JPH09197659A

JPH09197659A - 湿し水不要感光性平版印刷版及びそれを用いた平版印刷版の作製方法

Info

Publication number: JPH09197659A
Application number: JP741796A
Authority: JP
Inventors: Katsura Hirai; 桂平井; Sei Goto; 聖後藤
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1996-01-19
Filing date: 1996-01-19
Publication date: 1997-07-31

Abstract

(57)【要約】【目的】赤外線で画像露光が可能な湿し水不要感光性
平版印刷版とそれを用いた湿し水不要平版印刷版の作製
方法を提供する。【構成】支持体上に少なくとも感光層及びインキ反撥
性層をこの順に有する湿し水不要感光性平版印刷版にお
いて、該感光層が活性光線の照射により酸を発生し得
る化合物、酸の存在下で反応しうる結合を少なくとも１
つ有する化合物、及び赤外線吸収剤を含有する。該感
光層がジアゾ樹脂及び赤外線吸収剤を含有する。上記
又はの湿し水不要感光性平版印刷版に赤外線で画像
露光した後、現像液で画像部のインキ反撥性層を除去す
る湿し水不要平版印刷版の作製方法。上記の湿し水
不要感光性平版印刷版に赤外線で画像露光した後、ｐＨ
が５〜９の水溶液で画像部のインキ反撥性層を除去する
湿し水不要平版印刷版の作製方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、湿し水不要の感光
性平版印刷版及びそれを用いた湿し水不要の平版印刷版
の作製方法に関し、更に詳しくは、支持体上に感光層と
インキ反発性層とをこの順に有する赤外線感光性の湿し
水不要の感光性平版印刷版及びそれを用いた湿し水不要
の平版印刷版の作製方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、湿し水を使用する平版印刷版、す
なわち親水化処理を施した基板（通常はアルミ板）の上
に親油性の感光性樹脂からなる画像を形成し、この版面
に湿し水と油性インキを交互に供給して親水性の非画像
部を水で湿らせ、親油性の画像部のみにインキを付着さ
せて印刷する平版印刷における、湿し水によるインキの
乳化による地汚れやインキと湿し水の供給のバランスに
おける困難性等の問題を改善するため、湿し水を不要と
する平版印刷版が知られている。

【０００３】この種の技術として、特開昭５７−２０７
４０号、同５７−２２２４２号公報等に支持体上に感光
層とインキ反撥性層（シリコーンゴム層等）とをこの順
に有する湿し水不要の感光性平版印刷版及びそれを用い
た湿し水不要の平版印刷版の作製方法が開示されてい
る。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の湿し水不要感光性平版印刷版は、いずれも紫外線感光
性であり、安価でコンパクトな半導体レーザーを用いた
赤外線による画像露光ができない問題がある。

【０００５】したがって、本発明の目的は、赤外線によ
る画像露光が可能な湿し水不要の感光性平版印刷版及び
これを用いた湿し水不要の平版印刷版を作製する方法を
提供することである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記本発明の目的を達成
する本発明は下記（１）ないし（５）である。

【０００７】（１）支持体上にインキ反撥性層が形成さ
れ、かつ該支持体と該インキ反撥性層との間に感光層を
有する湿し水不要感光性平版印刷版において、該感光層
が活性光線の照射により酸を発生し得る化合物、酸の存
在下で反応しうる結合を少なくとも１つ有する化合物、
及び赤外線吸収剤を含有することを特徴とする湿し水不
要感光性平版印刷版。

【０００８】（２）上記（１）に記載の湿し水不要感光
性平版印刷版に赤外線を用いて画像露光を行った後、現
像液で画像部のインキ反撥性層を除去することを特徴と
する湿し水不要平版印刷版の作製方法。

【０００９】（３）支持体上にインキ反撥性層が形成さ
れ、かつ該支持体と該インキ反撥性層との間に感光層を
有する湿し水不要感光性平版印刷版において、該感光層
がジアゾ樹脂及び赤外線吸収剤を含有することを特徴と
する湿し水不要感光性平版印刷版。

【００１０】（４）上記（３）に記載の湿し水不要感光
性平版印刷版に赤外線を用いて非画像部を露光した後、
現像液で画像部のインキ反撥性層を除去することを特徴
とする湿し水不要平版印刷版の作製方法。

【００１１】（５）現像液としてｐＨが５〜９の水溶液
を用いることを特徴とする上記（２）又は（４）に記載
の湿し水不要平版印刷版の作製方法。

【００１２】以下、本発明について詳述する。

【００１３】本発明の感光性平版印刷版の感光層に用い
られる活性光線の照射により酸を発生し得る化合物（以
下「酸発生剤」という）として、各種の公知化合物及び
混合物を用いることができる。例えば、ジアゾニウム、
ホスホニウム、スルホニウム、又はヨードニウムのＢＦ
₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＳｂＦ₆ ^-、ＳｉＦ₆ ^2-、ＣｌＯ₄ ^-などの
塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノン−ジアジドスル
ホニルクロリド、及び有機金属／有機ハロゲン化合物も
活性光線の照射の際に酸を形成又は分離する活性光線感
光性成分であり、本発明に使用することができる。原理
的には遊離基形成性の光開始剤として知られるすべての
有機ハロゲン化合物は、ハロゲン化水素酸を形成する化
合物で、酸発生剤として使用することができる。

【００１４】前記のハロゲン化水素酸を形成する化合物
の例は、米国特許第３，５１５，５５２号、同第３，５
３６，４８９号及び同第３，７７９，７７８号各明細書
及び西ドイツ国特許公開公報第２，２４３，６２１号に
記載されているものが挙げられ、また、例えば西ドイツ
国特許公開公報第２，６１０，８４２号に記載の光分解
により酸を発生させる化合物も使用することができる。

【００１５】更に、特開昭５４−７４７２８号公報、特
開昭５５−２４１１３号公報、特開昭５５−７７７４２
号公報、特開昭６０−３６２６号公報、特開昭６０−１
３８５３９号公報に記載の２−ハロメチル−１，３，４
−オキサジアゾール系化合物、具体的には、２−トリク
ロロメチル−５−［β（２−ベンゾフリル）ビニル］−
１，３，４−オキサジアゾール等を使用することができ
る。

【００１６】また、酸発生剤の具体例としては、特開昭
５６−１７３４５号公報に記載のもの及び特開昭５０−
３６２０９号公報に記載されているｏ−ナフトキノンジ
アジト−４−スルホン酸ハロゲニドを用いることができ
る。

【００１７】本発明において特に好ましい酸発生剤は、
感度の面から、ジアゾニウム塩及びオキサジアゾール系
あるいはトリアジン系の有機ハロゲン化合物である。さ
らに、印刷性能の面からジアゾニウム塩が最も好まし
い。

【００１８】本発明において、酸発生剤の量は、その化
学的性質及び本発明の湿し水不要感光性平版印刷版の感
光層の組成あるいは物性によって広範囲に変えることが
できるが、該感光層の固形分の全重量に対して約０．１
〜約２０重量％の範囲が適当であり、好ましくは０．２
〜１０重量％の範囲である。

【００１９】未露光部のインキ反撥性層を除去するいわ
ゆるポジ型の湿し水不要感光性平版印刷版の場合には、
感度及び耐刷性向上の観点から酸発生剤としてジアゾ樹
脂を使用するのが好ましい。

【００２０】本発明に好ましく用いられるジアゾ樹脂は
下記一般式（１）又は（２）で表される構造を有する。

【００２１】

【化１】

【００２２】一般式（１）において、Ｒは、水素原子、
アルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ
³は、それぞれ、水素原子、アルコキシ基又はアルキル
基を表し、Ｘ^-は対アニオンを表し、Ｙは、−ＮＨ−、
−Ｏ−又は−Ｓ−を表し、ｎは２以上の整数を表す。

【００２３】

【化２】

【００２４】一般式（２）において、Ａは、縮合可能な
芳香族性基を表し、Ｒは、水素原子、アルキル基又はフ
ェニル基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³は、それぞれ、水
素原子、アルコキシ基又はアルキル基を表し、Ｘ^-は対
アニオンを表し、Ｙは、−ＮＨ−、−Ｏ−又は−Ｓ−を
表し、ｎは２以上の整数を表す。

【００２５】上記一般式（１）又は（２）で表される構
造を有する多官能ジアゾニウム化合物（以下、「本発明
のジアゾ樹脂」という）の構造単位とする芳香族ジアゾ
ニウム化合物としては、例えば特公昭４９−４８００１
号公報に挙げられるようなジアゾニウム塩が挙げられる
が、特に、ジフェニルアミン−４−ジアゾニウム塩類が
好ましい。ジフェニルアミン−４−ジアゾニウム塩類
は、４−アミノジフェニルアミン類から誘導されるが、
このような４−アミノジフェニルアミン類としては、４
−アミノジフェニルアミン、４−アミノ−３−メトキシ
ジフェニルアミン、４−アミノ−２−メトキシジフェニ
ルアミン、４′−アミノ−２−メトキシジフェニルアミ
ン、４′−アミノ−４−メトキシジフェニルアミン、４
−アミノ−３−メチルジフェニルアミン、４−アミノ−
３−エトキシジフェニルアミン、４−アミノ−３−（β
−ヒドロキシエトキシ）ジフェニルアミン、４−アミノ
ジフェニルアミン−２−スルホン酸、４−アミノジフェ
ニルアミン−２−カルボン酸、４−アミノジフェニルア
ミン−２′−カルボン酸等を挙げることができる。これ
らのうち、特に好ましいものとしては、４−アミノジフ
ェニルアミン及び４−アミノ−３−メトキシジフェニル
アミンを挙げることができる。

【００２６】上記一般式（２）において、Ａで表される
芳香族性基を与えるために用いることができる芳香族化
合物の具体例としては、ｍ−クロロ安息香酸、ジフェニ
ル酢酸、フェノキシ酢酸、ｐ−メトキシフェニル酢酸、
ｐ−メトキシ安息香酸、２，４−ジメトキシ安息香酸、
２，４−ジメチル安息香酸、ｐ−フェノキシ安息香酸、
４−アニリノ安息香酸、４−（ｍ−メトキシアニリノ）
安息香酸、４−（ｐ−メチルベンゾイル）安息香酸、４
−（ｐ−メチルアニリノ）安息香酸、フェノール、クレ
ゾール、キシレノール、レゾルシン、２−メチルレゾル
シン、メトキシフェノール、エトキシフェノール、カテ
コール、フロログルシン、ｐ−ヒドロキシエチルフェノ
ール、ナフトール、ピロガロール、ヒドロキノン、ｐ−
ヒドロキシベンジルアルコール、４−クロロレゾルシ
ン、ビフェニル−４，４′−ジオール、１，２，４−ベ
ンゼントリオール、ビスフェノールＡ、２，４−ジヒド
ロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、ｐ−ヒドロキシアセトフェノン、４，
４′−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４′−ジ
メトキシジフェニルエーテル、４，４′−ジヒドロキシ
ジフェニルアミン、４，４′−ジヒドロキシジフェニル
スルフィド、クミルフェノール、クロロフェノール、ブ
ロモフェノール、サリチル酸、ｐ−ヒドロキシ安息香
酸、２−メチル−４−ヒドロキシ安息香酸、２，４−ジ
ヒドロキシ安息香酸、２，６−ジヒドロキシ安息香酸、
３，５−ジヒドロキシ安息香酸、４−クロロ−２，６−
ジヒドロキシ安息香酸、４−メトキシ−２，６−ジヒド
ロキシ安息香酸、没食子酸、フロログリシンカルボン
酸、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、
桂皮酸、桂皮酸メチル、桂皮酸エチル、ｐ−ヒドロキシ
桂皮酸、スチレン、ヒドロキシスチレン、スチルベン、
４−ヒドロキシスチルベン、４，４′−ジヒドロキシス
チルベン、４−カルボキシスチルベン、４，４′−ジカ
ルボキシスチルベン、ジフェニールエーテル、ジフェニ
ルアミン、ジフェニルチオエーテル、４−メトキシジフ
ェニルエーテル、４−メトキシジフェニルアミン、４−
メトキシジフェニルチオエーテル等を挙げることができ
る。

【００２７】本発明のジアゾ樹脂のなかで、分子内にカ
ルボキシル基を有する化合物が特に好ましく用いられ
る。分子内にカルボキシル基を有する本発明のジアゾ樹
脂の好ましい例としては、上記一般式（２）において、
Ａで表される芳香族性基中にカルボキシル基を含有する
構造を有するジアゾニウム化合物が挙げられる。この
際、Ａで表される芳香族性基を与えるために用いること
ができる芳香族化合物の好ましい具体例としては、ｐ−
ヒドロキシ安息香酸、ｐ−メトキシ安息香酸、ｐ−ヒド
ロキシ桂皮酸、フェノキシ酢酸等が挙げられる。

【００２８】本発明のジアゾ樹脂は、公知の方法、例え
ば、フォトグラフィック・サイエンス・アンド・エンジ
ニアリング（Ｐｈｏｔｏ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．）第１７
巻、第３３頁（１９７３）、米国特許第２，０６３，６
３１号、同第２，６７９，４９８号各明細書、特公昭４
９−４８００１号公報に記載の方法に従い、硫酸や燐酸
あるいは塩酸中で芳香族ジアゾニウム塩、必要に応じて
上記一般式（２）においてＡで表される芳香族性基を与
える芳香族化合物、及び活性カルボニル化合物、例えば
パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアル
デヒド、アセトン、あるいはアセトフェノン等を重縮合
させることによって得られる。

【００２９】また、上記一般式（２）においてＡで表さ
れる芳香族性基を与える芳香族化合物と芳香族ジアゾ化
合物及び活性カルボニル化合物はその相互の組み合わせ
は自由であり、さらに各々２種以上を混ぜて縮合するこ
とも可能である。

【００３０】また、縮合の際に、Ａで表される芳香族性
基を与える芳香族化合物の仕込のモル数は、芳香族ジア
ゾニウム化合物のモル数に対し、好ましくは０．１〜１
０倍、より好ましくは０．２〜２倍、さらに好ましくは
０．２〜１倍である。また、この場合、Ａで表される芳
香族性基を与える芳香族化合物及び芳香族ジアゾニウム
化合物の合計モル数に対し、活性カルボニル化合物をモ
ル数で通常好ましくは０．５倍〜１．５倍、より好まし
くは０．６〜１．２倍で仕込み、低温で短時間、例えば
３時間程度反応させることにより本発明のジアゾ樹脂が
得られる。

【００３１】本発明においてより好ましく用いることの
できる、分子内にカルボキシル基を有する本発明のジア
ゾ樹脂を合成する手段は任意であるが、代表的な手段と
しては、（ａ）芳香族ジアゾニウム塩、芳香族カルボン
酸、及び活性カルボニル化合物の重縮合反応、（ｂ）カ
ルボキシル基を有する芳香族ジアゾニウム塩と活性カル
ボニル化合物の重縮合反応、及び（ｃ）芳香族ジアゾニ
ウム塩とカルボキシル基を有する活性カルボニル化合物
の重縮合反応、の３通りが挙げられる。これらの方法の
うち、（ａ）が合成手法上と合成原料の入手しやすさの
点で好ましい。

【００３２】本発明のジアゾ樹脂の対アニオンとして
は、本発明のジアゾ樹脂と安定に塩を形成し、かつ該ジ
アゾ樹脂を有機溶媒に可溶となすアニオンが好ましい。
このようなアニオンを形成する酸としては、デカン酸及
び安息香酸等の有機カルボン酸、フェニル燐酸等の有機
燐酸、及び有機スルホン酸が挙げられ、典型的な例とし
ては、メタンスルホン酸、クロロエタンスルホン酸、ド
デカンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスル
ホン酸、メシチレンスルホン酸、アントラキノンスルホ
ン酸、ナフチルスルホン酸、アルキル置換ナフチルスル
ホン酸等の脂肪族スルホン酸並びに芳香族スルホン酸、
ヘキサフルオロ燐酸、テトラフルオロホウ酸等のハロゲ
ン化ルイス酸、過塩素酸、過ヨウ素酸等の過ハロゲン酸
等を挙げることができる。ただし、これに限られるもの
ではない。これらの中で、特に好ましいのはヘキサフル
オロ燐酸及びテトラフルオロホウ酸である。

【００３３】本発明のジアゾ樹脂は、各単量体のモル比
及び縮合条件を種々変えることにより、その分子量は任
意の値として得ることができるが、現像性及び感度向上
の点から、分子量は約４００〜１００００の範囲が好ま
しく、より好ましくは約８００〜５０００である。ま
た、前記一般式（１）及び（２）においてｎは２以上の
整数であるが、２〜１０が好ましい。

【００３４】本発明の感光層中に含有される本発明のジ
アゾ樹脂の量は０．３〜３０重量％が好ましいが、より
好ましくは１．０〜２０重量％である。

【００３５】請求項１に係る発明において、酸の存在下
で反応しうる結合を少なくとも１つ有する化合物は、露
光部のインキ反撥性層を除去する、いわゆるネガ型の水
なし平版として使用する場合には、酸の存在下で分解す
る化合物を用いる。

【００３６】酸の存在下で分解する化合物（以下「酸分
解化合物」という）としては、具体的には、特開昭４８
−８９００３号、同５１−１２０７１４号、同５３−１
３３４２９号、同５５−１２９９５号、同５５−１２６
２３６号、同５６−１７３４５号各公報に記載されてい
るＣ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、特開昭６０−３７５
４９号、同６０−１２１４４６号各公報に記載されてい
るＳｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、特開昭６０−３６
２５号、同６０−１０２４７号各公報に記載されている
その他の酸分解化合物、さらにまた、特願昭６１−１６
６８７号明細書に記載されているＳｉ−Ｎ結合を有する
化合物、特願昭６１−９４６０３号明細書に記載されて
いる炭酸エステル、特願昭６０−２５１７４４号明細書
に記載されているオルト炭酸エステル、特願昭６１−１
２５４７３号明細書に記載されているオルトチタン酸エ
ステル、特願昭６１−１２５４７４号明細書に記載され
ているオルトケイ酸エステル、特願昭６１−１５５４８
１号明細書に記載されているアセタール及びケタール、
特願昭６１−８７７６９号明細書に記載されているＣ−
Ｓ結合を有する化合物などを用いることができる。

【００３７】上記のうち、前記特開昭５３−１３３４２
９号、同５６−１７３４５号、同６０−１２１４４６
号、同６０−３７５４９号各公報及び特願昭６０−２５
１７４４号、同６１−１５５４８１号各明細書に記載さ
れているＣ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、Ｓｉ−Ｏ−Ｃ
結合を有する化合物、オルト炭酸エステル、アセタール
類、ケタール類及びシリルエーテル類が好ましい。

【００３８】それらの中でも、特開昭５３−１３３４２
９号公報に記載された主鎖中に繰り返しアセタール又は
ケタール部分を有し、現像液中でのその溶解度が酸の作
用によって上昇する有機重合化合物、及び特開昭６３−
１０１５３号公報に記載の下記構造単位

【００３９】

【化３】

【００４０】を有し、酸により分解し得る化合物が特に
好ましい。

【００４１】本発明に用いられる酸分解化合物の具体的
化合物としては前記公報及び明細書に記載された化合物
を挙げることができる。また、該化合物の合成方法は、
前記公報及び明細書中に記載されている。

【００４２】酸分解化合物の含有量は、感光層を形成す
る組成物の全固形分に対し５〜７０重量％が好ましく、
特に好ましくは１０〜５０重量％である。本発明におい
て、酸分解化合物は１種を単独で用いてもよいし、２種
以上を混合して用いてもよい。

【００４３】未露光部のインキ反撥性層を除去する、い
わゆるポジ型の水なし平版の場合には、酸の存在下で反
応しうる結合を少なくとも１つ有する化合物として酸の
存在下で架橋または縮合する化合物を用いる。

【００４４】本発明の感光層に含有させる赤外線吸収剤
としては、波長７００ｎｍ以上に吸収を持つ赤外吸収色
素、カーボンブラック、磁性粉等を使用することができ
る。特に好ましい赤外線吸収剤は７００〜８５０ｎｍに
吸収ピークを有し、ピークでのモル吸光係数εが１０⁵
以上である赤外吸収色素である。

【００４５】上記赤外吸収色素としては、シアニン系色
素、スクアリウム系色素、クロコニウム系色素、アズレ
ニウム系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニ
ン系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、チ
オピリリウム系色素、ジチオール金属錯体系色素、アン
トラキノン系色素、インドアニリン金属錯体系色素、分
子間ＣＴ色素等が挙げられる。

【００４６】また、上記赤外吸収色素として、特開昭６
３−１３９１９１号、同６４−３３５４７号、特開平１
−１６０６８３号、同１−２８０７５０号、同１−２９
３３４２号、同２−２０７４号、同３−２６５９３号、
同３−３０９９１号、同３−３４８９１号、同３−３６
０９３号、同３−３６０９４号、同３−３６０９５号、
同３−４２２８１号、同３−１０３４７６号等各公報に
記載の化合物が挙げられる。

【００４７】本発明に好ましく用いられる赤外吸収色素
の代表的具体例を以下に挙げるが、これらに限定されな
い。

【００４８】

【化４】

【００４９】

【化５】

【００５０】

【化６】

【００５１】

【化７】

【００５２】

【化８】

【００５３】

【化９】

【００５４】

【化１０】

【００５５】

【化１１】

【００５６】

【化１２】

【００５７】

【化１３】

【００５８】

【化１４】

【００５９】これらの赤外吸収色素は公知の方法によっ
て合成することができるが、下記のような市販品を用い
ることもできる。

【００６０】日本化薬：ＩＲ７５０（アントラキノン
系）；ＩＲ００２，ＩＲ００３（アルミニウム系）；Ｉ
Ｒ８２０（ポリメチン系）；ＩＲＧ０２２，ＩＲＧ０３
３（ジインモニウム系）；ＣＹ−２，ＣＹ−４，ＣＹ−
９，ＣＹ−２０三井東圧：ＫＩＲ１０３，ＳＩＲ１０３（フタロシアニ
ン系）；ＫＩＲ１０１，ＳＩＲ１１４（アントラキノン
系）；ＰＡ１００１，ＰＡ１００５，ＰＡ１００６，Ｓ
ＩＲ１２８（金属錯体系）大日本インキ化学：Ｆａｓｔｏｇｅｎｂｌｕｅ８１２
０みどり化学：ＭＩＲ−１０１，１０１１，１０２１その他、日本感光色素、住友化学、富士写真フイルム等
の各社からも市販されている。

【００６１】本発明において、感光層には、結合剤、特
に以下に記述する高分子結合剤を含有させることが好ま
しい。特に好ましい高分子結合剤は、芳香族水酸基、脂
肪族水酸基及びスルホンアミド基から選ばれる少なくと
も１種の基を有するポリマーであり、好適に使用される
ポリマーとして、下記（１）〜（３）に示すモノマーの
少なくとも１種を構成単位とするビニル系共重合体が挙
げられる。

【００６２】（１）芳香族水酸基を有するモノマー、例
えばＮ−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、
Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、ｏ
−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｍ−
ヒドロキシスチレン、ｏ−ヒドロキシフェニルアクリレ
ート、ｐ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｍ−ヒド
ロキシフェニルアクリレート、ｐ−（ヒドロキシフェニ
ル）スルホニルアクリルアミド、ｐ−（ヒドロキシフェ
ニル）スルホニルメタクリルアミド等。

【００６３】（２）脂肪族水酸基を有するモノマー、例
えば２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミ
ド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ロールアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロールメタクリ
ルアミド、４−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒ
ドロキシブチルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチ
ルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルメタクリレー
ト、６−ヒドロキシヘキシルアクリレート、６−ヒドロ
キシヘキシルメタクリレート、Ｎ−（２−ヒドロキシエ
チル）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）
メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチ
ル）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル−Ｎ−
（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロ
キシメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）メタクリル
アミド、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ビニルベン
ジルアルコール、α−メチルビニルベンジルアルコー
ル、ビニルベンジルアセテート、α−メチルビニルベン
ジルアセテート、ビニルフェネチルアルコール、α−メ
チルビニルフェネチルアルコール、ビニルフェネチルア
セテート、α−メチルビニルフェネチルアセテート等。

【００６４】（３）スルホンアミド基を有するモノマ
ー、例えばｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレー
ト、ｐ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ
−アミノスルホニルフェニルアクリレート、ｐ−アミノ
スルホニルフェニルアクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノス
ルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミ
ノスルホニルフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ト
ルエンスルホニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−トルエ
ンスルホニル）メタクリルアミド等。

【００６５】さらに上記（１）〜（３）に示す構成モノ
マー群と下記（４）〜（１５）に示す構成モノマーの共
重合体が、現像性，感度の面から特に有効に作用する。

【００６６】（４）α，β−不飽和カルボン酸類、例え
ばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイ
ン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等。

【００６７】（５）置換又は無置換のアルキルアクリレ
ート、例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミ
ル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アクリ
ル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、
アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシル、アクリル
酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸−
２−クロロエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアク
リレート、グリシジルアクリレート等。

【００６８】（６）置換又は無置換のアルキルメタクリ
レート、例えばメタクリル酸メチル、メタクリル酸エチ
ル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタ
クリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸
ヘプチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ノニ
ル、メタクリル酸デシル、メタクリル酸ウンデシル、メ
タクリル酸ドデシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリ
ル酸シクロヘキシル、メタクリル酸−２−クロロエチ
ル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、グ
リシジルメタクリレート等。

【００６９】（７）アクリルアミド又はメタクリルアミ
ド類、例えばアクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−
エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリルアミド、
Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアク
リルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−
エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド等。

【００７０】（８）フッ化アルキル基を含有するモノマ
ー、例えばトリフルオロエチルアクリレート、トリフル
オロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルア
クリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、
ヘキサフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオ
ロペンチルアクリレート、オクタフルオロペンチルメタ
クリレート、ヘプタデカフルオロデシルアクリレート、
ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、Ｎ−ブチル
−Ｎ−（２−アクリロキシエチル）ヘプタデカフルオロ
オクチルスルホンアミド等。

【００７１】（９）エチルビニルエーテル、２−クロロ
エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチ
ルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニル
ビニルエーテル等のビニルエーテル類。

【００７２】（１０）ビニルアセテート、ビニルクロロ
アセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビ
ニルエステル類。

【００７３】（１１）スチレン、メチルスチレン、クロ
ロメチルスチレン等のスチレン類。

【００７４】（１２）メチルビニルケトン、エチルビニ
ルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケト
ン等のビニルケトン類。

【００７５】（１３）エチレン、プロピレン、イソブチ
レン、ブタジエン、イソプレン、等のオレフィン類。

【００７６】（１４）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニ
ルカルバゾール、４−ビニルピリジン等。

【００７７】（１５）シアノ基含有モノマー、例えばア
クリロニトリル、メタクリロニトリル、２−ペンテンニ
トリル、２−メチル−３−ブテンニトリル、２−シアノ
エチルアクリレート、ｏ−シアノスチレン、ｍ−シアノ
スチレン、ｐ−シアノスチレン等。また、上記モノマー
の共重合によって得られる共重合体を、例えばグリシジ
ルアクリレート、グリシジルメタクリレート等によって
修飾したもの使用可能である。

【００７８】これらの中で更に好ましい共重合体のモノ
マー組成として、前記モノマー群（１）及び（２）の中
から選ばれるモノマーをそれぞれ１〜５０モル％、モノ
マー群（４）の中から選ばれるα，β−不飽和カルボン
酸モノマーを０〜２０モル％、モノマー群（１５）の中
から選ばれるシアノ基含有モノマーを５〜４０モル％、
モノマー群（５）、（６）の中から選ばれるアクリル酸
エステル及び／又はメタクリル酸エステルモノマーを２
５〜６０モル％の範囲で共重合させたものが挙げられ
る。更にポジ型の湿し水不要感光性平版印刷版において
使用される最も好ましい態様としては、モノマー群
（２）の中から以下に示すモノマーの内いずれかを含有
させる態様が挙げられる。すなわち、Ｎ−メチロールア
クリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチロールアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロー
ルメタクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）ア
クリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）メタクリ
ルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチル）アクリ
ルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチル）メタク
リルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル−Ｎ−（２−ヒドロ
キシエチル）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル−
Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）メタクリルアミド、ヒド
ロキシエチルビニルエーテル、ビニルベンジルアルコー
ル、α−メチルビニルベンジルアルコール、ビニルベン
ジルアセテート、α−メチルビニルベンジルアセテー
ト、ビニルフェネチルアルコール、α−メチルビニルフ
ェネチルアルコール、ビニルフェネチルアセテート、α
−メチルビニルフェネチルアセテートのいずれかを１〜
５０モル％、好ましくは５〜３０モル％共重合体させる
態様である。

【００７９】また、上記共重合体の分子量は、ゲルパー
ミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測
定される重量平均で好ましくは１万〜２０万であるが、
この範囲に限定されない。

【００８０】また、上記結合剤に必要に応じて任意の樹
脂、例えばポリアミド、ポリエーテル、ポリエステル、
ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリウレタン、ポリ
ビニルクロライド及びそのコポリマー、ポリビニルブチ
ラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、シェラック、
エポキシ樹脂、レゾールやノボラックを含むフェノール
樹脂、アクリル樹脂等を併用してもよい。

【００８１】本発明の感光層において、感光層の固型分
に対して好ましくは３０〜９０重量％、より好ましくは
４０〜８０重量％結合剤を含有させことが好ましい。

【００８２】本発明の感性層は、前記各成分を溶解する
下記の溶媒に溶解させて、これらを適当な支持体の表面
に塗布乾燥させることにより感性層を設けて本発明の画
像形成材料とすることができる。

【００８３】上記溶媒としては、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチル
エーテル、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテ
ート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテー
ト、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジ
オキサン、アセトン、シクロヘキサノン、トリクロロエ
チレン、メチルエチルケトン等が挙げられる。これら溶
媒は、単独であるいは２種以上混合して使用する。

【００８４】塗布方法は、従来公知の方法、例えば、回
転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイ
フ塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等
が可能である。塗布量は固形分として０．５〜５．０ｇ
／ｍ²が好ましい。

【００８５】本発明において、支持体としては、平版印
刷機にセットできるたわみ性と印刷時に加わる荷重に耐
えうるものが好ましい。代表的なものとしては、アルミ
ニウム、亜鉛、鋼、銅等の金属板、並びにクロム、亜
鉛、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄等がメッキ又は蒸
着された金属板、紙、プラスチックフィルム及びガラス
板、樹脂が塗布された紙、アルミニウム等の金属箔が張
られた紙、親水化処理したプラスチックフィルム等が挙
げられる。これらのうち好ましいのはアルミニウム板で
ある。

【００８６】本発明において、支持体と感光層との間に
は支持体と感光層との接着力の調整のためにプライマー
層を設けることが好ましい。

【００８７】前記プライマー層としては、支持体との接
着性が良好であり、顔料を含むものが適当である。この
プライマー層に用いられる樹脂としては、例えばエポキ
シ樹脂、セルロース樹脂、ビニル樹脂、アルキッド樹
脂、クマロン、インデン樹脂、フェノール樹脂、ポリエ
ステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ブタジエン
-アクリロニトリルゴム、ネオプレンゴム、多硫化ゴ
ム、またエポキシ樹脂をフェノール、レゾルシノール、
ポリアミド、フラン樹脂、ポリサルファイド、メラミ
ン、尿素、合成ゴム、ポリエステル等の１つあるいは２
つ以上で変性した樹脂、エポキシ樹脂を脂肪酸類でエス
テル化して得られる樹脂、フェノール樹脂をビニルアセ
タール類、ポリアミド、ニトリルゴム、ネオプレン等の
１つあるいは２つ以上で変性した樹脂等が挙げられる。

【００８８】これらの樹脂は相溶性の許す範囲で互いに
あるいは上記以外の樹脂と混合あるいは重合して使用す
ることも可能である。

【００８９】本発明に用いられる樹脂は、各種の硬化剤
と混合して使用することが可能である。硬化剤は光等の
各種エネルギー線や熱で硬化する架橋性あるいは重合性
化合物でもよいし、混合あるいは乾燥するだけで常温で
自然に硬化するものでもよい。

【００９０】また生産性及び製造安定性の向上、各種物
性の改良等を目的として反応促進剤、触媒、可塑剤、熱
劣化防止剤等の各種添加剤を用いることができる。

【００９１】上記プリイマー層を構成するアンカー剤と
しては、例えば前記シランカップリング剤、シリコーン
プライマー等を用いることができ、また有機チタネート
等も有効である。

【００９２】本発明におけるインキ反撥性層としては、
シリコーンゴム又はフッ素樹脂で形成した層を適用する
ことができる。

【００９３】シリコーンゴムとしては、次のような一般
式〔１〕で示される繰り返し単位を有する分子量数千〜
数十万の主鎖中または主鎖の末端にヒドロキシル基を有
する線状有機ポリシロキサンを主成分とするものが好ま
しい。

【００９４】

【化１５】

【００９５】ここで、ｎは２以上の整数、Ｒは炭素数１
〜１０のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキ
シル基、ビニル基、アリール基又はヒドロキシル基を表
し、Ｒの６０％以上がメチル基であるものが好ましい。
なお上記ヒドロキシル基は主鎖中または主鎖の末端のど
ちらにあってもよいが、末端にあることが好ましい。

【００９６】シランカップリング剤（またはシリコーン
架橋剤）としては、Ｒ_nＳｉＸ_4-n（式中、ｎは１〜３の
整数であり、Ｒはアルキル基、アリール基若しくはアル
ケニル基又はこれらの組み合わされた一価の基を表し、
またこれらの基はハロゲン、アミン、ヒドロキシル、ア
ルコキシ、アリーロキシ、チオール等の官能基を有して
いてもよい。

【００９７】Ｘは−ＯＨ，−ＯＲ²，−ＯＡｃ，−Ｏ−
Ｎ＝Ｃ（Ｒ²）（Ｒ³），−Ｃｌ，−Ｂｒ，−Ｉ等の置換
基を表す。ここでＲ²およびＲ³は上記のＲと同じものを
表し、Ｒ²及びＲ³はそれぞれ同じであっても異なってい
てもよい。またＡｃはアセチル基を表す）で示されるシ
ラン化合物である。

【００９８】つまり本発明において有用なシリコーンゴ
ムは、このようなシリコーン・ベースポリマーと、上記
に挙げるようなシリコーン架橋剤との縮合反応によって
得られるものである。

【００９９】シランカップリング剤の具体例としては、
ＨＮ［（ＣＨ₂）₃Ｓｉ（ＯＭｅ）₃］₂、ビニルトリエト
キシシラン、Ｃｌ（ＣＨ₂）₃Ｓｉ（ＯＭｅ）₃、ＣＨ₃Ｓ
ｉ（ＯＡｃ）₃、ＨＳ（ＣＨ₂）₃Ｓｉ（ＯＭｅ）₃、ビニ
ルトリス（メチルエチルケトオキシム）シラン等が挙げ
られる。

【０１００】前記のシリコーンゴムは市販品としても入
手でき、例えば東芝シリコーン社製ＹＥ−３０８５等が
ある。またその他の有用なシリコーンゴムは、前述の如
きベース・ポリマーと、次のような一般式〔２〕で示さ
れる繰り返し単位を有するシリコーンオイルとの反応、
あるいはＲの３％程度がビニル基であるシリコーンのベ
ース・ポリマーとの付加反応、あるいは該シリコーンオ
イル同士の反応によっても得ることができる。

【０１０１】

【化１６】

【０１０２】（式中、Ｒは一般式〔１〕で示されるポリ
マーの置換基であるＲと同義であり、ｍは２以上の整
数、ｎは０または１以上の整数である。）このような架橋反応によってシリコーンゴムを得るため
には、架橋反応を触媒を用いて行う。この触媒として
は、錫、亜鉛、コバルト、鉛、カルシウム、マンガン等
の金属の有機カルボン酸塩、例えばラウリル酸ジブチル
スズ、スズ（II）オクトエート、ナフテン酸コバルト等
あるあは塩化金酸等が用いられる。

【０１０３】またシリコーンゴムの強度を向上させ、印
刷作業中に生じる摩擦力に耐えるシリコーンゴムを得る
ためには、充填剤（フィラー）を混合することもでき
る。予めフィラーの混合されたシリコーンゴムは、シリ
コーンゴムストック、あるいはシリコーンゴムディスパ
ージョンとして市販されており、本発明のようにコーテ
ィングによりシリコーンゴム膜を得ることが好ましい場
合には、ＲＴＶあるいはＬＴＶシリコーンゴムのディス
パージョンが好んで用いられる。このような例として
は、トレーシリコーン社製Ｓｙ１ＯＦＦ２３、ＳＲ
Ｘ−２５７、ＳＨ２３７等のペーパーコーティング用シ
リコーンゴムディスパージョンがある。

【０１０４】本発明においては、縮合架橋タイプのシリ
コーンゴムを用いることが好ましい。

【０１０５】シリコーンゴム層には更に接触性を向上さ
せるためにアミノ基を有するシランカップリング剤を含
有していることが好ましい。

【０１０６】好ましいシランカップリング剤としては、
例えば次のようなものがある。

【０１０７】（ａ）Ｈ₂ＮＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨ（ＣＨ₂）₃Ｓ
ｉ（ＯＣＨ₃）₃ （ｂ）Ｈ₂ＮＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨ（ＣＨ₂）₃Ｓｉ（ＯＣＨ₃）
₂（ＣＨ₃）（ｃ）Ｈ₂Ｎ（ＣＨ₂）₃Ｓｉ（ＯＥｔ）₃ 本発明に用いられるシリコーンゴム層中には、更に光増
感剤を少量含有させることができる。

【０１０８】本発明に用いられるシリコーンゴム層は、
シリコーンゴムを適当な溶媒に溶解した後、支持体上に
塗布、乾燥する。

【０１０９】フッ素樹脂としては、特開昭５２−７４４
０４号、同５２−７４４０５号、同５８−８３０１１
号、同５８−８８７５０号、同５８−９０５２４号等の
各公報に開示され、従来知られているか、あるいは特願
昭６３−１８２４６６号、同６３−８３０１１号、同６
３−２８８１２９号等に記載されるように本出願人が既
に提案した何れのフッ素樹脂でも使用することができ
る。

【０１１０】インキ反撥性層の厚さは、０．５〜１０μ
ｍの範囲が好ましく、より好ましくは１〜３μmであ
る。インキ反撥性層の上には保護層をラミネーしてもよ
い。

【０１１１】インキ反撥性層側の最上層に保護フィルム
をラミネートしてもよい。保護フィルムとしては、透明
でかつ可撓性のあるフィルムが好ましく、例えば、ポリ
エステルフィルム（例えばポリエチレンテレフタレート
フィルム）を用いることができる。

【０１１２】本発明の湿し水不要感光性平版印刷版には
波長７００ｎｍ以上の可視光源又は赤外線を用いて画像
露光を行う。光源としては、半導体レーザー、Ｈｅ−Ｎ
ｅレーザー、ＹＡＧレーザー、炭酸ガスレーザー等が挙
げられる。出力は５０ｍＷ以上が適当であり、好ましく
は１００ｍＷ以上である。

【０１１３】本発明の湿し水不要感光性平版印刷版は、
画像露光の後、現像前に加熱処理を施すと感度を増大さ
せることができる。

【０１１４】本発明の湿し水不要感光性平版印刷版は、
画像露光の後、現像液を用いて画像部のインキ反発性層
を除去して湿し水不要平版印刷版をうることができる。

【０１１５】上記現像液としては水系アルカリ性現像液
が好適である。該現像液として、例えば、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム、第二
リン酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウム等のアルカリ
金属塩の水溶液を用いることができるが、ケイ酸塩を含
有する水溶液が好ましい。該水溶液におけるアルカリ金
属塩の濃度は０．０５〜２０重量％の範囲が好ましく、
より好ましくは０．１〜１０重量％である。

【０１１６】現像液には必要に応じアニオン性界面活性
剤、両性界面活性剤やアルコール等の有機溶剤を加える
ことができる。有機溶剤としては、プロピレングリコー
ル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベンジ
ンアルコール、ｎ−プロピルアルコール等が有用であ
る。

【０１１７】本発明の湿し水不要平版印刷版の作製方法
における最も好ましい態様においては、ｐＨ５〜９の水
溶液が使用される。従来の技術における有機溶剤やアル
カリ剤を多量に用いた現像液は作業環境上あるいは作業
安全性において好ましくなく、廃液処理のコストが高く
なる。ｐＨ５〜９の水溶液を使用することで、上記の問
題が改善されるばかりでなく、画像の再現性が向上す
る。また、感光層の現像液への溶解量が低減され、ラン
ニングスケールを大幅に向上させることも可能である。

【０１１８】

【実施例】次に、本発明を実施例でより具体的に説明す
る。

【０１１９】実施例１湿し水不要感光性平版印刷版の作成通常の方法で脱脂したスムーズアルミ板上に下記プライ
マー層用塗布組成物を、硬化後の膜厚が５μｍになるよ
うに塗布し乾燥した後、高圧水銀ランプ（出力８０Ｗ／
ｃｍ）を用いて露光し硬化させた。

【０１２０】プライマー層用塗布組成物２−ヒドロキシエチルメタクリレートとメタクリル酸メチルのモル比が４０／６０の共重合体１００重量部トリメチロールプロパントリエトキシトリアクリレート８０重量部２，４−ジエチルチオキサントン４重量部ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル４重量部黄色顔料（ＫＥＴ−ＹＥＬＬＯＷ４０２、大日本インキ化学社製）８重量部白色顔料（酸化亜鉛、ＦＩＮＥＸ−２５、堺化学社製）２５重量部プロピレングリコールモノメチルエーテル６００重量部酸分解化合物Ａの合成１，１−ジメトキシシクロヘキサン（０．５モル）、フ
ェニルセロソルブ（１．０モル）及びｐ−トルエンスル
ホン酸８０ｍｇを撹拌しながら１００℃で１時間反応さ
せ、その後１５０℃まで徐々に温度を上げ、更に１５０
℃で４時間反応させた。反応により生成するメタノール
はこの間に留去した。冷却後、テトラヒドロフラン５０
０ｍｌ及び無水炭酸カリウム２．５ｇを加えて撹拌し濾
過した。濾液から溶媒を減圧留去し、更に１５０℃、高
真空下で低沸点成分を留去し、粘調な油状の下記酸分解
化合物Ａを得た。

【０１２１】

【化１７】

【０１２２】酸分解化合物Ｂの合成１，１−ジメトキシシクロヘキサン１．０モル、エチレ
ングリコール１．０モル及びｐ−トルエンスルホン酸８
０ｍｇを撹拌しながら１００℃で１時間反応させ、その
後１５０℃まで徐々に温度を上げ、更に１５０℃で４時
間反応させた。反応により生成するメタノールはこの間
に留去した。冷却後、テトラヒドロフラン５００ｍｌ及
び無水炭酸カリウム２．５ｇを加えて撹拌し濾過した。
濾液から溶媒を減圧留去し、更に１５０℃、高真空下で
低沸点成分を留去し、粘調な油状の下記酸分解化合物Ｂ
を得た。

【０１２３】

【化１８】

【０１２４】酸分解化合物Ｃの合成ハイドロキノン１１ｇ（０．１００ｍｏｌｅ）、ピリジ
ン１７．４ｇ（０．２２０ｍｏｌｅ）、脱水蒸留したト
ルエン８０ｍｌの混合物に、ジクロロジメチルシラン１
２．９ｇ（０．１００ｍｏｌｅ）のトルエン２０ｍｌ溶
液を、撹拌及び氷冷下、滴下ロートより３０分間かけて
添加した。添加後５０℃にて、３時間撹拌を続けた。生
成した白色の塩（ピリジンの塩酸塩）を濾別し、トルエ
ン溶液を減圧下濃縮した。その後、真空下（約１ｍｍ／
Ｈｇ）、約８０℃に加熱しながら１０時間乾燥させ無色
透明粘調液体の酸分解化合物Ｃを得た。

【０１２５】

【化１９】

【０１２６】上記プライマー層上に下記組成の感光層塗
布液を乾燥後の膜厚が０．５μｍになるように塗布し１
００℃で２分間乾燥して感光層を設けた。

【０１２７】感光層塗布液の組成高分子結合剤Ａ６０重量部

【０１２８】

【化２０】

【０１２９】酸分解化合物Ａ２０重量部酸発生剤Ａ２−トリクロロメチル−５−〔β−（２−ベンゾフリル）ビニル〕−１，３，４−オキサジアゾール１０重量部赤外線吸収剤例示化合物ＩＲ１７１０重量部プロピレングルコールモノメチルエーテル１０００重量部次に、上記感光層上にインキ反撥性層用塗布組成物とし
て下記のシリコーンゴム組成物を乾燥後の膜厚が２μｍ
になるように塗布し、９０℃で１０分間乾燥を行い、イ
ンキ反撥性層としてシリコーンゴム層を有する湿し水不
要感光性平版印刷版を作成した。

【０１３０】シリコーンゴム組成物両末端に水酸基を有するジメチルポリシロキサン（分子量５２０００）１００重量部トリアセトメチルシラン１０重量部アイソパーＧ（商品名、エッソ化学製）９００重量部ジブチル錫ラウレート０．８重量部このようにして作製した湿し水不要感光性平版印刷版の
感光層表面に半導体レーザー（波長８３０ｎｍ，出力５
００ｍＷ）で画像露光を行った。解像度は走査方向、副
走査方向とも３０００ＤＰＩとした。露光後、赤外線ヒ
ーターを用い上記感光性平版印刷版を１２０℃で３０秒
間熱処理した。さらに図１に示す現像装置を用い画像部
（露光部）のインキ反撥性層を除去する現像を行った。

【０１３１】前記の露光済感光性平版印刷版を図１に示
した自動現像処理装置を用いて処理した。

【０１３２】図１において、Ａは現像工程、Ｂは第１水
洗工程、Ｃは染色工程、Ｄは第２水洗工程を示す。

【０１３３】まず、露光済の感光性平版印刷版１は、ロ
ーラ３により現像工程に導入され、現像液をふりかけら
れた後、ブラシロール２１、２２、２３によってこすら
れる。４はトレイである。

【０１３４】次に水洗部Ｂで水洗された後、染色工程Ｃ
へ移り、ここで染色される。染色液はフィルター６３に
より濾過された後、ポンプ７によって循環され、ノズル
５３から噴射される。

【０１３５】染色後、第２水洗工程により水洗される。

【０１３６】ここで使用する現像液は、以下の組成の現
像液（ｐＨ＝１２．６）を２７℃に温調した液を用い
た。

【０１３７】水５００重量部ケイ酸カリウム水溶液（ＳｉＯ₂ ２６ｗｔ％、Ｋ₂Ｏ１３．５ｗｔ％）１１０重量部ＫＯＨ５０％水溶液２５重量部また染色液としては、下記の組成により調液したものを
１０ｌ分循環使用した。

【０１３８】染色液の組成クリスタルバイオレット０．２重量部ベンジルアルコール０．５重量部ノニオン界面活性剤（ポリオキシエチレンラウリルエーテルＨＬＢ：１７０）１．０重量部アニオン界面活性剤（ラウリル硫酸ナトリウム）０．１重量部水１００重量部この染色液の温度は、２５℃で、染色時間は、１８秒で
ある。

【０１３９】上記の現像によって画像部のシリコーンゴ
ム層と感光層が共に除去され、露出したプライマー層の
みがムラなく青色に染色されて可視画性の良好な平版印
刷版が得られた。

【０１４０】上記の方法で得られた湿し水不要平版印刷
版に対して以下の項目について評価した。得られた結果
を表１に示す。

【０１４１】感度：上記の現像条件で画像部が形成さ
れるのに必要な露光エネルギー（ｍＪ／ｃｍ²）を測定
した再現性：スクリーン線数１７５線の網点の再現範囲を
目視評価した画像部の染色濃度：画像部及び非画像部の反射濃度を
測定し、両者の差で評価した耐刷枚数：非画像部で汚れが発生するまでの印刷枚数
で評価した。

【０１４２】実施例２感光層の高分子結合剤Ａを高分子結合剤Ｂ（フェノール
とｍ−，ｐ−混合クレゾールとホルムアルデヒドとの共
縮合化合物（Ｍｗ＝２５００、フェノールとｍ−，Ｐ
−，クレゾールのモル比がそれぞれ２０：４８：３
２））に変更した以外は実施例１と同様の実験を行っ
た。

【０１４３】実施例３感光層の酸分解物Ａを酸分解物Ｂに変更した以外は実施
例２と同様の実験を行った。

【０１４４】実施例４感光層の酸分解物Ａを酸分解物Ｃに変更した以外は実施
例２と同様の実験を行った。

【０１４５】実施例５現像液を水に変更した以外は実施例２と同様の実験を行
った。

【０１４６】実施例６感光層塗布液の組成を下記組成に変更した以外は実施例
１と同様の実験を行った。この例では画像部（未露光
部）のインキ反撥性層が除去された。

【０１４７】感光層塗布液の組成ジアゾ樹脂Ａ（下記）４０重量部高分子結合剤Ｃ（下記）５０重量部赤外吸収剤例示化合物ＩＲ１７１０重量部ＭＥＫ５００重量部プロピレングリコールモノメチルエーテル５００重量部ジアゾ樹脂Ａの合成氷冷した濃硫酸２００ｇに、ｐ−ヒドロキシ安息香酸１
２．７ｇ（０．０９２ｍｏｌ）と４−ジアゾジフェニル
アミン硫酸塩４０．５ｇ（０．１３８ｍｏｌ）を液温が
５℃を越えないように注意しながら撹拌溶解する。次い
でパラホルムアルデヒド６．２２ｇ（０．２０７ｍｏ
ｌ）を撹拌しながら１時間かけてゆっくりと加え、縮合
反応を行う。この際も反応液が５℃を越えないように注
意する。パラホルムアルデヒドを加え終わった後３０分
間５℃以下で撹拌を続ける。反応終了後、反応液を０℃
に冷却したエタノール１６００ｍｌにゆっくりと投入す
ると析出物が生成する。この際液温が４０℃を越えない
ように注意する。析出物を吸引ろ過で濾取し、エタノー
ル３００ｍｌで洗浄して反応中間体１ａ（ジアゾ樹脂硫
酸塩）を得た。

【０１４８】取り出した反応中間体１ａを水２４０ｍｌ
に溶解した後、水９０ｍｌに溶解した塩化亜鉛１９．０
４ｇ（０．１４ｍｏｌ）を加えると、再び析出物が生成
する。析出物を吸引ろ過で濾取し反応中間体１ｂ（ジア
ゾ樹脂塩化亜鉛複塩）を得た。取り出した反応中間体１
ｂを水１０００ｍｌに溶解した後、水１８０ｍｌに溶解
したヘキサフルオロリン酸アンモン２４．８ｇ（０．１
５ｍｏｌ）を加えると、析出物が生成する。析出物を吸
引ろ過で濾取し、エタノール３００ｍｌで洗浄した後、
３０℃で３日間乾燥し、ジアゾ樹脂Ａを３２．４ｇ得
た。重量平均分子量は２８００であった。

【０１４９】高分子結合剤Ｃの合成温度計、還流冷却管、撹拌装置、加熱装置、窒素気流導
入管を備えた５００ｍｌの四首フラスコ中に、アセトン
１２５ｍｌとメタノール１２５ｍｌの混合溶媒を入れ、
モノマーとしてエチルアクリレート９．０ｇ（０．０９
ｍｏｌ）、エチルメタクリレート３４．２ｇ（０．３０
ｍｏｌ）、アクリロニトリル１５．９ｇ（０．３０ｍｏ
ｌ）、メタクリル酸０．８６ｇ（０．０１ｍｏｌ）、ビ
ニルベンジルアセテート３５．２ｇ（０．２ｍｏｌ）、
及び４−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド５１．６
ｇ（０．３０ｍｏｌ）を溶解した。更に重合開始剤とし
てアゾビスイソブチロニトリル３．２８ｇ（０．０２ｍ
ｏｌ）を溶解し、窒素気流下で強撹拌しながら加熱し、
約６０℃で６時間還流させた。反応終了後、反応液を室
温まで冷却させた後、水中に投じて高分子化合物を沈澱
させた。これをろ取し、５０℃で２４時間真空乾燥させ
たところ、アルカリ可溶アクリル共重合体が１００ｇ得
られた。モノマー合計量からの収率は９０％であった。
得られたアルカリ可溶アクリル共重合体１の重量平均分
子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（Ｇ
ＰＣ）によりプルラン標準、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド（ＤＭＦ）溶媒で測定したところ、５００００であ
った。

【０１５０】実施例７現像液を水に変更した以外は実施例６と同様の実験を行
った。

【０１５１】実施例８高分子結合剤Ｃの合成に使用したモノマーからビニルベ
ンジルアセテートを除いた以外は実施例７と同様の実験
を行った。

【０１５２】実施例９高分子結合剤Ｃを高分子結合剤Ｂに変更した以外は実施
例７と同様の実験を行った。

【０１５３】実施例１０感光層塗布液の組成を以下の組成に変更した以外は実施
例７と同様の実験を行った。

【０１５４】感光層塗布液の組成２−メトキシ−４−アミノフェニルジアゾニウムのヘキサフルオロリン酸塩４０重量部ノボラック樹脂２０重量部レゾール樹脂２０重量部赤外吸収剤例示化合物ＩＲ１７１０重量部ＭＥＫ５００重量部プロピレングリコールモノメチルエーテル５００重量部実施例１１感光層塗布液の組成のうちの２−メトキシ−４−アミノ
フェニルジアゾニウムのヘキサフルオロリン酸塩を前記
ジアゾ樹脂Ａに変更した以外は実施例１０と同様の実験
を行った。

【０１５５】比較例１実施例２の感光層塗布液の組成から赤外吸収剤を除去し
た以外は実施例２と同様の実験を行ったところ、現像不
能であった。

【０１５６】比較例１実施例６の感光層塗布液の組成から赤外吸収剤を除去し
た以外は実施例６と同様の実験を行ったところ、現像不
能であった。

【０１５７】以上の結果を下記表１に示す。なお、実施
例５及び７〜１１では画像部の感光層が現像液によって
除去されず、画像部のインキ反撥性層のみ除去されてい
た。

【０１５８】

【表１】

【０１５９】

【発明の効果】本発明によれば、従来の湿し水不要感光
性平版印刷版はいずれも紫外線感光性であり、安価でコ
ンパクトな半導体レーザーを用いた赤外線による画像露
光ができない問題が解決され、赤外線による画像露光が
可能な湿し水不要の感光性平版印刷版及びこれを用いた
湿し水不要の平版印刷版を作製する方法が提供される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例に使用した自動現像装置の概略
断面図である。

【符号の説明】

１感光性平版印刷版の通路又は感光性平版印刷版２１、２２、２３、２４ブラシロール３ローラ３１串ロール４トレイ５１現像液シャワー５２、５４、５５水洗水シャワー５３染色液シャワー６１、６２、６３フィルタ７ポンプＡ現像工程Ｂ第１水洗工程Ｃ染色工程Ｄ第２水洗工程

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体上にインキ反撥性層が形成され、
かつ該支持体と該インキ反撥性層との間に感光層を有す
る湿し水不要感光性平版印刷版において、該感光層が活
性光線の照射により酸を発生し得る化合物、酸の存在下
で反応しうる結合を少なくとも１つ有する化合物、及び
赤外線吸収剤を含有することを特徴とする湿し水不要感
光性平版印刷版。
【請求項２】請求項１記載の湿し水不要感光性平版印
刷版に赤外線を用いて画像露光を行った後、現像液で画
像部のインキ反撥性層を除去することを特徴とする湿し
水不要平版印刷版の作製方法。
【請求項３】支持体上にインキ反撥性層が形成され、
かつ該支持体と該インキ反撥性層との間に感光層を有す
る湿し水不要感光性平版印刷版において、該感光層がジ
アゾ樹脂物及び赤外線吸収剤を含有することを特徴とす
る湿し水不要感光性平版印刷版。
【請求項４】請求項３記載の湿し水不要感光性平版印
刷版に赤外線を用いて非画像部を露光した後、現像液で
画像部のインキ反撥性層を除去することを特徴とする湿
し水不要平版印刷版の作製方法。
【請求項５】現像液としてｐＨが５〜９の水溶液を用
いることを特徴とする請求項２又は４記載の湿し水不要
平版印刷版の作製方法。