2003-03-18 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
WO2000029214A1 (en) | 1998-11-16 | 2000-05-25 | Mitsubishi Chemical Corporation | Positive-working photosensitive lithographic printing plate and method for producing the same |
CA2314520A1 (en) * | 1999-07-30 | 2001-01-30 | Domenico Tiefenthaler | Composition sensitive to ir radiation and to heat and lithographic plate coated therewith |
US6706466B1 (en) * | 1999-08-03 | 2004-03-16 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Articles having imagable coatings |
US6461794B1 (en) | 1999-08-11 | 2002-10-08 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Lithographic printing forms |
US6296982B1 (en) | 1999-11-19 | 2001-10-02 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imaging articles |
US6300038B1 (en) | 1999-11-19 | 2001-10-09 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Articles having imagable coatings |
US6391524B2 (en) | 1999-11-19 | 2002-05-21 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Article having imagable coatings |
US6692896B2 (en) * | 2000-03-01 | 2004-02-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Heat mode-compatible planographic printing plate |
JP4137345B2 (ja) | 2000-06-05 | 2008-08-20 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP4233199B2 (ja) * | 2000-06-30 | 2009-03-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製造方法 |
BR0112946A (pt) | 2000-08-04 | 2004-02-03 | Kodak Polychrome Graphics Co | Forma de impressão litográfica e método de prepapação e uso da mesma |
US6649324B1 (en) * | 2000-08-14 | 2003-11-18 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Aqueous developer for lithographic printing plates |
EP1333977A1 (en) | 2000-10-26 | 2003-08-13 | Kodak Polychrome Graphics LLC | Compositions comprising a pigment |
US6777164B2 (en) | 2001-04-06 | 2004-08-17 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Lithographic printing forms |
EP1256444B1 (en) | 2001-04-09 | 2004-06-30 | Agfa-Gevaert | Positive-working lithographic printing plate precursor |
US6677106B2 (en) * | 2002-01-03 | 2004-01-13 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Method and equipment for using photo- or thermally imagable, negatively working patterning compositions |
US6723489B2 (en) | 2002-01-30 | 2004-04-20 | Kodak Polychrome Graphics Llp | Printing form precursors |
US6843176B2 (en) | 2002-04-26 | 2005-01-18 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Method to remove unwanted, unexposed, radiation-sensitive layer in a lithographic printing plate |
EP1551643B1 (en) * | 2002-10-04 | 2008-01-09 | Agfa Graphics N.V. | Method of making a lithographic printing plate precursor |
US20060234161A1 (en) | 2002-10-04 | 2006-10-19 | Eric Verschueren | Method of making a lithographic printing plate precursor |
DE60316826T2 (de) | 2002-10-04 | 2008-07-17 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur herstellung eines lithographischen druckplattenvorläufers |
CN100448689C (zh) * | 2002-10-04 | 2009-01-07 | 爱克发印艺公司 | 制造平版印刷版前体的方法 |
US6953652B2 (en) | 2003-01-27 | 2005-10-11 | Agfa-Gevaert | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
US7087359B2 (en) | 2003-01-27 | 2006-08-08 | Agfa-Gevaert | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
US6876017B2 (en) * | 2003-02-08 | 2005-04-05 | Intel Corporation | Polymer sacrificial light absorbing structure and method |
US20040241573A1 (en) * | 2003-06-02 | 2004-12-02 | Ray Kevin Barry | Thermally sensitive, white light safe mask for use in flexography |
US7297465B2 (en) | 2003-12-18 | 2007-11-20 | Agfa Graphics Nv | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
US6969570B1 (en) | 2004-10-26 | 2005-11-29 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Solvent resistant imageable element |
SI1655317T1 (sl) | 2004-11-09 | 2007-10-31 | Ipagsa Ind Sl | Toplotno reaktivni infrardeäśi absorpcijski polimeri in njihova uporaba v litografskih ploĺ äśah, obäśutljivih na toploto |
KR101179830B1 (ko) * | 2005-06-03 | 2012-09-04 | 아메리칸 다이 소스, 인코포레이티드 | 열반응성 근적외선 흡수성 아세탈 공중합체, 이의 제조방법및 이의 사용방법 |
US7175967B1 (en) | 2006-03-02 | 2007-02-13 | Eastman Kodak Company | Heat treatment of multilayer imageable elements |
GB2439734A (en) | 2006-06-30 | 2008-01-09 | Peter Andrew Reath Bennett | Coating for a lithographic precursor and use thereof |
US7175969B1 (en) | 2006-07-18 | 2007-02-13 | Eastman Kodak Company | Method of preparing negative-working radiation-sensitive elements |
ATE468981T1 (de) | 2007-11-30 | 2010-06-15 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur behandlung einer lithografiedruckplatte |
ES2430562T3 (es) | 2008-03-04 | 2013-11-21 | Agfa Graphics N.V. | Método para la fabricación de un soporte de una plancha de impresión litográfica |
ES2365885T3 (es) | 2008-03-31 | 2011-10-13 | Agfa Graphics N.V. | Un método para tratar una plancha de impresión litográfica. |
ES2381535T3 (es) | 2009-06-18 | 2012-05-29 | Agfa Graphics N.V. | Precursor de plancha de impresión litográfica |
US8298750B2 (en) | 2009-09-08 | 2012-10-30 | Eastman Kodak Company | Positive-working radiation-sensitive imageable elements |
JP5696155B2 (ja) | 2009-10-29 | 2015-04-08 | マイラン・グループ | リソグラフィック印刷プレート用コーティング組成物のためのガロタンニン化合物 |
EP2329951B1 (en) | 2009-12-04 | 2012-06-20 | AGFA Graphics NV | A lithographic printing plate precursor |
EP2547525A1 (en) | 2010-03-18 | 2013-01-23 | J P Imaging Limited | Improvements in or relating to printing |
US8939080B2 (en) | 2010-11-18 | 2015-01-27 | Eastman Kodak Company | Methods of processing using silicate-free developer compositions |
US20120129093A1 (en) | 2010-11-18 | 2012-05-24 | Moshe Levanon | Silicate-free developer compositions |
US8530143B2 (en) | 2010-11-18 | 2013-09-10 | Eastman Kodak Company | Silicate-free developer compositions |
WO2012101046A1 (en) | 2011-01-25 | 2012-08-02 | Agfa Graphics Nv | A lithographic printing plate precursor |
US20120192741A1 (en) | 2011-01-31 | 2012-08-02 | Moshe Nakash | Method for preparing lithographic printing plates |
EP2489512B1 (en) | 2011-02-18 | 2013-08-28 | Agfa Graphics N.V. | A lithographic printing plate precursor |
CN104870193B (zh) | 2013-01-01 | 2017-12-22 | 爱克发印艺公司 | (乙烯、乙烯醇缩醛)共聚物和它们在平版印刷版前体中的用途 |
EP2933278B1 (en) | 2014-04-17 | 2018-08-22 | Agfa Nv | (Ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors |
ES2617557T3 (es) | 2014-05-15 | 2017-06-19 | Agfa Graphics Nv | Copolímeros (de etileno, vinilacetal) y su uso en precursores de plancha de impresión litográfica |
ES2660063T3 (es) | 2014-06-13 | 2018-03-20 | Agfa Nv | Copolímeros (de etileno, vinilacetal) y su uso en precursores de plancha de impresión litográfica |
EP2963496B1 (en) | 2014-06-30 | 2017-04-05 | Agfa Graphics NV | A lithographic printing plate precursor including ( ethylene, vinyl acetal ) copolymers |
EP3032334B1 (en) | 2014-12-08 | 2017-10-18 | Agfa Graphics Nv | A system for reducing ablation debris |
EP3130465B1 (en) | 2015-08-12 | 2020-05-13 | Agfa Nv | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
EP3157310A1 (en) | 2015-10-12 | 2017-04-19 | Agfa Graphics Nv | An entry sheet for perforating electric boards such as printed circuit boards |
EP3170662B1 (en) | 2015-11-20 | 2019-08-14 | Agfa Nv | A lithographic printing plate precursor |
BR112018068753A2 (pt) | 2016-03-16 | 2019-01-22 | Agfa Nv | método para processar uma chapa de impressão litográfica |
EP3637188A1 (en) | 2018-10-08 | 2020-04-15 | Agfa Nv | An effervescent developer precursor for processing a lithographic printing plate precursor |
EP3778253A1 (en) | 2019-08-13 | 2021-02-17 | Agfa Nv | Method for processing a lithographic printing plate |
EP4239411A1 (en) | 2022-03-04 | 2023-09-06 | Eco3 Bv | Method and apparatus for processing a lithographic printing plate precursor |
EP4382306A1 (en) | 2022-12-08 | 2024-06-12 | Eco3 Bv | Lithographic printing press make-ready method |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3628953A (en) * | 1967-09-27 | 1971-12-21 | Agfa Gevaert Nv | Thermorecording |
JPS63179359A (ja) * | 1987-01-21 | 1988-07-23 | Konica Corp | 感光性平版印刷版の製造方法 |
JPH06250448A (ja) * | 1993-02-23 | 1994-09-09 | Konica Corp | 感光性平版印刷版 |
JPH07271029A (ja) * | 1994-03-14 | 1995-10-20 | Eastman Kodak Co | 放射線感受性組成物およびそれを含む平板印刷版 |
JPH0915838A (ja) * | 1995-06-28 | 1997-01-17 | Konica Corp | 印刷版形成材料及び印刷版形成方法 |
JPH09197659A (ja) * | 1996-01-19 | 1997-07-31 | Konica Corp | 湿し水不要感光性平版印刷版及びそれを用いた平版印刷版の作製方法 |
JPH09211863A (ja) * | 1996-02-02 | 1997-08-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ画像形成組成物 |
JPH10239832A (ja) * | 1996-12-25 | 1998-09-11 | Konica Corp | 感光性平版印刷版の製造方法及び画像形成材料 |
JPH11506550A (ja) * | 1996-04-23 | 1999-06-08 | ホーセル・グラフィック・インダストリーズ・リミテッド | 感熱性組成物および該組成物を使用したリソグラフィックプリンティングフォームの作製方法 |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4115120A (en) | 1977-09-29 | 1978-09-19 | International Business Machines Corporation | Method of forming thin film patterns by differential pre-baking of resist |
JPS5629250A (en) * | 1979-08-08 | 1981-03-24 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Printing original plate and printing plate forming method |
US4532005A (en) * | 1984-05-21 | 1985-07-30 | At&T Bell Laboratories | Device lithography using multi-level resist systems |
US4708925A (en) | 1984-12-11 | 1987-11-24 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photosolubilizable compositions containing novolac phenolic resin |
US5085972A (en) * | 1990-11-26 | 1992-02-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Alkoxyalkyl ester solubility inhibitors for phenolic resins |
US5338628A (en) * | 1991-09-17 | 1994-08-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic light-sensitive material |
US5563011A (en) | 1993-04-21 | 1996-10-08 | Shipley Company Inc. | Color filter assembly |
EP0708372B1 (en) | 1994-10-21 | 2000-03-22 | Ngk Insulators, Ltd. | A single resist layer lift-off process for forming patterned layers on a substrate |
US5691094A (en) * | 1994-12-01 | 1997-11-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for preparation of printing plate by electrophotographic process and apparatus for use therein |
US5609995A (en) | 1995-08-30 | 1997-03-11 | Micron Technology, Inc. | Method for forming a thin uniform layer of resist for lithography |
JPH09120157A (ja) * | 1995-10-25 | 1997-05-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
JP3814961B2 (ja) * | 1996-08-06 | 2006-08-30 | 三菱化学株式会社 | ポジ型感光性印刷版 |
US6083662A (en) * | 1997-05-30 | 2000-07-04 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate |
JP3779444B2 (ja) * | 1997-07-28 | 2006-05-31 | 富士写真フイルム株式会社 | 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物 |
EP0897134B1 (en) * | 1997-08-13 | 2004-12-01 | Mitsubishi Chemical Corporation | Positive photosensitive composition, photosensitive lithographic printing plate and method for forming a positive image |
GB9722861D0 (en) * | 1997-10-29 | 1997-12-24 | Horsell Graphic Ind Ltd | Improvements in relation to the manufacture of lithographic printing forms |
GB9722862D0 (en) * | 1997-10-29 | 1997-12-24 | Horsell Graphic Ind Ltd | Pattern formation |
JPH11198335A (ja) * | 1998-01-16 | 1999-07-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製造方法 |
DE69925053T2 (de) * | 1998-02-04 | 2006-03-02 | Mitsubishi Chemical Corp. | Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung, lichtempfindliche Druckplatte und Verfahren zur Herstellung eines positiven Bildes |
US6352811B1 (en) * | 1998-06-23 | 2002-03-05 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
US6358669B1 (en) * | 1998-06-23 | 2002-03-19 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
US6251559B1 (en) * | 1999-08-03 | 2001-06-26 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Heat treatment method for obtaining imagable coatings and imagable coatings |
US6300038B1 (en) * | 1999-11-19 | 2001-10-09 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Articles having imagable coatings |
US6296982B1 (en) * | 1999-11-19 | 2001-10-02 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imaging articles |
-
1997
- 1997-10-29 GB GBGB9722861.3A patent/GB9722861D0/en not_active Ceased
-
1998
- 1998-10-26 DE DE69810804T patent/DE69810804T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-10-26 BR BRPI9814054-0A patent/BR9814054B1/pt not_active IP Right Cessation
- 1998-10-26 JP JP2000517846A patent/JP4643002B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1998-10-26 EP EP98949156A patent/EP1024958B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-10-26 AU AU95530/98A patent/AU9553098A/en not_active Abandoned
- 1998-10-26 WO PCT/GB1998/003191 patent/WO1999021715A1/en active IP Right Grant
- 1998-10-28 ZA ZA989812A patent/ZA989812B/xx unknown
-
2000
- 2000-04-25 US US09/558,109 patent/US6461795B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3628953A (en) * | 1967-09-27 | 1971-12-21 | Agfa Gevaert Nv | Thermorecording |
JPS63179359A (ja) * | 1987-01-21 | 1988-07-23 | Konica Corp | 感光性平版印刷版の製造方法 |
JPH06250448A (ja) * | 1993-02-23 | 1994-09-09 | Konica Corp | 感光性平版印刷版 |
JPH07271029A (ja) * | 1994-03-14 | 1995-10-20 | Eastman Kodak Co | 放射線感受性組成物およびそれを含む平板印刷版 |
JPH0915838A (ja) * | 1995-06-28 | 1997-01-17 | Konica Corp | 印刷版形成材料及び印刷版形成方法 |
JPH09197659A (ja) * | 1996-01-19 | 1997-07-31 | Konica Corp | 湿し水不要感光性平版印刷版及びそれを用いた平版印刷版の作製方法 |
JPH09211863A (ja) * | 1996-02-02 | 1997-08-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ画像形成組成物 |
JPH11506550A (ja) * | 1996-04-23 | 1999-06-08 | ホーセル・グラフィック・インダストリーズ・リミテッド | 感熱性組成物および該組成物を使用したリソグラフィックプリンティングフォームの作製方法 |
JPH10239832A (ja) * | 1996-12-25 | 1998-09-11 | Konica Corp | 感光性平版印刷版の製造方法及び画像形成材料 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003072877A1 (fr) | 2002-02-27 | 2003-09-04 | Tokushu Paper Mfg. Co., Ltd. | Panneau de revetement pour plaque lithographique et son procede de fabrication, et plaque lithographique protegee et empilement correspondant |
JP2013025265A (ja) * | 2011-07-25 | 2013-02-04 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版、平版印刷版及び平版印刷版の作製方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ZA989812B (en) | 1999-05-04 |
EP1024958A1 (en) | 2000-08-09 |
US6461795B1 (en) | 2002-10-08 |
DE69810804T2 (de) | 2003-11-20 |
GB9722861D0 (en) | 1997-12-24 |
AU9553098A (en) | 1999-05-17 |
WO1999021715A1 (en) | 1999-05-06 |
BR9814054B1 (pt) | 2009-05-05 |
JP4643002B2 (ja) | 2011-03-02 |
BR9814054A (pt) | 2000-09-26 |
DE69810804D1 (de) | 2003-02-20 |
EP1024958B1 (en) | 2003-01-15 |
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Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2001520953A (ja) | 平版印刷版の製造 | |
US6558869B1 (en) | Pattern formation | |
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