JPH11188974A

JPH11188974A - 直描型水なし平版印刷版原版

Info

Publication number: JPH11188974A
Application number: JP35895097A
Authority: JP
Inventors: Koichi Fujimaru; 浩一藤丸; Kazuoki Goto; 一起後藤; Ken Kawamura; 建河村
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1997-12-26
Filing date: 1997-12-26
Publication date: 1999-07-13

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】高感度の直描型水なし平版印刷版を得る。【解決手段】基板上に少なくとも光熱変換物質を含有す
るシリコーンゴム層を有する直描型水なし平版におい
て、該シリコーンゴム層がＡ、Ｉ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｍｎ、
Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｉｎの群から選
ばれる金属キレート化合物を含有し、かつ架橋構造を有
することを特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は湿し水を用いること
なしに印刷が可能である水なし平版印刷版原版に関する
ものであり、特にレーザー光で直接製版できる直描型水
なし平版印刷版原版に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】製版用フィルムを使用しないで、原稿か
ら直接オフセット印刷版を作製する、いわゆるダイレク
ト製版は、熟練度を必要としない簡易性、短時間で印刷
版が得られる迅速性、多様なシステムから品質とコスト
に応じて選択可能である合理性などの特徴を生かして、
軽印刷業界のみでなく、一般オフセット印刷、グラビア
印刷の分野にも進出し始めている。

【０００３】特に最近では、プリプレスシステムやイメ
ージセッター、レーザープリンターなどの出力システム
の急激な進歩によって新しいタイプの各種平版印刷材料
が開発されている。

【０００４】これらの平版印刷版を、製版方法から分類
すると、レーザー光を照射する方法、サーマルヘッドで
書き込む方法、ピン電極で電圧を部分的に印加する方
法、インクジェットでインキ反発層またはインキ着肉層
を形成する方法などが挙げられる。なかでも、レーザ
ー光を用いる方法は解像度、および製版速度の面で他の
方式よりも優れており、その種類も多い。

【０００５】このレーザー光を用いる平版印刷版はさら
に、光反応によるフォトンモードタイプのものと、光熱
変換を行って熱反応を起こさせるヒートモードタイプの
２つに分けられる。

【０００６】フォトンモードタイプとしては（１）フォトポリマーを用いた高感度ＰＳ版（２）有機光導電体や酸化亜鉛を用いた電子写真式平版（３）銀塩方式平版（４）銀塩複合方式平版（５）直描マスターなどがあり、ヒートモードタイプと
しては（６）熱破壊方式平版が挙げられる。

【０００７】しかしながら、（１）の方式はレーザー光
源に主としてアルゴンイオンレーザーを使用しているた
め装置が大型となり、また印刷版も高感度のフォトポリ
マーを使用しているため、印刷版の取り扱いに注意が必
要で、なおかつ保存安定性も低下しやすいといった欠点
がある。

【０００８】（２）の電子写真式平版は、明室で取り扱
えるといった利点はあるが、感光層の帯電後２〜５分の
間で暗減衰が大きくなるため、帯電後短時間で露光現像
処置をする必要があり、大判サイズを高解像力で出力す
るのは難しい。

【０００９】（３）の銀塩方式は、様々な波長のレーザ
ーに対応した印刷版が開発されているが、銀廃液が出る
ことが問題となっており、また感度が高いために、取り
扱いに注意を要するといった問題もある。

【００１０】（４）の銀塩複合方式平版は、感光層上に
高感度のハロゲン化銀乳剤層をアルゴンイオンレーザー
で露光、現像後それをマスクとしてさらに紫外線で露
光、現像を行うものである。しかし、この印刷版は露
光、現像工程が２回あるため、印刷版の処理が複雑にな
るという問題がある。

【００１１】（５）の直描マスターは、直接印刷版にレ
ーザーで書き込むわけではないが、レーザープリンター
で形成されたトナー画像をインキ着肉部として、印刷版
上に転写するものである。しかし、印刷版の解像度とい
う面では、他の方式と比較して劣っている。

【００１２】以上のフォトンモードタイプに対して、
（６）の熱破壊方式は、明室で取り扱えるというといっ
た利点があり、また光源となる半導体レーザーの出力の
急激な進歩によって、最近その有用性が見直されてきて
いる。

【００１３】例えば、ＵＳＰ５３７９６９８号明細書に
は、金属薄膜を感熱層として用いる直描型水なし平版印
刷版が記載されている。また、特開平９−１４６２６４
号公報、特開平６−１９９０６４号公報、ＵＳＰ５３３
９７３７号公報、ＥＰ０５８０３９３号公報、特開平６
−５５７２３号公報、ＥＰ０５７３０９１号公報、ＵＳ
Ｐ５３７８５８０号公報、特開平７−１６４７７３号公
報、ＵＳＰ５３３３７０５号公報、ＥＰ０６４４６４７
号公報にも、レーザー光を光源として用いる、直描型水
なし平版印刷版原版が記載されている。これらの直描型
水なし平版印刷版原版は、レーザー照射部分の感熱層が
爆発、燃焼、分解、気化等の反応が起きることにより、
上層のシリコーンゴム層を焼き飛ばしたり、接着力の低
下、感熱層の溶剤に対する膨潤性や溶解性などの変化に
より剥離可能とし画線部を形成している。しかしなが
ら、シリコーンゴム層を焼き飛ばしのタイプは、網点の
形状が悪い、さらにシリコーンゴム層および感熱層が焼
き飛んでしまうために画線部のセルが深くインキマイレ
ージが悪くインキの消費量が多い欠点を有していた。一
方、感熱層の変化によりシリコーンゴム層を剥離するタ
イプは、シリコーンゴム層の除去性が悪く、時間や手間
を要する欠点を有していた。

【００１４】これらのシリコーンゴム層の除去性を高め
るために、ＵＳＰ５３８５０９２号、ＵＳＰ５３３９７
３７号明細書では、シリコーンゴム層に光熱変換物質を
含有させる手法がとられているが、感度が低いという欠
点を有していた。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】本発明では、感度が向
上した直描型水なし平版印刷版原版を提供することにあ
る。

【００１６】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は下記の構成からなる。

【００１７】（１）基板上に、少なくともシリコーンゴ
ム層を有する直描型水なし平版印刷版原版において、該
シリコーンゴム層が金属キレート化合物を含有し、かつ
架橋構造を有することを特徴とする直描型水なし平版印
刷版原版。

【００１８】

【発明の実施の形態】本発明において、直描型とは、露
光時にネガあるいはポジのフィルムを用いずに、印刷版
上に直接記録ヘッドから、画像形成を行うことをいう。

【００１９】本発明で使用されるシリコーンゴム層はレ
ーザー光を吸収した部分が剥離容易となる印刷版であ
る。

【００２０】次に、本発明の直描型水なし平版印刷版に
ついて説明する。

【００２１】シリコーンゴム層本発明で使用される原版は、レーザー光を吸収して、熱
を発生する光熱変換物質およびシリコーンゴムの水酸基
等の活性水素と反応し架橋構造をとりうる金属キレート
化合物を含有している。

【００２２】この版材にレーザーを照射するとシリコー
ンゴム層が、爆発、燃焼、分解、気化等の反応が起き
る。これにより下層との接着力が低下、溶剤への膨潤
性、溶解性が変化し、現像が可能となる。その詳細なメ
カニズムは不明であるが、おそらくレーザー照射前に、
一旦架橋していた結合が熱によりその安定性が変化した
ためと考えられる。すなわち、印刷版原版製造時におけ
るキュア温度（７０℃〜２００℃）では金属をキレート
している官能基が、水酸基等の活性水素を有する化合物
と置換反応する方向に熱平衡が移動し、常温でその架橋
構造が安定化している。レーザー照射による熱（３００
℃〜）がかかると、官能基が脱離し架橋構造が弱体化す
る方向へ熱平衡が進行する。この結果レーザー照射部と
未照射部に大きな変化が生じ、画線部の形成が可能とな
る。

【００２３】次にシリコーンゴム層組成物の内容につい
て詳細に説明する。

【００２４】縮合型シリコーンゴムを用いる場合、公知
の組成物を用いることができる。

【００２５】縮合型シリコーン組成物として、例えば、（ａ）下記式（Ｉ）〜（III ）で示される線状ジオルガ
ノポリシロキサン。

【００２６】

【化１】

【化２】

【化３】（ここでＲ１は水酸基もしくはメトキシ基を示し、Ｒ２
はメチル基、水酸基もしくはメトキシ基を示す。Ｌは１
００〜８０００、ｍ、ｎは１０〜８０００であることが
好ましい。（Ｉ）を必須成分とし、必要に応じ（II）お
よび／または（III ）は混合して使用される。）（ｂ）金属キレート化合物。

【００２７】本発明でいう金属キレート化合物は、「中
心金属部」と有機置換基であるキレート部からなり、金
属に対して有機配位子が配位結合している錯体化合物
か、有機官能基と共有結合している有機金属化合物のこ
とをいう。金属酸化物のような無機化合物は、その範疇
ではない。これらの物質は、活性水素を含有する化合
物、特に水酸基を含有する化合物と置換反応をおきるこ
とが特徴である。

【００２８】「中心金属」としては周期表の第２周期か
ら第６周期の金属および半導体原子が挙げられ、なかで
も第３周期から第５周期の金属および半導体原子が好ま
しく、第３周期金属のＡｌ、Ｓｉ、第４周期金属のＴ
ｉ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、第５
周期金属のＩｎ、Ｓｎが特に好ましい。以上のような金
属を中心にして有機化合物との間で金属キレート化合物
が形成されるが、例えば、以下のようなものが示される
が本発明はこれらに限定されない。

【００２９】（１）金属ジケテネートジケトンのエノール水酸基の水酸基が金属原子とが置換
したもので、中心金属は酸素原子を介して結合してい
る。ジケトンのカルボニルがさらに金属に対して配位結
合することができるため、比較的安定な化合物である。

【００３０】具体的には、キレート部が、２，４−ペン
タジオネート（アセチルアセトネート）、フルオロペン
タジオネート、２，２，６，６−テトラメチル−３，５
−ヘプタンジオネート、ベンゾイルアセトネート、テノ
イルトリフルオロアセトネートや１，３−ジフェニル−
１，３−プロパンジオネートなどの金属ペンタンジオネ
ート（金属アセトネート）類や、メチルアセトアセテー
ト、エチルアセトアセテート、メタクリルオキシエチル
アセトアセテートやアリルアセトアセテートなどの金属
アセトアセテート類が挙げられる。

【００３１】（２）金属アルコキサイド中心金属に対して、酸素原子を介してアルキル基が結合
している化合物である。

【００３２】キレート部が、メトキサイド、エトキサイ
ド、プロポキサイド、ブトキサイド、フェノキサイド、
アリルオキサイド、メトキシエトキサイド、アミノエト
キサイドなどの金属アルコキサイドが挙げられる。

【００３３】（３）アルキル金属中心金属がそのままアルキル基を有するものであり、こ
の場合金属は炭素原子と結合している。キレート部化合
物がジケトンであっても、金属が炭素原子で結合してい
ればこちらに分類される。なかでもアセチルアセトン金
属が好ましく使用できる。

【００３４】（４）金属カルボン酸塩類酢酸金属塩、乳酸金属塩、アクリル酸金属塩、メタクリ
ル酸金属塩、ステアリン酸金属塩などが挙げられる。

【００３５】（５）その他チタンオキサイドアセトネートなような酸化金属キレー
ト化合物、チタノセンフェノキサイドのような金属錯体
や、２種以上の金属原子を１分子中に有するヘテロ金属
キレート化合物が挙げられる。

【００３６】これらの金属キレート化合物は、それぞれ
単独で使用してもよいし、２種以上併用して使用するこ
ともできる。

【００３７】以上のような金属キレート化合物のうち好
ましく用いられる金属キレート化合物の具体例として
は、例えば、以下のような化合物が挙げられる。

【００３８】アルミニウムキレート化合物の具体例とし
ては、アルミニウムイソプロピレート、モノｓｅｃ−ブ
トキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウム
ｓｅｃ−ブチレート、エチルアセテートアルミニウムジ
イソプロピレート、プロピルアセテートアルミニウムジ
イソプロピレート、ブチルアセテートアルミニウムジイ
ソプロピレート、ヘプチルアセテートアルミニウムジイ
ソプロピレート、ヘキシルアセテートアルミニウムジイ
ソプロピレート、オクチルアセテートアルミニウムジイ
ソプロピレート、ノニルアセテートアルミニウムジイソ
プロピレート、エチルアセテートアルミニウムジエチレ
ート、エチルアセテートアルミニウムジブチレート、エ
チルアセテートアルミニウムジヘプチレート、エチルア
セテートアルミニウムジノニレート、ジエチルアセテー
トアルミニウムイソプロピレート、アルミニウムトリス
（エチルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（プ
ロピルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（ブチ
ルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（ヘキシル
アセトアセテート）、アルミニウムトリス（ノニルアセ
トアセテート）、アルミニウムトリスアセチルアセトネ
ート、アルミニウムビスエチルアセトアセテートモノア
セチルアセトネート、アルミニウムジアセチルアセトネ
ートエチルアセトアセテート、アルミニウムモノアセチ
ルアセトネートビスプロピルアセトアセテート、アルミ
ニウムモノアセチルアセトネートビスブチルアセトアセ
テート、アルミニウムモノアセチルアセトネートビスヘ
キシルアセトアセテート、アルミニウムモノエチルアセ
トアセテートビスプロピルアセトセトネート、アルミニ
ウムモノエチルアセトアセテートビスブチルアセトアセ
トネート、アルミニウムモノエチルアセトアセテートビ
スヘキシルアセトアセトネート、アルミニウムモノエチ
ルアセトアセテートモノノニルアセトアセトネート、ア
ルミニウムジブトキシドモノアセトアセテート、アルミ
ニウムジプロポキシドモノアセトアセテート、アルミニ
ウムジブトキシドモノエチルアセトアセテート、アルミ
ニウムオキシドアクリレート、アルミニウムオキシドオ
クテート、アルミニウムオキシドステアレイト、トリス
アリザリンアルミニウム、アルミニウム−ｓ−ブトキサ
イドビス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムジ
−ｓ−ブトキサイドエチルアセトアセテート、アルミニ
ウム−９−オクタデセニルアセトアセテートジイソプロ
ポキサイド、アルミニウムフェノキサイド、アクリル酸
アルミニウム、メタクリル酸アルミニウムなど。

【００３９】チタンキレート化合物の具体例としては、
イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプ
ロピルトリｎ−ステアロイルチタネート、イソプロピル
トリオクタノイルチタネート、イソプロピルトリドデシ
ルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルトリス
（ジオクチルパイロホスファイト）チタネート、テトラ
イソプロピルビス（ジオクチルホスファイト）チタネー
ト、テトラオクチルビス（ジトリデシルホスファイト）
チタネート、テトラ（２，２−ジアリルオキシメチル−
１−ブチル）ビス（ジ−トリデシル）ホスファイトチタ
ネート、ビス（ジオクチルパイロホスフェート）オキシ
アセテートチタネート、ビス（ジオクチルパイロホスフ
ェート）エチレンチタネート、トリス（ジオクチルパイ
ロホスフェート）エチレンチタネート、イソプロピルジ
メタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピル
イソステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピル
トリ（ジオクチルホスフェート）チタネート、イソプロ
ピルトリクミルフェニルチタネート、イソプロピルトリ
（Ｎ−アミノエチルアミノエチル）チタネート、ジクミ
ルフェニルオキシアセテートチタネート、ジイソステア
ロイルエチレンチタネート、イソプロピルジイソステア
ロイルクミルフェニルチタネート、イソプロピルジステ
アロイルメタクリルチタネート、イソプロピルジイソス
テアロイルアクリルチタネート、イソプロピル４−アミ
ノベンゼンスルホニルジ（ドデシルベンゼンスルホニ
ル）チタネート、イソプロピルトリメタクリルチタネー
ト、イソプロピルジ（４−アミノベンゾイル）イソステ
アロイルチタネート、イソプロピルトリ（ジオクチルパ
イロホスフェート）チタネート、イソプロピルトリアク
リルチタネート、イソプロピルトリ（Ｎ，Ｎ−ジメチル
エチルアミノ）チタネート、イソプロピルトリアントラ
ニルチタネート、イソプロピルオクチル，ブチルパイロ
ホスフェートチタネート、イソプロピルジ（ブチル，メ
チルパイロホスフェート）チタネート、テトライソプロ
ピルジ（ジラウロイルホスファイト）チタネート、ジイ
ソプロピルオキシアセテートチタネート、イソステアロ
イルメタクリルオキシアセテートチタネート、イソステ
アロイルアクリルオキシアセテートチタネート、ジ（ジ
オクチルホスフェート）オキシアセテートチタネート、
４−アミノベンゼンスルホニルドデシルベンゼンスルホ
ニルオキシアセテートチタネート、ジメタクリルオキシ
アセテートチタネート、ジクミルフェノレートオキシア
セテートチタネート、４−アミノベンゾイルイソステア
ロイルオキシアセテートチタネート、ジアクリルオキシ
アセテートチタネート、ジ（オクチル，ブチルパイロホ
スフェート）オキシアセテートチタネート、イソステア
ロイルメタクリルエチレンチタネート、ジ（ジオクチル
ホスフェート）エチレンチタネート、４−アミノベンゼ
ンスルホニルドデシルベンゼンスルホニルエチレンチタ
ネート、ジメタクリルエチレンチタネート、４−アミノ
ベンゾイルイソステアロイルエチレンチタネート、ジア
クリルエチレンチタネート、ジアントラニルエチレンチ
タネート、ジ（ブチル，メチルパイロホスフェート）エ
チレンチタネート、チタンアリルアセトアセテートトリ
イソプロポキサイド、チタンビス（トリエタノールアミ
ン）ジイソプロポキサイド、チタンジ−ｎ−ブトキサイ
ド（ビス−２，４−ペンタンジオネート）、チタンジイ
ソプロポキサイドビス（テトラメチルヘプタンジオネー
ト）、チタンジイソプロポキサイドビス（エチルアセト
アセテート）、チタンメタクリルオキシエチルアセトア
セテートトリイソプロポキサイド、チタンメチルフェノ
キサイド、チタンオキシドビス（ペンタンジオネート）
など。

【００４０】鉄（III ）アセチルアセトネート、ジベン
ゾイルメタン鉄（II）、トロポロン鉄、トリストロポロ
ノ鉄（III ）、ジベンゾイルメタン鉄（II）、ヒノキチ
オール鉄、トリスヒノキチオロ鉄（III ）、アセト酢酸
エステル鉄（III ）、鉄（III ）ベンゾイルアセトネー
ト、鉄（III ）２，４−ペンタンジオネート、鉄（III
）トリフルオロペンタンジオネート、サリチルアルデ
ヒド銅（II）、銅（II）アセチルアセネート、サリチル
アルデヒドイミン銅、コウジ酸銅、ビスコウジャト銅
（II）、トロポロン銅、ビストロポロノ銅（II）、ビス
（５−オキシナフトキノン−１，４）銅、ビス（１−オ
キシアントラキノン）ニッケル、アセト酢酸エステル
銅、、サリチルアミン銅、ｏ−オキシアゾベンゼン銅、
銅（II）ベンゾイルアセテート、銅（II）エチルアセト
アセテート、銅（II）メタクリルオキシエチルアセトア
セテート、銅（II）メトキシエトキシエトキサイド、銅
（II）２，４−ペンタンジオネート、銅（II）２，２，
６，６，−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネー
ト、亜鉛Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエトキサイド、亜鉛
２，４−ペンタンジオネート、亜鉛２，２，６，６−テ
トラメチル−３，５−ヘプタンジオネートなども本発明
に好ましく用いられる。

【００４１】その他、サリチルアルデヒドコバルト、ｏ
−オキシアセトフェノンニッケル、ビス（１−オキシキ
サントン）ニッケル、ピロメコン酸ニッケル、サリチル
アルデヒドニッケル、アリルトリエチルゲルマン、アリ
ルトリメチルゲルマン、アンモニウムトリス（オキザレ
ート）ゲルマネート、ビス［ビス（トリメチルシリル）
アミノ］ゲルマニウム（II）、カルボキシエチルゲルマ
ニウムセスキオキサイド、シクロペンタジェニルトリメ
チルゲルマン、ジ−ｎ−ブチルジアセトキシゲルマン、
ジ−ｎ−ブチルジクロロゲルマン、ジメチルアミノトリ
メチルゲルマン、ジフェニルゲルマン、ヘキサアリルジ
ゲルマノキサン、ヘキサエチルジゲルモキサン、ヘキサ
メチルジゲルマン、ヒドロキシゲルマトラン１水和物、
メタクリルオキシメチルトリメチルゲルマン、メタクリ
ルオキシトリエチルゲルマン、テトラアリルゲルマン、
テトラ−ｎ−ブチルゲルマン、テトライソプロポキシゲ
ルマン、トリ−ｎ−ブチルゲルマン、トリメチルクロロ
ゲルマン、トリフェニルゲルマン、ビニルトリエチルゲ
ルマン、ビス（２，４−ペンタンジオネート）ジクロロ
スズ、ジ−ｎ−ブチルビス（２，４−ペンタンジオネー
ト）スズ、カルシウム２，４ペンタンジオネート、セリ
ウム（III ）２，４−ペンタンジオネート、コバルト
（II）２，４−ペンタンジオネート、コバルト（III ）
２，４−ペンタンジオネート、ユーロピウム２，４−ペ
ンタンジオネート、ユーロピウム（III）テノイルトリ
フルオロアセトネート、インジウム２、４−ペンタンジ
オネート、マンガン（II）２，４−ペンタンジオネー
ト、マンガン（III ）２，４−ペンタンジオネートなど
も本発明に用いられる。

【００４２】これらの具体例のうち、特に好ましく用い
られる金属キレート化合物としては、アルミニウム、鉄
（III ）、チタンのアセチルアセトネート（ペンタンジ
オネート）、エチルアセトアセトネート（ヘキサンジオ
ネート）、プロピルアセトアセトネート（ヘプタンジオ
ネート）、テトラメチルヘプタンジオネート、ベンゾイ
ルアセトネート類などが挙げられる。

【００４３】これら「（ｂ）金属キレート化合物」はそ
れぞれ単独でも使用できるし、２種以上を混合して使用
することもでき、（ｃ）光熱変換物質光熱変換物質としては、光を吸収して熱に変換しうる物
質であれば、特に限定されるものではなく、例えばカー
ボンブラック、アニリンブラック、シアニンブラックな
どの黒色顔料、フタロシアニン、ナフタロシアニン系の
緑色顔料、カーボングラファイト、鉄粉、ジアミン系金
属錯体、ジチオール系金属錯体、フェノールチオール系
金属錯体、メルカプトフェノール系金属錯体、アリール
アルミニウム金属塩類、結晶水含有無機化合物、硫酸
銅、硫化クロム、珪酸塩化合物や、酸化チタン、酸化バ
ナジウム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化コバルト、酸化
タングステンなどの金属酸化物、これらの金属の金属水
酸化物、金属硫酸塩、銀、鉄、亜鉛、錫、ゲルマニウ
ム、マンガン、ストロンチウム、コバルト、ニッケル、
銅、インジウム等との金属硫化物、さらにビスマス、ス
ズ、テルル、鉄、マグネシウム、アルミの金属粉などの
添加剤を添加することが好ましい。

【００４４】また上記の物質以外に、赤外線または近赤
外線を吸収する染料も、光熱変換物質として好ましく使
用される。

【００４５】これら染料としては４００ｎｍ〜１２００
ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する全ての染料が使用で
きるが、好ましい染料としては、シアニン系、フタロシ
アニン系、フタロシアニン金属錯体系、ナフタロシアニ
ン系、ナフタロシアニン金属錯体系、ジチオール金属錯
体系、ナフトキノン系、アントラキノン系、インドフェ
ノール系、インドアニリン系、ピリリウム系およびチオ
ピリリウム系、スクワリリウム系、クロコニウム系、ジ
フェニルメタン系、トリフェニルメタン系、トリフェニ
ルメタンフタリド系、トリアリルメタン系、フェノチア
ジン系、フェノキサジン系、フルオラン系、チオフルオ
ラン系、キサンテン系、インドリルフタリド系、スピロ
ピラン系、アザフタリド系、クロメノピラゾール系、ロ
イコオーラミン系、ローダミンラクタム系、キナゾリン
系、ジアザキサンテン系、ビスラクトン系、フルオレノ
ン系、モノアゾ系、ケトンイミン系、ジズアゾ系、メチ
ン系、オキサジン系、ニグロシン系、ビスアゾ系、ビス
アゾスチルベン系、ビスアゾオキサジアゾール系、ビス
アゾフルオレノン系、ビスアゾヒドロキシペリノン系、
アゾクロム錯塩系、トリスアゾトリフェニルアミン系、
チオインジゴ系、ペリレン系、ニトロソ系、１：２型金
属錯塩系、分子間型ＣＴ系、キノリン系、キノフタロン
系、フルキド系の酸性染料、塩基性染料、色素、油溶性
染料や、トリフェニルメタン系ロイコ色素、カチオン染
料、アゾ系分散染料、ベンゾチオピラン系スピロピラ
ン、３，９−ジブロモアントアントロン、インダンスロ
ン、フェノールフタレイン、スルホフタレイン、エチル
バイオレット、メチルオレンジ、フルオレッセイン、メ
チルビオロゲン、メチレンブルー、ジムロスベタインな
どが挙げられる。

【００４６】これらのなかでも、エレクトロニクス用や
記録用の色素で、最大吸収波長が７００ｎｍ〜９００ｎ
ｍの範囲にある、シアニン系色素、アズレニウム系色
素、スクアリリウム系色素、クロコニウム系色素、アゾ
系分散色素、ビスアゾスチルベン系色素、ナフトキノン
系色素、アントラキノン系色素、ペリレン系色素、フタ
ロシアニン系色素、ナフタロシアニン金属錯体系色素、
ジチオールニッケル錯体系色素、インドアニリン金属錯
体色素、分子間型ＣＴ色素、ベンゾチオピラン系スピロ
ピラン、ニグロシン染料などの黒色染料が好ましく使用
される。

【００４７】さらにこれらの染料のなかでも、モル吸光
度係数の大きなものが好ましく使用される。具体的には
ε＝１×１０⁴以上が好ましく、より好ましくは１×１
０⁵以上である。εが１×１０⁴より小さいと、感度の向
上効果が発現しにくいためである。

【００４８】これらの光熱変換物質は単独でも感度の向
上効果はあるが、２種以上を併用して用いることによっ
て、さらに感度を向上させることも可能である。

【００４９】組成重量比率としては、（ａ）が１００重
量部に対し、（ｂ）は０．０１〜５０重量部であり、好
ましくは０．１〜２０重量部、（ｃ）は０〜１５重量部
であり、好ましくは０〜１０重量部である範囲で使用で
きる。この範囲外であると、シリコーンゴム層のレーザ
ーによる変化が乏しくなったり、シリコーンゴムの硬化
不足による耐刷性や耐傷性の影響、過剰な硬化やインキ
着肉成分の増加によるインキ反撥性への影響が現れる。

【００５０】また、上記組成物にはその他の添加剤とし
て公知のシラン化合物、公知の触媒、無機粉体などの公
知の充填剤を併用してもよい。

【００５１】付加型シリコーン組成物として、例えば、（ｄ）下記式（ＩＶ）〜（ＶＩ）で示される線状ジオル
ガノポリシロキサン。

【００５２】

【化４】

【化５】

【化６】（ここでＲ３はビニル基を示し、Ｒ４はメチル基、もし
くはビニル基を示す。ｏ、ｎは１００〜８０００、ｐは
０〜４００、ｑは１０〜８０００であることが好まし
い。（ＩＶ）を必須成分とし、必要に応じ（Ｖ）および
／または（ＶＩ）は混合して使用される。）（ｅ）上記線状ジオルガノポリシロキサンの官能基と付
加反応する架橋剤例えば下記組成式により示されるメチルハイドロジェン
ポリシロキサン等が挙げられる。

【００５３】

【化７】（ここでｒは０または整数であり、ｓは整数である。好
ましくはｒ＋ｓは５以上、ｓは３以上である。）（ｆ）前記（ｂ）金属キレート化合物。

【００５４】（ｇ）前記（ｃ）光熱変換物質組成重量比率としては、（ｄ）が１００重量部に対し、
（ｅ）は０．１〜１０００重量部、（ｆ）は０．０１〜
５０重量部であり、好ましくは０．１〜２０重量部、
（ｇ）は０〜１５重量部であり、好ましくは０〜１０重
量部である範囲で使用できる。この範囲外であると、シ
リコーンゴム層のレーザーによる変化が乏しくなった
り、シリコーンゴムの硬化不足による耐刷性や耐傷性の
影響、過剰な硬化やインキ着肉成分の増加によるインキ
反撥性への影響が現れる。

【００５５】また、上記組成物にはその他の添加剤とし
て公知の触媒、公知の硬化遅延剤、無機粉体などの公知
の充填剤を併用してもよい。

【００５６】これらの縮合型、付加型シリコーン層の組
成物は、溶液として使用する場合の濃度は、１００〜１
重量％の範囲で使用できる。また、希釈溶剤は公知の溶
剤が使用でき、組成物の溶解性や乾燥性を考慮し選ばれ
る。さらに膜厚は０．５〜５０ｇ／ｍ²が好ましく、さ
らに好ましくは０．５〜１０ｇ／ｍ²である。膜厚が
０．５ｇ／ｍ²よりも小さい場合には、印刷版のインキ
反撥性が低下しやすく、５０ｇ／ｍ²よりも大きい場合
には、経済的見地から不利である。

【００５７】次に直描型水なし平版印刷版原版に使用す
る基板について説明する。

【００５８】基板としては、寸法的に安定な板状物であ
れば公知の金属、フィルム等のいずれも使用することが
できる。この様な寸法的に安定な板状物としては、従来
印刷版の基板として使用されたもの等が好ましく挙げら
れる。かかる基板としては、紙、プラスチック（ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど）がラミネ
−トされた紙、アルミニウム（アルミニウム合金も含
む）、亜鉛、銅、鉄などの金属の板、セルロースアセテ
ート、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレン、ポ
リエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスチレン、
ポリプロピレン、ポリカ−ボネ−ト、ポリビニルアセタ
−ルなどのプラスチックのフィルム、上記の如き金属が
ラミネ−トもしくは蒸着された紙もしくはプラスチック
フィルムなどが挙げられる。

【００５９】これらのうち、アルミニウム板は寸法的に
著しく安定であり、しかも安価であるので特に好まし
い。また、軽印刷用の基板として用いられているポリエ
チレンテレフタレ−トフィルムも好ましく使用される。

【００６０】これら基板とシリコーンゴム層の接着性を
強固にするために、エッチング処理、コロナ処理、プラ
ズマ処理などの表面処理を行うことは好ましく行われ
る。特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン
ナフタレートなどのプラスチックフィルムを基板に用い
た場合は基板自体が断熱層の役割を果たすため、このよ
うな表面処理で接着性を高めることは特に好ましく行わ
れる。

【００６１】また、基板が金属などのように熱伝導が比
較的高い物質を使用する場合には、接着性改良と断熱効
果の目的で、基板とシリコーンゴム層の間に断熱層を設
けることが好ましい。このような断熱層により、シリコ
ーンゴム層が熱反応を起こす際の熱が基板へ拡散するの
を防止することができる。

【００６２】断熱層を設ける場合、本発明においては、
次の条件を満たすことが必要である。すなわち、基板と
シリコーンゴム層とをよく接着し、経時において安定で
あること、さらに現像液、印刷時に使用する溶剤に対す
る耐溶剤性が高いことである。

【００６３】このような条件を満たすものとして、エポ
キシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノ−ル樹脂、アクリ
ル樹脂、アルキッド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミ
ド樹脂、尿素樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、カゼイ
ン、ゼラチン等を含むものが挙げられる。これらの樹脂
は単独であるいは二種以上混合して用いることができ
る。また、これらの樹脂と類似の組成物を硬化したもの
を使用してもよい。

【００６４】これらの中では、ポリウレタン樹脂、ポリ
エステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂
等を単独で、あるいは２種以上を混合して用いることが
好ましい。

【００６５】また、この断熱層中に顔料、染料等の添加
剤を含有させて検版性を向上させることが好ましい。

【００６６】断熱層の厚さは被覆層にして０．５〜５０
ｇ／ｍ２が基板表面の形態欠陥を防止し化学的悪影響
を遮断する効果や経済性の点から好ましく、より好まし
くは１〜１０ｇ／ｍ２である。

【００６７】本発明の直描型水なし平版印刷版原版は断
熱層とシリコーンゴム層の間に感熱層を設けてもよい。
かかる感熱層について説明する。

【００６８】本発明において感熱層は、少なくとも
（ａ）光熱変換物質と（ｂ）バインダー（ｃ）架橋剤か
ら構成されるものである。

【００６９】まず、（ａ）光熱変換物質について説明す
る。

【００７０】本発明の直描型水なし平版印刷版原版は、
レーザー光を照射することにより画像を形成させるた
め、光熱変換物質を含有することが必要である。光熱変
換物質としてはレーザー光を吸収するものであれば特に
限定されない。この時、レーザー光の波長としては、紫
外域、可視域、赤外域のどの領域の波長であってもよ
く、使用するレーザー光の波長に合わせた吸収域を有す
る光熱変換物質を適宜選択して使用するとよい。具体的
な例示はシリコーンゴム層の記述（ｃ）で例示したもの
が使用できる。

【００７１】これらの光熱変換物質は単独でも感度の向
上効果はあるが、２種以上を併用して用いることによっ
て、さらに感度を向上させることも可能である。さらに
上層のシリコーンゴム層で使用している光熱変換物質と
同じであっても異なっていてもよい。

【００７２】これらの光熱変換物質の含有量は、全感熱
層組成物に対して０．１〜４０重量％が好ましく、より
好ましくは０．５〜２５重量％である。

【００７３】次に（ｂ）のバインダーについて説明す
る。バインダーポリマーとしては、有機溶剤に可溶でか
つフィルム形成能のあるものであれば特に限定されない
が、印刷版の耐刷性の観点から、該ポリマーのガラス転
移温度（Ｔｇ）が２０℃以下のポリマー、コポリマー、
さらに好ましくはガラス転移温度が０℃以下のポリマ
ー、コポリマーを用いることが好ましい。

【００７４】バインダーポリマの具体例としては、公知
のビニルポリマー類、未加硫ゴム、ポリオキシド類（ポ
リエーテル類）、ポリエステル類、ポリウレタン類、ポ
リアミド類、セルロース系樹脂などが挙げられる。

【００７５】これらのバインダーの含有量は、全感熱層
組成物に対して５〜７０重量％が好ましく、より好まし
くは１０〜５０重量％である。

【００７６】上記各種バインダーポリマは単独で用いて
もよいし、また数種のポリマを混合して使用してもよ
い。さらに（ｃ）に挙げられる架橋剤、シリコーンゴム
層の架橋剤との反応性を有する官能基を有しているバイ
ンダーが好ましく使用される。

【００７７】上記ポリマの中でも、特に、ポリウレタ
ン、ポリエステル、ビニル系ポリマーがバインダーポリ
マーとして好ましい。

【００７８】次に（ｃ）の架橋剤について説明する。感
熱層は形態保持性の向上、溶剤耐性の向上、上層のシリ
コーンゴム層との接着性の向上を目的とし、架橋剤を含
有することが好ましい。架橋剤は、ポリマー、オリゴマ
ーを感熱層に含有させた場合、その化合物と反応させて
もよいし、両者ともに反応させてもよい。

【００７９】このような架橋剤としては、架橋剤ハンド
ブック（１９８１年、大成社出版、山下晋三・金子東助
著）に記載されているようなものがいずれも使用でき
る。これら架橋剤の選択は被架橋体によって好ましく選
択される。架橋構造の形成に利用できる反応の具体例と
しては、例えば、感熱層中の水酸基とポリイソシアネー
ト、エポキシ樹脂、ポリアミンおよびアミン誘導体、ポ
リカルボン酸およびカルボン酸クロライドなどのカルボ
ン酸誘導体、金属キレート化合物との反応、不飽和基と
ポリチオール化合物によるエン・チオール付加、不飽和
基の熱または光ラジカル重合などが挙げられる。

【００８０】感熱層中に添加する量としては感熱層を形
成する固形分のうち３〜５０重量％が好ましく、さらに
は１０〜３０重量％が好ましい。添加量が３重量％未満
である場合にはその効果、すなわち画像再現性向上効果
が低くなり、一方３０重量％よりも多い場合には感熱層
の物性が低下しやすく、印刷版としては例えば耐刷性と
いう問題が生じやすくなるためである。

【００８１】更に本発明において、感熱層には、染料、
酸、レベリング剤、界面活性剤、発色剤、可塑剤等を必
要に応じて任意に添加してもよい。

【００８２】感熱層の厚さは、被覆層にして０．１〜１
０ｇ／ｍ２であると、印刷版の耐刷性や、希釈溶剤を
揮散し易く生産性に優れる点で好ましく、より好ましく
は１〜７ｇ／ｍ２である。

【００８３】次に、本発明における直描型水なし平版印
刷版原版の製造方法および製版方法について説明する。

【００８４】必要に応じて各種処理を施された基板上
に、通常のコーターあるいはホエラーのような回転塗布
装置を用い、必要に応じて断熱層組成物を塗布し加熱に
より溶媒を揮散させ、さらに熱や光の作用で硬化させた
後、シリコーンゴム層組成物を塗布し加熱による溶媒の
揮散と必要に応じて熱や光の作用での硬化を行う。ま
た、必要に応じシリコーンゴム層の下層に感熱層を設け
ることもできる。

【００８５】このようにして得られた版には、シリコー
ンゴム層を保護する目的で保護フィルムをラミネートす
るかあるいは保護層を形成してもよい。

【００８６】それ故、保護フィルムとしてはレーザー光
の照射を妨げることのないものが好ましい。このような
カバーフィルムの種類としては、ポリエステルフィル
ム、ポリプロピレンフィルム、ポリビニルアルコールフ
ィルム、エチレン酢酸ビニル共重合体ケン化物フィル
ム、ポリ塩化ビニリデンフィルムなどが挙げられる。

【００８７】このようにして得られた直描型水なし平版
印刷版原版を、保護フィルムを剥離してから、あるいは
好ましくは保護フィルム上からレーザー光で画像状に露
光する。

【００８８】本発明の製版露光工程で用いられるレーザ
ー光源としては、発光波長領域が３００ｎｍ〜１５００
ｎｍの範囲にあるものが用いられる。すなわち、アルゴ
ンイオン、クリプトンイオン、ヘリウム-ネオン、ヘリ
ウム−カドミウム、ルビー、ガラス、ＹＡＧ、チタンサ
ファイア、色素、窒素、金属蒸気、エキシマ、自由電
子、半導体などの各種レーザーが使用される。

【００８９】これらの中でも本発明の印刷版原版を製版
する目的から、近赤外領域付近に発光波長領域が存在す
る半導体レーザーが好ましく、特に高出力半導体レーザ
ーが好ましく用いられる。

【００９０】現像方法としては、水または有機溶剤の存
在もしくは非存在下での摩擦処理により行われる。ある
いは、保護フィルムを剥離することによって印刷版上に
パターンを形成する、いわゆる剥離現像によっても印刷
版を作成することも可能である。また、現像は、特開昭
６３−１６３３５７号公報に記載されているような自動
現像機を用い、上記の現像液で版面を前処理した後に水
道水などでシャワーしながら回転ブラシで版面を擦るこ
とによって行うことも好ましい。

【００９１】上記の現像液に代えて、温水や水蒸気を版
面に噴射することによっても現像が可能である。

【００９２】

【実施例】以下実施例によって本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００９３】実施例１厚さ０．１５ｍｍの脱脂したアルミ板上に下記の組成か
らなるプライマー液をバーコーターを用いて塗布し、１
８０℃で２分間乾燥し、膜厚４ｇ／ｍ²のプライマー層
を塗布した。

【００９４】プライマー層組成（ａ）ポリウレタン樹脂（サンプレンＩＢ−４６５、固形分３０％、三洋化成工業（株）製）９０重量部（ｂ）ブロックドイソシアネート（タケネートＢ８３０、武田薬品（株）製）１０重量部（ｃ）エポキシ・フェノール・尿素樹脂（ＳＪ９３７２、関西ペイント（株）製）８重量部（ｄ）酸化チタン５重量部（ｅ）ジメチルホルムアミド。９００重量部続いてこの上に下記の組成を有するシリコーンゴム層組
成物をバーコーターを用いて塗布し、露点３０℃、１２
５℃で２分間硬化乾燥し、膜厚２ｇ／ｍ²のシリコーン
ゴム層を設けた。

【００９５】シリコーンゴム層組成（ａ）ポリジメチルシロキサン（分子量約２５，０００、末端水酸基）１００重量部（ｂ）光熱変換物質（ＫＡＹＡＳＯＲＢＩＲ−８２０（Ｂ）、日本化薬（株）製）２重量部（ｃ）金属キレート化合物「“アルミキレート”Ａ、アルミニウムトリスアセチルアセトネート、川研ファインケミカル（株）製」１５重量部（ｄ）“アイソパーＥ”（エクソン化学（株）製）９００重量部（ｅ）アセトン１００重量部上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍの二軸
延伸ポリプロピレンフィルム“トレファン”（東レ
（株）製）をカレンダーローラーを用いてラミネート
し、直描型水なし平版印刷版原版を得た。

【００９６】この後、この印刷版原版の“ルミラー”を
剥離し、Ｘ−Ｙテーブルに装着した半導体レーザー（Ｏ
ＰＣ−Ａ００１−ｍｍｍ−ＦＣ、出力０．７５Ｗ、波長
７８０ｎｍ、ＯＰＴＯＰＯＷＥＲＣＯＲＰＯＲＡＴ
ＩＯＮ製）を用いて、ビーム直径２０μｍ、露光時間１
０μｓで、パルス露光を行った。この際、レーザーの出
力を、（ａ）３５０ｍＷ、（ｂ）３００ｍＷ、（ｃ）２
５０ｍＷ、（ｄ）２００ｍＷ、（ｅ）１５０ｍＷに変化
させ露光した。

【００９７】続いて上記露光済みの版を、イソパラフィ
ン系炭化水素（アイソパーＥ、エクソン化学（株）製）
を湿らせた木綿布で擦り、露光部のシリコーンゴム層を
除去した。

【００９８】この現像後の版の評価は、小森スプリント
印刷機に版をセットし、水なし平版用インキ（Ｗａｔｅ
ｒｌｅｓｓＳ、ザ・インテック（株）製、赤）、コー
ト紙を使用して印刷を行い、画線部のインキ着肉性とイ
ンキ反発性について調べた。

【００９９】インキ着肉性は露光条件（ａ）〜（ｅ）の
印刷物を観察し、均一にインキが画線部に着肉している
場合を○、不均一にインキが画線部に着肉している場合
を△、全くインキが画線部に着肉しない、もしくは刷版
の画線部シリコーンゴム層が剥離できていない場合を×
とした。インキ反撥性は、印刷物に汚れがなく印刷でき
ている場合を○、汚れがあるものを×とした。インキ反
撥性は印刷時の版面温度を２５℃、２７．５℃、３０℃
と変化させ地汚れのした場合を×とした。結果を表１に
示す。なお、以下の実施例２〜１４および比較例１の結
果も同様に示される。

【０１００】実施例２実施例１のプライマー層上に、下記の感熱層組成物をバ
ーコーターを用いて塗布し、１２０℃で２分間乾燥し、
膜厚１ｇ／ｍ²の感熱層を設けた。感熱層組成（ａ）ＩＲ−８２０（Ｂ）（日本化薬（株）製、ポリメチン系色素）５重量部（ｂ）金属キレート化合物「“アルミキレート”Ｄ、アルミニウムモノアセチルアセトネートビスエチルアセトアセテート、川研ファインケミカル（株）製）」３０重量部（ｃ）フェノールノボラック樹脂６０重量部（ｄ）ポリウレタン樹脂２０重量部（ｅ）デナコールＥＸ５１２（ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ナガセ化成工業（株）製）５重量部（ｆ）テトラヒドロフラン６０重量部（ｇ）ジメチルホルムアミド２０重量部（ｈ）メチルイソブチルケトン２０重量部続いてこの上に下記の組成を有するシリコーンゴム層組
成物をバーコーターを用いて塗布し、露点３０℃、１２
５℃で２分間硬化乾燥し、膜厚２ｇ／ｍ²のシリコーン
ゴム層を設けた。

【０１０１】シリコーンゴム層組成（ａ）ポリジメチルシロキサン（分子量約２５，０００、末端水酸基）１００重量部（ｂ）金属キレート化合物「“アルミキレート”Ａ、アルミニウムトリスアセチルアセトネート、川研ファインケミカル（株）製」３重量部（ｃ）ジブチル錫ジアセテート０．０１重量部（ｄ）“アイソパーＥ”（エクソン化学（株）製）９００重量部（ｅ）アセトン１００重量部上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍのポリ
エステルフィルム“ルミラー”（東レ（株）製）をカレ
ンダーローラーを用いてラミネートし、直描型水なし平
版印刷版原版を得た。

【０１０２】この後、この印刷版原版の“ルミラー”を
剥離し、Ｘ−Ｙテーブルに装着した半導体レーザー（Ｏ
ＰＣ−Ａ００１−ｍｍｍ−ＦＣ、出力０．７５Ｗ、波長
７８０ｎｍ、ＯＰＴＯＰＯＷＥＲＣＯＲＰＯＲＡＴ
ＩＯＮ製）を用いて、ビーム直径２０μｍ、露光時間１
０μｓ、この際、レーザーの出力を、（ａ）３５０ｍ
Ｗ、（ｂ）３００ｍＷ、（ｃ）２５０ｍＷ、（ｄ）２０
０ｍＷ、（ｅ）１５０ｍＷに変化させ露光した。

【０１０３】続いて上記露光済みの版を、ＴＷＬ−１１
６０（東レ（株）製、水なし平版印刷版の現像機）を用
いて６０ｃｍ／ｍｉｎの速度で現像を行った。ここで前
処理液としては、液温は４０℃で以下の組成を有する液
を用いた。

【０１０４】（ａ）ポリプロピレングリコール（分子量２００）９５重量部（ｂ）水５重量部また、現像液としては水を用い液温は２５℃とした。染
色液としては、以下の組成を有する液を用い、液温は２
５℃とした。

【０１０５】（ａ）Ｃ．Ｉ．ＢａｓｉｃＢｌｕｅ１染料０．２重量部（ｂ）ブチルカルビトール５重量部（ｃ）２−エチルヘキシル硫酸ナトリウム０．３重量部（ｄ）シリコーン系消泡剤０．０００５重量部（ｅ）水９５重量部実施例３実施例２のシリコーンゴム組成を下記組成に変更した以
外は実施例２と同様に版を作製し評価した。

【０１０６】シリコーンゴム層組成（ａ）ポリジメチルシロキサン（分子量約２５，０００、末端水酸基）１００重量部（ｂ）金属キレート化合物「“アルミキレート”Ａ（アルミニウムトリスアセチルアセトネート、川研ファインケミカル（株）製」５重量部（ｃ）光熱変換物質（ＫＡＹＡＳＯＲＢＩＲ−８２０（Ｂ）、日本化薬（株）製）１重量部（ｄ）“アイソパーＥ”（エクソン化学（株）製）９００重量部（ｅ）テトラヒドロフラン１００重量部実施例４実施例２のシリコーンゴム組成を下記組成に変更した以
外は実施例２と同様に版を作製し評価した。

【０１０７】シリコーンゴム層組成（ａ）ポリジメチルシロキサン（分子量約２５，０００、末端水酸基）１００重量部（ｂ）金属キレート化合物「“ナーセム”Ｔｉ（アセチルアセトンチタン、日本化学産業（株）製」」５重量部（ｃ）“アイソパーＥ”（エクソン化学（株）製）９００重量部（ｄ）テトラヒドロフラン１００重量部実施例５実施例２のシリコーンゴム組成を下記組成に変更した以
外は実施例２と同様に版を作製し評価した。

【０１０８】シリコーンゴム層組成（ａ）ポリジメチルシロキサン（分子量約２５，０００、末端水酸基）１００重量部（ｂ）金属キレート化合物「鉄（III ）ベンゾイルアセテート」７重量部（ｃ）“アイソパーＥ”（エクソン化学（株）製）９００重量部（ｄ）テトラヒドロフラン１００重量部実施例６実施例２のシリコーンゴム組成を下記組成に変更した以
外は実施例２と同様に版を作製し評価した。

【０１０９】シリコーンゴム層組成（ａ）ポリジメチルシロキサン（分子量約２５，０００、末端水酸基）１００重量部（ｂ）金属キレート化合物「銅（II）エチルアセトアセテート」４重量部（ｃ）“アイソパーＥ”（エクソン化学（株）製）９００重量部（ｄ）テトラヒドロフラン１００重量部実施例７実施例２のシリコーンゴム組成を下記組成に変更した以
外は実施例２と同様に版を作製し評価した。

【０１１０】シリコーンゴム層組成（ａ）ポリジメチルシロキサン（分子量約２５，０００、末端水酸基）１００重量部（ｂ）金属キレート化合物「コバルト（III ）２，４−ペンタンジオネート」５重量部（ｃ）“アイソパーＥ”（エクソン化学（株）製）９００重量部（ｄ）テトラヒドロフラン１００重量部実施例８実施例２のシリコーンゴム組成を下記組成に変更した以
外は実施例２と同様に版を作製し評価した。

【０１１１】シリコーンゴム層組成（ａ）ポリジメチルシロキサン（分子量約２５，０００、末端水酸基）１００重量部（ｂ）金属キレート化合物「亜鉛２，４−ペンタンジオネート」５重量部（ｃ）“アイソパーＥ”（エクソン化学（株）製）９００重量部（ｄ）テトラヒドロフラン１００重量部実施例９実施例２の感熱層上に下記シリコーンゴム層組成物をバ
ーコーターを用いて塗布し、１２５℃で２分間硬化し、
膜厚２ｇ／ｍ²のシリコーンゴム層を設けた。

【０１１２】シリコーンゴム層組成（ａ）ポリジメチルシロキサン（分子量約２５，０００、末端水酸基）１００重量部（ｂ）光熱変換物質（ＫＡＹＡＳＯＲＢＩＲ−８２０（Ｂ）、日本化薬（株）製）０．１重量部（ｃ）金属キレート化合物「鉄（III）アセチルアセトナート」１０重量部（ｄ）“アイソパーＥ”（エクソン化学（株）製）９００重量部（ｅ）アセトン１００重量部上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍのポリ
エステルフィルム“ルミラー”（東レ（株）製）をカレ
ンダーローラーを用いてラミネートし、直描型水なし平
版印刷版原版を得た。露光、現像および評価は実施例２
と同様に行った。

【０１１３】実施例１０実施例１のプライマー層上に、下記の感熱層組成物をバ
ーコーターを用いて塗布し、１２０℃で２分間乾燥し、
膜厚１ｇ／ｍ²の感熱層を設けた。感熱層組成（ａ）ＩＲ−８２０（Ｂ）（日本化薬（株）製、ポリメチン系色素）５重量部（ｂ）フェノールノボラック樹脂６０重量部（ｃ）ポリウレタン樹脂２０重量部（ｄ）デナコールＥＸ５１２（ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ナガセ化成工業（株）製）５重量部（ｅ）テトラヒドロフラン６０重量部（ｆ）ジメチルホルムアミド２０重量部（ｇ）メチルイソブチルケトン２０重量部次に感熱層上に下記シリコーンゴム層組成物をバーコー
ターを用いて塗布し、１２０℃で２分間硬化し、膜厚２
ｇ／ｍ²のシリコーンゴム層を設けた。

【０１１４】シリコーンゴム層組成（ａ）ポリジメチルシロキサン（分子量約２５，０００、末端水酸基）１００重量部（ｂ）ビニルトリ（メチルエチルケトオキシム）シラン２重量部（ｃ）光熱変換物質（SPRIT NIGROSINE SJ（Dye Specialities,INC.）０．１重量部（ｄ）金属キレート化合物「“アルミキレート”Ｄ（アルミニウムモノアセチルアセトネートビスエチルアセトアセテート、川研ファインケミカル（株）製）」５重量部（ｅ）“アイソパーＥ”（エクソン化学（株）製）９００重量部（ｆ）テトラヒドロフラン１００重量部上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍのポリ
エステルフィルム“ルミラー”（東レ（株）製）をカレ
ンダーローラーを用いてラミネートし、直描型水なし平
版印刷版原版を得た。露光、現像および評価は実施例２
と同様に行った。

【０１１５】実施例１１実施例２の感熱層上に下記シリコーンゴム層組成物をバ
ーコーターを用いて塗布し、１２５℃で２分間硬化し、
膜厚２ｇ／ｍ²のシリコーンゴム層を設けた。

【０１１６】＜シリコーンゴム層＞（ａ）ビニル基含有ポリシロキサン（分子量約１５０００、末端ビニル基）１００重量部（ｂ）ＨＭＳ−５０１（チッソ（株）製両末端メチル（メチルハイドロジェンシロキサン）（ジメチルシロキサン）共重合体ＳｉＨ基数／分子量＝０．６９ mol/g）４重量部（ｃ）金属キレート化合物「“ナーセム”Ｔｉ（アセチルアセトンチタン、日本化学産業（株）製」５重量部（ｄ）オレフィン配位白金０．０２重量部（ｅ）“ＢＹ２４−８０８”（ダウコーニングシリコーン（株）製反応抑制剤）０．３重量部（ｆ）“アイソパー”Ｅ（エクソン化学（株）製）９００重量部（ｇ）トルエン１００重量部上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍのポリ
エステルフィルム“ルミラー”（東レ（株）製）をカレ
ンダーローラーを用いてラミネートし、直描型水なし平
版印刷版原版を得た。露光、現像および評価は実施例２
と同様に行った。

【０１１７】実施例１２実施例２の感熱層上に下記シリコーンゴム層組成物をバ
ーコーターを用いて塗布し、１４０℃で２分間硬化し、
膜厚２ｇ／ｍ²のシリコーンゴム層を設けた。

【０１１８】シリコーンゴム層組成（ａ）ビニル基含有ポリシロキサン（分子量約１５０００、末端ビニル基）１００重量部（ｂ）ハイドロジェンポリシロキサン (CH₃)₃Si-O-(-Si(CH₃)₂-O-)m−(SiH(CH₃)-O-)ｎ-Si(CH₃)₃ ｍ＋ｎの平均：４０ｎの平均：１０１０重量部（ｃ）光熱変換物質（ＫＡＹＡＳＯＲＢＩＲ−８２０（Ｂ）、日本化薬（株）製）１重量部（ｄ）金属キレート化合物「“アルミキレート”Ｄ（アルミニウムモノアセチルアセトネートビスエチルアセトアセテート、川研ファインケミカル（株）製）」７重量部（ｅ）重合禁止剤２重量部（ｆ）触媒（塩化白金酸）１重量部（ｇ）“アイソパーＥ”（エクソン化学（株）製）９００重量部（ｈ）テトラヒドロフラン１００重量部上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍのポリ
エステルフィルム“ルミラー”（東レ（株）製）をカレ
ンダーローラーを用いてラミネートし、直描型水なし平
版印刷版原版を得た。露光、現像および評価は実施例２
と同様に行った。

【０１１９】実施例１３実施例２の感熱層上に下記シリコーンゴム層組成物をバ
ーコーターを用いて塗布し、１２５℃で２分間硬化し、
膜厚２ｇ／ｍ²のシリコーンゴム層を設けた。

【０１２０】シリコーンゴム層組成（ａ）ポリジメチルシロキサン（分子量約２５，０００、末端水酸基）１００重量部（ｂ）金属キレート化合物「アルミニウム・トリスアセチルアセトネート」３０重量部（ｃ）“アイソパーＥ”（エクソン化学（株）製）９００重量部（ｄ）トルエン１００重量部上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍのポリ
エステルフィルム“ルミラー”（東レ（株）製）をカレ
ンダーローラーを用いてラミネートし、直描型水なし平
版印刷版原版を得た。露光、現像および評価は実施例２
と同様に行った。

【０１２１】実施例１４実施例２の感熱層上に下記シリコーンゴム層組成物をバ
ーコーターを用いて塗布し、１２５℃で２分間硬化し、
膜厚２ｇ／ｍ²のシリコーンゴム層を設けた。

【０１２２】シリコーンゴム層組成（ａ）ポリジメチルシロキサン（分子量約２５，０００、末端水酸基）１００重量部（ｂ）光熱変換物質（ＫＡＹＡＳＯＲＢＩＲ−８２０（Ｂ）、日本化薬（株）製）１２重量部（ｃ）金属キレート化合物「アルミニウム・トリスアセチルアセトネート」３０重量部（ｄ）“アイソパーＥ”（エクソン化学（株）製）９００重量部（ｅ）トルエン１００重量部上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍのポリ
エステルフィルム“ルミラー”（東レ（株）製）をカレ
ンダーローラーを用いてラミネートし、直描型水なし平
版印刷版原版を得た。露光、現像および評価は実施例２
と同様に行った。

【０１２３】比較例１実施例２の感熱層上に金属キレートを含有しない、下記
シリコーンゴム層組成物をバーコーターを用いて塗布
し、１２５℃で２分間硬化し、膜厚２ｇ／ｍ²のシリコ
ーンゴム層を設けた。

【０１２４】シリコーンゴム層組成（ａ）ポリジメチルシロキサン（分子量約２５，０００、末端水酸基）１００重量部（ｂ）ビニルトリオキシムシラン８重量部（ｃ）“アイソパーＥ”（エクソン化学（株）製）９００重量部（ｄ）トルエン１００重量部上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍのポリ
エステルフィルム“ルミラー”（東レ（株）製）をカレ
ンダーローラーを用いてラミネートし、直描型水なし平
版印刷版原版を得た。露光、現像および評価は実施例２
と同様に行った。

【０１２５】以上の結果より、シリコーンゴム層組成物
中に少なくとも金属キレート化合物を本発明の範囲内で
含む版は、印刷適性を損なうことなく、高感度の直描型
水なし平版印刷版原版を得ることができる。

【０１２６】

【表１】

【０１２７】

【発明の効果】本発明は、シリコーンゴム層が金属キレ
ート化合物を含有し、かつ架橋構造を有することによ
り、高感度の直描型水なし平版印刷版が得られる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に、少なくともシリコーンゴム層を
有する直描型水なし平版印刷版原版において、該シリコ
ーンゴム層が金属キレート化合物を含有し、かつ架橋構
造を有することを特徴とする直描型水なし平版印刷版原
版。
【請求項２】該金属キレート化合物がＡｌ、Ｓｉ、Ｔ
ｉ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｉｎ
の群から選ばれる金属のキレート化合物であることを特
徴とする請求項１に記載の直描型水なし平版印刷版原
版。
【請求項３】該シリコーンゴム層がさらに光熱変換物質
を含有することを特徴とする請求項１に記載の直描型水
なし平版印刷版原版。