JP2002510404A

JP2002510404A - パターン形成方法および放射線感受性材料

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Publication number: JP2002510404A
Application number: JP50667199A
Authority: JP
Inventors: クリストファー・デイヴィッド・マックカラフ; ケヴィン・バリー・レイ; アラン・スタンレー・ヴィクター・モンク; スチュアート・ベイズ; マーク・ジョン・スポウェッジ
Original assignee: コダック・ポリクローム・グラフィックス・カンパニー・リミテッド
Priority date: 1997-07-05
Filing date: 1998-07-02
Publication date: 2002-04-02
Also published as: ATE204388T1; JP2002511955A; US6537735B1; DE69801363T2; EP0953166B1; BR9810545A; WO1999001796A3; AU8229498A; BR9810668A; EP1103373A3; US6218083B1; WO1999001795A3; WO1999001795A2; EP0953166A2; WO1999001796A2; WO1999001795A8; EP1103373A2; DE69801363D1; EP0996869A1

Abstract

(57)【要約】たとえば石版印刷版、回路基板およびマスクなどの上に所定のレジストパターンを形成するための方法であって、該方法は、直接加熱放射、ＵＶ照射、可視光照射、赤外線照射もしくは電子ビーム照射などの適切な放射方法を用いて、放射線感受性ポジ型被覆に画像を通して露出する工程を含む。前記方法は、官能基Ｑによって官能基化された新規な高分子材料を使用することを特徴とし、これにより該高分子材料は現像剤中で不溶となり、露出後には現像剤中で可溶となる。官能基Ｑは、従来のようなジアジド基ではなく、放射線に露出されても窒素を遊離せず、水素結合能を有する基である。官能基Ｑの例としては、２−ナフチルスルホニルオキシ、２−チエニルスルホニルオキシ、ダンシルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシ、ベンゾイルオキシ、およびｎ−ブチルスルホニルオキシが挙げられる。

Description

【発明の詳細な説明】パターン形成方法および放射線感受性材料本発明は、ポジ型放射線感受性組成物を含む被覆でコートされた基板上に、所望のパターンを形成する方法に関する。本発明はさらに、新規なポジ型放射線感受性組成物そのもの、該組成物内で用いられる新規な化合物、およびその製造方法に関する。組成物は、石版印刷版、またはプリント回路などの電子パーツの精細なレジストパターンを形成するのに適している。本発明はさらに、石版印刷版および電子パーツそのもの、ならびにそれらの製造方法にも関する。石版印刷の技術は、一般には油状の調合物であるインキと、水との間の不混和性に基づいており、従来の方法においてはインキが画像領域またはパターン領域に選択的に保持され、水または湿し水が非画像領域または非パターン領域に選択的に保持される。適切に準備された表面を水で湿潤させた後、インキを塗布する場合、背景または非画像領域が水を保持する一方、画像領域はインキを受理するとともに、水を反発する。画像領域上のインキは、被画像再生材料、たとえば紙や布などの表面上に転写される。一般に、インキは、ブランケットと呼ばれる中間材料に転写され、次に該ブランケットはそのインキを被画像再生材料の表面上に転写する。新しいタイプの「水なし」石版印刷では、油状のインキ材料と、印刷版上の選択的にインキを受理する画像領域およびインキを反発する非画像領域とだけを利用する。一般に用いられるタイプの石版印刷版前駆体(露出と現像前の被覆印刷版を意味する)は、アルミニウム基体に塗布された放射線感受性被覆を有する。ネガ型石版印刷版の前駆体は、適切な波長の放射線に画像を通して露出された場合に露出部が硬化する放射線感受性被覆を有している。現像により、被覆組成物の非露出部が除去されて画像が残る。一方、ポジ型石版印刷版前駆体は、適切な波長の放射線に画像を通して露出された後に、現像剤中における露出部の可溶性が非露出部よりも大きくなるような放射線感受性被覆を有する。いずれの場合においても、印刷版自体の上にある画像領域のみがインク受領性を有する。画像領域と非画像領域の間の区別化は露出プロセスにおいて行われ、該露出プロセスにおいて、良好な接触を可能にするようにフィルムが印刷版前駆体に真空密着される。次に、印刷版前駆体は、ＵＶ放射を含む光源に露出される。ポジ版前駆体が用いられる場合は、印刷版前駆体内の画像に対応するフイルム領域は、印刷版前駆体に光が当たらないように不透明であり、一方、非画像領域に対応するフイルム上の領域は透明で、被覆に光を透過させる結果、該被覆がより可溶になり、除去される。プリント回路などの電子パーツのためのパターン形成方法において用いられるフォトレジストもまた、ネガ型およびポジ型の２つのタイプに分類される。放射線露出と現像の後、レジストパターンは、たとえば下層の銅箔をエッチングすることによって、下層の電子パーツ上にパターンを形成するためのマスクとして使用される。高い解像度が要求され、またエッチング技術に対する高い耐性が要求されるため、ポジ型系が広く用いられている。特に、Ｊ．Ｃ．Ｓｔｒｅｉｔｅｒ，ＫｏｄａｋＭｉｃｒｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓＳｅｍｉｎａｒＰｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ，１９７９，ｐ．１１６に開示されているような、アルカリ可溶ノボラック樹脂などからなる、アルカリによる現像が可能なポジ型フォトレジストが主として使用されてきた。そのようなポジ型組成物の主要活性化合物は、石版印刷版および電子パーツのいずれの場合においても、ナフトキノンジアジド（ＮＱＤ）誘導体である。製造においてフォトレジストを使用してもよい種類の電子パーツとしては、プリント配線基板（ＰＷＢ）、抵抗、コンデンサ、およびインダクタなどの受動的要素を含む厚膜回路および薄膜回路や、マルチチップ素子（ＭＤＣ）、ならびに集積回路（ＩＣ）が含まれる。これらはすべてプリント回路として分類される。画像形成能を有する組成物もまたマスクに塗布することができる。要求されるパターンをマスク上に形成し、このマスクをその後の加工工程において、たとえば印刷用または電子パーツ用基板上にパターンを形成する際に、スクリーンとして使用する。ここ数十年にわたり、実質的にすべてのポジ型系の商業的適用例に共通していたのは、アルカリ可溶のフェノール樹脂とＮＱＤ誘導体とを含む組成物であった。しかしながら、樹脂の現像剤耐性を阻止し、露出後の溶解性を高めることにおける、組成物中でのＮＱＤ誘導体の役割は、その効果がＯ．Ｓｕｓ（Ａｎｎａｌｅｎ，１９４４，５５６，６５；ドイツ特許第８７９，２０４号）によって発見されてから数十年たっても、十分には理解されていない。純粋な樹脂の溶解プロセスの本質が詳細に研究されており(Ｔｅｍｐｌｅｔｏｎら、ＳＰＩＥＶｏｌ．７１１ＡｄｖａｎｃｅｓｉｎＲｅｓｉｓｔＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙａｎｄＰｒｏｃｅｓｓｉｎｇＩＶ（１９８７），ｐ．１３６)、樹脂構造および現像剤成分の効果が調べられている。フェノール樹脂の溶解は、主として、架橋基、置換位置、およびフェニル環置換基立体効果などの一次構造特性によって支配されており、それが、いわゆる樹脂二次構造と呼ばれる樹脂鎖の分子内および分子間結合に重大な影響を与える。この二次構造は、樹脂内を通る親水性部位のチャネルを形成し、これが現像剤内における溶解を促進する。ＮＱＤの使用により引き起こされる樹脂の溶解阻止の特質について、多数の研究者達（Ｋｏｓｈｉｂａら，ＲｅｇｉｏｎａｌＴｅｃｈｎｉｃａｌＣｏｎｆｅｒｅｎｃｅｏｆｔｈｅＳＰＥ，Ｅｌｌｅｎｖｉｌｌｅ，ＮＹ，１９８８，ｐ．２３５；Ｒｅｉｓｅｒら，Ａｇｎｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｄ．Ｅｎｇｌ．１９９６，３５，ｐ．２４２８−２５４０；Ｈｏｎｄａら，ＳＰＩＥＶｏｌ．１２６２，ＡｄｖａｎｃｅｓｉｎＲｅｓｉｓｔＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙａｎｄＰｒｏｃｅｓｓｉｎｇＶＩＩ，１９９０，ｐ．４９３)によって、多数の補足的なメカニズムが提案されてきた。提案された基幹となるメカニズムは以下の通りである。疎水性ＮＱＤが樹脂マトリックス内に存在することにより、水性現像剤の貫通が抑制される。アルカリ現像剤が、樹脂と現像剤間の界面における、樹脂とＮＱＤの間の架橋、不溶化反応を促進する。樹脂分子が薄い界面から現像剤へと選択的に抽出され、表面の現像剤−不溶ＮＱＤの濃度が増大して、さらに現像が抑制される。そして、樹脂の親水性部位とＮＱＤの極性基の間に巨大分子構造が形成されることにより、ＮＱＤは、樹脂の水素結合した二次構造への現像剤成分の接近を凌いだり、阻止したりして溶解を阻止する。後者のメカニズムが一般に第１の要因と考えられており、他のメカニズムがより小さな寄与を果たしていると考えられている。露出後の被覆の溶解性の増大は、インデンカルボン酸が形成されて、アルカリ可溶性が増大することに起因すると、ここ数十年来考えられてきた。非常に最近になって、Ｒｅｉｓｅｒらは、ＮＱＤの発熱分解により、初期の阻止の原因となっていた巨大分子構造が破壊されること示唆した。これは、ＮＱＤ上の配位部位の損失と、熱パルスがそれまではＮＱＤによって規制されていた樹脂の構造の分散を助けることによる。そうしたＮＱＤ系に関するすべての文献上の研究は、単純なＮＱＤ化合物を樹脂と混合して使用することに集中していた。しかしながら、石版印刷業界においては、長年、ほぼポジ型系だけを使用することが一般的な慣習になっており、このポジ型系では、樹脂を塩化ＮＱＤスルホニルによってエステル化することにより、光反応性ＮＱＤが樹脂自体に化学的に付加されて、いわゆるＮＱＤ樹脂エステルを形成する。この系は、当初、単純なＮＱＤ化合物を、結晶化および／または被覆されたフィルム中に移行させるための溶液として開発された（Ｒｅｉｓｅｒ，”ＰｈｏｔｏｒｅａｃｔｉｖｅＰｏｌｙｍｅｒｓ”，Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，１９８８）。これらのＮＱＤ樹脂エステルは、電子パーツ業界においては、多層レジスト系におけるＮＱＤの移行を制限するために用いられてきた。そのようなＮＱＤ樹脂エステルにおいて、エステル化されていない元の樹脂と相対して選択された現像剤中における溶解阻止が観察されている。しかしながら、混合系における相互作用に対して示唆されている同様の理論は、明らかにこれらの樹脂エステル系に直接適用できるものではない。これらの系に関連する新規または改変理論をうち立てた文献はいまだに刊行されていない。ポジ型系におけるＮＱＤ部分の優越性は、その多官能性によるものであり、該多官能性により、ＵＶ照射による露出、ＵＶ吸収前には樹脂の現像剤阻止が可能であるとともに、ＵＶ照射、熱、およびカルボン酸基を含む分解生成物に露出された場合には、ＵＶ照射によって溶解性阻止が反転される。しかしながらこの多官能性は、多混合系であろうと樹脂エステル系であろうと、この単一成分に大きく依存する系から可能な性能に過大な制限をもたらす。感度を高めるために、ＮＱＤのレベルが上げられる。しかしながら、これにより現像剤耐性も増大し、感度効果に反するように作用する。この矛盾を解消すべく、ＮＱＤ部分を感光性にすることが可能になってきており、ＮＱＤ系はすべてこの感受性と現像剤耐性との折り合いのなかで設計される。さらに、他の波長に対して感光性を有しないことが分かっているため、系はＵＶ源を用いるものに限定される。ＵＶ感受性ポジ型被覆の性能への要求が高まるにつれて、ＮＱＤ技術の限界が顕著になってきた。さらに、デジタルおよびレーザ画像形成技術が、石版印刷および電子パーツの画像形成における被覆に対する新たな要求を生み出している。既知の原理を用い、触媒的に活性化される感光系を用いて感光性を高める方法が提案されており、該原理とは、光分解によって生成した酸を用いて、露出部内の組成物を可溶にする第二の反応を起こさせるというものである。しかしながら、この様な系は保管耐性や時間の経過との感受性における変化などの問題がある。我々はＮＱＤスルホン酸エステルの置換ではなく、樹脂の一次構造を直接修飾することにより、樹脂の溶解阻止を制御する樹脂の製造方法であって、熱をかけることによって阻止を逆転させることのできる方法を見いだした。さらに、そのような樹脂を含むポジ型組成物が開示されており、これにより溶解阻止と組成物感受性をさらに独立させて制御することが可能になる。波長感度幅を広げるための方法も同定された。そのような方法および材料は、従来のポジ型系の欠点を示さない。我々はこの発見を非常に驚くべき進歩であると見なしている。というのもこの発見が、ここ数十年来の背景、すなわちＮＱＤ誘導体がポジ型系における典型的な樹脂の現像剤溶解性を制御する際の主流であった背景に対抗するものであり、ＮＱＤ化合物の分解化学が最重要視されている研究途上のメカニズムの説明に対抗するものであるからである。本発明の第一の態様によれば、基板上に所定のレジストパターンを作りだす方法であって、当該方法は、当該基板を具備した前駆体であって、ポジ型組成物を具備するコーティングをその表面に有する前駆体に、放射線をパターン的に適用する工程、及び現像剤を使用して当該パターンを現像する工程を具備し、当該組成物は、その表面に官能基Ｑを有するポリマー物質を具備し、当該官能基化されたポリマー物質は、放射線照射前は現像剤に不溶性であり、その後は現像剤可溶性である性質を有する上記方法において、当該官能基Ｑは、二アジ化ナフトキノン基も、二アジ化ベンゾキノン基も具備しないことを特徴とする方法が提供される。本発明の第二の態様によれば、基板上に所定のレジストパターンを作りだす方法であって、当該方法は、当該基板を具備した前駆体であって、ポジ型組成物を具備するコーティングをその表面に有する前駆体に、放射線をパターン的に適用する工程、及び現像剤を使用して当該パターンを現像する工程を具備し、当該組成物は、その表面に官能基Ｑを有するポリマー物質を具備し、当該官能基化されたポリマー物質は、放射線照射前は現像剤に不溶性であり、その後は現像剤可溶性である性質を有する上記方法において、当該官能基Ｑは、二アジ化物基を含まないことを特徴とする方法が提供される。本発明の第三の態様によれば、基板上に所定のレジストパターンを作りだす方法であって、当該方法は、当該基板を具備した前駆体であって、ポジ型組成物を具備するコーティングをその表面に有する前駆体に、放射線をパターン的に適用する工程、及び現像剤を使用して当該パターンを現像する工程を具備し、当該組成物は、その表面に官能基Ｑを有するポリマー物質を具備し、当該官能基化されたポリマー物質は、放射線照射前は現像剤に不溶性であり、その後は現像剤可溶性である性質を有する上記方法において、当該官能基は、当該放射線への露出により化学的に分解されないことを特徴とする方法が提供される。“化学的に分解されない”とは、当該方法の有効性において顕著であるいかなる程度においても当該放射線への露出により、共有結合が壊れないことを意味する。本発明の第四の態様によれば、基板上に所定のレジストパターンを作りだす方法であって、当該方法は、当該基板を具備した前駆体であって、ポジ型組成物を具備するコーティングをその表面に有する前駆体に、放射線をパターン的に適用する工程、及び現像剤を使用して当該パターンを現像する工程を具備し、当該組成物は、その表面に官能基Ｑを有するポリマー物質を具備し、当該官能基化されたポリマー物質は、放射線照射前は現像剤に不溶性であり、その後は現像剤可溶性である性質を有する上記方法において、当該官能基Ｑは、酸基も酸生成基も具備せず、いずれの場合においても当該放射線への露出により除去される不安定な保護基により保護されていることを特徴とする方法が提供される。本発明の第五の態様によれば、基板上に所定のレジストパターンを作りだす方法であって、当該方法は、当該基板を具備した前駆体であって、ポジ型組成物を具備するコーティングをその表面に有する前駆体に、放射線をパターン的に適用する工程、及び現像剤を使用して当該パターンを現像する工程を具備し、当該組成物は、その表面に官能基Ｑを有するポリマー物質を具備し、当該官能基化されたポリマー物質は、放射線照射前は現像剤に不溶性であり、その後は現像剤可溶性である性質を有する上記方法において、当該官能基Ｑは更に、当該放射線の吸収の主要な原因ではないことを特徴とする方法が提供される。現像剤溶解性に関して、官能基化されたポリマー物質と対応する非官能基化ポリマー物質との間で比較した差異には、複数の機構が関与するかもしれないが、前記の放射線への露出時の酸生成は、既存のシステムとは対照的に顕著ではないと考えられている。更に、一の重要な機構は、ポリマー物質の官能基Ｑと他の基との間の水素結合性相互作用であるとも考えられている。分子内水素結合はより重要であるが、分子間水素結合もまた重要であり、ある種のシステムにおいてはより重要でさえある。従って、適切には官能基化されたポリマー物質は、ポリマー物質への官能基Ｑの共有結合に加えて、ポリマー物質の当該官能基Ｑと他の基との間の水素結合が存在するようなものである。本発明の第六の態様によれば、基板上に所定のレジストパターンを作りだす方法であって、当該方法は、当該基板を具備した前駆体であって、ポジ型組成物を具備するコーティングをその表面に有する前駆体に、放射線をパターン的に適用する工程、及び現像剤を使用して当該パターンを現像する工程を具備し、当該組成物は、その表面に官能基Ｑを有するポリマー物質を具備し、当該官能基化されたポリマー物質は、放射線照射前は現像剤に不溶性であり、その後は現像剤可溶性である性質を有する上記方法において、当該官能基Ｑと、同じ分子又は当該ポリマー物質中の他の分子の他の基との間に水素結合が存在することを特徴とする方法が提供される。本発の実施においては、放射線への露出時にガスを生成しない組成物成分を選択することが好ましい。好ましくは、対応する非官能基化ポリマー物質は、選択した現像剤においては、官能基Ｑで官能基化した対応するポリマー物質よりも顕著に可溶性である。好ましくは、実際には、可溶性のポリマー物質と見なされるものである。水素結合は、一次構造を分解されることなく、熱により壊されると考えられているが、即ち、当該方法の有効性には、如何なる共有結合の解離も必要ではないと考えられる。本発明は、Ｑ基がポリマー物質に結合する様式によっては限定されるものではないが、好ましくはその対応する非官能基化されたポリマー物質は、Ｑ基により官能基化されたヒドロキシ基を有する。好ましくは、当該官能基化されたポリマー物質は、ヒドロキシ基を保持している。即ち、官能基化されたＱ基は、そのヒドロキシ基との反応によりポリマー物質と共有結合していてもよいが、好ましくは当該ヒドロキシ基の全てがそれにより反応しているわけではない。好ましくは、官能基化されたポリマー物質における官能基Ｑの、対応する非官能基化ポリマー物質におけるヒドロキシ基に対する比率は、１：１００乃至１：２の範囲にある。より好ましくは、官能基の前記比率は、１：５０乃至１：３の範囲にある。最も好ましくは、官能基の前記比率は、１：２０乃至１：６の範囲にある。適切なポリマー物質の例としては、フェノール樹脂；スチレン、例えば、４- ヒドロキシスチレン、３-メチル-４-ヒドロキシスチレン、及び４−メトキシスチレンのポリマー、アクリル酸、例えばメタクリル酸及びアクリル酸、マレイミド（maleiimide）、マレイン酸及びマレイン酸無水物のポリマー;何れの場合にもホモポリマー、コポリマー又はターポリマーである;より選択することができる。好ましくは当該ポリマー物質は、ポリ（ビニールフェノール）ホモポリマーではない。ヒドロキシ基の代わりに、当該非官能基化ポリマー物質は、同様に官能基化されうるチオール基を具備していてもよい。しかしながら、官能基化にとってはヒドロキシ基が好ましい。ノボラック樹脂は本発明においては有益であり、これは適切には、適切なフェノール、例えばフェノール自体、Ｃ−アルキル置換フェノール（クレゾール、キシレノール、ｐ-tert-ブチル-フェノール、ｐ-フェニルフェノール、及びノニルフェノールを含む）、ジフェノール、例えばビスフェノールＡ（2,2-ビス-（4- ヒドロキシフェニル）プロパン）と、適切なアルデヒド、例えばホルムアルデヒド、クロラール、アセトアルデヒド、及びフルフラルデヒドとの縮合反応の産物である。フェノール樹脂の調製に使用する触媒のタイプ及び反応物のモル比によって、分子構造が決定され、従って当該樹脂の物理的特徴が決まる。アルデヒド：フェノールの比率を、０.５：１乃至１：１の間、好ましくは０.５：１乃至０ .８：１とし、そして酸触媒を使用して、一般にはノボラックとして知られる、熱可塑性を有するフェノール樹脂を調製する。アルデヒド：フェノールの比率を、１：１乃至３：１よりも高くし、また塩基性触媒を使用すると、レゾール（re soles）として知られる、一のクラスのフェノール樹脂が得られるが、これらは上昇した温度において熱的に硬化する能力により特徴付けられる。最も好ましくは、前記の非官能基化ポリマー物質はフェノール樹脂である。本発明において特に有益なフェノール樹脂は、フェノール、Ｃ−アルキル置換フェノール(クレゾール及びｐ−tert−ブチル−フェノール等)、ジフェノール(ビスフェノールＡ等)と、アルデヒド（ホルムアルデヒド等）との間の相互作用による縮合産物である。縮合の調製ルートに依存して、構造及び特徴が異なる一連のフェノール物質が形成される。本発明において特に有益なのは、ノボラック樹脂、レゾール樹脂、及びノボラック／レゾールの樹脂混合物である。適切なノボラック樹脂の例は、以下の一般構造を有する：官能基Ｑは適切には、官能基化されたポリマーの部分と水素結合をさせることを可能にする。水素結合を好むことが知られ、官能基Ｑにより構成されている適切な部分Ｑには、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アミド基、モノアルキルアミド基、ジアルキルアミド基、クロロ基、フルオロ基、カルボニル基、スルフイニル基、及びスルホニル基が含まれる。好ましくは、官能基Ｑは、エステル化反応によりポリマー物質に結合していて樹脂エステルを形成する。本発明の好ましい組成物は、式Ｒ（Ｑ）_nにより定義することができるが、式中、Ｒは当該ポリマー物質のポリマー鎖であり、（Ｑ）_nは、それに結合している官能基を表すが、ここでＱは、同じ分子又は隣り合った一又は複数の分子上の当該ポリマー鎖Ｒに水素結合することが可能な部分を表し、ｎは２以上の整数(a plural integer)を表す。好ましくはＱは、式−Ｔ−Ｚの基を表し、式中、Ｔは同じ分子又は隣り合った一又は複数の分子のポリマー鎖Ｒに水素結合することが可能な部分を表し、Ｚは、当該ポリマー鎖Ｒに水素結合しているか又はしていない別の部分を表す。このような場合には、当該ポリマー鎖Ｒには、例えばチオール基又は最も好ましくはヒドロキシ基などの水素結合に関与することができる他の置換基が必要である。適切にはＱは、式−Ｏ−Ｔ¹−Ｚの基を表し、式中、Ｔ¹は、同じ分子又は隣り合った一又は複数の分子のポリマー鎖Ｒに水素結合することが可能な部分である。適切には、Ｔ¹はカルボニル基、スルフィニル基、又はスルホニル基を表す。好ましくは、カルボニル又は、特にスルホニル基を表す。一のＱ基は、当該ポリマー樹脂に、その一以上の部位において共有結合して、環状構造を形成することができる。例えば、Ｑは式−Ｏ−Ｘ（Ｚ）−Ｏ−基であって、式中Ｘは連結部分を表し、Ｚはその別の部分を表すものとして定義することができる。これは例えば、ある種のリン−改変ノボラック樹脂であって、リン酸又はオキシハロゲン化リンとの反応により製造されるものにおいて生じる。好ましくは、前記の連結部分Ｘは、同じ分子又は隣り合った一又は複数の分子のポリマー鎖Ｒと水素結合することができる。上記の態様においては、前記の連結部分Ｘは、適切には式−Ｐ（Ｏ）−基とすることができる。Ｚ部分は例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、非芳香性複素環基、アラルキル基、又はヘテロアラルキル基で適宜されたものとすることができる。本明細書では特に言及しないかぎり、以下の定義を明細書中で適用する： −アルキル基、アルケニル基、アルキニル基は、直鎖状又は分枝状で最大で１０、好ましくは最大で８の炭素原子を含むものであり、適切な例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ビニル基、アリル基、及びプロパルキル基がある。非分枝状の基が好ましいが、分枝状の基も使用することができる。 −シクロアルキル基は、３乃至１２、好ましくは３乃至８の炭素原子を含むことができ、適切にはシクロプロピル基、又はシクロヘキシル基であるが、例えば１０−カンファリル（10-camphoryl）基のような融合／架橋構造のものとすることができる。 −アラルキル基又はヘテロアラルキル基のアルキレン部分は適切には、Ｃ_1-4 アルキレン基、特にメチレン基（−ＣＨ₂−）である。 −アリール基は好ましくは、ナフチル又はフェニルである。 −アラルキル基は好ましくは、（Ｃ_1-4アルキル）フェニル、又は（Ｃ_1-4アルキル）ナフチル、特にベンジル又はナフチルメチルである。 −複素環式芳香族基又は複素環基は適切にはそれそれ、芳香性、又は非芳香性の基であって、一又は複数の炭素原子環内に、酸素、硫黄、及び窒素から独立に選択される１乃至４のヘテロ原子を有するものである。融合化した、複素環式芳香族基又は複素環基を使用することができるが、好ましくは５又は６の原子を環内に有する単一環が好ましい。好ましくはピラゾリル基、そして特にはチエニル基である。 −上記した脂肪族部分、即ちアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、及び複素環基（非芳香族）の適宜の置換基、並びにアラルキル基及びヘテロアラルキル基のアルキレン部分の適宜の置換基との関係において、そのような置換物の特別の例としては、ハロ基、ニトロ基、シアノ基、カルボニル基、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、モノ−Ｃ_1-4アルキルアミノ基、ジ −Ｃ_1-4アルキルアミノ基、アミド基（−ＣＯＮＨ₂）、モノ−（Ｃ_1-4アルキル）アミド基（−ＣＯＮＨＲ₁）、ジ−（Ｃ_1-4アルキル）アミド基（−ＣＯＮＨＲ¹ Ｒ²）、Ｃ_1-4アルコキシ、Ｃ_1-4ハロアルコキシ、（Ｃ_1-4アルキル）カルボニルアミノ基（Ｒ³Ｃ（Ｏ）ＮＨ−、例えばアセトアミド（acetamido））、−ＣＯＯＨ基、（Ｃ_1-4アルキル）カルボニル基及び（Ｃ_1-4アルコキシ）カルボニル基が含まれる。しかしながら、良い結果は非置換の脂肪族部分を使用すると得られた。 −アラルキル基又はヘテロアラルキル基を含む上記のアリール又はヘテロアリール部分の適宜の置換物との関係においては、適宜の置換物は、ハロ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、チオール、アミノ、ジ−Ｃ_1-4アルキルアミノ、ジ−Ｃ_1-4 アルキルアミノ、アミド（−ＣＯＮＨ₂）、モノ−（Ｃ_1-4アルキル）アミド（− ＣＯＮＨＲ¹）、ジ−（Ｃ_1-4アルキル）アミド（−ＣＯＮＨＲ¹Ｒ²）、Ｃ_2-4アルケニル、Ｃ_1-4アルキル、Ｃ_1-4アルコキシ、（Ｃ_1-4アルキル）カルボニルアミノ（Ｒ³Ｃ（Ｏ）ＮＨ−、例えばアセトアミド（acetamido））、−ＣＯＯＨ、（Ｃ_1-4アルキル）カルボニル、及び（Ｃ_1-4アルコキシ）カルボニルを含む。前記のアリール基又はヘテロアリール基の置換がある場合には、１乃至３の置換物が適切には使用される。前記のアリール基又はヘテロアリール基が有するアルキル基、アルキルアミノ基、アルキルアミド基、アルキルカルボニルアミノ基、アルケニル基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、及びアルコキシカルボニル基は好ましくは、非置換であるが、上記した脂肪族基のリストより選択される置換物で置換されていてもよい。 −ハロ部分は好ましくは、フルオロ基、クロロ基、又はブロモ基である。好ましくはＺ部分は、適宜置換された、アリール基、ヘテロアリール基、又はアルキル基である。特に好ましいアリール基は、ヒドロキシ、ハロ、Ｃ_1-4アルキル（特にメチル）、Ｃ_1-4ハロアルキル（特にＣＦ₃）、Ｃ_1-4アルコキシ（特にメトキシ）、アミノ、モノ−（Ｃ_1-4アルキル）アミノ（特にメチルアミノ）、及びジ−（Ｃ_1-4アルキル）アミノ（特にジメチルアミノ）から独立に選択される１乃至３の部分で適宜置換されたフェニル基又はナフチル基である。特に好ましいアリール基は、ナフチル基、ダンシル基、フェニル基又は４−メチルフェニル基である。特に好ましい適宜置換されたアルキル基は、Ｃ_2-8アルキル基、特にはｎ−Ｃ_3-6アルキル基である。本発明の特に好ましい組成物は、フェノール樹脂を具備し、その中のヒドロキシ基に対しては、−Ｏ−ＳＯ₂−トリル、−Ｏ−ダンシル、−Ｏ−ＳＯ₂−チエニル、又は−Ｏ−ＳＯ₂−ナフチル及び−ＣＯ−Ｐｈから選択される部分が結合している。本発明はある態様においては、組成物中でＮＱＤもＢＱＤも含まない官能基が存在することにより特徴付けられることに注意すべきである。しかしながら、ジアジド基が官能基Ｑに加えて存在することは、本発明の上記の定義からは除外されない。更に組成物中に単純なジアジ化化合物、例えばＮＱＤ又はＢＱＤ化合物が存在することは、本発明の上記の定義からは除外されない。従って、本発明の方法において有益な一の組成物は、Ｑ基（好ましくは−Ｏ− ＳＯ₂−トリル、−Ｏ−ダンシル、−Ｏ−ＳＯ₂−チエニル、−Ｏ−ＳＯ₂−ナフチル及び−ＣＯ−Ｐｈから選択される部分が結合しているヒドロキシ基）を有するフェノール樹脂を、単純なジアジド含有化合物との混合物の形態で具備している。本発明の方法において有益な別の組成物は、フェノール樹脂であって、そのヒドロキシ基に対してスルホニルジアジド部分が結合し、更にそのヒドロキシ基に対して部分Ｑ、好ましくは−Ｏ−ＳＯ₂−トリル、−Ｏ−ダンシル、−Ｏ−ＳＯ₂ −チエニル、 −Ｏ−ＳＯ₂−ナフチル及び−ＣＯ−Ｐｈから選択されるたものが結合したものを具備している。Ｑ基を有する樹脂を含み、またジアジドを含む組成物は、新規であり、本発明の別の態様を構成する。更に、ジアジド基及び別の官能基としてのＱ基を有する樹脂は、例えば上記の段落に記載されたものであるが、これは新規であって、その調製方法で適切には共エステル化によるものとともに、本発明の更なる態様を構成するものである。ジアジド基が本発明で使用される場合には、これらは好ましくはカルボニル基に、好ましくは芳香族環又は複素環式芳香族環を介在して共役したジアゾ基＝Ｎ₂ を具備する。このような部分においては、カルボニル基が、ジアゾ基に隣り合った環上の位置の芳香族環又は複素環式芳香族環に好ましくは結合している。好ましい部分は、ｏ−ベンゾキノンジアジド（ＢＱＤ）部分（ｏ−キノンジアジドとよく呼ばれる）、及びｏ−ナフトキノンジアジド（ＮＱＤ）部分である。ＢＱＤ部分は例えば、１，４−又は好ましくは１，２−ベンゾキノンジアジド部分を具備することができる。ＮＱＤ部分は例えば、１，４−、２，１−、最も好ましくは１，２−ナフトキノンジアジド部分を具備することができる。本発明の実施においては一般に、ＮＱＤ部分はＢＱＤ部分よりも好ましい。本発明の実施において使用するのに最も好ましいジアジド部分は、１，２−ナフトキノンジアジド部分である。上記の一又は複数のポリマー物質に加え、組成物は一又は複数の付加的なポリマー物質を具備することができる。このようなものは、ある一定のレベルの固有の現像剤溶解性を有すること、及び固有の現像剤溶解性を変えるように官能基化されてはいない点で”不活性”であるとされ、あるいは、例えばＮＱＤ樹脂エステルを含む、一又は複数の付加的な”活性”ポリマー物質であるとされる。このように、ポリマー物質が組合わさった組成物においては、本発明の一又は複数のポリマー物質が、重量において他の一又は複数のポリマー物質よりも低量で存在することができることに注意すべきである。適切には、本発明のポリマー物質は、当該組成物中に存在するポリマー物質の全量に対して、少なくとも１０％、好ましくは少なくとも２０％の量で存在することができる。上記の定量的定義は、典型的な範囲であり、また正確な選択は特定の状況に依存するということに注意すべきである。例えば、非常に有効な官能基Ｑを選択することは、相対的に低比率で本発明のポリマー物質とポリマー物質とを組合せて使用してよいこと、及び／又は上記の官能基の比率は、より効果的ではない官能基が選択されるならばより低くてもよいことを意味するかもしれない。選択するパターン形成条件及び使用する現像剤もまた、関連するであろう。より高い官能基の比率は、本発明のポリマー物質がより低量で、その組合せ中において使用することが可能であることを意昧するかもしれない。本来、より可溶性である非官能基化ポリマー物質は、より弱い現像剤を使用することが可能であり（環境的な利点である）、放射線の放射がより低く、放射線の伝達若しくは現像時間、又はその両者においてより速い処理速度を意味するかもしれない。従って、組成物のイメージング及び現像における複数の変数であって、ある適用を促進するのに使用することが可能なものが存在する。次に、上記の方法の手段により、基板上に所望のパターンを形成することについて記載する。基板は例えば、被覆された石版印刷組成物前駆体、又は被覆された電子的基板とすることができる。組成物は好ましくは、熱によってパターン的に可溶化されるようなものであることが必要であると考えられる。広い意味においては、熱をパターン的に、使用している組成物へと伝達する方法が３通りある。それらは以下のものである： −加熱体による熱を伝導により直接的に伝達する。例えば組成物を熱針（heat stylus）で接触させてもよく、又は組成物を被覆する支持体表面の反対面を、熱針により接触させてもよい。 −入射（incident）電磁放射線を使用して組成物を露出し、直接的に又は当該組成物の成分によっておこる化学反応によって、当該電磁放射線を熱に変換する。この電磁放射線は例えば、赤外、ＵＶ、又は可視の放射線とすることができる。適切には、波長は完全に、又は主として５００ｎｍを越えている。好ましくは完全に、又は主として６００ｎｍを越える。より好ましくは、完全に、又は主として７００ｎｍを越える。最も好ましくは、完全に、又は主として８００ｎｍを越える。好ましくは、完全に、又は主として１４００ｎｍ未満の波長である。より好ましくは、完全に、又は主として１２００ｎｍ溝の波長である。最も好ましくは、完全に、又は主として１１００ｎｍ未満の波長である。従って適切には、完全に、又は主として６００乃至１４００ｎｍの範囲、より好ましくは７００乃至１２００ｎｍの範囲、最も好ましくは８００乃至１１００ｎｍの範囲の波長である。 −電子線放射等の荷電粒子放射を使用する。明らかに、基本的なレベルにおいて荷電粒子モードと電磁モードは収束性であるが、実際のレベルでは区別は明確である。本発明の感熱性組成物の感度を上昇させるために、電磁放射を使用する態様においては、付加的な成分、即ち入射電磁放射を吸収して、それを熱に変換することができる放射線吸収性化合物（以後、”放射線吸収性化合物”と呼ぶ）を含めることは有益である。更に、このような化合物を荷電粒子放射を使用する方法において含めることもまた望ましい。上記したように組成物をイメージ的に露出する方法は、本発明の更なる態様を構成する。イメージ的露出に赤外放射を必要とする組成物においては、当該組成物はレーザーの手段により直接的に露出されてもよい。好ましくは、レーザーは、６００ｎｍ以上、より好ましくは７００ｎｍ以上、最も好ましくは８００ｎｍ以上の放射線を放出する。このような組成物においては、赤外線を熱に変換する適切な放射線吸収化合物は、有益には黒体放射吸収体、例えばカーボンブラック又はグラファイトなどとすることができる。例えばBASF提供のHeliogen Green、又はNH L aboratories Inc提供のNigrosine Base NG1、又はAldrich提供のMilori Blue（C ．I．Pigment Blue 27）などの商業的に入手可能な顔料とすることもできる。本発明の好ましい方法においては、被覆された板をイメージ的にレーザーにより直接露出する。最も好ましくは、レーザーは６００ｎｍよりも大きい波長の放射線を放出し、また放射線吸収性化合物は有益には赤外線吸収性染料である。本発明の方法において使用することができるレーザーの例としては、半導体ダイオードレーザーで５００乃至１４００ｎｍ、好ましくは６００乃至１２００ｎｍ、特には６００乃至１１００ｎｍの間で放射するものが含まれる。例としては、１０６４ｎｍで放射するNd YAGレーザーがあるが、十分なイメージングパワーを有し、その放射線が当該組成物により吸収されるいかなるレーザーも使用することができる。好ましくは赤外吸収性化合物は、その吸収スペクトルが本発明の方法で使用されるレーザーの波長出力において顕著なものである。有益には、有機性の顔料又は染料、例えばフタロシアニン顔料等とすることができる。あるいは、スクアリリウム(squarylium)、メロシアニン(merocyanine)、シアニン、インドリジン(in dolizine)、ピリリウム（pyrylium）、又は金属ジチオリン（metaldithioline）のクラスの染料又は顔料とすることができる。パターン的露出に赤外線を必要とするようにした組成物においては、その現像剤溶解性は、ＵＶ又は可視放射線の入射によっては増大されず、その組成物の取り扱いを簡単にする。好ましくはそのような組成物は、ＵＶ感受性成分も可視光感受性成分も一切具備していない。しかしながら、他の成分、例えばＵＶ若しくは可視光吸収性染料、又はＵＶ若しくは可視光吸収性最上位層が存在するために、ＵＶ又は可視光により活性化されないＵＶ又は可視光感受性成分が存在してもよい。パターン的露出のためにＵＶ放射を必要とするようにした組成物においては、入射ＵＶ放射を熱に変換することが可能な何れかの放射線吸収性化合物を含んでいてもよい。適切な放射線吸収性化合物には、US 5,491,046及びUS 4,708,925に記載されるような、黒体放射吸収体、例えばカーボンブラックやグラファイト、そして潜在性ブレーンステッド酸(オニウム塩及びハロアルキル置換Ｓ−トリアジンを含む)が含まれる。これらの特許公報中におけるＵＶ吸収性化合物の関連リストは、参照することにより本願に組み込む。ジアジド誘導体もまた、本願での定義の範囲内で使用することができる。このような化合物の機能は、組成物中にそれが存在する場合には放射線誘導性溶解度変化を主としてもたらすものではなく、主として当該ポリマー物質の官能基Ｑがもたらすということに注意すべきである。むしろ、主として放射線を吸収し、当該方法の有効性にとって必要と考えられている熱を産生する。従って、官能基Ｑが存在しないと、ＵＶ吸収性化合物がＵＶを吸収して熱を放出するが、これ自身は可溶性の変化を生じさせる、又は少なくとも有益なレベルでの可溶性変化を生じさせるのには十分ではない。これは適切なＵＶ吸収性化合物を選択してそれを適量で含めることの問題である。必要ならば、単純な試験を編み出してＵＶ吸収性化合物の機能を確認してもよい。ＵＶ吸収性化合物の存在が時として現像剤可溶性の制御にある程度貢献することが避けられないが、これを最小限にすることが望ましい。即ち、本発明の組成物中におけるその存在は、主にＵＶ照射への露出時に熱をデリバリーためのものであり、当該組成物の機能を最善に制御することは、放射線吸収の化学と現像剤可溶性変化の化学とを切り離すことにより成し遂げられる。本発明の組成物中に存在する場合に、ＵＶ吸収性化合物（ジアジド誘導体を含む）は、好ましくは単純な化合物として、活性ポリマーに共有結合しないで存在する。一方、官能基Ｑは当該活性ポリマー物質に共有結合する。イメージ的露出に可視放射が必要とされる組成物においては、当該組成物は、適切には黒体吸収体、例えばカーボンブラック若しくはグラファイト、又はトリアジン化合物で可視光を吸収するように調節されたものを含むことができる。本発明においては、顔料が特に効果的であることが見いだされた。それらが機能すること期待したが、もっともＩＲ染料ほどに効果的であるとは期待しなかった。驚くことに、それらは非常に効果的であり、またＩＲ染料に勝る実用的及び商業的利点をいくつか有していることがわかった。この顔料調剤は、良好な操作速度を保持するが、基板上のくぼみでコーティング保持を引き起こす傾向は認識できるほどはなく、そして露出時の異なる波長に対し、より寛容である。更に、多くの顔料は多くのＩＲ染料よりもかなり安価である。適切には、放射線吸収性化合物は、それが存在する場合には、組成物の全量に対して少なくとも０.２５％、好ましくは少なくとも０.５％、より好ましくは少なくとも１％、最も好ましくは少なくとも２％を構成する。適切には、放射線吸収性化合物は、それが存在する場合には、当該組成物の全量に対して最大で２５％、より好ましくは最大で２０％、最も好ましくは最大で１５％を構成する。従って、放射線吸収性化合物の好ましい重量範囲は、当該組成物の全量の２−１５％と表現できる。より特異的には、染料の場合に、この範囲は当該組成物の全量に対して０.２５−１５％、好ましくは１−６％することができ、一方、顔料の場合にはその範囲は１−２５％、好ましくは２−１５％とすることができる。顔料の場合、５−１５％が特に適切である。それぞれの場合において、上記の数字は、乾燥させた組成物の全量に対する割合である。一以上の放射線吸収性化合物が存在してもよい。そのような化合物の比率についての参照は、本願においてはその全含有量に対するものである。顔料は一般に、組成物中には不溶性であり、その中では粒子を具備するようになっている。一般に、これらは広いバンドの吸収体であり、２００ｎｍ、好ましくは４００ｎｍの波長範囲にわたる電磁放射を効率的に吸収してそれを熱に変換できることが好ましい。一般に、それらは放射線によっては分解されない。一般にそれらは現像剤における非加熱組成物の可溶性について顕著な効果は有していない。対照的に、染料は一般に組成物に可溶性である。一般に、それらは狭いバンドの吸収体であり、典型的には、１００ｎｍを越えない波長範囲にわたって電磁放射を効果的に吸収してそれを熱に変換し、従ってイメージングに使用する放射線の波長に配慮して選択する必要がある。それらは非加熱組成物の現像剤における可溶性に対して顕著な効果を有することがよくあり、典型的にはそれをより不溶性にする。本発明で使用する組成物は、他の成分、例えば安定化用添加剤、不活性着色剤、及び多くのポジ型組成物中に存在する付加的な不活性ポリマー結合剤を含むことができる。当該組成物の主要な部分（major proportion）は、一又は複数のポリマー物質により構成され、これには一又は複数の”活性な”ポリマー物質、及び場合により一又は複数の”不活性な”ポリマー物質を含む。好ましくは、当該組成物の少数部分は、少しでも存在するときには付加的成分により構成される。ここで定義する主要部分は適切には、当該組成物の全量に対して少なくとも５０％、好ましくは少なくとも６５％、もっとも好ましくは少なくとも８０％である。ここで定義する少数部分は適切には、当該組成物の全量に対して５０％末満、好ましくは最大で２０％、最も好ましくは最大で１５％である。本発明の一の好ましい態様においては、放射線吸収性化合物を具備する付加層を使用することができる。この多重層構築物は、画像形成層の機能に影響を与えることなく、吸収体を大量に使用できるので、高感度化への道を提供することができる。原則として、所望のバンドにおいて十分に強く吸収する如何なる放射線吸収性物質も、均一なコーティング内に導入又は組み込むことができる。染料、金属、及び顔料（金属酸化物を含む）を、蒸着層の形態で使用することができる。このような膜を形成して使用する技術は、当該技術分野で周知であり、例えば EP 0,652,483に記載されている。石版印刷環境における本発明の好ましい基板は、均一なコーティングとして親水性であるもの、又は親水性の表面を提供するように、例えば親水性層を使用することによって処理されうるものである。しかしながら、本発明はまた無水の石版印刷にも適用することができる。支持体として使用することが可能なベースは、半導体、又は好ましくは電子回路環境内の伝導体とすることができ、そして石版印刷環境においては、放射線感受性組成物をその上にコーティングすることを可能にし、そして支持体表面を印刷のバックグラウンドとして機能させることを可能にすることが石版印刷技術分野においてよく知られている、通常のアノード処理、木目塗(graining)処理及びポスト−アノード処置を行ったアルミニウム板とすることができる。本発明において、石版印刷環境下で使用することができる別のベース物質としては、写真産業で使用されるプラスチック物質のベース又は処理紙のベースがある。特に有益なプラスチック物質のベースとしては、下塗りして（subbed）その表面を親水性にしたポリエチレンテレフタレートがある。また、コロナ放電処理済のいわゆるコート紙を使用することもできる。本明細書中において組成物が現像剤に可溶性であると言う場合には、これは選択した現像剤において、石版印刷組成物現像プロセス又は電子パーツ光レジスト現像プロセスで有益な程度に可溶性であることを意味する。組成物が現像剤に不溶性であると言う場合には、選択した現像剤において、石版印刷組成物現像プロセス又は電子パ一ツ光レジスト現像プロセスで有益な程度に溶解しないことを意味する。組成物は好ましくは、石版印刷組成物用又は電子パーツ用の前駆体上のコーティングとして使用される。更に、組成物はマスク上のコーティングとして使用することもできる。マスクの基板自身は適切にはプラスチックフイルムである。マスクは、いくつかのイメージング方法において使用されているが、印刷環境又は回路板環境においてであり、当該マスク上に所望のレジストパターンが形成されている。これは後の処理工程においてスクリーンとして使用される。このような処理の一例としては、"Advances in Printing Plate Technology"（S．Doyl e，ISBN 1858020875）に記載のフレキソ印刷処理がある。いくつかのマスクにおいては、露出した部分において組成物の深さ部全部（full depth）ではなく、その一部のみを除去することが必要であるかもしれない。上記した感熱性組成物は、フィルム上にコートされ、熱でイメージ化され、そして現像されてマスクを提供することができる。このマスクは、イメージ化されて、現像後、組成物を異なる位置で異なる深さでその上に残す。そしてこのようなマスクは有益には印刷用基板に適用されて、例えばＵＶ光源を使用してフラッド露出される（flood exposed）。本発明の別の態様によれば、本発明の方法との関係において上記したポジ型前駆体が提供される。この前駆体は適切には、印刷組成物用の前駆体とすることができる。この前駆体は適切には、電子パーツ用の前駆体とすることができる。この前駆体は適切には、後にフラッド露出工程においてスクリーンとして使用して別の部分、例えば印刷組成物基板や電子パーツ基板のイメージ化を行うマスク用の前駆体とすることができる。従って本発明の好ましい態様においては、ポジ型石版印刷用組成物又は電子パーツ又はマスクが、画像的照射と前記の前駆体の処理との後に得られる。官能基化されたポリマー物質を具備したコート済組成物現像剤への溶解性は、対応する非官能基化ポリマー物質のみの溶解性に関してはかなり低減される。引き続いてパターン的露出を行うと、組成物の露出領域が現像剤においてより可溶性になる。従って、イメージ的露出を行うと、非露出組成物と露出組成物の溶解性の差異に変化が見られる。従って、露出領域においては組成物は溶解してパターンを形成する。本発明のコートした、印刷組成物又は電子パーツ又はマスク用の前駆体は、記録物質と接触して配置されたオリジナルのグラフィックスのバックグラウンド領域から放射又は反射される高強度放射を間接的に短時間、露出することにより、熱でイメージ化することができる。本発明の別の態様においては、このコートした、印刷組成物又は電子回路又はマスク用の前駆体は、加熱体を利用してパターン的に加熱することができる。例えば、支持体表面の反対側の面で、その前面に感熱性組成物がコートされたものは、熱針で接触することができる。あるいは、感熱性の組成物自身を熱針に接触させることもできる。本発明の別の態様においては、コートした、印刷組成物又は電子回路又はマスク用の前駆体を、コーティングをパターン的に加熱するのに適切な放射手段により露出することができる。現像剤の組成はそのポリマー物質の性質に依存するが、好ましくは水性の組成である。水性の現像剤に共通する成分は、界面活性剤、エチレンジアミン四酢酸の塩等のキレート剤、ベンジルアルコール等の有機溶媒、無機メタケイ酸塩、有機メタケイ酸塩、水酸化物、又は重炭酸塩等のアルカリ成分である。ポリマー物質がフェノール樹脂であることが好ましいのだが、その場合に水性の現像剤は好ましくは、無機又は有機のメタケイ酸塩を含むアルカリ性の現像剤である。本発明の別の態様によれば、印刷組成物又は電子パーツ又はマスクであって、本発明の何れかの方法によって、そのコーティング上で形成されるパターンを有するものが提供される。本発明の別の態様によれば、本発明の何れかの方法において有益である上記したポジ型組成物が提供される。本発明の別の態様によれば、官能基化されたポリマー物質自体が提供される。官能基化されたポリマー物質の別の態様によれば、これは一般紙器Ｒ（Ｑ）_n の樹脂エステルである：式中、Ｒは、ポリマー物質のポリマー鎖であり、Ｑは、式−Ｏ−Ｔ¹−Ｚで表される群であり、式中、Ｔ¹は、カルボニル基、スルフィニル基、若しくはスルホニル基、又は式−Ｏ−Ｘ（Ｚ）−Ｏ−で表される群を表し、式中、Ｘは、−Ｐ（Ｏ）−を表し、Ｚは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、非芳香性複素環基、アラルキル基、又はヘテロアラルキル基であって、それぞれの基は適宜置換されたものを表し、ここで、前記アリール基及びヘテロアリール基の適宜置換されたもの、及び前記のアラルキル基又はヘテロアラルキル基中のアリール及びヘテロアリール部分の適宜置換されたものは、ハロ基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、適宜置換されたモノ−Ｃ_1-4アルキルアミノ基、適宜置換されたジ−Ｃ_1-4アルキルアミノ基、アミド基、適宜置換されたモノ−（Ｃ_1-4アルキル）アミド基、適宜置換されたジ−（Ｃ_1-4アルキル）アミド基、適宜置換されたＣ_2-4アルケニル基、適宜置換されたＣ_1-4アルキル基、定義置換されたＣ_1-4アルコキシ基、（Ｃ_1-4アルキル）カルボニルアミノ基、−ＣＯＯＨ基、適宜置換された（Ｃ_1-4 アルキル）カルボニル基及び適宜置換された（Ｃ_1-4アルコキシ）カルボニル基より選択され、またここで前記アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、及び非芳香性複素環基の適宜置換物、並びに、前記アラルキル基及びヘテロアラルキル基のアルキル基部分の適宜置換物、並びに、前記のアリール基又はヘテロアリール基を適宜置換している前記アルキル基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、アルキルアミド基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルアミノ基、及びアルケニル基の適宜置換物は、ハロ基、ニトロ基、シアノ基、カルボニル基、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、モノ−Ｃ_1-4アルキルアミノ基、ジ−Ｃ_1-4アルキルアミノ基、アミド基、モノ−（Ｃ_1-4アルキル）アミド基、ジ−（Ｃ_1-4アルキル）アミド基、Ｃ_1-4アルコキシ基、−ＣＯＯＨ基、（Ｃ_1-4アルキル）カルボニルアミノ基、（Ｃ_1-4アルキル）カルボニル基、及び（Ｃ_1-4アルコキシル）カルボニル基より選択される。本発明の別の態様によれば、前記の官能基化されたポリマー物質を調製する方法であって、対応する非官能基化ポリマー物質を官能基化すること、又は対応するモノマー若しくはプレポリマーを官能基化すること、そしてそれに次いでそれらを重合することを具備したものが提供される。簡単な試験である、以下の試験１乃至５を行って、組成物がポリマー物質を具備しているか、選択した現像剤及び親水性支持体がともに、石版印刷環境下において本発明における使用に適するかを決定することができる。単純化のため、これらの試験では熱を直接的にデリバリーすることを含むが、一方、使用する組成物への熱のデリバリーは、直接的又は上記したように入射電磁放射若しくは荷電粒子放射の変換を経由して行うことができる。試験１前記の対応する官能基化されていないポリマー物質を含む組成物で親水性の支持体を被覆し、乾燥する。次に表面にインキを塗布する。均一なインキ被覆が得られれば、その組成物は被覆として施された場合にインキを受理するといえる。試験２（任意）前記の対応する官能基化されていないポリマー物質を含む組成物で被覆された支持体を、選択された現像剤中で、室温にて、試行錯誤によって決定されてもよいが、典型的には１５〜１２０秒間である適切な時間をかけて処理し、すすぎ、乾燥し、インキを適用する。インキ面が得られない場合、組成物は現像剤に溶解したといえる。試験３官能基化されたポリマー物質を含む組成物で支持体を被覆し、乾燥し、インキを塗布する。均一なインキによる被覆が得られる場合、組成物は被覆として施された場合にインキ受理性であるといえる。試験４官能基化されたポリマー物質を含む組成物で被覆された支持体を、選択された現像剤中で、室温にて、試行錯誤によって決定されてもよいが、典型的には１５〜１２０秒間である適切な時間をかけて処理し、すすぎ、乾燥し、インキを適用する。均一なインキ被覆が得られる場合、組成物は現像剤に不溶であるといえる。試験５官能基化されたポリマー物質を含む組成物で被覆された支持体を、組成物が適当な時間の間、最適温度に達するように、たとえば炉中もしくは加熱体と接触させることにより加熱する。次に、選択された現像剤中で、適当な時間、室温で処理する。次に表面を乾燥し、インキを適用する。インキ面が得られる場合、加熱された組成物は現像剤に溶解したといえる。加熱工程に対する温度および時間は、組成物のために選択された成分およびそれらの比率に依存する。最適な条件を決定するために、簡単な試行錯誤を行ってもよい。初期の失敗は決定的なものとはならないが、適切な作業を行っているにもかかわらず、合格結果が永続的に得られない場合には、組成物はこの試験に不合格であるとみなすべきである。好ましくは、典型的な組成物、たとえば官能基化されたフェノール樹脂などは、組成物が５〜３０秒間、５０℃〜１８０℃の温度に達するように加熱されてもよい。その後、組成物を選択された現像剤中で、室温にて、試行錯誤によって決定されてもよいが、典型的には１５〜１２０秒間である適切な時間をかけて処理する。官能基化されたポリマー物質は、組成物が５〜２０秒間、１００℃〜１６０℃に達するように加熱されるのが最も好ましい。次にこれを、室温で典型的には１５〜１２０秒間、選択された現像剤中で処理する。組成物がこれらの試験に合格する場合には、その組成物は本発明の方法における石版印刷版上での使用に適しているといえる。ただし、当然のことながら、加熱のために電磁変換または荷電粒子ビーム放射を含む実施形態においては、存在するあらゆる放射吸収性化合物を考慮して、適切な放射が行われる。同様に、組成物は、電子回路またはマスクのためのフォトレジストに対する要件を満たしていると思われる。しかしながら、インキ受理性を決定する上記試験の態様は、本文とは関係無く、省略することもできる。本発明またはここに記載する実施形態のどの態様のどの特徴も、本発明またはここの記載する実施形態のあらゆる態様のあらゆる特徴と組合わさられることができる。本明細書中において、我々は本発明の実施にあたって研究中のメカニズム、およびそれによって本発明で定義する方法がどの程度まで影響されたかに関する我々のいくつかの考えを述べる。しかしながら、我々は自らの特許保護をこの特性の特定の着想と結びつけようとしているのではない。重要なことは、我々の実験的研究で効果があることが分かった、新しい方法、化合物および組成物を導き出すことにあり、この事実は、たとえさらなる研究が行われるにつれて我々のメカニズムに対する考えが変化したとしても維持される。以下の例は、上記に記載の本発明の様々な態様をより詳細に説明するものである。出発物質以下の生成物をこれ以降で参照する。ＬＢ６５６４―１：１フェノール／クレゾールノボラック樹脂［Ｂａｋｅｌｉｔｅ，ＵＫにより供給］。ＬＢ７４４―クレゾールノボラック樹脂［Ｂａｋｅｌｉｔｅにより供給］。ＬＧ７２４―フェノールノボラック樹脂［Ｂａｋｅｌｉｔｅにより供給］。ＰＨＳ−４―ポリヒドロキシスチレン樹脂(商標名：ＭａｒｕｋａＬｙｎｃｕｒ−Ｍ(Ｓ−１))[ＭａｒｕｚｅｎＡｍｅｒｉｃａＩｎｃ，ＮＹにより供給 ]。ＰＤ−３９０Ａ―メタクレゾールノボラック樹脂[ＢｏｒｄｅｎＣｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｓｏｕｔｈａｍｐｔｏｎ，ＵＫにより供給]。ＳＤ−４２３Ａ―オルトクレゾールノボラック樹脂[ＢｏｒｄｅｎＣｈｅｍｉｃａｌｓにより供給]。ＳＤ−４４３Ａ―パラクレゾールノボラック樹脂[ＢｏｒｄｅｎＣｈｅｍｉｃａｌｓにより供給]。ＳＤ−４４４Ａ―４３：５７メタ：オルトクレゾールノボラック樹脂[ＢｏｒｄｅｎＣｈｅｍｉｃａｌｓにより供給]。ＰＤ−４９４Ａ―５３：４７メタ：オルトクレゾールノボラック樹脂[ＢｏｒｄｅｎＣｈｅｍｉｃａｌｓにより供給]。塩化２１４−ＮＱＤ―下記の式で表される化合物[Ｂｒａｄｆｏｒｄ，ＵＫのＡ．Ｈ．Ｍａｒｋｓにより供給]。ＮＷ６５６４―ＬＢ６５６４（１００ｇ）を、後述のプロセスによって塩化２１４−ＮＱＤ（１８ｇ）と反応させたときに生じる樹脂。ＮＷ７４４―ＬＢ７４４（１００ｇ）を、後述のプロセスによって塩化２１４ −ＮＱＤ（１８ｇ）と反応させたときに生じる樹脂。ＨＳＬ−１―ＬＢ７４４とＬＢ６５６４の６０：４０（重量比）混合物。ＨＳＬ−２―ＮＷ６５６４とＮＷ７４４の５０：５０（重量比）混合物。染料Ａ―下記の構造を有すると考えられている、ＫＢ６５４ＢＰＩＮＡ[ＲｉｅｄｅｌｄｅＨａａｎ，ＵＫ，Ｍｉｄｄｌｅｓｅｘ，ＵＫにより供給]。ＰＣ−Ａ―下記の構造を有する、感光性化合物２，４−ジヒドロキシベンゾフェノンビス（６−ジアゾ−５，６−ジヒドロ−５−オキソ−１−ナフタレンスルホナート）［Ａ．Ｈ．Ｍａｒｋｓ，Ｂｒａｄｆｏｒｄ，ＵＫにより供給］。染料Ｂ―下記の構造を有する、ビクトリアピュアブルーＢＯ[ＡｌｄｒｉｃｈＣｈｅｍｉｃａｌＣｏｍｐａｎｙ，Ｄｏｒｓｅｔ，ＵＫにより供給]。ＡＧ−Ａ―下記の構造を有する酸生成化合物[ＰＣＡＳ，Ｌｏｎｇｊｕｍｅａｕ，Ｆｒａｎｃｅにより供給]。ＰＣ−Ｂ―下記の構造を有する感光性化合物［ＰＣＡＳにより供給］。Ｍｏｎ−Ｃ―下記の式で示される、モナゾリンＣ、コシルイミダゾリン赤外線吸収染料［ＭｏｎａＩｎｄｕｓｔｒｉｅｓＩｎｃ．，ＮｅｗＪｅｒｓｅｙ，ＵＳＡにより供給］。ＦＷ−２―チャネル型カーボンブラック［Ｄｅｇｕｓｓａ，Ｍａｃｃｌｅｓｆｉｅｌｄ，ＵＫにより供給］。現像剤Ｄ１―１４重量％メタケイ酸ナトリウム五水和物（水に溶解）。現像剤Ｄ２―７重量％メタケイ酸ナトリウム五水和物（水に溶解）。現像剤Ｄ３―３．５重量％メタケイ酸ナトリウム五水相物（水に溶解）。現像剤Ｄ４―Ｋａｌｌｅ，ＥＰ２６０現像剤現像剤Ｄ５―７１（酸化カリウム（０．１５Ｍ）水溶液。現像剤Ｄ６―水酸化テトラメチルアンモニウム（０．１５Ｍ）水溶液。現像剤Ｄ７―水酸化リチウム（０．５Ｍ）水溶液。現像剤Ｄ８―水酸化ナトリウム（０．５Ｍ）水溶液。現像剤Ｄ９―水酸化カリウム（０．５Ｍ）水溶液。クレオ・トレンドセッタ（Creo Tredsetter）３２４４―ＰｒｏｃｏｍｍＰｌｕｓソフトウェアを使用し、波長８３０ｎｍ、８Ｗまでの電力で作動する市販のプレートセッタ［ＣｒｅｏＰｒｏｄｕｃｔｓＩｎｃ．，Ｂｕｒｎａｂｙ，Ｃａｎａｄａにより供給。］特に記載のない限り、使用する化学物質はＡｌｄｒｉｃｈＣｈｅｍｉｃａｌＣｏｍｐａｎｙ，Ｄｏｒｓｅｔ，ＵＫによって供給されたものである。樹脂は、それぞれの酸塩化物との単純な反応によって改質した。一例を以下に示す。１．所望のフェノール樹脂２５．０ｇを２−メトキシエタノール６１．８ｇに溶解する。２．５００ｍｌ容の３つ口丸底フラスコを、加熱プレート／攪拌機上に載置された水浴に浸す。フラスコに、攪拌機パッキン（ｓｔｉｒｒｅｒｇｌａｎｄ）、撹拌棒、および温度計を取り付ける。３．樹脂溶液をフラスコに入れ、急速な撹拌を開始する。４．沈殿を最小限に保ちながら、蒸留水２５．６ｇをゆっくりと滴下する。５．炭酸水素ナトリウム（４．３ｇ）をフラスコに添加する。固体がすべて溶解するわけではない。６．所望の酸塩化物を激しく撹拌しながらゆっくりと添加する。必要な酸塩化物の量は、１つの水酸基を含むフェノール樹脂単量体単位の分子量および酸塩化物の分子量に依存する。たとえば、フェノール樹脂がＬＢ６５６４（分子量＝２２７、２つの水酸基を含む）で、酸塩化物が塩化ｐ−トルエンスルホニル（分子量＝１９０．６５）の場合、９内の１つの水酸基をエステル化するために４．７ｇの酸塩化物が必要とされる。７．反応混合物を撹拌しながら４０℃で６時間加温する。８．６時間後、フラスコを水浴から外し、放冷（３０分間）する。９．比重１．１８の塩酸８．６ｇを蒸留水３５４ｇに添加して希薄溶液を調製する。１０．エステル化された樹脂を撹拌しながら希薄溶液に滴下して、ゆっくりと沈殿させる。１１．沈殿を蒸留水中で少なくとも３回、可能であればろ液のｐＨが６．０になるまで再スラリー化することにより、ろ過、洗浄する。実際には５．５までしかならないであろう。１２．沈殿を４０℃の真空乾燥器中で乾燥させる。官能基Ｑのみを有する以下の樹脂Ａ〜Ｓを調製するための酸塩化物は以下の通りである。塩化ｐ−トルエンスルホニル、塩化２−ナフタレンスルホニル、塩化ｎ−ブタンスルホニル、塩化メタンスルホニル、塩化アセチル、塩化ベンゾイル、塩化ダンシル（すなわち、５−ジメチルアミノナフタレン−１−スフホニル）、および塩化２−チオフェンスルホニルである。樹脂Ａ〜Ｓおよびそれらの調製方法を以下にまとめる。改質樹脂の同定は、ＩＲスペクトルによって行った。試料溶液（１−メトキシプロパン−２−オールに樹脂を溶解）は、針金を巻いたバーを用いて、前面ミラー上に塗布した。溶液濃度は、乾燥器中１００℃で３分間乾燥させた後の被覆重量が２．０ｇｍ^-2の規定の乾燥被膜組成物が得られるように選択した。被覆されたミラーをパーキンエルマースペクトル反射アダプタ内に配置し、ＰｅｒｋｉｎＦＴ−ＩＲ２０００分光計内でＩＲ透過スペクトルを測定した。比較のために、改質されていない樹脂についても調べた。官能基Ｑおよび付加官能基を有するさらに別の樹脂を調製するために、上述のプロセスを用いた。樹脂Ｔは、ＨＳＬ−１を塩化２１４−ＮＱＤ（１８ｇ）およびｍ−クロロスルホニル安息香酸（６．６ｇ）と反応させて得られた樹脂である。樹脂Ｕは、ＬＢ６５６４（１００ｇ）を塩化２１４−ＮＱＤ（１８ｇ）および塩化ベンゾイル（２．８ｇ）と反応させて得られた樹脂である。樹脂Ｖは、ＬＢ６５６５（１００ｇ）を塩化２１４−ＮＱＤ（１８ｇ）およびｍ−クロロスルホニル安息香酸（１１ｇ）と反応させて得られた樹脂である。樹脂Ｗは、樹脂ＨＳＬ−１を塩化２１４−ＮＱＤ（１８ｇ）およびｍ−クロロスルホニルケイ皮酸（７．５ｇ）と反応させて得られた樹脂である。樹脂Ｘは、ＬＢ６５６４（１００ｇ）を塩化２１４−ＮＱＤ（１８ｇ）および塩化トシル（９．５ｇ）と反応させて得られた樹脂である。以下に示す「Ｃ」ではじまる例番号、たとえばＣ４９は、本発明によるものではない例であり、比較および参照のために挙げられたものである。溶解阻止試験以下の例１〜Ｃ５８に対する被覆用調合物は、１−メトキシプロパン−２−オールの溶液として調製した。使用した基板は、０．３ｍｍのアルミニウム薄板であって、この薄板には電解研磨および陽極酸化処理が施され、陽極酸化処理の後に無機リン酸塩水溶液で処理されている。被覆用溶液は針金を巻いたバーを用いて基板上に塗布した。溶液濃度は、乾燥器中１００℃で３分間乾燥させた後の被覆重量が２．０ｇｍ^-2の規定の乾燥被膜組成物が得られるように選択した。上記例１〜Ｃ５８の基板を後述する適当な水性現像剤溶液を用いて、２０℃の水溶液に浸漬することにより、各基板の現像性について試験した。以下の表は、組成物に対して行った単純な現像性試験の結果を挙げたものである。直接加熱画像形成被覆されたプレートは、上記の例１〜Ｃ５８として認識される調合物を用いて、溶解阻止試験の項で説明したようにして調製した。プレート試料には、３１１℃に加熱されたウエラー（Ｗｅｌｌｅｒ）はんだごてＥＣ２１００Ｍから発せられる熱をかけた。はんだごてのプレート表面上での移動速度は、いずれの場合も１ｃｍ／秒とした。いずれ場合も、各試料の被覆面上にはんだ面を施した。処理されたプレート試料を２０℃において、適当な現像剤中で３０秒間処理した。結果を以下の表に示す。レーザー熱画像形成以下の例５９〜７２のための被覆用調合物は、１−メトキシプロパン−２−オールの溶液として調製した。使用した基板は、０．３ｍｍのアルミニウム薄板であって、この薄板には電解研磨および陽極酸化処理が施され、陽極酸化処理の後に無機リン酸塩水溶液で処理されている。被覆用溶液は針金を巻いたバーを用いて基板上に塗布した。例５９〜６１については、溶液濃度は、乾燥器中１００℃ で３分間乾燥させた後の被覆重量が１.５ｇｍ^-2の規定の乾燥被膜組成物が得られるように選択した。例６２〜７２については、溶液濃度は、乾燥器中１３０℃ で８０秒間乾燥させた後の被覆重量が２.０ｇｍ^-2の規定の乾燥被膜組成物が得られるように選択した。次にプレート試料の画像形成を行った。画像形成すべき被覆基板を１０５ｍｍの円形に裁断し、１分間に１００〜２５００回転の一定速度で回転可能なディスク上に載置した。回転ディスクに隣接して並進移動テーブルが設置され、該テーブルによって、レーザ光が被覆基板に対して垂直に当たるようにレーザ光源を保持するとともに、レーザ光を回転ディスクに対して放射方向に直線的に移動させた。使用したレーザは、単一モード、波長８３０ｎｍ、２００ｍＷのレーザダイオードであり、１０ミクロンの解像度で結像される。レーザ源は定電流源によって安定化した。露出画像はらせん状であるので、らせんの中心にある画像は遅いレーザ走査速度と長い露出時間を示し、らせんの外縁部は速い走査レーザ走査速度と短い露出時間を示した。画像形成エネルギは、画像が形成された径を測定することにより導き出した。この露出システムによって導き出された最小エネルギは、回転速度が２５００ｒｐｍのときの１２０ｍＪｃｍ-2であった。露出されたディスクは、次に特定の現像剤に適当な時間だけ浸漬することにより処理した。次にプレートの感度を調べた。結果を下記の表に示す。参照のために、１つの塩基樹脂、例Ｃ７３、および２つのＮＱＤ樹脂エステル、例Ｃ７４およびＣ７５の試験を行った。これらの参照例Ｃ７３、Ｃ７４およびＣ７５は、本発明に従うものではない。例Ｃ７３〜Ｃ７５に対する被覆用調合物は、１−メトキシプロパン−２−オールの溶液として調製した。被覆用溶液は例５９〜７２の記載を参照して塗布した。溶液濃度は、乾燥器中１３０℃で８０秒間乾燥させた後の被覆重量が２.０ｇｍ^-2の規定の乾燥被膜組成物が得られるように選択した。比較例Ｃ７３、Ｃ７４、およびＣ７５は、次に上述の８３０ｎｍレーザ画像形成装置を利用して画像形成を行った。露出後の試料は、現像剤Ｄ１中に６０秒間浸漬することにより処理した。その後、プレートの感度を測定した。結果を下記の表に示す。別の基板を用いて実験を行った。ここではさらなる例７６〜７９を１−メトキシプロパン−２−オールの溶液として調製した。被覆用溶液は、針金を巻き付けたバーを用いて適当な支持体上に塗布した。これらの例に対しては、溶液濃度は、乾燥器中１３０℃で８０秒間乾燥させた後の被覆重量が２．０ｇｍ^-2の規定の乾燥被膜組成物が得られるように選択した。例７６に対しては、支持体はアルミニウム（０．３ｍｍゲージ）とし、ＮａＯＨ（２．５Ｍ、２０℃）で脱脂し、現像剤Ｄ２（１分間、２０℃）で洗滌した。例７７に対しては、銅被膜を支持体として使用し、アセトン（２０℃）で脱脂し、ＨＮＯ₃（０．１Ｍ、２０℃、１０秒間）で洗滌した。例７８に対しては、ＳａｍｕｅｌＧｒａｎｔＬｔｄ.，Ｌｅｅｄｓ，ＵＫによって供給されるアルミ蒸着紙番号１を支持体として使用した。例７９に対しては、ＳａｍｕｅｌＧｒａｎｔＬｔｄ．によって供給されるアルミ蒸着紙番号４を支持体として使用した。例７６〜７９は、上述の８３０ｎｍレーザ画像形成装置を用いて画像形成を行った。露出後の試料は、適当な水性現像剤溶液中に適当な時間浸漬することにより処理した。その後、プレートの感度を測定した。結果を下記の表に示す。ＵＶ画像形成以下の例８０〜Ｃ１０１のための被覆用調合物は、上述のように、１−メトキシプロパン−２−オールの溶液として調製した。調合物は上記例５９〜７２を参照して説明されるようにして塗布した。例８０，８１，８２，８９および９０については、溶液濃度は、乾燥器中１００℃で３分間乾燥させた後の被覆重量が１ .５ｇｍ^-2の規定の乾燥被膜組成物が得られるように選択した。例８３〜８８および９４〜Ｃ１０１については、溶液濃度は、乾燥器中１３０℃で８０秒間乾燥させた後の被覆重量が２.０ｇｍ^-2の規定の乾燥被膜組成物が得られるように選択した。例９１〜９３については、溶液濃度は、乾燥器中１００℃で８０秒間乾燥させた後の被覆重量が１.５ｇｍ^-2の規定の乾燥被膜組成物が得られるように選択した。次にプレート試料に対し、ＴＨ３０２０ジアゾバルブを用いるＭｏｎｔａｋｏｐＵＶライトフレーム［ドイツのＳｉｅｇｆｒｉｅｄＴｈｅｉｍｅｒＧｍｂＨにより供給］を用いて画像形成を行った。このライトフレームは主に４００〜４４０ｎｍの波長帯域に分布するＵＶ光を放射する。露出ユニットの数は下記の表に示した通りであり、２０：２０の真空状態でマスク（ｓｔｏｕｆｆｅｒ２１段階的感度ガイド）し、適当な水性現像溶液中で適当な時間処理した。その後、プレートの感度を測定した。結果を下記の表に示す。他の基板を用いての実験を行った。ここでは例１０２〜１０５を１−メトキシプロパン−２−オールの溶液として調製した。被覆用溶液を針金を巻き付けたバーによって適当な支持体上に塗布した。これらの例に対しては、溶液濃度は、乾燥器中１３０℃で８０秒間乾燥させた後の被覆重量が２.０ｇｍ^-2の規定の乾燥被膜組成物が得られるように選択した。例１０２に対しては、支持体として、チアニアおよびアルミナを含むケイ酸エステル組成物からなる親水性被覆を有するアルミニウムを使用した。例１０３に対しては、支持体として、研磨されずに陽極酸化処理のみが行われたアルミニウムを使用した。例１０４に対しては、支持体として、アルミ蒸着したポリエチレン［ＨｉＦｉＩｎｄｕｓｔｒｉａｌＦｉｌｍＬｔｄ．，Ｓｔｅｖｎａｇｅ，ＵＫにより供給］を使用した。例１０５に対しては、プランホイル（Ｐｌａｎｆｏｉｌ）ポリエステルモンタージュホイル(厚み０．１８ｍｍ)［ＫｏｄａｋＰｏｌｙｃｈｒｏｍｅＧｒａｐｈｉｃｓ／Ｈｏｒｓｅｌｌ，Ｌｅｅｄｓ，ＵＫにより供給］を使用した。例１０２〜１０５を、上述のＭｏｎｔａｋｏｐＵＶライトフレームを用いて画像形成を行った。露出後の試料を適当な水性現像溶液中で適当な時間処理した。その後、プレートの感度を測定した。結果を以下の表に示す。プレートの性能を高めるために、本発明の樹脂により多量の通常のＮＱＤエステルを添加したものについて実験を行った。これらの実験において広範囲の現像剤が試された。例１０６〜Ｃ１１２のための被覆用調合物は、１−メトキシプロパン−２− オールの溶液として調製した。被覆用溶液は、例５９〜７２に記載のようにして塗布した。溶液濃度は、乾燥器中１３０℃で８０秒間乾燥させた後の被覆重量が２．０ｇｍ^-2の規定の乾燥被膜組成物が得られるように選択した。次に、例１０６〜Ｃ１１２を、ここに述べたようにＭｏｎｔａｋｏｐＵＶライトフレーム（８０ユニット露出時間）を用いて画像形成を行った。露出後の試料を適当な水性現像溶液中で６０秒間処理した。その後、プレートの感度を測定した。結果を以下の表に示す。電子画像形成例１１３〜Ｃ１１６のための被覆用調合物は、１−メトキシプロパン−２−オールの溶液として調製した。被覆用溶液は、例５９〜７２に記載のようにして塗布した。溶液濃度は、乾燥器中１３０℃で８０秒間乾燥させた後の被覆重量が２．０ｇｍ^-2の規定の乾燥被膜組成物が得られるように選択した。画像形成すべき試料を２．０ｃｍ四方に裁断し、アルミニウム装着スタブ上に貼付け、ＨｉｔａｃｈｉＳ４１００走査電子顕微鏡からの電子ビームを用いて画像形成を行った。条件は以下の通りである。加速電圧２５ｋＶ抽出電圧５ｋＶ放出電流２０μＡ開口数２集光レンズ３作動距離１３ｍｍ露出後の試料を現像剤Ｄ１中で適当な時間処理した。その後、プレートの感度を測定した。結果を以下の表に示す。顔料の使用上述の顔料とＬＢ６５６４樹脂とを（１：４重量％（重量比）の比率で）共に４日間ボールミルにかけ、１−メトキシプロパン−２−オール中の分散ミル基剤が３０％の固体含量と、粉砕ゲージで測定して１０ミクロン未満の粒子サイズを有するようにした。次にこのミル基剤を改質樹脂Ａ（１−メトキシプロパン−２ −オールに溶解）の溶液と混合し、例１１７の場合には、ＬＢ６５６４溶液（１ −メトキシプロパン−２−オール）を添加した。したがって、例１１７および１１８のための被覆用調合物は、完全に１−メトキシプロパン−２−オールの溶液として調製された。基板としては、０．３ｍｍのアルミニウム薄板を使用し、この薄板には電解研磨および陽極酸化処理が施され、陽極酸化処理の後に無機リン酸塩水溶液で処理されている。被覆用溶液は針金を巻いたバーを用いて基板上に塗布した。溶液濃度は、乾燥器中１００℃で３分間乾燥させた後の被覆重量が２ .２ｇｍ^-2の規定の乾燥被膜組成物が得られるように選択した。次にプレートに対して、５５℃の乾燥器中、５時間、安定化熱処理を行った。加熱処理後のプレートは、８ワットのＣｒｅｏＴｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ上で５０％のスクリーン画像を用いて、画像形成エネルギ密度１６０，１８０，２００，２４０および２６０ｍＪｃｍ-2で画像形成した。露出後のプレートを、２２ ℃において、現像剤Ｄ１を含むＨｏｒｓｅｌｌＭｅｒｃｕｒｙＭａｒｋＶプレート処理装置を用いて現像した。処理速度は７５０ｍｍ／分に設定した。最後に、得られた画像を目視で評価すると共に、Ｔｏｂｉａｓプレートチェックデンシトメータ［Ｉｖｙｌａｎｄ，Ｐｈｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ，ＵＳＡのＴｏｂｉａｓＡｓｓｏｃｉａｔｅｓＩｎｃ．により供給］を用いて測定した。樹脂の固有適性の評価樹脂の固有適性を、上記の記載に従って試験１〜５によって評価した。試験した樹脂：ＬＢ６５６４、改質樹脂Ａ、Ｅ、ＧおよびＩ試験１：ＬＢ６５６４樹脂を１−メトキシプロパン−２−オールに溶解し、１３０℃で８０秒間乾燥させた。皮膜重量＝２．０ｇｍ^-2 この組成物は被覆として施した場合、インキ受理性であった。試験合格試験２:試験１の被覆を以下の現像剤中で処理した。現像剤Ｄ１、２０℃、３０秒間。現像剤Ｄ２、２０℃、３０秒間。インキ面が一切得られなかった。試験合格。試験３:改質樹脂を１−メトキシプロパン−２−オールに溶解し、１３０℃で８０秒間乾燥させた。皮膜重量＝２．０ｇｍ^-2 この組成物は、被覆として施された場合にインキ受理性であった。試験合格。試験４:試験３の被覆を以下の現像剤中で処理した。樹脂Ａ，Ｅ，Ｉ：現像剤Ｄ１、２０℃、６０秒間。インキ面が得られた。樹脂Ｇ：現像剤Ｄ２、２０℃、６０秒間。インキ面が得られた。試験合格。試験５：プレートをウェラーはんだごてＥＣ２１００Ｍで１５０℃まで加熱し、現像剤中で処理した。樹脂Ａ：組成物を５秒後１５０℃まで加熱し、１５０℃で１５秒間保持。現像剤Ｄ１、２０℃、６０秒間。樹脂Ｅ：組成物を５秒後１５０℃まで加熱し、１５０℃で１５秒間保持。現像剤Ｄ１、２０℃、６０秒間。樹脂Ｇ：組成物を５秒後１５０℃まで加熱し、１５０℃で１５秒間保持。現像剤Ｄ１、２０℃、６０秒間。樹脂Ｉ：組成物を５秒後１５０℃まで加熱し、１５０℃で１５秒間保持。現像剤Ｄ１、２０℃、６０秒間。プレートの温度は熱電対によって測定した。インキ面は一切得られなかった。試験合格。本明細書中において、我々は随所にＵＶ、赤外線および可視照射について述べている。当業者であれば、これらの照射の典型的な波長範囲について認識しているであろう。しかしながら、誤解を避けるために述べておくと、ＵＶ照射は典型的には４５０ｎｍを超えない波長域を有する。可視照射は約４００〜７００ｎｍの波長域を有する。赤外線照射は、典型的には６００ｎｍを超える波長域を有するが、ＵＶ照射と可視照射の間の境界、および赤外線照射と可視照射の間の境界は明確なものではない。本願において、我々は欧州特許第４１０６０６号から引用した方法について、その発明もしくはそこに記載された先行技術の説明に関して、一切の権利を主張しない。特に、我々は本願において、ｏ−ニトロカルビノール化合物によって官能基化されたポリマー物質を使用する権利を主張しない(本発明に従う組成物の可能な付加的置換基または成分を除く)。我々は、ＪＰ２０７０１３／９６、ＪＰ３０２７２２／９６、ＪＰ−９２６４／９７およびＥＰ８２３３２７Ａについて認識している。これらの開示もしくはそれらの均等物の一部分が、本願の一部分の優先日よりも前の優先日を有しているかどうかが定かでない国においては、そのような場合に限って、そのような国に限って、我々は早い優先日を有するそのような開示に対して権利を主張しない。本明細書中(添付のクレーム、要約書および図面のすべてを含めて)に開示したすべての特徴、および／または開示されたすべての方法またはプロセスのすべての工程は、そのような特徴および／または工程の少なくともいくつかが互いに排他的であるような組合せを除く、あらゆる組合せにおいて組み合わせ可能である。本明細書中(添付のクレーム、要約書および図面のすべてを含めて)に開示されたそれぞれの特徴は、特に注記しない限り、同一、均等もしくは類似の目的をもつ代替の特徴に代えられてもよい。したがって、特に注記しない限り、開示されたそれぞれの特徴は、一連の包括的な均等又は類似の特徴の一例にすぎない。本発明は上述の実施形態の詳細に限定されることはない。本発明は、本明細書中(添付のクレーム、要約書および図面のすべてを含めて)に開示された特徴のなかの、どの特徴、またはどの特徴の組合せにも拡大され、また開示された方法またはプロセスのなかのどの工程、またはどの工程の組合せにも拡大される。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号９８０９３４６．１ (32)優先日平成10年５月１日(1998．5．1) (33)優先権主張国イギリス（ＧＢ） (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＧＷ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＷ (72)発明者ケヴィン・バリー・レイイギリス・ウエスト・ヨークシャー・ＬＳ 27・０ＳＤ・リーズ・モーレイ・チャルナー・クロース・30 (72)発明者アラン・スタンレー・ヴィクター・モンクイギリス・チェシャー・ＷＡ５・３ＥＡ・ウォリントン・グレート・サンキー・パーク・ロード・73 (72)発明者スチュアート・ベイズイギリス・ウエスト・ヨークシャー・ＬＳ 27・８ＡＢ・リーズ・モーレイ・チャッツワース・ミューズ・10 (72)発明者マーク・ジョン・スポウェッジイギリス・ウエスト・ヨークシャー・ＷＦ 17・０ＲＧ・リーズ・スウィリントン・ヒルクレスト・42

Claims

【特許請求の範囲】１．基板上に所定のレジストパターンを作製する方法であって、当該方法は、当該基板を具備した前駆体であって、ポジ型作用組成物を具備するコーティングをその表面に有する前駆体に、放射線をパターン的に適用する工程、及び現像剤を使用して当該パターンを現像する工程を具備し、当該組成物は、その表面に官能基Ｑを有するポリマー物質を具備し、当該官能基化されたポリマー物質は、放射線照射前は現像剤に不溶性であり、その後は現像剤可溶性である性質を有する上記方法において、当該官能基Ｑは、ニアジ化ナフトキノン基も、ニアジ化ベンゾキノン基も具備しないことを特徴とする方法。２．基板上に所定のレジストパターンを作製する方法であって、当該方法は、当該基板を具備した前駆体であって、ポジ型作用組成物を具備するコーティングをその表面に有する前駆体に、放射線をパターン的に適用する工程、及び現像剤を使用して当該パターンを現像する工程を具備し、当該組成物は、その表面に官能基Ｑを有するポリマー物質を具備し、当該官能基化されたポリマー物質は、放射線照射前は現像剤に不溶性であり、その後は現像剤可溶性である性質を有する上記方法において、当該官能基Ｑは、ニアジ化物基を含まないことを特徴とする方法。３．基板上に所定のレジストパターンを作製する方法であって、当該方法は、当該基板を具備した前駆体であって、ポジ型作用組成物を具備するコーティングをその表面に有する前駆体に、放射線をパターン的に適用する工程、及び現像剤を使用して当該パターンを現像する工程を具備し、当該組成物は、その表面に官能基Ｑを有するポリマー物質を具備し、当該官能基化されたポリマー物質は、放射線照射前は現像剤に不溶性であり、その後は現像剤可溶性である性質を有する上記方法において、当該官能基は、当該放射線への露出により化学的に分解されないことを特徴とする方法。４．基板上に所定のレジストパターンを作製する方法であって、当該方法は、当該基板を具備した前駆体であって、ポジ型作用組成物を具備するコーティングをその表面に有する前駆体に、放射線をパターン的に適用する工程、及び現像剤を使用して当該パターンを現像する工程を具備し、当該組成物は、その表面に官能基Ｑを有するポリマー物質を具備し、当該官能基化されたポリマー物質は、放射線照射前は現像剤に不溶性であり、その後は現像剤可溶性である性質を有する上記方法において、当該官能基Ｑは、酸基も酸生成基も具備せず、いずれの場合においても当該放射線への露出により除去される不安定な保護基により保護されていることを特徴とする方法。５．基板上に所定のレジストパターンを作製する方法であって、当該方法は、当該基板を具備した前駆体であって、ポジ型作用組成物を具備するコーティングをその表面に有する前駆体に、放射線をパターン的に適用する工程、及び現像剤を使用して当該パターンを現像する工程を具備し、当該組成物は、その表面に官能基Ｑを有するポリマー物質を具備し、当該官能基化されたポリマー物質は、放射線照射前は現像剤に不溶性であり、その後は現像剤可溶性である性質を有する上記方法において、当該官能基Ｑは更に、当該放射線の吸収の主要な原因ではないことを特徴とする方法。６．基板上に所定のレジストパターンを作製する方法であって、当該方法は、当該基板を具備した前駆体であって、ポジ型作用組成物を具備するコーティングをその表面に有する前駆体に、放射線をパターン的に適用する工程、及び現像剤を使用して当該パターンを現像する工程を具備し、当該組成物は、その表面に官能基Ｑを有するポリマー物質を具備し、当該官能基化されたポリマー物質は、放射線照射前は現像剤に不溶性であり、その後は現像剤可溶性である性質を有する上記方法において、当該官能基Ｑと、同じ分子又は当該ポリマー物質中の他の分子の他の基との間に水素結合が存在することを特徴とする方法。７．前記の官能基Ｑが、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アミド基、モノアルキルアミド基、ジアルキルアミド基、クロロ基、フルオロ基、カルボニル基、スルフィニル基、又はスルホニル基を具備する群より選択されることを特徴とする請求項１乃至６の何れかに記載の方法。８．前記の官能基化されたポリマー物質が、式Ｒ−（Ｑ）_nで定義されることを特徴とする請求項１乃至７の何れかに記載の方法：式中、Ｒは当該ポリマー物質のポリマー鎖を表し；（Ｑ）_nは、それに結合している官能基を表し；ここで、Ｑは、式−Ｔ−Ｚの基を表し、式中、Ｔは、同じ分子又は隣接した一又は複数の分子のポリマー鎖Ｒに水素結合している部分を表し、Ｚは、同じ分子又は隣接した一又は複数の分子のポリマー鎖Ｒに適宜水素結合している別の部分を表す。９．前記のＴが、カルボニル基、スルフィニル基、又はスルホニル基を表すことを特徴とする請求項８に記載の方法。１０．前記のＴが、式−Ｏ−Ｘ（Ｚ）−Ｏ−の基を表すことを特徴とする請求項８又は９何れかに記載の方法：式中、Ｘは連結部分を表し；Ｚは同じ分子又は隣接した一又は複数の分子のポリマー鎖Ｒに適宜水素結合している部分である。１１．前記のＺが、適宜置換された、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、複素環基、アラルキル基、又はヘテロアラルキル基を表すことを特徴とする請求項８、９、又は１０に記載の方法。１２．前記のＺが、適宜置換されたアリール基、適宜置換されたヘテロアリール基、又は適官置換されたアルキル基を表すことを特徴とする請求項１１に記載の方法。１３．対応する非官能基化ポリマー物質が、ヒドロキシ基又はチオール基を具備することを特徴とする請求項１乃至１２の伺れかに記載の方法。１４．前記の官能基化されたポリマー物質における前記の官能基Ｑの、対応する非官能基化ポリマー物質におけるヒドロキシ基又はチオール基に対する比率が、１：１００乃至１：２の範囲にあることを特徴とする請求項１３に記載の方法。１５．前記の比率が、１：５０乃至１：３の範囲にあることを特徴とする請求項１４に記載の方法。１６．前記の比率が、１：２０乃至１：６の範囲にあることを特徴とする請求項１５に記載の方法。１７．前記の官能基化されたポリマー物質が、フェノール樹脂、又はヒドロキシスチレンのポリマー若しくはコポリマーより選択されることを特徴とする請求項１乃至１６の何れかに記載の方法。１８．前記の組成物が、別個のポリマー物質を適宜含み、前記の官能基化されたポリマー物質の、当該別個のポリマー物質に対する比率が、１００：０乃至１０：９０の範囲内にあることを特徴とする請求項１乃至１７の何れかに記載の方法。１９．前記の比率が、１００：０乃至２０：８０の範囲内にあることを特徴とする請求項１８に記載の方法。２０．前記の別個のポリマー物質が、官能基化されたポリマー物質が存在しない状態で試験すると、本質的に現像剤に可溶性であることを特徴とする請求項１８又は１９に記載の方法。２１．前記の放射線が、電磁放射を具備することを特徴とする請求項１乃至２０の何れかに記載の方法。２２．前記の電磁放射が、ＵＶ放射を具備することを特徴とする請求項２１に記載の方法。２３．前記の電磁放射が、ＩＲ放射を具備することを特徴とする請求項２１に記載の方法。２４．前記の電磁放射が、可視放射を具備することを特徴とする請求項２１に記載の方法。２５．前記の放射線が、荷電粒子放射であることを特徴とする請求項１乃至２０の何れかに記載の方法。２６．前記の放射線が、電子線放射であることを特徴とする請求項２５に記載の方法。２７．前記の放射線が、基板上のコーティングにより熱に変換され、当該コーティングが、前記組成物を具備することを特徴とする請求項２１乃至２６の何れかに記載の方法。２８．前記の組成物が、それ自身で前記の放射線を吸収し、当該放射線を熱に変換することを特徴とする請求項２７に記載の方法。２９．前記の組成物が、当該放射線を吸収してそれを熱に変換する放射線吸収性化合物を具備することを特徴とする請求項２７に記載の方法。３０．前記のコーティングが、前記組成物の下に配置された付加層を具備し、当該付加層が、前記の電磁照射を吸収し、且つそれを熱に変換する照射吸収性化合物を具備することを特徴とする請求項２７に記載の方法。３１．加熱体から前記前駆体へ、画像的に熱を直接的にデリバリーすることを具備する請求項１乃至２０の何れかに記載の方法。３２．前記の現像剤が、水性のアルカリ溶液であることを特徴とする請求項１乃至３１の何れかに記載の方法。３３．請求項１乃至３２の何れかに記載の方法において使用するための陽画作業前駆体。３４．前記の前駆体が石版印刷組成物の前駆体であり、前記組成物がインク受容性であり、インク受容性ではない表面を有する支持体上にコートされていることを特徴とする請求項３３に記載の陽画作業前駆体。３５．前記の前駆体が、電子パーツ又はマスク用であることを特徴とする請求項３３に記載の方法。３６．前記基板へ前記のコーティングを適用することを具備する請求項３３、３４、又は３５に記載の前駆体製造方法。３７．請求項１乃至３２の何れかに記載の方法を、請求項３３に記載の前駆体に適用することにより製造される画像付き物品。３８．請求項１乃至３２の何れかに記載の方法を、請求項３４に記載の前駆体に適用することにより製造される印刷組成物。３９．請求項１乃至３２の何れかに記載の方法を、請求項３５に記載の前駆体に適用することにより製造される電子パーツ又はマスク。４０．請求項１乃至３２の何れかに記載の方法において使用するためのポジ型作用組成物自体。４１．請求項４０に記載の組成物において使用するための官能基化されたポリマー物質自体。４２．官能基Ｑを複数有する官能基化されたポリマー物質：ここでＱは、式−Ｏ−Ｔ¹−Ｚの基であり、式中、Ｔ¹は、カルボニル基、スルフィニル基、若しくはスルホニル基、又は式− Ｏ−Ｘ（Ｚ）−Ｏ−の基であり、式中、Ｘは、−Ｐ（Ｏ）−基であり、Ｚは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、非芳香性複素環基、アラルキル基、又はヘテロアラルキル基を表し、それそれの基は適宜置換されている；前記のアリール基及びヘテロアリール基、並びに前記のアラルキル又はヘテロアラルキル基のアリール部分又はヘテロアリール部分の適宜置換物は、ハロ基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、適宜置換されたモノ−Ｃ_1-4アルキルアミノ基、適宜置換されたジ−Ｃ_1-4アルキルアミノ基、適宜置換されたモノ−（Ｃ_1-4アルキル）アミド基、適宜置換されたジ−（Ｃ_1-4アルキル）アミド基、適宜置換されたＣ_2-4アルケニル基、適宜置換されたＣ_1-4アルキル基、適宜置換されたＣ_1-4アルコキシ基、（Ｃ_1-4アルキル）カルボニルアミノ基、−ＣＯＯＨ基、適宜置換された（Ｃ_1-4アルキル）カルボニル基、及び適宜置換された（Ｃ_1-4アルコキシ）カルボニル基より選択され、前記のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、及び非芳香性複素環基の適宜置換物、並びに前記のアラルキル基及びヘテロアラルキル基のアルキル部分の適宜置換物、並びに前記アリール部分又はヘテロアリール部分を適宜置換しているアルキル基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、アルキルアミド基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルアミノ基、及びアルケニル基の適宜置換物は、ハロ基、ニトロ基、シアノ基、カルボニル基、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、モノ−Ｃ_1-4アルキルアミノ基、ジ−Ｃ_1-4アルキルアミノ基、アミド基、モノ−（Ｃ_1-4アルキル）アミド基、ジ−（Ｃ_1-4アルキル）アミド基、Ｃ_1- ₄ アルコキシ基、−ＣＯＯＨ基、（Ｃ_1-4アルキル）カルボニルアミノ基、（Ｃ_1- ₄ アルキル）カルボニル基、及び（Ｃ_1-4アルコキシ）カルボニル基より選択される。４３．前記のＴ¹が、スルホニル基又はカルボニル基を表し、前記のＺが、ジアルキルアミノ基又はアルキル基により適宜置換された、フェニル基又はナフチル基を表し、あるいは前記のＺは、チエニル基又はＣ_2-8アルキル基を表すことを特徴とする請求項４２に記載の官能基化されたポリマー物質。４４．官能基Ｑとは別個の官能基であるジアジド基を更に有する、請求項４１、４２、又は４３に記載の官能基化されたポリマー物質。４５．ジアジド部分を具備した化合物との混合物の形態で、請求項４１乃至４４の何れかに記載の官能基化されたポリマー物質を具備する請求項４０に記載のポジ型作用組成物。４６．前記の対応する非官能基化ポリマー物質を、当該官能基を提供する一又は複数の化合物と一緒に反応させることを具備した請求項４１乃至４４の何れかに記載のポリマー物質を調製する方法。４７．モノマー又はプレポリマーであって、何れの場合にも前記の官能基化された基をその上に有さないものを、前記官能基を提供する化合物と一緒に反応させて、官能基化されたモノマー又はプレポリマーを調製し、当該官能基化されたモノマー又はプレポリマーを重合化して官能基化されたポリマー物質を調製することを具備する請求項４１乃至４４の何れかに記載のポリマー物質の調製方法。