JP2001514401A - サーマルウォーターレス平版印刷板 - Google Patents
サーマルウォーターレス平版印刷板Info
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Abstract
(57)【要約】
基板；赤外線吸収物質等の光熱変換物質を含むサーマル画像形成層、及び、ペンデント型アリル基を有する熱可塑性ポリウレタンからなる、赤外レーザーで熱的に画像形成可能なウォーターレス又は乾平版印刷板である。画像形成層が赤外線吸収染料又は顔料と混合されたアリル官能性ポリウレタンを含む場合に、当該重合体層が赤外線放射に曝されたときにある溶媒への可溶性が向上することが見出された。更に、当該重合体層は非露光領域でシリコーンへの優れた接着性を示すので赤外線吸収層は適当な有機溶媒又は溶媒混合物での現像に耐えることができる。現像剤溶液での軽いブラッシング又は摩擦は赤外画像形成層のレーザー照射部を容易に除去するが、非露光領域は固着したままとなる。
Description
【０００１】
本発明は、７００〜１５００ｎｍの間の波長で赤外線又は近赤外線を放射する
レーザーで画像形成可能なウォーターレス又は乾平版印刷プレート（板）に関す
る。
レーザーで画像形成可能なウォーターレス又は乾平版印刷プレート（板）に関す
る。
【０００２】
ウォーターレス印刷板は１９７０年から存在している。殆どのウォーターレス
印刷板は光吸収画像形成層上に被覆されたシリコーン等のインク反発（abhesive
）層を含む。画像形成は典型的には画像形成層を紫外線放射源で露光し、インク
反発被覆を選択的に除去することによって達成される。ポジ作用型ウォーターレ
ス板では、画像形成層は典型的には米国特許第３，５１１，１７８号、３，６７
７，１７８号及び４，７７５，６０７号に開示されるようなネガ作用型ジアゾ樹
脂を含む光吸収層であるか、又は、米国特許第３，８９４，８７３号、５，２３
２，８１３号及び５，５０３，０７４号に記載されるような光重合可能な化合物
を含む光吸収層である。ネガ作用型ウォーターレス板では、画像形成は典型的に
は米国特許第４，３４２，８２０号及び第４，３５８，５２２号に記載されるよ
うなジアゾナフトキノン類を含む画像形成層の紫外線放射を介する可溶化、又は
、米国特許第４，８４２，９９０号に記載されるような光誘起酸触媒加水分解を
受ける層の画像化によって達成される。米国特許第３，９３３，４９５号は二重
トーンウォーターレス板を記述しており、そこでは画像形成層の可溶性は、使用
される現像剤に依存しており、現像工程での現像剤によって向上又は低下する。
印刷板は光吸収画像形成層上に被覆されたシリコーン等のインク反発（abhesive
）層を含む。画像形成は典型的には画像形成層を紫外線放射源で露光し、インク
反発被覆を選択的に除去することによって達成される。ポジ作用型ウォーターレ
ス板では、画像形成層は典型的には米国特許第３，５１１，１７８号、３，６７
７，１７８号及び４，７７５，６０７号に開示されるようなネガ作用型ジアゾ樹
脂を含む光吸収層であるか、又は、米国特許第３，８９４，８７３号、５，２３
２，８１３号及び５，５０３，０７４号に記載されるような光重合可能な化合物
を含む光吸収層である。ネガ作用型ウォーターレス板では、画像形成は典型的に
は米国特許第４，３４２，８２０号及び第４，３５８，５２２号に記載されるよ
うなジアゾナフトキノン類を含む画像形成層の紫外線放射を介する可溶化、又は
、米国特許第４，８４２，９９０号に記載されるような光誘起酸触媒加水分解を
受ける層の画像化によって達成される。米国特許第３，９３３，４９５号は二重
トーンウォーターレス板を記述しており、そこでは画像形成層の可溶性は、使用
される現像剤に依存しており、現像工程での現像剤によって向上又は低下する。
【０００３】 上記した板の製造方法の大部分は写真フィルムを必要とするが、それは高価で
あり製造するのに時間がかかる。近年のＣＴＰ（computer-to-plate）技術への 流れはウォーターレス板の新しい世代を開発する必要性を創り出したが、それは
ウォーターレス印刷の利点がＣＴＰ用途で維持されることを条件とする。
あり製造するのに時間がかかる。近年のＣＴＰ（computer-to-plate）技術への 流れはウォーターレス板の新しい世代を開発する必要性を創り出したが、それは
ウォーターレス印刷の利点がＣＴＰ用途で維持されることを条件とする。
【０００４】 ＣＴＰ用途に適合したウォーターレス板作成技術の１つの方法は、写真ウォー
ターレス板上に接触するマスクを生成することである。このマスクは例えばイン
クジェットプリンター、電子写真プリンター等のデジタル装置、或いは、デジタ
ル的に制御されたレーザーを用いる他のあらゆる装置を介して製造することがで
きるであろう。また、このマスクはレーザーアブレーション、レーザーアブレー
ション転移、光互変性最上層或いはレーザー誘起によって可溶化又は不溶化され
た不透明最上層でのレーザー誘起色変化技術によっても製造できるであろう。し
かし、マスクされた印刷板は製造にコストがかかり、しかも、全露光及びマスク
の除去等のより複雑な加工を必要とする。
ターレス板上に接触するマスクを生成することである。このマスクは例えばイン
クジェットプリンター、電子写真プリンター等のデジタル装置、或いは、デジタ
ル的に制御されたレーザーを用いる他のあらゆる装置を介して製造することがで
きるであろう。また、このマスクはレーザーアブレーション、レーザーアブレー
ション転移、光互変性最上層或いはレーザー誘起によって可溶化又は不溶化され
た不透明最上層でのレーザー誘起色変化技術によっても製造できるであろう。し
かし、マスクされた印刷板は製造にコストがかかり、しかも、全露光及びマスク
の除去等のより複雑な加工を必要とする。
【０００５】 米国特許第５，３３９，７３７号は積層されたシリコーン層を除去するために
、高線量のレーザーエネルギーを用いるレーザーアブレーションによって赤外線
吸収層を物理的に変換することを教示する。しかし、この手法は比較的時間がか
かる。この問題を回避するために、米国特許第５，３５３，７０５号ではアブレ
ーション可能だが非赤外線吸収層を赤外線吸収層の下方に追加することが記述さ
れている。別の試みとして、米国特許第５，３７９，６９８号では、画像形成層
として金属又は金属酸化物の薄膜が使用されている。米国特許第５，４８７，３
３８号に教示される更に他の試みでは赤外線吸収層の下方に設けられた赤外線反
射層を使用している。
、高線量のレーザーエネルギーを用いるレーザーアブレーションによって赤外線
吸収層を物理的に変換することを教示する。しかし、この手法は比較的時間がか
かる。この問題を回避するために、米国特許第５，３５３，７０５号ではアブレ
ーション可能だが非赤外線吸収層を赤外線吸収層の下方に追加することが記述さ
れている。別の試みとして、米国特許第５，３７９，６９８号では、画像形成層
として金属又は金属酸化物の薄膜が使用されている。米国特許第５，４８７，３
３８号に教示される更に他の試みでは赤外線吸収層の下方に設けられた赤外線反
射層を使用している。
【０００６】
しかし、上記の全ての試みはＣＴＰウォーターレス印刷板の製造に余計なコス
トを導入する。更に、これらの印刷板の画像形成の間に生成した屑（debris）に
よって一般に画像形成後に当該板を清浄化する追加の工程及び／又は複雑な装置
が必要となる。ＣＴＰウォーターレス印刷板の製造において（これまで）改善が
為されたにもかかわらず、よりコスト的に有効で且つ効率的な高性能ＣＴＰウォ
ーターレス印刷板の製造へのニーズが引き続いて存在している。
トを導入する。更に、これらの印刷板の画像形成の間に生成した屑（debris）に
よって一般に画像形成後に当該板を清浄化する追加の工程及び／又は複雑な装置
が必要となる。ＣＴＰウォーターレス印刷板の製造において（これまで）改善が
為されたにもかかわらず、よりコスト的に有効で且つ効率的な高性能ＣＴＰウォ
ーターレス印刷板の製造へのニーズが引き続いて存在している。
【０００７】
【課題を解決するための手段】 本発明は、最小の赤外エネルギーで画像形成可能なウォーターレス印刷板であ
って、屑の発生もなく画像化を行うことができる。特に、本発明は、 Ａ）基板； Ｂ）前記基板に隣接する内表面、及び、外表面を有する複合層構造であって、 ａ）基板表面に当接され、少なくとも１つの光熱変換物質、及び、アリル 基を含む熱可塑性ポリウレタンから実質的になる第１の層；及び ｂ）架橋シリコーンポリマーからなるシリコーン層； を含む複合層構造； を含む乾平版印刷板前駆体要素である。
って、屑の発生もなく画像化を行うことができる。特に、本発明は、 Ａ）基板； Ｂ）前記基板に隣接する内表面、及び、外表面を有する複合層構造であって、 ａ）基板表面に当接され、少なくとも１つの光熱変換物質、及び、アリル 基を含む熱可塑性ポリウレタンから実質的になる第１の層；及び ｂ）架橋シリコーンポリマーからなるシリコーン層； を含む複合層構造； を含む乾平版印刷板前駆体要素である。
【０００８】 本発明の追加の態様は、 I)本発明の上記の平版印刷板前駆体要素を準備する工程； II)前記複合層構造を画像的に熱エネルギーで露光して、現像液に選択的に浸透 可能な露光部分、並びに、相補的な非露光部分を当該複合層構造に形成する工程
；及び III)前記露光部分を除去するために前記複合層構造に現像液を塗布し、無被覆の
インク受容性領域及び前記シリコーン層の相補的なインク撥性領域を有する画像
化された平版印刷板を製造する工程； を順に含む、平版印刷板の形成方法である。
；及び III)前記露光部分を除去するために前記複合層構造に現像液を塗布し、無被覆の
インク受容性領域及び前記シリコーン層の相補的なインク撥性領域を有する画像
化された平版印刷板を製造する工程； を順に含む、平版印刷板の形成方法である。
【０００９】 本発明の好ましい態様では、アリル基を含む熱可塑性ポリウレタンはペンデン
ト型（pendent）アリル基を含み、ジイソシアネートと、少なくとも１つのアリ ル官能性ジオールを含むジオール物質との反応によって調製され、そして、光熱
変換物質は赤外線吸収物質である。
ト型（pendent）アリル基を含み、ジイソシアネートと、少なくとも１つのアリ ル官能性ジオールを含むジオール物質との反応によって調製され、そして、光熱
変換物質は赤外線吸収物質である。
【００１０】
本発明は熱エネルギーで画像化可能な画像形成要素に関する。より具体的には
、本発明は、乾式のサーマルリソグラフ印刷板であり、典型的には赤外線放射レ
ーザー、可視光等を放射するレーザーを用いる画像形式の露光によって、熱エネ
ルギーで露光可能である。本発明の重要な側面は、板（プレート）の画像形成層
が赤外吸収染料又は顔料と混合されたアリル官能性ポリウレタンを含む場合に赤
外線放射に曝露されると、当該重合体層のある溶媒への溶解性が向上するという
発見にある。更に、当該重合体層はその非露光領域においてシリコーンへの優れ
た接着性を維持する。したがって、本発明の赤外吸収（サーマル）層は適当な有
機溶媒又は溶媒混合物での現像に耐えることができる。現像溶媒で軽くブラシか
けを行い又は擦ると上記赤外線感受性層のレーザー受光部分は容易に除去される
が、非露光部分はそのまましっかりと維持される。
、本発明は、乾式のサーマルリソグラフ印刷板であり、典型的には赤外線放射レ
ーザー、可視光等を放射するレーザーを用いる画像形式の露光によって、熱エネ
ルギーで露光可能である。本発明の重要な側面は、板（プレート）の画像形成層
が赤外吸収染料又は顔料と混合されたアリル官能性ポリウレタンを含む場合に赤
外線放射に曝露されると、当該重合体層のある溶媒への溶解性が向上するという
発見にある。更に、当該重合体層はその非露光領域においてシリコーンへの優れ
た接着性を維持する。したがって、本発明の赤外吸収（サーマル）層は適当な有
機溶媒又は溶媒混合物での現像に耐えることができる。現像溶媒で軽くブラシか
けを行い又は擦ると上記赤外線感受性層のレーザー受光部分は容易に除去される
が、非露光部分はそのまましっかりと維持される。
【００１１】板の構成 本発明の板構成は基板に支持された複合層構造を含む。複合層構造は第１の層
（以下、「サーマル層」と称し、これは基板に隣接する内表面を有する）に積層
されたシリコーン最上層を含む。任意に、当該構成は、（ａ）シリコーン層の更
に上の保護層、（ｂ）シリコーン及びサーマル層の間の接着促進層、及び、（ｃ
）サーマル層及び基板の間のプライマー層も含んでよい。
（以下、「サーマル層」と称し、これは基板に隣接する内表面を有する）に積層
されたシリコーン最上層を含む。任意に、当該構成は、（ａ）シリコーン層の更
に上の保護層、（ｂ）シリコーン及びサーマル層の間の接着促進層、及び、（ｃ
）サーマル層及び基板の間のプライマー層も含んでよい。
【００１２】サーマル層 サーマル層は少なくとも１つの光熱変換物質及びアリル官能性ポリウレタンか
ら実質的になる独特の組成物からなる。すなわち、サーマル層の２つの必須成分
は、（ｉ）アリル官能性ポリウレタンと（ｉｉ）光熱変換物質である。ここで使
用される用語「アリル官能性ポリウレタン（allyl functional polyurethane） 」はペンデント型（pendent）又は末端（terminal）アリル基のどちらであって もよいアリル基を含む熱可塑性ポリウレタンを意味することを意図する。ここで
使用される「光熱変換物質」は入射する放射（光）を吸収して当該放射を熱エネ
ルギーに変換する成分である。典型的には、光熱変換物質は「赤外線吸収」化合
物である。見かけの理由、品質管理及び／又は現像前後の画像検査を容易にする
ために、非吸収性着色剤、印刷出力染料、界面活性剤及び酸又は塩基生成剤等の
任意の副成分がサーマル層に添加されてもよい。以下においては、サーマル層は
少なくとも１つの「赤外線吸収物質」を備えた赤外線吸収組成物を有する「赤外
線吸収層」として記載されるが、それによって制限を受けることを意図するもの
ではない。
ら実質的になる独特の組成物からなる。すなわち、サーマル層の２つの必須成分
は、（ｉ）アリル官能性ポリウレタンと（ｉｉ）光熱変換物質である。ここで使
用される用語「アリル官能性ポリウレタン（allyl functional polyurethane） 」はペンデント型（pendent）又は末端（terminal）アリル基のどちらであって もよいアリル基を含む熱可塑性ポリウレタンを意味することを意図する。ここで
使用される「光熱変換物質」は入射する放射（光）を吸収して当該放射を熱エネ
ルギーに変換する成分である。典型的には、光熱変換物質は「赤外線吸収」化合
物である。見かけの理由、品質管理及び／又は現像前後の画像検査を容易にする
ために、非吸収性着色剤、印刷出力染料、界面活性剤及び酸又は塩基生成剤等の
任意の副成分がサーマル層に添加されてもよい。以下においては、サーマル層は
少なくとも１つの「赤外線吸収物質」を備えた赤外線吸収組成物を有する「赤外
線吸収層」として記載されるが、それによって制限を受けることを意図するもの
ではない。
【００１３】 アリル官能性ポリウレタンは、例えば、ジイソシアネートとアリル官能性ジオ
ールとの反応によって調製される。異なるジイソシアネートの混合物と異なるジ
オールの混合物が前記ポリウレタンを調製するために使用されてもよいが、但し
、ジオールの少なくとも１つは少なくとも１つのアリル基を含まなければならな
い。
ールとの反応によって調製される。異なるジイソシアネートの混合物と異なるジ
オールの混合物が前記ポリウレタンを調製するために使用されてもよいが、但し
、ジオールの少なくとも１つは少なくとも１つのアリル基を含まなければならな
い。
【００１４】 有用なアリル官能性ジオールは一般式： ＨＯＣＲ1 2−ＣＲ2（ＯＨ）−ＣＲ3 2−Ｏ−ＣＲ4 2−ＣＲ5＝ＣＲ6 2 ［Ｒ1−Ｒ6は独立して水素又はアルキル基から選択される］を有する。好ましく
は、全てのＲ基は水素である。アリル基を有する市販のジオールには３−アリロ
キシ−１，２−プロパンジオール及びトリメチロールプロパンアリルエーテルが
含まれる。アリルエステル基を有する他のジオールには４，４−ビス−（ヒドロ
キシエチロキシフェニル）ペンタン酸アリル；２，２−ビス（ヒドロキシメチル
）プロパン酸アリルが含まれる。これらのアリル官能性ジオールは単独で又は組
み合わせて使用することができ、または、アリル官能性を含まないジオールと更
に組合せて使用することができる。アリル官能性を含まない有用なジオールの例
にはエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポ
リプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ブタンジオール及び２，２
−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸が含まれる。
は、全てのＲ基は水素である。アリル基を有する市販のジオールには３−アリロ
キシ−１，２−プロパンジオール及びトリメチロールプロパンアリルエーテルが
含まれる。アリルエステル基を有する他のジオールには４，４−ビス−（ヒドロ
キシエチロキシフェニル）ペンタン酸アリル；２，２−ビス（ヒドロキシメチル
）プロパン酸アリルが含まれる。これらのアリル官能性ジオールは単独で又は組
み合わせて使用することができ、または、アリル官能性を含まないジオールと更
に組合せて使用することができる。アリル官能性を含まない有用なジオールの例
にはエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポ
リプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ブタンジオール及び２，２
−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸が含まれる。
【００１５】 アリル官能性ポリウレタンの作製では、芳香族及び脂肪族の両方のジイソシア
ネート類がジオール又はジオール混合物と反応することができる。芳香族ジイソ
シアネートの例には、２，４−トルエンジイソシアネート；２，６−トルエンジ
イソシアネート；ｐ−キシレンジイソシアネート；ｍ−キシレンジイソシアネー
ト；テトラメチルキシレンジイソシアネート；４，４’−ジフェニルメタンジイ
ソシアネート；１，５−ナフタレンジイソシアネート；３，３’−ジメチルビフ
ェニル−４，４’−ジイソシアネート等が含まれる。脂肪族ジイソシアネートの
例は、ヘキサメチレンジイソシアネート；トリメチルヘキサメチレンジイソシア
ネート；イソホロンジイソシアネート；４−４’−メチレンビス（シクロヘキシ
ルイソシアネート）；メチルシクロヘキサン−２，４−（又は２，６−）ジイソ
シアネート；１，４−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン等である。
ネート類がジオール又はジオール混合物と反応することができる。芳香族ジイソ
シアネートの例には、２，４−トルエンジイソシアネート；２，６−トルエンジ
イソシアネート；ｐ−キシレンジイソシアネート；ｍ−キシレンジイソシアネー
ト；テトラメチルキシレンジイソシアネート；４，４’−ジフェニルメタンジイ
ソシアネート；１，５−ナフタレンジイソシアネート；３，３’−ジメチルビフ
ェニル−４，４’−ジイソシアネート等が含まれる。脂肪族ジイソシアネートの
例は、ヘキサメチレンジイソシアネート；トリメチルヘキサメチレンジイソシア
ネート；イソホロンジイソシアネート；４−４’−メチレンビス（シクロヘキシ
ルイソシアネート）；メチルシクロヘキサン−２，４−（又は２，６−）ジイソ
シアネート；１，４−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン等である。
【００１６】 アリル官能性ポリウレタンは、ジイソシアネートとジメチロールプロピオン酸
等のＣＯＯＨ官能性ジオールとを反応させ、そして次に、生成したポリウレタン
上のＣＯＯＨ基をアリルエステル基へ変換することによっても調製できる。
等のＣＯＯＨ官能性ジオールとを反応させ、そして次に、生成したポリウレタン
上のＣＯＯＨ基をアリルエステル基へ変換することによっても調製できる。
【００１７】 赤外線吸収層の他の必須成分は染料又は顔料のいずれかから選択される赤外線
吸収剤である。赤外線吸収剤を選択する際の主なファクターは、染料又は顔料の
赤外放射の吸収の有効性の目安となるベールの法則（Beer's Law）に従う吸光係
数である。有用な赤外線吸収化合物は、典型的には電磁放射スペクトルの赤外領
域及び近赤外領域である、約７５０ｎｍより高い電磁放射スペクトルの部分に最
大吸収波長（λmax）を有する。より具体的には、約７８０ｎｍ〜約１３００ｎ ｍ、典型的には約８００ｎｍ〜約１１００ｎｍの波長領域の部分に高い吸収率を
有さなければならない。すなわち、吸光係数は７８０ｎｍ〜１３００ｎｍの波長
を通常有する赤外放射露光を効率的に吸収するために十分な値を有さなければな
らない。赤外線吸収化合物は染料又は顔料とすることができ、様々な化合物が当
該分野では周知である。通常の物質の種類としては、これに限定されるものでは
ないが、トリアリールアミン、チアゾリウム（thiazolium）、インドリウム（in
dolium）、オキサゾリウム（oxazolium）、ポリアニリン、ポリピロール、ポリ チオフェン、チオレン金属錯体、スクエアリリウム（squarilium）、クロコネー
ト（croconate）、シアニン、フタロシアニン、メロシアニン、カルコゲノピリ ロアリーリジン、ビス（カルコゲノピリロ）ポリメチン、オキシインドリジン、
キノイド、インドリジン、ピリリウム（pyrylium）及びチオレン金属錯体（例え
ば金属ジチオレン）染料及び顔料が含まれる。他の通常の種類には、チアジン、
アズレニウム（azulenium）及びキサンテン染料、並びに、暗無機顔料が含まれ る。本発明での通常の赤外線吸収染料の例には、シアソルブＩＲ（Cyasorb IR）
９９及びシアソルブＩＲ１６５（両者ともGlendale Protective Technology社よ
り入手可能）、エポライト（Epolite）ＩＶ−６２Ｂ及びエポライトＩＩＩ−１ ７８（両者ともEpolite社より入手可能）、ＰＩＮＡ−７８０（Allied Signal社
より入手可能）、スペクトラ（Spectra）ＩＲ８３０Ａ及びスペクトラＩＲ８４ ０Ａ（Spectra Colors社より入手可能）が含まれる。赤外線吸収顔料の例はプロ
ジェット（Projet）９００、プロジェット８６０及びプロジェット８３０（全て
Zeneca社より入手可能）である。カーボンブラック顔料も使用してよい。カーボ
ンブラック顔料はその広い吸収帯のために特に有利であり、そのようなカーボン
ブラックをベースとした板は幅広い様々なピーク放射波長を有する多赤外線画像
形成装置と共に使用することができる。
吸収剤である。赤外線吸収剤を選択する際の主なファクターは、染料又は顔料の
赤外放射の吸収の有効性の目安となるベールの法則（Beer's Law）に従う吸光係
数である。有用な赤外線吸収化合物は、典型的には電磁放射スペクトルの赤外領
域及び近赤外領域である、約７５０ｎｍより高い電磁放射スペクトルの部分に最
大吸収波長（λmax）を有する。より具体的には、約７８０ｎｍ〜約１３００ｎ ｍ、典型的には約８００ｎｍ〜約１１００ｎｍの波長領域の部分に高い吸収率を
有さなければならない。すなわち、吸光係数は７８０ｎｍ〜１３００ｎｍの波長
を通常有する赤外放射露光を効率的に吸収するために十分な値を有さなければな
らない。赤外線吸収化合物は染料又は顔料とすることができ、様々な化合物が当
該分野では周知である。通常の物質の種類としては、これに限定されるものでは
ないが、トリアリールアミン、チアゾリウム（thiazolium）、インドリウム（in
dolium）、オキサゾリウム（oxazolium）、ポリアニリン、ポリピロール、ポリ チオフェン、チオレン金属錯体、スクエアリリウム（squarilium）、クロコネー
ト（croconate）、シアニン、フタロシアニン、メロシアニン、カルコゲノピリ ロアリーリジン、ビス（カルコゲノピリロ）ポリメチン、オキシインドリジン、
キノイド、インドリジン、ピリリウム（pyrylium）及びチオレン金属錯体（例え
ば金属ジチオレン）染料及び顔料が含まれる。他の通常の種類には、チアジン、
アズレニウム（azulenium）及びキサンテン染料、並びに、暗無機顔料が含まれ る。本発明での通常の赤外線吸収染料の例には、シアソルブＩＲ（Cyasorb IR）
９９及びシアソルブＩＲ１６５（両者ともGlendale Protective Technology社よ
り入手可能）、エポライト（Epolite）ＩＶ−６２Ｂ及びエポライトＩＩＩ−１ ７８（両者ともEpolite社より入手可能）、ＰＩＮＡ−７８０（Allied Signal社
より入手可能）、スペクトラ（Spectra）ＩＲ８３０Ａ及びスペクトラＩＲ８４ ０Ａ（Spectra Colors社より入手可能）が含まれる。赤外線吸収顔料の例はプロ
ジェット（Projet）９００、プロジェット８６０及びプロジェット８３０（全て
Zeneca社より入手可能）である。カーボンブラック顔料も使用してよい。カーボ
ンブラック顔料はその広い吸収帯のために特に有利であり、そのようなカーボン
ブラックをベースとした板は幅広い様々なピーク放射波長を有する多赤外線画像
形成装置と共に使用することができる。
【００１８】 赤外線吸収層に存在してもよい他の任意の成分には、可視画像読み出し用の染
料、及び、酸又は塩基生成剤が含まれる。このタイプの適当な染料にはスルベン
トブルー（Solvent blue）３５、ビクトリアピュアブルー（Victoria pure blue
）ＢＯ、４−（フェニルアゾ）ジフェニルアミン，エチルオレンジ，ペルガスク
リプト（Pergascript）赤Ｉ−６Ｂ（Ciba-Geigy社より入手可能）等が含まれる 。適当な酸生成剤にはインドニウム（indonium）及びスルホニウム塩が含まれる
。
料、及び、酸又は塩基生成剤が含まれる。このタイプの適当な染料にはスルベン
トブルー（Solvent blue）３５、ビクトリアピュアブルー（Victoria pure blue
）ＢＯ、４−（フェニルアゾ）ジフェニルアミン，エチルオレンジ，ペルガスク
リプト（Pergascript）赤Ｉ−６Ｂ（Ciba-Geigy社より入手可能）等が含まれる 。適当な酸生成剤にはインドニウム（indonium）及びスルホニウム塩が含まれる
。
【００１９】シリコーン層 本発明で使用されるシリコーン層は下記の繰り返し単位：
【化１】 ［各Ｒは一価のアルキル、アリール又はアルケニル基、或いは、その組み合わせ
から独立して選択される］を含む架橋ポリジオルガノシロキサンとすることがで
きる。Ｒはヒドロキシル、ハロゲン、アミノ、アルコキシ、アリーロキシ、（メ
タ）アクリロキシ及びチオール等の官能性置換基を含んでもよい。好ましくは、
Ｒ基はメチルであり、Ｒ基の混合物が使用されるときにはその大部分であるべき
である。シリコーン層はシリカ、炭酸カルシウム及び酸化チタン等の顔料及びフ
ィラーを任意に含むことができる。シリコーン層形成を改良するために被覆層に
接着促進剤が添加されてもよい。
から独立して選択される］を含む架橋ポリジオルガノシロキサンとすることがで
きる。Ｒはヒドロキシル、ハロゲン、アミノ、アルコキシ、アリーロキシ、（メ
タ）アクリロキシ及びチオール等の官能性置換基を含んでもよい。好ましくは、
Ｒ基はメチルであり、Ｒ基の混合物が使用されるときにはその大部分であるべき
である。シリコーン層はシリカ、炭酸カルシウム及び酸化チタン等の顔料及びフ
ィラーを任意に含むことができる。シリコーン層形成を改良するために被覆層に
接着促進剤が添加されてもよい。
【００２０】 ポリジオルガノシロキサンの網状構造は、例えば、シラノール及びアシロキシ
又はアルコキシシランの縮合、アルケニル基へのヒドロシランの付加、及び、（
メタ）アクリレート又はエポキシ基の光開始重合等の公知の架橋反応によって形
成されてよいが、縮合及び付加方法が好ましい。
又はアルコキシシランの縮合、アルケニル基へのヒドロシランの付加、及び、（
メタ）アクリレート又はエポキシ基の光開始重合等の公知の架橋反応によって形
成されてよいが、縮合及び付加方法が好ましい。
【００２１】 縮合架橋方法では、例えば、シラノール末端ジオルガノシロキサンポリマーが
適当な触媒の存在下でポリアシロキシ又はポリアルコキシシラン架橋剤と反応す
ることができる。この反応は熱及び水分の両方で加速されてもよい。製造中のポ
ットライフを向上させるために、欧州特許出願公開ＥＰ０７６３７８０Ａ２に記
載されるように、両方の終端でのポリジオルガノシロキサンとトリアルコキシシ
リル基との間の自己縮合を経由してシリコーン網状構造が形成されてもよい。こ
の縮合に適当な触媒はスズ、亜鉛及び他の多価金属の有機カルボン酸塩であり、
当該分野では周知である。このタイプのシリコーン被覆配合物には接着促進剤が
含まれてもよい。好ましい接着促進剤は一般式：
適当な触媒の存在下でポリアシロキシ又はポリアルコキシシラン架橋剤と反応す
ることができる。この反応は熱及び水分の両方で加速されてもよい。製造中のポ
ットライフを向上させるために、欧州特許出願公開ＥＰ０７６３７８０Ａ２に記
載されるように、両方の終端でのポリジオルガノシロキサンとトリアルコキシシ
リル基との間の自己縮合を経由してシリコーン網状構造が形成されてもよい。こ
の縮合に適当な触媒はスズ、亜鉛及び他の多価金属の有機カルボン酸塩であり、
当該分野では周知である。このタイプのシリコーン被覆配合物には接着促進剤が
含まれてもよい。好ましい接着促進剤は一般式：
【化２】 ［Ｒは無置換又は一置換アミノアルキルであり、Ｒ’及びＲ”はそれぞれアルキ
ル又はアリールであり、ｍは１又は２であり、ｎは０又は１であり、ｍ＋ｎは１
又は２に等しい］によって表されるようなアミノシランである。そのようなアミ
ノシランの具体的な例はγ−アミノプロピルトリエトキシシラン及びγ−［Ｎ−
（２−アミノエチル）−アミノ］プロピルトリメトキシシランである。
ル又はアリールであり、ｍは１又は２であり、ｎは０又は１であり、ｍ＋ｎは１
又は２に等しい］によって表されるようなアミノシランである。そのようなアミ
ノシランの具体的な例はγ−アミノプロピルトリエトキシシラン及びγ−［Ｎ−
（２−アミノエチル）−アミノ］プロピルトリメトキシシランである。
【００２２】 ヒドロシランとアルケニル基との間の付加反応を介して架橋されたポリジオル
ガノシロキサンは、例えば、ビニル官能性ポリジオルガノシロキサンとメチルヒ
ドロシロキサンホモポリマー又はコポリマーから適当な触媒の存在下で調製する
ことができる。シロキサンポリマー中のアルケニル基はポリマー鎖に沿ってラン
ダムに分布してもよく、又は、鎖終端に局在してもよい。付加触媒は公知のもの
から選択することができるが、単体の白金、塩化白金、クロロ白金酸及びオレフ
ィン配位白金が好ましい。ポットライフ（可使時間）を改善するために、ケトン
、アルコール及びアルキン等の揮発性阻害剤が使用されてもよい。米国特許第４
，１８４，００６号に開示されるようなアルキンが特に好ましい。そのようなア
ルキンの具体的な例は２−メチル−３−ブチン−２−オール、エチニルシクロヘ
キサノール、２−ブチン、２−メチル−ブタ（but）−１−エン−３−イン及び フェニルアセチレンである。
ガノシロキサンは、例えば、ビニル官能性ポリジオルガノシロキサンとメチルヒ
ドロシロキサンホモポリマー又はコポリマーから適当な触媒の存在下で調製する
ことができる。シロキサンポリマー中のアルケニル基はポリマー鎖に沿ってラン
ダムに分布してもよく、又は、鎖終端に局在してもよい。付加触媒は公知のもの
から選択することができるが、単体の白金、塩化白金、クロロ白金酸及びオレフ
ィン配位白金が好ましい。ポットライフ（可使時間）を改善するために、ケトン
、アルコール及びアルキン等の揮発性阻害剤が使用されてもよい。米国特許第４
，１８４，００６号に開示されるようなアルキンが特に好ましい。そのようなア
ルキンの具体的な例は２−メチル−３−ブチン−２−オール、エチニルシクロヘ
キサノール、２−ブチン、２−メチル−ブタ（but）−１−エン−３−イン及び フェニルアセチレンである。
【００２３】 シリコーン層のフィルム形成を容易化するために有機溶媒が使用されてもよい
。適当な溶媒には、脂肪族及び芳香族の炭化水素、ケトン及びエステルが含まれ
る。有用な溶媒の具体的な例はヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレン、２−
ブタノン及び酢酸アミルである。使用される溶媒の量は主にシリコーン出発物質
、被覆厚み及び被覆塗布技術に依存する。シリコーン被覆を塗布する被覆方法は
当該分野で公知である。本発明での使用に好ましい被覆方法には、ホイール被覆
（whirl coating）、ワイヤ巻き付きバー被覆（wire-wound bar coating）、直 接グラビア被覆、グラビア−オフセット被覆、液体カーテン被覆、スリット押出
被覆、メニスカス被覆（meniscus coating）等が含まれる。シリコーン層の被覆
重量は約０．２〜１０ｇ／ｍ2、好ましくは約１．０〜約３．０ｇ／ｍ2の範囲と
することができる。
。適当な溶媒には、脂肪族及び芳香族の炭化水素、ケトン及びエステルが含まれ
る。有用な溶媒の具体的な例はヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレン、２−
ブタノン及び酢酸アミルである。使用される溶媒の量は主にシリコーン出発物質
、被覆厚み及び被覆塗布技術に依存する。シリコーン被覆を塗布する被覆方法は
当該分野で公知である。本発明での使用に好ましい被覆方法には、ホイール被覆
（whirl coating）、ワイヤ巻き付きバー被覆（wire-wound bar coating）、直 接グラビア被覆、グラビア−オフセット被覆、液体カーテン被覆、スリット押出
被覆、メニスカス被覆（meniscus coating）等が含まれる。シリコーン層の被覆
重量は約０．２〜１０ｇ／ｍ2、好ましくは約１．０〜約３．０ｇ／ｍ2の範囲と
することができる。
【００２４】基板 本発明の平版印刷板において使用できる基板はリソグラフ印刷版の調製に従来
より使用されるあらゆるシート材料である。適当な基板には、アルミニウム等の
金属シート、紙、ポリエチレン等のα-オレフィンポリマーで片面又は両面が被 覆された紙、酢酸セルロース膜等のフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、
ポリスチレンフィルムポリプロピレンフィルム、ポリエチレンテレフタレート膜
等のポリエステルフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、ニトロ
セルロースフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポ
リエチレン膜で被覆されたポリエステル、ポリプロピレン又はポリスチレン膜等
の複合フィルム、金属化紙又はフィルム、金属／紙積層物等が含まれる。そのよ
うな基板は抗ハーレーション化合物又は副被覆層（sub-coatings）を含むことが
できる。
より使用されるあらゆるシート材料である。適当な基板には、アルミニウム等の
金属シート、紙、ポリエチレン等のα-オレフィンポリマーで片面又は両面が被 覆された紙、酢酸セルロース膜等のフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、
ポリスチレンフィルムポリプロピレンフィルム、ポリエチレンテレフタレート膜
等のポリエステルフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、ニトロ
セルロースフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポ
リエチレン膜で被覆されたポリエステル、ポリプロピレン又はポリスチレン膜等
の複合フィルム、金属化紙又はフィルム、金属／紙積層物等が含まれる。そのよ
うな基板は抗ハーレーション化合物又は副被覆層（sub-coatings）を含むことが
できる。
【００２５】 好ましい基板はアルミニウムシートである。アルミニウムシートの表面はブラ
シ粗面化（brush roughening）、電気化学的粗面化（electrochemical rougheni
ng）、化学的粗面化（chemical roughening）、陽極酸化及びシリケートシーリ ング（silicate sealing）等を含む当該分野で公知の金属仕上げ技術によって処
理されてもよい。表面が粗面化される場合、平均粗さＲａは好ましくは０．１〜
０．８μｍ、より好ましくは０．１〜０．４μｍの範囲である。アルミニウムシ
ートの好ましい厚みは約０．００５〜約０．０２０インチの範囲である。
シ粗面化（brush roughening）、電気化学的粗面化（electrochemical rougheni
ng）、化学的粗面化（chemical roughening）、陽極酸化及びシリケートシーリ ング（silicate sealing）等を含む当該分野で公知の金属仕上げ技術によって処
理されてもよい。表面が粗面化される場合、平均粗さＲａは好ましくは０．１〜
０．８μｍ、より好ましくは０．１〜０．４μｍの範囲である。アルミニウムシ
ートの好ましい厚みは約０．００５〜約０．０２０インチの範囲である。
【００２６】 プラスチックフィルムの表面は、基板と有機被覆物との間の接着性を改善する
ために当該分野で公知の表面処理技術を用いて処理されてもよい。
ために当該分野で公知の表面処理技術を用いて処理されてもよい。
【００２７】任意の層 本発明の平版印刷板は内部層の接着性を改善する、ハーレーション効果を減少
させる、印刷表面特性を改善する等のために１つ又はそれ以上の補助層を含んで
もよい。必須の板構造を修正するために追加しうる任意の層には、シリコーン層
のトップに積層される保護層、シリコーン層と赤外線吸収層の間の接着促進層、
及び、放射感受性層と基板との間のプライマー層が含まれる。
させる、印刷表面特性を改善する等のために１つ又はそれ以上の補助層を含んで
もよい。必須の板構造を修正するために追加しうる任意の層には、シリコーン層
のトップに積層される保護層、シリコーン層と赤外線吸収層の間の接着促進層、
及び、放射感受性層と基板との間のプライマー層が含まれる。
【００２８】 任意のプライマー層は赤外線吸収層と基板の間に、例えば、特に基板が金属シ
ートのときには熱損失を防止するために、インク受容性を規制するために、現像
後の板を可視画像コントラストの向上のために染色する必要がある場合には染料
受容体として機能するために、接着促進層として作用するために、挿入すること
ができる。
ートのときには熱損失を防止するために、インク受容性を規制するために、現像
後の板を可視画像コントラストの向上のために染色する必要がある場合には染料
受容体として機能するために、接着促進層として作用するために、挿入すること
ができる。
【００２９】 プライマー層は熱可塑性被覆物であってもよいが、但し、当該被覆物は赤外線
吸収層の形成に用いられた溶媒に不溶である。熱硬化性の被覆物の例には、ポリ
エステル−メラミン被覆物、アクリル−メラミン被覆物、エポキシ被覆物及びポ
リイソシアネート被覆物が含まれる。熱可塑性被覆物の例はポリビニルアルコー
ルである。紫外放射で硬化される場合、プライマー層はフリーラジカル被覆物、
光生成酸で触媒されるカチオン的に架橋可能な被覆物、及び、適当な結合剤を含
むジアゾ樹脂から調製することができる。
吸収層の形成に用いられた溶媒に不溶である。熱硬化性の被覆物の例には、ポリ
エステル−メラミン被覆物、アクリル−メラミン被覆物、エポキシ被覆物及びポ
リイソシアネート被覆物が含まれる。熱可塑性被覆物の例はポリビニルアルコー
ルである。紫外放射で硬化される場合、プライマー層はフリーラジカル被覆物、
光生成酸で触媒されるカチオン的に架橋可能な被覆物、及び、適当な結合剤を含
むジアゾ樹脂から調製することができる。
【００３０】 任意の接着促進層はシリコーン最上層と赤外線吸収層との間に挿入することが
でき、好ましいものは一般式：
でき、好ましいものは一般式：
【化３】 ［Ｒは無置換又は一置換アミノアルキルであり、Ｒ’とＲ”はそれぞれアルキル
又はアリールであり、ｍは１又は２であり、ｎは０又は１であり、ｍ＋ｎは１又
は２に等しい］のアミノシランである。そのようなアミノシランの具体的な例は
γ−アミノプロピルトリエトキシシラン及びγ−［Ｎ−（２−アミノエチル）ア
ミノ］プロピルトリメトキシシランである。
又はアリールであり、ｍは１又は２であり、ｎは０又は１であり、ｍ＋ｎは１又
は２に等しい］のアミノシランである。そのようなアミノシランの具体的な例は
γ−アミノプロピルトリエトキシシラン及びγ−［Ｎ−（２−アミノエチル）ア
ミノ］プロピルトリメトキシシランである。
【００３１】 任意の保護層がシリコーン層のトップに積層されてもよく、貯蔵及び作業中の
シリコーン表面を保護する。典型的には、保護層は、ポリエチレンテレフタレー
ト等のポリエステル、ポリエチレン及びポリプロピレン等のポリオレフィン等を
含む薄い重合体フィルムである。保護層は処理前又は処理中にシリコーン層表面
を損傷することなく容易に除去されるようにデザインされる。
シリコーン表面を保護する。典型的には、保護層は、ポリエチレンテレフタレー
ト等のポリエステル、ポリエチレン及びポリプロピレン等のポリオレフィン等を
含む薄い重合体フィルムである。保護層は処理前又は処理中にシリコーン層表面
を損傷することなく容易に除去されるようにデザインされる。
【００３２】板の画像化及び処理 本発明のウォーターレス板は下記の工程を含む方法によって画像化される。ま
ず、基板及び複合層構造からなる上記のウォーターレス板前駆体が準備される。
複合層構造は更に基板表面に当設された第１の層、例えば赤外線吸収層、とシリ
コーン層とからなる。第１のサーマル層は必須成分としてペンデント型アリル基
を含む熱可塑性ポリウレタンと、典型的には、少なくとも１つの光熱変換物質、
例えば赤外線吸収物質を含む。シリコーン層は架橋シリコーンポリマーからなる
。次に、複合層構造は熱エネルギーに対して画像形式で露光され（曝露され）、
当該複合層構造中に露光部分と相補的な非露光部分を提供する。画像形成露光の
結果、露光部分は選択的に現像液に浸透可能となる。最後に、現像液が複合層構
造に適用（塗布）され露光部分が除去されて、無被覆のインク受容性領域とシリ
コーン層の相補的なインク非受容性（インク撥性）領域を有する画像化平版印刷
板が製造される。本発明の好ましい態様では、光熱変換物質は赤外線吸収化合物
であり、画像形成露光は赤外線放射レーザーを用いて行われる。
ず、基板及び複合層構造からなる上記のウォーターレス板前駆体が準備される。
複合層構造は更に基板表面に当設された第１の層、例えば赤外線吸収層、とシリ
コーン層とからなる。第１のサーマル層は必須成分としてペンデント型アリル基
を含む熱可塑性ポリウレタンと、典型的には、少なくとも１つの光熱変換物質、
例えば赤外線吸収物質を含む。シリコーン層は架橋シリコーンポリマーからなる
。次に、複合層構造は熱エネルギーに対して画像形式で露光され（曝露され）、
当該複合層構造中に露光部分と相補的な非露光部分を提供する。画像形成露光の
結果、露光部分は選択的に現像液に浸透可能となる。最後に、現像液が複合層構
造に適用（塗布）され露光部分が除去されて、無被覆のインク受容性領域とシリ
コーン層の相補的なインク非受容性（インク撥性）領域を有する画像化平版印刷
板が製造される。本発明の好ましい態様では、光熱変換物質は赤外線吸収化合物
であり、画像形成露光は赤外線放射レーザーを用いて行われる。
【００３３】 本発明のウォーターレス板及びその調製方法は既述したとおりである。このウ
ォーターレス板は赤外線吸収層の吸収スペクトルにほぼマッチした波長領域で赤
外放射光を放出するレーザー又はレーザー束を用いて画像化することができる。
適当な市販の画像形成装置には、クレオトレンドセッター（Creo Trendsetter；
クレオ（CREO）社,British Columbia, Canadaより入手可能）及びがーバークレ セント４２Ｔ（Gerber Crescent 42T；ガーバー（Gerber）社より入手可能）が 含まれる。複合層構造の赤外線吸収層は典型的にはシリコーン層を通して露光さ
れるが、基板が赤外放射に対して透明な、例えばポリエチレンテレフタレート等
の物質からなる場合には赤外線吸収層は基板を通して画像化されてもよい。平版
印刷板のシリコーン表面が赤外放射に対して透明な保護層で保護されている場合
は、当該保護層は画像形成露光中同じ場所にそのままとされていてもよく、或い
は、除去されてもよい。どちらの場合でも、保護層は典型的には現像前に除去さ
れる。画像形成工程後、板は現像液で現像される。
ォーターレス板は赤外線吸収層の吸収スペクトルにほぼマッチした波長領域で赤
外放射光を放出するレーザー又はレーザー束を用いて画像化することができる。
適当な市販の画像形成装置には、クレオトレンドセッター（Creo Trendsetter；
クレオ（CREO）社,British Columbia, Canadaより入手可能）及びがーバークレ セント４２Ｔ（Gerber Crescent 42T；ガーバー（Gerber）社より入手可能）が 含まれる。複合層構造の赤外線吸収層は典型的にはシリコーン層を通して露光さ
れるが、基板が赤外放射に対して透明な、例えばポリエチレンテレフタレート等
の物質からなる場合には赤外線吸収層は基板を通して画像化されてもよい。平版
印刷板のシリコーン表面が赤外放射に対して透明な保護層で保護されている場合
は、当該保護層は画像形成露光中同じ場所にそのままとされていてもよく、或い
は、除去されてもよい。どちらの場合でも、保護層は典型的には現像前に除去さ
れる。画像形成工程後、板は現像液で現像される。
【００３４】 複合層構造の部分が赤外放射に露光される場合、その露光されたサーマル層部
分は、選択的に、現像液への向上した溶解性又は分散性を有する。現像液はシリ
コーン層に浸透し、且つ、赤外線吸収層の非露光領域に実質的に影響を与えるこ
となく反応生成物を選択的に溶解又は分散させることの可能なあらゆる液体又は
溶液とすることができる。好ましい現像剤溶液はポリプロピレングリコールエー
テルを含むものである。より好ましい現像剤溶液はトリプロピレングリコールｎ
−ブチルエーテルである。現像液は非現像液で希釈されてもよい。ここで使用さ
れる「非現像液」の用語は、シリコーン層に浸透せず、及び／又は、露光領域を
選択的に溶解又は分散させないあらゆる液体を意味することを意図する。非現像
液にはポリプロピレングリコール及び脂肪族炭化水素溶媒等の液体が含まれる。
具体的な脂肪族炭化水素溶媒はヘプタン及びエクソンケミカル社（Exxon Chemic
al Company）のイソパールシリーズ（isoPar series）である。
分は、選択的に、現像液への向上した溶解性又は分散性を有する。現像液はシリ
コーン層に浸透し、且つ、赤外線吸収層の非露光領域に実質的に影響を与えるこ
となく反応生成物を選択的に溶解又は分散させることの可能なあらゆる液体又は
溶液とすることができる。好ましい現像剤溶液はポリプロピレングリコールエー
テルを含むものである。より好ましい現像剤溶液はトリプロピレングリコールｎ
−ブチルエーテルである。現像液は非現像液で希釈されてもよい。ここで使用さ
れる「非現像液」の用語は、シリコーン層に浸透せず、及び／又は、露光領域を
選択的に溶解又は分散させないあらゆる液体を意味することを意図する。非現像
液にはポリプロピレングリコール及び脂肪族炭化水素溶媒等の液体が含まれる。
具体的な脂肪族炭化水素溶媒はヘプタン及びエクソンケミカル社（Exxon Chemic
al Company）のイソパールシリーズ（isoPar series）である。
【００３５】 典型的には、現像液を含むアプリケーターでシリコーン層を払拭又は摩擦する
ことによって現像液が画像化されたウォーターレス板に塗布される。現像操作中
、現像液はシリコーン層を透過し、赤外線吸収層の画像化領域を溶解又は分散さ
せ、払拭動作によってシリコーン層の積層領域と共に可溶化領域が物理的に除去
される。若しくは、画像化されたウォーターレス板は現像液でブラシ処理されて
もよく、又は、可溶化領域を除去するに十分な力でシリコーン層にスプレーして
塗布されてもよい。どちらの場合でも、現像後には、インク受容性である無被覆
の領域と、事実上インク非受容性である、赤外放射に露光されてないシリコーン
層の相補的な領域を有する印刷版が製造される。現像液は室温で塗布されてもよ
く、または、約２５℃〜約５０℃の高い温度で塗布されてもよい。好ましくは、
現像剤は約３５℃〜約４０℃の温度で塗布される。現像完了後、板上の残留現像
液は非露光領域のシリコーン層へのダメージを回避するために非現像洗浄液で除
去される。適当な洗浄液には、水性界面活性剤溶液、ポリプロピレングリコール
及び脂肪族炭化水素溶媒が含まれる。
ことによって現像液が画像化されたウォーターレス板に塗布される。現像操作中
、現像液はシリコーン層を透過し、赤外線吸収層の画像化領域を溶解又は分散さ
せ、払拭動作によってシリコーン層の積層領域と共に可溶化領域が物理的に除去
される。若しくは、画像化されたウォーターレス板は現像液でブラシ処理されて
もよく、又は、可溶化領域を除去するに十分な力でシリコーン層にスプレーして
塗布されてもよい。どちらの場合でも、現像後には、インク受容性である無被覆
の領域と、事実上インク非受容性である、赤外放射に露光されてないシリコーン
層の相補的な領域を有する印刷版が製造される。現像液は室温で塗布されてもよ
く、または、約２５℃〜約５０℃の高い温度で塗布されてもよい。好ましくは、
現像剤は約３５℃〜約４０℃の温度で塗布される。現像完了後、板上の残留現像
液は非露光領域のシリコーン層へのダメージを回避するために非現像洗浄液で除
去される。適当な洗浄液には、水性界面活性剤溶液、ポリプロピレングリコール
及び脂肪族炭化水素溶媒が含まれる。
【００３６】
本発明のウォーターレスレーザー画像形成可能印刷板が下記の実施例によって
例証されるが、それによって制限を受けることを意図するものではない。
例証されるが、それによって制限を受けることを意図するものではない。
【００３７】実施例１ ポリウレタン溶液（Ｉ）の調製 ９８．２ｇ（０．３９３モル）の４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネー
トが３５０ｇの乾燥２−ブタノンに室温（約２５℃）で均一な乳状の分散物が得
られるまで分散された。次に、５１．８ｇ（０．３９３モル）の３−アリロキシ
プロパン−１，２−ジオールが、混合物の温度が４０℃以下に維持されるような
速度でフラスコに添加された。次に、乾燥２−ブタノン中の５％ジブチル錫ジラ
ウレート溶液３ｇも、混合物の温度が４０℃以下に維持されるような速度で添加
された。混合物は更に２時間、外部加熱せずに撹拌された。最後に、反応が６０
℃で完結された。反応の完結が赤外スペクトルのＮＣＯ吸収帯の消失によって示
された。濾過後、生成溶液は３０％のポリウレタン樹脂を含んでおり、わずかに
濁っていた。
トが３５０ｇの乾燥２−ブタノンに室温（約２５℃）で均一な乳状の分散物が得
られるまで分散された。次に、５１．８ｇ（０．３９３モル）の３−アリロキシ
プロパン−１，２−ジオールが、混合物の温度が４０℃以下に維持されるような
速度でフラスコに添加された。次に、乾燥２−ブタノン中の５％ジブチル錫ジラ
ウレート溶液３ｇも、混合物の温度が４０℃以下に維持されるような速度で添加
された。混合物は更に２時間、外部加熱せずに撹拌された。最後に、反応が６０
℃で完結された。反応の完結が赤外スペクトルのＮＣＯ吸収帯の消失によって示
された。濾過後、生成溶液は３０％のポリウレタン樹脂を含んでおり、わずかに
濁っていた。
【００３８】実施例２ ポリウレタン溶液の調製（ＩＩ） ９８．０ｇ（０．３９２モル）の４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネー
トが２５０ｇの乾燥２−ブタノンに６０℃で溶解された。次に、３４．１ｇ（０
．２５８モル）の３−アリロキシプロパン−１，２−ジオール、１７．９ｇ（０
．１３４モル）を含む溶液、５０ｇの２−ブタノン中の２，２−ビス（ヒドロキ
シメチル）プロピオン酸、及び、乾燥２−ブタノン中の５％ジブチル錫ジラウレ
ート３ｇと予め混合された５０ｇのＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミドが、混合物
の温度が６５℃以下に維持される速度でフラスコに滴下された。混合物は赤外ス
ペクトル中のＮＣＯ吸収帯の消失によって反応の完結が示されるまで６０℃で撹
拌された。生成物溶液は３０％のポリウレタン樹脂を含んでおり、使用前に濾紙
を通して濾過された。
トが２５０ｇの乾燥２−ブタノンに６０℃で溶解された。次に、３４．１ｇ（０
．２５８モル）の３−アリロキシプロパン−１，２−ジオール、１７．９ｇ（０
．１３４モル）を含む溶液、５０ｇの２−ブタノン中の２，２−ビス（ヒドロキ
シメチル）プロピオン酸、及び、乾燥２−ブタノン中の５％ジブチル錫ジラウレ
ート３ｇと予め混合された５０ｇのＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミドが、混合物
の温度が６５℃以下に維持される速度でフラスコに滴下された。混合物は赤外ス
ペクトル中のＮＣＯ吸収帯の消失によって反応の完結が示されるまで６０℃で撹
拌された。生成物溶液は３０％のポリウレタン樹脂を含んでおり、使用前に濾紙
を通して濾過された。
【００３９】 実施例３ ポリウレタン溶液（ＩＩＩ）の調製 ４０．０ｇ（０．１６モル）の４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート
及び２７．８ｇ（０．１６モル）のトルエン２，４−ジイソシアネートが２３９
ｇの乾燥２−ブタノンに６０℃で溶解された。次に、乾燥２−ブタノンの５％ジ
ブチル錫ジラウレート溶液１．３ｇと予め混合された２０ｇの２−ブタノン中の
４３．１ｇ（０．３２モル）の３−アリロキシプロパン−１，２−ジオールが、
反応熱による温度上昇が５℃以下に制御される、すなわち混合物の温度が６５℃
以下に維持される温度でフラスコに滴下された。混合物は赤外吸収スペクトルの
ＮＣＯ吸収帯の消失によって反応の完結が示されるまで６０℃で撹拌された。３
０％のポリウレタン樹脂を含む生成物溶液は使用前に濾過された。
及び２７．８ｇ（０．１６モル）のトルエン２，４−ジイソシアネートが２３９
ｇの乾燥２−ブタノンに６０℃で溶解された。次に、乾燥２−ブタノンの５％ジ
ブチル錫ジラウレート溶液１．３ｇと予め混合された２０ｇの２−ブタノン中の
４３．１ｇ（０．３２モル）の３−アリロキシプロパン−１，２−ジオールが、
反応熱による温度上昇が５℃以下に制御される、すなわち混合物の温度が６５℃
以下に維持される温度でフラスコに滴下された。混合物は赤外吸収スペクトルの
ＮＣＯ吸収帯の消失によって反応の完結が示されるまで６０℃で撹拌された。３
０％のポリウレタン樹脂を含む生成物溶液は使用前に濾過された。
【００４０】 実施例４ ポリウレタン溶液（Ｖ）の調製 ９８．０ｇ（０．３９２モル）の４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネー
トが２５０ｇの乾燥１，４−ジオキサンに室温で溶解された。次に、乾燥２−ブ
タノン中の５％ジブチル錫ジラウレート溶液３ｇと予め混合された、１００ｇの
１，４−ジオキサン中の５２．５ｇ（０．１３４モル）の２，２−ビス（ヒドロ
キシメチル）プロピオン酸を含む溶液が、混合物の温度が３５℃以下に維持され
るような速度でフラスコに滴下された。混合物は更に２時間、外部加熱なしで撹
拌された。最後に、反応が６０℃で完結された。反応の完結は赤外吸収スペクト
ル中のＮＣＯ吸収帯の消失によって示された。生成物溶液は３０％のポリウレタ
ン樹脂を含んでいた。
トが２５０ｇの乾燥１，４−ジオキサンに室温で溶解された。次に、乾燥２−ブ
タノン中の５％ジブチル錫ジラウレート溶液３ｇと予め混合された、１００ｇの
１，４−ジオキサン中の５２．５ｇ（０．１３４モル）の２，２−ビス（ヒドロ
キシメチル）プロピオン酸を含む溶液が、混合物の温度が３５℃以下に維持され
るような速度でフラスコに滴下された。混合物は更に２時間、外部加熱なしで撹
拌された。最後に、反応が６０℃で完結された。反応の完結は赤外吸収スペクト
ル中のＮＣＯ吸収帯の消失によって示された。生成物溶液は３０％のポリウレタ
ン樹脂を含んでいた。
【００４１】実施例５ ブラシ粗面化、陽極酸化及びケイ酸塩処理を用いて調製されたアルミニウムシ
ートに、下記の溶液が８０ｒｐｍで回転するホイールコーター上で塗布された。成分 重量部 ポリウレタン溶液（Ｉ）（実施例１） １０．００ スペクトラＩＲ８３０Ａ1 ０．３４ ソルベントブルー３５2 ０．０７ ２−ブタノン ８０．００
ートに、下記の溶液が８０ｒｐｍで回転するホイールコーター上で塗布された。成分 重量部 ポリウレタン溶液（Ｉ）（実施例１） １０．００ スペクトラＩＲ８３０Ａ1 ０．３４ ソルベントブルー３５2 ０．０７ ２−ブタノン ８０．００
【００４２】 １．スペクトラＩＲ（Spectra IR）８３０Ａはスペクトラカラーズ社（Spectra
Colors Corporation）より入手可能な赤外線吸収染料である。 ２．ソルベントブルー（Solvent Blue）３５はスペクトラカラーズ社から入手可
能な染料である。
Colors Corporation）より入手可能な赤外線吸収染料である。 ２．ソルベントブルー（Solvent Blue）３５はスペクトラカラーズ社から入手可
能な染料である。
【００４３】 １１０℃で２分乾燥後、８０ｒｐｍで回転するホイールコーターによってシリ
コーン被覆物が塗布された。シリコーン被覆物は下記から構成されていた。成分 重量部 ＰＳ２２５3 ２．０ ＳＬ６０２０4 ０．２ ＳＬ６０４０5 ０．０６ ＰＣ０７５6 ０．０６ イソパールＥ7 ７０．０
コーン被覆物が塗布された。シリコーン被覆物は下記から構成されていた。成分 重量部 ＰＳ２２５3 ２．０ ＳＬ６０２０4 ０．２ ＳＬ６０４０5 ０．０６ ＰＣ０７５6 ０．０６ イソパールＥ7 ７０．０
【００４４】 ３．ＰＳ２２５はユナイテッドケミカル（United Chemical）の、ポリジメチル シロキサン主鎖に沿ってビニル基がランダムに分散したシリコーンゴムである。 ４．ＳＬ６０２０はヒドロメチルシロキサンポリマーであり、ＧＥシリコーンの
製品である。 ５．ＳＬ６０４０はＧＥシリコーンの揮発性阻害剤製品である。 ６．ＰＣ０７５はユナイテッドケミカルの白金錯体である。 ７．イソパールＥ（isoPar E）はエクソンケミカル社のイソパラフィン溶媒であ
る。
製品である。 ５．ＳＬ６０４０はＧＥシリコーンの揮発性阻害剤製品である。 ６．ＰＣ０７５はユナイテッドケミカルの白金錯体である。 ７．イソパールＥ（isoPar E）はエクソンケミカル社のイソパラフィン溶媒であ
る。
【００４５】 シリコーン被覆物は１２５℃、２分間で硬化された。得られた板は次いでクレ
オトレンドセッター（Creo Trendsetter）によって１２０ｍＪ／ｃｍ2で（レー ザーパワー：８．５Ｗ／ｃｍ2；ドラム速度：１５５ｒｐｍ）画像形成された。 レーザー画像は殆ど見えなかった。画像形成された板は、レーザー照射された領
域のシリコーン層とポリウレタン層が完全に除去されるまで、トリプロピレング
リコールｎ−ブチルエーテル（Dowanol TPNB；ダウ・ケミカル社（Dow Chemical
Company）より入手可能）に浸した柔らかいパッドで擦られた。現像後の板は直
ちに５％のPelex NBL（ハイポイントケミカル社（High Point Chemical Corpora
tion）のｎ−ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム）を含む界面活性剤溶液で
洗浄された。板はサンケミカルDrilithインク「Ｈ」シアン（サンケミカル社か ら入手可能）を備えたサンケミカルＲ＆ＰＨ−１２５給紙プレスで、湿潤システ
ムに湿し水がない状態でテストされた。２０，０００以上の良好な品質の印刷が
得られた。
オトレンドセッター（Creo Trendsetter）によって１２０ｍＪ／ｃｍ2で（レー ザーパワー：８．５Ｗ／ｃｍ2；ドラム速度：１５５ｒｐｍ）画像形成された。 レーザー画像は殆ど見えなかった。画像形成された板は、レーザー照射された領
域のシリコーン層とポリウレタン層が完全に除去されるまで、トリプロピレング
リコールｎ−ブチルエーテル（Dowanol TPNB；ダウ・ケミカル社（Dow Chemical
Company）より入手可能）に浸した柔らかいパッドで擦られた。現像後の板は直
ちに５％のPelex NBL（ハイポイントケミカル社（High Point Chemical Corpora
tion）のｎ−ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム）を含む界面活性剤溶液で
洗浄された。板はサンケミカルDrilithインク「Ｈ」シアン（サンケミカル社か ら入手可能）を備えたサンケミカルＲ＆ＰＨ−１２５給紙プレスで、湿潤システ
ムに湿し水がない状態でテストされた。２０，０００以上の良好な品質の印刷が
得られた。
【００４６】実施例６ ポリウレタン溶液（Ｉ）の代わりにポリウレタン溶液（ＩＩ）が使用された以
外は、実施例５が繰り返された。得られた板はクレオトレンドセッター（Creo T
rendsetter）によって２００ｍＪ／ｃｍ2（レーザーパワー：８．５Ｗ／ｃｍ2；
ドラム速度；９３．１ｒｐｍ）で画像化された。レーザー画像はわずかに目に見
えるものであった。画像形成された板は、レーザー照射された領域のシリコーン
層とポリウレタン層が完全に除去されるまで、トリプロピレングリコールｎ−ブ
チルエーテル（Dowanol TPNB）に浸した柔らかいパッドで擦られた。現像後の板
は直ちに５ｗｔ％のPelex NBL（ハイポイントケミカル社より入手可能なｎ−ブ チルナフタレンスルホン酸ナトリウム）を含む界面活性剤溶液で洗浄された。板
は、インク撥性の非画像領域としての耐久性のあるシリコーン表面によって囲繞
された、インク受容性画像領域としての曝露された酸化アルミニウムを有する高
い解像度の画像を含んでいた。
外は、実施例５が繰り返された。得られた板はクレオトレンドセッター（Creo T
rendsetter）によって２００ｍＪ／ｃｍ2（レーザーパワー：８．５Ｗ／ｃｍ2；
ドラム速度；９３．１ｒｐｍ）で画像化された。レーザー画像はわずかに目に見
えるものであった。画像形成された板は、レーザー照射された領域のシリコーン
層とポリウレタン層が完全に除去されるまで、トリプロピレングリコールｎ−ブ
チルエーテル（Dowanol TPNB）に浸した柔らかいパッドで擦られた。現像後の板
は直ちに５ｗｔ％のPelex NBL（ハイポイントケミカル社より入手可能なｎ−ブ チルナフタレンスルホン酸ナトリウム）を含む界面活性剤溶液で洗浄された。板
は、インク撥性の非画像領域としての耐久性のあるシリコーン表面によって囲繞
された、インク受容性画像領域としての曝露された酸化アルミニウムを有する高
い解像度の画像を含んでいた。
【００４７】実施例７ 実施例５で使用されたスペクトラＩＲ８３０Ａに代えてエポライトＩＩＩ−１
７８（エポライト社より入手可能）を用い、ソルベントブルー３５を省略した以
外は実施例５が繰り返された。次いで、得られた板はガーバークレセント（Gerb
er Crescent）４２Ｔによって２２０ｍＪ／ｃｍ2で画像化された。レーザー画像
は殆ど目に見えなかったが、板がDowanol TPNBに浸した柔らかいパッドで擦られ
たときに完全に現像された。現像後の板は直ちに５ｗｔ％のPelex NBL（ｎ−ブ チルナフタレンスルホン酸ナトリウム）を含む界面活性剤溶液で洗浄された。板
は、インク撥性の非画像領域としての耐久性のあるシリコーン表面によって囲繞
された、インク受容性画像領域としての曝露された酸化アルミニウムを有する高
解像度の画像を含んでいた。
７８（エポライト社より入手可能）を用い、ソルベントブルー３５を省略した以
外は実施例５が繰り返された。次いで、得られた板はガーバークレセント（Gerb
er Crescent）４２Ｔによって２２０ｍＪ／ｃｍ2で画像化された。レーザー画像
は殆ど目に見えなかったが、板がDowanol TPNBに浸した柔らかいパッドで擦られ
たときに完全に現像された。現像後の板は直ちに５ｗｔ％のPelex NBL（ｎ−ブ チルナフタレンスルホン酸ナトリウム）を含む界面活性剤溶液で洗浄された。板
は、インク撥性の非画像領域としての耐久性のあるシリコーン表面によって囲繞
された、インク受容性画像領域としての曝露された酸化アルミニウムを有する高
解像度の画像を含んでいた。
【００４８】 実施例８ 下記のシリコーン被覆物が使用された以外は実施例５が繰り返された。成分 重量部 ＰＳ４４５8 ２．０ ＳＬ６０２０ ０．２ ＳＬ６０４０ ０．０６ ＰＣ０７５ ０．０６ イソパールＥ ７０．０
【００４９】 ８．ＰＳ４４５は、ユナイテッドケミカル社のビニル末端ポリジメチルシロキサ
ンである。
ンである。
【００５０】 シリコーン被覆物は１２５℃で２分間硬化された。得られた板はクレオトレン
ドセッター（Creo Trendsetter）によって２００ｍＪ／ｃｍ2（レーザーパワー ：８．５Ｗ／ｃｍ2；ドラム速度；９３．１ｒｐｍ）で画像化された。レーザー 画像はわずかに目に見えるものであった。画像形成された板は、レーザー照射さ
れた領域のシリコーン層とポリウレタン層が完全に除去されるまで、トリプロピ
レングリコールｎ−ブチルエーテル（Dowanol TPNB）に浸した柔らかいパッドで
擦られた。現像後の板は直ちに５％のPelex NBL（ｎ−ブチルナフタレンスルホ ン酸ナトリウム）を含む界面活性剤溶液で洗浄された。板は、インク撥性の非画
像領域としての耐久性のあるシリコーン表面によって囲繞された、インク受容性
画像領域としての曝露された酸化アルミニウムを有する高解像度の画像を含んで
いた。
ドセッター（Creo Trendsetter）によって２００ｍＪ／ｃｍ2（レーザーパワー ：８．５Ｗ／ｃｍ2；ドラム速度；９３．１ｒｐｍ）で画像化された。レーザー 画像はわずかに目に見えるものであった。画像形成された板は、レーザー照射さ
れた領域のシリコーン層とポリウレタン層が完全に除去されるまで、トリプロピ
レングリコールｎ−ブチルエーテル（Dowanol TPNB）に浸した柔らかいパッドで
擦られた。現像後の板は直ちに５％のPelex NBL（ｎ−ブチルナフタレンスルホ ン酸ナトリウム）を含む界面活性剤溶液で洗浄された。板は、インク撥性の非画
像領域としての耐久性のあるシリコーン表面によって囲繞された、インク受容性
画像領域としての曝露された酸化アルミニウムを有する高解像度の画像を含んで
いた。
【００５１】実施例９ ブラシ粗面化、陽極酸化及びケイ酸塩処理を用いて調製されたアルミニウムシ
ートに、下記の溶液が８０ｒｐｍで回転するホイールコーター上で塗布された。成分 重量部 ポリウレタン溶液（Ｉ）（実施例１） １０．００ スペクトラＩＲ８３０Ａ ０．３４ ２−ブタノン ８０．００
ートに、下記の溶液が８０ｒｐｍで回転するホイールコーター上で塗布された。成分 重量部 ポリウレタン溶液（Ｉ）（実施例１） １０．００ スペクトラＩＲ８３０Ａ ０．３４ ２−ブタノン ８０．００
【００５２】 １１０℃で２分乾燥後、赤外線吸収層は最初にイソパールＥ中の０．５０％の
３−アミノプロピルチオエチルシランを用いて、８０ｒｐｍで回転するホイール
コーター上で被覆され、次いで、下記のシリコーン溶液で同じ被覆技術を用いて
被覆された。
３−アミノプロピルチオエチルシランを用いて、８０ｒｐｍで回転するホイール
コーター上で被覆され、次いで、下記のシリコーン溶液で同じ被覆技術を用いて
被覆された。
【００５３】成分 重量部 ＰＳ３４５．５9 ５．０ エチルトリアセトキシシラン ０．２５ イソパールＥ中の４ｗｔ％のジブチル錫ジアセテート ０．２５ イソパールＥ ９５．０
【００５４】 ９．ＰＳ３４５．５はユナイテッドケミカル社より入手可能な、シラノール末端
ポリジメチルシロキサンである。
ポリジメチルシロキサンである。
【００５５】 シリコーン被覆物は１２５℃で４分間硬化された。次に、得られた板はクレオ
トレンドセッター（Creo Trendsetter）によって２００ｍＪ／ｃｍ2（レーザー パワー：８．５Ｗ／ｃｍ2；ドラム速度；９３．１ｒｐｍ）で画像化された。レ ーザー画像はわずかに目に見えるものであった。画像形成された板は、レーザー
照射された領域のシリコーン層とポリウレタン層が完全に除去されるまで、トリ
プロピレングリコールｎ−ブチルエーテル（Dowanol TPNB）に浸した柔らかいパ
ッドで擦られたが、シリコーン被覆層の残りはそのままであった。現像後の板は
直ちに５ｗｔ％のPelex NBL（ｎ−ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム）を 含む界面活性剤溶液で洗浄された。板は、インク撥性の非画像領域としての耐久
性のあるシリコーン表面によって囲繞された、インク受容性画像領域としての曝
露された酸化アルミニウムを有する高解像度の画像を含んでいた。
トレンドセッター（Creo Trendsetter）によって２００ｍＪ／ｃｍ2（レーザー パワー：８．５Ｗ／ｃｍ2；ドラム速度；９３．１ｒｐｍ）で画像化された。レ ーザー画像はわずかに目に見えるものであった。画像形成された板は、レーザー
照射された領域のシリコーン層とポリウレタン層が完全に除去されるまで、トリ
プロピレングリコールｎ−ブチルエーテル（Dowanol TPNB）に浸した柔らかいパ
ッドで擦られたが、シリコーン被覆層の残りはそのままであった。現像後の板は
直ちに５ｗｔ％のPelex NBL（ｎ−ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム）を 含む界面活性剤溶液で洗浄された。板は、インク撥性の非画像領域としての耐久
性のあるシリコーン表面によって囲繞された、インク受容性画像領域としての曝
露された酸化アルミニウムを有する高解像度の画像を含んでいた。
【００５６】実施例１０ ポリウレタン溶液Ｉの代わりにポリウレタン溶液ＩＩＩ（実施例３）が使用さ
れた以外は、実施例５が繰り返された。次に、得られた板はクレオトレンドセッ
ター（Creo Trendsetter）によって２００ｍＪ／ｃｍ2（レーザーパワー：８． ５Ｗ／ｃｍ2；ドラム速度；９３．１ｒｐｍ）で画像化された。レーザー画像は わずかに目に見えるものであった。画像形成された板は、レーザー照射された領
域のシリコーン層とポリウレタン層が完全に除去されるまで、トリプロピレング
リコールｎ−ブチルエーテル（Dowanol TPNB）に浸した柔らかいパッドで擦られ
た。現像後の板は直ちに５ｗｔ％のPelex NBL（ｎ−ブチルナフタレンスルホン 酸ナトリウム）を含む界面活性剤溶液で洗浄された。板は、インク撥性の非画像
領域としての耐久性のあるシリコーン表面によって囲繞された、インク受容性画
像領域としての曝露された酸化アルミニウムを有する高い解像度の画像を含んで
いた。
れた以外は、実施例５が繰り返された。次に、得られた板はクレオトレンドセッ
ター（Creo Trendsetter）によって２００ｍＪ／ｃｍ2（レーザーパワー：８． ５Ｗ／ｃｍ2；ドラム速度；９３．１ｒｐｍ）で画像化された。レーザー画像は わずかに目に見えるものであった。画像形成された板は、レーザー照射された領
域のシリコーン層とポリウレタン層が完全に除去されるまで、トリプロピレング
リコールｎ−ブチルエーテル（Dowanol TPNB）に浸した柔らかいパッドで擦られ
た。現像後の板は直ちに５ｗｔ％のPelex NBL（ｎ−ブチルナフタレンスルホン 酸ナトリウム）を含む界面活性剤溶液で洗浄された。板は、インク撥性の非画像
領域としての耐久性のあるシリコーン表面によって囲繞された、インク受容性画
像領域としての曝露された酸化アルミニウムを有する高い解像度の画像を含んで
いた。
【００５７】実施例１１ ポリウレタン粉末（Ｖ）の調製 ５１ｇのＮ−メチルピロリドン及び２０４ｇの乾燥アセトンが機械的撹拌子及
び窒素パージを備えた５００ｍｌのフラスコ中で混合された。６３．７ｇ（０．
２５０モル）の４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネートが添加されｔ、混
合物は６０℃に加熱された。溶液は５０℃でクリアになった。６０℃で、４５／
７ｇ（０．２６３モル）のトリメチロール−プロパンアリルエーテルが１時間に
わたって添加された。２時間半後、乾燥２−ブタノン中のジブチル錫ジラウレー
ト５％溶液の０．５５ｇが添加された。更に１時間及び１時間半後、反応混合物
は室温へ冷却され、５ｋｇの氷／水混合物（重量で１：３）に注入された。沈殿
したポリウレタンは収集され、室温で乾燥されてポリウレタン粉末（Ｖ）とされ
た。
び窒素パージを備えた５００ｍｌのフラスコ中で混合された。６３．７ｇ（０．
２５０モル）の４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネートが添加されｔ、混
合物は６０℃に加熱された。溶液は５０℃でクリアになった。６０℃で、４５／
７ｇ（０．２６３モル）のトリメチロール−プロパンアリルエーテルが１時間に
わたって添加された。２時間半後、乾燥２−ブタノン中のジブチル錫ジラウレー
ト５％溶液の０．５５ｇが添加された。更に１時間及び１時間半後、反応混合物
は室温へ冷却され、５ｋｇの氷／水混合物（重量で１：３）に注入された。沈殿
したポリウレタンは収集され、室温で乾燥されてポリウレタン粉末（Ｖ）とされ
た。
【００５８】実施例１２ ポリウレタン溶液Ｉの代わりに３ｇのポリウレタン粉末Ｖ（実施例１１）が使
用された以外は、実施例５が繰り返された。次に、得られた板はクレオトレンド
セッター（Creo Trendsetter）によって２００ｍＪ／ｃｍ2（レーザーパワー： ８．５Ｗ／ｃｍ2；ドラム速度；９３．１ｒｐｍ）で画像化された。レーザー画 像はわずかに目に見えるものであった。画像形成された板は、レーザー照射され
た領域のシリコーン層とポリウレタン層が完全に除去されるまで、トリプロピレ
ングリコールｎ−ブチルエーテル（Dowanol TPNB）に浸した柔らかいパッドで擦
られた。現像後の板は直ちに５ｗｔ％のPelex NBL（ハイポイントケミカル社よ り入手可能なｎ−ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム）を含む界面活性剤溶
液で洗浄された。板は、インク撥性の非画像領域としての耐久性のあるシリコー
ン表面によって囲繞された、インク受容性画像領域としての曝露された酸化アル
ミニウムを有する高い解像度の画像を含んでいた。
用された以外は、実施例５が繰り返された。次に、得られた板はクレオトレンド
セッター（Creo Trendsetter）によって２００ｍＪ／ｃｍ2（レーザーパワー： ８．５Ｗ／ｃｍ2；ドラム速度；９３．１ｒｐｍ）で画像化された。レーザー画 像はわずかに目に見えるものであった。画像形成された板は、レーザー照射され
た領域のシリコーン層とポリウレタン層が完全に除去されるまで、トリプロピレ
ングリコールｎ−ブチルエーテル（Dowanol TPNB）に浸した柔らかいパッドで擦
られた。現像後の板は直ちに５ｗｔ％のPelex NBL（ハイポイントケミカル社よ り入手可能なｎ−ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム）を含む界面活性剤溶
液で洗浄された。板は、インク撥性の非画像領域としての耐久性のあるシリコー
ン表面によって囲繞された、インク受容性画像領域としての曝露された酸化アル
ミニウムを有する高い解像度の画像を含んでいた。
【００５９】実施例１３−１６ 実施例５のウォーターレス板がクレオトレンドセッター（Creo Trendsetter）
によって２００ｍＪ／ｃｍ2（レーザーパワー：８．５Ｗ／ｃｍ2；ドラム速度；
９３．１ｒｐｍ）で画像化され、次いで、下記表の現像剤によって現像された。
によって２００ｍＪ／ｃｍ2（レーザーパワー：８．５Ｗ／ｃｍ2；ドラム速度；
９３．１ｒｐｍ）で画像化され、次いで、下記表の現像剤によって現像された。
【００６０】ＥＸ 現像剤 １３ ２００ｇのポリプロピレングリコール10（mol.wt.725） 及び１００ｇのスルファドン（Surfadone）ＬＰ３００11 １４ ２００ｇのイソパール（isoPar）Ｖ12及び１００ｇのスルファ ドンＬＰ３００11 １５ ４００ｇのポリプロピレングリコール10（mol.Wt.725） 及び１００ｇのエタノール １６ トリプロピレングリコールメチルエーテル（ダウ・ケミカル社 より入手可能なDowanol TPM）
【００６１】 １０．ポリプロピレングリコールはアルドリッチケミカル（Aldrich Chemical）
社より入手可能。 １１．スルファドンＬＰ３００はインターナショナルスペシャリティプロダクツ
（International Speciality Products）社より入手可能なＮ−ドデシルピロリ ドンである。 １２．イソパールＶはエクソンケミカル社のイソパラフィン溶媒である。
社より入手可能。 １１．スルファドンＬＰ３００はインターナショナルスペシャリティプロダクツ
（International Speciality Products）社より入手可能なＮ−ドデシルピロリ ドンである。 １２．イソパールＶはエクソンケミカル社のイソパラフィン溶媒である。
【００６２】 現像後の板は直ちに５ｗｔ％のPelex NBL（ｎ−ブチルナフタレンスルホン酸 ナトリウム）を含む界面活性剤溶液で洗浄された。これらの板は、インク撥性の
非画像領域としての耐久性のあるシリコーン表面によって囲繞された、インク受
容性画像領域としての曝露された酸化アルミニウムを有する高い解像度の画像を
含んでいた。
非画像領域としての耐久性のあるシリコーン表面によって囲繞された、インク受
容性画像領域としての曝露された酸化アルミニウムを有する高い解像度の画像を
含んでいた。
【００６３】実施例１７−２０（比較） 適当な現像剤を選択することの重要性を示すために、実施例５のウォーターレ
ス板がCreo Trendsetterによって２００ｍＪ／ｃｍ2（レーザーパワー：８５． ；ドラム速度；９３．１ｒｐｍ）で画像化され、下記表に示される次の比較現像
剤で現像された。
ス板がCreo Trendsetterによって２００ｍＪ／ｃｍ2（レーザーパワー：８５． ；ドラム速度；９３．１ｒｐｍ）で画像化され、下記表に示される次の比較現像
剤で現像された。
【００６４】ＥＸ 現像剤 結果 １７ ＰＥ４００ 画像形成領域は現像されたが、非画 ユニオンカーハ゛イト゛社のホ゜リエチレンク゛リコール 像領域のシリコーンは損傷を受けた １８ ホ゜リフ゜ロヒ゜レンク゛リコール(mol.wt.725) レーザー照射領域において、シリコ ーン及びＩＲ吸収層が基板に固着し たままであった １９ エタノール レーザー照射及び非照射領域におい て、シリコーン及びＩＲ吸収層が洗 浄除去された ２０ ２００ｇのホ゜リフ゜ロヒ゜レンク゛リコール 画像形成領域は現像されたが、非画 (mol.Wt.725)及び１００ｇの 像領域のシリコーンは損傷を受けた ２−メトキシフ゜ロハ゜ノール
【００６５】 ポリウレタン溶液Ｉの代わりにポリウレタン溶液ＩＶが使用された以外は、実
施例５が繰り返された。次に、得られた板はクレオトレンドセッター（Creo Tre
ndsetter）によって２００ｍＪ／ｃｍ2（レーザーパワー：８５．；ドラム速度 ；９３．１ｒｐｍ）で画像化された。レーザー照射領域のシリコーン被覆層はよ
り光沢のない状態となった。結果は下記の表に要約されている。
施例５が繰り返された。次に、得られた板はクレオトレンドセッター（Creo Tre
ndsetter）によって２００ｍＪ／ｃｍ2（レーザーパワー：８５．；ドラム速度 ；９３．１ｒｐｍ）で画像化された。レーザー照射領域のシリコーン被覆層はよ
り光沢のない状態となった。結果は下記の表に要約されている。
【００６６】ＥＸ 現像剤 結果 ２１ Dowanol TPNB レーザー照射領域において、シリコ ーン及びＩＲ吸収層が基板に固着し たままであった。過剰の摩擦はレー ザー非照射領域のシリコーン被覆層 を損傷させた ２２ Dowanol TPM レーザー照射領域において、シリコ ーン及びＩＲ吸収層が基板に固着し たままであった ２３ エタノール レーザー照射及び非照射領域におい て、シリコーン及びＩＲ吸収層が洗 浄除去された ２４ ２００ｇのホ゜リフ゜ロヒ゜レンク゛リコール レーザー照射又は非照射領域のＩＲ (mol.Wt.725)及び１００ｇの 吸収層は非溶解状態のままであった スルファドンＬＰ３００ ；レーザー照射領域のシリコーンが 非照射領域のものよりも僅かに速く 除去された ２５ ２００ｇのイソパールＶ レーザー照射又は非照射領域のＩＲ 及び１００ｇの 吸収層は非溶解状態のままであった スルファドンＬＰ３００ ；レーザー照射領域のシリコーンは 除去されたが、非照射領域のシリコ ーンは部分的に損傷を受けた。 ２６ ４００ｇのホ゜リフ゜ロヒ゜レンク゛リコール レーザー照射又は非照射領域のＩＲ (mol.Wt.725)及び１００ｇの 吸収層は非溶解状態のままであった エタノール ；レーザー非照射領域のシリコーン が照射領域のものよりも僅かに速く 除去された
【００６７】実施例２７ レーザー照射領域のシリコーン及び下地層が、浸漬部及びブラシ部にトリプロ
ピレングリコールｎ−ブチルエーテルを充填し、染色部に１ｗｔ％のPlexNBLの 水性溶液を充填して変更を加えた東レモデルＴＷＬ８６０ＫＩＩプロセッサー（
東レ株式会社より入手可能）を用いて除去された以外は実施例５が繰り返された
。このプロセッサーでは、レーザーで画像化された印刷板が浸漬部、次にブラシ
部、そして最後に染色部を通過して搬送される。浸漬温度が３８℃に、ブラシ温
度が３２℃にセットされ、そして、板が２ｆｔ／ｍｉｎで搬送されたときに高品
質の印刷板が得られ、そこではインチ当たり１５０ラインで２〜９８％のハーフ
トーンドットの解像度が得られた。
ピレングリコールｎ−ブチルエーテルを充填し、染色部に１ｗｔ％のPlexNBLの 水性溶液を充填して変更を加えた東レモデルＴＷＬ８６０ＫＩＩプロセッサー（
東レ株式会社より入手可能）を用いて除去された以外は実施例５が繰り返された
。このプロセッサーでは、レーザーで画像化された印刷板が浸漬部、次にブラシ
部、そして最後に染色部を通過して搬送される。浸漬温度が３８℃に、ブラシ温
度が３２℃にセットされ、そして、板が２ｆｔ／ｍｉｎで搬送されたときに高品
質の印刷板が得られ、そこではインチ当たり１５０ラインで２〜９８％のハーフ
トーンドットの解像度が得られた。
【００６８】 前記された本発明の教示の利益を有する当業者であれば、それに対して多くの
改変を加えることができる。これらの改変は別紙の請求の範囲に記載された本発
明の範囲内に含まれるものとして解釈されるべきものである。
改変を加えることができる。これらの改変は別紙の請求の範囲に記載された本発
明の範囲内に含まれるものとして解釈されるべきものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＣＡ，ＣＮ，Ｊ Ｐ (72)発明者 ティ・ンギュイェン・ドゥ アメリカ合衆国・ニュージャージー・ 07052・ウエスト・オレンジ・レッシン グ・ロード・82 (72)発明者 リチャード・エム・グッドマン アメリカ合衆国・ニューヨーク・10510・ ブライアークリフ・マナー・アスピンウォ ール・ロード・38 (72)発明者 シャシカント・サライヤ アメリカ合衆国・ニュージャージー・ 08857・パーリン・アムハースト・コー ト・５
Claims (33)
- 【請求項１】 Ａ）基板； Ｂ）前記基板に隣接する内表面、及び、外表面を有する複合層構造であって、 ａ）基板表面に当接され、少なくとも１つの光熱変換物質、及び、アリル 基を含む熱可塑性ポリウレタンから実質的になる第１の層；及び ｂ）架橋シリコーンポリマーからなるシリコーン層； を含む複合層構造； を含む乾平版印刷板前駆体要素。
- 【請求項２】前記熱可塑性ポリウレタンが、ペンデント型アリル基を含み、
且つ、ジイソシアネートと、少なくとも１つのアリル官能性ジオールを含むジオ
ール物質との反応によって調製される、請求項１の要素。 - 【請求項３】前記ジイソシアネートがアリールジイソシアネートである、請
求項２の要素。 - 【請求項４】前記アリールジイソシアネートが、２，４−トルエンジイソシ
アネート；２，６−トルエンジイソシアネート；ｐ−キシレンジイソシアネート
；ｍ−キシレンジイソシアネート；テトラメチル−キシレンジイソシアネート；
４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート；１，５−ナフタレンジイソシア
ネート；及び、３，３’−ジメチルビフェニル−４，４’−ジイソシアネートか
らなる群から選択される１つ又はそれ以上の化合物である、請求項３の要素。 - 【請求項５】前記アリールジイソシアネートが４，４’−ジフェニルメタン
ジイソシアネートである、請求項３の要素。 - 【請求項６】前記ジイソシアネートがアルキルジイソシアネートである、請
求項２の要素。 - 【請求項７】前記アルキルジイソシアネートが、ヘキサメチレンジイソシア
ネート；トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート；イソホロンジイソシアネ
ート；４−４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）；メチルシク
ロヘキサン−２，４−ジイソシアネート；メチルシクロヘキサン−２，６−ジイ
ソシアネート；及び、１，３−ビス（イソシアナートメチル）シクロヘキサンか
らなる群から選択される１つ又はそれ以上の化合物である、請求項６の要素。 - 【請求項８】前記ジオール物質の７０％以上がアリル官能性ジオールである
、請求項２の要素。 - 【請求項９】前記アリル官能性ジオールが下記式： ＨＯＣＲ1 2−ＣＲ2（ＯＨ）−ＣＲ3 2−Ｏ−ＣＲ4 2−ＣＲ5＝ＣＲ6 2 ［Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立して水素原子又は１〜４の炭
素原子を含むアルキル基である］で表される、請求項２の要素。 - 【請求項１０】前記アリル官能性ジオールが、３−アリロキシプロパン−１
，２−ジオール；トリメチロールプロパンアリルエーテル；又はその組合せであ
る、請求項２の要素。 - 【請求項１１】前記アリル官能性ジオールが、４，４−ビス−（ヒドロキシ
エチロキシフェニル）ペンタン酸アリル；２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プ
ロパン酸アリル；又はその組合せである、請求項２の要素。 - 【請求項１２】前記ジオール物質が１つ又はそれ以上の非アリル官能性ジオ
ール化合物を含む、請求項２の要素。 - 【請求項１３】前記光熱変換物質が赤外線吸収物質である、請求項１の要素
。 - 【請求項１４】前記赤外線吸収物質が、７００ｎｍ〜１４００ｎｍの間の領
域に吸収帯を有する、染料、顔料又はその組合せである、請求項１３の要素。 - 【請求項１５】前記赤外線吸収物質が、トリアリールアミン、チアゾリウム
、インドリウム、オキサゾリウム、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェ
ン、チオレン金属錯体、スクエアリリウム、クロコネート、シアニン、フタロシ
アニン、メロシアニン、カルコゲノピリロアリーリジン、ビス（カルコゲノピリ
ロ）ポリメチン、オキシインドリジン、キノイド、インドリジン、ピリリウム、
チアジン、アズレニウム、キサンテン、カーボンブラック及び暗無機顔料からな
る群から選択されるタイプの染料又は顔料である、請求項１３の要素。 - 【請求項１６】前記架橋シリコーンポリマーが、ビニル官能性ポリシロキサ
ンコポリマーと、メチルヒドロシロキサンのポリマー又はコポリマーとの反応生
成物である、請求項１の要素。 - 【請求項１７】前記基板がアルミニウムシートである、請求項１の要素。
- 【請求項１８】前記基板及び前記複合層構造の間にプライマー層が存在する
、請求項１の要素。 - 【請求項１９】前記第１の層及び前記シリコーン層の間に接着促進層が存在
する、請求項１の要素。 - 【請求項２０】前記シリコーン層に除去可能な保護層が積層されている、請
求項１の要素。 - 【請求項２１】 I)請求項１乃至２０のいずれかの平版印刷板前駆体要素を準備する工程； II)前記複合層構造を画像形式に熱エネルギーで露光して、現像液に選択的に浸 透可能な露光部分、並びに、相補的な非露光部分を当該複合層構造に提供する工
程；及び III)前記露光部分を除去するために前記複合層構造に現像液を適用し、無被覆の
インク受容性領域及び前記シリコーン層の相補的なインク撥性領域を有する画像
形成された平版印刷板を製造する工程； を順に含む、平版印刷板の形成方法。 - 【請求項２２】前記光熱変換物質が赤外線吸収化合物であり、前記画像形式
の露光が赤外線放射レーザーを用いて行われる、請求項２１の方法。 - 【請求項２３】前記シリコーン層に除去可能な保護層が積層されており、当
該除去可能な保護層は、(III)前記現像液を前記平版印刷板に塗布する前に当該 シリコーン層から除去される、請求項２１の方法。 - 【請求項２４】前記現像液がプロピレングリコールエーテルを含む、請求項
２１の方法。 - 【請求項２５】前記プロピレングリコールエーテルがトリプロピレングリコ
ール−ｎ−ブチルエーテルである、請求項２４の方法。 - 【請求項２６】前記現像液が非現像液で希釈される、請求項２４の方法。
- 【請求項２７】前記非現像液がポリプロピレングリコール、脂肪族炭化水素
溶媒、又はその組合せである、請求項２６の方法。 - 【請求項２８】前記現像液を含むアプリケーターで前記シリコーン層を払拭
又は摩擦することによって前記現像液が前記複合層構造に適用される、請求項２
１の方法。 - 【請求項２９】前記現像液に浸漬し、次いで、現像液を含むアプリケーター
で前記シリコーン層を払拭又は摩擦することによって前記現像液が前記複合層構
造に適用される、請求項２１の方法。 - 【請求項３０】前記現像液が約２５℃〜約５０℃の温度で前記複合層構造に
適用される、請求項２１の方法。 - 【請求項３１】前記現像液が約３５℃〜約４０℃の温度で前記複合層構造に
適用される、請求項２１の方法。 - 【請求項３２】工程(III)後に、前記無被覆のインク受容性領域及び相補的 なインク撥性領域に非現像洗浄液を適用することによって、前記画像形成された
平版印刷板が洗浄される、請求項２１の方法。 - 【請求項３３】前記非現像洗浄液が水性界面活性剤溶液、ポリプロピレング
リコール又は炭化水素溶媒である、請求項３２の方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US5788397P | 1997-09-03 | 1997-09-03 | |
| US09/128,887 | 1998-08-04 | ||
| US09/128,887 US5919600A (en) | 1997-09-03 | 1998-08-04 | Thermal waterless lithographic printing plate |
| US60/057,883 | 1998-08-04 | ||
| PCT/US1998/017979 WO1999011467A1 (en) | 1997-09-03 | 1998-08-31 | Thermal waterless lithographic printing plate |
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|---|---|
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Family
ID=26736989
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000508540A Withdrawn JP2001514401A (ja) | 1997-09-03 | 1998-08-31 | サーマルウォーターレス平版印刷板 |
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