JPH11301132A - 直描型平版印刷版原版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】不感脂化処理を行なうことなく高いインキ反発
性を有し、親水性膨潤層をインキ反発層とし、レーザー
光照射で画像形成可能な、明室対応で取扱い性に優れた
直描型平版印刷版を提供する。 【解決手段】直描型平版印刷版原版を、基板上に、少な
くとも感熱層および親水性膨潤層（あるいは親水性膨潤
層および感熱層）をこの順に積層してなる直描型平版印
刷版原版において、該感熱層が光熱変換物質と金属キレ
ート化合物を含有するものとする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷版原版に関
するものであり、不感脂化処理を行なうことなく高いイ
ンキ反撥性を有し、湿し水として純水を使用できる新規
な平版印刷版に関するものであり、特にレーザー光で直
接描画できる平版印刷版原版に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】製版用フィルムを使用しないで、原稿か
ら直接オフセット印刷版を作製する、いわゆるダイレク
ト製版は、熟練度を必要としない簡易性、短時間で印刷
版が得られる迅速性、多様なシステムから品質とコスト
に応じて選択可能である合理性などの特徴を生かして、
軽印刷業界のみでなく、一般オフセット印刷、フレキソ
印刷の分野にも進出し始めている。

【０００３】特に最近では、プリプレスシステムやイメ
ージセッター、レーザープリンタなどの出力システムの
急激な進歩によって新しいタイプの各種平版印刷材料が
開発されているが、なかでも、レーザー光を用いる方法
は解像度、および製版速度の面で他の方式よりも優れて
おり、その種類も多い。

【０００４】このレーザー光を用いる平版印刷版はさら
に、光反応によるフォトンモードのものと、光熱変換を
行って熱反応を起こさせるヒートモードの２つのタイプ
に分けられるが、最近では半導体レーザーの急激な進歩
や、明室で取り扱えるといった利点によってサーマルモ
ードのダイレクト版材が脚光を浴びている。

【０００５】例えば、特開平６−１９９０６４号公報、
ＵＳＰ５３３９７３７号公報、ＵＳＰ５３５３７０５号
公報、ＥＰ０５８０３９３号公報、特開平６−５５７２
３号公報、ＥＰ０５７３０９１号公報、ＵＳＰ５３７８
５８０号公報、特開平７−１６４７７３号公報、特開平
６−１８６７５０号公報、特開平７−３０９００１号公
報、特開平９−１４６２６４号公報、特開平９−１４６
２６５号公報、特開平９−２３６９２７号公報、特開平
９−２４４２２８号公報にはレーザー光を光源として用
いる直描型水なし平版印刷版原版およびその製版方法な
どが記載されている。

【０００６】この熱破壊方式の印刷版原版の感熱層は、
レーザー光吸収化合物として主としてカーボンブラック
を用い、熱分解化合物としてニトロセルロースを使用し
ている。そしてこのカーボンブラックがレーザー光を吸
収することによって熱エネルギーに変換され、さらにそ
の熱で感熱層が破壊される。そして最終的に、現像によ
ってこの部分を除去することによって、表面のシリコー
ンゴム層が同時に剥離され、インキ着肉部となる。

【０００７】しかしながらこの印刷版は、感熱層を破壊
して画像を形成することから画線部のセルの深さが深く
なり、微少網点でのインキ着肉性が悪く、インキマイレ
ージが悪いという問題点があった。更に、感熱層を熱破
壊させ易くするために、架橋構造を形成しており印刷版
の耐刷性が劣るという問題もあった。感熱層を柔軟化さ
せると感度が極端に低下し、感熱層の柔軟化は困難であ
った。

【０００８】更にこの印刷版は感度が低く、感熱層を破
壊させるために高いレーザー光の強度が必要という問題
点もあった。

【０００９】特開平９−１４６２６４号公報では、光熱
変換層中にレーザー光を熱に変換する化合物、フィルム
形成能を有する高分子化合物、光重合開始剤、および光
重合可能なエチレン性不飽和化合物を有し、シリコーン
ゴム層形成後にエネルギー線による全面露光を施すこと
により光熱変換層と、シリコーンゴム層とを反応させた
ネガ型のレーザー感光性湿し水不要平版印刷版原版が提
案されている。

【００１０】この版材では、シリコーンゴム層塗布後に
全面露光を施すことにより、公知の機構によりシリコー
ンゴム層と感光層との接着力を向上させ、その結果とし
て、画像再現性、耐傷性に優れた版材を得ている。しか
しながら、前述のように、感光層の柔軟性と感度のトレ
ードオフ的な関係は存在しており、特に感度が低いとい
う問題を有していた。

【００１１】特開平９−２３９９４２号公報では、レー
ザー感応層中に酸を発生する物質と、酸の作用で分解す
る高分子化合物を含有する剥離現像タイプの印刷版が提
案されているが、レーザー光照射の工程と加熱工程とい
う二つの工程が必要になり、また微細な網点の再現性が
悪いという剥離現像固有の問題が存在する。

【００１２】また、特に特開平６−５５７２３号公報、
ＥＰ０５７３０９１号公報、ＵＳＰ５３７８５８０号公
報では、光源としてＮｄ−ＹＡＧレーザーを用いている
ために、露光装置がかなり大がかりなものとなってしま
うといった、別の問題点もあった。

【００１３】その他、ＵＳＰ５３７９６９８号公報、特
開平７−３１４９３４号公報、特開平９−２３６９２７
号公報には、金属薄膜を感熱層として用いる直描型水な
し平版印刷版が記載されている。

【００１４】この印刷版材は、感熱層がかなり薄いため
に、非常にシャープな画像が得られ、印刷版の解像度と
いう面では有利であるが、基材と感熱層の接着性が悪く
印刷中に非画線部の感熱層が剥離し、インキが付着し印
刷物上で欠点となるという問題点があった。また、この
印刷版も感熱層を破壊させて画像を形成させることから
画線部のセルが深くなりインキ着肉性やインキマイレー
ジが劣るという問題点があった。

【００１５】以上のようなレーザー光を用いた平版印刷
版の他に、特に直描型水なし平版印刷版に関するものと
して、熱接着型の直描型水なし平版印刷版が考えられ
る。

【００１６】このタイプの版材は、レーザー光照射部の
シリコーンゴム層が選択的に残存し、非画線部として働
くものである。

【００１７】このようなタイプの版材としては、例えば
特開平９−６８７９４号公報、特開平９−８０７４５号
公報、特開平９−１２０１５７号公報、特開平９−１９
７６５９号公報などが提案されている。

【００１８】特開平９−１２０１５７号公報で提案され
ている版材は、レーザー光照射により発生した酸を触媒
として感光層の反応を進め、画像を再現するというもの
である。しかしながら、酸発生後、反応を進めるために
は、熱処理という工程が必要であった。さらに、酸発生
後から熱処理までの時間が画像再現性に影響を与えるた
め、画像再現性が不安定となるという問題を有してい
た。

【００１９】特開平９−８０７４５号公報、特開平９−
１９７６５９号公報で提案されている版材も、感光層中
に活性光線の照射で酸を発生しうる化合物および酸の存
在下で反応し得る結合を有する化合物が含まれており、
レーザー光照射後、発生した酸を用いて反応を進めるタ
イプであるため、上記と同様の問題を有していた。

【００２０】以上のようにダイレクト製版化の検討は水
なし平版にとどまらず、水ありＰＳ版に関しても多くな
されている。本質的な問題として、水ありＰＳ版に関し
ては印刷時の湿し水コントロールの問題があり、一方、
水なし平版に関してはインキ反撥性層としてのシリコー
ンゴム層の耐久性の問題が残っている。

【００２１】このような状況下で、インキ反撥層として
アルミニウム基板の代わりに親水性高分子材料の層を用
い、レーザー光で直接描画可能な版材が提案されてい
る。

【００２２】ＵＳＰ５３５３７０５においては、ニトロ
セルロースおよびカーボンブラックからなるレーザー感
応層上にポリビニルアルコールをインキ反撥層として積
層したヒートモード記録材料が提案されている。しかし
ながら、そのインキ反発性は湿し水供給下であっても極
めて不十分なものであった。

【００２３】また、特開平８−２８２１４３において
は、レーザー照射による活性光線の作用でレーザー感応
層と親水性膨潤層が破壊的吸収を生じる、基板上にレー
ザー感応層、インキ反発性の親水性膨潤層を有する版が
提案されている。この版においては、特異的な性質を有
する親水性膨潤層がインキ反撥層となるため、アルミ基
板をインキ反撥層とする従来の水ありＰＳ版の問題であ
った印刷時の湿し水の問題はなく、インキ反撥性も十分
なものであった。しかしながら、刷版の構造が平凹版で
あり、インキ着肉層がレーザー感応層の下層になるた
め、インキマイレージが非常に悪いという問題を有して
いた。

【００２４】

【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる従来技
術の欠点に鑑み鋭意検討を行った結果、レーザー光照射
後の煩雑な工程を必要とせずともポジ型の直描型平版印
刷版を得る技術を見出した。また、感熱層の硬化状態、
レーザー光の照射エネルギーを調節する事で高感度のネ
ガ型直描型平版印刷版を得ることが出来た。

【００２５】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は以下
の構成を有する。 （１）基板上に、少なくとも感熱層、および乾燥膜厚が
５μｍ以下で、吸水量が１〜５０ｇ／ｍ²かつ水膨潤率
が１０〜２０００％の親水性膨潤層をこの順に積層して
なる直描型平版印刷版原版において、該感熱層が少なく
とも（ａ）光熱変換物質、（ｂ）金属キレート化合物、
を含むことを特徴とする直描型平版印刷版原版。 （２）基板上に、少なくとも、乾燥膜厚が５μｍ以下
で、吸水量が１〜５０ｇ／ｍ²かつ水膨潤率が１０〜２
０００％の親水性膨潤層、感熱層をこの順に積層してな
る直描型平版印刷版原版において、該感熱層が少なくと
も光熱変換物質、金属キレート化合物、を含むことを特
徴とする直描型平版印刷版原版。 （３）該金属キレート化合物がＡｌ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｃ
ｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｓｎの群か
ら選ばれる金属のキレート化合物であることを特徴とす
る１、２いずれか記載の直描型平版印刷版原版。 （４）該感熱層が活性水素基含有化合物を有することを
特徴とする１〜３いずれか記載の直描型平版印刷版原
版。 （５）活性水素基含有化合物がフェノール性水酸基含有
化合物であることを特徴とする１〜４のいずれかに記載
の直描型平版印刷版原版。 （６）該金属キレート化合物が、金属ジケテネート、金
属アルコキサイド、アルキル金属、金属カルボン酸塩か
ら選ばれた少なくとも１種であることを特徴とする１〜
５いずれか記載の直描型平版印刷版原版。

【００２６】

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳しく説明する。

【００２７】まず、本発明の直描型平版印刷版原版に使
用する基板について説明する。なお、本発明において直
描型とは、露光時にネガあるいはポジのフィルムを用い
ずに、印刷版上に直接記録ヘッドから画像形成を行うこ
とを意味する。

【００２８】基板としては、寸法的に安定な板状物であ
れば公知の金属、フィルム等のいずれも使用することが
できる。この様な寸法的に安定な板状物としては、従来
印刷版の基板として使用されたもの等が好ましく挙げら
れる。かかる基板としては、紙、プラスチック（ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど）がラミネ
−トされた紙、アルミニウム（アルミニウム合金も含
む）、亜鉛、銅などの金属の板、セルロースアセテー
ト、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレン、ポリ
エステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスチレン、ポ
リプロピレン、ポリカ−ボネ−ト、ポリビニルアセタ−
ルなどのプラスチックのフィルム、上記の如き金属がラ
ミネ−トもしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフ
ィルムなどが挙げられる。

【００２９】これらのうち、アルミニウム板は寸法的に
著しく安定であり、しかも安価であるので特に好まし
い。また、軽印刷用の基板として用いられているポリエ
チレンテレフタレ−トフィルムも好ましく使用される。

【００３０】これら基板と感熱層の接着性を強固にする
と共に、基板が金属などのように熱伝導が比較的高い物
質を使用する場合には断熱効果の目的で、基板と感熱層
の間に断熱層を設けることが好ましい。このような断熱
層により、感熱層が熱反応を起こす際の熱が基板へ拡散
するのを防止することができる。

【００３１】断熱層を設ける場合、本発明においては、
次の条件を満たすことが必要である。すなわち、基板と
感熱層とをよく接着し、経時において安定であること、
さらに現像液、印刷時に使用する溶剤に対する耐溶剤性
が高いことである。

【００３２】このような条件を満たすものとして、エポ
キシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノ−ル樹脂、アクリ
ル樹脂、アルキッド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミ
ド樹脂、尿素樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、カゼイ
ン、ゼラチン等を含むものが挙げられる。これらの樹脂
は単独であるいは二種以上混合して用いることができ
る。また、これらの樹脂と類似の組成物を硬化したもの
を使用してもよい。

【００３３】これらの中では、ポリウレタン樹脂、ポリ
エステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂
等を単独で、あるいは２種以上を混合して用いることが
好ましい。

【００３４】また、この断熱層中に顔料、染料等の添加
剤を含有させて検版性を向上させることが好ましい。

【００３５】断熱層の厚さは被覆層にして０．５〜５０
ｇ／ｍ２が基板表面の形態欠陥を防止し化学的悪影響を
遮断する効果や経済性の点から好ましく、より好ましく
は１〜１０ｇ／ｍ２である。

【００３６】次に感熱層について説明する。

【００３７】本発明において感熱層は、少なくとも
（ａ）光熱変換物質と（ｂ）金属キレート化合物を含有
することが必要である。

【００３８】まず、（ａ）光熱変換物質について説明す
る。

【００３９】本発明の直描型水なし平版印刷版原版は、
レーザー光を照射することにより画像を形成させるた
め、光熱変換物質を含有することが必要である。光熱変
換物質としてはレーザー光を吸収するものであれば特に
限定されない。この時、レーザー光の波長としては、紫
外域、可視域、赤外域のどの領域の波長であってもよ
く、使用するレーザー光の波長に合わせた吸収域を有す
る光熱変換物質を適宜選択して使用するとよい。

【００４０】例えばカーボンブラック、アニリンブラッ
ク、シアニンブラック、チタンブラックなどの黒色顔
料、フタロシアニン、ナフタロシアニン系の緑色顔料、
カーボングラファイト、鉄粉、ジアミン系金属錯体、ジ
チオール系金属錯体、フェノールチオール系金属錯体、
メルカプトフェノール系金属錯体、結晶水含有無機化合
物、硫酸銅、硫化クロム、珪酸塩化合物や、酸化チタ
ン、酸化バナジウム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化コバ
ルト、酸化タングステンなどの金属酸化物、これらの金
属の水酸化物、硫酸塩、さらにビスマス、鉄、マグネシ
ウム、アルミの金属粉などの添加剤を添加することが好
ましい。

【００４１】これらのなかでも、光熱変換率、経済性お
よび取り扱い性の面から、カーボンブラックが好まし
い。

【００４２】また上記の物質以外に、赤外線または近赤
外線を吸収する染料も、光熱変換物質として好ましく使
用される。

【００４３】これら染料としては４００ｎｍ〜１２００
ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する全ての染料が使用で
きるが、好ましい染料としては、エレクトロニクス用、
記録用色素であるシアニン系、フタロシアニン系、フタ
ロシアニン金属錯体系、ナフタロシアニン系、ナフタロ
シアニン金属錯体系、ジチオール金属錯体系、ナフトキ
ノン系、アントラキノン系、インドフェノール系、イン
ドアニリン系、ピリリウム系、チオピリリウム系、スク
ワリリウム系、クロコニウム系、ジフェニルメタン系、
トリフェニルメタン系、トリフェニルメタンフタリド
系、トリアリルメタン系、フェノチアジン系、フェノキ
サジン系、フルオラン系、チオフルオラン系、キサンテ
ン系、インドリルフタリド系、スピロピラン系、アザフ
タリド系、クロメノピラゾール系、ロイコオーラミン
系、ローダミンラクタム系、キナゾリン系、ジアザキサ
ンテン系、ビスラクトン系、フルオレノン系、モノアゾ
系、ケトンイミン系、ジズアゾ系、ポリメチン系、オキ
サジン系、ニグロシン系、ビスアゾ系、ビスアゾスチル
ベン系、ビスアゾオキサジアゾール系、ビスアゾフルオ
レノン系、ビスアゾヒドロキシペリノン系、アゾクロム
錯塩系、トリスアゾトリフェニルアミン系、チオインジ
ゴ系、ペリレン系、ニトロソ系、１：２型金属錯塩系、
分子間型ＣＴ系、キノリン系、キノフタロン系、フルキ
ド系の酸性染料、塩基性染料、色素、油溶性染料や、ト
リフェニルメタン系ロイコ色素、カチオン染料、アゾ系
分散染料、ベンゾチオピラン系スピロピラン、３，９−
ジブロモアントアントロン、インダンスロン、フェノー
ルフタレイン、スルホフタレイン、エチルバイオレッ
ト、メチルオレンジ、フルオレッセイン、メチルビオロ
ゲン、メチレンブルー、ジムロスベタインなどが挙げら
れる。

【００４４】これらのなかでも、エレクトロニクス用や
記録用の色素で、最大吸収波長が７００ｎｍ〜９００ｎ
ｍの範囲にある、シアニン系色素、アズレニウム系色
素、スクアリリウム系色素、クロコニウム系色素、アゾ
系分散色素、ビスアゾスチルベン系色素、ナフトキノン
系色素、アントラキノン系色素、ペリレン系色素、フタ
ロシアニン系色素、ナフタロシアニン金属錯体系色素、
ポリメチン系色素、ジチオールニッケル錯体系色素、イ
ンドアニリン金属錯体色素、分子間型ＣＴ色素、ベンゾ
チオピラン系スピロピラン、ニグロシン染料などが好ま
しく使用される。

【００４５】さらにこれらの染料のなかでも、モル吸光
度係数の大きなものが好ましく使用される。具体的には
ε＝１×１０⁴以上が好ましく、より好ましくは１×１
０⁵以上である。εが１×１０⁴より小さいと、感度の向
上効果が発現しにくいためである。

【００４６】また、特公平２６７０６２１号に記載され
ているようなジチオトロポロネート系非対称型金属錯体
も本発明に好ましく用いることが出来る。

【００４７】これらの光熱変換物質は単独でも感度の向
上効果はあるが、２種以上を併用して用いることによっ
て、さらに感度を向上させることも可能である。

【００４８】これらの光熱変換物質の含有量は、全感熱
層組成物に対して０．１〜４０重量％が好ましく、より
好ましくは０．５〜２５重量％である。０．１重量％よ
りも少ない場合にはレーザー光に対する感度の向上効果
が見られず、４０重量％よりも多い場合には印刷版の耐
刷性が低下しやすい。

【００４９】次に（ｂ）金属キレート化合物について説
明する。

【００５０】本発明でいう金属キレート化合物は、「中
心金属」と有機置換基である「キレート部」からなり、
金属に対して有機配位子が配位結合している錯体化合物
か、有機官能基と共有結合している有機金属化合物のこ
とをいう。金属酸化物のような無機化合物はその範疇で
はない。これらの物質は、水酸基を含有する化合物と置
換反応をおこすことが特徴である。

【００５１】「中心金属」としては周期表の第２周期か
ら第６周期の金属および半導体原子が挙げられ、なかで
も第３周期から第５周期の金属および半導体原子が好ま
しく、第３周期金属のＡｌ、第４周期金属のＴｉ、Ｍ
ｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、第５周期金
属のＩｎ、Ｓｎが特に好ましい。

【００５２】以上のような金属を中心にして有機化合物
との間で「（ｂ）金属キレート化合物」が形成されるわ
けであるが、それらの形態としては例えば以下の様な具
体例が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。 （１）金属ジケテネート ジケトンのエノール水酸基の水酸基が金属原子とが置換
したもので、中心金属は酸素原子を介して結合してい
る。ジケトンのカルボニルがさらに金属に対して配位結
合することができるため、比較的に安定な化合物であ
る。

【００５３】具体的には、キレート部が、２，４−ペン
タジオネート（アセチルアセトネート）、フルオロペン
タジオネート、２，２，６，６−テトラメチル−３，５
−ヘプタンジオネート、ベンゾイルアセトネート、テノ
イルトリフルオロアセトネートや１，３−ジフェニル−
１，３−プロパンジオネートなどである金属ペンタンジ
オネート（金属アセトネート）類や、メチルアセトアセ
テート、エチルアセトアセテート、メタクリルオキシエ
チルアセトアセテートやアリルアセトアセテートなどで
ある金属アセトアセテート類、サリチルアレデヒド錯塩
が挙げられる。 （２）金属アルコキサイド 中心金属に対して、酸素原子を介してアルキル基が結合
している化合物である。

【００５４】キレート部が、メトキサイド、エトキサイ
ド、プロポキサイド、ブトキサイド、フェノキサイド、
アリルオキサイド、メトキシエトキサイド、アミノエト
キサイドなどである金属アルコキサイドが挙げられる。 （３）アルキル金属 中心金属がそのままアルキル基を有するものであり、こ
の場合金属は炭素原子と結合している。キレート部化合
物がジケトンであっても、金属が炭素原子で結合してい
ればこちらに分類される。なかでもアセチルアセトン金
属が好ましく用いられる。 （４）金属カルボン酸塩類 酢酸金属塩、乳酸金属塩、アクリル酸金属塩、メタクリ
ル酸金属塩、ステアリン酸金属塩などが挙げられる。 （５）その他 チタンオキサイドアセトネートのような酸化金属キレー
ト化合物、チタノセンフェノキサイドのような金属錯体
や、２種以上の金属原子を１分子中に有するヘテロ金属
キレート化合物が挙げられる。

【００５５】以上のような金属キレート化合物のうち好
ましく用いられる金属キレート化合物の具体例として
は、例えば、以下のような化合物が挙げられる。

【００５６】アルミニウムキレート化合物の具体例とし
ては、アルミニウムイソプロピレート、モノｓｅｃ−ブ
トキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウム
ｓｅｃ−ブチレート、エチルアセテートアルミニウムジ
イソプロピレート、プロピルアセテートアルミニウムジ
イソプロピレート、ブチルアセテートアルミニウムジイ
ソプロピレート、ヘプチルアセテートアルミニウムジイ
ソプロピレート、ヘキシルアセテートアルミニウムジイ
ソプロピレート、オクチルアセテートアルミニウムジイ
ソプロピレート、ノニルアセテートアルミニウムジイソ
プロピレート、エチルアセテートアルミニウムジエチレ
ート、エチルアセテートアルミニウムジブチレート、エ
チルアセテートアルミニウムジヘプチレート、エチルア
セテートアルミニウムジノニレート、ジエチルアセテー
トアルミニウムイソプロピレート、アルミニウムトリス
（エチルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（プ
ロピルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（ブチ
ルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（ヘキシル
アセトアセテート）、アルミニウムトリス（ノニルアセ
トアセテート）、アルミニウムトリスアセチルアセトネ
ート、アルミニウムビスエチルアセトアセテートモノア
セチルアセトネート、アルミニウムジアセチルアセトネ
ートエチルアセトアセテート、アルミニウムモノアセチ
ルアセトネートビスプロピルアセトアセテート、アルミ
ニウムモノアセチルアセトネートビスブチルアセトアセ
テート、アルミニウムモノアセチルアセトネートビスヘ
キシルアセトアセテート、アルミニウムモノエチルアセ
トアセテートビスプロピルアセトセトネート、アルミニ
ウムモノエチルアセトアセテートビスブチルアセトアセ
トネート、アルミニウムモノエチルアセトアセテートビ
スヘキシルアセトアセトネート、アルミニウムモノエチ
ルアセトアセテートモノノニルアセトアセトネート、ア
ルミニウムジブトキシドモノアセトアセテート、アルミ
ニウムジプロポキシドモノアセトアセテート、アルミニ
ウムジブトキシドモノエチルアセトアセテート、アルミ
ニウムオキシドアクリレート、アルミニウムオキシドオ
クテート、アルミニウムオキシドステアレイト、トリス
アリザリンアルミニウム、アルミニウム−ｓ−ブトキサ
イドビス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムジ
−ｓ−ブトキサイドエチルアセトアセテート、アルミニ
ウム−９−オクタデセニルアセトアセテートジイソプロ
ポキサイド、アルミニウムフェノキサイド、アクリル酸
アルミニウム、メタクリル酸アルミニウムなど。

【００５７】チタンキレート化合物の具体例としては、
イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプ
ロピルトリｎ−ステアロイルチタネート、イソプロピル
トリオクタノイルチタネート、イソプロピルトリドデシ
ルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルトリス
（ジオクチルパイロホスファイト）チタネート、テトラ
イソプロピルビス（ジオクチルホスファイト）チタネー
ト、テトラオクチルビス（ジトリデシルホスファイト）
チタネート、テトラ（２，２−ジアリルオキシメチル−
１−ブチル）ビス（ジ−トリデシル）ホスファイトチタ
ネート、ビス（ジオクチルパイロホスフェート）オキシ
アセテートチタネート、ビス（ジオクチルパイロホスフ
ェート）エチレンチタネート、トリス（ジオクチルパイ
ロホスフェート）エチレンチタネート、イソプロピルジ
メタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピル
イソステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピル
トリ（ジオクチルホスフェート）チタネート、イソプロ
ピルトリクミルフェニルチタネート、イソプロピルトリ
（Ｎ−アミノエチルアミノエチル）チタネート、ジクミ
ルフェニルオキシアセテートチタネート、ジイソステア
ロイルエチレンチタネート、イソプロピルジイソステア
ロイルクミルフェニルチタネート、イソプロピルジステ
アロイルメタクリルチタネート、イソプロピルジイソス
テアロイルアクリルチタネート、イソプロピル４−アミ
ノベンゼンスルホニルジ（ドデシルベンゼンスルホニ
ル）チタネート、イソプロピルトリメタクリルチタネー
ト、イソプロピルジ（４−アミノベンゾイル）イソステ
アロイルチタネート、イソプロピルトリ（ジオクチルパ
イロホスフェート）チタネート、イソプロピルトリアク
リルチタネート、イソプロピルトリ（Ｎ，Ｎ−ジメチル
エチルアミノ）チタネート、イソプロピルトリアントラ
ニルチタネート、イソプロピルオクチル，ブチルパイロ
ホスフェートチタネート、イソプロピルジ（ブチル，メ
チルパイロホスフェート）チタネート、テトライソプロ
ピルジ（ジラウロイルホスファイト）チタネート、ジイ
ソプロピルオキシアセテートチタネート、イソステアロ
イルメタクリルオキシアセテートチタネート、イソステ
アロイルアクリルオキシアセテートチタネート、ジ（ジ
オクチルホスフェート）オキシアセテートチタネート、
４−アミノベンゼンスルホニルドデシルベンゼンスルホ
ニルオキシアセテートチタネート、ジメタクリルオキシ
アセテートチタネート、ジクミルフェノレートオキシア
セテートチタネート、４−アミノベンゾイルイソステア
ロイルオキシアセテートチタネート、ジアクリルオキシ
アセテートチタネート、ジ（オクチル，ブチルパイロホ
スフェート）オキシアセテートチタネート、イソステア
ロイルメタクリルエチレンチタネート、ジ（ジオクチル
ホスフェート）エチレンチタネート、４−アミノベンゼ
ンスルホニルドデシルベンゼンスルホニルエチレンチタ
ネート、ジメタクリルエチレンチタネート、４−アミノ
ベンゾイルイソステアロイルエチレンチタネート、ジア
クリルエチレンチタネート、ジアントラニルエチレンチ
タネート、ジ（ブチル，メチルパイロホスフェート）エ
チレンチタネート、チタンアリルアセトアセテートトリ
イソプロポキサイド、チタンビス（トリエタノールアミ
ン）ジイソプロポキサイド、チタンジ−ｎ−ブトキサイ
ド（ビス−２，４−ペンタンジオネート）、チタンジイ
ソプロポキサイドビス（テトラメチルヘプタンジオネー
ト）、チタンジイソプロポキサイドビス（エチルアセト
アセテート）、チタンメタクリルオキシエチルアセトア
セテートトリイソプロポキサイド、チタンメチルフェノ
キサイド、チタンオキシドビス（ペンタンジオネート）
など。

【００５８】鉄（III ）アセチルアセトネート、ジベン
ゾイルメタン鉄（II）、トロポロン鉄、トリストロポロ
ノ鉄（III ）、ジベンゾイルメタン鉄（II）、ヒノキチ
オール鉄、トリスヒノキチオロ鉄（III ）、アセト酢酸
エステル鉄（III ）、鉄（III ）ベンゾイルアセトネー
ト、鉄（III ）２，４−ペンタンジオネート、鉄（III
）トリフルオロペンタンジオネート、サリチルアルデ
ヒド銅（II）、銅（II）アセチルアセネート、サリチル
アルデヒドイミン銅、コウジ酸銅、ビスコウジャト銅
（II）、トロポロン銅、ビストロポロノ銅（II）、ビス
（５−オキシナフトキノン−１，４）銅、ビス（１−オ
キシアントラキノン）ニッケル、アセト酢酸エステル
銅、、サリチルアミン銅、ｏ−オキシアゾベンゼン銅、
銅（II）ベンゾイルアセテート、銅（II）エチルアセト
アセテート、銅（II）メタクリルオキシエチルアセトア
セテート、銅（II）メトキシエトキシエトキサイド、銅
（II）２，４−ペンタンジオネート、銅（II）２，２，
６，６，−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネー
ト、亜鉛Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエトキサイド、亜鉛
２，４−ペンタンジオネート、亜鉛２，２，６，６−テ
トラメチル−３，５−ヘプタンジオネートなども本発明
に好ましく用いられる。

【００５９】その他、サリチルアルデヒドコバルト、ｏ
−オキシアセトフェノンニッケル、ビス（１−オキシキ
サントン）ニッケル、ピロメコン酸ニッケル、サリチル
アルデヒドニッケル、アリルトリエチルゲルマン、アリ
ルトリメチルゲルマン、アンモニウムトリス（オキザレ
ート）ゲルマネート、ビス［ビス（トリメチルシリル）
アミノ］ゲルマニウム（II）、カルボキシエチルゲルマ
ニウムセスキオキサイド、シクロペンタジェニルトリメ
チルゲルマン、ジ−ｎ−ブチルジアセトキシゲルマン、
ジ−ｎ−ブチルジクロロゲルマン、ジメチルアミノトリ
メチルゲルマン、ジフェニルゲルマン、ヘキサアリルジ
ゲルマノキサン、ヘキサエチルジゲルモキサン、ヘキサ
メチルジゲルマン、ヒドロキシゲルマトラン１水和物、
メタクリルオキシメチルトリメチルゲルマン、メタクリ
ルオキシトリエチルゲルマン、テトラアリルゲルマン、
テトラ−ｎ−ブチルゲルマン、テトライソプロポキシゲ
ルマン、トリ−ｎ−ブチルゲルマン、トリメチルクロロ
ゲルマン、トリフェニルゲルマン、ビニルトリエチルゲ
ルマン、ビス（２，４−ペンタンジオネート）ジクロロ
スズ、ジ−ｎ−ブチルビス（２，４−ペンタンジオネー
ト）スズ、カルシウム２，４ペンタンジオネート、セリ
ウム（III ）２，４−ペンタンジオネート、コバルト
（II）２，４−ペンタンジオネート、コバルト（III ）
２，４−ペンタンジオネート、ユーロピウム２，４−ペ
ンタンジオネート、ユーロピウム（III）テノイルトリ
フルオロアセトネート、インジウム２、４−ペンタンジ
オネート、マンガン（II）２，４−ペンタンジオネー
ト、マンガン（III ）２，４−ペンタンジオネートなど
も本発明に用いられる。

【００６０】これらの具体例のうち、特に好ましく用い
られる金属キレート化合物としては、アルミニウム、鉄
（III ）、チタンのアセチルアセトネート（ペンタンジ
オネート）、エチルアセトアセトネート（ヘキサンジオ
ネート）、プロピルアセトアセトネート（ヘプタンジオ
ネート）、テトラメチルヘプタンジオネート、ベンゾイ
ルアセトネート類などが挙げられる。

【００６１】これら「（ｂ）金属キレート化合物」はそ
れぞれ単独でも使用できるし、２種以上を混合して使用
することもでき、その含有量は「（ｃ）水酸基含有化合
物」１００重量部に対して５〜３００重量部が好まし
く、１０〜１５０重量部がさらに好ましい。含有量が５
重量部より少ないと画像形成しにくくなり、３００重量
部よりも多い場合には感熱層の物性が低下しやすく、印
刷版としては例えば耐刷性という問題が生じやすくなる
ためである。

【００６２】また、本発明の感熱層は、（ｂ）金属キレ
ート化合物との相互作用という観点から、さらに、活性
水素基含有化合物を含むことが好ましい。活性水素基含
有化合物としては、水酸基含有化合物、アミノ基含有化
合物、カルボキシル基含有化合物、チオール基含有化合
物などが挙げられるが、水酸基含有化合物が好ましい。

【００６３】さらに、水酸基含有化合物としてはフェノ
ール性水酸基含有化合物、アルコール性水酸基含有化合
物のいずれも本発明に使用できる。

【００６４】フェノール性水酸基含有化合物としては、
例えば以下のような化合物を挙げることができる。

【００６５】ヒドロキノン、カテコール、グアヤコー
ル、クレゾール、キシレノール、ナフトール、ジヒドロ
キシアントラキノン、ジヒドロキシベンゾフェノン、ト
リヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾ
フェノン、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ、フェ
ノールホルムアルデヒドノボラック樹脂、レゾール樹
脂、レゾルシンベンズアルデヒド樹脂、ピロガロールア
セトン樹脂、ヒドロキシスチレンの重合体および共重合
体、ロジン変性フェノール樹脂、エポキシ変性フェノー
ル樹脂、リグニン変性フェノール樹脂、アニリン変性フ
ェノール樹脂、メラミン変性フェノール樹脂、ビスフェ
ノール類などが挙げられる。

【００６６】また、アルコール性水酸基含有化合物とし
ては、例えば以下のような化合物を挙げることができ
る。

【００６７】エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、
ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、
１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、
１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオー
ル、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオー
ル、２−ブテン−１，４−ジオール、５−ヘキセン−
１，２−ジオール、７−オクテン−１，２−ジオール、
３−メルカプト−１，２−プロパンジオール、グリセリ
ン、ジグリセリン、トリメチロールプロパン、１，２，
４−ブタントリオール、ペンタエリスリトール、ジペン
タエリスリトール、ソルビトール、ソルビタン、ポリビ
ニルアルコール、セルロースおよびその誘導体、ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレートの重合体および共重合
体など。

【００６８】また、エポキシアクリレート、エポキシメ
タクリレート、ポリビニルブチラール樹脂、および公知
の方法によって水酸基を導入したポリマーなども本発明
に使用可能である。

【００６９】これら水酸基含有化合物としては、金属キ
レート化合物との反応性という観点から特にフェノール
性水酸基含有化合物が好ましく用いられる。

【００７０】これら「（ｃ）活性水素基含有化合物」は
それぞれ単独でも使用できるし、２種以上を混合して使
用することもでき、その含有量は、全感熱層組成物に対
して５〜８０重量％が好ましく、より好ましくは２０〜
６０重量％である。含有量が５重量％よりも少ないと印
刷版の感度が低下し、逆に８０重量％よりも多いと印刷
版の溶剤耐性が低下しやすい。

【００７１】本発明において、感熱層がさらにバインダ
ーポリマを含有することが好ましい。この際、バインダ
ーポリマとしては、有機溶剤に可溶でかつフィルム形成
能のあるものであれば特に限定されないが、印刷版の耐
刷性の観点から、該ポリマのガラス転移温度（Ｔｇ）が
２０℃以下のポリマ、コポリマ、さらに好ましくはガラ
ス転移温度が０℃以下のポリマ、コポリマを用いること
が好ましい。

【００７２】有機溶剤に可溶でかつフィルム形成能があ
り、さらに形態保持の機能をも果たすバインダーポリマ
の具体例としては、公知のビニルポリマー類、未加硫ゴ
ム、ポリオキシド類（ポリエーテル類）、ポリエステル
類、ポリウレタン類、ポリアミド類などが挙げられる。

【００７３】これらのバインダーの含有量は、全感熱層
組成物に対して５〜７０重量％が好ましく、より好まし
くは１０〜５０重量％である。含有量が５％よりも少な
いと耐刷性が低下しやすく、７０重量％よりも多いと感
度が低下しやすい。

【００７４】上記各種バインダーポリマは単独で用いて
もよいし、また数種のポリマを混合して使用してもよ
い。

【００７５】上記ポリマの中でも、特に、ポリウレタ
ン、ポリエステル、ビニル系ポリマー、未加硫ゴムがバ
インダーポリマとして好ましい。

【００７６】更に本発明において、感熱層には、染料、
酸、レベリング剤、界面活性剤、発色剤、可塑剤等を必
要に応じて任意に添加してもよい。

【００７７】特に、エチレン性不飽和基、カルボキシル
基、アミノ基などを有する化合物を含むことは好まし
い。

【００７８】特に、下層との接着性を高めるためにシラ
ンカップリング剤などの各種カップリング剤を添加する
事は極めて好ましく行われる。

【００７９】このようにして得られる感熱層の物性に関
しては、得られる印刷版の印刷特性の観点から、その物
性が特定の範囲にあることが好ましい。この様な物性と
しては引張特性、その中でも引張時の初期弾性率を代表
として挙げることが出来る。具体的には、印刷版におけ
る感熱層の引張時の初期弾性率が７ｋｇｆ／ｍｍ²〜７
８ｋｇｆ／ｍｍ²の範囲、さらには１０ｋｇｆ／ｍｍ²〜
６５ｋｇｆ／ｍｍ²の範囲にあることが好ましい。

【００８０】感熱層の初期弾性率を以上のような範囲に
設定することにより、印刷版としての特性、特に耐刷性
を向上させることが出来る。逆に、初期弾性率が７ｋｇ
ｆ／ｍｍ²未満である場合には画線部を形成する感熱層
がベタ着き易くなるため印刷時にヒッキーが発生し易く
なる。また、初期弾性率が７８ｋｇｆ／ｍｍ²以上であ
る場合には、印刷時に加わる繰り返し応力により感熱層
と親水性膨潤層との接着界面で破壊が起こりやすくな
り、耐刷性低下の原因となるためである。

【００８１】感熱層の厚さは、被覆層にして０．１〜１
０ｇ／ｍ２ であると、印刷版の耐刷性や、希釈溶剤を
揮散し易く生産性に優れる点で好ましく、より好ましく
は１〜７ｇ／ｍ２である。

【００８２】本発明の平版印刷版の非画線部は、親水性
膨潤層からなることを特徴とする。

【００８３】親水性膨潤層は、親水性ポリマーを主成分
とする組成物より得られる。親水性ポリマーとしては、
水に対して実質的に不溶でかつ水膨潤性を示す、公知の
水溶性ポリマー（水に完全溶解するものを意味する）、
疑似水溶性ポリマー（両親媒性を意味し、マクロには水
に溶解するがミクロには非溶解部分を含むものを意味す
る）、水膨潤性ポリマー（水に膨潤するが溶解しないも
のを意味する）かあげられる。すなわち、通常の使用条
件下で水を吸着または吸収するポリマーを意味し、水に
溶けるか或いは水に膨潤するポリマーを意味する。

【００８４】本発明において、親水性ポリマーとしては
公知の親水性ポリマーを使用することができる。次のそ
の具体例を挙げる。

【００８５】（Ａ）天然高分子類：デンプン−アクリロ
ニトリル系グラフト重合体加水分解物、デンプン−アク
リル酸系グラフト重合体、デンプン−ビニルスルフォン
酸系グラフト重合体、デンプン−アクリルアミド系グラ
フト重合体、カルボキシル化メチルセルロース、メチル
セルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒ
ドロキシエチルセルロース、セルロース−アクリロニト
リル系グラフト重合体、セルロース−スチレンスルフォ
ン酸系グラフト重合体、カルボキシメチルセルロース系
架橋体、アガロース、コラーゲン、ミルクカゼイン、酸
カゼイン、アンモニアカゼイン、グルー、ゼラチン、グ
ルテン、大豆蛋白、アルギン酸塩、アラビヤガム、アイ
リッシュモス、大豆レシチン、ペクチン酸、澱粉、寒
天、デキストリン、およびマンナンなど。

【００８６】（Ｂ）合成高分子類：ポリビニルアルコー
ル、ポリエチレンオキサイド、ポリ（エチレンオキサイ
ド-co-プロピレンオキサイド）、水性ウレタン樹脂、水
溶性ポリエステル、ポリアクリル酸アンモニウム、ポリ
アクリル酸ナトリウム、ポリメタアクリル酸アンモニウ
ム、Ｎ−ビニルカルボン酸系ポリマー、アクリル酸系コ
ポリマー、アクリルエマルジョンコポリマー、ポリビニ
ルアルコール系架橋重合体、ポリアクリル酸ナトリウム
系架橋体、ポリアクリロニトリル系重合体ケン化物、ヒ
ドロキシエチル（メタ）アクリレート系ポリマー（以下
の説明で（メタ）□□□□とあるのは、□□□□または
メタ□□□□を略したものである。）、ポリ（ビニルメ
チルエーテル-co-無水マレイン酸）、無水マレイン酸系
共重合体、ビニルピロリドン系共重合体、ポリエチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート系架橋重合体、ポリ
プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート系架橋重
合体、およびＮ−ビニルカルボン酸アミド共重合体な
ど。

【００８７】これらの中では、本発明の効果を特に有効
に発現する親水性ポリマーとして、カルボン酸塩系共重
合体が挙げられる。カルボン酸塩系共重合体としては、
吸水性および耐久性の観点から、カルボキシル基、カル
ボン酸塩、カルボン酸アミド、カルボン酸イミド、カル
ボン酸無水物などのカルボキシル基またはカルボキシル
基に誘導しうる基を分子中に１個または２個有するα、
β−不飽和化合物をモノマー成分として含有するカルボ
ン酸系共重合体のケン化反応物が挙げられる。

【００８８】α、β−不飽和化合物の具体例としては、
アクリル酸、メタクリル酸、（メタ）アクリル酸アミ
ド、無水マレイン酸、マレイン酸、マレイン酸アミド、
マレイン酸イミド、イタコン酸、クロトン酸、フマル
酸、メサコン酸などが挙げられ、本発明に必要な親水性
を示す範囲で共重合可能な他のモノマー成分と組合わせ
ることが可能である。

【００８９】なお、上記の親水性ポリマーは発明の効果
を損わない範囲で、柔軟性を付与したり、親水性を制御
する目的から置換基が異なるモノマーや共重合成分を混
合して用いることが可能である。

【００９０】また、親水性膨潤層は上記親水性ポリマー
の少なくとも一種以上を主成分として有する組成物を必
要に応じて架橋または疑似架橋し、水に不溶化させるこ
とにより基板上に形成される。このような架橋、疑似架
橋は通常親水性ポリマーが有する反応性の官能基を利用
することにより行われる。

【００９１】架橋反応は、共有結合性の架橋であって
も、イオン結合性の架橋であってもよい。架橋反応に用
いられる化合物としては、架橋性を有する公知の多官能
性化合物が挙げられ、ポリエポキシ化合物、ポリイソシ
アネート化合物、ポリ（メタ）アクリル化合物、ポリメ
ルカプト化合物、ポリアルコキシシリル化合物、多価金
属塩化合物、ポリアミン化合物、アルデヒド化合物、ポ
リビニル化合物、ヒドラジンなどが挙げられ、その架橋
反応は公知の触媒を添加し、反応を促進することが行な
われる。

【００９２】これらの架橋剤は単独または２種以上を混
合して使用することが可能である。分散媒としては主と
して水が用いられるが、必要に応じてアルコール類やエ
ステル類、ケトン類など水と混和可能な有機溶剤を添加
することが可能である。

【００９３】また、親水性ポリマーにあらかじめ自己架
橋し得るような反応性官能基をペンダントしておき、そ
の官能基を利用することで架橋、疑似架橋構造を形成し
てもよい。

【００９４】本発明で用いられる親水性膨潤層は、以下
の方法にしたがって算出される吸水量が特定の範囲であ
ることが好ましい。

【００９５】吸水量（ｇ／ｍ²）＝Ｗ_WET −Ｗ_DRY Ｗ_DRY ：乾燥状態における重量（ｇ／ｍ²） Ｗ_WET ：水中に２５℃×１０分間浸漬した後の重量（ｇ
／ｍ²）。

【００９６】［吸水量の測定方法］測定しようとする平
版印刷版の非画線部を所定面積に裁断し、２５℃の精製
水中に浸漬する。１０分間浸漬した後、その印刷版の親
水性膨潤層表面および裏面に付着した余分の液体を「ハ
イゼガーゼ」（コットン布：旭化成工業（株）製）にて
素速く拭き取り、その印刷版の膨潤重量Ｗ_WET を秤量す
る。その後、その印刷版を６０℃のオーブンにて約３０
分間乾燥し、乾燥重量Ｗ_DRY を秤量する。

【００９７】本発明の親水性膨潤層からなる非画線部の
吸水量は、インキ反発性および形態保持性の観点から１
〜５０ｇ／ｍ²であることが好ましく、２〜４０ｇ／ｍ
² 、さらに３〜３０ｇ／ｍ²であることがさらに好まし
い。

【００９８】本発明でいう親水性膨潤層厚さとは、基板
上に塗設された乾燥させた感光性平版印刷版原版の親水
性膨潤層の塗布層を剥離し、重量法によって測定した値
を意味する。親水性膨潤層厚さは下記式に従って測定さ
れる。

【００９９】 親水性膨潤層厚さ（ｇ／ｍ² ）＝（Ｗ−Ｗ0 ）／α Ｗ：感光性平版印刷版原版の乾燥重量 （ｇ） Ｗ0 ：上記Ｗから親水性膨潤層を剥離脱落した後の乾燥
重量（ｇ） α：感光性平版印刷版原版の測定面積（ｍ² ） 本発明での好ましい親水性膨潤層厚さは０．３μｍから
１０μｍ、さらに好ましくは１μｍから５μｍである。
親水性膨潤層が０．３μｍより薄い場合は、非画線部と
してのインキ反発性が極端に低下するだけでなく、塗布
時におけるピンホールなどの欠点を生じやすくなるため
である。逆に１０μｍより厚くなると、塗布時の乾燥時
間、温度の問題が生じたり、原材料面で経済的に不利と
なるためである。

【０１００】本発明の親水性膨潤層は前述のようにゴム
弾性を有することが好ましい。すなわち、親水性膨潤層
の初期弾性率が、０．０１〜１０ｋｇｆ／ｍｍ²の範囲
内にあることがインキ反発性および形態保持性の観点か
ら重要であり、０．０１〜５ｋｇｆ／ｍｍ²の範囲が好
ましく、０．０１〜２ｋｇｆ／ｍｍ²の範囲がさらに好
ましい。初期弾性率が０．０１ｋｇｆ／ｍｍ²未満の場
合は、親水性膨潤層の形態保持性が低下し、印刷の耐久
性が劣り、初期弾性率が１０ｋｇｆ／ｍｍ²よりも大き
くなるとインキ反発性が極端に低下する。

【０１０１】［初期弾性率の測定方法］平版印刷版の非
画線部に対応した部分と同一組成の溶液をテフロンシャ
ーレ上に展開し、６０℃×２４時間乾燥させる。得られ
た乾燥硬化膜は、剃刀刃などを用いて、長さ４０ｍｍ、
幅１．９５ｍｍ、厚み約０．２ｍｍの短冊状のテストピ
ースに裁断する。

【０１０２】得られたテストピースを、測定前に２５℃
×５０％ＲＨの環境下にて２４時間以上放置し、調湿し
た後、厚みをマイクロゲージにて測定し、下記の引張条
件で初期弾性率を測定する。データ処理は、ＪＩＳ Ｋ
６３０１に準じて行なう。

【０１０３】引張速度：２００ｍｍ／分 チャック間距離：２０ｍｍ 繰返し回数：４回 測定機：「ＲＴＭ−１００」（（株）オリエンテック
製） 本発明に用いられる親水性膨潤層は以下の方法にしたが
って算出される水膨潤率が特定の範囲であることが好ま
しい。

【０１０４】 水膨潤率（％）＝（Θ_WET−Θ_DRY）／Θ_DRY ×１００ Θ_DRY ：乾燥状態における非画線部からなる親水性膨潤
層の厚み（μｍ） Θ_WET ：膨潤状態における非画線部からなる親水性膨潤
層の厚み（μｍ） 本発明の親水性膨潤層からなる非画線部（インキ反発部
分）の水膨潤率は、インキ反発性および形態保持性の観
点から１０〜２０００％であることが好ましく、５０〜
１７００％、さらには５０〜７００％の範囲であること
がより好ましい。水膨潤率が１０％未満になると非画線
部のインキ反発性が低下し、一方非画線部の水膨潤率が
２０００％を越える場合には該非画線部の形態保持性が
低いため印刷時に該非画線部が損傷を受け易くなる。

【０１０５】次に、本発明における直描型平版印刷版原
版の製造方法および製版方法について説明する。

【０１０６】基板上に、リバースロールコーター、エア
ーナイフコーター、グラビアコーター、ダイコーター、
メーヤバーコーターなどの通常のコーターあるいはホエ
ラーなどを用いて必要に応じて断熱層を塗布し設けた
後、感熱層を塗布し、５０〜２００℃で数分間加熱乾燥
する。

【０１０７】この後、親水性膨潤層組成物を塗布し５０
〜２５０℃の温度で数分間熱処理して親水性膨潤層を得
る。

【０１０８】あるいは、必要に応じて断熱層を設けた
後、親水性膨潤層、次いで感熱層を設けてもよい。

【０１０９】このようにして得られた版には、最上層を
保護する目的で保護フィルムをラミネートするかあるい
は保護層を形成してもよい。

【０１１０】このようにして得られた直描型平版印刷版
原版を、保護フィルムを剥離してから、あるいは好まし
くは保護フィルム上からレーザー光で画像状に露光す
る。

【０１１１】本発明の製版露光工程で用いられるレーザ
ー光源としては、発光波長領域が３００ｎｍ〜１５００
ｎｍの範囲にあるものが用いられる。すなわち、アルゴ
ンイオン、クリプトンイオン、ヘリウム-ネオン、ヘリ
ウム-カドミウム、ルビー、ガラス、ＹＡＧ、チタンサ
ファイア、色素、窒素、金属蒸気、エキシマ、自由電
子、半導体などの各種レーザーが使用される。

【０１１２】これらの中でも本発明の印刷版原版を製版
する目的から、近赤外領域付近に発光波長領域が存在す
る半導体レーザーが好ましく、特に高出力半導体レーザ
ーが好ましく用いられる。

【０１１３】本発明においては、レーザー光が照射され
ると、感熱層中の（ａ）光熱変換物質の作用で熱が発生
し、その熱により（ｂ）金属キレート化合物と（ｃ）活
性水素基含有化合物の間で反応が起こる。その結果、レ
ーザー光照射部分においては親水性膨潤層と感熱層の接
着力が向上する。他方、未照射部分においては、このよ
うな接着力の向上はないため、その後の現像処理により
親水性膨潤層、あるいは親水性膨潤層と感熱層が除去さ
れる。このようにしてポジ型の直描型平版印刷版が得ら
れる。

【０１１４】また、感熱層中に予め架橋構造を形成させ
ておいた場合は、その機構は未解明であるが、高感度の
ネガ型の直描型平版印刷版が得られる。すなわち、レー
ザー光照射部の感熱層と親水性膨潤層間の接着力が低下
し、その後の現像処理によって、レーザー光を照射した
部分の親水性膨潤層のみが除去される。

【０１１５】一方、親水性膨潤層層上に感熱層がある場
合は、レーザー光の照射により感熱層中の（ａ）光熱変
換物質の作用で熱が発生し、その熱により（ｂ）金属キ
レート化合物と（ｃ）活性水素基含有化合物の間で反応
が起こる。その結果、感熱層が硬化するのと同時に、下
層の親水性膨潤層との接着力が向上する。未照射部分の
感熱層においては、このような変化はなく、その後の現
像処理により除去され、下層の親水性膨潤層が露出す
る。このようにしてネガ型の直描型平版印刷版が得られ
る。

【０１１６】現像方法としては、水または有機溶剤の存
在もしくは非存在下での摩擦処理により行われる。ある
いは、保護フィルムを剥離することによって印刷版上に
パターンを形成する、いわゆる剥離現像によっても印刷
版を作成することも可能である。

【０１１７】現像処理を行う場合に使用される現像液と
しては、例えば、水や水に界面活性剤を添加したもの、
さらには水に公知の極性溶媒（アルコール類、ケトン
類、エステル類など）を添加したものや、脂肪族炭化水
素類、芳香族炭化水素類などが用いられる。

【０１１８】また、上記の現像液組成には、公知の界面
活性剤を添加することも自由に行われる。さらにアルカ
リ剤、例えば炭酸ナトリウム、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン、ジグリコールアミン、モノグリコ
ールアミン、トリエタノールアミン、ケイ酸ナトリウ
ム、ケイ酸カリウム、水酸化カリウム、ホウ酸ナトリウ
ムなどを添加することもできる。

【０１１９】これらの中では、水あるいは水に界面活性
剤を添加したもの、さらにはアルカリを添加した水が好
ましく用いられる。

【０１２０】また、これらの現像液にはクリスタルバイ
オレット、ビクトリピュアブルー、アストラゾンレッド
などの公知の塩基性染料、酸性染料、油溶性染料を添加
して現像と同時に画像部の染色化を行うことができる。

【０１２１】現像する際には、これらの現像液を、不織
布、脱脂綿、布、スポンジ等に含浸させて、版面を拭き
取ることによって、現像することができる。

【０１２２】また、現像は、特開昭６３−１６３３５７
号公報に記載されているような自動現像機を用い、上記
の現像液で版面を前処理した後に水道水などでシャワー
しながら回転ブラシで版面を擦ることによって行うこと
も出来、細かい点の再現性などの観点からは好ましい方
法となっている。

【０１２３】また、温水や水蒸気を版面に噴射すること
によっても現像が可能である。

【０１２４】さらに、レーザー照射後の版をいわゆる現
像処理を行わずにそのまま印刷機に取り付け、印刷の立
ち上げ前や立ち上げ時にローラーの回転と湿し水の作用
で画線部の親水性膨潤層を除去し、現像処理を行うこと
もできる。いわゆるプロセスレスの版材である。

【０１２５】次に、本発明の平版印刷版原版を用いた印
刷方法について説明する。

【０１２６】本発明の平版印刷版原版を用いた平版印刷
には、公知の平版印刷機が用いられる。すなわち、オフ
セットおよび直刷り方式の枚葉および輪転印刷機などが
用いられる。

【０１２７】画像形成を行なった平版印刷版を、これら
の平版印刷機の版胴に装着し、その版面には接触するイ
ンキ着けローラーからインキが供給される。その版面上
の親水性膨潤層を有する非画線部分は湿し水供給装置か
ら供給される湿し水によって膨潤し、インキを反撥す
る。一方、画線部分はインキを受容し、オフセットブラ
ンケット胴表面または被印刷体表面にインキを供給して
印刷画像を形成する。

【０１２８】本発明の平版印刷版原版から得られた平版
印刷版を印刷する際に使用される湿し水は、水ありＰＳ
版で使用されるエッチ液を用いることはもちろん可能で
あるが、添加物を一切含有しない純水を使用することが
できる。本発明の平版印刷版原版から得られた平版印刷
版を用いて印刷する際には添加物を一切有さない純水を
使用することが好ましい。

【０１２９】以下に、実施例により本発明をさらに詳し
く説明する。

【０１３０】

【実施例】（合成例１）酢酸ビニル６０ｇとアクリル酸
メチル４０ｇに、重合開始剤としてベンゾイルパーオキ
シド０．５ｇを計量し、これらを、分散安定剤として部
分ケン化ポリビニルアルコール３ｇとＮａＣｌ１０ｇを
含む水３００ｍｌ中に分散させた。

【０１３１】その分散液を６５℃で６時間撹拌し、懸濁
重合を行なった。得られた共重合体のアクリル酸メチル
成分は、ＮＭＲスペクトルから同定した結果４８モル％
であった。また３０℃におけるベンゼン溶液中での極限
粘度は２．１０であった。

【０１３２】次に、その共重合体８．６ｇを２００ｇの
メタノールと１０ｇの水および５ＮのＮａＯＨ４０ｍｌ
からなるケン化反応液中に添加し撹拌懸濁させ、２５℃
で１時間ケン化反応を行なった後、温度を６５℃に昇温
し、さらに５時間ケン化反応を行なった。

【０１３３】得られたケン化反応物をメタノールで十分
に洗浄し凍結乾燥した。ケン化度は９８．３モル％であ
り、赤外吸収スペクトルの測定の結果、３４００ｃｍ^-1
付近の水酸基に帰属されるブロードな吸収と、１５７０
ｃｍ^-1に−ＣＯＯ^- 基に帰属される強い吸収が確認され
た。 実施例１ 厚さ０．２４ｍｍの脱脂したアルミ板上に下記の組成よ
りなる溶液を塗布し、２００℃、２分間乾燥し、３ｇ／
ｍ²の断熱層を設けた。 ＜断熱層＞ （ａ）エポキシ・フェノール樹脂“カンコート”９０Ｔ
−２５−３０９４（関西ペイント（株）製）：１５重量
部 （ｂ）“ホワイト”ＵＬ７Ｅ２６５（住化カラー（株）
製、酸化チタン）：２重量部 （ｃ）ジメチルホルムアミド：８５重量部 次いで、この断熱層上に次の組成を有する感熱層組成物
を塗布し、１５０℃で１分間乾燥し、膜厚２ｇ／ｍ２の
感熱層を設けた。 ＜感熱層＞ （ａ）SPRIT NIGROSINE SJ（Dye Specialities,IN
C.）：５重量部 （ｂ）“アルミキレート”Ｄ（アルミニウムモノアセチ
ルアセトネートビスエチルアセトアセテート、川研ファ
インケミカル（株）製）：３０重量部 （ｃ）“スミラック”ＰＣ−１（レゾール樹脂、住友デ
ュレス（株）製））：７０重量部 （ｄ）“サンプレン”ＬＱ−９０９Ｌ（ポリウレタン樹
脂、三洋化成工業（株）製）：２０重量部 （ｅ）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン：３重量
部 （ｆ）テトラヒドロフラン：８７２重量部 さらに、この感熱層の上に下記の組成を有する親水性膨
潤層組成物をバーコーターで塗布した後、２００℃で１
０分間湿熱硬化させて２．０μｍの親水性膨潤層を設け
た。 ＜親水性膨潤層＞ （１）親水性ポリマ−１：７５重量部 （２）テトラエチレングリコールジグリシジルエーテ
ル：５重量部 （３）水性ラテックス「ＪＳＲ０５４８」［カルボキシ
変性スチレン−ブタジエン共重合ラテックス：日本合成
ゴム製］：１８重量部 （４）２−アミノプロピルトリメトキシシラン：２重量
部 （５）精製水：９００重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍのポリ
エステルフィルム“ルミラー”（東レ（株）製）をカレ
ンダーローラーを用いてラミネートし、直描型平版印刷
版原版を得た。

【０１３４】この後、この印刷版原版をＦＸ４００−Ａ
Ｐ（製版機、東レエンジニアリング(株)製）に装着し、
半導体レーザー（波長８３０ｎｍ、ビーム直径２０μ
ｍ、レーザー出力３００ｍＪ／秒）を用いて露光時間１
０μｓでパルス露光を行った。

【０１３５】得られた印刷版を水道水を染み込ませた現
像パッド（３Ｍ製）で擦ることで刷版を得た。その後、
刷版を枚葉オフセット印刷機「スプリント２５：小森コ
ーポレーション（株）製」に装着し、湿し水として市販
の精製水を供給しながら上質紙（６２．５ｋｇ／菊）を
用いて印刷した結果、レーザー光が照射された部分の画
像が再現された（ネガ型の）印刷物が得られた。

【０１３６】非画線部の吸水量は定義に従って測定した
結果、８．７ｇ／ｍ²であった。また、非画線部の水膨
潤率は定義にしたがって測定した結果、２９０％であっ
た。

【０１３７】また約３０００枚の印刷を行なった時点
で、各刷版にインキ汚れは発生せず、十分にコントラス
トを有する明瞭な印刷物が得られた。

【０１３８】さらに、製版後の版を用いて画線部ベタ部
の感熱層の厚さを測定したところ１．６ｇ／ｍ²であ
り、残存率が８０％であることが判明した。 比較例１ 実施例１において、感熱層中の金属キレート化合物であ
る（ｂ）“アルミキレート”Ｄを抜いた以外は全く同様
にして印刷版原版を作成し、同様に評価したところ、レ
ーザー光未照射部のみならず、レーザー光照射部の親水
性膨潤層も剥がれず、ネガ画像を再現することが出来な
かった。 比較例２ 実施例１において、親水性膨潤層の代わりに下記組成よ
りなる層を用い、１５０℃で６０分熱処理し、２ｇ／ｍ
²の厚みを有する層とした以外は実施例１と全く同様に
版を作製した。 （１）クロロプレンラテックス：７８重量部 （２）エチレングリコールジグリシジルエーテル：５重
量部 （３）２−アミノプロピルトリメトキシシラン：２重量
部 （４）水性ラテックス“ＪＳＲ０５４８”（カルボキシ
変性スチレン−ブタジエン共重合ラテックス 大日本イ
ンキ化学工業（株）製）：１５重量部 （５）精製水：９００重量部 実施例１と同様にレーザー照射、現像を行い、刷版を得
ることが出来たが、非画線部の水膨潤率を定義に従って
測定した結果、９．１％と本発明の範囲を逸脱したもの
であった。実施例１と同様に印刷を行ったところ、本
来、非画線部となるべき部分もインキを反撥せず、全面
インキ汚れの印刷物が得られた。 比較例３ 実施例１において、親水性膨潤層の代わりに下記組成よ
りなる層を用い、１５０℃で６０分熱処理し、乾燥膜厚
２ｇ／ｍ²の厚みを有する層とした以外は実施例１と全
く同様に版を作製した。 （１）ゼラチン：１００重量部 （２）エチレングリコールジグリシジルエーテル：２０
重量部 （３）２−アミノプロピルトリメトキシシラン：２重量
部 （４）精製水：９００重量部 実施例１と同様に露光、現像を行い、刷版を得ることが
出来たが、非画線部の吸水量を定義に従って測定した結
果、０．８ｇ／ｍ²と本発明の範囲を逸脱したものであ
った。実施例１と同様に印刷を行ったところ、本来、非
画線部となるべき部分もインキを反撥せず、全面インキ
汚れの印刷物が得られた。 比較例４ 実施例１において、親水性膨潤層の代わりに下記組成よ
りなる層を用い、１００℃で２分処理し、乾燥膜厚２μ
ｍの厚みを有する層とした以外は実施例１と全く同様に
版を作製した。 （１）アクリルアミドメチルプロパンスルフォン酸／メ
チルメタクリレート共重合体（組成比５０：５０（重量
比））：１１０重量部 （２）エチレングリコールジグリシジルエーテル：１０
重量部 （３）２−アミノプロピルトリメトキシシラン：２重量
部 （４）精製水：９００重量部 実施例１と同様に露光、現像を行い、刷版を得ることが
出来たが、非画線部の吸水量を定義に従って測定した結
果、６２ｇ／ｍ²と本発明の範囲を逸脱したものであっ
た。実施例１と同様に印刷を行ったところ、３０００枚
を印刷した時点でも画線部にインキが十分着肉しないと
いう問題があった。 実施例２ 実施例１における感熱層を下記に変更し、乾燥膜厚２．
５ｇ／ｍ²、乾燥条件は１５０℃×２分間とした以外は
全く実施例１と同様に原版を作成した。実施例１と同様
の評価を行ったところ、ネガ型の平版印刷版が得られ
た。

【０１３９】さらに、製版後の版を用いて、画線部ベタ
部の感熱層の厚さを測定したところ２．３ｇ／ｍ²であ
り、残存率が９２％であることが判明した。 ＜感熱層＞ （ａ）“ＫＡＹＡＳＯＲＢ”ＩＲ−８２０Ｂ（赤外線吸
収染料、日本化薬（株）製）：１０重量部 （ｂ）“ナーセム”Ｔｉ（アセチルアセトンチタン、日
本化学産業（株）製）：１５重量部 （ｃ）ペンタオキシプロピレンジアミン／グリシジルメ
タクリレート／メチルグリシジルエーテル＝１／３／１
ｍｏｌ比付加反応物：１５重量部 （ｄ）ｍ−キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレ
ート／メチルグリシジルエーテル＝１／２／２ｍｏｌ比
付加反応物：１５重量部 （ｅ）ｍ−キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレ
ート／３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン＝
１／３／１ｍｏｌ比付加反応物：３重量部 （ｆ）“デナコール”ＥＸ−４１１（ペンタエリスルト
ールポリグリシジルエーテル、ナガセ化成工業（株）
製） ５重量部 （ｇ）“サンプレン”Ｔ−１３３１（ポリウレタン樹脂
三洋化成工業（株）製、 ガラス転移温度Ｔｇ：−３
７℃）：３０重量部 （ｈ）マレイン酸 ：０．５重量部 （ｉ）“パーヘキサ”３Ｍ（有機過酸化物 日本油脂
（株）製）：５重量部 （ｊ）テトラヒドロフラン：２００重量部 （ｋ）ジメチルホルムアミド：５０重量部 非画線部の吸水量、水膨潤率は定義に従って測定した結
果、それぞれ８．７ｇ／ｍ²、２９０％であった。

【０１４０】また、感熱層の初期弾性率は２０ｋｇｆ／
ｍｍ²であった。 実施例３ 実施例１における感熱層を下記に変更し、乾燥膜厚２ｇ
／ｍ²、乾燥条件は１５０℃×１分間とした以外は全く
実施例１と同様に原版を作成した。実施例１と同様の評
価を行ったところ、ネガ型の水なし平版印刷版が得られ
た。

【０１４１】非画線部の吸水量、水膨潤率は定義に従っ
て測定した結果、それぞれ８．７ｇ／ｍ²、２９０％で
あった。

【０１４２】さらに、製版後の版を用いて、画線部ベタ
部の感熱層の厚さを測定したところ１．６ｇ／ｍ²であ
り、残存率８０％であった。 ＜感熱層＞ （ａ）“ＳＯＨＮ ＢＬＡＣＫ”（Waterbase）（三菱
化学(株)製、カーボンブラックの水分散ペースト）：７
重量部 （ｂ）鉄（III ）アセチルアセトネート（半井化学薬品
（株）製）：１０重量部 （ｃ）“ゴーセノール”ＫＬ−０５（ポリビニルアルコ
ール、日本合成化学工業（株）製）：８重量部 （ｄ）“マルカリンカー”ＰＨＭ−Ｃ（ポリパラヒドロ
キシスチレン、丸善石油化学工業（株）製）：１５重量
部 （ｅ）“ＴＳＬ”８３５０（γ−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン、東芝シリコーン（株）製）：２重
量部 （ｆ）精製水：２８０重量部 （ｇ）エタノール：４０重量部 実施例４ 厚さ０．２４ｍｍの脱脂したアルミ板上に下記の組成よ
りなる溶液を塗布し、２００℃、２分間乾燥し、３ｇ／
ｍ²の断熱層を設けた。 ＜断熱層＞ （ａ）ポリウレタン樹脂“ミラクトラン”Ｐ２２Ｓ（日
本ミラクトラン（株）製）：１００重量部 （ｂ）ブロックドイソシアネート“タケネートＢ８３
０”（武田薬品工業（株）製）：２０重量部 （ｃ）エポキシ・フェノール・尿素樹脂“ＳＪ９３７
２”（関西ペイント（株）製）：８重量部 （ｄ）ジブチル錫ジアセテート：０．５重量部 （ｅ）“ＦＩＮＥＸ”２５（白色顔料、堺化学（株）
製）：１０重量部 （ｆ）“ＫＥＴ−ＹＥＬＬＯＷ”４０２（黄色顔料、大
日本インキ化学工業（株）製）：１０重量部 （ｇ）ジメチルホルムアミド：７２０重量部 次いで、この断熱層上に次の組成を有する感熱層組成物
を塗布し、６０℃で１分間乾燥し、膜厚２ｇ／ｍ２の感
熱層を設けた。 ＜感熱層＞ （ａ）SPRIT NIGROSINE SJ（Dye Specialities,IN
C.）：１０重量部 （ｂ）“アルミキレート”Ａ（アルミニウムアセチルア
セトネート、川研ファインケミカル（株）製）：３５重
量部 （ｃ）“ＭＡＴＲＩＭＩＤ”５２９２Ｂ（ビスフェノー
ルＡ型フェノール性水酸基含有ジビニル化合物、旭チバ
（株）製）：４０重量部 （ｄ）ペンタオキシプロピレンジアミン／グリシジルメ
タクリレート／メチルグリシジルエーテル＝１／３／１
ｍｏｌ比付加反応物：２０重量部 （ｆ）ｍ−キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレ
ート／３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン＝
１／３／１ｍｏｌ比付加反応物：５重量部 （ｄ）“サンプレン”ＬＱ−９０９Ｌ（ポリウレタン樹
脂、三洋化成工業（株）製）：５重量部 （ｅ）テトラヒドロフラン：８７５重量部 さらに、この感熱層の上に下記の組成を有する親水性膨
潤層組成物をバーコーターで塗布した後、１００℃で５
分間湿熱硬化させて１．５μｍの親水性膨潤層を設け
た。 ＜親水性膨潤層＞ （１）親水性ポリマ−１：７０重量部 （２）テトラエチレングリコールジグリシジルエーテ
ル：１０重量部 （３）水性ラテックス「ＪＳＲ０５４８」（カルボキシ
変性スチレン−ブタジエン共重合ラテックス、日本合成
ゴム製）：１５重量部 （４）２−アミノプロピルトリメトキシシラン：５重量
部 （５）“エマール”Ｏ（界面活性剤、花王（株）製）：
５重量部 （６）精製水：８５０重量部 （７）ＩＰＡ：５０重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍのポリ
プロピレンフィルム“トレファン”（東レ（株）製）を
カレンダーローラーを用いてラミネートし、直描型平版
印刷版原版を得た。

【０１４３】この後、この印刷版原版をＦＸ４００−Ａ
Ｐ（製版機、東レエンジニアリング(株)製）に装着し、
半導体レーザー（波長８３０ｎｍ、ビーム直径２０μ
ｍ、レーザー出力３００ｍＪ／秒）を用いて露光時間１
０μｓでパルス露光を行った。

【０１４４】得られた印刷版を市販の精製水を染み込ま
せた現像パッド（３Ｍ製）で擦ると、レーザー光が照射
された部分の親水性膨潤層のみが残存し、一方、レーザ
ー光未照射部分の親水性膨潤層が除去されたポジ型の平
版印刷版が得られた。

【０１４５】非画線部の吸水量は定義に従って測定した
結果、１０．４ｇ／ｍ²であった。また、非画線部の水
膨潤率は定義にしたがって測定した結果、３６０％であ
った。 比較例５ 実施例４において、感熱層中の金属キレート化合物であ
る（ｂ）“アルミキレート”Ｄを抜いた以外は全く同様
にして印刷版原版を作成し、同様に評価したところ、レ
ーザー光未照射部のみならず、レーザー光照射部の親水
性膨潤層も含め全面の親水性膨潤層が剥がれ画像を全く
再現することが出来なかった。 実施例５ 厚さ０．２４ｍｍのアルミ板（住友軽金属（株）製）
に、下記の断熱層組成物を塗布した後、１８０℃×１分
間加熱処理し、乾燥重量で２ｇ／ｍ²の厚みを有する断
熱層を塗設した。 ＜断熱層＞ （１）“スミラック”ＰＣ−１（レゾール樹脂、住友デ
ュレス（株）製））：１５重量部 （２）ジグライム：８５重量部 次に、下記の組成の液を塗布した後、１８０℃×５分間
加熱処理して乾燥重量３ｇ／ｍ² の厚みを有する親水性
膨潤層を塗設した。 ＜親水性膨潤層＞ （１）合成例１の親水性ポリマー：１０重量部 （２）Ｎ−ヒドロキシエチルキシリレンジアミン：１重
量部 （３）精製水：１００重量部 さらに、下記組成の液をスリットダイコーターを用いて
塗布した後、７０℃で２分間加熱処理することにより、
乾燥重量３ｇ／ｍ²の厚みを有する感熱層を得た。＜感
熱層＞ （ａ）“ＫＡＹＡＳＯＲＢ”ＩＲ−８２０Ｂ（赤外線吸
収染料、日本化薬（株）製）：５重量部 （ｂ）“アルミキレート”Ｄ（アルミニウムモノアセチ
ルアセトネートビスエチルアセトアセテート、川研ファ
インケミカル（株）製）：２０重量部 （ｃ）“エポキシエステル”８０ＭＦＡ（エポキシアク
リレート、共栄社化学（株）製））：４０重量部 （ｄ）ポリビニルアルコールＡＬ−０６（日本合成化学
（株）製）：１０重量部 （ｅ）ポリウレタンエマルジョン“スーパーフレック
ス”Ｒ−５１００（第一工業製薬（株）製）：４０重量
部 （ｆ）“Cataloid”ＳＩ−３０（触媒化成工業（株）
製）（平均粒子径０．０１〜０．０１４μｍのコロイダ
ルシリカ微粒子、水分散）：１０重量部 （ｇ）純水：７００重量部 （ｈ）エチレングリコールモノエチルエーテル：２００
重量部 この後、この印刷版原版をＦＸ４００−ＡＰ（製版機、
東レエンジニアリング(株)製）に装着し、半導体レーザ
ー（波長８３０ｎｍ、ビーム直径２０μｍ、レーザー出
力３００ｍＪ／秒）を用いて露光時間１０μｓでパルス
露光を行った。

【０１４６】得られた印刷版を市販の精製水／ＩＰＡ：
９５／５を染み込ませた現像パッド（３Ｍ製）で擦る
と、レーザー光が照射された部分の感熱層のみが残存
し、一方、レーザー光未照射部分の感熱層は除去され下
層の親水性膨潤層が露出されたネガ型の平版印刷版が得
られた。

【０１４７】非画線部の吸水量、水膨潤率は、それぞれ
１４．０ｇ／ｍ²、水膨潤率４３８％であった。 比較例６ 実施例５において、感熱層中の金属キレート化合物であ
る（ｂ）“アルミキレート”Ｄを抜いた以外は全く同様
にして印刷版原版を作成し、同様に評価したところ、感
熱層が版面全体にわたり剥がれた版しか得られなかっ
た。 実施例６ 実施例１で得た断熱層の上に、次の組成を有する感熱層
組成物を塗布し、１２０℃で１分間乾燥し、膜厚３ｇ／
ｍ²の感熱層を設けた。 ＜感熱層＞ （ａ）カーボンブラック分散ロジン変性マレイン酸樹脂
（内カーボンブラック１０重量部）：１５重量部 （ｂ）鉄（III ）アセチルアセトネート（半井化学薬品
（株）製）：１０重量部 （ｃ）“スミライトレジン”ＰＲ−５０７３１（ノボラ
ック樹脂、住友デュレス（株）製））：２０重量部 （ｄ）“エポキシエステル”３０００Ｍ（水酸基含有ア
クリレート、共栄社化学（株）製）：２０重量部 （ｅ）“サンプレン”ＬＱ−Ｔ１３３１（ポリウレタン
樹脂、三洋化成工業（株）製）：４０重量部 （ｆ）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：１７５重量部 （ｇ）テトラヒドロフラン：４００重量部 この感熱層の上に実施例１と同じ親水性膨潤層組成物を
同じ条件で設け、直描型平版印刷版原版を得た。

【０１４８】得られた原版を実施例１と同様に評価した
ところ、レーザー光が照射された部分の画像が再現され
た（ネガ型の）印刷物が得られた。 実施例７ 実施例６で得られた印刷版原版に、波長１０６４ｎｍ、
ビーム径１００μｍ（１／ｅ²）の半導体励起ＹＡＧレ
ーザーを用いて連続線の書き込みを行った。記録エネル
ギーは０．７５Ｊ／ｃｍ２とした。

【０１４９】実施例６と同様に現像処理したところ、レ
ーザー光が照射された親水性膨潤層のみが脱離したネガ
型の平版印刷版が得られた。 比較例７ 実施例５において、親水性膨潤層の代わりに下記組成よ
りなる層を用い、１５０℃で６０分熱処理し、２ｇ／ｍ
²の厚みを有する層とした以外は実施例５と全く同様に
版を作製した。 （１）クロロプレンラテックス：７８重量部 （２）エチレングリコールジグリシジルエーテル：５重
量部 （３）２−アミノプロピルトリメトキシシラン：２重量
部 （４）水性ラテックス“ＪＳＲ０５４８”（カルボキシ
変性スチレン−ブタジエン共重合ラテックス 大日本イ
ンキ化学工業（株）製）：１５重量部 （５）精製水：９００重量部 実施例５と同様にレーザー照射、現像を行ったところ非
常に現像しにくいという問題はあったものの刷版を得る
ことが出来た。実施例５と同様に印刷を行ったところ、
本来、非画線部となるべき部分もインキを反撥せず、全
面インキ汚れの印刷物が得られた。

【０１５０】非画線部の水膨潤率を定義に従って測定し
た結果、８．７％と本発明の範囲を逸脱したものであっ
た。 比較例８ 実施例５において、親水性膨潤層の代わりに下記組成よ
りなる層を用い、１５０℃で６０分熱処理し、乾燥膜厚
２ｇ／ｍ²の厚みを有する層とした以外は実施例１と全
く同様に版を作製した。 （１）ゼラチン １００重量部 （２）エチレングリコールジグリシジルエーテル ２０重量部 （３）２−アミノプロピルトリメトキシシラン ２重量部 （４）精製水 ９００重量部 実施例５と同様に露光、現像を行い、刷版を得ることが
出来たが、非画線部の吸水量を定義に従って測定した結
果、０．６５ｇ／ｍ²と本発明の範囲を逸脱したもので
あった。実施例５と同様に印刷を行ったところ、本来、
非画線部となるべき部分もインキを反撥せず、全面イン
キ汚れの印刷物が得られた。 比較例９ 実施例５において、親水性膨潤層の代わりに下記組成よ
りなる層を用い、１００℃で２分処理し、乾燥膜厚２μ
ｍの厚みを有する層とした以外は実施例５と全く同様に
版を作製した。 （１）アクリルアミドメチルプロパンスルフォン酸／メ
チルメタクリレート共重合体（組成比５０：５０（重量
比））：１１０重量部 （２）エチレングリコールジグリシジルエーテル：１０
重量部 （３）２−アミノプロピルトリメトキシシラン：２重量
部 （４）精製水：９００重量部 実施例５と同様に露光、現像を行い、刷版を得ることが
出来たが、非画線部の吸水量を定義に従って測定した結
果、６０ｇ／ｍ²と本発明の範囲を逸脱したものであっ
た。実施例５と同様に印刷を行ったところ、３０００枚
を印刷した時点でも画線部にインキが十分着肉しないと
いう問題があった。 実施例８ 実施例１で得た断熱層の上に、次の組成を有する感熱層
組成物を塗布し、１５０℃で１分間乾燥し、膜厚２ｇ／
ｍ²の感熱層を設けた。 ＜感熱層＞ （ａ）“ＫＡＹＡＳＯＲＢ”ＩＲ−８２０Ｂ（赤外線吸
収染料、日本化薬（株）製）：５重量部 （ｂ）鉄（III ）アセチルアセトネート（半井化学薬品
（株）製）：１０重量部 （ｃ）“スミライトレジン”ＰＲ−５０７３１（ノボラ
ック樹脂、住友デュレス（株）製））：２０重量部 （ｄ）“エポキシエステル”３０００Ｍ（水酸基含有ア
クリレート、共栄社化学（株）製）：２０重量部 （ｅ）“サンプレン”ＬＱ−Ｔ１３３１（ポリウレタン
樹脂、三洋化成工業（株）製）：４０重量部 （ｆ）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：１７５重量部 （ｇ）テトラヒドロフラン：４００重量部 さらに、この感熱層の上に下記の組成を有する親水性膨
潤層組成物をバーコーターで塗布した後、２００℃で３
分間湿熱硬化させて１．５μｍの親水性膨潤層を設け
た。 ＜親水性膨潤層＞ （１）親水性ポリマ−１：１００重量部 （２）グリオキザール：５重量部 （３）“ＳＨ８６２７”（シリコーンエマルジョン、東
レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）：１０重量
部 （４）２−アミノプロピルトリメトキシシラン：５重量
部 （５）“エマール”Ｏ（界面活性剤、花王（株）製）：
５重量部 （６）精製水：８５０重量部 （７）ＩＰＡ：５０重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍのポリ
プロピレンフィルム“トレファン”（東レ（株）製）を
カレンダーローラーを用いてラミネートし、直描型平版
印刷版原版を得た。

【０１５１】得られた原版を実施例１と同様に評価した
ところ、レーザー光が照射された部分の親水性膨潤層が
除去されたネガ型の印刷版が得られた。

【０１５２】実施例１と同様に印刷を行った結果、約１
００００枚の印刷を行なった時点で、各刷版にインキ汚
れは発生せず、十分にコントラストを有する明瞭な印刷
物が得られた。

【０１５３】さらに、製版後の版を用いて、画線部ベタ
部の感熱層の厚さを測定したところ１．７ｇ／ｍ²であ
り、残存率が８５％であることが判明した。

【０１５４】また、非画線部の吸水量は定義に従って測
定した結果、１２．７ｇ／ｍ²であった。また、非画線
部の水膨潤率は定義にしたがって測定した結果、４４２
％であった。 実施例９ 実施例３において、感熱層中の（ｄ）“マルカリンカ
ー”ＰＨＭ−Ｃ：１５重量部の代わりに（ｄ）“ラック
スター”ＤＮ−７０２：２０重量部を用いた以外は全く
同様にして印刷版原版を作成し、同様に評価したとこ
ろ、実施例３と同様にレーザー光が照射された部分の親
水性膨潤層が除去されたネガ型の印刷版が得られた。

【０１５５】

【発明の効果】本発明は、直描型平版印刷版原版におい
て、感熱層が光熱変換物質と金属キレート化合物を含有
することで、レーザー光照射で画像形成可能な直描型平
版印刷版が得られる。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板上に、少なくとも（１）感熱層、およ
   び（２）乾燥膜厚が５μｍ以下で、吸水量が１〜５０ｇ
   ／ｍ²かつ水膨潤率が１０〜２０００％の親水性膨潤層
   をこの順に積層してなる直描型平版印刷版原版におい
   て、該感熱層が少なくとも （ａ）光熱変換物質 （ｂ）金属キレート化合物 を含むことを特徴とする直描型平版印刷版原版。
2. 【請求項２】基板上に、少なくとも（１）乾燥膜厚が５
   μｍ以下で、吸水量が１〜５０ｇ／ｍ²かつ水膨潤率が
   １０〜２０００％の親水性膨潤層、（２）感熱層をこの
   順に積層してなる直描型平版印刷版原版において、該感
   熱層が少なくとも （ａ）光熱変換物質 （ｂ）金属キレート化合物 を含むことを特徴とする直描型平版印刷版原版。
3. 【請求項３】該金属キレート化合物がＡｌ、Ｔｉ、Ｍ
   ｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｓｎ
   の群から選ばれる金属のキレート化合物であることを特
   徴とする請求項１、２いずれか記載の直描型平版印刷版
   原版。
4. 【請求項４】該感熱層が活性水素基含有化合物を有する
   ことを特徴とする請求項１〜３いずれか記載の直描型平
   版印刷版原版。
5. 【請求項５】活性水素基含有化合物がフェノール性水酸
   基含有化合物であることを特徴とする請求項１〜４のい
   ずれかに記載の直描型平版印刷版原版。
6. 【請求項６】該金属キレート化合物が、金属ジケテネー
   ト、金属アルコキサイド、アルキル金属、金属カルボン
   酸塩から選ばれた少なくとも１種であることを特徴とす
   る請求項１〜５いずれか記載の直描型平版印刷版原版。