WO2007123226A1 - 感光性平版印刷版用現像液及び感光性平版印刷版の処理方法 - Google Patents

感光性平版印刷版用現像液及び感光性平版印刷版の処理方法 Download PDF

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WO2007123226A1
WO2007123226A1 PCT/JP2007/058721 JP2007058721W WO2007123226A1 WO 2007123226 A1 WO2007123226 A1 WO 2007123226A1 JP 2007058721 W JP2007058721 W JP 2007058721W WO 2007123226 A1 WO2007123226 A1 WO 2007123226A1
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WO
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group
printing plate
lithographic printing
acid
developer
Prior art date
Application number
PCT/JP2007/058721
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English (en)
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Inventor
Kazuhiro Oikawa
Original Assignee
Konica Minolta Medical & Graphic, Inc.
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Publication date
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
    • G—PHYSICS
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    • G03F7/004—Photosensitive materials
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    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur

Definitions

  • the present invention relates to a new developer for a photosensitive lithographic printing plate (hereinafter also referred to as a lithographic printing plate material) and a method for processing the photosensitive lithographic printing plate.
  • a photosensitive lithographic printing plate hereinafter also referred to as a lithographic printing plate material
  • a lithographic printing plate material in which a photopolymerizable photosensitive layer and a protective layer are laminated on a support subjected to a hydrophilic surface treatment.
  • digital exposure based on image information using lasers has been carried out for the purpose of quickly obtaining high-resolution printing plates and for the purpose of filmlessness, which are then developed to produce lithographic printing plates.
  • the method is generalized.
  • a light source is modulated by an output signal from an electronic plate making system or an image processing system, or an image signal transmitted through a communication line, and printing is performed by directly scanning and exposing a photosensitive material.
  • a system for forming plates is known.
  • a printing plate material for CTP that records digital data with a laser is required to have high sensitivity in order to shorten the recording time. Also, in many printing fields such as newspaper printing and commercial printing such as advertisements, printing durability is required.
  • the photopolymerizable photosensitive layer generally has an acrylic monomer, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable initiator, and, if necessary, sensitized to suit the wavelength, particularly when performing laser writing. It is known to contain a dye. It is also known to provide a protective layer in order to prevent polymerization inhibition by oxygen.
  • a light source for exposing and making a photopolymerization type lithographic printing plate material As a light source for exposing and making a photopolymerization type lithographic printing plate material, a long wavelength visible light source such as an Ar laser (488 nm) or an FD-YAG laser (532 nm) is used.
  • semiconductor lasers that can oscillate continuously in the wavelength range of 350 to 450 nm using, for example, InGaN and ZnSe materials have become practical. Scanning exposure systems using these short-wave light sources have the advantage that a semiconductor laser can be manufactured inexpensively because of its structure, so that a powerful and economical system can be constructed without sufficient output.
  • compared to systems using conventional FD-YAG and Ar lasers it is possible to work under brighter safe lights. There is a possibility that Kojo can be used for lithographic printing plate materials with short waves.
  • a photopolymerization type lithographic printing plate material is usually subjected to image exposure and, if necessary, heat treatment, followed by water washing for removing the protective layer, development treatment for dissolving and removing unexposed portions, and water washing treatment.
  • a lithographic printing plate is obtained by performing a texture gum treatment to make the non-image area hydrophilic. At this time, it is known that after image exposure, a heat treatment is performed to accelerate the polymerization reaction, thereby obtaining high sensitivity and high printing durability.
  • orthoquinonediazide compounds have been used in combination with novolak resin in the photosensitive layer of positive lithographic printing plates, and the developer can dissolve novolak resin.
  • a strong silicate aqueous solution is used.
  • the pH at which novolac rosin can be dissolved is about 13, and such a high pH developer needs to be treated with sufficient caution when it is highly irritating when attached to the skin or mucous membrane.
  • the point with a small image area (small dot) has a problem in that the aluminum below the dot is melted by side etching, and the dot is likely to fly during printing, degrading the printing durability and print quality.
  • a developer for a lithographic printing plate material in order to completely remove the photosensitive layer in the non-image area, that is, for development, it is usually used as an aqueous alkaline developer at a pH of 12.5 or more. It was common to be done. However, in recent years, from the viewpoint of workability, safety, environmental suitability, etc., processing with an alkaline developer having a lower pH has been desired.
  • a developer having a low pH (pH 12 or less) and not containing an alkali silicate a developer comprising an aqueous potassium hydroxide solution containing a cation surfactant (see Patent Document 1), pH 8.5 to 11.5
  • Patent Document 2 a developer comprising an alkali metal carbonate aqueous solution (see Patent Document 2) is disclosed.
  • Patent Document 1 JP 2000-81711 A
  • Patent Document 2 JP-A-11 65126
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to have good developability, to prevent the plate surface from being soiled by sludge accumulated in the developing tank, and to have excellent printing durability.
  • a developer for a photosensitive lithographic printing plate which is an alkaline aqueous solution containing at least a compound represented by the following general formula (1).
  • R represents a branched alkyl group having a total carbon number of 20 or less, which may have a substituent
  • n is 2 to: an integer of LOO
  • L represents O or NH.
  • R may be the same or different
  • the main chain of the branched alkyl group R in the general formula (1) has 3 to 19 carbon atoms, and R is carbon
  • a method for processing a photosensitive lithographic printing plate which comprises subjecting the photosensitive lithographic printing plate to image exposure and then developing with the developer for a photosensitive lithographic printing plate according to any one of 1 to 6 .
  • a developer for a photosensitive lithographic printing plate and a photosensitive lithographic plate having good developability, suppressing contamination of the plate surface due to sludge accumulated in the developing tank, and having excellent printing durability.
  • a printing plate processing method can be provided.
  • a current lithographic printing plate image solution (hereinafter referred to as a lithographic printing plate) which is developed in a process having development, washing and finishing after laser exposure of a lithographic printing plate material having a photosensitive layer and a heat sensitive layer And the processing method, a so-called residual film that cannot be completely cured after exposure remains in the vicinity of the image area of the photosensitive layer, causing low printing durability and plate surface contamination.
  • a nonionic surfactant is added to the current developer for the purpose of enhancing the dissolving power of the photosensitive layer.
  • the molecular weight of the oleophilic part is large, the penetrability cannot be sufficiently obtained. As a result, the remaining film near the image area could not be completely removed.
  • a developer is added to the photosensitive layer by adding a nonionic surfactant having a small number of carbon atoms in the alkyl group portion and having one or more branched chains in the alkyl group. It is possible to improve the developability and printing durability by increasing the permeability and removing the remaining film. In addition, when such a surfactant is used, it also has the effect of finely dispersing the eluted photosensitive layer material, and is also effective in preventing fine stains in non-image areas and sludge.
  • a photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive layer of a photopolymerizable photosensitive resin composition comprising a compound containing a photopolymerization initiator, and a polymer binder, has a great effect.
  • the present inventors infer the following effects and effects (developability and printing durability) of the present invention.
  • the titanocene compound used for the photopolymerization initiator, the iron arene complex compound, the copper phthalocyanine compound used for the visual paint, and the like are compounds insoluble in water and are once removed from the photosensitive layer. Even if it is eluted and dispersed in the developer, it will precipitate, agglomerate and settle over time, and sludge It accumulates as sludge and re-adheres on the printing plate, causing stains.
  • the nonionic surfactant represented by the general formula (1) according to the present invention a developer for a water-insoluble photosensitive layer composition such as a photopolymerization initiator or a visible image agent. The melt output to the inside is improved, and the non-image area (unexposed area) can be developed well.
  • the molecular weight of the lipophilic group of the surfactant is large and the permeability is not sufficient, so that the so-called residual film is not completely cured. Remains in the vicinity of the image area of the photosensitive layer, causing low printing durability and plate surface contamination.
  • the nonionic surfactant represented by the general formula (1) according to the present invention the permeability of the developer to the non-image area is improved, and the non-image area (unexposed area) Can be developed well.
  • the developer of the present invention is characterized in that it is an alkaline aqueous solution containing the compound represented by the general formula (1).
  • R is a branched alkyl having a total carbon number of 20 or less and optionally having a substituent.
  • R represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent.
  • the branched alkyl group may have a substituent represented by R.
  • Groups eg, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, octyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, pentadecyl, etc.
  • cycloalkyl groups (For example, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), alkenyl group (for example, vinyl group, allyl group, etc.), alkyl group (for example, ethul group, propargyl group, etc.), aryl group (for example, phenyl group) , Naphthyl group, etc.), heteroaryl group (for example, furyl group, chenyl group, pyridyl group, pyridazyl group, pyrimidyl group, birazyl group, triazyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group,
  • acyl groups for example, acetyl group, ethylcarbonyl group, propylcarbon group, pentylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, octylcarbonyl group, 2-ethylyl
  • Hexylcarbol group dodecylcarbol group, fullcarpol group, naphthylcarbol group, pyridylcarbol group, etc.
  • acyloxy group for example, acetylyloxy group, ethylcarboloxy group, butylcarbo- group) Roxy group, octylcarbo-loxy group, dodecylcarboloxy group, phenylcarbonyloxy group, etc.
  • amide group for example, methylcarbolamino group, ethylcarbolamino group, dimethylcarbolamamino group, propylcarbolamamin
  • the ratio C / C of the main chain carbon number C and the side chain total carbon number C of R in the general formula (1) is 3.0 to 0.
  • the carbon number of the main chain of R in the general formula (1) is preferably 3-19.
  • L in the general formula (1) is preferably NH 3.
  • R represents an optionally substituted alkylene group having 1 to 10 carbon atoms.
  • the substituent represented by R may have the substituent represented by R!
  • R may be the same or different.
  • n represents an integer of 2 to 100.
  • the compound represented by the general formula (1) has an HLB value of 11 to 15. Dispersibility of the micelle incorporating the photosensitive layer material in the developer, and permeability of the developer into the photosensitive layer material From the viewpoint of. [0032]
  • the HLB value mentioned here is a quantitative measure of the emulsifying properties of a surfactant, and is a numerical value of the hydrophilicity / lipophilic balance of the surfactant. Value of hydrophile and 1 iophile balance Abbreviation.
  • HLB 20 (1 -S / A) where S is the ester value of the ester, A is the acid value of the fatty acid (3) in the case of tall oil, pine oil, beeswax, lanolin polyhydric alcohol,
  • HLB (E + P) / 5 where E: oxyethylene content (%), P: polyhydric alcohol content (%)
  • the haze number A is obtained by dissolving 0.5 g of a surfactant in 5 ml of ethanol and titrating with 2% aqueous phenol solution while maintaining at 25 ° C. The end point is when the liquid becomes cloudy, and the number of ml of the 2% aqueous phenol solution required so far is the cloudiness number A.
  • HL B of the surfactant obtained by mixing the surfactant a of HLBa and the surfactant b of HLBb is
  • HLB ⁇ (Wa X HLBa) + (Wb X HLBb) ⁇ / (Wa + Wb) where Wa: mass fraction of activator a, Wb: mass fraction of activator b
  • surfactants are commercially available and can be easily obtained.
  • the main components of the developer (including replenisher) used in the processing method of the lithographic printing plate of the present invention are silicic acid, phosphoric acid, carbonic acid, boric acid, phenols, saccharides, oximes, and fluorinated alcohols. It is preferable to contain at least one selected compound.
  • the pH is an alkaline aqueous solution in the range of 8.5 to 13.0.
  • weakly acidic substances such as phenols, sugars, oximes and fluorinated alcohols preferably have a dissociation index (pKa) of 10.0 to 13.2.
  • Such acids are selected from those described in IONISATION CONSTAN TS OF ORGANIC ACIDS INAQUEOUS SOLUTION published by Pergamon Press. Specifically, salicylic acid (pKa 13.0), 3— Hydroxy-1-naphthoic acid (12.84), catechol (12.6), gallic acid (12.4), sulfosalicylic acid (11.7), 3,4-dihydroxysulfonic acid (12) 2), 3,4-Dihydroxybenzoic acid (11.94), 1,2,4-Trihydroxybenzene (11.82), Neutroquinone (11.56), Pyrogallol (11.34) , O-talesol (10.33), resorsonol (11.27), p-taresol (10.27), m-talesol (10.09), etc.
  • a non-reducing sugar that is stable even in an alkali is preferably used.
  • Powerful non-reducing sugars are sugars that do not have a free aldehyde group or a ketone group and do not exhibit reducibility.
  • Trehalose-type oligosaccharides include saccharose and trehalose. Examples of glycosides include alkyl glycosides, phenol glycosides, and power pear oil glycosides.
  • sugar alcohols examples include D, L rabbit, Lipit, Xylit, D, L-Sorbit, D, L-Mannit, D, L-Idit, D, L Talit, Zuricito and Alozulcit.
  • maltitol obtained by hydrogenation of a disaccharide and a reduced form (reduced starch syrup) obtained by hydrogenation of an oligosaccharide are preferably used.
  • aldehydes such as pyridine-2-aldehyde (12.68) and pyridine-4-aldehyde (12.05), adenosine (12.56), inosine (12.5), guanine (12.12).
  • Nucleic acid-related substances such as cytosine (12.2), hypoxanthine (12.1), xanthine (11.9), other substances such as jetylaminomethylsulfonic acid (12.32), 1 —Amino 3, 3, 3 trifluorobenzoic acid (12.29), isopropylidenedisulfonic acid (12.10), 1,1-ethylidenediphosphonic acid (11.54), 1,1-ethylidide Disulfonic acid 1-hydroxy (11.22), benzimidazole (12.86), thiobenzamide (12.8), picolinthioamide (12.55), norbituric acid (12.5)
  • Examples include weak acids. These acidic substances may be used alone or in combination of two or more.
  • silicic acid preferred are silicic acid, phosphoric acid, carbonic acid, sulfosalicylic acid, salicylic acid and sugar alcohols and saccharose of non-reducing sugars, especially silicic acid, D sorbit, saccharose, and reduced starch candy in an appropriate pH range. It is preferable because of its buffering action and low price.
  • the proportion of these acidic substances in the developer is preferably 0.1 to 30% by mass, and more preferably 1 to 20% by mass. If it is less than this range, a sufficient buffering effect cannot be obtained, and if it exceeds this range, it is difficult to achieve high concentration, and there is a problem of cost increase.
  • sodium hydroxide, ammonium, potassium and lithium are preferably used as the base to be combined with these acids. These alkali agents are used alone or in combination of two or more.
  • the pH of the developer is 8.5 or less, the photosensitive lithographic printing plate material strength that can be developed with such a developer is obtained. A sufficient printing durability cannot be obtained quickly.
  • the image portion is chemically weak, and the image of the portion wiped with an ink washing solvent or a plate cleaner is damaged during printing, and as a result, sufficient chemical resistance cannot be obtained.
  • a developer solution with a pH higher than 13.0 is not preferred because it requires sufficient care in handling because it is highly irritating when attached to the skin or mucous membrane.
  • sodium hydroxide, ammonium, potassium and lithium can be added to the pH adjustment.
  • Organic alkali agents such as i-propanolamine, di-propanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine and pyridine are also used in combination.
  • Most preferred are potassium silicate and sodium silicate. Silicate concentration is 1.
  • SiO ZM alkali metal M
  • the developer referred to in the present invention is only an unused solution used at the start of development.
  • a replenisher is supplemented to correct the activity of the solution that decreases due to the processing of the lithographic printing plate material.
  • a liquid having a maintained activity is included. Therefore, since the replenisher must have a higher activity (alkali concentration) than the developer, the pH of the replenisher may exceed 13.0.
  • the developer of the present invention must contain the compound represented by the general formula (1).
  • the developer of the present invention may contain various types of nonones, anions, cations, and amphoteric activators.
  • Nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers.
  • Glycerin fatty acid partial esters sorbitan fatty acid partial esters, pentaerythritol fatty acid partial esters, propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters , Polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters, polyoxyethylene pea castor oil, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, Polyoxyethylene Polyoxypropylene block copolymer, polyoxyethylene polyoxypropylene block copolymer adduct of ethylenediamine, fatty acid diethanolamides, N, N bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamine Min, triethanolamine fatty acid ester, trialkylamine oxide and the like.
  • the lithographic printing plate material used in the processing method of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention will be described.
  • the support that can be used in the lithographic printing plate material of the present invention is preferably an aluminum plate.
  • pure aluminum plates and aluminum alloy plates do not work.
  • Various aluminum alloys can be used.
  • an alloy of aluminum such as silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, nickel, titanium, sodium, iron, and the like is used.
  • Aluminum plates manufactured by various rolling methods can be used.
  • recycled aluminum plates obtained by rolling recycled aluminum bullion such as scrap materials and recycled materials, which are becoming popular in recent years, can also be used.
  • the support that can be used in the lithographic printing plate material according to the present invention is preferably subjected to a degreasing treatment to remove the rolling oil on the surface prior to roughening (graining treatment).
  • a degreasing treatment a degreasing treatment using a solvent such as trichlene or thinner, or an emulsion degreasing treatment using an emulsion such as kerosene or triethanol is used.
  • an alkaline aqueous solution such as caustic soda can be used for the degreasing treatment.
  • an alkaline aqueous solution such as caustic soda
  • smut is generated on the surface of the support.
  • the substrate is immersed in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid or chromic acid, or a mixed acid thereof. It is preferable to apply a desmut treatment.
  • Examples of the roughening method include a mechanical method and a method of etching by electrolysis.
  • the mechanical surface roughening method is not particularly limited, but a brush polishing method and a honing polishing method are preferable.
  • the roughening by the brush polishing method is performed by rotating a rotating brush using brush hair having a diameter of 0.2 to 0.8 mm, and, for example, volcanic ash particles having a particle size of 10 to 100 / zm on the support surface. While supplying a slurry in which water is uniformly dispersed in water, the brush can be pressed.
  • For roughing by Houng polishing for example, volcanic ash particles with a particle size of 10 ⁇ : LOO / zm are dispersed evenly in water, injected with pressure from a nozzle, and collided against the support surface from a slant. Roughening can be performed. Further, for example, abrasive particles having a particle size of 10 to 100 / ⁇ ⁇ are formed on the support surface at a density of 2.5 to 10 3 to 10 ⁇ 10 3 particles / cm 2 at intervals of 100 to 200 / ⁇ ⁇ . It is also possible to perform roughening by laminating the coated sheets so as to exist in step 1 and transferring the rough surface pattern of the sheet by applying pressure.
  • the surface of the support is soaked and immersed in an aqueous solution of acid or alkali to remove abrasives, formed aluminum scraps, etc.
  • the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and the like.
  • the base include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and the like. Among these, it is preferable to use an alkaline aqueous solution such as sodium hydroxide.
  • the amount of aluminum dissolved on the surface is preferably 0.5 to 5 g / m 2 .
  • the electrochemical surface roughening method is not particularly limited, but a method of electrochemical surface roughening in an acidic electrolyte is preferable.
  • the acidic electrolytic solution an acidic electrolytic solution that is usually used in an electrochemical roughening method can be used, but a hydrochloric acid-based or nitric acid-based electrolytic solution is preferably used.
  • the electrochemical surface roughening method for example, methods described in Japanese Patent Publication No. 48-28123, British Patent No. 896, 563 and Japanese Patent Laid-Open No. 53-67507 can be used. This roughening method can generally be performed by applying a voltage in the range of 1-50V, but a range force of 10-30V is also preferred.
  • Current density is preferably selected from a range of forces 50 ⁇ 150AZdm 2 which may be in the range of 10 ⁇ 200AZdm 2.
  • a range force of 100 to 2000 cZdm 2 which can use a range of 100 to 5000 c / dm 2 .
  • a force that can use a range of 10 to 50 ° C is preferably selected as a range of 15 to 45 ° C.
  • electrochemical surface roughening When electrochemical surface roughening is performed using a nitric acid-based electrolyte as an electrolyte, it can be generally performed by applying a voltage in the range of 1 to 50V.
  • the current density can be in the range of 10 to 200 AZdm 2 , but is preferably selected from the range of 20 to: LOOA / dm 2 .
  • the quantity of electricity is preferable to choose from a range of force 100 ⁇ 2000c / dm 2, which may be in the range of 100 ⁇ 5000cZdm 2! / ,.
  • the temperature at which the electrochemical surface roughening process is carried out is preferably a force that can use a range of 10 to 50 ° C and a range of 15 to 45 ° C.
  • the concentration of nitric acid in the electrolytic solution is preferably 0.1 to 5% by mass. If necessary, nitrates, chlorides, amines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, acetic acid, oxalic acid, and the like can be added to the electrolytic solution.
  • a hydrochloric acid-based electrolyte it is generally preferable to select a force that can be applied by applying a voltage in the range of 1 to 50V.
  • the current density is preferably selected as a range force of 50 to 150 AZdm 2 which can use a range of 10 to 200 A / dm 2 .
  • the amount of electricity can be in the range of 100 to 5000 c / dm 2 , preferably 100 to 2000 cZdm 2 , more preferably 200 to 1000 cZdm 2 .
  • the temperature at which the electrochemical surface roughening method is performed can be in the range of 10 to 50 ° C, but it is preferable to select a range force of 15 to 45 ° C.
  • the hydrochloric acid concentration in the electrolytic solution is preferably 0.1 to 5% by mass. If necessary, nitrates, chlorides, amines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, acetic acid, oxalic acid, and the like can be added to the electrolytic solution.
  • the surface is roughened by the electrochemical surface roughening method, it is preferably immersed in an acid or alkali aqueous solution in order to remove aluminum scraps on the surface.
  • the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and the like
  • the base include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and the like.
  • the amount of aluminum dissolved on the surface is preferably 0.5 to 5 g / m 2 .
  • a neutralization treatment by immersion in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid or a mixed acid thereof.
  • the mechanical surface roughening method and the electrochemical surface roughening method may each be used independently for roughening, and the electrochemical surface roughening method may be followed by the electrochemical surface roughening method. Go and roughen it.
  • an anodizing treatment can be performed.
  • a known method with no particular limitation can be used for the anodizing treatment method that can be used.
  • an oxide film is formed on the support.
  • Said positive to Gokusan treatment an aqueous solution of the electrolytic solution at a concentration of 10 to 50 wt% sulfuric acid and Z or phosphoric acid and the like, current density 1: is the preferred force other used methods of electrolysis in LOAZdm 2, The method of electrolysis at high current density in sulfuric acid described in US Pat. No. 1,412,768, the method of electrolysis using phosphoric acid described in US Pat. No.
  • the amount of anodic oxidation coating formed is suitably from 1 to 50 mg / dm 2 , preferably 10 Is a ⁇ 40mg / dm 2.
  • the amount of anodic oxidation coating can be achieved by, for example, immersing an aluminum plate in a chromic phosphate solution (85% phosphoric acid solution: 35 ml, prepared by dissolving 20 g of acid-chromium (IV) in 1 liter of water). It is calculated
  • substrate coating is calculated
  • the anodized support may be sealed as necessary. These sealing treatments use known methods such as hot water treatment, boiling water treatment, steam treatment, alkali metal silicate silicate soda treatment, dichromate aqueous solution treatment, nitrite treatment, and ammonium acetate treatment. Can be done. Furthermore, in this invention, after performing these processes, the process which coat
  • the coating treatment is not limited to a coating method, a spray method, a dip method, or the like, but a dip method is suitable for making the equipment inexpensive. In the case of the dip type, it is preferable to treat polybuluphosphonic acid with a 0.05 to 3 mass% aqueous solution.
  • the treatment temperature is preferably 20 to 90 ° C, and the treatment time is preferably 10 to 180 seconds. After the treatment, it is preferable to carry out a squeegee treatment or a water washing treatment in order to remove excessively laminated polybuluphosphonic acid. Furthermore, it is preferable to perform a drying process.
  • the drying temperature is preferably 20 to 95 ° C. Coverage of Poribyuruhosuho phosphate of the aluminum support surface in gesture et preferred that a 3 ⁇ 15mgZm 2 3. 5 ⁇ 10mgZm 2 virtuous preferable.
  • Various concentrations of polyvinyl phosphonic acid aqueous solution concentration, treatment temperature, and treatment time can be combined to obtain a desired coating amount.
  • a polymerization type photosensitive lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer is preferably used as the photosensitive lithographic printing plate.
  • Photopolymerization initiators that can be preferably used for a polymerization type lithographic printing plate material having a photopolymerizable photosensitive layer include bromine compounds and titanocene compounds represented by the following general formulas (2) and (3). , Monoalkyltriaryl borate compounds, and iron arene complex compounds.
  • R 1 represents a hydrogen atom, a bromine atom, an alkyl group, an aryl group, an acyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, or a cyan group.
  • R 2 represents a monovalent substituent. Even if R 1 and R 2 combine to form a ring, it will not work!
  • Examples of the alkyl group represented by R 1 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an iso group.
  • aryl group for example, a phenyl group, a naphthyl group
  • acyl group include an acetyl group, an ethyl carbonate group, a propyl carbon group, a pentyl carbon group, a cyclohexyl carbo ol group, an octyl carbo ol group, and a 2-ethyl group.
  • a xylcarbol group, a dodecyl carbo ol group, a furol carbo ol group, a naphthyl carbo ol group, a pyridyl carbo ol group and the like can be mentioned.
  • Examples include ethylsulfol group, butylsulfol group, cyclohexylsulfol group, 2-ethylhexylsulfol group, dodecylsulfol group and the like.
  • A Hue - Rusuruho - group, Nafuchirusuruho - group, 2-Pirijirusuruho - group, and the like.
  • the monovalent substituent represented by R 2 has the substituent represented by R in the general formula (1).
  • R 3 represents a monovalent substituent.
  • X represents —O—, —NR 4 —.
  • R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group. Even if R 3 and R 4 combine to form a ring, it is not possible.
  • the monovalent substituent represented by R 3 has the same meaning as the monovalent substituent represented by R 2 in the general formula (2).
  • the alkyl group represented by R 4 has the same meaning as the alkyl group represented by R 1 in the general formula (2).
  • titanocene compound examples include compounds described in JP-A-63-41483 and JP-A-2-291. More preferable specific examples include bis (cyclopentadienyl) Ti. —Dimonochloride, bis (cyclopentagel) Ti—bis (cyclopentagel) Ti—bis-1,2,4,4,5,6 pentafluorophenol, Screw( Cyclopentagel) Ti-Bis-1,2,5,5,6-Tetrafluorofel, Bis (Successed Pentagel) Ti-Bis-1,2,4,6 Trifnoreolophenol, Bis ( Cyclopentadiene) Ti—Bis-1,2,6 difluorophenol, bis (cyclopentagel) Ti —Bis-1,2,4 difluorophenol, bis (methylcyclopentagel) Ti—Bis 2, 3, 4, 5, 6 Pentafluorophenyl, bis (methylcyclopentagel) Ti bis 2, 3, 5, 6-tetrafluorophenol, bis (methylcyclopentagel)
  • Examples of the power described in No. 62-143044 include, for example, tetra-n-butylammonium n-butyl-trinaphthalene 1-rubolate, tetra-n-butylammonium n-butyl-triphenyl-2-ruborate. , Tetra-n-butylammo-um n-butyltoylate (4 tert-butylphenyl) -borate, tetra-n-butylammo-um n-hexyloxy- (3-chloro-ethyl 4-methylphenol) borate, tetra-n- And butyl ammonium n-hexyl root (3-fluorophenol) borate.
  • iron arene complex compounds include the compounds described in JP-A-59-219307, and more preferable specific examples include 7 ⁇ -benzene mono (7 ⁇ -cyclopentadiene- 6) Iron hexafluorophosphate, monocumene ( ⁇ -cyclopentagel) iron hexafluorophosphate, ⁇ -fluorene mono (-cyclopentagel) iron hexafluorophosphate, 7 ⁇ -Naphthalene mono (7 ⁇ -cyclopentagel) iron hexafluorophosphate, ⁇ -xylene mono (-cyclopentagel) iron hexafluorophosphate, ⁇ benzene mono ( ⁇ -cyclopenta Gel) iron tetrafluoroborate and the like.
  • any photopolymerization initiator can be used in combination.
  • examples thereof include diazo compounds, halogen compounds, and photoreducible dyes.
  • a more specific compound is disclosed in British Patent 1,459,563.
  • the photopolymerization initiator that can be used in combination, the following can be used.
  • -a-benzoin derivatives such as phen-l-acetophenone; benzophenone, 2,4 dichlorobenzophenone, o benzophenone derivatives such as methyl benzoylbenzoate, 4, 4 'bis (dimethylamino) benzophenone; 2-chlorothioxanthone, 2-i propylthioxone Thixanthone derivatives such as Sandton; anthraquinone derivatives such as 2-chloro-anthraquinone and 2-methylanthraquinone; atalidone derivatives such as N-methylataridon and N-butylataridon; ⁇ , a —jetoxyacetophenone, benzyl, fluorenone, In addition to xanthone and ura ninolei compounds, triazine derivatives described in Japanese Patent Publication Nos.
  • Transition metal complexes containing transition metals such as themes; 2,4,5 triarylimidazole dimers described in JP-A-3-209477; carbon tetrabromide; organics described in JP-A-59-107344 Halogen compounds, etc.
  • the blending amount of these photopolymerization initiators is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 20% by mass with respect to 100% by mass of the compound capable of addition polymerization or crosslinking.
  • a sensitizing dye is preferably added to the photosensitive layer. It is preferable to use a dye having an absorption maximum wavelength near the wavelength of the light source.
  • Visible light power examples include cyanine, phthalocyanine, merocyanine, porphyrin, spiro compound, fuekousen, fluorene, fulgide, imidazole, perylene, phenazine, phenothiazine, and polyene.
  • a coumarin dye can be used as the sensitizing dye.
  • a preferred coumarin structure is represented by the following general formula (4).
  • ⁇ ⁇ represents a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group (e.g., a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a tert butyl group, a pentyl group, a hexyl group, Octyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, etc.), cycloalkyl group (eg, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), alkenyl group (eg, bur group, allyl group, etc.), alkynyl group (For example, ethynyl group, propargyl group, etc.), aryl group (for example, fullyl group, naphthyl group, etc.), heteroaryl group (for example, furyl group, chenyl group
  • alkyl group e.g.,
  • Ashiruokishi group e.g., Asechiru Okishi group, E chill carbonyl O alkoxy group, butylcarbonyl O alkoxy group, Okuchirukarubo - Ruokishi group, dodecyl carboxymethyl - Ruokishi group, Hue - Rukarupo - Ruokishi group
  • amino Group for example, methyl carbolumino group, ethyl carbo luminamino group, dimethyl carbo luminamino group, propyl carbo luminamino group, pentyl carbo luminamino group, cyclohexyl carbo luminamino group, 2-ethyl hexyl carbo luminamino group, Octyl carbolumino group, dodecyl carbolumino group, phenyl carbolumino group, naphthyl carbonylamino group, etc., rubamoyl group (for example, amino carbo group, methylamino carbo ol
  • R 5 ⁇ amino group
  • an alkylamino group e.g., a dialkylamino group
  • an allylamino group e.g., a dialyleamino group
  • an alkylarylamino group e.g., the alkyl group strength substituted for the amino group
  • R 1 and R 2 may be alkyl groups (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, dodecyl group).
  • preferable coumarin-based dyes include the following compounds, but are not limited thereto.
  • the amount of the coumarin dye used as the sensitizing dye in the photosensitive layer is determined by the recording light source. It is preferable that the reflection density of the plate surface at a wavelength is in an amount in the range of 0.1 to 1.2.
  • the mass ratio of the dye in the photosensitive layer that falls within this range varies greatly depending on the molecular extinction coefficient of each dye and the degree of crystallinity in the photosensitive layer. Generally, the mass ratio is 0.5 to 10% by mass. Often in the range of.
  • the molar ratio of the photopolymerization initiator and the sensitizing dye is preferably in the range of 1: 100 to 100: 1.
  • Examples of the compound containing an ethylenically unsaturated bond capable of addition polymerization include general radically polymerizable monomers, and ethylenic double monomers capable of addition polymerization in a molecule generally used for UV-cured resin. Polyfunctional monomers having a plurality of bonds and polyfunctional oligomers can be used.
  • the compound is not limited, but preferred examples thereof include 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, glycerol acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, fenoxetyl acrylate, nourfenoxetyl ate , Tetrahydrofurfuroxyxetyl acrylate, tetrahydrofurfuroxy hexanolidate acrylate, 1,3 dioxane alcohol epsilon prolatatone adduct, 1,3 dioxolane acrylate Monofunctional acrylic acid esters such as methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid ester, for example, ethylene glycol diatalylate, in which these acrylates are replaced with metatalates, itaconates, crotonates, and maleates.
  • 2-ethylhexyl acrylate 2-hydroxypropyl acrylate
  • Prebolimers can also be used in the same manner as described above.
  • the prepolymer include compounds as described below, and a prepolymer obtained by introducing acrylic acid or methacrylic acid into an oligomer having an appropriate molecular weight and imparting photopolymerizability can be suitably used.
  • These prepolymers may be used singly or in combination of two or more, and may be used in combination with the above-mentioned monomers and cocoons or oligomers.
  • Examples of the prepolymer include adipic acid, trimellitic acid, maleic acid, phthalic acid, terephthalic acid, hymic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, itaconic acid, pyromellitic acid, fumaric acid, and glutaric acid.
  • the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate contains phosphazene monomer, triethylene glycol, isocyanuric acid EO (ethylene oxide) modified diatalate, isocyanuric acid EO modified triatalylate, dimethylol tricyclodecane diatariate.
  • examples of the ethylenic monomer that can be used in combination include a phosphoric acid ester compound containing at least one (meth) ataryloyl group.
  • This compound is a compound in which at least a part of the hydroxyl group of phosphoric acid is esterified, and is not particularly limited as long as it has a (meth) atallyloyl group.
  • the compounds described in JP-A-1-244891 and the like can be mentioned, and further, the compound described in “Chemical Products of 11290”, Yigaku Industrial Daily, p. 286-294, “UV'EB Curing Handbook (raw material Ed.) "Polymer publication society, VII.
  • Compounds described in 11 to 65 can also be suitably used in the present invention. Among these, compounds having two or more acrylic or methacrylic groups in the molecule are preferred in the present invention, and those having a molecular weight of 10,000 or less, more preferably 5,000 or less are preferred.
  • addition-polymerizable ethylenic secondary monomers containing a tertiary amino group in the molecule It is preferable to use a monomer containing a heavy bond.
  • a tertiary amine compound having a hydroxyl group modified with glycidyl metatalylate, methacrylic acid chloride, acrylic acid chloride or the like is preferably used.
  • collectable compounds described in JP-A-1-165613, JP-A-1 203413 and JP-A-1197213 are preferably used.
  • the reaction of a polyhydric alcohol containing a tertiary amino group in the molecule, a diisocyanate compound, and a compound containing an ethylenic double bond capable of addition polymerization with a hydroxyl group in the molecule is preferable to use the product ⁇ .
  • the polyhydric alcohols containing a tertiary amino group in the molecule include triethanolamine, N-methyljetanolamine, N-ethyljetanolamine, and N-n-butyldiethanolamine. Min, N- tert.
  • Diisocyanate compounds include butane 1,4-diisocyanate, hexane 1,6-diisocyanate, 2-methylpentane-1,5-diisocyanate, octane 1,8-diisocyanate, 1,3 Diisocyanatomethyl monocyclohexanone, 2, 2, 4 Trimethylol hexane-1,6 Diisocyanate, Isophorone diisocyanate, 1,2 Phylene-diisocyanate, 1,3 Phylene diisocyanate Cyanate, 1,4 phenolic diisocyanate, tolylene 2,4 diisocyanate, tolylene 2,5 diisocyanate, tolylene —2, 6 diisocyanate, 1,3 di (isocyanatomethyl) benzene, 1,3 bis (1 isocyanate) Forces including 1-methylethyl) benzene, but not limited thereto.
  • 2-hydroxyethyl methacrylate As a compound containing an ethylenic double bond capable of addition polymerization with a hydroxyl group in the molecule, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate is preferable. Rate, 4-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxypropylene 1,3 dimetatalate, 2-hydroxypropylene 1-metatalylate 1-3-acrylate, etc.
  • reaction products of polyhydric alcohols containing a tertiary amino group in the molecule diisocyanate compounds, and compounds containing an ethylenic double bond capable of addition polymerization with a hydroxyl group in the molecule.
  • diisocyanate compounds compounds containing an ethylenic double bond capable of addition polymerization with a hydroxyl group in the molecule.
  • M-1 Reaction product of triethanolamine (1 mol), hexane 1,6 diisocyanate (3 mol), and 2 hydroxyethyl methacrylate (3 mol)
  • Reaction product of M-5 N-methyljetanolamine (1 mol), tolylene 1,2,4 diisocyanate (2 mol), 2 hydroxypropylene 1,3 dimetatalylate (2 mol)
  • Atalylates or alkyl acrylates described in Kaihei 1 105238 and 2-127404 can be used.
  • Polymeric binders include acrylic polymers, polybutyl petal resin, polyurethane resin, polyamide resin, polyester resin, epoxy resin, phenol resin, polycarbonate resin, polybutyral resin. Polybur formal oil, shellac, other natural oils, etc. can be used. Also, using two or more of these in combination does not work. [0112] A vinyl copolymer obtained by copolymerization of an acrylic monomer is preferred. Furthermore, the copolymer composition of the polymer binder is preferably a copolymer of (a) a carboxyl group-containing monomer, (b) a metataric acid alkyl ester, or an acrylic acid alkyl ester.
  • carboxyl group-containing monomer examples include ⁇ , j8-unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, and itaconic anhydride.
  • carboxylic acids such as phthalic acid and 2-hydroxymetatalylate half ester are also preferred.
  • alkyl methacrylates and alkyl esters include methyl methacrylate, ethyl acetate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, heptyl methacrylate, Octyl methacrylate, nonyl methacrylate, decyl methacrylate, undecyl methacrylate, dodecyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, acrylic acid
  • cyclic alkyl ethers such as cyclohexyl meth
  • the monomer described in the following (1) to (14) or the like can be used as the polymer binder in the polymer binder.
  • a monomer having an aminosulfol group such as m— (or p) aminosulfol methanolate, m— (or p—) aminosulfurphenol acrylate, N— (p -Aminosulfo-phenyl) methacrylamide, N— (p-aminosulfo-phenyl) acrylamide and the like.
  • Acrylamide or methacrylamides such as acrylamide, methacrylamide, N-ethyl acrylamide, N-xyl acrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-phenyl acrylamide, N— (4-Trophenyl) ) Acrylamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide and the like.
  • Monomer containing alkyl fluoride group such as trifluoroethyl acrylate, trifluoroethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, hexafluoropropyl methacrylate, Kutafluoropentyl acrylate, octafluoropentyl methacrylate, heptadecafluorodecyl methacrylate, N-butyl-N— (2-Atari mouth quichetil) heptadecafluorooctylsulfonamide, etc.
  • alkyl fluoride group such as trifluoroethyl acrylate, trifluoroethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, hexafluoropropyl methacrylate, Kutafluoropentyl acrylate, octafluoropentyl methacrylate, hepta
  • Bull esters for example, bull acetate, vinyl black acetate, bull butyrate, vinyl benzoate and the like.
  • Styrenes such as styrene, methyl styrene, chloromethyl styrene and the like.
  • Bir ketones such as methyl bee ketone, ethyl beer ketone, propyl beer ketone, and ferrule bee ketone.
  • Olefins such as ethylene, propylene, i-butylene, butadiene, isoprene and the like.
  • a monomer having an amino group for example, N, N jetylaminoethyl methacrylate
  • an unsaturated bond-containing bulle obtained by addition-reacting a compound having a (meth) attalyloyl group and an epoxy group in the molecule to a carboxyl group present in the molecule of the vinyl copolymer.
  • a copolymer is also preferred as the polymer binder.
  • Specific examples of the compound containing both an unsaturated bond and an epoxy group in the molecule include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, and epoxy group-containing unsaturated compounds described in JP-A-11-271969. It is done.
  • copolymers preferably have a weight average molecular weight of 10,000 to 200,000 as measured by gel permeation chromatography (GPC), but are not limited to this range.
  • the content of the high molecular polymer in the photosensitive layer is preferably in the range of 10 to 90% by mass, more preferably in the range of 5 to 70% by mass, and in the range of 20 to 50% by mass. It is particularly preferable for sensitivity.
  • the acid value of rosin is preferably used in the range of 10 to 150, more preferably in the range of 30 to 120, and more preferably in the range of 50 to 90. This is particularly preferable because it can prevent pigment aggregation in the photosensitive layer coating solution.
  • the coating amount on the support of the photopolymerizable photosensitive layer containing these components is preferably 0.1 to 5 gZm 2 by weight after drying, and more preferably 0.5 to 3 gZm 2 .
  • the lithographic printing plate material according to the present invention preferably has an oxygen blocking layer (overcoat layer) on the photopolymerization photosensitive layer.
  • the oxygen barrier layer a water-soluble polymer capable of forming a film having low oxygen permeability is used.
  • polybulal alcohol and polybulurpyrrolidone are contained.
  • Polyvinyl alcohol has the effect of suppressing the permeation of oxygen
  • polyvinyl pyrrolidone has the effect of ensuring adhesion with the adjacent photosensitive layer.
  • polysaccharides polyethylene glycol, gelatin, glue, casein, hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, methyl cellulose, hydroxyethyl starch, gum arabic, sugar ota It can be achieved by using water-soluble polymers such as acetate, ammonium alginate, sodium alginate, polybulamine, polyethylene oxide, polystyrene sulfonic acid, polyacrylic acid and water-soluble polyamide in combination.
  • water-soluble polymers such as acetate, ammonium alginate, sodium alginate, polybulamine, polyethylene oxide, polystyrene sulfonic acid, polyacrylic acid and water-soluble polyamide in combination.
  • the peel strength between the photosensitive layer and the overcoat layer is preferably 0.3 NZcm or more, more preferably 0.49 NZcm or more, and even more preferably 0.74 NZcm or more. It is.
  • Preferred overcoat layer compositions include those described in JP-A-10-10742.
  • An adhesive tape with a predetermined width is applied on the overcoat layer, and the adhesive tape is peeled off with the overcoat layer at an angle of 90 degrees with respect to the plane of the planographic printing plate material. Measure the force of time.
  • the overcoat layer may further contain a surfactant, a matting agent and the like, if necessary.
  • the overcoat layer composition is dissolved in a suitable solvent, applied onto the photosensitive layer, and dried to form an overcoat layer.
  • the main component of the coating solvent is particularly preferably water or an alcohol such as methanol, ethanol or i-propanol.
  • the coating amount of the overcoat layer is suitably in the range of about 0.1 to about 10 g / m 2 by weight after drying. More preferably 0. 3 ⁇ 5gZm 2. More preferably, it is 0.5 to 3 gZm 2 .
  • JP-A-11 065129 JP-A-11 065126, JP 2000-206706, 2000-081711, 2002-091014, 2002
  • Liquid materials, automatic developing machines, and the like can also be suitably used.
  • a 0.3 mm thick aluminum plate (material 1050, tempered H16) was immersed in a 5% aqueous sodium hydroxide solution maintained at 65 ° C, degreased for 1 minute, and then washed with water.
  • the degreased aluminum plate was neutralized by immersion in a 10% aqueous hydrochloric acid solution maintained at 25 ° C. for 1 minute, and then washed with water.
  • the resulting aluminum plate 0.3% of nitric acid aqueous solution, 25 ° C, 60 seconds by the conditions in the alternating current with a current density of 100 AZdm 2, after electrolytic graining, kept at 60 ° C
  • the desmutting treatment was performed for 10 seconds in a 5% aqueous sodium hydroxide solution.
  • Desaturated roughened aluminum plate was anodized in 15% sulfuric acid solution at 25 ° C, current density 10AZdm 2 , voltage 15 V for 1 minute!
  • a support was prepared by hydrophilizing with polybuluphosphonic acid at 75
  • the center line average roughness (Ra) of the surface was 0.65 ⁇ m.
  • the photopolymerizable photosensitive layer coating solution having the following composition in dry 1. 5GZm 2, and 1. dried 5 minutes at 95 ° C, the photopolymerizable photosensitive layer coating A sample was obtained.
  • Addition-polymerizable ethylenic double bond-containing monomer M-3 (above) 25.0 parts
  • Photoinitiator I 1 2. 0 parts
  • Photoinitiator I 2 2. 0 parts
  • Acrylic copolymer 1 40 0 parts
  • Fluorosurfactant (F—178K; manufactured by Dainippon Ink and Co., Ltd.) 0.5 part Methyl ethyl ketone 80 parts
  • the lithographic printing plate material having an oxygen-blocking layer on the photosensitive layer was prepared by applying with an applicator so as to become, and drying at 75 ° C. for 1.5 minutes.
  • the lithographic printing plate material thus produced was subjected to image exposure at a resolution of 2400 dpi using a CTP exposure device (Tigercat: manufactured by ECRM) equipped with an FD-YAG laser light source (the exposure pattern is 100% image area and 175LPI 50% square dot was used). Note that dpi represents the number of dots per 2.54 cm.
  • Another lithographic printing plate material is a plate setter (Tiger) equipped with a light source equipped with a 408nm, 30mW laser. The same image exposure was performed using Cat: a modified product manufactured by ECRM.
  • a pre-washing part for removing the oxygen barrier layer before development a developing part filled with developers a and b having the following composition, a washing part for removing developer adhering to the plate surface, and a gum solution for protecting the image area ( Developed with a CTP automatic processor (PHW32-V: Technigraph) equipped with GW-3 (Mitsubishi ⁇ Gakaku Co., Ltd., 2 times diluted), and lithographic printing plate la from developer a and b Got lb.
  • Non-ionic surfactant Polyoxyethylene (5) -tert-tridecylamine ether
  • Non-ionic surfactant Polyoxyethylene (5) -tert-tridecylamine ether
  • Lithographic printing plates 2a, 2b to 9a, and 9b were prepared in the same manner except that a developing solution was used in which the compounds of the general formula (1) were replaced with the compounds shown in Table 1 in preparing the lithographic printing plates la and lb.
  • the developed lithographic printing plate is rubbed with PS sponge soaked with PS ink (Fuji Photo Film Co., Ltd., Pi-2), washed with water, and the plate with ink on the image area is removed with a loupe.
  • the number of spots per lm 2 was evaluated for the smudges derived from the photosensitive layer components seen in the non-image area.
  • a lithographic printing plate produced by exposing and developing a 175-line image at 200 jZcm 2 is applied to coated paper and printing ink (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) using a printing press (DAIYA1F-1 manufactured by Mitsubishi Heavy Industries, Ltd.). Soybean oil ink "Naturalis 100") and fountain solution (Tokyo Ink Co., Ltd. H liquid SG-51 concentration 1.5%) The number of printed sheets was used as an index of printing durability.
  • the numerical value in the force box represents the number of oxyethylene groups.
  • the developer of the present invention was obtained by the processing method of the photosensitive lithographic printing plate (lithographic printing plate material) of the present invention, which is free from developability and fine spots found in the non-image area, as compared with the comparative example. It can be seen that the lithographic printing plate is excellent in printing durability.

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Abstract

　本発明は、少なくとも下記一般式（１）で表される化合物を含有するアルカリ水溶液であることを特徴とする感光性平版印刷版用現像液であって、良好な現像性を有し、現像槽に蓄積するスラッジによる版面の汚れが抑制され、耐刷性に優れた感光性平版印刷版用現像液及び感光性平版印刷版の処理方法が提供できる。 　一般式（１）　　Ｒ1－（Ｌ）－（Ｒ2－Ｏ）n－Ｈ （式中、Ｒ1は総炭素数２０以下の、置換基を有してもよい分岐型アルキル基を表し、Ｒ2は置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基を表し、ｎは２～１００の整数を表す。Ｌは、－Ｏ－または－ＮＨ－を表す。なお、Ｒ2は、同一であっても異なっていてもよい。）

Description

明 細 書
感光性平版印刷版用現像液及び感光性平版印刷版の処理方法 技術分野
[0001] 本発明は、感光性平版印刷版 (以下、平版印刷版材料ともいう)用の新現像液及び 感光性平版印刷版の処理方法に関する。
背景技術
[0002] 従来から、親水化表面処理を行った支持体上に、光重合性感光層及び保護層を 積層した平版印刷版材料が知られている。特に近年は、迅速に高解像度の印刷版 を得るため、また、フィルムレス化を目的として、レーザを使用する画像情報に基づく デジタル露光を行!ヽ、これを現像して平版印刷版を製造する方法が汎用化されて 、 る。一例を挙げると、電子製版システムや画像処理システム等からの出力信号、ある いは通信回線等により伝送された画像信号により、光源を変調し、感光性材料に直 接走査露光をして、印刷版を形成するシステムが知られて 、る。
[0003] 例えば、レーザでデジタルデータを記録する CTP用印刷版材料にお!、ては、記録 時間短縮のため、高感度であることが求められる。また、新聞印刷や、広告等の商業 印刷を初めとする多くの印刷分野において、耐刷力のあることが求められる。
[0004] 光重合性感光層は、一般に、アクリル系単量体、アルカリ可溶性榭脂及び光重合 性開始剤、さらに必要に応じて、特にレーザ書込みを行う際、波長に適合させるため に増感色素を含有することが知られている。また、酸素による重合阻害を防止する目 的で、保護層を設けることも知られている。
[0005] 光重合型の平版印刷版材料を露光、製版する光源としては、 Arレーザ (488nm) や FD— YAGレーザ（532nm)のような長波長の可視光源が用いられる。さらに近年 では、例えば InGaN系や ZnSe系の材料を用い、 350〜450nmの波長域で連続発 振可能な半導体レーザが実用段階となっている。これらの短波光源を用いた走査露 光システムは、半導体レーザが構造上、安価に製造できるため、十分な出力を有しな 力 経済的なシステムを構築できる長所を有する。さらに、従来の FD— YAGや Arレ 一ザを使用するシステムに比較して、より明るいセーフライト下での作業が可能な、感 光城が短波な平版印刷版材料に使用できる可能性がある。
[0006] 光重合型の平版印刷版材料では、通常、画像露光、必要に応じ加熱処理を行った 後、保護層除去のための水洗、未露光部分を溶解除去するための現像処理、水洗 処理、非画像部の親水化のためのフィ-ッシヤーガム処理を行い、平版印刷版を得 ている。この時、画像露光後、加熱処理を行うことで重合反応を促進させて高感度化 、高耐刷ィ匕が得られることが知られている。
[0007] 従来、使用されて!、るポジ型平版印刷版の感光層には、オルソキノンジアジドィ匕合 物がノボラック榭脂と併用されており、現像液にはノボラック榭脂を溶解可能なアル力 リ性の珪酸塩水溶液が用いられている。しかし、ノボラック榭脂を溶解可能な pHは 13 程度で、このような高 pH現像液は、皮膚や粘膜に付着した場合の刺激性が強ぐ取 扱いには十分な注意を必要とするだけでなぐ画像面積の小さな点 (小点)では、サ イドエッチングによって小点下のアルミを溶解し、印刷時に小点が飛びやすくなり、耐 刷性、印刷品質を劣化させるという問題があった。
[0008] 一方、平版印刷版材料の現像液としては、非画像部の感光層を完全に除去するた め、即ち現像を行うために、通常、水系アルカリ現像液として、 pH12. 5以上で用い られることが一般的であった。しかしながら、近年、作業性、安全性、環境適性等の観 点から、より低い pHのアルカリ現像液での処理が望まれるようになってきている。
[0009] pHが低く（pH12以下）、珪酸アルカリを含まない現像液としては、ァ-オン界面活 性剤を含む水酸化カリウム水溶液から成る現像液 (特許文献 1参照）や、 pH8. 5〜1 1. 5のアルカリ金属の炭酸塩水溶液から成る現像液 (特許文献 2参照）が開示されて いる。
[0010] し力しながら、このような比較的低 pHの現像液は、基本的に感光層の溶解力が乏 しいため、例えば経時した印刷版では、十分に現像が進まないため残膜が生じたり、 現像カスが発生したりする等の問題があった。
特許文献 1：特開 2000 -81711号公報
特許文献 2 :特開平 11 65126号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題 [0011] 本発明は上記事情に鑑みてされたものであり、本発明の目的は、良好な現像性を 有し、現像槽に蓄積するスラッジによる版面の汚れが抑制され、耐刷性に優れた感 光性平版印刷版用現像液及び感光性平版印刷版の処理方法を提供することにある 課題を解決するための手段
[0012] 本発明の上記課題は、以下の構成により達成される。
1.少なくとも下記一般式（1)で表される化合物を含有するアルカリ水溶液であること を特徴とする感光性平版印刷版用現像液。
[0013] 一般式（1) R— )一（R— O) — H
1 （L
2 n
(式中、 Rは総炭素数 20以下の、置換基を有してもよい分岐型アルキル基を表し、 R
1
は置換基を有してもよい炭素数 1〜10のアルキレン基を表し、 nは 2〜： LOOの整数を
2
表す。 Lは、 O または NH を表す。なお、 Rは、同一であっても異なっていて
2
ちょい。）
2.前記一般式（1)の分岐型アルキル基 Rの主鎖炭素数 C及び側鎖総炭素数 Cの
1 1 2 比 C /C 1S 3. 0〜0. 05であることを特徴とする 1に記載の感光性平版印刷版用
2 1
現像液。
3.前記一般式（1)の分岐型アルキル基 Rの主鎖の炭素数が 3〜19で、かつ Rは炭
1 1 素数 1〜9の側鎖を少なくとも一つ以上有する分岐型アルキル基であることを特徴と する 1または 2に記載の感光性平版印刷版用現像液。
4.前記一般式（1)の Lが、 NH であることを特徴とする 1〜3のいずれか 1項に記 載の感光性平版印刷版用現像液。
5.前記一般式（1)で表される化合物の HLB値が 11〜 15であることを特徴とする 1 〜4のいずれか 1項に記載の感光性平版印刷版用現像液。
6.前記感光性平版印刷版用現像液の pHが 8. 5〜13. 0であることを特徴とする 1 〜5のいずれか 1項に記載の感光性平版印刷版用現像液。
7.感光性平版印刷版を画像露光させた後、 1〜6のいずれか 1項に記載の感光性 平版印刷版用現像液により現像処理することを特徴とする感光性平版印刷版の処理 方法。 8.前記感光性平版印刷版が、光重合型感光性平版印刷版であることを特徴とする 7 に記載の感光性平版印刷版の処理方法。
発明の効果
[0014] 本発明によれば、良好な現像性を有し、現像槽に蓄積するスラッジによる版面の汚 れが抑制され、耐刷性に優れた感光性平版印刷版用現像液及び感光性平版印刷 版の処理方法を提供することができる。
発明を実施するための最良の形態
[0015] 感光層、感熱層を有する平版印刷版材料をレーザ露光した後、現像、水洗、フィニ ッシングを有する工程で現像処理する平版印刷版の現行の感光性平版印刷版用現 像液 (以下、単に現像液ともいう）及び処理方法では、露光後、硬化しきれない、いわ ゆる残膜が感光層画像部近傍に残り、低耐刷性や版面汚れの原因となっていた。
[0016] 現行の現像液には、感光層の溶解力を強める目的でノニオン性界面活性剤を加え てあるが、親油性部の分子量が大きぐ浸透性が十分に得られないため、露光後、画 像部付近に残る残膜を完全に取り去ることができな力つた。
[0017] 本発明においては、現像液にアルキル基部分の炭素数が小さくかつそのアルキル 基が分岐鎖を一つ以上持つノ-オン性界面活性剤を加えることで、現像液の感光層 への浸透性を高めて残膜を除去し、現像性及び耐刷性を向上させることができる。さ らに、このような界面活性剤を用いた場合、溶出した感光層物質を細かく分散する効 果もあり、非画像部の微点汚れ防止、スラッジ 'ヘドロ防止にも威力を発揮する。
[0018] これらの効果は、現像液を用いる全ての種類の感光性平版印刷版にお!ヽて有効で あるが、特に、アルミニウム支持体上に、少なくとも付加重合可能なエチレン性不飽 和結合を含有する化合物、光重合開始剤、及び高分子結合材からなる光重合型感 光性榭脂組成物の感光層を有する感光性平版印刷版にぉ 、てその効果が大き!、。
[0019] 本発明者らは、上記本発明の作用効果 (現像性と耐刷性）について次のように推察 している。
[0020] 光重合開始剤に使用されるチタノセンィ匕合物、鉄アレーン錯体化合物、可視画剤 に使用される銅フタロシアニンィ匕合物等は、水に不溶の化合物であり、感光層から一 度現像液中に溶出、分散しても、時間と共に析出、凝集、沈殿し、現像槽にスラッジ · ヘドロとして蓄積し、印刷版面上に再付着し汚れの原因となる。しかしながら、本発明 に係る前記一般式（1)で表されるノ-オン性界面活性剤を使用することで、光重合開 始剤、可視画剤等の非水溶性感光層組成物に対する現像液中への溶出力が向上 し、非画像部 (未露光部）を良好に現像することができる。
[0021] 一方、非画像部に対して良好な現像性を有する現像液では、界面活性剤の親油 性基の分子量が大きく浸透性が十分ではないため、硬化しきれていない、いわゆる 残膜が感光層画像部近傍に残り、低耐刷性や版面汚れの原因となる。しかしながら 、本発明に係る前記一般式（1)で表されるノ-オン性界面活性剤を使用することで、 非画像部に対する現像液の浸透性が向上し、非画像部 (未露光部）を良好に現像す ることがでさる。
[0022] 以下、本発明を、現像液、平版印刷版材料の順に、さらに詳細に説明する。
[0023] 《現像液》
(一般式 (1)で表される化合物）
本発明の現像液は、前記一般式（1)で表される化合物を含有するアルカリ水溶液 であることが特徴である。
[0024] 一般式（1)において、 Rは総炭素数 20以下の、置換基を有してもよい分岐型アル
1
キル基を表し、 Rは置換基を有してもよい炭素数 1〜10のアルキレン基を表す。
2
[0025] Rで表される置換基を有してもょ 、分岐型アルキル基の置換基としては、アルキル
1
基（例えば、メチル基、ェチル基、プロピル基、イソプロピル基、 tert—ブチル基、ぺ ンチル基、へキシル基、ォクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペン タデシル基等）、シクロアルキル基 (例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基等） 、ァルケ-ル基 (例えば、ビニル基、ァリル基等）、アルキ-ル基 (例えば、ェチュル基 、プロパルギル基等）、ァリール基 (例えば、フエニル基、ナフチル基等）、ヘテロァリ ール基 (例えば、フリル基、チェニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ビラ ジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル 基、ベンゾォキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等）、ヘテロ環基 (例えば、ピ 口リジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、ォキサゾリジル基等）、アルコキシ基 (例 えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルォキシ基、ペンチルォキシ基、へキシルォキシ 基、ォクチルォキシ基、ドデシルォキシ基等）、シクロアルコキシ基 (例えば、シクロべ ンチルォキシ基、シクロへキシルォキシ基等）、ァリールォキシ基 (例えば、フエノキシ 基、ナフチルォキシ基等）、アルキルチオ基 (例えば、メチルチオ基、ェチルチオ基、 プロピルチオ基、ペンチルチオ基、へキシルチオ基、ォクチルチオ基、ドデシルチオ 基等）、シクロアルキルチオ基 (例えば、シクロペンチルチオ基、シクロへキシルチオ 基等）、ァリールチオ基 (例えば、フエ二ルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルコキシ力 ルポ-ル基（例えば、メチルォキシカルボ-ル基、ェチルォキシカルボ-ル基、ブチ ルォキシカルボ-ル基、ォクチルォキシカルボ-ル基、ドデシルォキシカルボニル基 等）、ァリールォキシカルボ-ル基（例えば、フエ-ルォキシカルボ-ル基、ナフチル ォキシカルボ-ル基等）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホ -ル基、メチルアミ ノスルホ -ル基、ジメチルアミノスルホ -ル基、ブチルアミノスルホ -ル基、へキシルァ ミノスルホ-ル基、シクロへキシルアミノスルホ -ル基、ォクチルアミノスルホ -ル基、ド デシルアミノスルホ-ル基、フエ-ルアミノスルホ -ル基、ナフチルアミノスルホ -ル基
、 2—ピリジルアミノスルホ -ル基等）、ァシル基 (例えば、ァセチル基、ェチルカルボ ニル基、プロピルカルボ-ル基、ペンチルカルボ-ル基、シクロへキシルカルボ-ル 基、ォクチルカルボ-ル基、 2—ェチルへキシルカルボ-ル基、ドデシルカルボ -ル 基、フ -ルカルポ-ル基、ナフチルカルボ-ル基、ピリジルカルボ-ル基等）、ァシ ルォキシ基（例えば、ァセチルォキシ基、ェチルカルボ-ルォキシ基、ブチルカルボ -ルォキシ基、ォクチルカルボ-ルォキシ基、ドデシルカルボ-ルォキシ基、フエ二 ルカルボニルォキシ基等）、アミド基 (例えば、メチルカルボ-ルァミノ基、ェチルカル ボ-ルァミノ基、ジメチルカルボ-ルァミノ基、プロピルカルボ-ルァミノ基、ペンチル カルボ-ルァミノ基、シクロへキシルカルボ-ルァミノ基、 2—ェチルへキシルカルボ -ルァミノ基、ォクチルカルボ-ルァミノ基、ドデシルカルボ-ルァミノ基、フエ-ルカ ルポニルァミノ基、ナフチルカルボ-ルァミノ基等）、力ルバモイル基 (例えば、ァミノ カルボ-ル基、メチルァミノカルボ-ル基、ジメチルァミノカルボ-ル基、プロピルアミ ノカルボ-ル基、ペンチルァミノカルボ-ル基、シクロへキシルァミノカルボ-ル基、 ォクチルァミノカルボ-ル基、 2—ェチルへキシルァミノカルボ-ル基、ドデシルァミノ カルボ-ル基、フ -ルァミノカルボ-ル基、ナフチルァミノカルボ-ル基、 2—ピリジ ルァミノカルボ-ル基等）、ウレイド基 (例えば、メチルウレイド基、ェチルウレイド基、 ペンチルゥレイド基、シクロへキシルウレイド基、ォクチルゥレイド基、ドデシルウレイド 基、フエ-ルゥレイド基、ナフチルウレイド基、 2—ピリジルアミノウレイド基等）、スルフ ィ-ル基（例えば、メチルスルフィ-ル基、ェチルスルフィ-ル基、ブチルスルフィエル 基、シクロへキシルスルフィ-ル基、 2—ェチルへキシルスルフィエル基、ドデシルス ルフィ-ル基、フエ-ルスルフィ-ル基、ナフチルスルフィ-ル基、 2—ピリジルスルフ ィ-ル基等）、アルキルスルホ -ル基（例えば、メチルスルホ -ル基、ェチルスルホ- ル基、ブチルスルホ -ル基、シクロへキシルスルホ -ル基、 2—ェチルへキシルスル ホ-ル基、ドデシルスルホ -ル基等）、ァリールスルホ -ル基（フヱ-ルスルホ -ル基 、ナフチルスルホニル基、 2—ピリジルスルホニル基等）、アミノ基 (例えば、アミノ基、 ェチルァミノ基、ジメチルァミノ基、ブチルァミノ基、シクロペンチルァミノ基、 2—ェチ ルへキシルァミノ基、ドデシルァミノ基、ァ-リノ基、ナフチルァミノ基、 2—ピリジルアミ ノ基等)、ハロゲン原子 (例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、シァノ基、二 トロ基、ヒドロキシ基、等が挙げられる。これらの置換基は、上記の置換基によってさら に置換されていてもよい。また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成し ていてもよい。この中で、特に好ましいのはアルキル基である。
[0026] 前記一般式（1)の Rの主鎖炭素数 C及び側鎖総炭素数 Cの比 C /Cは 3. 0〜0
1 1 2 2 1
. 05 (モル比）であることが好ましぐ前記一般式（1)の Rの主鎖の炭素数が 3〜 19
1
で、かつ炭素数 1〜9の側鎖を少なくとも一つ以上有することが好ましい。
[0027] また、前記一般式（1)の Lとしては、 NH であることが好ましい。
[0028] 一般式（1)において、 Rは置換基を有してもよい炭素数 1〜10のアルキレン基を表
2
す。
[0029] Rで表される置換基としては、前記 Rで表される置換基を有してもよ!ヽ分岐型アル
2 1
キル基の置換基と同義である。なお、 Rは、同一であっても異なっていてもよい。
2
[0030] 一般式（1)において、 nは 2〜 100の整数を表す。
[0031] 前記一般式（1)で表される化合物の HLB値は 11〜15であること力 感光層物質を 取り込んだミセルの現像液への分散性、現像液の感光層物質への浸透性の面から 好ましい。 [0032] ここで言う HLB値とは、界面活性剤の乳化特性の定量的尺度として、界面活性剤 の親水性 '親油性バランスを数値的に示したもので、 value of hydrophile and 1 iophile balanceの略称である。
[0033] HLB値の算出には、今までに提案されているいくつかの経験式が使える。例えば、
(1)ポリオキシエチレン型ノ-オン界面活性剤 (他の親水基を含まな!/、もの）の場合、 HLB = E/5 ただし、 E：ポリオキシエチレン含量 (質量0 /0)
(2)多価アルコール脂肪酸エステルの場合、
HLB= 20 (1 -S/A) ただし、 S :エステルの鹼ィ匕価、 A:脂肪酸の酸価（3)ト ール油、松油、蜜蝌、ラノリン多価アルコールの場合、
HLB= (E + P) /5 ただし、 E:ォキシエチレン含量（％)、 P :多価アルコール 含量 (％)
(4)シリコーン系界面活性剤の場合、
HLB=0. 89 X (#¾A) + 1. 11
曇数 Aは界面活性剤 0. 5gをエタノール 5mlで溶解し、 25°Cに保ちながら 2%フエ ノール水溶液で滴定して求められる。液が混濁するときを終点とし、それまでに要し た 2%フエノール水溶液の ml数を曇数 Aとする。
[0034] また、 HLBaの界面活性剤 aと HLBbの界面活性剤 bの混合した界面活性剤の HL Bは、
HLB = { (Wa X HLBa) + (Wb X HLBb) } / (Wa+Wb) ただし、 Wa：活性剤 a の質量分率、 Wb :活性剤 bの質量分率
と表すことができる。本発明では、（1)の式により算出された HLB値を用いる。
[0035] 一般式（1)で表される化合物の具体例として、下記の化合物が挙げられる力 これ に限定されるものではない。
[0036] [化 1] - 1 (H3C(CH2)3)3C-NH-(C2H40)5H
一 2 H3C(CH2)4-CHCH2-0-(C2H40)7H
(H3C(CH2)3)3C - O - (C2H40)7H
CH3
CH2CHCH3
H,CCHCHzCHCH2CH-O-(C2H4O)10H
1 -5 C4H9
H,5C7-CH-0-(CzH40)7H
[0037] 上記の化合物は、界面活性剤として知られている。これらの界面活性剤は市販され ており容易に入手することができる。
[0038] 本発明の平版印刷版の処理方法に用いられる現像液 (補充液も含む）の主成分は 、珪酸、燐酸、炭酸、硼酸、フ ノール類、糖類、ォキシム類及び弗素化アルコール 類力も選ばれる少なくとも 1種の化合物を含有することが好ましい。そして、 pHは 8. 5 〜13. 0の範囲にあるアルカリ性水溶液である。
[0039] (弱酸性物質）
これらの内、フエノール類、糖類、ォキシム類及び弗素化アルコール類のごとき弱 酸性物質としては、解離指数 (pKa)が 10. 0〜13. 2のものが好ましい。
[0040] このような酸としては、 Pergamon Press社発行の IONISATION CONSTAN TS OF ORGANIC ACIDS INAQUEOUS SOLUTION等に記載されてい るもの力ら選ばれ、具体的には、サリチル酸 (pKa 13. 0)、 3—ヒドロキシ一 2—ナフ トェ酸（同 12. 84)、カテコール（同 12. 6)、没食子酸（同 12. 4)、スルホサリチル酸 (同 11. 7)、 3, 4—ジヒドロキシスルホン酸（同 12. 2)、 3, 4—ジヒドロキシ安息香酸（ 同 11. 94)、 1, 2, 4—トリヒドロキシベンゼン（同 11. 82)、ノヽイドロキノン（同 11. 56 )、ピロガロール（同 11. 34)、 o—タレゾール（同 10. 33)、レゾルソノール（同 11. 27 )、 p—タレゾール（同 10. 27)、 m—タレゾール（同 10. 09)等のフエノール性水酸基 を有するフ ノール類が挙げられる。 [0041] 糖類としては、アルカリ中でも安定な非還元糖が好ましく用いられる。力かる非還元 糖とは、遊離のアルデヒド基ゃケトン基を持たず、還元性を示さない糖類であり、還元 基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体 及び糖類に水素添加して還元した糖アルコールに分類され、何れも本発明に好適に 用いられる。トレハロース型少糖類には、サッカロースやトレハロースがあり、配糖体と しては、アルキル配糖体、フエノール配糖体、力ラシ油配糖体等が挙げられる。また、 糖アルコールとしては D, L ァラビット、リピット、キシリット、 D, L—ソルビット、 D, L —マンニット、 D, L—イジット、 D, L タリット、ズリシット及びァロズルシット等が挙げ られる。さらに二糖類の水素添加で得られるマルチトール及びオリゴ糖の水素添加で 得られる還元体 (還元水飴）が好適に用いられる。
[0042] さらには、 2 ブタノンォキシム（pKa 12. 45)、ァセトキシム（同 12. 42)、 1, 2— シクロヘプタンジオンォキシム（同 12. 3)、 2 ヒドロキシベンズアルデヒドォキシム（ 同 12. 10)、ジメチルダリオキシム（同 11. 9)、エタンジアミドジォキシム（同 11. 37) 、ァセトフエノンォキシム（同 11. 35)等のォキシム類、例えば 2, 2, 3, 3—テトラフル ォロプロパノール 1 (同 12. 74)、トリフルォロエタノール（同 12. 37)等の弗素化ァ ルコール類が挙げられる。他にも、ピリジンー2 アルデヒド（同 12. 68)、ピリジン 4 アルデヒド（同 12. 05)等のアルデヒド類、アデノシン（同 12. 56)、イノシン（同 1 2. 5)、グァニン（同 12. 3)、シトシン（同 12. 2)、ヒポキサンチン（同 12. 1)、キサン チン（同 11. 9)等の核酸関連物質、その他、ジェチルアミノメチルスルホン酸（同 12 . 32)、 1—ァミノ 3, 3, 3 トリフルォロ安息香酸（同 12. 29)、イソプロピリデンジス ルホン酸（同 12. 10)、 1, 1—ェチリデンジホスホン酸（同 11. 54)、 1, 1—ェチリデ ンジスルホン酸 1—ヒドロキシ（同 11. 52)、ベンズイミダゾール（同 12. 86)、チォべ ンズアミド（同 12. 8)、ピコリンチオアミド（同 12. 55)、ノルビツル酸（同 12. 5)等の 弱酸が挙げられる。これらの酸性物質は単独でも、また、 2種以上を組み合わせて用 いてもよい。これらの酸性物質の中で好ましいのは、珪酸、燐酸、炭酸、スルホサリチ ル酸、サリチル酸及び非還元糖の糖アルコールとサッカロースであり、特に珪酸、 D ソルビット、サッカロース、還元水あめが適度な pH領域に緩衝作用があることと、低 価格であることで好まし 、。 [0043] これらの酸性物質の現像液中に占める割合は 0. 1〜30質量％が好ましぐさらに 好ましくは、 1〜20質量％である。この範囲未満では十分な緩衝作用が得られず、ま たこの範囲を超えると、高濃縮ィ匕し難ぐまた、原価アップの問題が出てくる。
[0044] (アルカリ剤）
これらの酸に組み合わせる塩基としては、水酸化ナトリウム、同アンモ-ゥム、同カリ ゥム及び同リチウムが好適に用いられる。これらのアルカリ剤は単独もしくは 2種以上 を組み合わせて用いられる。現像液の pHが 8. 5以下の場合、このような現像液で現 像可能な感光性平版印刷版材料力 得られる印刷版の画像部は物理的に脆弱であ り、印刷中の摩耗が早く十分な耐刷力が得られない。また、その画像部は化学的にも 弱ぐ印刷中にインキ洗浄溶剤やプレートクリーナー等で拭いた部分の画像がダメー ジを受け、その結果、十分な耐薬品性が得られない。 pHが 13. 0を超えるような高 p Hの現像液は、皮膚や粘膜へ付着した場合の刺激性が強ぐ取扱いには十分な注 意を必要とし好ましくない。
[0045] その他として、例えば珪酸カリウム、珪酸ナトリウム、珪酸リチウム、珪酸アンモニゥム 、メタ珪酸カリウム、メタ珪酸ナトリウム、メタ珪酸リチウム、メタ珪酸アンモ-ゥム、燐酸 三カリウム、燐酸三ナトリウム、燐酸三リチウム、燐酸三アンモ-ゥム、燐酸二カリウム、 燐酸ニナトリウム、燐酸二リチウム、燐酸二アンモ-ゥム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウ ム、炭酸リチウム、炭酸アンモ-ゥム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水 素リチウム、炭酸水素アンモ-ゥム、硼酸カリウム、硼酸ナトリウム、硼酸リチウム、硼 酸アンモ-ゥム等が挙げられ、予め形成された塩の形でカ卩えてもよい。この場合も、 水酸化ナトリウム、同アンモニゥム、同カリウム及び同リチウムを pH調整に加えること ができる。また、モノメチルァミン、ジメチルァミン、トリメチルァミン、ェチルァミン、ジ ェチルァミン、トリェチルァミン、 i—プロピルァミン、ジ— i—プロピルァミン、トリ— i— プロピルァミン、ブチルァミン、エタノールァミン、ジエタノールァミン、トリエタノールァ ミン、 i—プロパノールァミン、ジ i—プロパノールァミン、エチレンィミン、エチレンジ ァミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も組み合わせて用いられる。最も好ましいものとし て珪酸カリウム及び珪酸ナトリウムが挙げられる。珪酸塩の濃度は、 SiO度換算で 1.
2
0〜3. 0質量％が好ましい。また、 SiOとアルカリ金属 Mのモル比（SiO ZM)が 0. 25〜2の範囲であればなお好まし!/、。
[0046] 本発明でいう現像液とは、現像のスタート時に使用される未使用の液だけでなぐ 平版印刷版材料の処理によって低下する液の活性度を補正するために補充液が補 充され、活性度が保たれた液 (所謂ランニング液)を含む。従って、補充液は現像液 より活性度 (アルカリ濃度）が高い必要があるので、補充液の pHは 13. 0を超えてもよ い。
[0047] (界面活性剤）
本発明の現像液には、前記一般式（1)で表される化合物を含むことが必須である。 本発明の現像液には、前記一般式（1)で表される化合物以外に、各種ノ-オン、ァ 二オン、カチオン、両性活性剤を含んでもよい。
[0048] ノ-オン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキ シエチレンアルキルフエニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフエニルェ 一テル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン 脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂 肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、蔗糖脂肪酸部分 エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシェチレ ンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポ リグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンィ匕ひまし油類、ポリオキシェ チレングリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン ポリオキシプロピレン ブロック共重合体、エチレンジァミンのポリオキシエチレン ポリオキシプロピレンブロ ック共重合体付加物、脂肪酸ジエタノールアミド類、 N, N ビス— 2—ヒドロキシアル キルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルァミン、トリエタノールァミン脂肪酸エステ ル、トリアルキルアミンォキシド等が挙げられる。
[0049] 《平版印刷版材料》
本発明の感光性平版印刷版の処理方法に用いられる平版印刷版材料について説 明する。
[0050] (支持体）
本発明の平版印刷版材料に用いることができる支持体は、アルミニウム板が好まし ぐこの場合、純アルミニウム板及びアルミニウム合金板等であっても力まわない。
[0051] アルミニウム合金としては、種々のものが使用でき、例えば、珪素、銅、マンガン、マ グネシゥム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、ナトリウム、鉄等の金属と アルミニウムの合金が用いられ、各種圧延方法により製造されたアルミニウム板が使 用できる。また、近年普及しつつあるスクラップ材及びリサイクル材等の再生アルミ- ゥム地金を圧延した再生アルミニウム板も使用できる。
[0052] 本発明に係る平版印刷版材料に用いることができる支持体は、粗面化 (砂目立て 処理)するに先立って表面の圧延油を除去するために脱脂処理を施すことが好まし い。脱脂処理としては、トリクレン、シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケロシン、ト リエタノール等のェマルジヨンを用いたェマルジヨン脱脂処理等が用いられる。また、 脱脂処理には、苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に 苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記脱脂処理のみでは除去できな!/ヽ 汚れや酸ィ匕皮膜も除去することができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶 液を用いた場合、支持体の表面にはスマットが生成するので、この場合には、燐酸、 硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、あるいはそれらの混酸に浸漬しデスマット処理を施すこ とが好ましい。
[0053] 粗面化の方法としては、例えば、機械的方法、電解によりエッチングする方法が挙 げられる。
[0054] 機械的粗面化法は特に限定されるものではな 、が、ブラシ研磨法、ホーニング研 磨法が好ましい。ブラシ研磨法による粗面化は、例えば、直径 0. 2〜0. 8mmのブラ シ毛を使用した回転ブラシを回転し、支持体表面に、例えば、粒径 10〜100 /z mの 火山灰の粒子を水に均一に分散させたスラリーを供給しながら、ブラシを押し付けて 行うことができる。ホーユング研磨による粗面化は、例えば、粒径 10〜： LOO /z mの火 山灰の粒子を水に均一に分散させ、ノズルより圧力をかけ射出し、支持体表面に斜 めから衝突させて粗面化を行うことができる。また、例えば、支持体表面に、粒径 10 〜100 /ζ πιの研磨剤粒子を、 100〜200 /ζ πιの間隔で、 2. 5 Χ 103〜10 X 103個/ cm2の密度で存在するように塗布したシートを張り合わせ、圧力をかけてシートの粗 面パターンを転写することにより粗面化を行うこともできる。 [0055] 上記の機械的粗面化法で粗面化した後、支持体の表面に食!、込んだ研磨剤、形 成されたアルミニウム屑等を取り除くため、酸またはアルカリの水溶液に浸漬すること が好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いら れ、塩基としては、例えば水酸ィ匕ナトリウム、水酸ィ匕カリウム等が用いられる。これらの 中でも、水酸ィ匕ナトリウム等のアルカリ水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミ- ゥムの溶解量としては、 0. 5〜5g/m2が好ましい。アルカリ水溶液で浸漬処理を行 つた後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸あるいはそれらの混酸に浸漬し中和処理 を施すことが好ましい。
[0056] 電気化学的粗面化法も特に限定されるものではないが、酸性電解液中で電気化学 的に粗面化を行う方法が好ましい。酸性電解液は、電気化学的粗面化法に通常用 いられる酸性電解液を使用することができるが、塩酸系または硝酸系電解液を用い るのが好ましい。電気化学的粗面化方法については、例えば、特公昭 48— 28123 号、英国特許第 896, 563号、特開昭 53— 67507号に記載されている方法を用い ることができる。この粗面化法は、一般には、 1〜50Vの範囲の電圧を印加することに よって行うことができるが、 10〜30Vの範囲力も選ぶのが好ましい。電流密度は、 10 〜200AZdm2の範囲を用いることができる力 50〜150AZdm2の範囲から選ぶの が好ましい。電気量は、 100〜5000c/dm2の範囲を用いることができる力 100〜 2000cZdm2の範囲力も選ぶのが好ましい。この粗面化法を行う温度は、 10〜50°C の範囲を用いることができる力 15〜45°Cの範囲力も選ぶのが好ましい。
[0057] 電解液として硝酸系電解液を用いて電気化学的粗面化を行う場合、一般には、 1 〜50Vの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、 10〜30Vの範囲か ら選ぶのが好ましい。電流密度は、 10〜200AZdm2の範囲を用いることができるが 、 20〜： LOOA/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、 100〜5000cZdm2 の範囲を用いることができる力 100〜2000c/dm2の範囲から選ぶのが好まし!/、。 電気化学的粗面化法を行う温度は、 10〜50°Cの範囲を用いることができる力 15〜 45°Cの範囲力も選ぶのが好ましい。電解液における硝酸濃度は 0. 1〜5質量％が 好ましい。電解液には、必要に応じて、硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐 酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、しゅう酸等を加えることができる。 [0058] 電解液として塩酸系電解液を用いる場合、一般には、 1〜50Vの範囲の電圧を印 加することによって行うことができる力 2〜30Vの範囲力 選ぶのが好ましい。電流 密度は、 10〜200A/dm2の範囲を用いることができる力 50〜150AZdm2の範 囲力も選ぶのが好ましい。電気量は、 100〜5000c/dm2の範囲を用いることができ るが、好ましくは 100〜2000cZdm2、さらには 200〜1000cZdm2の範囲から選ぶ のがより好ましい。電気化学的粗面化法を行う温度は、 10〜50°Cの範囲を用いるこ とができるが、 15〜45°Cの範囲力も選ぶのが好ましい。電解液における塩酸濃度は 0. 1〜5質量％が好ましい。電解液には、必要に応じて、硝酸塩、塩化物、アミン類、 アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、しゅう酸等を加えることができる。
[0059] 上記の電気化学的粗面化法で粗面化した後、表面のアルミニウム屑等を取り除くた め、酸またはアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸 、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば、水酸化ナト リウム、水酸ィ匕カリウム等が用いられる。これらの中でもアルカリの水溶液を用いるの が好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、 0. 5〜5g/m2が好ましい。また、 アルカリの水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸あるい はそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。
[0060] 機械的粗面化法、電気化学的粗面化法はそれぞれ単独で用いて粗面化してもよ いし、また、機械的粗面化処理法に次いで電気化学的粗面化法を行って粗面化して ちょい。
[0061] 粗面化処理の次には、陽極酸ィ匕処理を行うことができる。本発明にお 、て用いるこ とができる陽極酸ィ匕処理の方法には特に制限はなぐ公知の方法を用いることができ る。陽極酸ィ匕処理を行うことにより、支持体上には酸化皮膜が形成される。該陽極酸 化処理には、硫酸及び Zまたは燐酸等を 10〜50質量％の濃度で含む水溶液を電 解液として、電流密度 1〜： LOAZdm2で電解する方法が好ましく用いられる力 他に 、米国特許第 1, 412, 768号に記載されている硫酸中で高電流密度で電解する方 法や、同 3, 511, 661号公報に記載されている燐酸を用いて電解する方法、クロム 酸、シユウ酸、マロン酸等を一種または二種以上含む溶液を用いる方法等が挙げら れる。形成された陽極酸化被覆量は、 l〜50mg/dm2が適当であり、好ましくは 10 〜40mg/dm2である。陽極酸化被覆量は、例えばアルミニウム板を燐酸クロム酸溶 液 (燐酸 85質量％液：35ml、酸ィ匕クロム（IV) : 20gを 1Lの水に溶解して作製）に浸 積し、酸化被膜を溶解し、板の被覆溶解前後の質量変化測定等から求められる。
[0062] 陽極酸化処理された支持体は、必要に応じ封孔処理を施してもよい。これら封孔処 理は、熱水処理、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸アルカリ金属塩ゃ珪酸ソーダ処理 、重クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモ-ゥム処理等公知の方法を 用いて行うことができる。さらに、本発明では、これらの処理を行った後に、ポリビニル ホスホン酸で支持体表面を被覆する処理を行うことができる。被覆処理としては、塗 布式、スプレー式、ディップ式等限定されないが、設備を安価にするにはディップ式 が好適である。ディップ式の場合には、ポリビュルホスホン酸を 0. 05〜3質量％の水 溶液で処理することが好ましい。処理温度は 20〜90°C、処理時間は 10〜180秒が 好ましい。処理後、過剰に積層したポリビュルホスホン酸を除去するため、スキージ 処理または水洗処理を行うことが好ましい。さらに乾燥処理を行うことが好ましい。乾 燥温度としては、 20〜95°Cが好ましい。アルミニウム支持体表面のポリビュルホスホ ン酸の被覆量は 3〜15mgZm2であることが好ましぐさらに 3. 5〜10mgZm2が好 ましい。ポリビニルホスホン酸水溶液濃度、処理温度、処理時間を種々組み合わせ、 所望の被覆量を得ることができる。
[0063] (光重合開始剤）
本発明においては、感光性平版印刷版として、光重合性感光層を有する重合系感 光性平版印刷版が好ましく用いられる。
[0064] 光重合性感光層を有する重合系平版印刷版材料に好ましく用いることができる光 重合開始剤としては、下記一般式 (2)、 （3)で表される臭素化合物、チタノセンィ匕合 物、モノアルキルトリアリールボレートイ匕合物、鉄アレーン錯体ィ匕合物が挙げられる。
[0065] 一般式（2) R1— CBr—（C = 0)— R2
2
式中、 R1は水素原子、臭素原子、アルキル基、ァリール基、ァシル基、アルキルス ルホ-ル基、ァリールスルホ-ル基、シァノ基を表す。 R2は一価の置換基を表す。 R1 と R2が結合して環を形成しても力まわな!/、。
[0066] R1で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、ェチル基、プロピル基、イソ プロピル基、 tert—ブチル基、ペンチル基、へキシル基、ォクチル基、ドデシル基、ト リデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げら、ァリール基としては、例え ば、フエ-ル基、ナフチル基等が挙げら、ァシル基としては、例えば、ァセチル基、ェ チルカルボ-ル基、プロピルカルボ-ル基、ペンチルカルボ-ル基、シクロへキシル カルボ-ル基、ォクチルカルポ-ル基、 2—ェチルへキシルカルボ-ル基、ドデシル カルボ-ル基、フヱ-ルカルボ-ル基、ナフチルカルボ-ル基、ピリジルカルボ-ル 基等が挙げられ、アルキルスルホ-ル基としては、例えば、メチルスルホ -ル基、ェ チルスルホ-ル基、ブチルスルホ -ル基、シクロへキシルスルホ -ル基、 2—ェチル へキシルスルホ -ル基、ドデシルスルホ -ル基等が挙げら、ァリールスルホ-ル基と しては、フエ-ルスルホ-ル基、ナフチルスルホ-ル基、 2—ピリジルスルホ-ル基等 が挙げられる。
[0067] R2で表される一価の置換基としては、前記一般式（1)の Rで表される置換基を有し
1
てもよ 、分岐型アルキル基置換基と同義である。
[0068] 一般式（3) CBr—(C = 0)—X—R3
3
式中、 R3は一価の置換基を表す。 Xは— O—、— NR4—を表す。 R4は、水素原子、 アルキル基を表す。 R3と R4が結合して環を形成しても力まわな 、。
[0069] R3で表される一価の置換基としては、前記一般式（2)の R2で表される一価の置換 基と同義である。
[0070] R4で表されるアルキル基としては、前記一般式（2)の R1で表されるアルキル基と同 義である。
[0071] 一般式 (2)、（3)で表される化合物の具体例として、下記の化合物が挙げられるが
、これに限定されるものではない。
[0072] [化 2] /v:u O s/-8so/-ooifcl£ 9ss/-00iAV
〕ε0
Figure imgf000019_0001
[0075] [化 5]
BrO01 BrO02 BrO03
BrH2：
Figure imgf000020_0001
BrO04 BrO05
Figure imgf000020_0002
BrO06 BrO07
CBr3
Figure imgf000020_0003
[0076] [化 6]
Figure imgf000020_0004
[0077] チタノセンィ匕合物としては、特開昭 63— 41483号、特開平 2— 291号に記載される 化合物等が挙げられる力 さらに好ましい具体例としては、ビス（シクロペンタジェ二 ル） Ti—ジ一クロライド、ビス（シクロペンタジェ -ル） Ti—ビス一フエ-ル、ビス（ シクロペンタジェ -ル） Ti—ビス一 2, 3, 4, 5, 6 ペンタフルォロフエ-ル、ビス（ シクロペンタジェ -ル） Ti—ビス一 2, 3, 5, 6—テトラフルオロフェ-ル、ビス（シク 口ペンタジェ -ル） Ti—ビス一 2, 4, 6 トリフノレオロフェ-ル、ビス（シクロペンタジ ェ -ル） Ti—ビス一 2, 6 ジフルオロフェ -ル、ビス（シクロペンタジェ -ル） Ti —ビス一 2, 4 ジフルオロフェ -ル、ビス（メチルシクロペンタジェ -ル） Ti—ビス - 2, 3, 4, 5, 6 ペンタフルォロフエ-ル、ビス（メチルシクロペンタジェ -ル） Ti ビス 2, 3, 5, 6—テトラフルオロフェ-ル、ビス（メチルシクロペンタジェ -ル） Ti ビス— 2, 6 ジフルオロフェニル（IRUGACURE727L：チバスべシャリティー ケミカルズ社製）、ビス（シクロペンタジェ -ル） ビス（2, 6 ジフルォロ 3 (ピリ - 1—ィル）フエ-ル）チタニウム（IRUGACURE784：チバスべシャリティーケミカル ズ社製）、ビス（シクロペンタジェ -ル） ビス（2, 4, 6 トリフルォロ 3 (ピリ一 1— ィル）フエ-ル）チタニウムビス（シクロペンタジェ -ル）一ビス（2, 4, 6 トリフルォロ — 3— (2— 5 ジメチルピリ 1—ィル）フエ-ル）チタニウム等が挙げられる。
[0078] モノアルキルトリアリールボレートイ匕合物としては、特開昭 62— 150242号、特開昭
62— 143044号に記載される化合物等挙げられる力 さらに好ましい具体例としては 、テトラー n—ブチルアンモ -ゥム n—ブチルートリナフタレン 1ーィルーボレート、 テトラー n—ブチルアンモ -ゥム n—ブチルートリフエ二ルーボレート、テトラー n—ブ チルアンモ -ゥム n—ブチルートリー（4 tert ブチルフエニル）ーボレート、テトラ —n—ブチルアンモ -ゥム n—へキシルートリ—（3—クロ口— 4—メチルフエ-ル） ボレート、テトラ一 n—ブチルアンモ -ゥム n—へキシルートリ一（3—フルオロフェ- ル）ーボレート等が挙げられる。
[0079] 鉄アレーン錯体ィ匕合物としては、特開昭 59— 219307号に記載される化合物等挙 げられる力 さらに好ましい具体例としては、 7}—ベンゼン一（7}—シクロペンタジェ -ル）鉄へキサフルォロホスフェート、 一クメン一（η—シクロペンタジェ -ル）鉄へ キサフルォロホスフェート、 η—フルオレン一（ —シクロペンタジェ -ル）鉄へキサフ ルォロホスフェート、 7}—ナフタレン一（7}—シクロペンタジェ -ル）鉄へキサフルォロ ホスフェート、 η—キシレン一（ —シクロペンタジェ -ル）鉄へキサフルォロホスフエ ート、 η ベンゼン一（ηーシクロペンタジェ -ル）鉄テトラフルォロボレート等が挙げ られる。 [0080] その他に任意の光重合開始剤の併用が可能である。例え «J.コーサ一 (J. Kosar )著「ライト ·センシティブ ·システムズ」第 5章に記載されるようなカルボ-ルイ匕合物、 有機硫黄化合物、過硫化物、レドックス系化合物、ァゾ並びにジァゾィ匕合物、ハロゲ ン化合物、光還元性色素等が挙げられる。さらに具体的な化合物は英国特許 1, 45 9, 563号【こ開示されて!ヽる。
[0081] 即ち、併用が可能な光重合開始剤としては、次のようなものを使用することができる
[0082] ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン— i プロピルエーテル、 α , α—ジメトキシ
- a—フエ-ルァセトフエノン等のベンゾイン誘導体；ベンゾフエノン、 2, 4 ジクロロ ベンゾフエノン、 o ベンゾィル安息香酸メチル、 4, 4' ビス（ジメチルァミノ）ベンゾ フエノン等のベンゾフエノン誘導体； 2—クロ口チォキサントン、 2— i プロピルチォキ サントン等のチォキサントン誘導体； 2—クロ口アントラキノン、 2—メチルアントラキノン 等のアントラキノン誘導体； N メチルアタリドン、 N -ブチルアタリドン等のアタリドン 誘導体； α , a—ジェトキシァセトフェノン、ベンジル、フルォレノン、キサントン、ゥラ ニノレイ匕合物の他、特公日召 59— 1281号、同 61— 9621号ならびに特開日召 60— 601 04号記載のトリァジン誘導体;特開昭 59— 1504号、同 61— 243807号記載の有機 過酸ィ匕物；特公昭 43— 23684号、同 44— 6413号、同 44— 6413号、同 47— 160 4号ならびに米国特許 3, 567, 453号記載のジァゾ -ゥム化合物；米国特許 2, 848 , 328号、同 2, 852, 379号ならびに同 2, 940, 853号記載の有機アジドィ匕合物； 特公昭 36— 22062b号、同 37— 13109号、同 38— 18015号ならびに同 45— 961 0号記載の o -キノンジアジド類；特公昭 55— 39162号、特開昭 59— 14023号なら びに「マクロモレキュルス (Macromolecules)」 10卷， 1307頁（1977年）記載の各 種ォ -ゥム化合物；特開昭 59— 142205号記載のァゾィ匕合物；特開平 1— 54440号 、ヨーロッパ特許 109, 851号、同 126, 712号ならびに「ジャーナル'ォブ 'イメージ ング.サイエンス (J. Imag. Sci. )」30卷， 174頁（1986年）記載の金属アレーン錯 体；特開平 5 - 213861号及び同 05 - 255347号記載の（ォキソ)スルホ -ゥム有機 硼素錯体；「コーディネーション 'ケミストリ^ ~ ·レビュー（Coordination Chemistry Review)」84卷， 85〜277頁）（1988年）ならびに特開平 2— 182701号記載のル テ-ゥム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体；特開平 3 - 209477号記載の 2, 4 , 5 トリアリールイミダゾールニ量体；四臭化炭素、特開昭 59— 107344号記載の 有機ハロゲンィ匕合物、等。
[0083] これら光重合開始剤の配合量は特に限定されないが、好ましくは、付加重合または 架橋可能な化合物 100質量％に対して 0. 1〜20質量％である。
[0084] 光源にレーザ光を用いる場合、好ましくは感光層に増感色素を添加する。光源の 波長付近に吸収極大波長を有する色素を用いることが好まし 、。
[0085] 可視光力 近赤外まで波長増感させる化合物としては、例えばシァニン、フタロシ ァニン、メロシア-ン、ポルフィリン、スピロ化合物、フエ口セン、フルオレン、フルギド、 イミダゾール、ペリレン、フエナジン、フエノチアジン、ポリェン、ァゾ化合物、ジフエ- ルメタン、トリフエ-ルメタン、ポリメチンアタリジン、クマリン、クマリン誘導体、ケトクマリ ン、キナクリドン、インジゴ、スチリル、ピリリウム化合物、ピロメテン化合物、ピラゾ口トリ ァゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、バルビツール酸誘導体、チォバルビッ ール酸誘導体等、ケトアルコールボレート錯体が挙げられ、さらに欧州特許第 568, 993号、米国特許第 4, 508, 811号、同第 5, 227, 227号、特開 2001— 125255 号、特開平 11 271969号等に記載の化合物も用いられる。
[0086] 上記の光重合開始剤と増感色素の組合せの具体例としては、特開 2001— 12525 5号、特開平 11― 271969号に記載のある組合せが挙げられる。
[0087] さらに、増感色素としては、クマリン系の色素を用いることができる。好ましいクマリン の構造は、下記一般式 (4)で表される。
[0088] [化 7]
—般式 (4)
Figure imgf000023_0001
式中、！^〜 は、置換基を表し、置換基としてはアルキル基 (例えば、メチル基、ェ チル基、プロピル基、イソプロピル基、 tert ブチル基、ペンチル基、へキシル基、ォ クチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等）、シクロア ルキル基 (例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基等）、ァルケ-ル基 (例えば、 ビュル基、ァリル基等）、アルキニル基 (例えば、ェチニル基、プロパルギル基等）、ァ リール基 (例えば、フ -ル基、ナフチル基等）、ヘテロァリール基 (例えば、フリル基 、チェニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ビラジル基、トリアジル基、イミ ダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾォキサゾリル基 、キナゾリル基、フタラジル基等）、ヘテロ環基 (例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル 基、モルホリル基、ォキサゾリジル基等）、アルコキシ基 (例えば、メトキシ基、エトキシ 基、プロピルォキシ基、ペンチルォキシ基、へキシルォキシ基、ォクチルォキシ基、ド デシルォキシ基等）、シクロアルコキシ基 (例えば、シクロペンチルォキシ基、シクロへ キシルォキシ基等）、ァリールォキシ基 (例えば、フエノキシ基、ナフチルォキシ基等） 、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、ェチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチル チォ基、へキシルチオ基、ォクチルチオ基、ドデシルチオ基等）、シクロアルキルチオ 基 (例えば、シクロペンチルチオ基、シクロへキシルチオ基等）、ァリールチオ基 (例え ば、フエ-ルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルコキシカルボ-ル基 (例えば、メチル ォキシカルボニル基、ェチルォキシカルボニル基、ブチルォキシカルボニル基、オタ チルォキシカルボ-ル基、ドデシルォキシカルボ-ル基等）、ァリールォキシカルボ -ル基（例えば、フエ-ルォキシカルボ-ル基、ナフチルォキシカルボ-ル基等）、ス ルファモイル基（例えば、アミノスルホ -ル基、メチルアミノスルホ -ル基、ジメチルアミ ノスルホ -ル基、ブチルアミノスルホ -ル基、へキシルアミノスルホ -ル基、シクロへキ シルアミノスルホ -ル基、ォクチルアミノスルホ -ル基、ドデシルアミノスルホ-ル基、 フエ-ルアミノスルホ -ル基、ナフチルアミノスルホ -ル基、 2—ピリジルアミノスルホ- ル基等）、ァシル基（例えば、ァセチル基、ェチルカルボ-ル基、プロピルカルボ-ル 基、ペンチルカルボ-ル基、シクロへキシルカルボ-ル基、ォクチルカルポ-ル基、 2 ェチルへキシルカルボ-ル基、ドデシルカルポ-ル基、フエ-ルカルポ-ル基、ナ フチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等）、ァシルォキシ基 (例えば、ァセチル ォキシ基、ェチルカルボニルォキシ基、ブチルカルボニルォキシ基、ォクチルカルボ -ルォキシ基、ドデシルカルボ-ルォキシ基、フエ-ルカルポ-ルォキシ基等）、アミ ド基（例えば、メチルカルボ-ルァミノ基、ェチルカルボ-ルァミノ基、ジメチルカルボ -ルァミノ基、プロピルカルボ-ルァミノ基、ペンチルカルボ-ルァミノ基、シクロへキ シルカルボ-ルァミノ基、 2—ェチルへキシルカルボ-ルァミノ基、ォクチルカルボ- ルァミノ基、ドデシルカルポ-ルァミノ基、フエ-ルカルポ-ルァミノ基、ナフチルカル ボニルァミノ基等）、力ルバモイル基 (例えば、ァミノカルボ-ル基、メチルァミノカルボ -ル基、ジメチルァミノカルボ-ル基、プロピルアミノカルボ-ル基、ペンチルァミノ力 ルポ-ル基、シクロへキシルァミノカルボ-ル基、ォクチルァミノカルボ-ル基、 2—ェ チルへキシルァミノカルボ-ル基、ドデシルァミノカルボ-ル基、フエ-ルァミノカルボ -ル基、ナフチルァミノカルボ-ル基、 2—ピリジルァミノカルボニル基等）、ウレイド基 (例えば、メチルウレイド基、ェチルウレイド基、ペンチルゥレイド基、シクロへキシルゥ レイド基、ォクチルゥレイド基、ドデシルウレイド基、フエニルウレイド基、ナフチルウレ イド基、 2—ピリジルアミノウレイド基等）、スルフィエル基 (例えば、メチルスルフィエル 基、ェチルスルフィ-ル基、ブチルスルフィ-ル基、シクロへキシルスルフィ-ル基、 2 —ェチルへキシルスルフィ-ル基、ドデシルスルフィ-ル基、フエ-ルスルフィ -ル基 、ナフチルスルフィエル基、 2—ピリジルスルフィエル基等）、アルキルスルホ -ル基（ 例えば、メチルスルホ -ル基、ェチルスルホ -ル基、ブチルスルホ -ル基、シクロへ キシルスルホ -ル基、 2—ェチルへキシルスルホ -ル基、ドデシルスルホ -ル基等）、 ァリールスルホ -ル基（フエ-ルスルホ-ル基、ナフチルスルホ-ル基、 2—ピリジル スルホ -ル基等）、アミノ基 (例えば、アミノ基、ェチルァミノ基、ジメチルァミノ基、プチ ルァミノ基、シクロペンチルァミノ基、 2—ェチルへキシルァミノ基、ドデシルァミノ基、 ァ-リノ基、ナフチルァミノ基、 2—ピリジルァミノ基等）、ハロゲン原子 (例えば、フッ素 原子、塩素原子、臭素原子等)、シァノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、等が挙げられる。 これらの置換基は、上記の置換基によってさらに置換されていてもよい。また、これら の置換基は複数が互いに結合して環を形成して 、てもよ 、。
この中で、特に好まし!/、のは、 R5〖こァミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基 、ァリールアミノ基、ジァリールアミノ基、アルキルァリールアミノ基を有するクマリンで ある。この場合、ァミノ基に置換したアルキル基力
Figure imgf000025_0001
R6の置換基と環を形成してい るものも好ましく用 、ることができる。 さらに、 R1, R2のいずれ力 あるいは両方が、アルキル基（例えば、メチル基、ェチ ル基、プロピル基、イソプロピル基、 tert—ブチル基、ペンチル基、へキシル基、オタ チル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等）、シクロアル キル基 (例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基等）、ァルケ-ル基 (例えば、ビ -ル基、ァリル基等）、ァリール基 (例えば、フエ-ル基、ナフチル基等）、ヘテロァリ ール基 (例えば、フリル基、チェニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ビラ ジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル 基、ベンゾォキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等）、ヘテロ環基 (例えば、ピ 口リジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、ォキサゾリジル基等）、アルコキシカルボ -ル基（例えば、メチルォキシカルボ-ル基、ェチルォキシカルボ-ル基、ブチルォ キシカルボ-ル基、ォクチルォキシカルボ-ル基、ドデシルォキシカルボ-ル基等） 、ァリールォキシカルボ-ル基（例えば、フエ-ルォキシカルボ-ル基、ナフチルォキ シカルボ-ル基等）、ァシル基（例えば、ァセチル基、ェチルカルボ-ル基、プロピル カルボ-ル基、ペンチルカルボ-ル基、シクロへキシルカルボ-ル基、ォクチルカル ボ-ル基、 2—ェチルへキシルカルボ-ル基、ドデシルカルポ-ル基、フエニルカル ボニル基、ナフチルカルボ-ル基、ピリジルカルボ-ル基等）、ァシルォキシ基 (例え ば、ァセチルォキシ基、ェチルカルボ-ルォキシ基、ブチルカルボ-ルォキシ基、ォ クチルカルボ-ルォキシ基、ドデシルカルボ-ルォキシ基、フエ-ルカルポ-ルォキ シ基等）、力ルバモイル基 (例えば、ァミノカルボニル基、メチルァミノカルボ-ル基、 ジメチルァミノカルボ-ル基、プロピルアミノカルボ-ル基、ペンチルァミノカルボ-ル 基、シクロへキシルァミノカルボ-ル基、ォクチルァミノカルボ-ル基、 2—ェチルへキ シルァミノカルボ-ル基、ドデシルァミノカルボ-ル基、フエ-ルァミノカルボ-ル基、 ナフチルァミノカルボ-ル基、 2—ピリジルァミノカルボ-ル基等）、スルフィエル基（ 例えば、メチルスルフィエル基、ェチルスルフィ-ル基、ブチルスルフィ-ル基、シク 口へキシルスルフィ-ル基、 2—ェチルへキシルスルフィ-ル基、ドデシルスルフィ- ル基、フヱニルスルフィ-ル基、ナフチルスルフィ-ル基、 2—ピリジルスルフィエル基 等）、アルキルスルホ -ル基（例えば、メチルスルホ -ル基、ェチルスルホ -ル基、ブ チルスルホ-ル基、シクロへキシルスルホ -ル基、 2—ェチルへキシルスルホ -ル基 、ドデシルスルホ -ル基等）、ァリールスルホ -ル基（フエ-ルスルホ-ル基、ナフチ ルスルホニル基、 2—ピリジルスルホ -ル基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、 塩素原子、臭素原子等）、シァノ基、ニトロ基、ハロゲンィ匕アルキル基（トリフルォロメ チル基、トリブロモメチル基、トリクロロメチル基等）であるとさらに好ましい。
[0092] 好ましいクマリン系の色素の具体例として、下記の化合物が挙げられる力 これに 限定するものではない。
[0093] [化 8]
Figure imgf000028_0001
Figure imgf000029_0001
[0095] 上記具体例の他に、特開平 8— 129258号の B—1から B— 22のクマリン誘導体、 特開 2003— 21901号の D— 1力ら D— 32のクマジン誘導体、特開 2002— 363206 号の 1力ら 21のクマリン誘導体、特開 2002— 363207号の 1力ら 40のクマリン誘導 体、特開 2002— 363208号の 1力も 34のクマリン誘導体、特開 2002— 363209号 の 1から 56のクマリン誘導体等も好ましく使用可能である。
[0096] 増感色素として使用するクマリン系の色素の、感光層中への添加量は、記録光源 波長における、版面の反射濃度が、 0. 1〜1. 2の範囲となる量であることが好ましい 。この範囲となる、該色素の感光層中における質量比は、各色素の分子吸光係数と 、感光層中における結晶性の程度により、大幅に異なる力 一般的には、 0. 5〜10 質量％の範囲であることが多 、。
[0097] 光重合開始剤と増感色素の配合比率は、モル比で 1： 100〜100： 1の範囲が好ま しい。
[0098] (付加重合可能なエチレン性不飽和結合を含有する化合物）
付加重合可能なエチレン性不飽和結合を含有する化合物としては、一般的なラジ カル重合性のモノマー類、紫外線硬化榭脂に一般的に用 ヽられる分子内に付加重 合可能なエチレン性二重結合を複数有する多官能モノマー類や、多官能オリゴマー 類を用いることができる。該化合物に限定はないが、好ましいものとして、例えば、 2 ェチルへキシルアタリレート、 2—ヒドロキシプロピルアタリレート、グリセロールアタリ レート、テトラヒドロフルフリルアタリレート、フエノキシェチルアタリレート、ノユルフェノ キシェチルアタリレート、テトラヒドロフルフリルォキシェチルアタリレート、テトラヒドロフ ルフリルォキシへキサノリドアタリレート、 1, 3 ジォキサンアルコールの ε 一力プロラ タトン付加物のアタリレート、 1 , 3 ジォキソランアタリレート等の単官能アクリル酸ェ ステル類、あるいはこれらのアタリレートをメタタリレート、イタコネート、クロトネート、マ レエートに代えたメタクリル酸、ィタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル、例えば、 エチレングリコールジアタリレート、トリエチレンダルコールジアタリレート、ペンタエリス リトーノレジアタリレート、ハイド口キノンジアタリレート、レゾルシンジアタリレート、へキサ ンジオールジアタリレート、ネオペンチルグリコールジアタリレート、トリプロピレングリコ ールジアタリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのジアタリレート、ネ ォペンチルグリコールアジペートのジアタリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチル グリコーノレの ε 一力プロラタトン付カ卩物のジアタリレート、 2—（2—ヒドロキシ 1, 1 ジメチルェチル）ー5 ヒドロキシメチルー 5 ェチルー 1, 3 ジォキサンジアタリレ ート、トリシクロデカンジメチロールアタリレート、トリシクロデカンジメチロールアタリレ ートの ε—力プロラタトン付カ卩物、 1, 6 へキサンジオールのジグリシジルエーテル のジアタリレート等の 2官能アクリル酸エステル類、あるいはこれらのアタリレートをメタ タリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、ィタコン酸、ク 口トン酸、マレイン酸エステル、例えばトリメチロールプロパントリアタリレート、ジトリメチ ロールプロパンテトラアタリレート、トリメチロールェタントリアタリレート、ペンタエリスリト ールトリアタリレート、ペンタエリスリトールテトラアタリレート、ジペンタエリスリトールテト ラアタリレート、ジペンタエリスリトールペンタアタリレート、ジペンタエリスリトールへキ サアタリレート、ジペンタエリスリトールへキサアタリレートの ε一力プロラタトン付カロ物 、ピロガロールトリアタリレート、プロピオン酸 'ジペンタエリスリトールトリアタリレート、プ ロピオン酸 'ジペンタエリスリトールテトラアタリレート、ヒドロキシピノくリルアルデヒド変 性ジメチロールプロパントリアタリレート等の多官能アクリル酸エステル酸、ある 、はこ れらのアタリレートをメタタリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタ クリル酸、ィタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル等を挙げることができる。
[0099] また、プレボリマーも上記同様に使用することができる。プレボリマーとしては、後述 するような化合物等が挙げることができ、また、適当な分子量のオリゴマーにアクリル 酸、またはメタクリル酸を導入し、光重合性を付与したプレボリマーも好適に使用でき る。これらプレボリマーは、 1種または 2種以上を併用してもよいし、上述の単量体及 び Ζまたはオリゴマーと混合して用いてもょ 、。
[0100] プレポリマーとしては、例えばアジピン酸、トリメリット酸、マレイン酸、フタル酸、テレ フタル酸、ハイミック酸、マロン酸、こはく酸、グルタール酸、ィタコン酸、ピロメリット酸 、フマル酸、グルタール酸、ピメリン酸、セバシン酸、ドデカン酸、テトラヒドロフタル酸 等の多塩基酸と、エチレングリコール、プロピレンダルコール、ジエチレングリコール、 プロピレンオキサイド、 1, 4 ブタンジオール、トリエチレングリコール、テトラエチレン グリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリス リトール、ソルビトール、 1, 6 へキサンジオール、 1, 2, 6 へキサントリオール等の 多価のアルコールの結合で得られるポリエステルに (メタ)アクリル酸を導入したポリエ ステルアタリレート類、例えば、ビスフエノール A ·ェピクロルヒドリン'（メタ）アクリル酸、 フエノールノボラック ·ェピクロルヒドリン ·（メタ）アクリル酸のようにエポキシ榭脂に (メタ )アクリル酸を導入したエポキシアタリレート類、例えば、エチレングリコール 'アジピン 酸'トリレンジイソシァネート · 2—ヒドロキシェチルアタリレート、ポリエチレングリコール 'トリレンジイソシァネート · 2—ヒドロキシェチルアタリレート、ヒドロキシェチルフタリル メタタリレート ·キシレンジイソシァネート、 l t 2—ポリブタジエングリコール 'トリレンジィ ソシァネート · 2—ヒドロキシェチルアタリレート、トリメチロールプロパン 'プロピレングリ コール'トリレンジイソシァネート · 2—ヒドロキシェチルアタリレートのように、ウレタン榭 脂に (メタ)アクリル酸を導入したウレタンアタリレート、例えば、ポリシロキサンアタリレ ート、ポリシロキサン'ジイソシァネート · 2—ヒドロキシェチルアタリレート等のシリコー ン榭脂アタリレート類、その他、油変性アルキッド榭脂に (メタ)アタリロイル基を導入し たアルキッド変性アタリレート類、スピラン榭脂アタリレート類等のプレボリマーが挙げ られる。
[0101] 感光性平版印刷版が有する感光層には、ホスファゼンモノマー、トリエチレングリコ ール、イソシァヌール酸 EO (エチレンォキシド）変性ジアタリレート、イソシァヌール酸 EO変性トリアタリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアタリレート、トリメチロールプ 口パンアクリル酸安息香酸エステル、アルキレングリコールタイプアクリル酸変性、ウレ タン変性アタリレート等の単量体及び該単量体力ゝら形成される構成単位を有する付 加重合性のオリゴマー及びプレボリマーを含有することができる。
[0102] さらに、併用可能なエチレン性単量体として、少なくとも一つの (メタ）アタリロイル基 を含有するリン酸エステル化合物が挙げられる。該化合物は、リン酸の水酸基の少な くとも一部がエステルイ匕された化合物であり、しかも、（メタ)アタリロイル基を有する限 り特に限定はされない。
[0103] その他に、特開昭 58— 212994号、同 61— 6649号、同 62— 46688号、同 62— 48589号、同 62— 173295号、同 62— 187092号、同 63— 67189号、特開平 1— 244891号等に記載の化合物等を挙げることができ、さらに「11290の化学商品」ィ匕 学工業日報社、 p. 286〜294に記載の化合物、「UV'EB硬化ハンドブック (原料編 )」高分子刊行会、 Ρ. 11〜65に記載の化合物等も本発明においては好適に用いる ことができる。これらの中で、分子内に 2以上のアクリル基またはメタクリル基を有する 化合物が本発明においては好ましぐさらに分子量が 10, 000以下、より好ましくは 5 , 000以下のものが好ましい。
[0104] また、本発明では、分子内に三級アミノ基を含有する付加重合可能なエチレン性二 重結合含有単量体を使用することが好ましい。構造上の限定は特にないが、水酸基 を有する三級アミン化合物を、グリシジルメタタリレート、メタクリル酸クロリド、アクリル 酸クロリド等で変性したものが好ましく用いられる。具体的には、特開平 1— 165613 号、特開平 1 203413号、特開平 1 197213号記載の集合可能な化合物等が好 ましく用いられる。
[0105] さらに、本発明では、分子内に三級アミノ基を含有する多価アルコール、ジイソシァ ネートィヒ合物、及び分子内にヒドロキシル基と付加重合可能なエチレン性二重結合 を含有する化合物の反応生成物を使用することが好まし ヽ。
[0106] ここで言う、分子内に三級アミノ基を含有する多価アルコールとしては、トリエタノー ルァミン、 N—メチルジェタノールァミン、 N ェチルジェタノールァミン、 N—n—ブ チルジエタノールァミン、 N— tert. —ブチルジェタノールァミン、 N, N ジ（ヒドロキ シェチル）ァニリン、 N, N, N' , N' —テトラ一 2—ヒドロキシプロピルエチレンジアミ ン、 p—トリルジエタノールァミン、 N, N, N' , N' —テトラー 2—ヒドロキシェチルェ チレンジァミン、 N, N ビス（2—ヒドロキシプロピル）ァ-リン、ァリルジエタノールアミ ン、 3 （ジメチルァミノ） 1, 2 プロパンジオール、 3 ジェチルアミノー 1, 2 プ 口パンジオール、 N, N ジ（n—プロピル）アミノー 2, 3 プロパンジオール、 N, N ージ（iso プロピル）アミノー 2, 3 プロパンジオール、 3—（?^ーメチルー？^ーべン ジルァミノ） 1, 2—プロパンジオール等が挙げられる力 これに限定されない。
[0107] ジイソシァネートイ匕合物としては、ブタン 1, 4ージイソシァネート、へキサン 1, 6 —ジイソシァネート、 2—メチルペンタン一 1, 5 ジイソシァネート、オクタン一 1, 8- ジイソシァネート、 1, 3 ジイソシアナ一トメチル一シクロへキサノン、 2, 2, 4 トリメ チノレへキサン— 1, 6 ジイソシァネート、イソホロンジイソシァネート、 1, 2 フエ-レ ンジイソシァネート、 1, 3 フエ-レンジイソシァネート、 1, 4 フエ-レンジイソシァ ネート、トリレン 2, 4 ジイソシァネート、トリレン 2, 5 ジイソシァネート、トリレン —2, 6 ジイソシァネート、 1, 3 ジ (イソシアナ一トメチル）ベンゼン、 1, 3 ビス（1 イソシアナ一トー 1ーメチルェチル)ベンゼン等が挙げられる力 これに限定されな い。分子内にヒドロキシル基と付加重合可能なエチレン性二重結合を含有する化合 物としては、好ましくは、 2—ヒドロキシェチルメタタリレート、 2—ヒドロキシェチルアタリ レート、 4ーヒドロキシブチルアタリレート、 2 ヒドロキシプロピレン 1, 3 ジメタタリ レート、 2 ヒドロキシプロピレン一 1—メタタリレート一 3—アタリレート等が挙げられる
[0108] これらの反応は、通常のジオール化合物、ジイソシァネートイ匕合物、ヒドロキシル基 含有アタリレート化合物の反応で、ウレタンアタリレートを合成する方法と同様に行うこ とがでさる。
[0109] また、これらの分子内に三級アミノ基を含有する多価アルコール、ジイソシァネート 化合物、及び分子内にヒドロキシル基と付加重合可能なエチレン性二重結合を含有 する化合物の反応生成物の具体例を以下に示す。
[0110] M—1 :トリエタノールァミン（1モル）、へキサン一 1, 6 ジイソシァネート（3モル）、 2 ヒドロキシェチルメタタリレート（3モル）の反応生成物
M— 2 :トリエタノールァミン（1モル）、イソホロンジイソシァネート（3モル）、 2 ヒドロ キシェチルアタリレート（3モル）の反応生成物
M— 3 : N—n—ブチルジェタノールァミン（1モル）、 1, 3 ビス（1 イソシアナ一ト - 1—メチノレエチノレ）ベンゼン（2モノレ）、 2—ヒドロキシプロピレン一 1—メタタリレート 3 アタリレート（2モル）の反応生成物
M—4 :N—n—ブチルジェタノールァミン（lモル）、 1, 3 ジ（イソシアナ一トメチル )ベンゼン（2モノレ）、 2 ヒドロキシプロピレン一 1—メタタリレート一 3—アタリレート（2 モル）の反応生成物
M— 5 :N—メチルジェタノールァミン（1モル）、トリレン一 2, 4 ジイソシァネート（2 モル）、 2 ヒドロキシプロピレン 1, 3 ジメタタリレート（2モル）の反応生成物 この他にも、特開平 1 105238号、同 2— 127404号記載の、アタリレートまたは アルキルアタリレートが用いることができる。
[0111] (高分子結合材）
高分子結合材としては、アクリル系重合体、ポリビュルプチラール榭脂、ポリウレタ ン榭脂、ポリアミド榭脂、ポリエステル榭脂、エポキシ榭脂、フエノール榭脂、ポリカー ボネート榭脂、ポリビュルブチラール榭脂、ポリビュルホルマール榭脂、シェラック、そ の他の天然榭脂等が使用できる。また、これらを 2種以上併用しても力まわない。 [0112] アクリル系のモノマーの共重合によって得られるビニル系共重合が好ましい。さらに 、高分子結合材の共重合組成として、（a)カルボキシル基含有モノマー、 （b)メタタリ ル酸アルキルエステル、またはアクリル酸アルキルエステルの共重合体であることが 好ましい。
[0113] カルボキシル基含有モノマーの具体例としては、 α , j8—不飽和カルボン酸類、例 えばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、ィタコン酸、無水ィタコン 酸等が挙げられる。その他、フタル酸と 2—ヒドロキシメタタリレートのハーフエステル 等のカルボン酸も好まし 、。
[0114] メタクリル酸アルキルエステル、アクリル酸アルキルエステルの具体例としては、メタ クリル酸メチル、メタクリル酸ェチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタク リル酸ァミル、メタクリル酸へキシル、メタクリル酸へプチル、メタクリル酸ォクチル、メタ クリル酸ノニル、メタクリル酸デシル、メタクリル酸ゥンデシル、メタクリル酸ドデシル、ァ クリル酸メチル、アクリル酸ェチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸 ァミル、アクリル酸へキシル、アクリル酸へプチル、アクリル酸ォクチル、アクリル酸ノ- ル、アクリル酸デシル、アクリル酸ゥンデシル、アクリル酸ドデシル等の無置換アルキ ルエステルの他、メタクリル酸シクロへキシル、アクリル酸シクロへキシル等の環状ァ ルキルエステルや、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸 2—クロロェチル、 N, N ジ メチルアミノエチルメタタリレート、グリシジルメタタリレート、アクリル酸ベンジル、アタリ ル酸ー2—クロロェチル、 N, N ジメチルアミノエチルアタリレート、グリシジルアタリ レート等の置換アルキルエステルも挙げられる。
[0115] さらに、高分子結合材は、他の共重合モノマーとして、下記（1)〜（14)に記載のモ ノマ一等を用いることができる。
[0116] (1)芳香族水酸基を有するモノマー、例えば o— (または ρ- , m—)ヒドロキシスチ レン、 o— (または p— , m—)ヒドロキシフエ-ルアタリレート等。
[0117] (2)脂肪族水酸基を有するモノマー、例えば 2 ヒドロキシェチルアタリレート、 2- ヒドロキシェチルメタタリレート、 N—メチロールアクリルアミド、 N—メチロールメタタリ ルアミド、 4ーヒドロキシブチルメタタリレート、 5—ヒドロキシペンチルアタリレート、 5— ヒドロキシペンチルメタタリレート、 6—ヒドロキシへキシルアタリレート、 6—ヒドロキシへ キシルメタタリレート、 N— (2—ヒドロキシェチル）アクリルアミド、 N— (2—ヒドロキシェ チル)メタクリルアミド、ヒドロキシェチルビ-ルエーテル等。
[0118] (3)アミノスルホ-ル基を有するモノマー、例えば m— (または p ）アミノスルホ -ル フエ-ルメタタリレート、 m— (または p—)アミノスルホユルフェ-ルアタリレート、 N— ( p -アミノスルホ -ルフエ-ル）メタクリルアミド、 N— (p アミノスルホ -ルフエ-ル）ァ クリルアミド等。
[0119] (4)スルホンアミド基を有するモノマー、例えば N— (p—トルエンスルホ -ル）アタリ ルアミド、 N— (p トルエンスルホ -ル)メタクリルアミド等。
[0120] (5)アクリルアミドまたはメタクリルアミド類、例えばアクリルアミド、メタクリルアミド、 N ェチルアクリルアミド、 N キシルアクリルアミド、 N シクロへキシルアクリルアミ ド、 N フエ-ルアクリルアミド、 N— (4— -トロフエ-ル）アクリルアミド、 N—ェチルー N フエ-ルアクリルアミド、 N— (4—ヒドロキシフエ-ル）アクリルアミド、 N— (4—ヒド ロキシフエ-ル)メタクリルアミド等。
[0121] (6)弗化アルキル基を含有するモノマー、例えばトリフルォロェチルアタリレート、トリ フルォロェチルメタタリレート、テトラフルォロプロピルメタタリレート、へキサフルォロプ 口ピルメタタリレート、ォクタフルォロペンチルアタリレート、ォクタフルォロペンチルメタ タリレート、ヘプタデカフルォロデシルメタタリレート、 N ブチルー N— (2—アタリ口 キシェチル）ヘプタデカフルォロォクチルスルホンアミド等。
[0122] (7)ビュルエーテル類、例えば、ェチルビ-ルエーテル、 2 クロロェチルビ-ルェ ーテノレ、プロピノレビニノレエーテノレ、ブチノレビニノレエーテノレ、オタチノレビニノレエーテノレ
、フエ-ルビ-ルエーテル等。
[0123] (8)ビュルエステル類、例えばビュルアセテート、ビニルクロ口アセテート、ビュルブ チレート、安息香酸ビニル等。
[0124] (9)スチレン類、例えばスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等。
[0125] (10)ビ-ルケトン類、例えばメチルビ-ルケトン、ェチルビ-ルケトン、プロピルビ- ルケトン、フエ-ルビ-ルケトン等。
[0126] (11)ォレフィン類、例えばエチレン、プロピレン、 iーブチレン、ブタジエン、イソプレ ン等。 [0127] (12) N ビュルピロリドン、 N ビュルカルバゾール、 4 ビュルピリジン等。
[0128] (13)シァノ基を有するモノマー、例えばアクリロニトリル、メタタリ口-トリル、 2 ペン テン-トリル、 2—メチル 3 ブテン-トリル、 2 シァノエチルアタリレート、 o— (ま たは m— , p—)シァノスチレン等。
[0129] (14)アミノ基を有するモノマー、例えば N, N ジェチルアミノエチルメタタリレート
、 N, N—ジメチルアミノエチルアタリレート、 N, N—ジメチルアミノエチルメタクリレー ト、ポリブタジエンウレタンアタリレート、 N, N ジメチルァミノプロピルアクリルアミド、
N, N ジメチルアクリルアミド、アタリロイルモルホリン、 N—i—プロピルアクリルアミド
、 N, N ジェチルアクリルアミド等。
[0130] さらにこれらのモノマーと共重合し得る他のモノマーを共重合してもよい。
[0131] さらに、上記ビニル系共重合体の分子内に存在するカルボキシル基に、分子内に（ メタ)アタリロイル基とエポキシ基を有する化合物を付加反応させることによって得られ る、不飽和結合含有ビュル系共重合体も高分子結合材として好ましい。分子内に不 飽和結合とエポキシ基を共に含有する化合物としては、具体的にはグリシジルアタリ レート、グリシジルメタタリレート、特開平 11— 271969号に記載のあるエポキシ基含 有不飽和化合物等が挙げられる。
[0132] これらの共重合体は、ゲルパーミエーシヨンクロマトグラフィー（GPC)によって測定 された重量平均分子量が 1万〜 20万であるものが好ましいが、この範囲に限定され るものではない。
[0133] 感光層中における高分子重合体の含有量は、 10〜90質量％の範囲が好ましぐ 1 5〜70質量％の範囲がさらに好ましぐ 20〜50質量％の範囲で使用することが感度 の面力 特に好ましい。
[0134] さらに榭脂の酸価については 10〜150の範囲で使用するのが好ましぐ 30〜120 の範囲がより好ましぐ 50〜90の範囲で使用すること力 感光層全体の極性のバラ ンスをとる観点力 特に好ましぐこれにより感光層塗布液での顔料の凝集を防ぐこと ができる。
[0135] これらの構成成分を含む光重合性感光層の支持体上の被覆量は、乾燥後の質量 で 0. l〜5gZm2が好ましぐ 0. 5〜3gZm2であればより好ましい。 [0136] (酸素遮断層）
本発明に係る平版印刷版材料には、光重合感光層の上に、酸素遮断層（オーバ 一コート層）を有することが好ましい。
[0137] 酸素遮断層には、酸素透過性の低い被膜を形成しうる水溶性ポリマーを使用する。
具体的には、ポリビュルアルコール、及びポリビュルピロリドンを含有する。ポリビニル アルコールは酸素の透過を抑制する効果を有し、ポリビニルピロリドンは、隣接する 感光層との接着性を確保する効果を有する。
[0138] 上記 2種のポリマーの他に、必要に応じ、ポリサッカライド、ポリエチレングリコール、 ゼラチン、膠、カゼイン、ヒドロキシェチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、 メチルセルロース、ヒドロキシェチル澱粉、アラビアゴム、サクローズオタタアセテート、 アルギン酸アンモ-ゥム、アルギン酸ナトリウム、ポリビュルァミン、ポリエチレンォキシ ド、ポリスチレンスルホン酸、ポリアクリル酸、水溶性ポリアミド等の水溶性ポリマーを 併用することちでさる。
[0139] 本発明に係る平版印刷版材料では、感光層とオーバーコート層間の剥離力が 0. 3 4NZcm以上であることが好ましぐより好ましくは 0. 49NZcm以上、さらに好ましく は 0. 74NZcm以上である。好ましいオーバーコート層の組成としては特開平 10— 10742号に記載されるものが挙げられる。
[0140] 剥離力は、オーバーコート層上に十分大きい粘着力を有する所定幅の粘着テープ を貼り、それを平版印刷版材料の平面に対して 90度の角度でオーバーコート層と共 に剥離する時の力を測定する。
[0141] オーバーコート層には、さらに必要に応じて界面活性剤、マット剤等を含有すること ができる。上記オーバーコート層組成物を適当な溶剤に溶解し感光層上に塗布、乾 燥してオーバーコート層を形成する。塗布溶剤の主成分は水、あるいはメタノール、 エタノール、 i—プロパノール等のアルコール類であることが特に好ましい。
[0142] オーバーコート層の被覆量は、乾燥後の質量で約 0. 1〜約 10g/m2の範囲が適 当である。より好ましくは 0. 3〜5gZm2である。さらに好ましくは 0. 5〜3gZm2であ る。
[0143] 本発明構成との糸且み合わせとして、特開平 11 065129号、同 11 065126号、 特開 2000— 206706号、同 2000— 081711号、同 2002— 091014号、同 2002
— 091015号、同 2002— 091016号、同 2002— 091017号、同 2002— 174907 号、同 2002— 182401号、同 2002— 196506号、同 2002— 196507号、同 2002
— 202616号、同 2002— 229187号、同 2002— 202615号、同 2002— 251019 号、同 2002— 365813号，同 2003— 029427号、同 2003— 021908号、同 2003
— 015318号、同 2003— 035960号、同 2003— 043693号、同 2003— 043701 号、同 2003— 043702号、同 2003— 043703号、等【こ記載されて ヽる版材、版面 保護剤、現像液の素材、自動現像機等、についても好適に用いることができる。 実施例
[0144] 以下に、本発明を具体的に示すが、本発明の実施態様は、これ等に限定されるも のでない。なお、実施例における「部」、「％」は、特に断りない限り「質量部」、「質量 %」を表す。
[0145] 実施例
(バインダーの合成）
〈アクリル系共重合体 1の合成〉
窒素気流下の三ッロフラスコに、メタクリル酸 30部、メタクリル酸メチル 50部、メタク リル酸ェチル 20部、イソプロピルアルコール 500部及び a a ' —ァゾビスイソブチ 口-トリル 3部を入れ、窒素気流中 80°Cのオイルバスで 6時間反応させた。その後、ィ ソプロピルアルコールの沸点で 1時間還流を行った後、トリェチルアンモ -ゥムクロラ イド 3部及びグリシジルメタタリレート 25部を加えて 3時間反応させ、アクリル系共重合 体 1を得た。 GPCを用いて測定した重量平均分子量は約 35, 000、 DSC (示差熱分 析法)を用いて測定したガラス転移温度 (Tg)は約 85°Cであった。
[0146] (支持体の作製）
厚さ 0. 3mmのアルミニウム板（材質 1050、調質 H16)を 65°Cに保った 5%水酸化 ナトリウム水溶液に浸漬し、 1分間の脱脂処理を行った後、水洗した。この脱脂アルミ -ゥム板を、 25°Cに保った 10%塩酸水溶液中に 1分間浸漬して中和した後、水洗し た。次いで、このアルミニウム板を、 0. 3%の硝酸水溶液中で、 25°C、電流密度 100 AZdm2の条件下に交流電流により 60秒間、電解粗面化を行った後、 60°Cに保った 5 %水酸化ナトリウム水溶液中で 10秒間のデスマット処理を行つた。デスマツト処理を 行った粗面化アルミニウム板を、 15%硫酸溶液中で、 25°C、電流密度 10AZdm2、 電圧 15 Vの条件下に 1分間陽極酸化処理を行!ヽ、さら〖こ 1 %ポリビュルホスホン酸で 75°Cで親水化処理を行って支持体を作製した。
[0147] この時、表面の中心線平均粗さ（Ra)は 0. 65 μ mであった。
[0148] 《平版印刷版材料の作製》
上記支持体上に、下記組成の光重合性感光層塗工液を乾燥時 1. 5gZm2になる ようワイヤーバーで塗布し、 95°Cで 1. 5分間乾燥し、光重合性感光層塗布試料を得 た。
[0149] (光重合性感光層塗工液）
付加重合可能なエチレン性二重結合含有単量体: M— 3 (前記） 25. 0部 付加重合可能なエチレン性二重結合含有単量体： NKエステル 4G (新中村化学社 製ポリエチレングリコールジメタタリレート） 25. 0部
光重合開始剤 I 1 2. 0部
光重合開始剤 I 2 2. 0部
光重合開始剤 BR22 1. 0部
光重合開始剤 BR43 1. 0部
分光増感色素 D— 5 (前記） 1. 5部
分光増感色素 D— 7 (前記） 1. 5部
アクリル系共重合体 1 40. 0部
N—フエ-ノレグリシンベンジノレエステノレ 4. 0部 フタロシアニン顔料 (MHI454 :御国色素社製） 6. 0部
2— t—ブチル 6— (3— t ブチル 2 ヒドロキシ一 5—メチルベンジル） 4— メチルフエ-ルアタリレート (スミライザ一 GS :住友 3M社製） 0. 5部
弗素系界面活性剤 (F— 178K;大日本インキ社製） 0. 5部 メチルェチルケトン 80部
シクロへキサノン 820言
[0150] [化 10]
Figure imgf000041_0001
Figure imgf000041_0002
[0151] 上記光重合感光層塗布試料上 下記組成の酸素遮断層塗工液を乾燥時 1. 8g
2
になるようになるようアプリケーターで塗布し、 75°Cで 1. 5分間乾燥して、感光 層上に酸素遮断層を有する平版印刷版材料を作製した。
[0152] (酸素遮断層塗工液）
ポリビュルアルコール (GL— 05：日本合成化学社製） 89部 水溶性ポリアミド (P— 70 :東レ社製） 10部
界面活性剤 (サーフィノール 465：日信化学工業社製） 0. 5部 水 900咅
《平版印刷版 la、 lbの作成》
このようにして作製した平版印刷版材料について、 FD— YAGレーザ光源を搭載し た CTP露光装置 (Tigercat： ECRM社製)を用いて 2400dpiの解像度で画像露光（ 露光パターンは、 100%画像部と、 175LPI 50%のスクェア一ドットを使用した）を 行った。なお、 dpiは 2. 54cm当たりのドット数を表す。また、別の平版印刷版材料に ついて、 408nm、 30mWのレーザを備えた光源を備えたプレートセッター（タイガー キャット: ECRM社製改造品）を用いて同様の画像露光を行った。次いで、現像前に 酸素遮断層を除去する前水洗部、下記組成の現像液 a、 bを充填した現像部、版面 に付着した現像液を取り除く水洗部、画線部保護のためのガム液 (GW- 3：三菱ィ匕 学社製を 2倍希釈したもの）を備えた CTP自動現像機 (PHW32 - V： Technigraph 社製)で現像処理を行い、現像液 a、 bからそれぞれ平版印刷版 la、 lbを得た。
[0153] (現像液 a)
珪酸カリウム水溶液（SIO 26%、 K O 13. 5%) 8. 0%
2 2
ポリオキシエチレン（13)ナフチルエーテルスルホン酸ナトリウム 3. 0% ノ-オン性界面活性剤（ポリオキシエチレン（5)—tert—トリデシルァミンエーテル）
0. 5%
水酸化カリウム pH= 12. 3となる添カロ量
水 合計して 100%になる量
(現像液 b)
炭酸ナトリウム 2. 5%
炭酸水素ナトリウム 0. 5%
ポリオキシエチレン（13)ナフチルエーテルスルホン酸ナトリウム 3. 0% ノ-オン性界面活性剤（ポリオキシエチレン（5)—tert—トリデシルァミンエーテル）
0. 5%
水酸化カリウム pH= 10. 4となる添カロ量
水 合計して 100%になる量
《平版印刷版 2a、 2b〜9a、 9bの作成》
平版印刷版 la、 lbの作成において、一般式（1)の化合物を表 1記載の化合物に 代えた現像液を用い、他は同様にして平版印刷版 2a、 2b〜9a、 9bを作製した。
[0154] 《評価》
(現像性）
平版印刷版の版面に記録された 100%画像部において、膜減りが観察されない最 低量の露光エネルギー量を記録エネルギーとして露光現像した後、画像部付近に 見られる残膜の有無を肉眼で目視評価した。 [0155] (非画像部汚れ）
現像後の平版印刷版を PSインキ（富士写真フィルム (株)製、 Pi— 2)を染み込ませ た PSスポンジでこすった後に水洗し、画像部にインキが盛られた状態の版をルーペ で覼いた時に非画像部に見られる感光層成分由来の微点汚れを、 lm2当たりの個 数で評価した。
[0156] (耐刷性）
175線の画像を 200 jZcm2で露光、現像して作製した平版印刷版を、印刷機（ 三菱重工業 (株)製 DAIYA1F— 1)で、コート紙、印刷インキ（大日本インキ化学ェ 業 (株)製の、大豆油インキ"ナチユラリス 100")及び湿し水 (東京インク (株)製 H液 S G— 51濃度 1. 5%)を用いて印刷を行レ、、ハイライト部の点細りの発生する印刷枚数 を耐刷性の指標とした。
[0157] 評価の結果を表 2に示す。
[0158] [表 1]
Figure imgf000043_0001
[0159] 化合物 1：ポリオキシエチレン（5)—tert—トリデシルァミンエーテル 化合物 2：ポリオキシエチレン（7)— 2—プロピルへプチルエーテル
化合物 3：ポリオキシエチレン（7)— tert—トリデシルエーテル
化合物 4 :ポリオキシエチレン（10)— 3，5—ジメチルー 1一（2—メチルプロピル）へキ シノレエーテノレ
化合物 5：ポリオキシエチレン（7)— 1ーブチルーオタチルエーテル
化合物 6：ポリオキシエチレン（3)— tert—トリデシルエーテル
化合物 7：ポリオキシエチレン（5)— 1ーメチルペンチルエーテル
化合物 8：ポリオキシエチレン（16)—ステアリルエーテル
化合物 9：ポリオキシエチレン（21)—べへ-ルエーテル
力つこ内の数値は、ォキシエチレン基の数を表す。
[表 2]
Figure imgf000044_0001
表より、比較例に比べ、本発明の現像液は、現像性及び非画像部に見られる微点 汚れがなぐ本発明の感光性平版印刷版 (平版印刷版材料)の処理方法で得られた 平版印刷版は耐刷性に優れていることが分かる。

Claims

請求の範囲
[1] 少なくとも下記一般式（1)で表される化合物を含有するアルカリ水溶液であることを 特徴とする感光性平版印刷版用現像液。
一般式（1) R - (L) - (R O) — H
1 2 n
(式中、 Rは総炭素数 20以下の、置換基を有してもよい分岐型アルキル基を表し、 R
1
は置換基を有してもよい炭素数 1〜10のアルキレン基を表し、 nは 2〜： L00の整数を
2
表す。 Lは、 O または NH を表す。なお、 Rは、同一であっても異なっていて
2
ちょい。）
[2] 前記一般式（1)の分岐型アルキル基 Rの主鎖炭素数 C及び側鎖総炭素数 Cの比
1 1 2
C /C 1S 3. 0〜0. 05であることを特徴とする請求の範囲第 1項に記載の感光性
2 1
平版印刷版用現像液。
[3] 前記一般式（1)の分岐型アルキル基 Rの主鎖の炭素数が 3〜 19で、かつ Rは炭素
1 1 数 1〜9の側鎖を少なくとも一つ以上有する分岐型アルキル基であることを特徴とす る請求の範囲第 1または 2項に記載の感光性平版印刷版用現像液。
[4] 前記一般式（1)の Lが、—NH であることを特徴とする請求の範囲第 1〜3項のい ずれか 1項に記載の感光性平版印刷版用現像液。
[5] 前記一般式（1)で表される化合物の HLB値が 11〜 15であることを特徴とする請求 の範囲第 1〜4項の 、ずれか 1項に記載の感光性平版印刷版用現像液。
[6] 前記感光性平版印刷版用現像液の pHが 8. 5〜13. 0であることを特徴とする請求 の範囲第 1〜5項のいずれか 1項に記載の感光性平版印刷版用現像液。
[7] 感光性平版印刷版を画像露光させた後、請求の範囲第 1〜6項のいずれか 1項に記 載の感光性平版印刷版用現像液により現像処理することを特徴とする感光性平版印 刷版の処理方法。
[8] 前記感光性平版印刷版が、光重合型感光性平版印刷版であることを特徴とする請 求の範囲第 7項に記載の感光性平版印刷版の処理方法。
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