JP2000263957A

JP2000263957A - 直描型水なし平版印刷版原版

Info

Publication number: JP2000263957A
Application number: JP7004599A
Authority: JP
Inventors: Koichi Nagase; 公一長瀬; Kunitaka Fujiyoshi; 国孝藤吉; Gentaro Obayashi; 元太郎大林
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1999-03-16
Filing date: 1999-03-16
Publication date: 2000-09-26

Abstract

(57)【要約】【課題】レーザー光照射後の煩雑な工程を必要としな
い、取扱い性に優れた直描型平版印刷版原版を提供す
る。【解決手段】シリコーンゴム層、熱硬化性樹脂を含むイ
ンキ受容層を最外表面から順次積層してなる印刷版にお
いて、レーザーによる露光によってインキ受容層のシリ
コーンゴム層と接する最表面が発泡することによってシ
リコーンゴム層、インキ受容層間の接着力が低下し、画
像を形成することが可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、湿し水を用いずに
印刷が可能な印刷版原版に関するものであり、特にレー
ザー光で直接製版できる直描型水なし平版印刷版原版に
関するものである。

【従来の技術】製版用フィルムを使用しないで、原稿か
ら直接オフセット印刷版を作製する、いわゆるダイレク
ト製版は、熟練度を必要としない簡易性、短時間で印刷
版が得られる迅速性、多様なシステムから品質とコスト
に応じて選択可能である合理性などの特徴を生かして、
軽印刷業界のみでなく、一般オフセット印刷、グラビア
印刷の分野にも進出し始めている。

【０００２】特に最近では、プリプレスシステムやイメ
ージセッター、レーザープリンタなどの出力システムの
急激な進歩によって新しいタイプの各種平版印刷材料が
開発されている。

【０００３】これらの平版印刷版を製版方法から分類す
ると、レーザー光を照射する方法、サーマルヘッドで書
き込む方法、ピン電極で電圧を部分的に印加する方法、
インクジェットでインキ反撥層またはインキ着肉層を形
成する方法などが挙げられる。

【０００４】なかでも、レーザー光を用いる方法は解像
度、および製版速度の面で他の方式よりも優れており、
その種類も多い。

【０００５】特にヒートモードのタイプのものは、明室
で取り扱えるといった利点があり、また光源となる半導
体レーザーの急激な進歩によって、最近その有用性が見
直されてきている。

【０００６】例えば、特開平６−１９９０６４号公報、
ＵＳＰ５３３９７３７号公報、ＵＳＰ５３５３７０５号
公報、ＥＰ０５８０３９３号公報、特開平６−５５７２
３号公報、ＥＰ０５７３０９１号公報、ＵＳＰ５３７８
５８０号公報、特開平７−１６４７７３号公報、特開平
６−１８６７５０号公報、特開平７−３０９００１号公
報、特開平９−１０４１８２号公報、特開平９−１４６
２６４号公報、特開平９−１４６２６５号公報、特開平
９−２３６９２７号公報、特開平９−２４４２２８号公
報、ＥＰＯ６４４０４７号公報、にはレーザー光を光源
として用いる直描型水なし平版印刷版原版およびその製
版方法などが記載されている。

【０００７】この熱破壊方式の印刷版原版の感熱層は、
レーザー光吸収化合物として主としてカーボンブラック
を用い、熱分解化合物としてニトロセルロースを使用し
ている。そしてこのカーボンブラックがレーザー光を吸
収することによって熱エネルギーに変換され、さらにそ
の熱で感熱層が破壊される。そして最終的に、現像によ
ってこの部分を除去することによって、表面のシリコー
ンゴム層が同時に剥離され、インキ着肉部となる。

【０００８】しかしながらこの印刷版は、感熱層を破壊
して画像を形成することから画線部のセルの深さが深く
なり、微少網点でのインキ着肉性が悪く、インキマイレ
ージが悪いという問題点があった。更に、感熱層を熱破
壊させ易くするために、架橋構造を形成しており印刷版
の耐刷性が劣るという問題もあった。感熱層を柔軟化さ
せると感度が極端に低下し、感熱層の柔軟化は困難であ
った。

【０００９】更にこの印刷版は感度が低く、感熱層を破
壊させるために高いレーザー光の強度が必要という問題
点もあった。

【００１０】特開平９−１４６２６４号公報では、光熱
変換層中にレーザー光を熱に変換する化合物、フィルム
形成能を有する高分子化合物、光重合開始剤、および光
重合可能なエチレン性不飽和化合物を有し、シリコーン
ゴム層形成後にエネルギー線による全面露光を施すこと
により光熱変換層と、シリコーンゴム層とを反応させた
ネガ型のレーザー感光性湿し水不要平版印刷版原版が提
案されている。

【００１１】この版材では、シリコーンゴム層塗布後に
全面露光を施すことにより、例えば小林らの文献（例え
ば、“印刷学会論文集，１８，１２８（１９７９）”や
“Ｊｏｕｒｎａｌ oｆＡｐｐｌｉｅｄＰｈｏｔｏ
ｇｒａｐｈｉｃＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，ｖｏｌ．
６，ｐｐ．６５−６８”など）に示されている公知の機
構によりシリコーンゴム層と感光層との接着力を向上さ
せ、その結果として、画像再現性、耐傷性に優れた版材
を得ている。しかしながら、前述のように、感光層の柔
軟性と感度のトレードオフ的な関係は存在しており、特
に感度が低いという問題を有していた。

【００１２】特開平９−２３９９４２号公報では、レー
ザー感応層中に酸を発生する物質と、酸の作用で分解す
る高分子化合物を含有する剥離現像タイプの印刷版が提
案されているが、レーザー光照射の工程と加熱工程とい
う二つの工程が必要になり、また微細な網点の再現性が
悪いという剥離現像固有の問題が存在する。

【００１３】また、特に特開平６−５５７２３号公報、
ＥＰ０５７３０９１号公報、ＵＳＰ５３７８５８０号公
報では、光源としてＮｄ−ＹＡＧレーザーを用いている
ために、露光装置がかなり大がかりなものとなってしま
うといった、別の問題点もあった。

【００１４】その他、ＵＳＰ５３７９６９８号公報、特
開平７−３１４９３４号公報、特開平９−２３６９２７
号公報には、金属薄膜を感熱層として用いる直描型水な
し平版印刷版が記載されている。

【００１５】この印刷版材は、感熱層がかなり薄いため
に、非常にシャープな画像が得られ、印刷版の解像度と
いう面では有利であるが、基材と感熱層の接着性が悪く
印刷中に非画線部の感熱層が剥離し、インキが付着し印
刷物上で欠点となるという問題点があった。また、この
印刷版も感熱層を破壊させて画像を形成させることから
画線部のセルが深くなりインキ着肉性やインキマイレー
ジが劣るという問題点があった。

【００１６】以上のようなレーザー光を用いた平版印刷
版の他に、特に直描型水なし平版印刷版に関するものと
して、熱接着型の直描型水なし平版印刷版が考えられ
る。

【００１７】このタイプの版材は、レーザー光照射部の
シリコーンゴム層が選択的に残存し、非画線部として働
くものである。その機構としては、レーザー光照射によ
りシリコーンゴム層とレーザー感応層との接着力、ある
いはレーザー感応層とその下にある基板との接着力が何
らかの形で向上し、その結果として、未照射部のシリコ
ーンゴム層、あるいはシリコーンゴム層とレーザー感応
層がその後の処理により選択的に除去されるというもの
である。

【００１８】このようなタイプの版材としては、例えば
特開平９−６８７９４号公報、特開平９−８０７４５号
公報、特開平９−１２０１５７号公報、特開平９−１９
７６５９号公報などが提案されている。

【００１９】特開平９−１２０１５７号公報で提案され
ている版材は、レーザー光照射により発生した酸を触媒
として感光層の反応を進め、画像を再現するというもの
である。しかしながら、酸発生後、反応を進めるために
は、熱処理という工程が必要であった。さらに、酸発生
後から熱処理までの時間が画像再現性に影響を与えるた
め、画像再現性が不安定となるという問題を有してい
た。

【００２０】特開平９−８０７４５号公報、特開平９−
１９７６５９号公報で提案されている版材も、感光層中
に活性光線の照射で酸を発生しうる化合物および酸の存
在下で反応し得る結合を有する化合物が含まれており、
レーザー光照射後、発生した酸を用いて反応を進めるタ
イプであるため、上記と同様の問題を有していた。

【００２１】また、特開平９−３００８３７号公報で提
案されている版材は、発泡層を有し、該発泡層がレーザ
ービームの照射によって発泡することによって発泡層の
上に積層されたシリコーンゴム層に膨張歪を与え、その
後ベースフィルムの剥離によって平凹版を形成するもの
である。しかし、シリコーンゴム層に膨張歪を与えるま
で発泡させるには多大のエネルギーが必要となり、また
ベースフィルムの剥離による平凹版の形成は部分的に残
留するシリコーンゴム層があり良好な版を低エネルギー
で得ることができなかった。

【００２２】

【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる従来技
術の欠点を改良するため、レーザー光照射後の煩雑な工
程を必要とせずとも、画像再現性の良好な直描型水なし
平版印刷版を提供する。

【００２３】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は以下の構成からなる。

【００２４】基板上に少なくとも熱硬化性樹脂を含有す
るインキ受容層、シリコーンゴム層を順次積層してなる
直描型水なし平版印刷版原版において、レーザー露光に
よって該インキ受容層の該シリコーンゴム層と接する最
表面が発泡することを特徴とする直描型水なし平版印刷
版原版。

【００２５】

【発明の実施の形態】なお、本発明において直描型と
は、露光時にネガあるいはポジのフィルムを用いずに、
印刷版上に直接記録ヘッドから画像形成を行うことを意
味する。以下に本発明を詳しく説明する。

【００２６】本発明のレーザーによる露光によって、熱
硬化性樹脂を含有するインキ受容層のシリコーンゴム層
と接する最表面が発泡することによってインキ受容層表
面が盛り上がり、シリコーンゴム層表面も凸状になる。
また、インキ受容層に熱硬化性樹脂を含有しているた
め、インキ受容層表面は発泡するが、内面では熱硬化が
さらにすすむ。このため、ブラシ現像によって印刷版表
面から物理的な擦り力を与えた場合には、力が発泡して
いるインキ受容層表面にかかるようになり、発泡部分、
すなわちレーザー露光部分がはぎ取られ画像を形成する
と考える。

【００２７】また、内面で熱硬化がすすむことによって
本発明の発泡部は最表面だけにとどめられ、このことに
よって画線部のインキ受容層は殆ど破壊されることなく
現像後も残存する。このことによって画線部のセル部分
が不要に深くならず、インキマイレージなどが良好とな
る。

【００２８】以下にこのような直描型印刷原版を得るた
めの各層の詳細について説明する。［インキ受容層］本発明の直描型印刷版原版は、レーザ
ー光を照射することにより画像を形成させるため、光熱
変換物質を含有することが好ましい。光熱変換物質を含
有することで、そのもの自体が分解物を発生する場合、
および他の物質に熱エネルギーを与えて他の物質を分解
し、分解物を発生させることができる。

【００２９】光熱変換物質としてはレーザー光を吸収す
るものであれば特に限定されるものではなく、例えばカ
ーボンブラック、アニリンブラック、シアニンブラック
などの黒色顔料、フタロシアニン、ナフタロシアニン系
の緑色顔料、カーボングラファイト、鉄粉、ジアミン系
金属錯体、ジチオール系金属錯体、フェノールチオール
系金属錯体、メルカプトフェノール系金属錯体、結晶水
含有無機化合物、硫酸銅、硫化クロム、珪酸塩化合物
や、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化マンガン、酸化
鉄、酸化コバルト、酸化タングステンなどの金属酸化
物、これらの金属の水酸化物、硫酸塩、さらにビスマ
ス、鉄、マグネシウム、アルミの金属粉などの添加剤を
添加することが好ましい。

【００３０】これらのなかでも、光熱変換率、経済性お
よび取り扱い性の面から、カーボンブラックが好まし
い。

【００３１】また上記の物質以外に、赤外線または近赤
外線を吸収する染料も、光熱変換物質として好ましく使
用される。

【００３２】これら染料としては４００ｎｍ〜１２００
ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する全ての染料が使用で
きるが、好ましい染料としては、エレクトロニクス用、
記録用色素であるシアニン系、フタロシアニン系、フタ
ロシアニン金属錯体系、ナフタロシアニン系、ナフタロ
シアニン金属錯体系、ジチオール金属錯体系、ナフトキ
ノン系、アントラキノン系、インドフェノール系、イン
ドアニリン系、ピリリウム系、チオピリリウム系、スク
ワリリウム系、クロコニウム系、ジフェニルメタン系、
トリフェニルメタン系、トリフェニルメタンフタリド
系、トリアリルメタン系、フェノチアジン系、フェノキ
サジン系、フルオラン系、チオフルオラン系、キサンテ
ン系、インドリルフタリド系、スピロピラン系、アザフ
タリド系、クロメノピラゾール系、ロイコオーラミン
系、ローダミンラクタム系、キナゾリン系、ジアザキサ
ンテン系、ビスラクトン系、フルオレノン系、モノアゾ
系、ケトンイミン系、ジズアゾ系、ポリメチン系、オキ
サジン系、ニグロシン系、ビスアゾ系、ビスアゾスチル
ベン系、ビスアゾオキサジアゾール系、ビスアゾフルオ
レノン系、ビスアゾヒドロキシペリノン系、アゾクロム
錯塩系、トリスアゾトリフェニルアミン系、チオインジ
ゴ系、ペリレン系、ニトロソ系、１：２型金属錯塩系、
分子間型ＣＴ系、キノリン系、キノフタロン系、フルギ
ド系の酸性染料、塩基性染料、色素、油溶性染料や、ト
リフェニルメタン系ロイコ色素、カチオン染料、アゾ系
分散染料、ベンゾチオピラン系スピロピラン、３，９−
ジブロモアントアントロン、インダンスロン、フェノー
ルフタレイン、スルホフタレイン、エチルバイオレッ
ト、メチルオレンジ、フルオレッセイン、メチルビオロ
ゲン、メチレンブルー、ジムロスベタインなどが挙げら
れる。

【００３３】これらのなかでも、エレクトロニクス用や
記録用の染料で、最大吸収波長が７００ｎｍ〜９００ｎ
ｍの範囲にある、シアニン系染料、アズレニウム系染
料、スクアリリウム系染料、クロコニウム系染料、アゾ
系分散染料、ビスアゾスチルベン系染料、ナフトキノン
系染料、アントラキノン系染料、ペリレン系染料、フタ
ロシアニン系染料、ナフタロシアニン金属錯体系染料、
ポリメチン系染料、ジチオールニッケル錯体系染料、イ
ンドアニリン金属錯体染料、分子間型ＣＴ染料、ベンゾ
チオピラン系スピロピラン、ニグロシン染料などが好ま
しく使用される。

【００３４】さらにこれらの染料のなかでも、モル吸光
度係数の大きなものが好ましく使用される。具体的には
ε＝１×１０⁴以上が好ましく、より好ましくは１×１
０⁵以上である。εが１×１０⁴より小さいと、感度の向
上効果が発現しにくいためである。

【００３５】これらの光熱変換物質は単独でも感度の向
上効果はあるが、２種以上を併用して用いることによっ
て、さらに感度を向上させることも可能である。

【００３６】また、吸収波長の異なる２種以上の光熱変
換物質を併用することにより、２種以上の発信波長の異
なるレーザーに対応出来るようにすることも可能であ
る。

【００３７】これら光熱変換物質の含有量は、全インキ
受容層組成物に対して０．１〜７０重量％が好ましく、
より好ましくは０．５〜４０重量％である。０．１重量
％よりも少ない場合にはレーザー光に対する感度の向上
効果が見られず、４０重量％よりも多い場合には印刷版
の耐刷性が低下しやすい。

【００３８】本発明の直描型印刷版原版のインキ受容層
は、バインダー樹脂を含有することが好ましい。バイン
ダー樹脂の役割としては、版材の形態保持性および耐刷
性の観点、またそれ自体が光熱変換物質からエネルギー
を受けて分解物を発生する役割を期待できる。この際、
バインダー樹脂としては、有機溶剤に可溶でかつフィル
ム形成能のあるものであれば特に限定されないが、バイ
ンダー樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）が２０℃以下であ
ることが好ましく、さらに好ましくはガラス転移温度が
０℃以下のものである。

【００３９】有機溶剤に可溶でかつフィルム形成能があ
り、さらに形態保持の機能をも果たすバインダー樹脂の
具体例としては、ビニルポリマー類、未加硫ゴム、ポリ
オキシド類（ポリエーテル類）、ポリエステル類、ポリ
ウレタン類、ポリアミド類などが挙げられるがこれらに
限定されるものではない。

【００４０】これらのバインダー樹脂の含有量は、全感
熱層組成物に対して５〜７０重量％が好ましく、より好
ましくは１０〜５０重量％である。含有量が５％よりも
少ないと耐刷性が低下しやすく、７０重量％よりも多い
と感度が低下しやすい。

【００４１】バインダー樹脂は単独で用いてもよいし、
また数種のポリマーを混合して使用してもよい。

【００４２】本発明の直描型印刷版原版のインキ受容層
は、発泡剤を含有することが好ましい。このような化合
物としては、金属キレート化合物、硝酸アンモニウム、
硝酸カリウム、硝酸ナトリウム、炭酸エステル化合物、
ニトロセルローズ等のニトロ化合物や、有機過酸化物、
無機過酸化物、ポリビニルピロリドン、アゾ化合物、ジ
アゾ化合物、テトラゾール系化合物あるいはヒドラジン
誘導体が好ましく使用される。

【００４３】特に好ましくは金属キレート化合物、有機
過酸化物、アゾ化合物、ジアゾ化合物が挙げられる。

【００４４】本発明でいう金属キレート化合物とは、
「中心金属」と有機置換基である「配位子」からなり、
金属に対して有機配位子が配位結合している錯体化合物
か、有機官能基と共有結合している有機金属化合物のこ
とをいう。有機置換基である配位子としては、一座配位
子、多座配位子に分類されるが、多座配位子、特に二座
配位子を有することが好ましい。また、金属酸化物のよ
うな無機化合物はその範疇ではない。これら金属キレー
ト化合物は、活性水素基を含有する化合物と置換反応を
おこすことが特徴である。

【００４５】「中心金属」としては周期表の第２周期か
ら第６周期の金属が挙げられ、なかでも第３周期から第
５周期の金属が好ましく、第３周期金属のＡｌ、第４周
期金属のＴｉ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、
Ｇｅ、第５周期金属のＩｎ、Ｓｎが特に好ましい。

【００４６】以上のような金属を中心にして有機化合物
との間で「（ｂ）金属キレート化合物」が形成されるわ
けであるが、それらの形態としては例えば以下の様な具
体例が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。

【００４７】（１）金属ジケテネートジケトンのエノール水酸基の水酸基が金属原子とが置換
したもので、中心金属は酸素原子を介して結合してい
る。ジケトンのカルボニルがさらに金属に対して配位結
合することができるため、比較的に安定な化合物であ
る。

【００４８】具体的には、キレート部が、２，４−ペン
タジオネート（アセチルアセトネート）、フルオロペン
タジオネート、２，２，６，６−テトラメチル−３，５
−ヘプタンジオネート、ベンゾイルアセトネート、テノ
イルトリフルオロアセトネートや１，３−ジフェニル−
１，３−プロパンジオネートなどである金属ペンタンジ
オネート（金属アセトネート）類や、メチルアセトアセ
テート、エチルアセトアセテート、メタクリルオキシエ
チルアセトアセテートやアリルアセトアセテートなどで
ある金属アセトアセテート類、サリチルアルデヒド錯塩
が挙げられる。

【００４９】（２）金属アルコキサイド中心金属に対して、酸素原子を介してアルキル基が結合
している化合物である。

【００５０】キレート部が、メトキサイド、エトキサイ
ド、プロポキサイド、ブトキサイド、フェノキサイド、
アリルオキサイド、メトキシエトキサイド、アミノエト
キサイドなどである金属アルコキサイドが挙げられる。

【００５１】（３）アルキル金属中心金属がそのままアルキル基を有するものであり、こ
の場合金属は炭素原子と結合している。キレート部化合
物がジケトンであっても、金属が炭素原子で結合してい
ればこちらに分類される。なかでもアセチルアセトン金
属が好ましく用いられる。

【００５２】（４）金属カルボン酸塩類酢酸金属塩、乳酸金属塩、アクリル酸金属塩、メタクリ
ル酸金属塩、ステアリン酸金属塩などが挙げられる。

【００５３】（５）その他エチレンジアミンなどのアミン類との金属キレート化合
物、チタンオキサイドアセトネートのような酸化金属キ
レート化合物、チタノセンフェノキサイドのような金属
錯体や、２種以上の金属原子を１分子中に有するヘテロ
金属キレート化合物が挙げられる。

【００５４】以上のような金属キレート化合物のうち好
ましく用いられる金属キレート化合物の具体例として
は、例えば、以下のような化合物が挙げられる。

【００５５】アルミニウムキレート化合物の具体例とし
ては、アルミニウムイソプロピレート、モノｓｅｃ−ブ
トキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウム
ｓｅｃ−ブチレート、エチルアセテートアルミニウムジ
イソプロピレート、プロピルアセテートアルミニウムジ
イソプロピレート、ブチルアセテートアルミニウムジイ
ソプロピレート、ヘプチルアセテートアルミニウムジイ
ソプロピレート、ヘキシルアセテートアルミニウムジイ
ソプロピレート、オクチルアセテートアルミニウムジイ
ソプロピレート、ノニルアセテートアルミニウムジイソ
プロピレート、エチルアセテートアルミニウムジエチレ
ート、エチルアセテートアルミニウムジブチレート、エ
チルアセテートアルミニウムジヘプチレート、エチルア
セテートアルミニウムジノニレート、ジエチルアセテー
トアルミニウムイソプロピレート、アルミニウムトリス
（エチルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（プ
ロピルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（ブチ
ルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（ヘキシル
アセトアセテート）、アルミニウムトリス（ノニルアセ
トアセテート）、アルミニウムトリスアセチルアセトネ
ート、アルミニウムビスエチルアセトアセテートモノア
セチルアセトネート、アルミニウムジアセチルアセトネ
ートエチルアセトアセテート、アルミニウムモノアセチ
ルアセトネートビスプロピルアセトアセテート、アルミ
ニウムモノアセチルアセトネートビスブチルアセトアセ
テート、アルミニウムモノアセチルアセトネートビスヘ
キシルアセトアセテート、アルミニウムモノエチルアセ
トアセテートビスプロピルアセトセトネート、アルミニ
ウムモノエチルアセトアセテートビスブチルアセトアセ
トネート、アルミニウムモノエチルアセトアセテートビ
スヘキシルアセトアセトネート、アルミニウムモノエチ
ルアセトアセテートビスノニルアセトアセトネート、ア
ルミニウムジブトキシドモノアセトアセテート、アルミ
ニウムジプロポキシドモノアセトアセテート、アルミニ
ウムジブトキシドモノエチルアセトアセテート、アルミ
ニウムオキシドアクリレート、アルミニウムオキシドオ
クテート、アルミニウムオキシドステアレイト、トリス
アリザリンアルミニウム、アルミニウム−ｓ−ブトキシ
ドビス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムジ−
ｓ−ブトキシドエチルアセトアセテート、アルミニウム
−９−オクタデセニルアセトアセテートジイソプロポキ
シド、アルミニウムフェノキシド、アクリル酸アルミニ
ウム、メタクリル酸アルミニウムなど。

【００５６】チタンキレート化合物の具体例としては、
イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプ
ロピルトリｎ−ステアロイルチタネート、イソプロピル
トリオクタノイルチタネート、イソプロピルトリドデシ
ルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルトリス
（ジオクチルパイロホスファイト）チタネート、テトラ
イソプロピルビス（ジオクチルホスファイト）チタネー
ト、テトラオクチルビス（ジトリデシルホスファイト）
チタネート、テトラ（２，２−ジアリルオキシメチル−
１−ブチル）ビス（ジ−トリデシル）ホスファイトチタ
ネート、ビス（ジオクチルパイロホスフェート）オキシ
アセテートチタネート、ビス（ジオクチルパイロホスフ
ェート）エチレンチタネート、トリス（ジオクチルパイ
ロホスフェート）エチレンチタネート、イソプロピルジ
メタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピル
イソステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピル
トリ（ジオクチルホスフェート）チタネート、イソプロ
ピルトリクミルフェニルチタネート、イソプロピルトリ
（Ｎ−アミノエチルアミノエチル）チタネート、ジクミ
ルフェニルオキシアセテートチタネート、ジイソステア
ロイルエチレンチタネート、イソプロピルジイソステア
ロイルクミルフェニルチタネート、イソプロピルジステ
アロイルメタクリルチタネート、イソプロピルジイソス
テアロイルアクリルチタネート、イソプロピル４−アミ
ノベンゼンスルホニルジ（ドデシルベンゼンスルホニ
ル）チタネート、イソプロピルトリメタクリルチタネー
ト、イソプロピルジ（４−アミノベンゾイル）イソステ
アロイルチタネート、イソプロピルトリ（ジオクチルパ
イロホスフェート）チタネート、イソプロピルトリアク
リルチタネート、イソプロピルトリ（Ｎ，Ｎ−ジメチル
エチルアミノ）チタネート、イソプロピルトリアントラ
ニルチタネート、イソプロピルオクチル，ブチルパイロ
ホスフェートチタネート、イソプロピルジ（ブチル，メ
チルパイロホスフェート）チタネート、テトライソプロ
ピルジ（ジラウロイルホスファイト）チタネート、ジイ
ソプロピルオキシアセテートチタネート、イソステアロ
イルメタクリルオキシアセテートチタネート、イソステ
アロイルアクリルオキシアセテートチタネート、ジ（ジ
オクチルホスフェート）オキシアセテートチタネート、
４−アミノベンゼンスルホニルドデシルベンゼンスルホ
ニルオキシアセテートチタネート、ジメタクリルオキシ
アセテートチタネート、ジクミルフェノレートオキシア
セテートチタネート、４−アミノベンゾイルイソステア
ロイルオキシアセテートチタネート、ジアクリルオキシ
アセテートチタネート、ジ（オクチル，ブチルパイロホ
スフェート）オキシアセテートチタネート、イソステア
ロイルメタクリルエチレンチタネート、ジ（ジオクチル
ホスフェート）エチレンチタネート、４−アミノベンゼ
ンスルホニルドデシルベンゼンスルホニルエチレンチタ
ネート、ジメタクリルエチレンチタネート、４−アミノ
ベンゾイルイソステアロイルエチレンチタネート、ジア
クリルエチレンチタネート、ジアントラニルエチレンチ
タネート、ジ（ブチル，メチルパイロホスフェート）エ
チレンチタネート、チタンアリルアセトアセテートトリ
イソプロポキサイド、チタンビス（トリエタノールアミ
ン）ジイソプロポキサイド、チタンジ−ｎ−ブトキサイ
ド（ビス−２，４−ペンタンジオネート）、チタンジイ
ソプロポキサイドビス（テトラメチルヘプタンジオネー
ト）、チタンジイソプロポキサイドビス（エチルアセト
アセテート）、チタンメタクリルオキシエチルアセトア
セテートトリイソプロポキサイド、チタンメチルフェノ
キサイド、チタンオキシドビス（ペンタンジオネート）
など。

【００５７】鉄（III ）アセチルアセトネート、ジベン
ゾイルメタン鉄（II）、トロポロン鉄、トリストロポロ
ノ鉄（III ）、ヒノキチオール鉄、トリスヒノキチオロ
鉄（III ）、アセト酢酸エステル鉄（III ）、鉄（III
）ベンゾイルアセトネート、鉄（III ）トリフルオロ
ペンタンジオネート、サリチルアルデヒド銅（II）、銅
（II）アセチルアセトネート、サリチルアルデヒドイミ
ン銅、コウジ酸銅、ビスコウジャト銅（II）、トロポロ
ン銅、ビストロポロノ銅（II）、ビス（５−オキシナフ
トキノン−１，４）銅、ビス（１−オキシアントラキノ
ン）ニッケル、アセト酢酸エステル銅、サリチルアミン
銅、ｏ−オキシアゾベンゼン銅、銅（II）ベンゾイルア
セテート、銅（II）エチルアセトアセテート、銅（II）
メタクリルオキシエチルアセトアセテート、銅（II）メ
トキシエトキシエトキサイド、銅（II）２，４−ペンタ
ンジオネート、銅（II）２，２，６，６−テトラメチル
−３，５−ヘプタンジオネート、亜鉛Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノエトキサイド、亜鉛２，４−ペンタンジオネー
ト、亜鉛２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプ
タンジオネートなども本発明に好ましく用いられる。

【００５８】その他、サリチルアルデヒドコバルト、ｏ
−オキシアセトフェノンニッケル、ビス（１−オキシキ
サントン）ニッケル、ピロメコン酸ニッケル、サリチル
アルデヒドニッケル、アリルトリエチルゲルマン、アリ
ルトリメチルゲルマン、アンモニウムトリス（オキザレ
ート）ゲルマネート、ビス［ビス（トリメチルシリル）
アミノ］ゲルマニウム（II）、カルボキシエチルゲルマ
ニウムセスキオキサイド、シクロペンタジエニルトリメ
チルゲルマン、ジ−ｎ−ブチルジアセトキシゲルマン、
ジ−ｎ−ブチルジクロロゲルマン、ジメチルアミノトリ
メチルゲルマン、ジフェニルゲルマン、ヘキサアリルジ
ゲルマノキサン、ヘキサエチルジゲルマノキサン、ヘキ
サメチルジゲルマン、ヒドロキシゲルマトラン１水和
物、メタクリルオキシメチルトリメチルゲルマン、メタ
クリルオキシトリエチルゲルマン、テトラアリルゲルマ
ン、テトラ−ｎ−ブチルゲルマン、テトライソプロポキ
シゲルマン、トリ−ｎ−ブチルゲルマン、トリメチルク
ロロゲルマン、トリフェニルゲルマン、ビニルトリエチ
ルゲルマン、ビス（２，４−ペンタンジオネート）ジク
ロロスズ、ジ−ｎ−ブチルビス（２，４−ペンタンジオ
ネート）スズ、カルシウム２，４−ペンタンジオネー
ト、セリウム（III ）２，４−ペンタンジオネート、コ
バルト（II）２，４−ペンタンジオネート、コバルト
（III ）２，４−ペンタンジオネート、ユーロピウム
２，４−ペンタンジオネート、ユーロピウム（III ）テ
ノイルトリフルオロアセトネート、インジウム２、４−
ペンタンジオネート、マンガン（II）２，４−ペンタン
ジオネート、マンガン（III ）２，４−ペンタンジオネ
ートなども本発明に用いられる。

【００５９】これらの具体例のうち、特に好ましく用い
られる金属キレート化合物としては、二座配位子を有す
るものであり、特にアセチルアセトネート（ペンタンジ
オネート）、エチルアセトアセトネート（ヘキサンジオ
ネート）、プロピルアセトアセトネート（ヘプタンジオ
ネート）、テトラメチルヘプタンジオネート、ベンゾイ
ルアセトネートを配位子として有するものが好ましい。

【００６０】さらに、アルミニウム、鉄（III ）、チタ
ンのアセチルアセトネート（ペンタンジオネート）、エ
チルアセトアセトネート（ヘキサンジオネート）、プロ
ピルアセトアセトネート（ヘプタンジオネート）、テト
ラメチルヘプタンジオネート、ベンゾイルアセトネート
類などが好ましい化合物として挙げられる。

【００６１】これら発泡剤はそれぞれ単独でも使用でき
るし、２種以上を混合して使用することもでき、その含
有量は熱硬化性樹脂１００重量部に対して５〜３００重
量部が好ましく、１０〜１５０重量部がさらに好まし
い。含有量が５重量部より少ないと画像形成しにくくな
り、３００重量部よりも多い場合には感熱層の物性が低
下しやすく、印刷版としては例えば耐刷性という問題が
生じやすくなるためである。

【００６２】本発明の直描型印刷版原版のインキ受容層
は、シリコーンゴム層との接着性の向上という観点か
ら、さらに、活性水素基含有化合物を含むことが好まし
い。活性水素基含有化合物としては、水酸基含有化合
物、アミノ基含有化合物、カルボキシル基含有化合物、
チオール基含有化合物などが挙げられるが、水酸基含有
化合物が好ましい。

【００６３】さらに、水酸基含有化合物としてはフェノ
ール性水酸基含有化合物、アルコール性水酸基含有化合
物のいずれも本発明に使用できる。

【００６４】フェノール性水酸基含有化合物としては、
例えば以下のような化合物を挙げることができる。

【００６５】ヒドロキノン、カテコール、グアヤコー
ル、クレゾール、キシレノール、ナフトール、ジヒドロ
キシアントラキノン、ジヒドロキシベンゾフェノン、ト
リヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾ
フェノン、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ、フェ
ノールホルムアルデヒドノボラック樹脂、レゾール樹
脂、レゾルシンベンズアルデヒド樹脂、ピロガロールア
セトン樹脂、ヒドロキシスチレンの重合体および共重合
体、ロジン変性フェノール樹脂、エポキシ変性フェノー
ル樹脂、リグニン変性フェノール樹脂、アニリン変性フ
ェノール樹脂、メラミン変性フェノール樹脂、ビスフェ
ノール類などが挙げられる。

【００６６】また、アルコール性水酸基含有化合物とし
ては、例えば以下のような化合物を挙げることができ
る。

【００６７】エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、
ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、
１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、
１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオー
ル、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオー
ル、２−ブテン−１，４−ジオール、５−ヘキセン−
１，２−ジオール、７−オクテン−１，２−ジオール、
３−メルカプト−１，２−プロパンジオール、グリセリ
ン、ジグリセリン、トリメチロールプロパン、１，２，
４−ブタントリオール、ペンタエリスリトール、ジペン
タエリスリトール、ソルビトール、ソルビタン、ポリビ
ニルアルコール、セルロースおよびその誘導体、ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレートの重合体および共重合
体など。

【００６８】また、エポキシアクリレート、エポキシメ
タクリレート、ポリビニルブチラール樹脂、および公知
の方法によって水酸基を導入したポリマーなども本発明
に使用可能である。

【００６９】これら水酸基含有化合物としては、シリコ
ーンゴム層との接着性の向上という観点から特にフェノ
ール性水酸基含有化合物が好ましく用いられる。

【００７０】これら活性水素基含有化合物はそれぞれ単
独でも使用できるし、２種以上を混合して使用すること
もでき、その含有量は、全感熱層組成物に対して５〜８
０重量％が好ましく、より好ましくは２０〜６０重量％
である。含有量が５重量％よりも少ないとシリコーンゴ
ム層との接着性が低下し、現像時にシリコーンゴム層の
剥がれなどの現象が起こり、逆に８０重量％よりも多い
と印刷版の溶剤耐性が低下しやすい。

【００７１】本発明の直描型印刷版原版のインキ受容層
は、現像性の向上という観点から、さらに、熱硬化性樹
脂を含む。

【００７２】熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、
エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、不飽和ポリ
エステル樹脂、アリル樹脂などが挙げられるが、水酸基
含有化合物としての機能を持たせる意味でフェノール性
水酸基含有化合物が好ましい。

【００７３】これら熱硬化性樹脂はそれぞれ単独でも使
用できるし、２種以上を混合して使用することもでき、
その含有量は、全感熱層組成物に対して５〜８０重量％
が好ましく、より好ましくは２０〜６０重量％である。
含有量が５重量％よりも少ないと印刷版の現像性が低下
し、逆に８０重量％よりも多いと印刷版の感度が低下し
やすい。

【００７４】この熱硬化性樹脂の役割は、レーザー露光
時感熱層表層では、高温となり一部化合物の分解が生
じ、発泡するが、その下部の比較的温度が低い中間層で
は熱硬化がすすむことが予想される。このため、露光後
の画線部は硬い感熱層の上に接着性が低下したシリコー
ンゴム層が積層された構造が生じる。このため、ブラシ
現像時にブラシの力が界面部に集中するために現像性が
改良されるものと考える。

【００７５】更に本発明において、インキ受容層には、
レベリング剤、界面活性剤、分散剤、可塑剤等を必要に
応じて任意に添加してもよい。

【００７６】下層の基板や断熱層との接着性を高めるた
めにシランカップリング剤などの各種カップリング剤を
添加する事は極めて好ましく行われる。

【００７７】また、上層のシリコーンゴム層との接着性
を高めるために、シランカップリング剤や不飽和基含有
化合物を添加することも好ましく行われる。

【００７８】このようにして得られるインキ受容層の物
性に関しては、得られる印刷版の印刷特性の観点から、
その物性が特定の範囲にあることが好ましい。この様な
物性としては引張特性、その中でも引張時の初期弾性率
を代表として挙げることが出来る。具体的には、印刷版
におけるインキ受容層の引張時の初期弾性率が７ｋｇｆ
／ｍｍ²〜７８ｋｇｆ／ｍｍ²の範囲、さらには１０ｋｇ
ｆ／ｍｍ²〜６５ｋｇｆ／ｍｍ²の範囲にあることが好ま
しい。

【００７９】インキ受容層の初期弾性率を以上のような
範囲に設定することにより、印刷版としての特性、特に
耐刷性を向上させることが出来る。逆に、初期弾性率が
７ｋｇｆ／ｍｍ²未満である場合には画線部を形成する
インキ受容層がベタ着き易くなるため印刷時にヒッキー
が発生し易くなる。また、初期弾性率が７８ｋｇｆ／ｍ
ｍ²以上である場合には、印刷時に加わる繰り返し応力
により感熱層とシリコーンゴム層との接着界面で破壊が
起こりやすくなり、耐刷性低下の原因となるためであ
る。

【００８０】インキ受容層の厚さは、被覆層にして０．
１〜１０ｇ／ｍ²であると、印刷版の耐刷性や、希釈溶
剤を揮散し易く生産性に優れる点で好ましく、より好ま
しくは１〜７ｇ／ｍ²である。［シリコーンゴム層］シリコーンゴム層としては、付加
重合型のもの、縮合重合型のものいずれでも用いられ
る。

【００８１】付加重合型のシリコーンゴム層を構成する
成分としては、ビニル基含有ポリジメチルシロキサン、
ＳｉＨ基含有ポリシロキサン、さらには硬化速度を制御
する目的で反応抑制剤、および硬化触媒を含む。

【００８２】ビニル基含有ポリジメチルシロキサンは、
下記一般式（I）で表される構造を有し、分子末端およ
び／もしくは主鎖中にビニル基を有するものである。

【００８３】

【化１】

【００８４】（式中、ｎは２以上の整数、Ｒ¹、Ｒ²は炭
素数１〜５０の置換あるいは非置換のアルキル基、炭素
数２〜５０の置換あるいは非置換のアルケニル基、炭素
数４〜５０の置換あるいは非置換のアリール基の群から
選ばれる少なくとも１種であり、それぞれ同一であって
も異なっていてもよい。）式中のＲ¹、Ｒ²の全体の５０％以上がメチル基であるこ
とが、印刷版のインキ反撥性の面で好ましい。

【００８５】また、分子量としては数千〜数十万のもの
が使用できるが、その取扱い性や得られた印刷版のイン
キ反撥性、耐傷性などの観点から重量平均分子量１万〜
２０万、さらには３万〜１５万のものを用いることが好
ましい。

【００８６】ＳｉＨ基含有ポリシロキサンとしては、分
子鎖中、または末端にＳｉＨ基を有するポリシロキサン
を挙げることが出来、例えば下記一般式で表されるよう
な化合物を挙げることが出来る。

【００８７】

【化２】

【００８８】

【化３】

【００８９】

【化４】

【００９０】

【化５】

【００９１】（式中、ｎは１以上の整数。ｍは１以上の
整数である。）ＳｉＨ基を有する化合物中におけるＳｉＨ基の量として
は、２個以上、さらには３個以上であることが好まし
い。

【００９２】ＳｉＨ基を有する化合物の添加量として
は、シリコーンゴム層全組成物の３〜２０重量％である
ことが好ましく、さらに好ましくは５〜１５重量％であ
る。

【００９３】ポリジメチルシロキサンとの量比というこ
とで言えば、ＳｉＨ基／ポリジメチルシロキサンの炭素
炭素二重結合のモル比が１．５〜３０であることが好ま
しく、さらに好ましくは１０〜２０である。このモル比
が１．５未満である場合には、シリコーンゴム層の硬化
が不足する場合があり、逆に３０よりも大きい場合には
ゴムの物性がもろくなり、印刷版の耐傷性などに悪影響
を与え易くなるためである。

【００９４】反応抑制剤としては、含窒素化合物、リン
系化合物、不飽和アルコールなどが挙げられるが、アセ
チレン基含有のアルコール、含窒素化合物などが好まし
く用いられる。

【００９５】反応抑制剤の好ましい添加量としては、シ
リコーンゴム組成物中の０．０１〜１０重量％、さらに
は１〜５重量％である。

【００９６】硬化触媒としては、ＩＩＩ族遷移金属化合
物、好ましくは、白金化合物であり、具体的には白金単
体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位白金、白金
のアルコール変性錯体、白金のメチルビニルポリシロキ
サン錯体などを一例として挙げることが出来る。

【００９７】このような硬化触媒の量は、シリコーンゴ
ム層中に固形分として０．０１〜２０重量％、好ましく
は０．１〜１０重量％であることが好ましい。添加する
触媒量が０．０１重量％未満である場合にはシリコーン
ゴム層の硬化が不充分となり、さらに感熱層との接着性
に問題を生じる場合があるためである。他方２０重量％
より多い場合にはシリコーンゴム層溶液のポットライフ
に悪影響をもたらすためである。シリコーンゴム層組成
物中における白金などの金属の量で言えば、１０〜１０
００ｐｐｍ、好ましくは１００〜５００ｐｐｍであるこ
とが好ましい。

【００９８】また、これらの組成物の他に、縮合型シリ
コーンゴム層の組成物である水酸基含有オルガノポリシ
ロキサンや加水分解性官能基含有シラン（もしくはシロ
キサン）、ゴム強度を向上させる目的でシリカなどの公
知の充填剤、接着性を向上させる目的で公知のシランカ
ップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニ
ウム系カップリング剤などを含有してもよい。シランカ
ップリング剤としては、アルコキシシラン類、アセトキ
シシラン類、ケトキシミンシラン類などが好ましく、特
にビニル基を有するものや、ケトキシミンシラン類が好
ましい。

【００９９】また、縮合重合型のシリコーンゴム層を構
成する成分としては、水酸基含有ポリジメチルシロキサ
ン、架橋剤（脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコール
型、脱アミン型、脱アセトン型、脱アミド型、脱アミノ
キシ型など）、および硬化触媒を含む。

【０１００】水酸基含有ポリジメチルシロキサンも、上
記一般式（I）で表される構造を有する。水酸基は分子
末端および／もしくは主鎖中に位置することが出来る
が、好ましく用いられるものは分子末端に水酸基を有す
るものである。

【０１０１】一般式中のＲ¹、Ｒ²については、同様に全
体の５０％以上がメチル基であることが、印刷版のイン
キ反撥性の面で好ましい。分子量としては数千〜数十万
のものが使用できるが、その取扱い性や得られた印刷版
のインキ反撥性、耐傷性などの観点から重量平均分子量
１万〜２０万、さらには３万〜１５万のものを用いるこ
とが好ましい。

【０１０２】縮合重合型のシリコーンゴム層で用いられ
る架橋剤としては、下記一般式（VI）で表される、アセ
トキシシラン類、アルコキシシラン類、ケトキシミンシ
ラン類、アリロキシシラン類などを挙げることが出来
る。（Ｒ³）_4-nＳｉＸ_n （VI）（式中、ｎは２〜４の整数。Ｒ³は炭素数１以上の置換
もしくは非置換のアルキル基、アルケニル基、アリール
基、またはこれらの組み合わされた基を示す。Ｘはハロ
ゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、ケトキシミ
ン基、アミノオキシ基、アミド基、アルケニルオキシ基
から選ばれる官能基である。）また、加水分解性基の数ｎは３または４であることが好
ましい。

【０１０３】具体的な化合物としては、メチルトリアセ
トキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、ビニルト
リアセトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチ
ルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エ
チルトリエトキシシラン、テトラエトキシシラン、テト
ラプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニ
ルトリフェノキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、
アリルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシ
シラン、ビニルトリスイソプロペノキシシラン、ビニル
メチルビス（メチルエチルケトキシミン）シラン、メチ
ルトリ（メチルエチルケトキシミン）シラン、ビニルト
リ（メチルエチルケトキシミン）シラン、テトラ（メチ
ルエチルケトキシミン）シラン、ジイソプロペノキシジ
メチルシラン、トリイソプロペノキシメチルシラン、テ
トラアリロキシシラン、などが挙げられるが、これらに
限定されるものではない。

【０１０４】これらの中では、シリコーンゴム層の硬化
速度、取扱い性などの観点から、アセトキシシラン類、
ケトキシミンシラン類が好ましい。

【０１０５】一般式（VI）で表される架橋剤の添加量と
しては、シリコーンゴム層全組成物の１．５〜２０重量
％であることが好ましく、さらに好ましくは３〜１０重
量％である。

【０１０６】ポリジメチルシロキサンとの量比というこ
とで言えば、官能基Ｘ／ポリジメチルシロキサンの水酸
基のモル比が１．５〜１０．０であることが好ましい。
このモル比が１．５未満である場合には、シリコーンゴ
ム層溶液のゲル化が起こり易く、逆に１０．０よりも大
きい場合にはゴムの物性がもろくなり、印刷版の耐傷性
などに悪影響を与え易くなるためである。

【０１０７】硬化触媒としては、酢酸、プロピオン酸、
マレイン酸などの有機カルボン酸、トルエンスルホン
酸、ホウ酸等の酸類、水酸化カリウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化リチウム等のアルカリ、アミン、およびチタ
ンテトラプロポキシド、チタンテトラブトキシドなどの
金属アルコキシド、鉄アセチルアセトナート、チタンア
セチルアセトナートジプロポキシドなどの金属ジケテネ
ート、金属の有機酸塩などを挙げることが出来る。

【０１０８】これらのの中では、金属の有機酸塩を添加
することが好ましく、特に錫、鉛、亜鉛、鉄、コバル
ト、カルシウム、マンガンから選ばれる金属の有機酸塩
であることが好ましい。このような化合物の具体例の一
部としては、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオ
クテート、ジブチル錫ジラウレート、オクチル酸亜鉛、
オクチル酸鉄などを挙げることが出来る。

【０１０９】このような硬化触媒の量は、シリコーンゴ
ム層中に固形分として０．０１〜２０重量％、好ましく
は０．１〜１０重量％であることが好ましい。添加する
触媒量が０．０１重量％未満である場合にはシリコーン
ゴム層の硬化が不十分となり、さらに感熱層との接着性
に問題を生じる場合があるためである。他方２０重量％
より多い場合にはシリコーンゴム層溶液のポットライフ
に悪影響をもたらすためである。

【０１１０】また、これらの組成物の他に、ゴム強度を
向上させる目的でシリカなどの公知の充填剤、さらには
公知のシランカップリング剤を含有してもよい。

【０１１１】これらシリコーンゴム層の膜厚は０．５〜
２０ｇ／ｍ²が好ましく、さらに好ましくは１〜４ｇ／
ｍ²である。膜厚が０．５ｇ／ｍ²よりも小さい場合には
印刷版のインキ反撥性や耐傷性、耐刷性が低下する傾向
があり、２０ｇ／ｍ²よりも大きい場合には経済的見地
から不利であるばかりでなく、現像性、インキマイレー
ジが悪くなるという問題がある。［断熱層］本発明の直描型印刷版原版は、照射されたレ
ーザーによる熱を基板に逃がすことを防ぐため、断熱層
を設けることが効果的である。

【０１１２】基板とインキ受容層の接着性を強固にする
ために従来用いられてきた公知のプライマー層をその代
用として用いてもよい。

【０１１３】本発明で使用する断熱層は、次の条件を満
たすことが必要である。すなわち、基板とインキ受容層
とをよく接着し、経時において安定であること、さらに
現像液、印刷時に使用する溶剤に対する耐性が高いこと
である。

【０１１４】このような条件を満たすものとして、エポ
キシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノ−ル樹脂、アクリ
ル樹脂、アルキッド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミ
ド樹脂、尿素樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、カゼイ
ン、ゼラチン等を含むものが挙げられる。これらの中で
は、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹
脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂等を単独で、あるいは２種
以上を混合して用いることが好ましい。

【０１１５】また、この断熱層中に顔料、染料等の添加
剤を含有させて検版性を向上させることも好ましい。

【０１１６】断熱層の厚さは被覆層にして０．５〜５０
ｇ／ｍ２が好ましく、より好ましくは１〜１０ｇ／ｍ２
である。厚さが０．５ｇ／ｍ２よりも薄いと基板表面の
形態欠陥および化学的悪影響の遮断効果に劣り、５０ｇ
／ｍ２よりも厚いと経済的見地から不利となるので上記
の範囲が好ましい。［製造方法］本発明における直描型水なし平版印刷版原
版の製造方法および製版方法について説明する。

【０１１７】基板上に、リバースロールコーター、エア
ーナイフコーター、グラビアコーター、ダイコーター、
メーヤバーコーターなどの通常のコーターあるいはホエ
ラーのような回転塗布装置を用い、必要に応じて断熱層
組成物を塗布し１００〜３００℃で数分間加熱あるいは
活性光線照射により硬化させた後、インキ受容層組成物
を塗布し５０〜１８０℃で数十秒から数分間加熱乾燥、
必要により硬化させる。

【０１１８】この後、シリコーンゴム組成物を塗布し５
０〜２００℃の温度で数分間熱処理してシリコーンゴム
層を得る。その後、必要に応じて保護フィルムをラミネ
ートするか、あるいは保護層を形成する。［カバーフィルム］以上説明されたように構成された直
描型水なし平版印刷版のシリコーンゴム層を保護するな
どの目的で、シリコーンゴム層の表面にプレーンまたは
凹凸処理した保護フィルムをラミネートしたり、現像溶
媒に溶解するようなポリマー塗膜を形成することも可能
である。

【０１１９】このようなカバーフィルムの種類として
は、ポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルム、
ポリビニルアルコールフィルム、エチレン酢酸ビニル共
重合体ケン化物フィルム、ポリ塩化ビニリデンフィル
ム、また各種金属を蒸着したフィルムなどが挙げられ
る。［レーザー照射］このようにして得られた直描型水なし
平版印刷版原版を、保護フィルムを剥離してから、ある
いは保護フィルム上からレーザー光で画像状に露光す
る。

【０１２０】本発明の製版露光工程で用いられるレーザ
ー光源としては、発信波長領域が３００ｎｍ〜１５００
ｎｍの範囲にあるものが用いられる。すなわち、アルゴ
ンイオン、クリプトンイオン、ヘリウム-ネオン、ヘリ
ウム-カドミウム、ルビー、ガラス、ＹＡＧ、チタンサ
ファイア、色素、窒素、金属蒸気、エキシマ、自由電
子、半導体などの各種レーザーが使用される。

【０１２１】これらの中でも本発明の印刷版原版を製版
する目的から、近赤外領域付近に発光波長領域が存在す
る半導体レーザーが好ましく、特に高出力半導体レーザ
ーが好ましく用いられる。［現像方法］現像方法としては、水または有機溶剤の存
在もしくは非存在下での摩擦処理により行われる。ある
いは、保護フィルムを剥離することによって印刷版上に
パターンを形成する、いわゆる剥離現像によっても印刷
版を作成することも可能である。

【０１２２】現像処理を行う場合に使用される現像液と
しては、例えば、水や水に界面活性剤を添加したもの、
さらには水に下記の極性溶媒を添加したものや、脂肪族
炭化水素類（ヘキサン、ヘプタン、イソパラフィン系炭
化水素など）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン
など）、ハロゲン化炭化水素類（トリクレンなど）など
の少なくとも１種類からなる溶媒に、下記の極性溶媒を
少なくとも１種類添加したもの、下記の極性溶媒単独、
下記の極性溶媒の2種以上の組み合わせが用いられる。

【０１２３】極性溶媒としては、エタノール、プロパノ
ール、イソプロパノール、エチレングリコール、ジエチ
レングリコール、ポリオキシプロピレングリコール、
１、３ブチレングリコールなどのアルコール類、エチレ
ングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコー
ルモノ２−エチルヘキシルエーテル、ポリオキシプロピ
レンモノブチルエーテル、ポリエチレングリコールモノ
−２−エチルヘキシルエーテルなどのエーテル類、アセ
トン、メチルエチルケトン、ジアセトンアルコールなど
のケトン類、酢酸エチル、乳酸エチル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテルアセテートなどのエステル類、
カプロン酸、２―エチルヘキサン酸、オレイン酸などの
カルボン酸などが挙げられる。

【０１２４】また、上記の現像液組成には、公知の界面
活性剤を添加することも自由に行われる。さらにアルカ
リ剤、例えば炭酸ナトリウム、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン、ジグリコールアミン、モノグリコ
ールアミン、トリエタノールアミン、ケイ酸ナトリウ
ム、ケイ酸カリウム、水酸化カリウム、ホウ酸ナトリウ
ムなどを添加することもできる。

【０１２５】これらの中では、水あるいは水に界面活性
剤を添加したもの、さらにはアルカリを添加した水が好
ましく用いられる。

【０１２６】また、これらの現像液にはクリスタルバイ
オレット、ビクトリピュアブルー、アストラゾンレッド
などの公知の塩基性染料、酸性染料、油溶性染料を添加
して現像と同時に画像部の染色化を行うことができる。

【０１２７】現像する際には、これらの現像液を、不織
布、脱脂綿、布、スポンジ等に含浸させて、版面を拭き
取ることによって、現像することができる。

【０１２８】また、現像は、特開昭６３−１６３３５７
号公報に記載されているような自動現像機を用い、上記
の現像液で版面を前処理した後に水道水などでシャワー
しながら回転ブラシで版面を擦ることによって行うこと
も好ましい。

【０１２９】上記の現像液に代えて、温水や水蒸気を版
面に噴射することによっても現像が可能である。

【０１３０】以下、本発明を実施例によりさらに詳しく
説明する。

【０１３１】

【実施例】実施例１厚さ０．２４ｍｍの脱脂したアルミ板上に下記の組成よ
りなる溶液を塗布し、２００℃、２分間乾燥し、３ｇ／
ｍ²の断熱層を設けた。＜断熱層組成（固形分濃度１６．７重量％）＞（１）エポキシ・フェノール樹脂“カンコート”９０Ｔ−２５−３０９４（関西ペイント（株）製）１５重量部（２）“ＫＡＹＡＳＯＲＢ”ＩＲ−８２０Ｂ（赤外線吸収染料、日本化薬（株）製）０．１６重量部［溶媒成分］（１）ジメチルホルムアミド８５重量部この断熱層上に、次の組成を有するインキ受容層組成物
を塗布し、１３０℃で１分間乾燥し、膜厚１ｇ／ｍ²の
感熱層を設けた。＜感熱層組成（固形分濃度１０重量％）＞（ａ）“ＫＡＹＡＳＯＲＢ”ＩＲ−８２０Ｂ（赤外光吸収染料、日本化薬（株）製）１０重量部（ｂ）“ナーセム”Ｔｉ（日本化学産業（株）製）１０重量部（ｃ）“スミライトレジン”ＰＲ−５０７３１（ノボラック樹脂、住友デュレス（株）製））６０重量部（ｄ）“サンプレン”ＬＱ−Ｔ１３３１（ポリウレタン樹脂、三洋化成工業（株）製）１０重量部（ｅ）N,N,N'-トリ（2-ヒドロキシ-3-メタクリロキシプロピル）-N'-（2-ヒドロキシ-3-トリメトキシシリルプロピルオキシプロピル）ポリオキシプロピレンジアミン１０重量部［溶媒成分］（１）ジメチルホルムアミド１００重量部（２）テトラヒドロフラン７００重量部（３）イソプロピルアルコール１００重量部上記のようにして得られた感熱層上に下記シリコーンゴ
ム層組成物を塗布し、１３０℃で１分間乾燥し、膜厚２
ｇ／ｍ²の感熱層を設けた。＜シリコーンゴム層組成（固形分濃度９．４重量％）＞（１）α，ω−ジビニルポリジメチルシロキサン（重合度７７０）１００重量部（２）ＨＭＳ−５０１（チッソ（株）製両末端メチル（メチルハイドロジェンシロキサン）（ジメチルシロキサン）共重合体ＳｉＨ基数／分子量＝０．６９ mol/g）４重量部（３）オレフィン配位白金０．０２重量部（４）“ＢＹ２４−８０８”（ダウコーニングシリコーン（株）製反応抑制剤）０．３重量部［溶媒成分］（１）“アイソパー”Ｅ（エッソ化学（株）製）１０００重量部上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍのポリ
プロピレンフィルム“トレファン”（東レ（株）製）を
カレンダーローラーを用いてラミネートし、直描型水な
し平版印刷版原版を得た。

【０１３２】この後、この印刷版原版の“トレファン”
を剥離し、ＦＸ４００−ＡＰ（製版機、東レエンジニア
リング(株)製）に装着し、半導体レーザー（波長８３０
ｎｍ、ビーム直径２０μｍ）を用いて、照射エネルギー
を変えながら、露光時間１０μｓで、パルス露光を行っ
た。

【０１３３】続いて、東レ（株）製自動現像装置ＴＷＬ
−６５０により上記露光済みの版の現像を行った。この
際、前処理液としては東レ（株）製“ＰＰ−Ｆ”を、現
像液としては水を、後処理液としては東レ（株）製“Ｐ
Ａ−Ｆ”を用いた。

【０１３４】次にハンドローラーで水なし平版用インキ
（ＷａｔｅｒｌｅｓｓＳ、ザ・インクテック（株）
製、赤）を、現像済みの版面全面に展開して、画像が再
現されるレーザー照射エネルギーを調べた。その結果、
２００ｍＪ／ｓ以上の領域において、レーザー照射部の
シリコーンゴム層が除去され、画像が再現されていた。

【０１３５】このレーザー照射部をＳＥＭで観察したと
ころ、照射部のインキ受容層の最表面に気泡が生じてい
ることが分かった。

【０１３６】比較例１感熱層塗液の組成を以下に示すものに代えた以外は全て
実施例１と同様に印刷版原版を作製し、同様に評価した
ところ、レーザー照射のシリコーンゴム層が剥がれず、
現像不能状態であり、画像を再現することが出来なかっ
た。＜感熱層組成（固形分濃度１０重量％）＞（ｂ）鉄（III）アセチルアセトネート（半井化学薬品（株）製）２０重量部（ｃ）ＤＭ６２２（エポキシメタクリレート、ナガセ化成工業（株）製））３０重量部（ｄ）“サンプレン”ＬＱ−Ｔ１３３１（ポリウレタン樹脂、三洋化成工業（株）製）５０重量部［溶媒成分］（１）ジメチルホルムアミド５０重量部（２）エチルセロソルブ２５重量部（３）メチルイソブチルケトン２５重量部このレーザー照射部分をＳＥＭで観察したところ、実施
例１で見られたような照射部に気泡を観察することはで
きなかった。この結果は、実施例１の結果と併せ考えた
場合、発泡によってシリコーンゴム層、インキ受容層間
の接着力が低下し、画像を形成することを意味してい
る。

【０１３７】

【発明の効果】本発明は、直描型印刷版原版において、
レーザーによる露光によって熱硬化性樹脂を含むインキ
受容層のシリコーンゴム層と接する最表面が発泡するこ
とによってシリコーンゴム層、インキ受容層間の接着力
が低下し、画像を形成するため、レーザー光照射後の煩
雑な工程を必要とせずとも画像再現性の良好な直描型水
なし平版が得られる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０３Ｆ 7/032 Ｇ０３Ｆ 7/032 7/30 7/30 7/32 7/32 7/40 ５２１ 7/40 ５２１Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AA04 AB04 AC01 AC08 CB06 CB22 CC20 FA03 FA17 FA37 2H084 AA16 AA40 BB13 CC06 2H096 AA13 BA16 BA20 EA02 EA04 GA08 GA11 HA09 JA04 2H114 AA05 AA24 AA30 BA01 BA05 BA10 DA03 DA05 DA30 DA34 DA39 DA55 DA56 DA59 DA62 DA71 EA01 EA04

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に少なくとも熱硬化性樹脂を含有
するインキ受容層、シリコーンゴム層を順次積層してな
る直描型水なし平版印刷版原版において、レーザー露光
によって該インキ受容層の該シリコーンゴム層と接する
最表面が発泡することを特徴とする直描型水なし平版印
刷版原版。
【請求項２】インキ受容層に少なくとも、発泡剤および
バインダー樹脂が含まれることを特徴とする請求項１記
載の直描型水なし平版印刷版原版。
【請求項３】インキ受容層が活性水素基含有化合物を含
有することを特徴とする請求項１または２に記載の直描
型水なし平版印刷版原版。
【請求項４】請求項１〜３のいずれかに記載の直描型水
なし平版印刷版原版を露光後、水または界面活性剤を含
有する液をもって現像することを特徴とする直描水なし
平版印刷版の製造方法。
【請求項５】請求項４に記載の現像済みの直描型水なし
平版印刷版を、染色液を用いて、シリコーンゴム層の剥
離によって露出しているインキ受容層を染色することを
特徴とする直描型水なし平版印刷版の製造方法。