JPH11221977A - 直描型印刷版原版 - Google Patents
直描型印刷版原版Info
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- JPH11221977A JPH11221977A JP10317679A JP31767998A JPH11221977A JP H11221977 A JPH11221977 A JP H11221977A JP 10317679 A JP10317679 A JP 10317679A JP 31767998 A JP31767998 A JP 31767998A JP H11221977 A JPH11221977 A JP H11221977A
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- Japan
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/16—Waterless working, i.e. ink repelling exposed (imaged) or non-exposed (non-imaged) areas, not requiring fountain solution or water, e.g. dry lithography or driography
Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】レーザー光照射後の煩雑な工程を必要としな
い、取扱い性に優れた直描型平版印刷版原版を提供す
る。 【解決手段】基板上に、少なくとも感熱層を有する直描
型印刷版原版において、該感熱層が（ａ）光熱変換物質
と（ｂ）金属キレート化合物を含有する。
い、取扱い性に優れた直描型平版印刷版原版を提供す
る。 【解決手段】基板上に、少なくとも感熱層を有する直描
型印刷版原版において、該感熱層が（ａ）光熱変換物質
と（ｂ）金属キレート化合物を含有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、湿し水を用いずに
印刷が可能な印刷版原版に関するものであり、特にレー
ザー光で直接製版できる直描型水なし平版印刷版原版に
関するものである。
印刷が可能な印刷版原版に関するものであり、特にレー
ザー光で直接製版できる直描型水なし平版印刷版原版に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】製版用フィルムを使用しないで、原稿か
ら直接オフセット印刷版を作製する、いわゆるダイレク
ト製版は、熟練度を必要としない簡易性、短時間で印刷
版が得られる迅速性、多様なシステムから品質とコスト
に応じて選択可能である合理性などの特徴を生かして、
軽印刷業界のみでなく、一般オフセット印刷、グラビア
印刷の分野にも進出し始めている。
ら直接オフセット印刷版を作製する、いわゆるダイレク
ト製版は、熟練度を必要としない簡易性、短時間で印刷
版が得られる迅速性、多様なシステムから品質とコスト
に応じて選択可能である合理性などの特徴を生かして、
軽印刷業界のみでなく、一般オフセット印刷、グラビア
印刷の分野にも進出し始めている。
【０００３】特に最近では、プリプレスシステムやイメ
ージセッター、レーザープリンタなどの出力システムの
急激な進歩によって新しいタイプの各種平版印刷材料が
開発されている。
ージセッター、レーザープリンタなどの出力システムの
急激な進歩によって新しいタイプの各種平版印刷材料が
開発されている。
【０００４】これらの平版印刷版を製版方法から分類す
ると、レーザー光を照射する方法、サーマルヘッドで書
き込む方法、ピン電極で電圧を部分的に印加する方法、
インクジェットでインキ反撥層またはインキ着肉層を形
成する方法などが挙げられる。
ると、レーザー光を照射する方法、サーマルヘッドで書
き込む方法、ピン電極で電圧を部分的に印加する方法、
インクジェットでインキ反撥層またはインキ着肉層を形
成する方法などが挙げられる。
【０００５】なかでも、レーザー光を用いる方法は解像
度、および製版速度の面で他の方式よりも優れており、
その種類も多い。
度、および製版速度の面で他の方式よりも優れており、
その種類も多い。
【０００６】特にヒートモードのタイプのものは、明室
で取り扱えるといった利点があり、また光源となる半導
体レーザーの急激な進歩によって、最近その有用性が見
直されてきている。
で取り扱えるといった利点があり、また光源となる半導
体レーザーの急激な進歩によって、最近その有用性が見
直されてきている。
【０００７】例えば、特開平６−１９９０６４号公報、
ＵＳＰ５３３９７３７号公報、ＵＳＰ５３５３７０５号
公報、ＥＰ０５８０３９３号公報、特開平６−５５７２
３号公報、ＥＰ０５７３０９１号公報、ＵＳＰ５３７８
５８０号公報、特開平７−１６４７７３号公報、特開平
６−１８６７５０号公報、特開平７−３０９００１号公
報、特開平９−１０４１８２号公報、特開平９−１４６
２６４号公報、特開平９−１４６２６５号公報、特開平
９−２３６９２７号公報、特開平９−２４４２２８号公
報、ＥＰＯ６４４０４７号公報、にはレーザー光を光源
として用いる直描型水なし平版印刷版原版およびその製
版方法などが記載されている。
ＵＳＰ５３３９７３７号公報、ＵＳＰ５３５３７０５号
公報、ＥＰ０５８０３９３号公報、特開平６−５５７２
３号公報、ＥＰ０５７３０９１号公報、ＵＳＰ５３７８
５８０号公報、特開平７−１６４７７３号公報、特開平
６−１８６７５０号公報、特開平７−３０９００１号公
報、特開平９−１０４１８２号公報、特開平９−１４６
２６４号公報、特開平９−１４６２６５号公報、特開平
９−２３６９２７号公報、特開平９−２４４２２８号公
報、ＥＰＯ６４４０４７号公報、にはレーザー光を光源
として用いる直描型水なし平版印刷版原版およびその製
版方法などが記載されている。
【０００８】この熱破壊方式の印刷版原版の感熱層は、
レーザー光吸収化合物として主としてカーボンブラック
を用い、熱分解化合物としてニトロセルロースを使用し
ている。そしてこのカーボンブラックがレーザー光を吸
収することによって熱エネルギーに変換され、さらにそ
の熱で感熱層が破壊される。そして最終的に、現像によ
ってこの部分を除去することによって、表面のシリコー
ンゴム層が同時に剥離され、インキ着肉部となる。
レーザー光吸収化合物として主としてカーボンブラック
を用い、熱分解化合物としてニトロセルロースを使用し
ている。そしてこのカーボンブラックがレーザー光を吸
収することによって熱エネルギーに変換され、さらにそ
の熱で感熱層が破壊される。そして最終的に、現像によ
ってこの部分を除去することによって、表面のシリコー
ンゴム層が同時に剥離され、インキ着肉部となる。
【０００９】しかしながらこの印刷版は、感熱層を破壊
して画像を形成することから画線部のセルの深さが深く
なり、微少網点でのインキ着肉性が悪く、インキマイレ
ージが悪いという問題点があった。更に、感熱層を熱破
壊させ易くするために、架橋構造を形成しており印刷版
の耐刷性が劣るという問題もあった。感熱層を柔軟化さ
せると感度が極端に低下し、感熱層の柔軟化は困難であ
った。
して画像を形成することから画線部のセルの深さが深く
なり、微少網点でのインキ着肉性が悪く、インキマイレ
ージが悪いという問題点があった。更に、感熱層を熱破
壊させ易くするために、架橋構造を形成しており印刷版
の耐刷性が劣るという問題もあった。感熱層を柔軟化さ
せると感度が極端に低下し、感熱層の柔軟化は困難であ
った。
【００１０】更にこの印刷版は感度が低く、感熱層を破
壊させるために高いレーザー光の強度が必要という問題
点もあった。
壊させるために高いレーザー光の強度が必要という問題
点もあった。
【００１１】特開平９−１４６２６４号公報では、光熱
変換層中にレーザー光を熱に変換する化合物、フィルム
形成能を有する高分子化合物、光重合開始剤、および光
重合可能なエチレン性不飽和化合物を有し、シリコーン
ゴム層形成後にエネルギー線による全面露光を施すこと
により光熱変換層と、シリコーンゴム層とを反応させた
ネガ型のレーザー感光性湿し水不要平版印刷版原版が提
案されている。
変換層中にレーザー光を熱に変換する化合物、フィルム
形成能を有する高分子化合物、光重合開始剤、および光
重合可能なエチレン性不飽和化合物を有し、シリコーン
ゴム層形成後にエネルギー線による全面露光を施すこと
により光熱変換層と、シリコーンゴム層とを反応させた
ネガ型のレーザー感光性湿し水不要平版印刷版原版が提
案されている。
【００１２】この版材では、シリコーンゴム層塗布後に
全面露光を施すことにより、例えば小林らの文献（例え
ば、“印刷学会論文集，１８，１２８（１９７９）”や
“Ｊｏｕｒｎａｌ oｆ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｏｔｏ
ｇｒａｐｈｉｃ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，ｖｏｌ．
６，ｐｐ．６５−６８”など）に示されている公知の機
構によりシリコーンゴム層と感光層との接着力を向上さ
せ、その結果として、画像再現性、耐傷性に優れた版材
を得ている。しかしながら、前述のように、感光層の柔
軟性と感度のトレードオフ的な関係は存在しており、特
に感度が低いという問題を有していた。
全面露光を施すことにより、例えば小林らの文献（例え
ば、“印刷学会論文集，１８，１２８（１９７９）”や
“Ｊｏｕｒｎａｌ oｆ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｏｔｏ
ｇｒａｐｈｉｃ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，ｖｏｌ．
６，ｐｐ．６５−６８”など）に示されている公知の機
構によりシリコーンゴム層と感光層との接着力を向上さ
せ、その結果として、画像再現性、耐傷性に優れた版材
を得ている。しかしながら、前述のように、感光層の柔
軟性と感度のトレードオフ的な関係は存在しており、特
に感度が低いという問題を有していた。
【００１３】特開平９−２３９９４２号公報では、レー
ザー感応層中に酸を発生する物質と、酸の作用で分解す
る高分子化合物を含有する剥離現像タイプの印刷版が提
案されているが、レーザー光照射の工程と加熱工程とい
う二つの工程が必要になり、また微細な網点の再現性が
悪いという剥離現像固有の問題が存在する。
ザー感応層中に酸を発生する物質と、酸の作用で分解す
る高分子化合物を含有する剥離現像タイプの印刷版が提
案されているが、レーザー光照射の工程と加熱工程とい
う二つの工程が必要になり、また微細な網点の再現性が
悪いという剥離現像固有の問題が存在する。
【００１４】また、特に特開平６−５５７２３号公報、
ＥＰ０５７３０９１号公報、ＵＳＰ５３７８５８０号公
報では、光源としてＮｄ−ＹＡＧレーザーを用いている
ために、露光装置がかなり大がかりなものとなってしま
うといった、別の問題点もあった。
ＥＰ０５７３０９１号公報、ＵＳＰ５３７８５８０号公
報では、光源としてＮｄ−ＹＡＧレーザーを用いている
ために、露光装置がかなり大がかりなものとなってしま
うといった、別の問題点もあった。
【００１５】その他、ＵＳＰ５３７９６９８号公報、特
開平７−３１４９３４号公報、特開平９−２３６９２７
号公報には、金属薄膜を感熱層として用いる直描型水な
し平版印刷版が記載されている。
開平７−３１４９３４号公報、特開平９−２３６９２７
号公報には、金属薄膜を感熱層として用いる直描型水な
し平版印刷版が記載されている。
【００１６】この印刷版材は、感熱層がかなり薄いため
に、非常にシャープな画像が得られ、印刷版の解像度と
いう面では有利であるが、基材と感熱層の接着性が悪く
印刷中に非画線部の感熱層が剥離し、インキが付着し印
刷物上で欠点となるという問題点があった。また、この
印刷版も感熱層を破壊させて画像を形成させることから
画線部のセルが深くなりインキ着肉性やインキマイレー
ジが劣るという問題点があった。
に、非常にシャープな画像が得られ、印刷版の解像度と
いう面では有利であるが、基材と感熱層の接着性が悪く
印刷中に非画線部の感熱層が剥離し、インキが付着し印
刷物上で欠点となるという問題点があった。また、この
印刷版も感熱層を破壊させて画像を形成させることから
画線部のセルが深くなりインキ着肉性やインキマイレー
ジが劣るという問題点があった。
【００１７】以上のようなレーザー光を用いた平版印刷
版の他に、特に直描型水なし平版印刷版に関するものと
して、熱接着型の直描型水なし平版印刷版が考えられ
る。
版の他に、特に直描型水なし平版印刷版に関するものと
して、熱接着型の直描型水なし平版印刷版が考えられ
る。
【００１８】このタイプの版材は、レーザー光照射部の
シリコーンゴム層が選択的に残存し、非画線部として働
くものである。その機構としては、レーザー光照射によ
りシリコーンゴム層とレーザー感応層との接着力、ある
いはレーザー感応層とその下にある基板との接着力が何
らかの形で向上し、その結果として、未照射部のシリコ
ーンゴム層、あるいはシリコーンゴム層とレーザー感応
層がその後の処理により選択的に除去されるというもの
である。
シリコーンゴム層が選択的に残存し、非画線部として働
くものである。その機構としては、レーザー光照射によ
りシリコーンゴム層とレーザー感応層との接着力、ある
いはレーザー感応層とその下にある基板との接着力が何
らかの形で向上し、その結果として、未照射部のシリコ
ーンゴム層、あるいはシリコーンゴム層とレーザー感応
層がその後の処理により選択的に除去されるというもの
である。
【００１９】このようなタイプの版材としては、例えば
特開平９−６８７９４号公報、特開平９−８０７４５号
公報、特開平９−１２０１５７号公報、特開平９−１９
７６５９号公報などが提案されている。
特開平９−６８７９４号公報、特開平９−８０７４５号
公報、特開平９−１２０１５７号公報、特開平９−１９
７６５９号公報などが提案されている。
【００２０】特開平９−１２０１５７号公報で提案され
ている版材は、レーザー光照射により発生した酸を触媒
として感光層の反応を進め、画像を再現するというもの
である。しかしながら、酸発生後、反応を進めるために
は、熱処理という工程が必要であった。さらに、酸発生
後から熱処理までの時間が画像再現性に影響を与えるた
め、画像再現性が不安定となるという問題を有してい
た。
ている版材は、レーザー光照射により発生した酸を触媒
として感光層の反応を進め、画像を再現するというもの
である。しかしながら、酸発生後、反応を進めるために
は、熱処理という工程が必要であった。さらに、酸発生
後から熱処理までの時間が画像再現性に影響を与えるた
め、画像再現性が不安定となるという問題を有してい
た。
【００２１】特開平９−８０７４５号公報、特開平９−
１９７６５９号公報で提案されている版材も、感光層中
に活性光線の照射で酸を発生しうる化合物および酸の存
在下で反応し得る結合を有する化合物が含まれており、
レーザー光照射後、発生した酸を用いて反応を進めるタ
イプであるため、上記と同様の問題を有していた。
１９７６５９号公報で提案されている版材も、感光層中
に活性光線の照射で酸を発生しうる化合物および酸の存
在下で反応し得る結合を有する化合物が含まれており、
レーザー光照射後、発生した酸を用いて反応を進めるタ
イプであるため、上記と同様の問題を有していた。
【００２２】
【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる従来技
術の欠点を改良するため、レーザー光照射後の煩雑な工
程を必要とせずとも、画像再現性の良好な直描型水なし
平版印刷版を提供する。
術の欠点を改良するため、レーザー光照射後の煩雑な工
程を必要とせずとも、画像再現性の良好な直描型水なし
平版印刷版を提供する。
【００２３】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は以下
の構成を有する。
の構成を有する。
【００２４】（１）基板上に少なくとも感熱層を有する
印刷版であって、該感熱層が（ａ）光熱変換物質、およ
び（ｂ）金属キレート化合物を含有することを特徴とす
る直描型印刷版原版。
印刷版であって、該感熱層が（ａ）光熱変換物質、およ
び（ｂ）金属キレート化合物を含有することを特徴とす
る直描型印刷版原版。
【００２５】
【発明の実施の形態】以下に本発明を詳しく説明する。
【００２６】なお、本発明において直描型とは、露光時
にネガあるいはポジのフィルムを用いずに、印刷版上に
直接記録ヘッドから画像形成を行うことを意味する。
にネガあるいはポジのフィルムを用いずに、印刷版上に
直接記録ヘッドから画像形成を行うことを意味する。
【００２７】［感熱層］本発明の直描型印刷版原版は、
レーザー光を照射することにより画像を形成させるた
め、「（ａ）光熱変換物質」を含有することが必要であ
る。
レーザー光を照射することにより画像を形成させるた
め、「（ａ）光熱変換物質」を含有することが必要であ
る。
【００２８】「（ａ）光熱変換物質」としてはレーザー
光を吸収するものであれば特に限定されるものではな
く、例えばカーボンブラック、アニリンブラック、シア
ニンブラックなどの黒色顔料、フタロシアニン、ナフタ
ロシアニン系の緑色顔料、カーボングラファイト、鉄
粉、ジアミン系金属錯体、ジチオール系金属錯体、フェ
ノールチオール系金属錯体、メルカプトフェノール系金
属錯体、結晶水含有無機化合物、硫酸銅、硫化クロム、
珪酸塩化合物や、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化マ
ンガン、酸化鉄、酸化コバルト、酸化タングステンなど
の金属酸化物、これらの金属の水酸化物、硫酸塩、さら
にビスマス、鉄、マグネシウム、アルミの金属粉などの
添加剤を添加することが好ましい。
光を吸収するものであれば特に限定されるものではな
く、例えばカーボンブラック、アニリンブラック、シア
ニンブラックなどの黒色顔料、フタロシアニン、ナフタ
ロシアニン系の緑色顔料、カーボングラファイト、鉄
粉、ジアミン系金属錯体、ジチオール系金属錯体、フェ
ノールチオール系金属錯体、メルカプトフェノール系金
属錯体、結晶水含有無機化合物、硫酸銅、硫化クロム、
珪酸塩化合物や、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化マ
ンガン、酸化鉄、酸化コバルト、酸化タングステンなど
の金属酸化物、これらの金属の水酸化物、硫酸塩、さら
にビスマス、鉄、マグネシウム、アルミの金属粉などの
添加剤を添加することが好ましい。
【００２９】これらのなかでも、光熱変換率、経済性お
よび取り扱い性の面から、カーボンブラックが好まし
い。
よび取り扱い性の面から、カーボンブラックが好まし
い。
【００３０】また上記の物質以外に、赤外線または近赤
外線を吸収する染料も、光熱変換物質として好ましく使
用される。
外線を吸収する染料も、光熱変換物質として好ましく使
用される。
【００３１】これら染料としては４００ｎｍ〜１２００
ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する全ての染料が使用で
きるが、好ましい染料としては、エレクトロニクス用、
記録用色素であるシアニン系、フタロシアニン系、フタ
ロシアニン金属錯体系、ナフタロシアニン系、ナフタロ
シアニン金属錯体系、ジチオール金属錯体系、ナフトキ
ノン系、アントラキノン系、インドフェノール系、イン
ドアニリン系、ピリリウム系、チオピリリウム系、スク
ワリリウム系、クロコニウム系、ジフェニルメタン系、
トリフェニルメタン系、トリフェニルメタンフタリド
系、トリアリルメタン系、フェノチアジン系、フェノキ
サジン系、フルオラン系、チオフルオラン系、キサンテ
ン系、インドリルフタリド系、スピロピラン系、アザフ
タリド系、クロメノピラゾール系、ロイコオーラミン
系、ローダミンラクタム系、キナゾリン系、ジアザキサ
ンテン系、ビスラクトン系、フルオレノン系、モノアゾ
系、ケトンイミン系、ジズアゾ系、ポリメチン系、オキ
サジン系、ニグロシン系、ビスアゾ系、ビスアゾスチル
ベン系、ビスアゾオキサジアゾール系、ビスアゾフルオ
レノン系、ビスアゾヒドロキシペリノン系、アゾクロム
錯塩系、トリスアゾトリフェニルアミン系、チオインジ
ゴ系、ペリレン系、ニトロソ系、１：２型金属錯塩系、
分子間型ＣＴ系、キノリン系、キノフタロン系、フルギ
ド系の酸性染料、塩基性染料、色素、油溶性染料や、ト
リフェニルメタン系ロイコ色素、カチオン染料、アゾ系
分散染料、ベンゾチオピラン系スピロピラン、３，９−
ジブロモアントアントロン、インダンスロン、フェノー
ルフタレイン、スルホフタレイン、エチルバイオレッ
ト、メチルオレンジ、フルオレッセイン、メチルビオロ
ゲン、メチレンブルー、ジムロスベタインなどが挙げら
れる。
ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する全ての染料が使用で
きるが、好ましい染料としては、エレクトロニクス用、
記録用色素であるシアニン系、フタロシアニン系、フタ
ロシアニン金属錯体系、ナフタロシアニン系、ナフタロ
シアニン金属錯体系、ジチオール金属錯体系、ナフトキ
ノン系、アントラキノン系、インドフェノール系、イン
ドアニリン系、ピリリウム系、チオピリリウム系、スク
ワリリウム系、クロコニウム系、ジフェニルメタン系、
トリフェニルメタン系、トリフェニルメタンフタリド
系、トリアリルメタン系、フェノチアジン系、フェノキ
サジン系、フルオラン系、チオフルオラン系、キサンテ
ン系、インドリルフタリド系、スピロピラン系、アザフ
タリド系、クロメノピラゾール系、ロイコオーラミン
系、ローダミンラクタム系、キナゾリン系、ジアザキサ
ンテン系、ビスラクトン系、フルオレノン系、モノアゾ
系、ケトンイミン系、ジズアゾ系、ポリメチン系、オキ
サジン系、ニグロシン系、ビスアゾ系、ビスアゾスチル
ベン系、ビスアゾオキサジアゾール系、ビスアゾフルオ
レノン系、ビスアゾヒドロキシペリノン系、アゾクロム
錯塩系、トリスアゾトリフェニルアミン系、チオインジ
ゴ系、ペリレン系、ニトロソ系、１：２型金属錯塩系、
分子間型ＣＴ系、キノリン系、キノフタロン系、フルギ
ド系の酸性染料、塩基性染料、色素、油溶性染料や、ト
リフェニルメタン系ロイコ色素、カチオン染料、アゾ系
分散染料、ベンゾチオピラン系スピロピラン、３，９−
ジブロモアントアントロン、インダンスロン、フェノー
ルフタレイン、スルホフタレイン、エチルバイオレッ
ト、メチルオレンジ、フルオレッセイン、メチルビオロ
ゲン、メチレンブルー、ジムロスベタインなどが挙げら
れる。
【００３２】これらのなかでも、エレクトロニクス用や
記録用の染料で、最大吸収波長が７００ｎｍ〜９００ｎ
ｍの範囲にある、シアニン系染料、アズレニウム系染
料、スクアリリウム系染料、クロコニウム系染料、アゾ
系分散染料、ビスアゾスチルベン系染料、ナフトキノン
系染料、アントラキノン系染料、ペリレン系染料、フタ
ロシアニン系染料、ナフタロシアニン金属錯体系染料、
ポリメチン系染料、ジチオールニッケル錯体系染料、イ
ンドアニリン金属錯体染料、分子間型ＣＴ染料、ベンゾ
チオピラン系スピロピラン、ニグロシン染料などが好ま
しく使用される。
記録用の染料で、最大吸収波長が７００ｎｍ〜９００ｎ
ｍの範囲にある、シアニン系染料、アズレニウム系染
料、スクアリリウム系染料、クロコニウム系染料、アゾ
系分散染料、ビスアゾスチルベン系染料、ナフトキノン
系染料、アントラキノン系染料、ペリレン系染料、フタ
ロシアニン系染料、ナフタロシアニン金属錯体系染料、
ポリメチン系染料、ジチオールニッケル錯体系染料、イ
ンドアニリン金属錯体染料、分子間型ＣＴ染料、ベンゾ
チオピラン系スピロピラン、ニグロシン染料などが好ま
しく使用される。
【００３３】さらにこれらの染料のなかでも、モル吸光
度係数の大きなものが好ましく使用される。具体的には
ε＝１×１０4以上が好ましく、より好ましくは１×１
０5以上である。εが１×１０4より小さいと、感度の向
上効果が発現しにくいためである。
度係数の大きなものが好ましく使用される。具体的には
ε＝１×１０4以上が好ましく、より好ましくは１×１
０5以上である。εが１×１０4より小さいと、感度の向
上効果が発現しにくいためである。
【００３４】これらの「（ａ）光熱変換物質」は単独で
も感度の向上効果はあるが、２種以上を併用して用いる
ことによって、さらに感度を向上させることも可能であ
る。
も感度の向上効果はあるが、２種以上を併用して用いる
ことによって、さらに感度を向上させることも可能であ
る。
【００３５】また、吸収波長の異なる２種以上の
「（ａ）光熱変換物質」を併用することにより、２種以
上の発信波長の異なるレーザーに対応出来るようにする
ことも可能である。
「（ａ）光熱変換物質」を併用することにより、２種以
上の発信波長の異なるレーザーに対応出来るようにする
ことも可能である。
【００３６】これら「（ａ）光熱変換物質」の含有量
は、全感熱層組成物に対して０．１〜７０重量％が好ま
しく、より好ましくは０．５〜４０重量％である。０．
１重量％よりも少ない場合にはレーザー光に対する感度
の向上効果が見られず、４０重量％よりも多い場合には
印刷版の耐刷性が低下しやすい。
は、全感熱層組成物に対して０．１〜７０重量％が好ま
しく、より好ましくは０．５〜４０重量％である。０．
１重量％よりも少ない場合にはレーザー光に対する感度
の向上効果が見られず、４０重量％よりも多い場合には
印刷版の耐刷性が低下しやすい。
【００３７】本発明の直描型印刷版原版の感熱層は
「（ｂ）金属キレート化合物」を含有する。
「（ｂ）金属キレート化合物」を含有する。
【００３８】本発明でいう「（ｂ）金属キレート化合
物」とは、「中心金属」と有機置換基である「配位子」
からなり、金属に対して有機配位子が配位結合している
錯体化合物か、有機官能基と共有結合している有機金属
化合物のことをいう。
物」とは、「中心金属」と有機置換基である「配位子」
からなり、金属に対して有機配位子が配位結合している
錯体化合物か、有機官能基と共有結合している有機金属
化合物のことをいう。
【００３９】有機置換基である配位子としては、一座配
位子、多座配位子に分類されるが、多座配位子、特に二
座配位子を有することが好ましい。
位子、多座配位子に分類されるが、多座配位子、特に二
座配位子を有することが好ましい。
【００４０】また、金属酸化物のような無機化合物はそ
の範疇ではない。これら金属キレート化合物は、活性水
素基を含有する化合物と置換反応をおこすことが特徴で
ある。
の範疇ではない。これら金属キレート化合物は、活性水
素基を含有する化合物と置換反応をおこすことが特徴で
ある。
【００４１】「中心金属」としては周期表の第２周期か
ら第６周期の金属が挙げられ、なかでも第３周期から第
５周期の金属が好ましく、第３周期金属のＡｌ、第４周
期金属のＴｉ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、
Ｇｅ、第５周期金属のＩｎ、Ｓｎが特に好ましい。
ら第６周期の金属が挙げられ、なかでも第３周期から第
５周期の金属が好ましく、第３周期金属のＡｌ、第４周
期金属のＴｉ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、
Ｇｅ、第５周期金属のＩｎ、Ｓｎが特に好ましい。
【００４２】以上のような金属を中心にして有機化合物
との間で「（ｂ）金属キレート化合物」が形成されるわ
けであるが、それらの形態としては例えば以下の様な具
体例が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。
との間で「（ｂ）金属キレート化合物」が形成されるわ
けであるが、それらの形態としては例えば以下の様な具
体例が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。
【００４３】（１）金属ジケテネート ジケトンのエノール水酸基の水酸基が金属原子とが置換
したもので、中心金属は酸素原子を介して結合してい
る。ジケトンのカルボニルがさらに金属に対して配位結
合することができるため、比較的に安定な化合物であ
る。
したもので、中心金属は酸素原子を介して結合してい
る。ジケトンのカルボニルがさらに金属に対して配位結
合することができるため、比較的に安定な化合物であ
る。
【００４４】具体的には、キレート部が、２，４−ペン
タジオネート（アセチルアセトネート）、フルオロペン
タジオネート、２，２，６，６−テトラメチル−３，５
−ヘプタンジオネート、ベンゾイルアセトネート、テノ
イルトリフルオロアセトネートや１，３−ジフェニル−
１，３−プロパンジオネートなどである金属ペンタンジ
オネート（金属アセトネート）類や、メチルアセトアセ
テート、エチルアセトアセテート、メタクリルオキシエ
チルアセトアセテートやアリルアセトアセテートなどで
ある金属アセトアセテート類、サリチルアルデヒド錯塩
が挙げられる。
タジオネート（アセチルアセトネート）、フルオロペン
タジオネート、２，２，６，６−テトラメチル−３，５
−ヘプタンジオネート、ベンゾイルアセトネート、テノ
イルトリフルオロアセトネートや１，３−ジフェニル−
１，３−プロパンジオネートなどである金属ペンタンジ
オネート（金属アセトネート）類や、メチルアセトアセ
テート、エチルアセトアセテート、メタクリルオキシエ
チルアセトアセテートやアリルアセトアセテートなどで
ある金属アセトアセテート類、サリチルアルデヒド錯塩
が挙げられる。
【００４５】（２）金属アルコキサイド 中心金属に対して、酸素原子を介してアルキル基が結合
している化合物である。
している化合物である。
【００４６】キレート部が、メトキサイド、エトキサイ
ド、プロポキサイド、ブトキサイド、フェノキサイド、
アリルオキサイド、メトキシエトキサイド、アミノエト
キサイドなどである金属アルコキサイドが挙げられる。
ド、プロポキサイド、ブトキサイド、フェノキサイド、
アリルオキサイド、メトキシエトキサイド、アミノエト
キサイドなどである金属アルコキサイドが挙げられる。
【００４７】（３）アルキル金属 中心金属がそのままアルキル基を有するものであり、こ
の場合金属は炭素原子と結合している。キレート部化合
物がジケトンであっても、金属が炭素原子で結合してい
ればこちらに分類される。なかでもアセチルアセトン金
属が好ましく用いられる。
の場合金属は炭素原子と結合している。キレート部化合
物がジケトンであっても、金属が炭素原子で結合してい
ればこちらに分類される。なかでもアセチルアセトン金
属が好ましく用いられる。
【００４８】（４）金属カルボン酸塩類 酢酸金属塩、乳酸金属塩、アクリル酸金属塩、メタクリ
ル酸金属塩、ステアリン酸金属塩などが挙げられる。
ル酸金属塩、ステアリン酸金属塩などが挙げられる。
【００４９】（５）その他 エチレンジアミンなどのアミン類との金属キレート化合
物、チタンオキサイドアセトネートのような酸化金属キ
レート化合物、チタノセンフェノキサイドのような金属
錯体や、２種以上の金属原子を１分子中に有するヘテロ
金属キレート化合物が挙げられる。
物、チタンオキサイドアセトネートのような酸化金属キ
レート化合物、チタノセンフェノキサイドのような金属
錯体や、２種以上の金属原子を１分子中に有するヘテロ
金属キレート化合物が挙げられる。
【００５０】以上のような金属キレート化合物のうち好
ましく用いられる金属キレート化合物の具体例として
は、例えば、以下のような化合物が挙げられる。
ましく用いられる金属キレート化合物の具体例として
は、例えば、以下のような化合物が挙げられる。
【００５１】アルミニウムキレート化合物の具体例とし
ては、アルミニウムイソプロピレート、モノｓｅｃ−ブ
トキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウム
ｓｅｃ−ブチレート、エチルアセテートアルミニウムジ
イソプロピレート、プロピルアセテートアルミニウムジ
イソプロピレート、ブチルアセテートアルミニウムジイ
ソプロピレート、ヘプチルアセテートアルミニウムジイ
ソプロピレート、ヘキシルアセテートアルミニウムジイ
ソプロピレート、オクチルアセテートアルミニウムジイ
ソプロピレート、ノニルアセテートアルミニウムジイソ
プロピレート、エチルアセテートアルミニウムジエチレ
ート、エチルアセテートアルミニウムジブチレート、エ
チルアセテートアルミニウムジヘプチレート、エチルア
セテートアルミニウムジノニレート、ジエチルアセテー
トアルミニウムイソプロピレート、アルミニウムトリス
（エチルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（プ
ロピルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（ブチ
ルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（ヘキシル
アセトアセテート）、アルミニウムトリス（ノニルアセ
トアセテート）、アルミニウムトリスアセチルアセトネ
ート、アルミニウムビスエチルアセトアセテートモノア
セチルアセトネート、アルミニウムジアセチルアセトネ
ートエチルアセトアセテート、アルミニウムモノアセチ
ルアセトネートビスプロピルアセトアセテート、アルミ
ニウムモノアセチルアセトネートビスブチルアセトアセ
テート、アルミニウムモノアセチルアセトネートビスヘ
キシルアセトアセテート、アルミニウムモノエチルアセ
トアセテートビスプロピルアセトセトネート、アルミニ
ウムモノエチルアセトアセテートビスブチルアセトアセ
トネート、アルミニウムモノエチルアセトアセテートビ
スヘキシルアセトアセトネート、アルミニウムモノエチ
ルアセトアセテートビスノニルアセトアセトネート、ア
ルミニウムジブトキシドモノアセトアセテート、アルミ
ニウムジプロポキシドモノアセトアセテート、アルミニ
ウムジブトキシドモノエチルアセトアセテート、アルミ
ニウムオキシドアクリレート、アルミニウムオキシドオ
クテート、アルミニウムオキシドステアレイト、トリス
アリザリンアルミニウム、アルミニウム−ｓ−ブトキシ
ドビス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムジ−
ｓ−ブトキシドエチルアセトアセテート、アルミニウム
−９−オクタデセニルアセトアセテートジイソプロポキ
シド、アルミニウムフェノキシド、アクリル酸アルミニ
ウム、メタクリル酸アルミニウムなど。
ては、アルミニウムイソプロピレート、モノｓｅｃ−ブ
トキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウム
ｓｅｃ−ブチレート、エチルアセテートアルミニウムジ
イソプロピレート、プロピルアセテートアルミニウムジ
イソプロピレート、ブチルアセテートアルミニウムジイ
ソプロピレート、ヘプチルアセテートアルミニウムジイ
ソプロピレート、ヘキシルアセテートアルミニウムジイ
ソプロピレート、オクチルアセテートアルミニウムジイ
ソプロピレート、ノニルアセテートアルミニウムジイソ
プロピレート、エチルアセテートアルミニウムジエチレ
ート、エチルアセテートアルミニウムジブチレート、エ
チルアセテートアルミニウムジヘプチレート、エチルア
セテートアルミニウムジノニレート、ジエチルアセテー
トアルミニウムイソプロピレート、アルミニウムトリス
（エチルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（プ
ロピルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（ブチ
ルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（ヘキシル
アセトアセテート）、アルミニウムトリス（ノニルアセ
トアセテート）、アルミニウムトリスアセチルアセトネ
ート、アルミニウムビスエチルアセトアセテートモノア
セチルアセトネート、アルミニウムジアセチルアセトネ
ートエチルアセトアセテート、アルミニウムモノアセチ
ルアセトネートビスプロピルアセトアセテート、アルミ
ニウムモノアセチルアセトネートビスブチルアセトアセ
テート、アルミニウムモノアセチルアセトネートビスヘ
キシルアセトアセテート、アルミニウムモノエチルアセ
トアセテートビスプロピルアセトセトネート、アルミニ
ウムモノエチルアセトアセテートビスブチルアセトアセ
トネート、アルミニウムモノエチルアセトアセテートビ
スヘキシルアセトアセトネート、アルミニウムモノエチ
ルアセトアセテートビスノニルアセトアセトネート、ア
ルミニウムジブトキシドモノアセトアセテート、アルミ
ニウムジプロポキシドモノアセトアセテート、アルミニ
ウムジブトキシドモノエチルアセトアセテート、アルミ
ニウムオキシドアクリレート、アルミニウムオキシドオ
クテート、アルミニウムオキシドステアレイト、トリス
アリザリンアルミニウム、アルミニウム−ｓ−ブトキシ
ドビス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムジ−
ｓ−ブトキシドエチルアセトアセテート、アルミニウム
−９−オクタデセニルアセトアセテートジイソプロポキ
シド、アルミニウムフェノキシド、アクリル酸アルミニ
ウム、メタクリル酸アルミニウムなど。
【００５２】チタンキレート化合物の具体例としては、
イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプ
ロピルトリｎ−ステアロイルチタネート、イソプロピル
トリオクタノイルチタネート、イソプロピルトリドデシ
ルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルトリス
（ジオクチルパイロホスファイト）チタネート、テトラ
イソプロピルビス（ジオクチルホスファイト）チタネー
ト、テトラオクチルビス（ジトリデシルホスファイト）
チタネート、テトラ（２，２−ジアリルオキシメチル−
１−ブチル）ビス（ジ−トリデシル）ホスファイトチタ
ネート、ビス（ジオクチルパイロホスフェート）オキシ
アセテートチタネート、ビス（ジオクチルパイロホスフ
ェート）エチレンチタネート、トリス（ジオクチルパイ
ロホスフェート）エチレンチタネート、イソプロピルジ
メタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピル
イソステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピル
トリ（ジオクチルホスフェート）チタネート、イソプロ
ピルトリクミルフェニルチタネート、イソプロピルトリ
（Ｎ−アミノエチルアミノエチル）チタネート、ジクミ
ルフェニルオキシアセテートチタネート、ジイソステア
ロイルエチレンチタネート、イソプロピルジイソステア
ロイルクミルフェニルチタネート、イソプロピルジステ
アロイルメタクリルチタネート、イソプロピルジイソス
テアロイルアクリルチタネート、イソプロピル４−アミ
ノベンゼンスルホニルジ（ドデシルベンゼンスルホニ
ル）チタネート、イソプロピルトリメタクリルチタネー
ト、イソプロピルジ（４−アミノベンゾイル）イソステ
アロイルチタネート、イソプロピルトリ（ジオクチルパ
イロホスフェート）チタネート、イソプロピルトリアク
リルチタネート、イソプロピルトリ（Ｎ，Ｎ−ジメチル
エチルアミノ）チタネート、イソプロピルトリアントラ
ニルチタネート、イソプロピルオクチル，ブチルパイロ
ホスフェートチタネート、イソプロピルジ（ブチル，メ
チルパイロホスフェート）チタネート、テトライソプロ
ピルジ（ジラウロイルホスファイト）チタネート、ジイ
ソプロピルオキシアセテートチタネート、イソステアロ
イルメタクリルオキシアセテートチタネート、イソステ
アロイルアクリルオキシアセテートチタネート、ジ（ジ
オクチルホスフェート）オキシアセテートチタネート、
４−アミノベンゼンスルホニルドデシルベンゼンスルホ
ニルオキシアセテートチタネート、ジメタクリルオキシ
アセテートチタネート、ジクミルフェノレートオキシア
セテートチタネート、４−アミノベンゾイルイソステア
ロイルオキシアセテートチタネート、ジアクリルオキシ
アセテートチタネート、ジ（オクチル，ブチルパイロホ
スフェート）オキシアセテートチタネート、イソステア
ロイルメタクリルエチレンチタネート、ジ（ジオクチル
ホスフェート）エチレンチタネート、４−アミノベンゼ
ンスルホニルドデシルベンゼンスルホニルエチレンチタ
ネート、ジメタクリルエチレンチタネート、４−アミノ
ベンゾイルイソステアロイルエチレンチタネート、ジア
クリルエチレンチタネート、ジアントラニルエチレンチ
タネート、ジ（ブチル，メチルパイロホスフェート）エ
チレンチタネート、チタンアリルアセトアセテートトリ
イソプロポキサイド、チタンビス（トリエタノールアミ
ン）ジイソプロポキサイド、チタンジ−ｎ−ブトキサイ
ド（ビス−２，４−ペンタンジオネート）、チタンジイ
ソプロポキサイドビス（テトラメチルヘプタンジオネー
ト）、チタンジイソプロポキサイドビス（エチルアセト
アセテート）、チタンメタクリルオキシエチルアセトア
セテートトリイソプロポキサイド、チタンメチルフェノ
キサイド、チタンオキシドビス（ペンタンジオネート）
など。
イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプ
ロピルトリｎ−ステアロイルチタネート、イソプロピル
トリオクタノイルチタネート、イソプロピルトリドデシ
ルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルトリス
（ジオクチルパイロホスファイト）チタネート、テトラ
イソプロピルビス（ジオクチルホスファイト）チタネー
ト、テトラオクチルビス（ジトリデシルホスファイト）
チタネート、テトラ（２，２−ジアリルオキシメチル−
１−ブチル）ビス（ジ−トリデシル）ホスファイトチタ
ネート、ビス（ジオクチルパイロホスフェート）オキシ
アセテートチタネート、ビス（ジオクチルパイロホスフ
ェート）エチレンチタネート、トリス（ジオクチルパイ
ロホスフェート）エチレンチタネート、イソプロピルジ
メタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピル
イソステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピル
トリ（ジオクチルホスフェート）チタネート、イソプロ
ピルトリクミルフェニルチタネート、イソプロピルトリ
（Ｎ−アミノエチルアミノエチル）チタネート、ジクミ
ルフェニルオキシアセテートチタネート、ジイソステア
ロイルエチレンチタネート、イソプロピルジイソステア
ロイルクミルフェニルチタネート、イソプロピルジステ
アロイルメタクリルチタネート、イソプロピルジイソス
テアロイルアクリルチタネート、イソプロピル４−アミ
ノベンゼンスルホニルジ（ドデシルベンゼンスルホニ
ル）チタネート、イソプロピルトリメタクリルチタネー
ト、イソプロピルジ（４−アミノベンゾイル）イソステ
アロイルチタネート、イソプロピルトリ（ジオクチルパ
イロホスフェート）チタネート、イソプロピルトリアク
リルチタネート、イソプロピルトリ（Ｎ，Ｎ−ジメチル
エチルアミノ）チタネート、イソプロピルトリアントラ
ニルチタネート、イソプロピルオクチル，ブチルパイロ
ホスフェートチタネート、イソプロピルジ（ブチル，メ
チルパイロホスフェート）チタネート、テトライソプロ
ピルジ（ジラウロイルホスファイト）チタネート、ジイ
ソプロピルオキシアセテートチタネート、イソステアロ
イルメタクリルオキシアセテートチタネート、イソステ
アロイルアクリルオキシアセテートチタネート、ジ（ジ
オクチルホスフェート）オキシアセテートチタネート、
４−アミノベンゼンスルホニルドデシルベンゼンスルホ
ニルオキシアセテートチタネート、ジメタクリルオキシ
アセテートチタネート、ジクミルフェノレートオキシア
セテートチタネート、４−アミノベンゾイルイソステア
ロイルオキシアセテートチタネート、ジアクリルオキシ
アセテートチタネート、ジ（オクチル，ブチルパイロホ
スフェート）オキシアセテートチタネート、イソステア
ロイルメタクリルエチレンチタネート、ジ（ジオクチル
ホスフェート）エチレンチタネート、４−アミノベンゼ
ンスルホニルドデシルベンゼンスルホニルエチレンチタ
ネート、ジメタクリルエチレンチタネート、４−アミノ
ベンゾイルイソステアロイルエチレンチタネート、ジア
クリルエチレンチタネート、ジアントラニルエチレンチ
タネート、ジ（ブチル，メチルパイロホスフェート）エ
チレンチタネート、チタンアリルアセトアセテートトリ
イソプロポキサイド、チタンビス（トリエタノールアミ
ン）ジイソプロポキサイド、チタンジ−ｎ−ブトキサイ
ド（ビス−２，４−ペンタンジオネート）、チタンジイ
ソプロポキサイドビス（テトラメチルヘプタンジオネー
ト）、チタンジイソプロポキサイドビス（エチルアセト
アセテート）、チタンメタクリルオキシエチルアセトア
セテートトリイソプロポキサイド、チタンメチルフェノ
キサイド、チタンオキシドビス（ペンタンジオネート）
など。
【００５３】鉄（III ）アセチルアセトネート、ジベン
ゾイルメタン鉄（II）、トロポロン鉄、トリストロポロ
ノ鉄（III ）、ヒノキチオール鉄、トリスヒノキチオロ
鉄（III ）、アセト酢酸エステル鉄（III ）、鉄（III
）ベンゾイルアセトネート、鉄（III ）トリフルオロ
ペンタンジオネート、サリチルアルデヒド銅（II）、銅
（II）アセチルアセトネート、サリチルアルデヒドイミ
ン銅、コウジ酸銅、ビスコウジャト銅（II）、トロポロ
ン銅、ビストロポロノ銅（II）、ビス（５−オキシナフ
トキノン−１，４）銅、ビス（１−オキシアントラキノ
ン）ニッケル、アセト酢酸エステル銅、サリチルアミン
銅、ｏ−オキシアゾベンゼン銅、銅（II）ベンゾイルア
セテート、銅（II）エチルアセトアセテート、銅（II）
メタクリルオキシエチルアセトアセテート、銅（II）メ
トキシエトキシエトキサイド、銅（II）２，４−ペンタ
ンジオネート、銅（II）２，２，６，６−テトラメチル
−３，５−ヘプタンジオネート、亜鉛Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノエトキサイド、亜鉛２，４−ペンタンジオネー
ト、亜鉛２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプ
タンジオネートなども本発明に好ましく用いられる。
ゾイルメタン鉄（II）、トロポロン鉄、トリストロポロ
ノ鉄（III ）、ヒノキチオール鉄、トリスヒノキチオロ
鉄（III ）、アセト酢酸エステル鉄（III ）、鉄（III
）ベンゾイルアセトネート、鉄（III ）トリフルオロ
ペンタンジオネート、サリチルアルデヒド銅（II）、銅
（II）アセチルアセトネート、サリチルアルデヒドイミ
ン銅、コウジ酸銅、ビスコウジャト銅（II）、トロポロ
ン銅、ビストロポロノ銅（II）、ビス（５−オキシナフ
トキノン−１，４）銅、ビス（１−オキシアントラキノ
ン）ニッケル、アセト酢酸エステル銅、サリチルアミン
銅、ｏ−オキシアゾベンゼン銅、銅（II）ベンゾイルア
セテート、銅（II）エチルアセトアセテート、銅（II）
メタクリルオキシエチルアセトアセテート、銅（II）メ
トキシエトキシエトキサイド、銅（II）２，４−ペンタ
ンジオネート、銅（II）２，２，６，６−テトラメチル
−３，５−ヘプタンジオネート、亜鉛Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノエトキサイド、亜鉛２，４−ペンタンジオネー
ト、亜鉛２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプ
タンジオネートなども本発明に好ましく用いられる。
【００５４】その他、サリチルアルデヒドコバルト、ｏ
−オキシアセトフェノンニッケル、ビス（１−オキシキ
サントン）ニッケル、ピロメコン酸ニッケル、サリチル
アルデヒドニッケル、アリルトリエチルゲルマン、アリ
ルトリメチルゲルマン、アンモニウムトリス（オキザレ
ート）ゲルマネート、ビス［ビス（トリメチルシリル）
アミノ］ゲルマニウム（II）、カルボキシエチルゲルマ
ニウムセスキオキサイド、シクロペンタジエニルトリメ
チルゲルマン、ジ−ｎ−ブチルジアセトキシゲルマン、
ジ−ｎ−ブチルジクロロゲルマン、ジメチルアミノトリ
メチルゲルマン、ジフェニルゲルマン、ヘキサアリルジ
ゲルマノキサン、ヘキサエチルジゲルマノキサン、ヘキ
サメチルジゲルマン、ヒドロキシゲルマトラン１水和
物、メタクリルオキシメチルトリメチルゲルマン、メタ
クリルオキシトリエチルゲルマン、テトラアリルゲルマ
ン、テトラ−ｎ−ブチルゲルマン、テトライソプロポキ
シゲルマン、トリ−ｎ−ブチルゲルマン、トリメチルク
ロロゲルマン、トリフェニルゲルマン、ビニルトリエチ
ルゲルマン、ビス（２，４−ペンタンジオネート）ジク
ロロスズ、ジ−ｎ−ブチルビス（２，４−ペンタンジオ
ネート）スズ、カルシウム２，４−ペンタンジオネー
ト、セリウム（III ）２，４−ペンタンジオネート、コ
バルト（II）２，４−ペンタンジオネート、コバルト
（III ）２，４−ペンタンジオネート、ユーロピウム
２，４−ペンタンジオネート、ユーロピウム（III ）テ
ノイルトリフルオロアセトネート、インジウム２、４−
ペンタンジオネート、マンガン（II）２，４−ペンタン
ジオネート、マンガン（III ）２，４−ペンタンジオネ
ートなども本発明に用いられる。
−オキシアセトフェノンニッケル、ビス（１−オキシキ
サントン）ニッケル、ピロメコン酸ニッケル、サリチル
アルデヒドニッケル、アリルトリエチルゲルマン、アリ
ルトリメチルゲルマン、アンモニウムトリス（オキザレ
ート）ゲルマネート、ビス［ビス（トリメチルシリル）
アミノ］ゲルマニウム（II）、カルボキシエチルゲルマ
ニウムセスキオキサイド、シクロペンタジエニルトリメ
チルゲルマン、ジ−ｎ−ブチルジアセトキシゲルマン、
ジ−ｎ−ブチルジクロロゲルマン、ジメチルアミノトリ
メチルゲルマン、ジフェニルゲルマン、ヘキサアリルジ
ゲルマノキサン、ヘキサエチルジゲルマノキサン、ヘキ
サメチルジゲルマン、ヒドロキシゲルマトラン１水和
物、メタクリルオキシメチルトリメチルゲルマン、メタ
クリルオキシトリエチルゲルマン、テトラアリルゲルマ
ン、テトラ−ｎ−ブチルゲルマン、テトライソプロポキ
シゲルマン、トリ−ｎ−ブチルゲルマン、トリメチルク
ロロゲルマン、トリフェニルゲルマン、ビニルトリエチ
ルゲルマン、ビス（２，４−ペンタンジオネート）ジク
ロロスズ、ジ−ｎ−ブチルビス（２，４−ペンタンジオ
ネート）スズ、カルシウム２，４−ペンタンジオネー
ト、セリウム（III ）２，４−ペンタンジオネート、コ
バルト（II）２，４−ペンタンジオネート、コバルト
（III ）２，４−ペンタンジオネート、ユーロピウム
２，４−ペンタンジオネート、ユーロピウム（III ）テ
ノイルトリフルオロアセトネート、インジウム２、４−
ペンタンジオネート、マンガン（II）２，４−ペンタン
ジオネート、マンガン（III ）２，４−ペンタンジオネ
ートなども本発明に用いられる。
【００５５】これらの具体例のうち、特に好ましく用い
られる「（ｂ）金属キレート化合物」としては、二座配
位子を有するものであり、特にアセチルアセトネート
（ペンタンジオネート）、エチルアセトアセトネート
（ヘキサンジオネート）、プロピルアセトアセトネート
（ヘプタンジオネート）、テトラメチルヘプタンジオネ
ート、ベンゾイルアセトネートを配位子として有するも
のが好ましい。
られる「（ｂ）金属キレート化合物」としては、二座配
位子を有するものであり、特にアセチルアセトネート
（ペンタンジオネート）、エチルアセトアセトネート
（ヘキサンジオネート）、プロピルアセトアセトネート
（ヘプタンジオネート）、テトラメチルヘプタンジオネ
ート、ベンゾイルアセトネートを配位子として有するも
のが好ましい。
【００５６】さらに、アルミニウム、鉄（III ）、チタ
ンのアセチルアセトネート（ペンタンジオネート）、エ
チルアセトアセトネート（ヘキサンジオネート）、プロ
ピルアセトアセトネート（ヘプタンジオネート）、テト
ラメチルヘプタンジオネート、ベンゾイルアセトネート
類などが好ましい化合物として挙げられる。
ンのアセチルアセトネート（ペンタンジオネート）、エ
チルアセトアセトネート（ヘキサンジオネート）、プロ
ピルアセトアセトネート（ヘプタンジオネート）、テト
ラメチルヘプタンジオネート、ベンゾイルアセトネート
類などが好ましい化合物として挙げられる。
【００５７】これら「（ｂ）金属キレート化合物」はそ
れぞれ単独でも使用できるし、２種以上を混合して使用
することもでき、その含有量は活性水素基含有化合物１
００重量部に対して５〜３００重量部が好ましく、１０
〜１５０重量部がさらに好ましい。含有量が５重量部よ
り少ないと画像形成しにくくなり、３００重量部よりも
多い場合には感熱層の物性が低下しやすく、印刷版とし
ては例えば耐刷性という問題が生じやすくなるためであ
る。
れぞれ単独でも使用できるし、２種以上を混合して使用
することもでき、その含有量は活性水素基含有化合物１
００重量部に対して５〜３００重量部が好ましく、１０
〜１５０重量部がさらに好ましい。含有量が５重量部よ
り少ないと画像形成しにくくなり、３００重量部よりも
多い場合には感熱層の物性が低下しやすく、印刷版とし
ては例えば耐刷性という問題が生じやすくなるためであ
る。
【００５８】本発明においては、レーザー光が照射され
ると、感熱層中の「（ａ）光熱変換物質」の作用で熱が
発生し、その熱により「（ｂ）金属キレート化合物」に
よる架橋構造が形成される。その結果、レーザー光照射
部分においてはシリコーンゴム層と感熱層の接着力が向
上する。他方、未照射部分においては、このような接着
力の向上はないため、その後の現像処理によりシリコー
ンゴム層、あるいはシリコーンゴム層と感熱層が除去さ
れる。このようにしてポジ型の直描型水なし平版印刷版
が得られる。
ると、感熱層中の「（ａ）光熱変換物質」の作用で熱が
発生し、その熱により「（ｂ）金属キレート化合物」に
よる架橋構造が形成される。その結果、レーザー光照射
部分においてはシリコーンゴム層と感熱層の接着力が向
上する。他方、未照射部分においては、このような接着
力の向上はないため、その後の現像処理によりシリコー
ンゴム層、あるいはシリコーンゴム層と感熱層が除去さ
れる。このようにしてポジ型の直描型水なし平版印刷版
が得られる。
【００５９】一方、感熱層中に予め架橋構造を形成させ
ておいた場合は、高感度のネガ型の直描型水なし平版印
刷版が得られる。すなわち、レーザー光照射部の感熱層
とシリコーンゴム層間の接着力が低下し、その後の現像
処理によって、レーザー光を照射した部分のシリコーン
ゴム層が除去される。その詳細なメカニズムは未解明で
あるが、おそらく版作製時に架橋構造が形成されていた
ものが、レーザー照射により生じた熱の作用で脱離反応
したものと考えられる。その結果、シリコーンゴム層と
感熱層の界面の耐溶剤性が変化し、現像処理によりレー
ザー照射部のシリコーンゴム層が特異的に除去されるも
のと考えられる。
ておいた場合は、高感度のネガ型の直描型水なし平版印
刷版が得られる。すなわち、レーザー光照射部の感熱層
とシリコーンゴム層間の接着力が低下し、その後の現像
処理によって、レーザー光を照射した部分のシリコーン
ゴム層が除去される。その詳細なメカニズムは未解明で
あるが、おそらく版作製時に架橋構造が形成されていた
ものが、レーザー照射により生じた熱の作用で脱離反応
したものと考えられる。その結果、シリコーンゴム層と
感熱層の界面の耐溶剤性が変化し、現像処理によりレー
ザー照射部のシリコーンゴム層が特異的に除去されるも
のと考えられる。
【００６０】本発明の直描型印刷版原版の感熱層は、
「（ｂ）金属キレート化合物」との架橋構造の形成とい
う観点から、さらに、「（ｃ）活性水素基含有化合物」
を含むことが好ましい。「（ｃ）活性水素基含有化合
物」としては、水酸基含有化合物、アミノ基含有化合
物、カルボキシル基含有化合物、チオール基含有化合物
などが挙げられるが、水酸基含有化合物が好ましい。
「（ｂ）金属キレート化合物」との架橋構造の形成とい
う観点から、さらに、「（ｃ）活性水素基含有化合物」
を含むことが好ましい。「（ｃ）活性水素基含有化合
物」としては、水酸基含有化合物、アミノ基含有化合
物、カルボキシル基含有化合物、チオール基含有化合物
などが挙げられるが、水酸基含有化合物が好ましい。
【００６１】さらに、水酸基含有化合物としてはフェノ
ール性水酸基含有化合物、アルコール性水酸基含有化合
物のいずれも本発明に使用できる。
ール性水酸基含有化合物、アルコール性水酸基含有化合
物のいずれも本発明に使用できる。
【００６２】フェノール性水酸基含有化合物としては、
例えば以下のような化合物を挙げることができる。
例えば以下のような化合物を挙げることができる。
【００６３】ヒドロキノン、カテコール、グアヤコー
ル、クレゾール、キシレノール、ナフトール、ジヒドロ
キシアントラキノン、ジヒドロキシベンゾフェノン、ト
リヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾ
フェノン、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ、フェ
ノールホルムアルデヒドノボラック樹脂、レゾール樹
脂、レゾルシンベンズアルデヒド樹脂、ピロガロールア
セトン樹脂、ヒドロキシスチレンの重合体および共重合
体、ロジン変性フェノール樹脂、エポキシ変性フェノー
ル樹脂、リグニン変性フェノール樹脂、アニリン変性フ
ェノール樹脂、メラミン変性フェノール樹脂、ビスフェ
ノール類などが挙げられる。
ル、クレゾール、キシレノール、ナフトール、ジヒドロ
キシアントラキノン、ジヒドロキシベンゾフェノン、ト
リヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾ
フェノン、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ、フェ
ノールホルムアルデヒドノボラック樹脂、レゾール樹
脂、レゾルシンベンズアルデヒド樹脂、ピロガロールア
セトン樹脂、ヒドロキシスチレンの重合体および共重合
体、ロジン変性フェノール樹脂、エポキシ変性フェノー
ル樹脂、リグニン変性フェノール樹脂、アニリン変性フ
ェノール樹脂、メラミン変性フェノール樹脂、ビスフェ
ノール類などが挙げられる。
【００６４】また、アルコール性水酸基含有化合物とし
ては、例えば以下のような化合物を挙げることができ
る。
ては、例えば以下のような化合物を挙げることができ
る。
【００６５】エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、
ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、
１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、
１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオー
ル、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオー
ル、２−ブテン−１，４−ジオール、５−ヘキセン−
１，２−ジオール、７−オクテン−１，２−ジオール、
３−メルカプト−１，２−プロパンジオール、グリセリ
ン、ジグリセリン、トリメチロールプロパン、１，２，
４−ブタントリオール、ペンタエリスリトール、ジペン
タエリスリトール、ソルビトール、ソルビタン、ポリビ
ニルアルコール、セルロースおよびその誘導体、ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレートの重合体および共重合
体など。
ル、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、
ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、
１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、
１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオー
ル、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオー
ル、２−ブテン−１，４−ジオール、５−ヘキセン−
１，２−ジオール、７−オクテン−１，２−ジオール、
３−メルカプト−１，２−プロパンジオール、グリセリ
ン、ジグリセリン、トリメチロールプロパン、１，２，
４−ブタントリオール、ペンタエリスリトール、ジペン
タエリスリトール、ソルビトール、ソルビタン、ポリビ
ニルアルコール、セルロースおよびその誘導体、ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレートの重合体および共重合
体など。
【００６６】また、エポキシアクリレート、エポキシメ
タクリレート、ポリビニルブチラール樹脂、および公知
の方法によって水酸基を導入したポリマーなども本発明
に使用可能である。
タクリレート、ポリビニルブチラール樹脂、および公知
の方法によって水酸基を導入したポリマーなども本発明
に使用可能である。
【００６７】これら水酸基含有化合物としては、金属キ
レート化合物との反応性という観点から特にフェノール
性水酸基含有化合物が好ましく用いられる。
レート化合物との反応性という観点から特にフェノール
性水酸基含有化合物が好ましく用いられる。
【００６８】これら「（ｃ）活性水素基含有化合物」は
それぞれ単独でも使用できるし、２種以上を混合して使
用することもでき、その含有量は、全感熱層組成物に対
して５〜８０重量％が好ましく、より好ましくは２０〜
６０重量％である。含有量が５重量％よりも少ないと印
刷版の感度が低下し、逆に８０重量％よりも多いと印刷
版の溶剤耐性が低下しやすい。
それぞれ単独でも使用できるし、２種以上を混合して使
用することもでき、その含有量は、全感熱層組成物に対
して５〜８０重量％が好ましく、より好ましくは２０〜
６０重量％である。含有量が５重量％よりも少ないと印
刷版の感度が低下し、逆に８０重量％よりも多いと印刷
版の溶剤耐性が低下しやすい。
【００６９】本発明の直描型印刷版原版の感熱層は、耐
刷性の観点から「（ｄ）バインダーポリマー」を含有す
ることが好ましい。この際、「（ｄ）バインダーポリマ
ー」としては、有機溶剤に可溶でかつフィルム形成能の
あるものであれば特に限定されないが、「（ｄ）バイン
ダーポリマー」のガラス転移温度（Ｔｇ）が２０℃以下
であることが好ましく、、さらに好ましくはガラス転移
温度が０℃以下のものである。
刷性の観点から「（ｄ）バインダーポリマー」を含有す
ることが好ましい。この際、「（ｄ）バインダーポリマ
ー」としては、有機溶剤に可溶でかつフィルム形成能の
あるものであれば特に限定されないが、「（ｄ）バイン
ダーポリマー」のガラス転移温度（Ｔｇ）が２０℃以下
であることが好ましく、、さらに好ましくはガラス転移
温度が０℃以下のものである。
【００７０】有機溶剤に可溶でかつフィルム形成能があ
り、さらに形態保持の機能をも果たすバインダーポリマ
ーの具体例としては、ビニルポリマー類、未加硫ゴム、
ポリオキシド類（ポリエーテル類）、ポリエステル類、
ポリウレタン類、ポリアミド類などが挙げられるがこれ
らに限定されるものではない。
り、さらに形態保持の機能をも果たすバインダーポリマ
ーの具体例としては、ビニルポリマー類、未加硫ゴム、
ポリオキシド類（ポリエーテル類）、ポリエステル類、
ポリウレタン類、ポリアミド類などが挙げられるがこれ
らに限定されるものではない。
【００７１】これらの「（ｄ）バインダーポリマー」の
含有量は、全感熱層組成物に対して５〜７０重量％が好
ましく、より好ましくは１０〜５０重量％である。含有
量が５％よりも少ないと耐刷性が低下しやすく、７０重
量％よりも多いと感度が低下しやすい。
含有量は、全感熱層組成物に対して５〜７０重量％が好
ましく、より好ましくは１０〜５０重量％である。含有
量が５％よりも少ないと耐刷性が低下しやすく、７０重
量％よりも多いと感度が低下しやすい。
【００７２】「（ｄ）バインダーポリマー」は単独で用
いてもよいし、また数種のポリマーを混合して使用して
もよい。
いてもよいし、また数種のポリマーを混合して使用して
もよい。
【００７３】「（ｅ）その他の成分」更に本発明におい
て、感熱層には、レベリング剤、界面活性剤、分散剤、
可塑剤等を必要に応じて任意に添加してもよい。
て、感熱層には、レベリング剤、界面活性剤、分散剤、
可塑剤等を必要に応じて任意に添加してもよい。
【００７４】下層の基板や断熱層との接着性を高めるた
めにシランカップリング剤などの各種カップリング剤を
添加する事は極めて好ましく行われる。
めにシランカップリング剤などの各種カップリング剤を
添加する事は極めて好ましく行われる。
【００７５】また、上層のシリコーンゴム層との接着性
を高めるために、シランカップリング剤や不飽和基含有
化合物を添加することも好ましく行われる。
を高めるために、シランカップリング剤や不飽和基含有
化合物を添加することも好ましく行われる。
【００７６】このようにして得られる感熱層の物性に関
しては、得られる印刷版の印刷特性の観点から、その物
性が特定の範囲にあることが好ましい。この様な物性と
しては引張特性、その中でも引張時の初期弾性率を代表
として挙げることが出来る。具体的には、印刷版におけ
る感熱層の引張時の初期弾性率が７ｋｇｆ／ｍｍ2〜７
８ｋｇｆ／ｍｍ2の範囲、さらには１０ｋｇｆ／ｍｍ2〜
６５ｋｇｆ／ｍｍ2の範囲にあることが好ましい。
しては、得られる印刷版の印刷特性の観点から、その物
性が特定の範囲にあることが好ましい。この様な物性と
しては引張特性、その中でも引張時の初期弾性率を代表
として挙げることが出来る。具体的には、印刷版におけ
る感熱層の引張時の初期弾性率が７ｋｇｆ／ｍｍ2〜７
８ｋｇｆ／ｍｍ2の範囲、さらには１０ｋｇｆ／ｍｍ2〜
６５ｋｇｆ／ｍｍ2の範囲にあることが好ましい。
【００７７】感熱層の初期弾性率を以上のような範囲に
設定することにより、印刷版としての特性、特に耐刷性
を向上させることが出来る。逆に、初期弾性率が７ｋｇ
ｆ／ｍｍ2未満である場合には画線部を形成する感熱層
がベタ着き易くなるため印刷時にヒッキーが発生し易く
なる。また、初期弾性率が７８ｋｇｆ／ｍｍ2以上であ
る場合には、印刷時に加わる繰り返し応力により感熱層
とシリコーンゴム層との接着界面で破壊が起こりやすく
なり、耐刷性低下の原因となるためである。
設定することにより、印刷版としての特性、特に耐刷性
を向上させることが出来る。逆に、初期弾性率が７ｋｇ
ｆ／ｍｍ2未満である場合には画線部を形成する感熱層
がベタ着き易くなるため印刷時にヒッキーが発生し易く
なる。また、初期弾性率が７８ｋｇｆ／ｍｍ2以上であ
る場合には、印刷時に加わる繰り返し応力により感熱層
とシリコーンゴム層との接着界面で破壊が起こりやすく
なり、耐刷性低下の原因となるためである。
【００７８】感熱層の厚さは、被覆層にして０．１〜１
０ｇ／ｍ２ であると、印刷版の耐刷性や、希釈溶剤を
揮散し易く生産性に優れる点で好ましく、より好ましく
は１〜７ｇ／ｍ２である。
０ｇ／ｍ２ であると、印刷版の耐刷性や、希釈溶剤を
揮散し易く生産性に優れる点で好ましく、より好ましく
は１〜７ｇ／ｍ２である。
【００７９】［シリコーンゴム層］本発明の印刷版に適
用するシリコーンゴム層としては、従来の水なし平版印
刷版において使用されるシリコーンゴム層が使用でき
る。
用するシリコーンゴム層としては、従来の水なし平版印
刷版において使用されるシリコーンゴム層が使用でき
る。
【００８０】このようなシリコーンゴム層は線状オルガ
ノポリシロキサン（好ましくはジメチルポリシロキサ
ン）をまばらに架橋することにより得られるものであ
り、代表的なものとして、次式（Ｉ）に示すような繰り
返し単位を有するものが挙げられる。
ノポリシロキサン（好ましくはジメチルポリシロキサ
ン）をまばらに架橋することにより得られるものであ
り、代表的なものとして、次式（Ｉ）に示すような繰り
返し単位を有するものが挙げられる。
【００８１】
【化１】 （ここでｎは２以上の整数である。Ｒは炭素数１〜１０
のアルキル、アリール、あるいはシアノアルキル基であ
る。全体のＲの４０％以下がビニル、フェニル、ハロゲ
ン化ビニル、ハロゲン化フェニルであり、Ｒの６０％以
上がメチル基であるものが好ましい。また、鎖末端もし
くは側鎖のかたちで分子鎖中に少なくとも一つ以上の水
酸基を有する。） 本発明のシリコーンゴムとしては、次に示すような縮合
型の架橋を行うシリコーンゴム（ＲＴＶ、ＬＴＶ型シリ
コーンゴム）を用いることが出来る。すなわち、式（I
I）と式（III ）または式（IV）で表される末端基どう
しの縮合によって架橋されるものである。この時、系内
に、さらに過剰の架橋剤を存在させてもよい。
のアルキル、アリール、あるいはシアノアルキル基であ
る。全体のＲの４０％以下がビニル、フェニル、ハロゲ
ン化ビニル、ハロゲン化フェニルであり、Ｒの６０％以
上がメチル基であるものが好ましい。また、鎖末端もし
くは側鎖のかたちで分子鎖中に少なくとも一つ以上の水
酸基を有する。） 本発明のシリコーンゴムとしては、次に示すような縮合
型の架橋を行うシリコーンゴム（ＲＴＶ、ＬＴＶ型シリ
コーンゴム）を用いることが出来る。すなわち、式（I
I）と式（III ）または式（IV）で表される末端基どう
しの縮合によって架橋されるものである。この時、系内
に、さらに過剰の架橋剤を存在させてもよい。
【００８２】
【化２】 （ここでＲは式Ｉで説明したＲと同様のものを意味す
る。）ここでＲは式Ｉで説明したＲと同様のものを意味
する。）
る。）ここでＲは式Ｉで説明したＲと同様のものを意味
する。）
【化３】 （ここでＲは式Ｉで説明したＲと同様のものを意味し、
Ｒ1、Ｒ2は一価の低級アルキル基である。）
Ｒ1、Ｒ2は一価の低級アルキル基である。）
【化４】 （ここでＲは式Ｉで説明したＲと同様のものを意味し、
Ａｃはアセチル基である。） このような縮合型の架橋を行う際、錫、亜鉛、鉛、カル
シウム、マンガンなどの金属カルボン酸塩、例えばラウ
リン酸ジブチル錫、錫（II）オクトエ−ト、ナフテン酸
塩など、あるいは塩化白金酸のような触媒が添加されて
もよい。
Ａｃはアセチル基である。） このような縮合型の架橋を行う際、錫、亜鉛、鉛、カル
シウム、マンガンなどの金属カルボン酸塩、例えばラウ
リン酸ジブチル錫、錫（II）オクトエ−ト、ナフテン酸
塩など、あるいは塩化白金酸のような触媒が添加されて
もよい。
【００８３】これ以外にも、ＳｉＨ基含有ポリジメチル
シロキサンや加水分解性官能基含有シラン（もしくはシ
ロキサン）を添加することも有効であり、またゴム強度
を向上させる目的で、シリカなどの公知の充填剤を添加
させることも任意である。
シロキサンや加水分解性官能基含有シラン（もしくはシ
ロキサン）を添加することも有効であり、またゴム強度
を向上させる目的で、シリカなどの公知の充填剤を添加
させることも任意である。
【００８４】さらに、本発明においては上記した縮合型
シリコーンゴム層の他に、付加型のシリコーンゴム層を
用いることも可能であり、取扱い性などの点から好まし
い。
シリコーンゴム層の他に、付加型のシリコーンゴム層を
用いることも可能であり、取扱い性などの点から好まし
い。
【００８５】付加型シリコーンゴム層は、例えば、分子
中に少なくとも２個のビニル基を有するポリオルガノシ
ロキサンと、分子中に少なくとも３個のＳｉＨ基を有す
るポリオルガノシロキサンおよび白金化合物を適当な溶
媒で希釈したものを、感熱層上に塗布し、加熱乾燥して
硬化させることによって形成することができる。
中に少なくとも２個のビニル基を有するポリオルガノシ
ロキサンと、分子中に少なくとも３個のＳｉＨ基を有す
るポリオルガノシロキサンおよび白金化合物を適当な溶
媒で希釈したものを、感熱層上に塗布し、加熱乾燥して
硬化させることによって形成することができる。
【００８６】分子中に少なくとも２個以上のビニル基を
有するオルガノポリシロキサンとしては、分子鎖末端、
中間のどちらかにビニル基を有するものが挙げられ、ア
ルケニル基以外の有機基として、置換もしくは非置換の
アルキル基、アリール基を有するものが好ましい。ま
た、微量の水酸基を含有していてもよい。
有するオルガノポリシロキサンとしては、分子鎖末端、
中間のどちらかにビニル基を有するものが挙げられ、ア
ルケニル基以外の有機基として、置換もしくは非置換の
アルキル基、アリール基を有するものが好ましい。ま
た、微量の水酸基を含有していてもよい。
【００８７】分子中に２個以上のビニル基を有するポリ
オルガノシロキサンの具体例としては以下のものが挙げ
られる。
オルガノシロキサンの具体例としては以下のものが挙げ
られる。
【００８８】両末端ビニル基のポリジメチルシロキサ
ン、両末端メチル基の（メチルビニルシロキサン）（ジ
メチルシロキサン）共重合体、両末端ビニル基の（メチ
ルビニルシロキサン）（ジメチルシロキサン）共重合
体、両末端ビニル基のポリジメチルシロキサンの２分子
以上主鎖間をジメチレン架橋させた化合物、両末端メチ
ル基の（メチル１−ヘキセンシロキサン）（ジメチルシ
ロキサン）共重合体、両末端ビニル基の（メチル１−ヘ
キセンシロキサン）（ジメチルシロキサン）共重合体等
である。
ン、両末端メチル基の（メチルビニルシロキサン）（ジ
メチルシロキサン）共重合体、両末端ビニル基の（メチ
ルビニルシロキサン）（ジメチルシロキサン）共重合
体、両末端ビニル基のポリジメチルシロキサンの２分子
以上主鎖間をジメチレン架橋させた化合物、両末端メチ
ル基の（メチル１−ヘキセンシロキサン）（ジメチルシ
ロキサン）共重合体、両末端ビニル基の（メチル１−ヘ
キセンシロキサン）（ジメチルシロキサン）共重合体等
である。
【００８９】これら分子中に２個以上のビニル基を有す
るポリオルガノシロキサンは、硬化後のゴム物性の点で
その分子量が５，０００以上であることが好ましく、更
に好ましくは１０，０００以上である。また、これらは
単独で使用することもできるし、複数の種類を任意の比
率で混合して使用することもできる。
るポリオルガノシロキサンは、硬化後のゴム物性の点で
その分子量が５，０００以上であることが好ましく、更
に好ましくは１０，０００以上である。また、これらは
単独で使用することもできるし、複数の種類を任意の比
率で混合して使用することもできる。
【００９０】分子中に少なくとも３個以上のＳｉＨ基を
有するポリオルガノシロキサンとしては分子鎖末端、中
間のいずれかにＳｉＨ基を有するものが挙げられ、Ｓｉ
Ｈ基以外の有機基として、置換もしくは非置換のアルキ
ル基、アリール基を有するものが好ましい。
有するポリオルガノシロキサンとしては分子鎖末端、中
間のいずれかにＳｉＨ基を有するものが挙げられ、Ｓｉ
Ｈ基以外の有機基として、置換もしくは非置換のアルキ
ル基、アリール基を有するものが好ましい。
【００９１】分子中に少なくとも３個以上のＳｉＨ基を
有するポリオルガノシロキサンの具体例としては、以下
のものが挙げられる。
有するポリオルガノシロキサンの具体例としては、以下
のものが挙げられる。
【００９２】両末端ＳｉＨ基のポリジメチルシロキサ
ン、両末端メチル基のポリメチルハイドロジェンシロキ
サン、両末端メチル基の（メチルハイドロジェンシロキ
サン）（ジメチルシロキサン）共重合体、両末端ＳｉＨ
基の（メチルハイドロジェンシロキサン）（ジメチルシ
ロキサン）共重合体、環状ポリメチルハイドロジェンシ
ロキサン等が挙げられる。
ン、両末端メチル基のポリメチルハイドロジェンシロキ
サン、両末端メチル基の（メチルハイドロジェンシロキ
サン）（ジメチルシロキサン）共重合体、両末端ＳｉＨ
基の（メチルハイドロジェンシロキサン）（ジメチルシ
ロキサン）共重合体、環状ポリメチルハイドロジェンシ
ロキサン等が挙げられる。
【００９３】上記ビニル基含有ポリオルガノシロキサン
とＳｉＨ基含有ポリオルガノシロキサンを混合して使用
する際の比率としては、シリコーンゴム組成物中のビニ
ル基数を１とした場合にＳｉＨ基数が１．５〜１５とな
るような混合比率が好ましく、更に好ましくは１．５〜
１２が好ましい。ビニル基数１に対するＳｉＨ基数が
１．５未満の場合であると、シリコーンゴム層の硬化性
が低下する傾向にあり、１５より大きい場合にはシリコ
ーンゴムが脆くなり耐摩耗性が低下する傾向があり好ま
しくない。
とＳｉＨ基含有ポリオルガノシロキサンを混合して使用
する際の比率としては、シリコーンゴム組成物中のビニ
ル基数を１とした場合にＳｉＨ基数が１．５〜１５とな
るような混合比率が好ましく、更に好ましくは１．５〜
１２が好ましい。ビニル基数１に対するＳｉＨ基数が
１．５未満の場合であると、シリコーンゴム層の硬化性
が低下する傾向にあり、１５より大きい場合にはシリコ
ーンゴムが脆くなり耐摩耗性が低下する傾向があり好ま
しくない。
【００９４】さらに付加型シリコーンゴム層に好ましく
用いられる白金化合物としては、特に限定されないが、
白金単体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位白金
などが挙げられる。これらの中でもオレフィン配位白金
が好ましい。
用いられる白金化合物としては、特に限定されないが、
白金単体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位白金
などが挙げられる。これらの中でもオレフィン配位白金
が好ましい。
【００９５】また、付加型シリコーンゴム層の硬化速度
を制御する目的で、テトラシクロ（メチルビニル）シロ
キサンなどのビニル基含有のオルガノポリシロキサン、
炭素−炭素三重結合含有のアルコール、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロピレン
グリコールモノメチルエーテルなどの反応抑制剤を添加
することが好ましい。
を制御する目的で、テトラシクロ（メチルビニル）シロ
キサンなどのビニル基含有のオルガノポリシロキサン、
炭素−炭素三重結合含有のアルコール、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロピレン
グリコールモノメチルエーテルなどの反応抑制剤を添加
することが好ましい。
【００９６】これらの組成物の他に、縮合型シリコーン
ゴム層の組成物である水酸基含有オルガノポリシロキサ
ン、加水分解性官能基含有シラン（もしくはシロキサ
ン）を添加してもよく、またゴム強度を向上させる目的
で、シリカなどの公知の充填剤を添加してもよい。
ゴム層の組成物である水酸基含有オルガノポリシロキサ
ン、加水分解性官能基含有シラン（もしくはシロキサ
ン）を添加してもよく、またゴム強度を向上させる目的
で、シリカなどの公知の充填剤を添加してもよい。
【００９７】さらに、本発明においてシリコーンゴム層
は上記組成物の他に公知のシランカップリング剤を含有
することが好ましい。これらのシランカップリング剤
は、シリコーンゴム層組成物の固形分に対し、０．１〜
５重量％の比率で使用することが好ましく、更に好まし
くは０．５〜３重量％である。
は上記組成物の他に公知のシランカップリング剤を含有
することが好ましい。これらのシランカップリング剤
は、シリコーンゴム層組成物の固形分に対し、０．１〜
５重量％の比率で使用することが好ましく、更に好まし
くは０．５〜３重量％である。
【００９８】これらシリコーンゴム層の膜厚は０．５〜
２０ｇ／ｍ２が好ましく、さらに好ましくは０．５〜５
ｇ／ｍ２である。膜厚が０．５ｇ／ｍ２よりも小さい場
合には印刷版のインキ反撥性が低下する傾向があり、２
０ｇ／ｍ２よりも大きい場合には経済的見地から不利で
あるばかりでなく、インキマイレージが悪くなると言う
問題がある。
２０ｇ／ｍ２が好ましく、さらに好ましくは０．５〜５
ｇ／ｍ２である。膜厚が０．５ｇ／ｍ２よりも小さい場
合には印刷版のインキ反撥性が低下する傾向があり、２
０ｇ／ｍ２よりも大きい場合には経済的見地から不利で
あるばかりでなく、インキマイレージが悪くなると言う
問題がある。
【００９９】［基板］本発明の直描型印刷版原版に使用
する基板としては、寸法的に安定な板状物であれば公知
の金属、フィルム等のいずれも使用することができる。
この様な寸法的に安定な板状物としては、従来印刷版の
基板として使用されたもの等が好ましく挙げられる。か
かる基板としては、紙、プラスチック（ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリスチレンなど）がラミネ−トされ
た紙、アルミニウム（アルミニウム合金も含む）、亜
鉛、銅などの金属の板、セルロースアセテート、ポリエ
チレンテレフタレ−ト、ポリエチレン、ポリエステル、
ポリアミド、ポリイミド、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカ−ボネ−ト、ポリビニルアセタ−ルなどのプ
ラスチックのフィルム、上記の如き金属がラミネ−トも
しくは蒸着された紙もしくはプラスチックフィルムなど
が挙げられる。
する基板としては、寸法的に安定な板状物であれば公知
の金属、フィルム等のいずれも使用することができる。
この様な寸法的に安定な板状物としては、従来印刷版の
基板として使用されたもの等が好ましく挙げられる。か
かる基板としては、紙、プラスチック（ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリスチレンなど）がラミネ−トされ
た紙、アルミニウム（アルミニウム合金も含む）、亜
鉛、銅などの金属の板、セルロースアセテート、ポリエ
チレンテレフタレ−ト、ポリエチレン、ポリエステル、
ポリアミド、ポリイミド、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカ−ボネ−ト、ポリビニルアセタ−ルなどのプ
ラスチックのフィルム、上記の如き金属がラミネ−トも
しくは蒸着された紙もしくはプラスチックフィルムなど
が挙げられる。
【０１００】これらのうち、アルミニウム板は寸法的に
著しく安定であり、しかも安価であるので特に好まし
い。また、軽印刷用の基板として用いられているポリエ
チレンテレフタレ−トフィルムも好ましく使用される。
著しく安定であり、しかも安価であるので特に好まし
い。また、軽印刷用の基板として用いられているポリエ
チレンテレフタレ−トフィルムも好ましく使用される。
【０１０１】［断熱層］本発明の直描型印刷版原版は、
照射されたレーザーによる熱を基板に逃がすことを防ぐ
ため、断熱層を設けることが効果的である。
照射されたレーザーによる熱を基板に逃がすことを防ぐ
ため、断熱層を設けることが効果的である。
【０１０２】基板と感熱層の接着性を強固にするために
従来用いられてきた公知のプライマー層をその代用とし
て用いてもよい。
従来用いられてきた公知のプライマー層をその代用とし
て用いてもよい。
【０１０３】本発明で使用する断熱層は、次の条件を満
たすことが必要である。すなわち、基板と感熱層とをよ
く接着し、経時において安定であること、さらに現像
液、印刷時に使用する溶剤に対する耐性が高いことであ
る。
たすことが必要である。すなわち、基板と感熱層とをよ
く接着し、経時において安定であること、さらに現像
液、印刷時に使用する溶剤に対する耐性が高いことであ
る。
【０１０４】このような条件を満たすものとして、エポ
キシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノ−ル樹脂、アクリ
ル樹脂、アルキッド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミ
ド樹脂、尿素樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、カゼイ
ン、ゼラチン等を含むものが挙げられる。これらの中で
は、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹
脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂等を単独で、あるいは２種
以上を混合して用いることが好ましい。
キシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノ−ル樹脂、アクリ
ル樹脂、アルキッド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミ
ド樹脂、尿素樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、カゼイ
ン、ゼラチン等を含むものが挙げられる。これらの中で
は、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹
脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂等を単独で、あるいは２種
以上を混合して用いることが好ましい。
【０１０５】また、この断熱層中に顔料、染料等の添加
剤を含有させて検版性を向上させることも好ましい。
剤を含有させて検版性を向上させることも好ましい。
【０１０６】断熱層の厚さは被覆層にして０．５〜５０
ｇ／ｍ２ が好ましく、より好ましくは１〜１０ｇ／ｍ
２である。厚さが０．５ｇ／ｍ２よりも薄いと基板表面
の形態欠陥および化学的悪影響の遮断効果に劣り、５０
ｇ／ｍ２よりも厚いと経済的見地から不利となるので上
記の範囲が好ましい。
ｇ／ｍ２ が好ましく、より好ましくは１〜１０ｇ／ｍ
２である。厚さが０．５ｇ／ｍ２よりも薄いと基板表面
の形態欠陥および化学的悪影響の遮断効果に劣り、５０
ｇ／ｍ２よりも厚いと経済的見地から不利となるので上
記の範囲が好ましい。
【０１０７】［製造方法］本発明における直描型水なし
平版印刷版原版の製造方法および製版方法について説明
する。
平版印刷版原版の製造方法および製版方法について説明
する。
【０１０８】基板上に、リバースロールコーター、エア
ーナイフコーター、グラビアコーター、ダイコーター、
メーヤバーコーターなどの通常のコーターあるいはホエ
ラーのような回転塗布装置を用い、必要に応じて断熱層
組成物を塗布し１００〜３００℃で数分間加熱あるいは
活性光線照射により硬化させた後、感熱層組成物を塗布
し５０〜１８０℃で数十秒から数分間加熱乾燥、必要に
より硬化させる。
ーナイフコーター、グラビアコーター、ダイコーター、
メーヤバーコーターなどの通常のコーターあるいはホエ
ラーのような回転塗布装置を用い、必要に応じて断熱層
組成物を塗布し１００〜３００℃で数分間加熱あるいは
活性光線照射により硬化させた後、感熱層組成物を塗布
し５０〜１８０℃で数十秒から数分間加熱乾燥、必要に
より硬化させる。
【０１０９】この後、シリコーンゴム組成物を塗布し５
０〜２００℃の温度で数分間熱処理してシリコーンゴム
層を得る。その後、必要に応じて保護フィルムをラミネ
ートするか、あるいは保護層を形成する。
０〜２００℃の温度で数分間熱処理してシリコーンゴム
層を得る。その後、必要に応じて保護フィルムをラミネ
ートするか、あるいは保護層を形成する。
【０１１０】［カバーフィルム］以上説明されたように
構成された直描型水なし平版印刷版のシリコーンゴム層
を保護するなどの目的で、シリコーンゴム層の表面にプ
レーンまたは凹凸処理した保護フィルムをラミネートし
たり、現像溶媒に溶解するようなポリマー塗膜を形成す
ることも可能である。
構成された直描型水なし平版印刷版のシリコーンゴム層
を保護するなどの目的で、シリコーンゴム層の表面にプ
レーンまたは凹凸処理した保護フィルムをラミネートし
たり、現像溶媒に溶解するようなポリマー塗膜を形成す
ることも可能である。
【０１１１】このようなカバーフィルムの種類として
は、ポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルム、
ポリビニルアルコールフィルム、エチレン酢酸ビニル共
重合体ケン化物フィルム、ポリ塩化ビニリデンフィル
ム、また各種金属を蒸着したフィルムなどが挙げられ
る。
は、ポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルム、
ポリビニルアルコールフィルム、エチレン酢酸ビニル共
重合体ケン化物フィルム、ポリ塩化ビニリデンフィル
ム、また各種金属を蒸着したフィルムなどが挙げられ
る。
【０１１２】［レーザー照射］このようにして得られた
直描型水なし平版印刷版原版を、保護フィルムを剥離し
てから、あるいは保護フィルム上からレーザー光で画像
状に露光する。
直描型水なし平版印刷版原版を、保護フィルムを剥離し
てから、あるいは保護フィルム上からレーザー光で画像
状に露光する。
【０１１３】本発明の製版露光工程で用いられるレーザ
ー光源としては、発信波長領域が３００ｎｍ〜１５００
ｎｍの範囲にあるものが用いられる。すなわち、アルゴ
ンイオン、クリプトンイオン、ヘリウム-ネオン、ヘリ
ウム-カドミウム、ルビー、ガラス、ＹＡＧ、チタンサ
ファイア、色素、窒素、金属蒸気、エキシマ、自由電
子、半導体などの各種レーザーが使用される。
ー光源としては、発信波長領域が３００ｎｍ〜１５００
ｎｍの範囲にあるものが用いられる。すなわち、アルゴ
ンイオン、クリプトンイオン、ヘリウム-ネオン、ヘリ
ウム-カドミウム、ルビー、ガラス、ＹＡＧ、チタンサ
ファイア、色素、窒素、金属蒸気、エキシマ、自由電
子、半導体などの各種レーザーが使用される。
【０１１４】これらの中でも本発明の印刷版原版を製版
する目的から、近赤外領域付近に発光波長領域が存在す
る半導体レーザーが好ましく、特に高出力半導体レーザ
ーが好ましく用いられる。
する目的から、近赤外領域付近に発光波長領域が存在す
る半導体レーザーが好ましく、特に高出力半導体レーザ
ーが好ましく用いられる。
【０１１５】［現像方法］現像方法としては、水または
有機溶剤の存在もしくは非存在下での摩擦処理により行
われる。あるいは、保護フィルムを剥離することによっ
て印刷版上にパターンを形成する、いわゆる剥離現像に
よっても印刷版を作成することも可能である。現像処理
を行う場合に使用される現像液としては、例えば、水や
水に界面活性剤を添加したもの、さらには水に下記の極
性溶媒を添加したものや、脂肪族炭化水素類（ヘキサ
ン、ヘプタン、イソパラフィン系炭化水素など）、芳香
族炭化水素類（トルエン、キシレンなど）、ハロゲン化
炭化水素類（トリクレンなど）などの少なくとも１種類
からなる溶媒に、下記の極性溶媒を少なくとも１種類添
加したものが用いられる。
有機溶剤の存在もしくは非存在下での摩擦処理により行
われる。あるいは、保護フィルムを剥離することによっ
て印刷版上にパターンを形成する、いわゆる剥離現像に
よっても印刷版を作成することも可能である。現像処理
を行う場合に使用される現像液としては、例えば、水や
水に界面活性剤を添加したもの、さらには水に下記の極
性溶媒を添加したものや、脂肪族炭化水素類（ヘキサ
ン、ヘプタン、イソパラフィン系炭化水素など）、芳香
族炭化水素類（トルエン、キシレンなど）、ハロゲン化
炭化水素類（トリクレンなど）などの少なくとも１種類
からなる溶媒に、下記の極性溶媒を少なくとも１種類添
加したものが用いられる。
【０１１６】極性溶媒としては、エタノール、プロパノ
ール、イソプロパノール、エチレングリコールなどのア
ルコール類、エチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノブチルエーテル、テトラヒドロフランな
どのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、ジア
セトンアルコールなどのケトン類、酢酸エチル、乳酸エ
チル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
トなどのエステル類、カプロン酸、２―エチルヘキサン
酸、オレイン酸などのカルボン酸などが挙げられる。
ール、イソプロパノール、エチレングリコールなどのア
ルコール類、エチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノブチルエーテル、テトラヒドロフランな
どのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、ジア
セトンアルコールなどのケトン類、酢酸エチル、乳酸エ
チル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
トなどのエステル類、カプロン酸、２―エチルヘキサン
酸、オレイン酸などのカルボン酸などが挙げられる。
【０１１７】また、上記の現像液組成には、公知の界面
活性剤を添加することも自由に行われる。さらにアルカ
リ剤、例えば炭酸ナトリウム、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン、ジグリコールアミン、モノグリコ
ールアミン、トリエタノールアミン、ケイ酸ナトリウ
ム、ケイ酸カリウム、水酸化カリウム、ホウ酸ナトリウ
ムなどを添加することもできる。
活性剤を添加することも自由に行われる。さらにアルカ
リ剤、例えば炭酸ナトリウム、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン、ジグリコールアミン、モノグリコ
ールアミン、トリエタノールアミン、ケイ酸ナトリウ
ム、ケイ酸カリウム、水酸化カリウム、ホウ酸ナトリウ
ムなどを添加することもできる。
【０１１８】これらの中では、水あるいは水に界面活性
剤を添加したもの、さらにはアルカリを添加した水が好
ましく用いられる。
剤を添加したもの、さらにはアルカリを添加した水が好
ましく用いられる。
【０１１９】また、これらの現像液にはクリスタルバイ
オレット、ビクトリピュアブルー、アストラゾンレッド
などの公知の塩基性染料、酸性染料、油溶性染料を添加
して現像と同時に画像部の染色化を行うことができる。
オレット、ビクトリピュアブルー、アストラゾンレッド
などの公知の塩基性染料、酸性染料、油溶性染料を添加
して現像と同時に画像部の染色化を行うことができる。
【０１２０】現像する際には、これらの現像液を、不織
布、脱脂綿、布、スポンジ等に含浸させて、版面を拭き
取ることによって、現像することができる。
布、脱脂綿、布、スポンジ等に含浸させて、版面を拭き
取ることによって、現像することができる。
【０１２１】また、現像は、特開昭６３−１６３３５７
号公報に記載されているような自動現像機を用い、上記
の現像液で版面を前処理した後に水道水などでシャワー
しながら回転ブラシで版面を擦ることによって行うこと
も好ましい。
号公報に記載されているような自動現像機を用い、上記
の現像液で版面を前処理した後に水道水などでシャワー
しながら回転ブラシで版面を擦ることによって行うこと
も好ましい。
【０１２２】上記の現像液に代えて、温水や水蒸気を版
面に噴射することによっても現像が可能である。
面に噴射することによっても現像が可能である。
【０１２３】これまで、主として直描型水なし平版印刷
版原版について述べてきたが、本発明は湿し水を用い
た、いわゆる水あり平版印刷版にも適用可能である。
版原版について述べてきたが、本発明は湿し水を用い
た、いわゆる水あり平版印刷版にも適用可能である。
【０１２４】水あり平版印刷版の構成としては、基板上
に感熱層を有し、さらにその上にインキ反発層としての
親水性層を有する構成、基板上にインキ反発性層として
の親水性層を有し、さらにその上に感熱層を有する構
成、あるいは、砂目立てや陽極酸化処理などの各種親水
化処理されたアルミ基板上に感熱層を有する構成などが
挙げられる。
に感熱層を有し、さらにその上にインキ反発層としての
親水性層を有する構成、基板上にインキ反発性層として
の親水性層を有し、さらにその上に感熱層を有する構
成、あるいは、砂目立てや陽極酸化処理などの各種親水
化処理されたアルミ基板上に感熱層を有する構成などが
挙げられる。
【０１２５】また、本発明は平版印刷版に限られず広く
画像形成に応用可能である。例えば、レジストや、カラ
ーフィルターの画素形成、ＰＤＰおよびその他デイスプ
レイの隔壁形成、さらには凸版印刷版、フレキソ印刷版
など。凸版印刷版やフレキソ印刷版への応用例の一つと
しては、従来の感光性の凸版印刷版、フレキソ印刷版の
上部に本発明の金属キレート化合物層を設けて、レーザ
ーを用いて画像を形成した後、ＵＶ照射により印刷版を
作製するというものである。
画像形成に応用可能である。例えば、レジストや、カラ
ーフィルターの画素形成、ＰＤＰおよびその他デイスプ
レイの隔壁形成、さらには凸版印刷版、フレキソ印刷版
など。凸版印刷版やフレキソ印刷版への応用例の一つと
しては、従来の感光性の凸版印刷版、フレキソ印刷版の
上部に本発明の金属キレート化合物層を設けて、レーザ
ーを用いて画像を形成した後、ＵＶ照射により印刷版を
作製するというものである。
【０１２６】以下、本発明を実施例によりさらに詳しく
説明する。
説明する。
【０１２７】
【実施例】合成例１ （水酸基含有ポリマー微粒子分散液）１リットルの三口
フラスコに攪拌棒、窒素導入管を装着し、この中にスチ
レン50g、メタクリル酸グリシジル20g、メタクリル酸2-
ヒドロキシエチル 30g、10％ポリビニルアルコール（重
合度500）水溶液300g、水 200g、および過硫酸カリウム
0.5gを仕込んだ。窒素ガスを約２分間導入して、フラ
スコ内雰囲気を窒素で置換した後窒素導入を止め、フラ
スコを80℃の水浴に浸し、激しく攪拌しながら３時間重
合反応を行った。乳白色のポリマー分散液が得られた。
フラスコに攪拌棒、窒素導入管を装着し、この中にスチ
レン50g、メタクリル酸グリシジル20g、メタクリル酸2-
ヒドロキシエチル 30g、10％ポリビニルアルコール（重
合度500）水溶液300g、水 200g、および過硫酸カリウム
0.5gを仕込んだ。窒素ガスを約２分間導入して、フラ
スコ内雰囲気を窒素で置換した後窒素導入を止め、フラ
スコを80℃の水浴に浸し、激しく攪拌しながら３時間重
合反応を行った。乳白色のポリマー分散液が得られた。
【０１２８】実施例１ 厚さ０．１５ｍｍの脱脂したアルミ板上に下記の組成か
らなるプライマー液をバーコーターを用いて塗布し、２
００℃で２分間乾燥し、膜厚４ｇ／ｍ2 の断熱層を塗布
した。
らなるプライマー液をバーコーターを用いて塗布し、２
００℃で２分間乾燥し、膜厚４ｇ／ｍ2 の断熱層を塗布
した。
【０１２９】 ＜断熱層組成（固形分濃度１０重量％）＞ （１）“サンプレン”ＬＱ−Ｔ１３３１（ポリウレタン樹脂、三洋化成工業（株 ）製） ９０重量部 （２）“タケネート”Ｂ８３０（ブロックドイソシアネート、武田薬品（株）製 ） ３５重量部 （３）ＳＪ９３７２（エポキシ・フェノール・尿素樹脂、関西ペイント（株）製 ） ８重量部 ［溶媒成分］ （４）ジメチルホルムアミド 続いてこの上に下記の感熱層組成物をバーコーターを用
いて塗布し、１５０℃で１分間乾燥し、膜厚１．５ｇ／
ｍ2 の感熱層を設けた。
いて塗布し、１５０℃で１分間乾燥し、膜厚１．５ｇ／
ｍ2 の感熱層を設けた。
【０１３０】 ＜感熱層組成（固形分濃度１０重量％）＞ （ａ）カーボンブラック分散ロジン変性マレイン酸樹脂 ２５重量部 （内カーボンブラック１０重量部） （ｂ）鉄（III）アセチルアセトネート（半井化学薬品（株）製） ２０重量部 （ｃ）ＤＭ６２２（エポキシメタクリレート、ナガセ化成工業（株）製）） ３０重量部 （ｄ）“サンプレン”ＬＱ−Ｔ１３３１（ポリウレタン樹脂、三洋化成工業（株 ） 製） ２５重量部 ［溶媒成分］ （１）ジメチルホルムアミド ５０重量部 （２）エチルセロソルブ ２５重量部 （３）メチルイソブチルケトン ２５重量部 続いてこの上に下記の組成を有するシリコーンゴム層組
成物をバーコーターを用いて塗布し、１２５℃で１分間
乾燥し、膜厚２ｇ／ｍ2 のシリコーンゴム層を設けた。
成物をバーコーターを用いて塗布し、１２５℃で１分間
乾燥し、膜厚２ｇ／ｍ2 のシリコーンゴム層を設けた。
【０１３１】 ＜シリコーンゴム層組成（固形分濃度７重量％）＞ （１）ビニル基含有ポリシロキサン １００重量部 （２）ハイドロジェンポリシロキサン ５重量部 （３）重合禁止剤 １重量部 （４）触媒 ２重量部 ［溶媒成分］ （１）“アイソパー”Ｅ（エクソン化学（株）製） 上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍのポリ
エステルフィルム“ルミラー”（東レ（株）製）をカレ
ンダーローラーを用いてラミネートし、直描型水なし平
版印刷版原版を得た。
エステルフィルム“ルミラー”（東レ（株）製）をカレ
ンダーローラーを用いてラミネートし、直描型水なし平
版印刷版原版を得た。
【０１３２】この後、この印刷版原版の“ルミラー”を
剥離し、ＦＸ４００−ＡＰ（製版機、東レエンジニアリ
ング(株)製）に装着し、半導体レーザー（波長８３０ｎ
ｍ、ビーム直径２０μｍ）を用いて、照射エネルギーを
変えながら、露光時間１０μｓで、パルス露光を行っ
た。
剥離し、ＦＸ４００−ＡＰ（製版機、東レエンジニアリ
ング(株)製）に装着し、半導体レーザー（波長８３０ｎ
ｍ、ビーム直径２０μｍ）を用いて、照射エネルギーを
変えながら、露光時間１０μｓで、パルス露光を行っ
た。
【０１３３】続いて、東レ（株）製自動現像装置ＴＷＬ
−６５０により上記露光済みの版の現像を行った。この
際、前処理液としては東レ（株）製“ＰＰ−１”を、現
像液としては水を、後処理液としては東レ（株）製“Ｐ
Ａ−Ｆ”を用いた。
−６５０により上記露光済みの版の現像を行った。この
際、前処理液としては東レ（株）製“ＰＰ−１”を、現
像液としては水を、後処理液としては東レ（株）製“Ｐ
Ａ−Ｆ”を用いた。
【０１３４】現像後の版を観察したところ、３００ｍＪ
／ｓ（６００ｍＷ）以下ではシリコーンゴム層のみが、
それよりエネルギーの高い領域ではシリコーンゴム層と
共に感熱層が除去されていた。
／ｓ（６００ｍＷ）以下ではシリコーンゴム層のみが、
それよりエネルギーの高い領域ではシリコーンゴム層と
共に感熱層が除去されていた。
【０１３５】次にハンドローラーで水なし平版用インキ
（Ｗａｔｅｒｌｅｓｓ Ｓ、ザ・インクテック（株）
製、赤）を、現像済みの版面全面に展開して、画像が再
現されるレーザー照射エネルギーを調べた。その結果、
１７５ｍＪ／ｓ（３５０ｍＷ）以上の領域において、レ
ーザー照射部のシリコーンゴム層が除去され、画像が再
現されていた。
（Ｗａｔｅｒｌｅｓｓ Ｓ、ザ・インクテック（株）
製、赤）を、現像済みの版面全面に展開して、画像が再
現されるレーザー照射エネルギーを調べた。その結果、
１７５ｍＪ／ｓ（３５０ｍＷ）以上の領域において、レ
ーザー照射部のシリコーンゴム層が除去され、画像が再
現されていた。
【０１３６】実施例２ 実施例１において、感熱層塗液の組成を以下に示すもの
に代えた以外は全て同様に印刷版原版を作製した。
に代えた以外は全て同様に印刷版原版を作製した。
【０１３７】実施例１と同様に評価したところ、２２５
ｍＪ／ｓ（４５０ｍＷ）以上４５０ｍＪ／ｓ（９００ｍ
Ｗ）以下ではシリコーンゴム層のみが、それよりエネル
ギーの高い領域ではシリコーンゴム層と共に感熱層が除
去されていた。
ｍＪ／ｓ（４５０ｍＷ）以上４５０ｍＪ／ｓ（９００ｍ
Ｗ）以下ではシリコーンゴム層のみが、それよりエネル
ギーの高い領域ではシリコーンゴム層と共に感熱層が除
去されていた。
【０１３８】 ＜感熱層組成（固形分濃度１０重量％）＞ （ａ）SPRIT NIGROSINE SJ（Dye Specialities,INC.） １５重量部 （ｂ）鉄（III）アセチルアセトネート（半井化学薬品（株）製） ２０重量部 （ｃ）ＤＭ６２２（エポキシメタクリレート、ナガセ化成工業（株）製）） ３０重量部 （ｄ）“サンプレン”ＬＱ−Ｔ１３３１（ポリウレタン樹脂、三洋化成工業（株 ） 製） ３５重量部 ［溶媒成分］ （１）ジメチルホルムアミド ５０重量部 （２）エチルセロソルブ ２５重量部 （３）メチルイソブチルケトン ２５重量部 比較例１ 実施例１において、感熱層塗液の組成を以下に示すもの
に代えた以外は全て同様に印刷版原版を作製し、同様に
評価したところ、レーザー照射のシリコーンゴム層が剥
がれず、現像不能状態であり、画像を再現することが出
来なかった。
に代えた以外は全て同様に印刷版原版を作製し、同様に
評価したところ、レーザー照射のシリコーンゴム層が剥
がれず、現像不能状態であり、画像を再現することが出
来なかった。
【０１３９】 ＜感熱層組成（固形分濃度１０重量％）＞ （ｂ）鉄（III）アセチルアセトネート（半井化学薬品（株）製） ２０重量部 （ｃ）ＤＭ６２２（エポキシメタクリレート、ナガセ化成工業（株）製）） ３０重量部 （ｄ）“サンプレン”ＬＱ−Ｔ１３３１（ポリウレタン樹脂、三洋化成工業（株 ） 製） ５０重量部 ［溶媒成分］ （１）ジメチルホルムアミド ５０重量部 （２）エチルセロソルブ ２５重量部 （３）メチルイソブチルケトン ２５重量部 比較例２ 実施例１において、感熱層塗液の組成を以下に示すもの
に代えた以外は全て同様に版材を作製し、同様に評価し
たところ、５００ｍＪ／ｓ（１０００ｍＷ）以上でやっ
とシリコーンゴム層が除去されるという感度の低い版し
か得られなかった。
に代えた以外は全て同様に版材を作製し、同様に評価し
たところ、５００ｍＪ／ｓ（１０００ｍＷ）以上でやっ
とシリコーンゴム層が除去されるという感度の低い版し
か得られなかった。
【０１４０】 ＜感熱層組成（固形分濃度１０重量％）＞ （ａ）SPRIT NIGROSINE SJ（Dye Specialities,INC.） １５重量部 （ｃ）ＤＭ６２２（エポキシメタクリレート、ナガセ化成工業（株）製）） ３０重量部 （ｄ）“サンプレン”ＬＱ−Ｔ１３３１（ポリウレタン樹脂、三洋化成工業（株 ） 製） ５５重量部 ［溶媒成分］ （１）ジメチルホルムアミド ５０重量部 （２）エチルセロソルブ ２５重量部 （３）メチルイソブチルケトン ２５重量部 実施例３ 実施例１において、感熱層塗液の組成を以下に示すもの
に代えた以外は全て同様に印刷版原版を作製し、同様に
評価したところ、２２５ｍＪ／ｓ（４５０ｍＷ）以上４
５０ｍＪ／ｓ（９００ｍＷ）以下ではシリコーンゴム層
のみが、それよりエネルギーの高い領域ではシリコーン
ゴム層と共に感熱層が除去されていた。
に代えた以外は全て同様に印刷版原版を作製し、同様に
評価したところ、２２５ｍＪ／ｓ（４５０ｍＷ）以上４
５０ｍＪ／ｓ（９００ｍＷ）以下ではシリコーンゴム層
のみが、それよりエネルギーの高い領域ではシリコーン
ゴム層と共に感熱層が除去されていた。
【０１４１】 ＜感熱層組成（固形分濃度１０重量％）＞ （ａ）SPRIT NIGROSINE SJ（Dye Specialities,INC.） １５重量部 （ｂ）“ナーセム”Ti（日本化学産業（株）製） ２０重量部 （ｃ）ＤＭ６２２（エポキシメタクリレート、ナガセ化成工業（株）製）） ３０重量部 （ｄ）“サンプレン”ＬＱ−Ｔ１３３１（ポリウレタン樹脂、三洋化成工業（株 ） 製） ３５重量部 ［溶媒成分］ （１）ジメチルホルムアミド ５０重量部 （２）エチルセロソルブ ２５重量部 （３）メチルイソブチルケトン ２５重量部 実施例４ 実施例１において、感熱層塗液の組成を以下に示すもの
に代えた以外は全て同様に印刷版原版を作製し、同様に
評価したところ、１７５ｍＪ／ｓ（３５０ｍＷ）以上４
２５ｍＪ／ｓ（８５０ｍＷ）以下ではシリコーンゴム層
のみが、それよりエネルギーの高い領域ではシリコーン
ゴム層と共に感熱層が除去されていた。
に代えた以外は全て同様に印刷版原版を作製し、同様に
評価したところ、１７５ｍＪ／ｓ（３５０ｍＷ）以上４
２５ｍＪ／ｓ（８５０ｍＷ）以下ではシリコーンゴム層
のみが、それよりエネルギーの高い領域ではシリコーン
ゴム層と共に感熱層が除去されていた。
【０１４２】 ＜感熱層組成（固形分濃度１０重量％）＞ （ａ）“ＫＡＹＡＳＯＲＢ”ＩＲ−８２０Ｂ（赤外光吸収染料、日本化薬（株） 製） １０重量部 （ｂ）鉄（III）アセチルアセトネート（半井化学薬品（株）製） ２０重量部 （ｃ）ＤＭ６２２（エポキシメタクリレート、ナガセ化成工業（株）製）） ３０重量部 （ｄ）“サンプレン”ＬＱ−Ｔ１３３１（ポリウレタン樹脂、三洋化成工業（株 ） 製） ４０重量部 ［溶媒成分］ （１）ジメチルホルムアミド ５０重量部 （２）エチルセロソルブ ２５重量部 （３）メチルイソブチルケトン ２５重量部 実施例５ 実施例１において、感熱層塗液の組成、およびシリコー
ンゴム層塗液の組成を以下に示すものに代えた以外は全
て同様に印刷版原版を作製し、同様に評価したところ、
１７５ｍＪ／ｓ（３５０ｍＷ）以上５００ｍＪ／ｓ（１
０００ｍＷ）以下ではシリコーンゴム層のみが、それよ
りエネルギーの高い領域ではシリコーンゴム層と共に感
熱層が除去されていた。
ンゴム層塗液の組成を以下に示すものに代えた以外は全
て同様に印刷版原版を作製し、同様に評価したところ、
１７５ｍＪ／ｓ（３５０ｍＷ）以上５００ｍＪ／ｓ（１
０００ｍＷ）以下ではシリコーンゴム層のみが、それよ
りエネルギーの高い領域ではシリコーンゴム層と共に感
熱層が除去されていた。
【０１４３】 ＜感熱層組成（固形分濃度１０重量％）＞ （ａ）SPRIT NIGROSINE SJ（Dye Specialities,INC.） １５重量部 （ｂ）“アルミキレート”Ｄ（アルミニウム（III）モノアセチルアセトネート ビ スエチルアセトアセテート、川研ファインケミカル（株）製） ２０重量部 （ｃ）“スミライトレジン”ＰＲ−５０７３１（ノボラック樹脂、住友デュレス （株）製）） ３０重量部 （ｄ）“サンプレン”ＬＱ−Ｔ１３３１（ポリウレタン樹脂、三洋化成工業（株 ） 製） ３５重量部 ［溶媒成分］ （１）ジメチルホルムアミド ５０重量部 （２）エチルセロソルブ ２５重量部 （３）メチルイソブチルケトン ２５重量部 ＜シリコーンゴム層組成（固形分濃度７重量％）＞ （１）ポリジメチルシロキサン（分子量約２５，０００、末端水酸基） １００重量部 （２）ビニルトリ（メチルエチルケトオキシム）シラン １０重量部 ［溶媒成分］ （１）“アイソパー”Ｅ（エクソン化学（株）製） 実施例６ 実施例５において、感熱層塗液の組成を以下に示すもの
に代えた以外は全て同様に印刷版原版を作製し、同様に
評価したところ、１２５ｍＪ／ｓ（２５０ｍＷ）以上４
００ｍＪ／ｓ（８００ｍＷ）以下ではシリコーンゴム層
のみが、それよりエネルギーの高い領域ではシリコーン
ゴム層と共に感熱層が除去されていた。
に代えた以外は全て同様に印刷版原版を作製し、同様に
評価したところ、１２５ｍＪ／ｓ（２５０ｍＷ）以上４
００ｍＪ／ｓ（８００ｍＷ）以下ではシリコーンゴム層
のみが、それよりエネルギーの高い領域ではシリコーン
ゴム層と共に感熱層が除去されていた。
【０１４４】 ＜感熱層組成（固形分濃度１０重量％）＞ （ａ）“ＫＡＹＡＳＯＲＢ”ＩＲ−８２０Ｂ（赤外光吸収染料、日本化薬（株） 製） １０重量部 （ｂ）鉄（III）アセチルアセトネート（半井化学薬品（株）製） ２０重量部 （ｃ）“スミライトレジン”ＰＲ−５０７３１（ノボラック樹脂、住友デュレス （株）製）） ３０重量部 （ｄ）“サンプレン”ＬＱ−Ｔ１３３１（ポリウレタン樹脂、三洋化成工業（株 ） 製） ４０重量部 ［溶媒成分］ （１）ジメチルホルムアミド ５０重量部 （２）エチルセロソルブ ２５重量部 （３）メチルイソブチルケトン ２５重量部 実施例７ 実施例５において、感熱層塗液の組成を以下に示すもの
に代えた以外は全て同様に印刷版原版を作製し、同様に
評価したところ、２２５ｍＪ／ｓ（４５０ｍＷ）以上５
００ｍＪ／ｓ（１０００ｍＷ）以下ではシリコーンゴム
層のみが、それよりエネルギーの高い領域ではシリコー
ンゴム層と共に感熱層が除去されていた。
に代えた以外は全て同様に印刷版原版を作製し、同様に
評価したところ、２２５ｍＪ／ｓ（４５０ｍＷ）以上５
００ｍＪ／ｓ（１０００ｍＷ）以下ではシリコーンゴム
層のみが、それよりエネルギーの高い領域ではシリコー
ンゴム層と共に感熱層が除去されていた。
【０１４５】 ＜感熱層組成（固形分濃度１０重量％）＞ （ａ）SPRIT NIGROSINE SJ（Dye Specialities,INC.） １５重量部 （ｂ）“アルミキレート”Ｄ（アルミニウム（III）モノアセチルアセトネート ビ スエチルアセトアセテート、川研ファインケミカル（株）製） １０重量部 （ｃ）“スミラック”ＰＣ−１（レゾール樹脂、住友デュレス（株）製）） ３０重量部 （ｄ）“サンプレン”ＬＱ−Ｔ１３３１（ポリウレタン樹脂、三洋化成工業（株 ） 製） ４５重量部 ［溶媒成分］ （１）ジメチルホルムアミド ５０重量部 （２）エチルセロソルブ ２５重量部 （３）メチルイソブチルケトン ２５重量部 実施例８ 実施例５において、感熱層塗液の組成を以下に示すもの
に代えた以外は全て同様に印刷版原版を作製し、同様に
評価したところ、１７５ｍＪ／ｓ（３５０ｍＷ）以上４
２５ｍＪ／ｓ（８５０ｍＷ）以下ではシリコーンゴム層
のみが、それよりエネルギーの高い領域ではシリコーン
ゴム層と共に感熱層が除去されていた。
に代えた以外は全て同様に印刷版原版を作製し、同様に
評価したところ、１７５ｍＪ／ｓ（３５０ｍＷ）以上４
２５ｍＪ／ｓ（８５０ｍＷ）以下ではシリコーンゴム層
のみが、それよりエネルギーの高い領域ではシリコーン
ゴム層と共に感熱層が除去されていた。
【０１４６】 ＜感熱層組成（固形分濃度１０重量％）＞ （ａ）SPRIT NIGROSINE SJ（Dye Specialities,INC.） １５重量部 （ｂ）“アルミキレート”Ｄ（アルミニウム（III）モノアセチルアセトネート ビ スエチルアセトアセテート、川研ファインケミカル（株）製） ２０重量部 （ｃ）“スミラック”ＰＣ−１（レゾール樹脂、住友デュレス（株）製）） ３０重量部 （ｄ）“サンプレン”ＬＱ−Ｔ１３３１（ポリウレタン樹脂、三洋化成工業（株 ） 製） ３５重量部 ［溶媒成分］ （１）ジメチルホルムアミド ５０重量部 （２）エチルセロソルブ ２５重量部 （３）メチルイソブチルケトン ２５重量部 比較例３ 実施例５において、感熱層塗液の組成を以下に示すもの
に代えた以外は全て同様に印刷版原版を作製し、同様に
評価したところ、４７５ｍＪ／ｓ（９５０ｍＷ）以上で
やっとシリコーンゴム層が除去されるという感度の低い
版しか得られなかった。
に代えた以外は全て同様に印刷版原版を作製し、同様に
評価したところ、４７５ｍＪ／ｓ（９５０ｍＷ）以上で
やっとシリコーンゴム層が除去されるという感度の低い
版しか得られなかった。
【０１４７】 ＜感熱層組成（固形分濃度１０重量％）＞ （ａ）SPRIT NIGROSINE SJ（Dye Specialities,INC.） １５重量部 （ｃ）“スミラック”ＰＣ−１（レゾール樹脂、住友デュレス（株）製）） ３０重量部 （ｄ）“サンプレン”ＬＱ−Ｔ１３３１（ポリウレタン樹脂、三洋化成工業（株 ） 製） ５５重量部 ［溶媒成分］ （１）ジメチルホルムアミド ５０重量部 （２）エチルセロソルブ ２５重量部 （３）メチルイソブチルケトン ２５重量部 実施例９ 実施例５において、感熱層塗液の組成を以下に示すもの
に代えた以外は全て同様に印刷版原版を作製し、同様に
評価したところ、１７５ｍＪ／ｓ（３５０ｍＷ）以上４
２５ｍＪ／ｓ（８５０ｍＷ）以下ではシリコーンゴム層
のみが、それよりエネルギーの高い領域ではシリコーン
ゴム層と共に感熱層が除去されていた。
に代えた以外は全て同様に印刷版原版を作製し、同様に
評価したところ、１７５ｍＪ／ｓ（３５０ｍＷ）以上４
２５ｍＪ／ｓ（８５０ｍＷ）以下ではシリコーンゴム層
のみが、それよりエネルギーの高い領域ではシリコーン
ゴム層と共に感熱層が除去されていた。
【０１４８】 ＜感熱層組成（固形分濃度１０重量％）＞ （ａ）SPRIT NIGROSINE SJ（Dye Specialities,INC.） １５重量部 （ｂ）“ナーセム”Ti（日本化学産業（株）製） ２０重量部 （ｃ）“リポキシ”ＶＲ−９０（エポキシアクリレート、昭和高分子（株）製） ３０重量部 （ｄ）“サンプレン”ＬＱ−Ｔ１３３１（ポリウレタン樹脂、三洋化成工業（株 ） 製） ３５重量部 ［溶媒成分］ （１）ジメチルホルムアミド ５０重量部 （２）エチルセロソルブ ２５重量部 （３）メチルイソブチルケトン ２５重量部 実施例１０ 実施例５において、感熱層塗液の組成、およびシリコー
ンゴム層塗液の組成を以下に示すものに代えた以外は全
て同様に印刷版原版を作製し、同様に評価したところ、
１７５ｍＪ／ｓ以上でシリコーンゴム層が除去された版
が得られた。
ンゴム層塗液の組成を以下に示すものに代えた以外は全
て同様に印刷版原版を作製し、同様に評価したところ、
１７５ｍＪ／ｓ以上でシリコーンゴム層が除去された版
が得られた。
【０１４９】 ＜感熱層組成（固形分濃度１０重量％）＞ （ａ）“ＫＡＹＡＳＯＲＢ”ＩＲ−８２０Ｂ（赤外光吸収染料、日本化薬（株） 製） １０重量部 （ｂ）“ナーセム”Ti（日本化学産業（株）製） １０重量部 （ｃ）“スミライトレジン”ＰＲ−５０７３１（ノボラック樹脂、住友デュレス （株）製）） ５０重量部 （ｄ）“サンプレン”ＬＱ−Ｔ１３３１（ポリウレタン樹脂、三洋化成工業（株 ） 製） ３０重量部 ［溶媒成分］ （１）ジメチルホルムアミド １０重量部 （２）テトラヒドロフラン ９０重量部 ＜シリコーンゴム層組成（固形分濃度７重量％）＞ （１）ビニル基含有ポリシロキサン １００重量部 （２）ハイドロジェンポリシロキサン ５重量部 （３）重合禁止剤 １重量部 （４）触媒 ２重量部 ［溶媒成分］ （１）“アイソパー”Ｅ（エクソン化学（株）製） 実施例１１ 実施例１０において、感熱層組成物をバーコーターで塗
布した後、乾燥を１３０℃で１分間とした以外は全て同
様に印刷版原版を作製し、同様に評価したところ、１５
０ｍＪ／ｓ以上でシリコーンゴム層が除去された版が得
られた。
布した後、乾燥を１３０℃で１分間とした以外は全て同
様に印刷版原版を作製し、同様に評価したところ、１５
０ｍＪ／ｓ以上でシリコーンゴム層が除去された版が得
られた。
【０１５０】実施例１２ 厚さ０．２４ｍｍの脱脂したアルミ板上に下記の組成よ
りなる溶液を塗布し、２００℃、２分間乾燥し、３ｇ／
ｍ2の断熱層を設けた。
りなる溶液を塗布し、２００℃、２分間乾燥し、３ｇ／
ｍ2の断熱層を設けた。
【０１５１】 ＜断熱層組成（固形分濃度１６．７重量％）＞ （１）エポキシ・フェノール樹脂“カンコート”９０Ｔ−２５−３０９４ （関西ペイント（株）製） １５重量部 （２）“ホワイト”ＵＬ７Ｅ２６５（住化カラー（株）製、酸化チタン） ２重量部 ［溶媒成分］ （１）ジメチルホルムアミド ８５重量部 次いで、この断熱層上に次の組成を有する感熱層組成物
を塗布し、８０℃で１分間乾燥し、膜厚２ｇ／ｍ2の感
熱層を設けた。
を塗布し、８０℃で１分間乾燥し、膜厚２ｇ／ｍ2の感
熱層を設けた。
【０１５２】 ＜感熱層組成（固形分濃度１２．５重量％）＞ （ａ）SPRIT NIGROSINE SJ（Dye Specialities,INC.） ５重量部 （ｂ）“アルミキレート”Ｄ（アルミニウムモノアセチルアセトネートビスエチ ルアセトアセテート、川研ファインケミカル（株）製） ３０重量部 （ｃ）“スミラック”ＰＣ−１（レゾール樹脂、住友デュレス（株）製）） ７０重量部 （ｄ）“サンプレン”ＬＱ−９０９Ｌ（ポリウレタン樹脂、三洋化成工業（株） 製） ２０重量部 ［溶媒成分］ （１）テトラヒドロフラン ８７５重量部 さらに、この感熱層の上に下記の組成を有するシリコー
ンゴム組成物をバーコーターで塗布した後、１００℃で
１分間湿熱硬化させて２．０μｍのシリコーンゴム層を
設けた。
ンゴム組成物をバーコーターで塗布した後、１００℃で
１分間湿熱硬化させて２．０μｍのシリコーンゴム層を
設けた。
【０１５３】 ＜シリコーンゴム層組成（固形分濃度８．４重量％）＞ （１）ポリジメチルシロキサン（分子量約３５，０００、末端水酸基） １００重量部 （２）ビニルトリス（メチルエチルケトオキシム）シラン ９重量部 （３）ジブチル錫ジアセテート ０．５重量部 ［溶媒成分］ （１）“アイソパーＥ”（エクソン化学（株）製） １２００重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍのポリ
プロピレンフィルム“トレファン”（東レ（株）製）を
カレンダーローラーを用いてラミネートし、直描型水な
し平版印刷版原版を得た。
プロピレンフィルム“トレファン”（東レ（株）製）を
カレンダーローラーを用いてラミネートし、直描型水な
し平版印刷版原版を得た。
【０１５４】この後、実施例１と同様にレーザー照射を
行い、同様に現像を行った。この際、前処理液としては
東レ（株）製“ＰＰ−Ｆ”を、現像液としては水を、後
処理液としては東レ（株）製“ＰＡ−Ｆ”を用いた。
行い、同様に現像を行った。この際、前処理液としては
東レ（株）製“ＰＰ−Ｆ”を、現像液としては水を、後
処理液としては東レ（株）製“ＰＡ−Ｆ”を用いた。
【０１５５】その結果、あるエネルギー領域においてレ
ーザー光が照射された部分のみが残存し、その他の部分
はシリコーンゴム層が剥離したポジ型の水なし平版印刷
版が得られた。
ーザー光が照射された部分のみが残存し、その他の部分
はシリコーンゴム層が剥離したポジ型の水なし平版印刷
版が得られた。
【０１５６】さらに、得られた印刷版を印刷機ＨＡＭＡ
ＤＡ ＲＳ４６Ｌ（ハマダ印刷機械（株）製）に取り付
け、水なし平版用インキ（ドライオカラーＮＳＩ 藍
大日本インキ化学工業（株）製）を使用して上質紙に印
刷を行い、印刷物において画像を再現できたレーザー出
力の最小の値（ｍＪ／秒）を調べた結果、２５０ｍＪ／
秒であった。
ＤＡ ＲＳ４６Ｌ（ハマダ印刷機械（株）製）に取り付
け、水なし平版用インキ（ドライオカラーＮＳＩ 藍
大日本インキ化学工業（株）製）を使用して上質紙に印
刷を行い、印刷物において画像を再現できたレーザー出
力の最小の値（ｍＪ／秒）を調べた結果、２５０ｍＪ／
秒であった。
【０１５７】比較例４ 実施例１２において、感熱層中の光熱変換物質である
（ａ）SPRIT NIGROSINESJを抜いた以外は全く同様にし
て印刷版原版を作製し、同様に評価したところ、シリコ
ーンゴム層が版面全体にわたり剥がれた版しか得られな
かった。
（ａ）SPRIT NIGROSINESJを抜いた以外は全く同様にし
て印刷版原版を作製し、同様に評価したところ、シリコ
ーンゴム層が版面全体にわたり剥がれた版しか得られな
かった。
【０１５８】比較例５ 実施例１２において、感熱層中の金属キレート化合物で
ある（ｂ）“アルミキレート”Ｄを抜いた以外は全く同
様にして印刷版原版を作製し、同様に評価したところ、
シリコーンゴム層が版面全体にわたり剥がれた版しか得
られなかった。
ある（ｂ）“アルミキレート”Ｄを抜いた以外は全く同
様にして印刷版原版を作製し、同様に評価したところ、
シリコーンゴム層が版面全体にわたり剥がれた版しか得
られなかった。
【０１５９】実施例１３ 厚さ０．２４ｍｍの脱脂したアルミ板上に下記の組成よ
りなる溶液を塗布し、２００℃、２分間乾燥し、３ｇ／
ｍ2の断熱層を設けた。
りなる溶液を塗布し、２００℃、２分間乾燥し、３ｇ／
ｍ2の断熱層を設けた。
【０１６０】 ＜断熱層組成（固形分濃度１７．１重量％）＞ （１）ポリウレタン樹脂“ミラクトラン”Ｐ２２Ｓ（日本ミラクトラン（株）製 ） １００重量部 （２）ブロックドイソシアネート“タケネートＢ８３０”（武田薬品工業（株） 製） ２０重量部 （３）エポキシ・フェノール・尿素樹脂“ＳＪ９３７２”（関西ペイント（株） 製） ８重量部 （４）ジブチル錫ジアセテート ０．５重量部 （５）“ＦＩＮＥＸ”２５（白色顔料、堺化学（株）製） １０重量部 （６）“ＫＥＴ−ＹＥＬＬＯＷ”４０２（黄色顔料、大日本インキ化学工業（株 ） 製） １０重量部 ［溶媒成分］ （１）ジメチルホルムアミド ７２０重量部 この断熱層上に、次の組成を有する感熱層組成物を塗布
し、８０℃で１分間乾燥し、膜厚３ｇ／ｍ2の感熱層を
設けた。
し、８０℃で１分間乾燥し、膜厚３ｇ／ｍ2の感熱層を
設けた。
【０１６１】 ＜感熱層組成（固形分濃度１０重量％）＞ （ａ）カーボンブラック分散ロジン変性マレイン酸樹脂 １５重量部 （内カーボンブラック１０重量部） （ｂ）鉄（III）アセチルアセトネート（半井化学薬品（株）製） １０重量部 （ｃ）“スミライトレジン”ＰＲ−５０７３１（ノボラック樹脂、住友デュレス （株）製）） ２０重量部 （ｄ）“エポキシエステル”３０００Ｍ（水酸基含有アクリレート、共栄社化学 （株）製） ２０重量部 （ｅ）“サンプレン”ＬＱ−Ｔ１３３１（ポリウレタン樹脂、三洋化成工業（株 ） 製） ４０重量部 （ｆ）“ＴＳＬ”８３７０（シリル基含有アクリレート、東芝シリコーン（株） 製） ５重量部 ［溶媒成分］ （１）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド ２２０重量部 （２）テトラヒドロフラン ７７０重量部 この感熱層の上に下記シリコーンゴム層組成物をバーコ
ーターを用いて塗布し、乾燥膜厚２．０μｍ、乾燥条件
は１２０℃×１分間とした以外は全く実施例１２と同様
に印刷版原版を作成し、評価を行ったところ、レーザー
出力２８０ｍＪ／秒以上でポジ型の水なし平版印刷版が
得られた。
ーターを用いて塗布し、乾燥膜厚２．０μｍ、乾燥条件
は１２０℃×１分間とした以外は全く実施例１２と同様
に印刷版原版を作成し、評価を行ったところ、レーザー
出力２８０ｍＪ／秒以上でポジ型の水なし平版印刷版が
得られた。
【０１６２】 ＜シリコーンゴム層組成（固形分濃度９．４重量％）＞ （１）α，ω−ジビニルポリジメチルシロキサン（重合度７７０） １００重量部 （２）ＨＭＳ−５０１（チッソ（株）製 両末端メチル（メチルハイドロジェン シロキサン）（ジメチルシロキサン）共重合体 ＳｉＨ基数／分子量＝ ０．６９mol/g） ４重量部 （３）オレフィン配位白金 ０．０２重量部 （４）“ＢＹ２４−８０８”（ダウコーニングシリコーン（株）製 反応抑制剤 ） ０．３重量部 ［溶媒成分］ （１）“アイソパー”Ｅ（エッソ化学（株）製） １０００重量部 実施例１４ 実施例１３における感熱層を下記に変更し、乾燥膜厚
２．５ｇ／ｍ2、乾燥条件は１５０℃×２分間とした以
外は全く実施例１３と同様に印刷版原版を作製し、同様
の評価を行ったところ、レーザー出力１３０ｍＪ／秒以
上でレーザー照射部のシリコーンゴム層が特異的に除去
されたネガ型の水なし平版印刷版が得られた。
２．５ｇ／ｍ2、乾燥条件は１５０℃×２分間とした以
外は全く実施例１３と同様に印刷版原版を作製し、同様
の評価を行ったところ、レーザー出力１３０ｍＪ／秒以
上でレーザー照射部のシリコーンゴム層が特異的に除去
されたネガ型の水なし平版印刷版が得られた。
【０１６３】さらに、製版後の版を用いて、レーザー出
力２００ｍＪ／秒における画線部ベタ部の感熱層の厚さ
を測定したところ２．３ｇ／ｍ2であり、残存率が９２
％であることが判明した。
力２００ｍＪ／秒における画線部ベタ部の感熱層の厚さ
を測定したところ２．３ｇ／ｍ2であり、残存率が９２
％であることが判明した。
【０１６４】 ＜感熱層組成（固形分濃度２８重量％）＞ （ａ）“ＫＡＹＡＳＯＲＢ”ＩＲ−８２０Ｂ（赤外線吸収染料、日本化薬（株） 製） １０重量部 （ｂ）“ナーセム”Ｔｉ（日本化学産業（株）製） １５重量部 （ｃ）ペンタオキシプロピレンジアミン／グリシジルメタクリレート／メチルグ リシジルエーテル＝１／３／１ｍｏｌ比付加反応物 １５重量部 （ｄ）ｍ−キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレート／メチルグリシジル エーテル＝１／２／２ｍｏｌ比付加反応物 １５重量部 （ｅ）ｍ−キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレート／３−グリシドキシ プロピルトリメトキシシラン＝１／３／１ｍｏｌ比付加反応物 ３重量部 （ｆ）“デナコール”ＥＸ−４１１（ペンタエリスルトールポリグリシジルエー テル、ナガセ化成工業（株）製） ５重量部 （ｇ）“サンプレン”Ｔ−１３３１（ポリウレタン樹脂 三洋化成工業（株）製 、 ガラス転移温度Ｔｇ：−３７℃） ３０重量部 （ｈ）マレイン酸 ０．５重量部 （ｉ）“パーヘキサ”３Ｍ（有機過酸化物 日本油脂（株）製） ５重量部 ［溶媒成分］ （１）テトラヒドロフラン：２００重量部 （２）ジメチルホルムアミド：５０重量部 また、感熱層の初期弾性率は２０ｋｇｆ／ｍｍ2であっ
た。
た。
【０１６５】実施例１５ 実施例１４における感熱層を下記に変更し、乾燥膜厚
２．５ｇ／ｍ2になるように塗布し、８０℃×１分間乾
燥した。その後、“アイドルフィン”２０００（岩崎電
気（株）製、メタルハライドランプ）を用いて、空気中
で感熱層全面に１１ｍＷ／ｃｍ2で１２０秒間紫外線を
照射した。
２．５ｇ／ｍ2になるように塗布し、８０℃×１分間乾
燥した。その後、“アイドルフィン”２０００（岩崎電
気（株）製、メタルハライドランプ）を用いて、空気中
で感熱層全面に１１ｍＷ／ｃｍ2で１２０秒間紫外線を
照射した。
【０１６６】さらにその後、実施例１４と同じシリコー
ンゴム層を塗設し、水なし平版印刷版原版を作製した。
実施例１４と同様に評価を行ったところ、レーザー出力
１３０ｍＪ／秒以上でネガ型の水なし平版印刷版が得ら
れた。
ンゴム層を塗設し、水なし平版印刷版原版を作製した。
実施例１４と同様に評価を行ったところ、レーザー出力
１３０ｍＪ／秒以上でネガ型の水なし平版印刷版が得ら
れた。
【０１６７】製版後の版を用いて、レーザー出力２００
ｍＪ／秒における画線部ベタ部の感熱層の厚さを測定し
たところ２．２５ｇ／ｍ2であり、残存率が９０％であ
ることが判明した。
ｍＪ／秒における画線部ベタ部の感熱層の厚さを測定し
たところ２．２５ｇ／ｍ2であり、残存率が９０％であ
ることが判明した。
【０１６８】また、感熱層の初期弾性率は１９ｋｇｆ／
ｍｍ2であった。
ｍｍ2であった。
【０１６９】 ＜感熱層組成（固形分濃度２８重量％）＞ （ａ）“ＫＡＹＡＳＯＲＢ”ＩＲ−８２０Ｂ（赤外線吸収染料、日本化薬（株） 製） １０重量部 （ｂ）“ナーセム”Ｔｉ（日本化学産業（株）製） １５重量部 （ｃ）ペンタオキシプロピレンジアミン／グリシジルメタクリレート／メチルグ リシジルエーテル＝１／３／１ｍｏｌ比付加反応物 １５重量部 （ｄ）ｍ−キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレート／メチルグリシジル エーテル＝１／２／２ｍｏｌ比付加反応物 １５重量部 （ｅ）ｍ−キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレート／３−グリシドキシ プロピルトリメトキシシラン＝１／３／１ｍｏｌ比付加反応物 ３重量部 （ｆ）“デナコール”ＥＸ−４１１（ペンタエリスルトールポリグリシジルエー テル、ナガセ化成工業（株）製） ５重量部 （ｇ）“サンプレン”Ｔ−１３３１（ポリウレタン樹脂 三洋化成工業（株）製 、 ガラス転移温度Ｔｇ：−３７℃） ３０重量部 （ｈ）マレイン酸 ０．５重量部 （ｉ）“ＩＲＧＡＣＵＲＥ”６５１（Ｃｉｂａ Ｇｅｉｇｙ（株）製 ベンジル ジメチルケタール） ２重量部 （ｊ）“ミヒラーケトン”（保土谷化学（株）製 ４，４’−ジメチルアミノ ベンゾフェノン） ５重量部 ［溶媒成分］ （１）テトラヒドロフラン ２００重量部 （２）ジメチルホルムアミド ５０重量部 実施例１６ ＥＣ処理を施した厚さ８０μｍのポリエチレンテレフタ
レートフィルム“ルミラー”（東レ（株）製）の上に、
実施例１２と同じ感熱層、同じシリコーンゴム層を設け
た。さらに、実施例１２と同じカバーフィルムをラミネ
ートし、直描型水なし平版印刷版原版を得た。
レートフィルム“ルミラー”（東レ（株）製）の上に、
実施例１２と同じ感熱層、同じシリコーンゴム層を設け
た。さらに、実施例１２と同じカバーフィルムをラミネ
ートし、直描型水なし平版印刷版原版を得た。
【０１７０】得られた直描型印刷版原版を実施例１２と
同様に、レーザー照射を行い、カバーフィルムを剥離し
た後、水／ジエチレングリコールモノ−２−エチルヘキ
シルエーテル：９０／１０（重量部／重量部）の混合溶
液に１分間浸漬し、さらに精製水を浸した現像パッド
（３Ｍ（株）製）を用いて版面を摩擦したところ、レー
ザー出力２８０ｍＪ／秒以上でレーザー照射部のシリコ
ーンゴム層のみが選択的に残存し、それ以外の部分のシ
リコーンゴム層が脱離したポジ型の水なし平版印刷版が
得られた。
同様に、レーザー照射を行い、カバーフィルムを剥離し
た後、水／ジエチレングリコールモノ−２−エチルヘキ
シルエーテル：９０／１０（重量部／重量部）の混合溶
液に１分間浸漬し、さらに精製水を浸した現像パッド
（３Ｍ（株）製）を用いて版面を摩擦したところ、レー
ザー出力２８０ｍＪ／秒以上でレーザー照射部のシリコ
ーンゴム層のみが選択的に残存し、それ以外の部分のシ
リコーンゴム層が脱離したポジ型の水なし平版印刷版が
得られた。
【０１７１】実施例１７ 砂目立てしたアルミ板を８０℃に加熱した弗化ジルコニ
ウムの５％水溶液で２分間表面処理し、乾燥して基板と
した。この基板上に実施例１の感熱性組成物を乾燥膜厚
２．０ｇ／ｍ2になるように塗布し、６０℃で１分間乾
燥して直描型印刷版原版原版を作製した。実施例１２と
同様にしてレーザー照射を行い、希薄なＰＳ版現像液
（富士写真フイルム(株)製ネガタイプ用現像液原液を純
水で１０倍に希釈したもの）で現像を行ったところ、レ
ーザー出力１００ｍＪ／秒以上でレーザー照射部のみが
選択的に残存したネガ型の水あり平版印刷版が得られ
た。
ウムの５％水溶液で２分間表面処理し、乾燥して基板と
した。この基板上に実施例１の感熱性組成物を乾燥膜厚
２．０ｇ／ｍ2になるように塗布し、６０℃で１分間乾
燥して直描型印刷版原版原版を作製した。実施例１２と
同様にしてレーザー照射を行い、希薄なＰＳ版現像液
（富士写真フイルム(株)製ネガタイプ用現像液原液を純
水で１０倍に希釈したもの）で現像を行ったところ、レ
ーザー出力１００ｍＪ／秒以上でレーザー照射部のみが
選択的に残存したネガ型の水あり平版印刷版が得られ
た。
【０１７２】実施例１８ 実施例１２における水酸基含有化合物である（ｃ）“ス
ミラック”ＰＣ−１（レゾール樹脂）を（ｃ）“マルカ
リンカー”ＰＨＭ−Ｃ（ポリ(p-ヒドロキシスチレン)、
丸善石油化学(株)製）：７０重量部に変更した以外は全
く実施例１２と同様に印刷版原版を作製し、同様に評価
した。
ミラック”ＰＣ−１（レゾール樹脂）を（ｃ）“マルカ
リンカー”ＰＨＭ−Ｃ（ポリ(p-ヒドロキシスチレン)、
丸善石油化学(株)製）：７０重量部に変更した以外は全
く実施例１２と同様に印刷版原版を作製し、同様に評価
した。
【０１７３】その結果、レーザー出力２８０ｍＪ／秒以
上でレーザー照射部のみが選択的に残存したポジ型の平
版印刷版が得られた。
上でレーザー照射部のみが選択的に残存したポジ型の平
版印刷版が得られた。
【０１７４】実施例１９ 実施例１で得た断熱層の上に、次の組成を有する感熱層
組成物を塗布し、１５０℃で１分間乾燥し、膜厚２ｇ／
ｍ2の感熱層を設けた。
組成物を塗布し、１５０℃で１分間乾燥し、膜厚２ｇ／
ｍ2の感熱層を設けた。
【０１７５】 ＜感熱層組成（固形分濃度１１．６重量％）＞ （ａ）“ＳＯＨＮ ＢＬＡＣＫ”（Waterbase）（三菱化学(株)製、カーボンブ ラ ックの水分散ペースト） ７重量部 （ｂ）鉄（III）アセチルアセトネート（半井化学薬品（株）製） １０重量部 （ｃ）“ゴーセノール”ＫＬ−０５（ポリビニルアルコール、日本合成化学工業 （株）製） ８重量部 （ｄ）合成例１のポリマー １５重量部 （ｅ）“ＴＳＬ”８３５０（γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、東 芝シリコーン（株）製） ２重量部 ［溶媒成分］ （１）精製水 ２８０重量部 （２）エタノール ４０重量部 この感熱層の上に下記の組成を有するシリコーンゴム組
成物をバーコーターで塗布した後、１１０℃で１分間湿
熱硬化させて２．０μｍのシリコーンゴム層を設け、さ
らに“トレファン”（東レ（株）製、ポリプロピレンフ
ィルム １２μｍ）をラミネートし、直描型水なし平版
印刷版原版を得た。
成物をバーコーターで塗布した後、１１０℃で１分間湿
熱硬化させて２．０μｍのシリコーンゴム層を設け、さ
らに“トレファン”（東レ（株）製、ポリプロピレンフ
ィルム １２μｍ）をラミネートし、直描型水なし平版
印刷版原版を得た。
【０１７６】 ＜シリコーンゴム層組成（固形分濃度８．４重量％）＞ （１）ポリジメチルシロキサン（分子量約３５，０００、末端水酸基） １００重量部 （２）エチルトリアセトキシシラン １０重量部 （３）ジブチル錫ジアセテート ０．３重量部 ［溶媒成分］ （１）“アイソパーＧ”（エクソン化学（株）製） １２００重量部 レーザー照射後の版は、カバーフィルムを剥離した後、
水／ジエチレングリコールモノ−２−エチルヘキシルエ
ーテル：９５／５（重量部／重量部）の混合溶液に１分
間浸漬し、さらに精製水を浸した現像パッド（３Ｍ
（株）製）を用いて版面を摩擦したところ、レーザー出
力１１０ｍＪ／秒以上でレーザー照射部のシリコーンゴ
ム層が除去されたネガ型の水なし平版印刷版が得られ
た。
水／ジエチレングリコールモノ−２−エチルヘキシルエ
ーテル：９５／５（重量部／重量部）の混合溶液に１分
間浸漬し、さらに精製水を浸した現像パッド（３Ｍ
（株）製）を用いて版面を摩擦したところ、レーザー出
力１１０ｍＪ／秒以上でレーザー照射部のシリコーンゴ
ム層が除去されたネガ型の水なし平版印刷版が得られ
た。
【０１７７】さらに、製版後の版を用いて、レーザー出
力２００ｍＪ／秒における画線部ベタ部の感熱層の厚さ
を測定したところ１．９ｇ／ｍ2であり、残存率９５％
であった。
力２００ｍＪ／秒における画線部ベタ部の感熱層の厚さ
を測定したところ１．９ｇ／ｍ2であり、残存率９５％
であった。
【０１７８】実施例２０ 実施例１９で得られた印刷版原版に、波長１０６４ｎ
ｍ、ビーム径１００μｍ（１／ｅ2）の半導体励起ＹＡ
Ｇレーザーを用いて連続線の書き込みを行った。記録エ
ネルギーは０．７５Ｊ／ｃｍ2とした。
ｍ、ビーム径１００μｍ（１／ｅ2）の半導体励起ＹＡ
Ｇレーザーを用いて連続線の書き込みを行った。記録エ
ネルギーは０．７５Ｊ／ｃｍ2とした。
【０１７９】その後、実施例１９と同様に現像処理した
ところ、レーザー光が照射されたシリコーンゴム層のみ
が除去されたネガ型の水なし平版印刷版が得られた。
ところ、レーザー光が照射されたシリコーンゴム層のみ
が除去されたネガ型の水なし平版印刷版が得られた。
【０１８０】画線部感熱層の膜厚を測定したところ、
１．７５ｇ／ｍ2であり、残存率８７．５％であった。
１．７５ｇ／ｍ2であり、残存率８７．５％であった。
【０１８１】実施例２１ 砂目立てしたアルミ板を８０℃に加熱した弗化ジルコニ
ウムの５％水溶液で２分間表面処理し、乾燥して基板と
した。この基板上に下記の感熱性組成物を乾燥膜厚５．
０ｇ／ｍ2になるように塗布し、１５０℃で１分間乾燥
した。
ウムの５％水溶液で２分間表面処理し、乾燥して基板と
した。この基板上に下記の感熱性組成物を乾燥膜厚５．
０ｇ／ｍ2になるように塗布し、１５０℃で１分間乾燥
した。
【０１８２】 ＜感熱層組成（固形分濃度５４重量％）＞ （ａ）“ＫＡＹＡＳＯＲＢ”ＩＲ−８２０Ｂ（赤外線吸収染料、日本化薬（株） 製） ５重量部 （ｂ）“アルミキレート”Ａ（アルミニウムアセチルアセトネート、川研ファイ ンケミカル（株）製） ２０重量部 （ｃ）“エポキシエステル”８０ＭＦＡ（エポキシアクリレート、共栄社化学 （株）製）） ４０重量部 （ｄ）“ＫＡＹＡＭＥＲ”ＰＭ−２１（含リンモノマー、日本化薬（株）製） ５重量部 （ｅ）“サンプレン”ＬＱ−Ｔ１３３１（ポリウレタン樹脂、三洋化成工業（株 ） 製） ４０重量部 （ｆ）トリレンジイソシアネート ５重量部 （ｇ）酢酸 ２重量部 ［溶媒成分］ （１）ジメチルホルムアミド ５０重量部 （２）エチルセロソルブ ２５重量部 （３）メチルイソブチルケトン ２５重量部 感熱層上に実施例１９と同じシリコーンゴム層を塗設
し、直描型水なし平版印刷版原版を得た。得られた原版
は、実施例１９と同様にレーザー照射を行い、同様に現
像した。その結果、レーザー出力１１０ｍＪ／秒以上で
ネガ型の水なし平版印刷版が得られた。
し、直描型水なし平版印刷版原版を得た。得られた原版
は、実施例１９と同様にレーザー照射を行い、同様に現
像した。その結果、レーザー出力１１０ｍＪ／秒以上で
ネガ型の水なし平版印刷版が得られた。
【０１８３】さらに、製版後の版を用いて、レーザー出
力２００ｍＪ／秒における画線部ベタ部の感熱層の厚さ
を測定したところ４．９ｇ／ｍ2であり、残存率９８％
であった。
力２００ｍＪ／秒における画線部ベタ部の感熱層の厚さ
を測定したところ４．９ｇ／ｍ2であり、残存率９８％
であった。
【０１８４】実施例２２ 厚さ０．２４ｍｍの脱脂したアルミ板上に下記の組成よ
りなる溶液を塗布し、２００℃、２分間乾燥し、３ｇ／
ｍ2の断熱層を設けた。
りなる溶液を塗布し、２００℃、２分間乾燥し、３ｇ／
ｍ2の断熱層を設けた。
【０１８５】 ＜断熱層組成（固形分濃度１６．７重量％）＞ （１）エポキシ・フェノール樹脂“カンコート”９０Ｔ−２５−３０９４ （関西ペイント（株）製） １５重量部 （２）“ＫＡＹＡＳＯＲＢ”ＩＲ−８２０Ｂ（赤外線吸収染料、日本化薬（株） 製） ０．１６重量部 ［溶媒成分］ （１）ジメチルホルムアミド ８５重量部 この断熱層上に、次の組成を有する感熱層組成物を塗布
し、１３０℃で１分間乾燥し、膜厚１ｇ／ｍ2の感熱層
を設けた。
し、１３０℃で１分間乾燥し、膜厚１ｇ／ｍ2の感熱層
を設けた。
【０１８６】 ＜感熱層組成（固形分濃度１０重量％）＞ （ａ）“ＫＡＹＡＳＯＲＢ”ＩＲ−８２０Ｂ（赤外光吸収染料、日本化薬（株） 製） １０重量部 （ｂ）“ナーセム”Ｔｉ（日本化学産業（株）製） １０重量部 （ｃ）“スミライトレジン”ＰＲ−５０７３１（ノボラック樹脂、住友デュレス （株）製）） ４０重量部 （ｄ）“サンプレン”ＬＱ−Ｔ１３３１（ポリウレタン樹脂、三洋化成工業（株 ） 製） ３０重量部 （ｅ）N,N,N'-トリ（2-ヒドロキシ-3-メタクリロキシプロピル）-N'-（2-ヒドロ キシ-3-トリメトキシシリルプロピルオキシプロピル）ポリオキシプロピ レ ンジアミン １０重量部 ［溶媒成分］ （１）ジメチルホルムアミド １００重量部 （２）テトラヒドロフラン ７００重量部 （３）イソプロピルアルコール １００重量部 感熱層上に実施例１３と同じシリコーンゴム層を塗設
し、直描型水なし平版印刷版原版を得た。得られた原版
は、実施例１３と同様にレーザー照射を行い、同様に現
像した。その結果、レーザー出力１３０ｍＪ／秒以上で
ネガ型の水なし平版印刷版が得られた。
し、直描型水なし平版印刷版原版を得た。得られた原版
は、実施例１３と同様にレーザー照射を行い、同様に現
像した。その結果、レーザー出力１３０ｍＪ／秒以上で
ネガ型の水なし平版印刷版が得られた。
【０１８７】実施例２３ 実施例２２の感熱層上に、下記シリコーンゴム層組成物
をバーコーターを用いて塗布し、乾燥膜厚２．０μｍ、
乾燥条件は１２０℃×１分間とした以外は全く実施例２
２と同様に印刷版原版を作成し、評価を行ったところ、
レーザー出力１４０ｍＪ／秒以上でネガ型の水なし平版
印刷版が得られた。
をバーコーターを用いて塗布し、乾燥膜厚２．０μｍ、
乾燥条件は１２０℃×１分間とした以外は全く実施例２
２と同様に印刷版原版を作成し、評価を行ったところ、
レーザー出力１４０ｍＪ／秒以上でネガ型の水なし平版
印刷版が得られた。
【０１８８】 ＜シリコーンゴム層組成（固形分濃度９．４重量％）＞ （１）α，ω−ジビニルポリジメチルシロキサン（重合度７７０） １００重量部 （２）ＨＭＳ−５０１（チッソ（株）製 両末端メチル（メチルハイドロジェン シロキサン）（ジメチルシロキサン）共重合体 ＳｉＨ基数／分子量＝ ０．６９mol/g） ４重量部 （３）オレフィン配位白金 ０．０２重量部 （４）“ＢＹ２４−８０８”（ダウコーニングシリコーン（株）製 反応抑制剤 ） ０．３重量部 （５）ビニルトリ（メチルエチルケトオキシム）シラン ４重量部 ［溶媒成分］ （１）“アイソパー”Ｅ（エッソ化学（株）製） １０００重量部 本実施例の結果を表１〜４に示す。
【０１８９】
【表１】
【表２】
【表３】
【表４】
【０１９０】
【発明の効果】本発明は、直描型印刷版原版において、
感熱層が（ａ）光熱変換物質と（ｂ）金属キレート化合
物を含有することで、レーザー光照射後の煩雑な工程を
必要とせずとも画像再現性の良好な直描型水なし平版が
得られる。
感熱層が（ａ）光熱変換物質と（ｂ）金属キレート化合
物を含有することで、レーザー光照射後の煩雑な工程を
必要とせずとも画像再現性の良好な直描型水なし平版が
得られる。
Claims (14)
- 【請求項１】基板上に少なくとも感熱層を有する印刷版
であって、該感熱層が（ａ）光熱変換物質、および
（ｂ）金属キレート化合物を含有することを特徴とする
直描型印刷版原版。 - 【請求項２】（ｂ）金属キレート化合物が、金属ジケテ
ネート、金属アルコキサイド、アルキル金属、金属カル
ボン酸塩から選ばれた少なくとも１種であることを特徴
とする請求項１記載の直描型印刷版原版。 - 【請求項３】（ｂ）金属キレート化合物がＡｌ、Ｔｉ、
Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｉｎの群
から選ばれる金属のキレート化合物であることを特徴と
する請求項１記載の直描型印刷版原版。 - 【請求項４】感熱層が（ｃ）活性水素基含有化合物を含
有することを特徴とする請求項１記載の直描型印刷版原
版。 - 【請求項５】（ｃ）活性水素基含有化合物が水酸基含有
化合物であることを特徴とする請求項４記載の直描型印
刷版原版。 - 【請求項６】水酸基含有化合物がフェノール性水酸基含
有化合物であることを特徴とする請求項５記載の直描型
印刷版原版。 - 【請求項７】感熱層が架橋構造を有することを特徴とす
る請求項１記載の直描型印刷版原版。 - 【請求項８】感熱層の架橋を（ｂ）金属キレート化合物
と（ｃ）水酸基含有化合物の反応によっておこなうこと
を特徴とする請求項７記載の直描型印刷版原版。 - 【請求項９】感熱層が（ｄ）バインダーポリマーを含有
することを特徴とする請求項１記載の直描型印刷版原
版。 - 【請求項１０】請求項１〜９記載の印刷版であって、該
感熱層上にインキ反発層をさらに有することを特徴とす
る直描型平版印刷版原版。 - 【請求項１１】請求項１０記載の直描型平版印刷版であ
って、該インキ反発層がシリコーンゴム層であることを
特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。 - 【請求項１２】請求項１１に記載の直描型水なし平版印
刷版原版を露光後、水または界面活性剤を含有する液を
もって現像することを特徴とする直描水なし平版印刷版
の製造方法。 - 【請求項１３】請求項１２に記載の現像済みの直描型水
なし平版印刷版を、染色液を用いて、シリコーンゴム層
の剥離によって露出している層を染色することを特徴と
する直描型水なし平版印刷版の製造方法。 - 【請求項１４】請求項１３に記載の露出している層が感
熱層であることを特徴とする直描型水なし平版印刷版の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31767998A JP4186278B2 (ja) | 1997-11-07 | 1998-11-09 | 直描型水なし平版印刷版原版 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30567397 | 1997-11-07 | ||
| JP9-305673 | 1997-11-07 | ||
| JP31767998A JP4186278B2 (ja) | 1997-11-07 | 1998-11-09 | 直描型水なし平版印刷版原版 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11221977A true JPH11221977A (ja) | 1999-08-17 |
| JP4186278B2 JP4186278B2 (ja) | 2008-11-26 |
Family
ID=26564400
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31767998A Expired - Fee Related JP4186278B2 (ja) | 1997-11-07 | 1998-11-09 | 直描型水なし平版印刷版原版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4186278B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001042857A1 (fr) * | 1999-12-09 | 2001-06-14 | Toray Industries, Inc. | Materiau et procede de fabrication pour plaque d'impression a resine photosensible |
| JP2001264962A (ja) * | 2000-03-17 | 2001-09-28 | Dainippon Printing Co Ltd | オフセット印刷版 |
| WO2008056588A1 (en) | 2006-11-06 | 2008-05-15 | Toray Industries, Inc. | Precursor for waterless lithographic printing plate |
| JP2008132791A (ja) * | 2000-01-14 | 2008-06-12 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の製版方法 |
| JP2008188995A (ja) * | 2000-01-27 | 2008-08-21 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の製版方法 |
| JP2010069864A (ja) * | 2008-01-25 | 2010-04-02 | Fujifilm Corp | レリーフ印刷版の作製方法及びレーザー彫刻用印刷版原版 |
| US20210206189A1 (en) * | 2018-06-27 | 2021-07-08 | Toray Industries, Inc. | Lithographic printing original plate, method for manufacturing lithographic printing plate, and method for manufacturing prints using same |
-
1998
- 1998-11-09 JP JP31767998A patent/JP4186278B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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