JP4306231B2 - 表示装置並びに表示装置の製造方法及び製造装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学素子が基板上に設けられた表示装置並びに表示装置の製造方法及び製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
有機ＥＬ素子はアノード、有機化合物からなるＥＬ層、カソードの順に積層された積層構造を為しており、アノードとカソードの間に正バイアス電圧が印加されるとＥＬ層において発光する。このような複数の有機ＥＬ素子を赤、緑、青の何れかに発光させるサブピクセルとして基板上にマトリクス状に配列して画像表示を行う有機ＥＬ表示パネルが実現化されている。
【０００３】
アクティブマトリクス駆動型有機ＥＬ表示パネルでは、アノード又はカソードのうちの一方の電極を全てのサブピクセルに共通する共通電極とすることができるが、少なくとも他方の電極及びＥＬ層をサブピクセルごとにパターニングする必要がある。アノードやカソードをサブピクセルごとにパターニングする手法は従来の半導体装置製造技術を適用できる。つまり、ＰＶＤ法又はＣＶＤ法等による成膜工程、フォトリソグラフィー法等によるマスク工程、エッチング法等による薄膜の形状加工工程を適宜行うことで、アノードやカソードをサブピクセルごとにパターニングすることができる。
【０００４】
一方、インクジェット技術を応用することでサブピクセルごとにＥＬ層をパターニングする技術が提案されている（例えば、特許文献１、特許文献２）。つまり、ＥＬ層になる材料を有機溶媒で溶解した有機溶液を液滴としてサブピクセルごとにノズルから吐出することで、サブピクセルごとにＥＬ層をパターニングすることができる。
【０００５】
【特許文献１】
特開平１０−１２３７７号公報
【特許文献２】
特開２０００−３５３５９４号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、インクジェット方式でＥＬ層をパターニングする場合、ノズルの先端部において有機溶液が乾燥し粘度が高くなってしまい、ノズルが詰まることでＥＬ層が形成されていない不良サブピクセルが発生したり、サブピクセル内のＥＬ層の厚みが不均一になったりすることもある。
【０００７】
また、インクジェット方式でＥＬ層をパターニングする場合、ノズルを基板に対して走査させサブピクセル毎に有機溶液を吐出する必要があるため、面内の全ＥＬ層をパターニングするのに要する時間が長くなってしまう。短時間で面内の全ＥＬ層をパターニングするためには、インクジェット装置に複数のノズルを設け、有機溶液を複数のノズルから同時に塗布することが必要となる。この場合、複数のノズルを面内に配列するようにしてインクジェット装置に備え付ける必要がある。しかしながら、サブピクセルを高精細に配列し高解像度の有機ＥＬ表示パネルを提供するためには、複数のノズルも高精細に配列する必要があるが、それは困難である。従って、インクジェット方式では、高精細なＥＬ層のパターニングを短時間に行うことが困難である。
【０００８】
そこで、本発明の目的は、高精細な画素パターニングを効率よく行うことによって得られる表示装置並びに表示装置の製造方法及び表示装置の製造装置を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
以上の課題を解決するために、請求項１に記載の表示装置の製造方法は、基板に設けられた第一電極及び第二電極を有する光学素子を具備する表示装置を製造する表示装置の製造方法において、前記第一電極は仕切り壁に囲繞されており、濡れ性の相違によるパターンの濡れ性可変層に従って光学材料含有液の液滴を付着した平板状の版の前記液滴を、平板の状態の前記基板側の前記第一電極に接触させるか或いは前記仕切り壁に接触させることにより前記仕切り壁に囲繞された領域に転写する転写工程を含むことを特徴とする。
【００１０】
本発明によれば、光学材料含有液を複数の画素分をまとめて成膜することが可能となり、インクジェットのように各画素に塗布するよりも生産性に優れている。また、パターンの濡れ性可変層の撥液部では、光学材料含有液をはじくので、所望のパターン箇所に光学材料含有液の大部分が溜まるので必要最低限量の光学材料含有液を用いればよく、低コスト化を図ることができる。
【００１１】
請求項１０に記載の発明は、基板に設けられた第一電極及び第二電極を有する光学素子を具備した表示装置を製造するための表示装置の製造装置において、活性光線の被照射によって光学材料含有液に対する濡れ性が変化することによって形成された濡れ性相違によるパターンからなる濡れ性可変層に従って前記光学材料含有液の液滴が付着された平板状の版であって、前記液滴を平板の状態の前記基板側の前記第一電極に接触させるか或いは前記第一電極を囲繞する仕切り壁に接触させることにより転写するための版と、前記液滴を前記基板側の前記第一電極に接触させるか或いは前記第一電極を囲繞する仕切り壁に接触させる機構と、を備えることを特徴とする。
本発明によれば、濡れ性の相違を活性光線を照射することで版の所望の位置に液滴をパターニングできる構造なので、インクジェットに比べて速やかに光学材料含有液の液滴を基板側に転写することが可能となる。
【００１２】
なお、光学材料含有液とは、光学材料層を構成する有機化合物又はその前駆体を含有した液体であり、この液体は、有機化合物又はその前駆体が溶解した溶液であっても良いし、有機化合物又はその前駆体が分散した分散液であっても良く、一部に無機物を含むものであってもよい。
また、活性光線とは、光触媒を励起する光線であり、可視光線、紫外線、電子線、赤外線等を含む意である。
また、光触媒とは、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、チタン酸ストロンチウム、酸化タングステン、酸化ビスマス、酸化鉄である。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下に、図面を用いて本発明の具体的な態様について説明する。ただし、発明の範囲を図示例に限定するものではない。また、以下の説明において、『平面視して』とは、『透明基板１２（後述）に対して垂直な方向に見て』という意味である。
【００１４】
〔第一の実施の形態〕
図１は、表示装置である有機ＥＬ表示パネル１０の平面図であり、図２は、図１に示された切断線Ｓ１−Ｓ２で破断して示した断面図である。
【００１５】
有機ＥＬ表示パネル１０は、赤、緑、青のサブピクセルが平面視してマトリクス状に配列されており、アクティブマトリクス駆動方式によりマトリクス表示を行うものである。即ち、有機ＥＬ表示パネル１０では、一つのサブピクセルにつき、一つの有機ＥＬ素子１１と、有機ＥＬ素子１１を駆動するための一つの画素回路とから構成されており、周辺ドライバ（図示略）から信号線５１及び走査線５２を介して画素回路へ信号が入力されると、画素回路は信号に従って有機ＥＬ素子１１に流れる電流をオン・オフしたり、有機ＥＬ素子１１の発光期間中に電流値を保持することで有機ＥＬ素子１１の発光輝度を一定に保ったりする。画素回路は、一サブピクセルにつき、少なくとも一つ以上の薄膜トランジスタから構成され、適宜コンデンサ等も付加されることもあるが、本実施形態では画素回路が二つのトランジスタ２１，２１から構成されている。また、連続して配列された赤、緑及び青の三つのサブピクセルが、一つの組となって、一つのピクセルとなる。
【００１６】
有機ＥＬ表示パネル１０は平板状の透明基板１２を有しており、透明基板１２の表面１２ａ上には、横方向に延在した複数の走査線５２，５２，…が形成されている。走査線５２，５２，…は、平面視して、ほぼ等間隔となって互いに平行に配列されている。走査線５２，５２，…は、導電性を有しており、透明基板１２の表面１２ａ一面に成膜されたゲート絶縁膜２３によって被膜されている。このゲート絶縁膜２３上には、縦方向に延在した複数の信号線５１，５１，…が形成されており、平面視して信号線５１，５１，…は走査線５２，５２，…に対して直交している。信号線５１，５１，…も、平面視して、ほぼ等間隔となって互いに平行に配列されている。
【００１７】
透明基板１２の表面１２ａには、複数のトランジスタ２１，２１，…が形成されている。各トランジスタ２１は、ゲート電極２２、ゲート絶縁膜２３、半導体膜２４、不純物半導体膜２５，２６、ドレイン電極２７、ソース電極２８から構成されており、これらが積層されてなるＭＯＳ型電界効果トランジスタである。ゲート絶縁膜２３は、透明基板１２一面に成膜されており、全てのトランジスタ２１，２１，…について共通の層となっている。
【００１８】
トランジスタ２１，２１、…は保護絶縁膜１８によって被覆されている。平面視して、保護絶縁膜１８が信号線５１及び走査線５２に沿って網目状に形成されることで、保護絶縁膜１８によって囲繞された複数の囲繞領域１９，１９，…が透明基板１２上にマトリクス状に配列されたように形成される。保護絶縁膜１８は、酸化シリコン（ＳｉＯ2）及び窒化シリコン（ＳｉＮ）といった無機珪素化物で形成されている。
【００１９】
保護絶縁膜１８に重なるようにして、仕切り壁２０が保護絶縁膜１８上に形成されており、仕切り壁２０も保護絶縁膜１８と同様に平面視して網目状に形成されている。仕切り壁２０の幅は、透明基板１２に近づくにつれて大きくなっている。仕切り壁２０は、絶縁性を有しており、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂及びノボラック樹脂といった感光性樹脂といった有機化合物で形成されている。また、仕切り壁２０の表面に撥液性を有した膜（例えば、フッ素樹脂膜）が形成されていても良いし、仕切り壁２０の表層が撥液性を有するようにしても良い。ここで、撥液性とは、光学材料含有液である有機化合物含有液との接触角が４０°を越える表面の性質であって有機化合物含有液をはじきやすい性質をいう。有機化合物含有液とは、後述するＥＬ層１５を構成した光学材料である有機化合物又はその前駆体を含有した液であり、ＥＬ層１５を構成した有機化合物又はその前駆体が溶質として溶媒に溶けた溶液であっても良いし、ＥＬ層１５を構成した有機化合物又はその前駆体が液体に分散した分散液であっても良い。仕切り壁２０の撥液性については、「親液処理・撥液処理」の項で詳説する。
【００２０】
次に、光学素子である有機ＥＬ素子１１について説明する。有機ＥＬ素子１１は、透明基板１２側からアノード１３、ＥＬ層１５、カソード１６の順に積層した積層構造となっている。アノード１３は、可視光に対して透過性を有するとともに導電性を有する。アノード１３は、比較的仕事関数の高いものである。アノード１３は、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛若しくは酸化スズ又はこれらのうちの少なくとも一つを含む混合物（例えば、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛ドープ酸化インジウム）で形成されている。
【００２１】
平面視して、アノード１３は信号線５１，５１，…と走査線５２，５２，…に囲まれた各領域に配設されており、複数のアノード１３、１３，…が互いに間隔をあけて且つマトリクス状になってゲート絶縁膜２３上に配列されている。
【００２２】
また、平面視して、アノード１３はそれぞれ囲繞領域１９に対応して臨んでおり、囲繞領域１９の面積はアノード１３の面積より小さく、囲繞領域１９はアノード１３内に配されており、アノード１３の外周部は保護絶縁膜１８及び仕切り壁２０の一部に重なって被覆されている。ここではアノード１３がトランジスタ２１のソース電極２８に接続されているが、画素回路の回路構成によっては他のトランジスタやコンデンサにアノード１３が接続されていても良い。また、アノード１３の表面に親液性を有した膜が形成されていても良いし、アノード１３の表層が親液性を有するようにしても良い。ここで、親液性とは、有機化合物含有液との接触角が４０°以下の表面の性質であって、有機化合物含有液をはじきにくい性質をいう。有機化合物含有液になじむ性質をいう。なお、アノード１３の親液性については、「親液処理・撥液処理」の項で詳説する。
【００２３】
それぞれのアノード１３上にはＥＬ層１５が成膜されている。平面視して、これらＥＬ層１５，１５，…は、マトリクス状に配列されており、それぞれの囲繞領域１９内に配設されている。
【００２４】
各ＥＬ層１５は、有機化合物である発光材料で形成された光学材料層であって、アノード１３から注入された正孔とカソード１６から注入された電子を再結合させることで励起子を生成して、赤色、緑色、青色の何れかに発光する層である。例えば、赤色に発光するＥＬ層１５、緑色に発光するＥＬ層１５、青色に発光するＥＬ層１５の順に横方向に配列されており、これら三色のＥＬ層１５，１５，１５によって一ピクセルの色調が定まる。なお、図面において赤色に発光するＥＬ層１５には括弧書きでＲを付し、緑色に発光するＥＬ層１５には括弧書きでＧを付し、青色に発光するＥＬ層１５には括弧書きでＢを付し、それぞれの色に対応するアノード１３及び囲繞領域１９にもＲ、Ｇ、Ｂを括弧書きで付す。
【００２５】
各ＥＬ層１５には、電子輸送性の物質が適宜混合されていても良いし、正孔輸送性の物質が適宜混合されても良いし、電子輸送性の物質及び正孔輸送性の物質が適宜混合されていても良い。
【００２６】
また、各ＥＬ層１５は、アノード１３から順に正孔輸送層、狭義の発光層、電子輸送層となる三層構造であったり、アノード１３から順に正孔輸送層、狭義の発光層となる二層構造であったり、狭義の発光層からなる一層構造であったり、これらの層構造において適切な層間に電子或いは正孔の注入層が介在した積層構造であったりする。これらＥＬ層１５，１５，…は、後述するように水なし平版印刷法によって成膜される。なお、正孔輸送層、狭義の発光層、電子輸送層も有機化合物からなる層であって、光学材料層である。
カソード１６は、全てのＥＬ層１５，１５，…と仕切り壁２０を被覆するように透明基板１２一面に連続して形成されており、それぞれの囲繞領域１９内においてアノード１３と対向している。カソード１６は、少なくとも仕事関数の低い材料を含み、具体的にはマグネシウム、カルシウム、リチウム、バリウム若しくは希土類からなる単体又はこれらの単体を少なくとも一種を含む合金で形成されている。更に、カソード１６が積層構造となっていても良く、例えば、上述のような低仕事関数材料で形成された膜上にアルミニウム、クロム等の高仕事関数で且つ低抵抗率の材料で被膜した積層構造でも良い。また、カソード１６は可視光に対して遮光性を有するのが望ましく、さらに、ＥＬ層１５から発する可視光に対して高い反射性を有するのが望ましい。つまり、カソード１６は可視光を反射する鏡面として作用することで光の利用効率を向上することができる。
【００２７】
以上のように、カソード１６は、全てのサブピクセルについて連続して共通した層となっており、アノード１３及びＥＬ層１５は、サブピクセルごとに独立して形成されている。
【００２８】
次に、有機ＥＬ表示パネル１０の製造方法について説明する。
有機ＥＬ表示パネル１０の製造方法は、以下のような工程からなる。
（ア）駆動基板製造工程：透明基板１２上にトランジスタ２１，２１，…、アノード１３，１３，…及び仕切り壁２０等を順次形成する。
（イ）印刷工程：それぞれの色の版を用いて、色ごとにＥＬ層１５，１５，…を形成する。つまり、赤色用の有機化合物含有液を赤用版に塗布し、赤用版に塗布された有機化合物含有液を透明基板１２に転写することによって、赤色用のそれぞれのアノード１３（Ｒ）上に赤色のＥＬ層１５（Ｒ）を成膜する。同様に、緑色のＥＬ層１５（Ｇ）、青色のＥＬ層１５（Ｂ）の成膜もそれぞれ緑用版、青用版を用いて順次行う。
（ウ）電極形成工程：カソード１６を成膜する。
以下、これら工程について詳説する。
【００２９】
まず、（ア）駆動基板製造工程の前に下準備として「製版工程」を行う。製版工程は、赤、緑、青の色ごとに原版を準備する。そして、これら原版から、赤色のＥＬ層１５（Ｒ）をパターニングするための赤用版、緑色のＥＬ層１５（Ｇ）をパターニングするための緑用版、青色のＥＬ層１５（Ｂ）をパターニングするための青用版を製版する。
製版方法は二通りある。どちらの製版方法も光触媒反応を利用しており、赤用版、緑用版、青用版の何れにも適用することができる。
【００３０】
第一の製版方法について説明する。
まず、図３（ａ）に示すように、平板状の基材である基板２０１の表面２０１ａ上に濡れ性可変層２０２を成膜し、これが版の元となる原版となる。
濡れ性可変層２０２は、活性光線ｈνの被照射により濡れ性が変化する層であり、このような濡れ性の変化を引き起こす光触媒を含有する。活性光線ｈνとしては、可視光線、紫外線、赤外線等があるが、光触媒を励起するものである。
【００３１】
濡れ性可変層２０２に用いられる光触媒材料としては、例えば光半導体として知られている酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ2）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ3）、酸化タングステン（ＷＯ3）、酸化ビスマス（Ｂｉ2Ｏ3）、酸化鉄（Ｆｅ2Ｏ3）のような金属酸化物を挙げることができるが、特に酸化チタンが好ましい。酸化チタンにおいては、アナターゼ型とルチル型のいずれも使用することができるが、アナターゼ型酸化チタンが励起波長が３８０ｎｍ以下であるからより好ましい。光触媒含有層中の光触媒の量は、５重量％〜６０重量％であることが好ましく、２０重量％〜４０重量％であることがより好ましい。
【００３２】
濡れ性可変層２０２に用いることのできるバインダーは、好ましくは主骨格が前記光触媒の光励起により分解されないような高い結合エネルギーを有するものであり、例えば、（Ａ）ゾルゲル反応等によりクロロまたはアルコキシシラン等を加水分解、重縮合して大きな強度を発揮するオルガノポリシロキサン、或いは（Ｂ）撥水性や撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋したオルガノポリシロキサン等を挙げることができる。
【００３３】
前記（Ａ）の場合、一般式Ｒ3 nＳｉＲ4 4-n（ｎ＝１〜３）で表される珪素化合物の１種または２種以上の加水分解縮合物、共加水分解化合物が主体であることができる。前記一般式では、Ｒ3は例えばアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基またはエポキシ基であることができ、Ｒ4は例えばハロゲンやハロゲンを含む官能基、メトキシル基、エトキシル基、またはアセチル基であることができる。また、バインダーとして、特に好ましくはフルオロアルキル基を含有するポリシロキサンを用いることができ、具体的には、フルオロアルキルシランの１種または２種以上の加水分解縮合物、共加水分解縮合物が挙げられ、また、一般にフッ素系シランカップリング剤として知られているものを使用してもよい。フルオロアルキル基としては、例えば、次の一般式（１），（２）で表す官能基が挙げられる。
−（ＣＨ2）a（ＣＦ2）bＣＦ3 …（１）
−（ＣＨ2）c（ＣＦ2）dＣＦ（ＣＦ3）2 …（２）
一般式（１），（２）において、ａ，ｂ，ｃ，ｄはいずれも０以上の整数である。
【００３４】
前記（Ｂ）の反応性シリコーンとしては、下記一般式（３）で表される骨格を持つ化合物を挙げることができる。
−（Ｓｉ（Ｒ1）（Ｒ2）Ｏ）n− …（３）
一般式（３）において、ｎは２以上の整数、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキル、アルケニル、アリールあるいはシアノアルキル基であることができる。好ましくは全体の４０モル％以下がビニル、フェニル、ハロゲン化フェニルであることができる。また、Ｒ1とＲ2のうちの少なくとも一方がメチル基であるものは表面エネルギーが最も小さくなるので好ましく、好ましくはメチル基が６０モル％以上であり、鎖末端または側鎖には、分子鎖中に少なくとも１個以上の水酸基などの反応性基を有する。
【００３５】
また、前記のオルガノポリシロキサンとともにジメチルポリシロキサンのような架橋反応を起こさない安定なオルガノシリコン化合物をバインダーに混合してもよい。
【００３６】
濡れ性可変層２０２の形成方法は、例えば光触媒を含んだ塗布液を、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、ビードコートなどの方法により基材に塗布して形成することができる。光触媒等を含む塗布液を用いる場合に、塗布液に使用することができる溶剤としては、特に限定されないが、例えばエタノール、イソプロパノールといったアルコール系の有機溶剤を挙げることができる。
【００３７】
濡れ性可変層２０２の形成方法の一例を詳述する。
基板２０１を純水で洗浄し、フルオロアルキル基を有したシラザン化合物を溶解した塗布液（以下、シラザン系溶液という。）を基板２０１の表面２０１ａ上にディップコート法により塗布する。このシラザン系溶液には、光触媒を分散させる。
【００３８】
ここで、「フルオロアルキル基を有したシラザン化合物」とは、Ｓｉ−Ｎ−Ｓｉ結合を有し、Ｎ又は／及びＳｉにフルオロアルキル基が結合したものであり、例えば次の一般式（１）で表すモノマー、オリゴマー又はポリマーが挙げられる。
ＲｆＳｉ（ＮＨ）3/2 …（４）
一般式（４）においてＲｆは、フルオロアルキル基である。
【００３９】
シラザン系溶液の溶媒としては、フッ素系溶剤が挙げられる。
【００４０】
シラザン化合物として、次の一般式（５）及び化学構造式（６）で表せるシラザンオリゴマー（ＫＰ−８０１Ｍ：信越化学工業株式会社製）を用いる。そして、上述のディップコート工程においては、このシラザンオリゴマーを溶質としてｍ−キシレンヘキサフロイド溶媒に溶かしたシラザン系溶液（濃度３％）をディップコート法により基板２０１に塗布する。
Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4Ｓｉ（ＮＨ）3/2 …（５）
【化１】
【００４１】
次いで、基板２０１に窒素ガス及びアルゴンガスといった不活性ガスを吹き付けて、シラザン系溶液の溶媒を蒸発させることで、シラザン化合物が基板２０１の表面２０１ａに堆積した状態となる。溶媒は加熱により蒸発させてもよい。
【００４２】
次いで、基板２０１を１０〜３０分間放置すると、雰囲気中の水分によってシラザン化合物が加水分解して基板２０１の表面と結合するとともに重合して珪素と酸素からなる主鎖に対してフルオロアルキル基が結合した縮合物をバインダーとした濡れ性可変層２０２が基板２０１上に成膜される。濡れ性可変層２０２に含まれる縮合物は、次の一般式（７）で表される。
【化２】
【００４３】
一般式（７）において、Ｒｆは上述したように撥液性を示すフルオロアルキル基であり、Ｘは基板２０１の原子又は基板２０１の表面に化学吸着した原子であり、シラザン化合物が一般式（５）で表されるシラザンオリゴマーの場合には、ＲｆはＣ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4となる。この濡れ性可変層２０２のバインダーが、フッ素を含む官能基を側鎖に含んだ縮合物であるから、有機化合物含有液に対して濡れ性が低く、撥液性を示す。また、成膜された濡れ性可変層２０２には、光触媒が含有している。
【００４４】
そして、図３（ｂ）に示すように、フォトマスク基板２０３αを用いて濡れ性可変層２０２に活性光線ｈνを部分的に照射することで、赤用版２００Ｒが完成する。
ここで、フォトマスク基板２０３αは活性光線ｈνを透過する平板状の透明基板２０４を有し、この透明基板２０４の表面２０４ａに活性光線ｈνをほとんど透過しないマスク２０５が網目状に形成されており、マスク２０５が網目状となることによってマスク２０５に開口部２０５ａ，２０５ａ，…が形成されている。平面視した場合の開口部２０５ａ，２０５ａ，…の配列パターンは、赤色に発光する画素に対応する囲繞領域１９（Ｒ），１９（Ｒ），…の配列パターンと同様である。
【００４５】
以上のようなフォトマスク基板２０３αを濡れ性可変層２０２に対向させて、フォトマスク基板２０３αを介して活性光線ｈνを濡れ性可変層２０２に入射させる。フォトマスク基板２０３αのマスク２０５では活性光線ｈνが遮蔽され、開口部２０５ａ，２０５ａ，…では活性光線ｈνが通過し、濡れ性可変層２０２に活性光線ｈνが入射する。活性光線ｈνの入射した親液性領域２０２ａでは、光触媒（例えば酸化チタン）に活性光線ｈνが入射されることで活性酸素種（例えば・ＯＨ）が生成され、この活性酸素種が撥液性を示す官能基（例えばＲｆ）を脱離させ、親液性を示す官能基（例えば−ＯＨ）に置換する。このため、活性光線ｈνの入射した親液性領域２０２ａは、濡れ性が向上して親液性を示す。これにより、濡れ性可変層２０２には、濡れ性の相違によるパターンであって、親液性領域２０２ａと撥液性領域２０２ｂからなるパターンが形成される。
【００４６】
活性光線ｈνの入射した親液性領域２０２ａは、濡れ性可変層２０２において赤色発光画素の囲繞領域１９（Ｒ）に対応しており、活性光線ｈνの入射していない撥液性領域２０２ｂは、緑色発光画素の囲繞領域１９（Ｇ）及び青色発光画素の囲繞領域１９（Ｂ）並びに仕切り壁２０に対応している。従って、平面視した場合の親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…の配列パターンは、平面視した場合の囲繞領域１９（Ｒ），１９（Ｒ），…の配列パターンと同様である。
【００４７】
緑用版２００Ｇ（図５に図示）、青用版２００Ｂ（図５に図示）を製版する場合にも赤用版２００Ｒと同様に用いて原版に活性光線ｈνを部分的に照射することによって製版するが、緑用版２００Ｇの場合にはフォトマスク基板を用いて緑色用の囲繞領域１９（Ｇ），１９（Ｇ），…に対応した領域のみにおいて濡れ性可変層２０２に活性光線ｈνを入射させ、青用版２００Ｂの場合にはフォトマスク基板を用いて青色用の囲繞領域１９（Ｂ），１９（Ｂ），…に対応した領域のみにおいて濡れ性可変層２０２に活性光線ｈνを入射させる。従って、緑用版２００Ｇにおいては、平面視した場合の親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…の配列パターンは、平面視した場合の囲繞領域１９（Ｇ），１９（Ｇ），…の配列パターンと同様であり、青用版２００Ｂにおいては、平面視した場合の親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…の配列パターンは、平面視した場合の囲繞領域１９（Ｂ），１９（Ｂ），…の配列パターンと同様である。
【００４８】
第二の製版方法について説明する。
第二の製版方法では、光触媒が濡れ性可変層２０２に含有していなくても良い。但し、図４に示すように、第一の製版方法で用いたフォトマスク基板２０３αの代わりにフォトマスク基板２０３βを用いる。フォトマスク基板２０３βはフォトマスク基板２０３αと同様に透明基板２０４及びマスク２０５を有し、更に、光触媒膜２０６がマスク２０５全体を被覆するように透明基板２０４の表面２０４ａ一面に成膜されている。光触媒膜２０６の光触媒材料としては、酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ2）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ3）、酸化タングステン（ＷＯ3）、酸化ビスマス（Ｂｉ2Ｏ3）、酸化鉄（Ｆｅ2Ｏ3）のような金属酸化物を挙げることができる。光触媒膜２０６のバインダーは活性光線ｈνによる耐性があれば特に限定されない。
【００４９】
そして、フォトマスク基板２０３βを濡れ性可変層２０２に対向させて、フォトマスク基板２０３βの上方から開口部２０５ａ，２０５ａ，…に活性光線ｈνを部分的に照射すると、光触媒膜２０６が活性光線ｈνにより励起されて活性酸素種（・ＯＨ）を生成し、この活性酸素種により対向する親液性領域２０２ａが撥液性から親液性に変わり、親液性と撥液性の相違によるパターンの版２００Ｒが完成する。ここで、マスク２０５では活性光線ｈνが遮蔽される。光触媒の作用は、光触媒膜２０６に活性光線ｈνが入射することによって活性酸素種が発生し、活性酸素種がフォトマスク基板２０３βと濡れ性可変層２０２との間の気相を拡散し、濡れ性可変層２０２に到達した活性酸素が濡れ性可変層２０２の撥液性を示す官能基を脱離させ、親液性を示す官能基に置換させたものである。
【００５０】
また、第二の製版方法は、緑用版２００Ｇ、青用版２００Ｂを製版する際にも適用することができる。第二の製版方法は、フォトマスク基板２０３βに光触媒膜２０６が形成されていることを除いては、上記第一の製版方法と同様である。また、第二の製版方法においても、第一の製版方法と同様に濡れ性可変層２０２に光触媒を含ませてもよい。
【００５１】
「（ア）駆動基板製造工程」
図３（ｃ）に示すように、ＰＶＤ法及びＣＶＤ法といった成膜工程、フォトリソグラフィー法といったマスク工程、エッチング法といった薄膜の形状加工工程を適宜行うことによって、行方向に配列するように複数の走査線５２，５２，…及びゲート電極２２をパターニングしてから、透明基板１２の表面１２ａ一面に成膜されたゲート絶縁膜２３に被膜する。次いで半導体膜２４、不純物半導体膜２５，２６をそれぞれ成膜パターニングし、サブピクセルごとにアノード１３を透明基板１２の表面１２ａ上にパターニング形成する。そして行方向と直交する列方向に配列するように複数の信号線５１，５１，…をパターニング形成するとともにドレイン電極２７、ソース電極２８をパターニングする。ここで、アノード１３及びトランジスタ２１をパターニング形成する際には、トランジスタ２１のソース電極２８とアノード１３が接続されるように、レジストでマスクする。
【００５２】
アノード１３，１３，…及びトランジスタ２１，２１，…の形成後、ＰＶＤ法及びＣＶＤ法といった成膜工程、フォトリソグラフィー法といったマスク工程、エッチング法といった薄膜の形状加工工程を行うことによって、それぞれのアノード１３を囲繞するように窒化シリコンや酸化シリコンからなる網目状の保護絶縁膜１８を形成する。次いで、ポリイミド等の感光性樹脂からなる感光性樹脂膜を透明基板１２の一面に成膜し、この感光性樹脂膜を部分的に露光した後に除去液を感光性樹脂膜に塗布することによって、感光性樹脂膜を網目状に形状加工する。これにより感光性樹脂からなる網目状の仕切り壁２０が形成され、保護絶縁膜１８及び仕切り壁２０に囲繞された囲繞領域１９，１９，…が形成され、各囲繞領域１９においてアノード１３が露出している（図３（ｄ））。なお、感光性樹脂膜を露光する際において、感光性樹脂膜がネガ型の場合には、保護絶縁膜１８に重なった部分に光を照射し、逆に感光性樹脂膜がポジ型の場合には、保護絶縁膜１８に囲繞された領域の部分に光を照射する。
【００５３】
次いで、透明基板１２の表面１２ａ側を即ちアノード１３，１３，…、保護絶縁膜１８及び仕切り壁２０の表面を洗浄する。洗浄としては、大気圧未満の減圧下における酸素プラズマ洗浄であっても良いし、紫外線／オゾン洗浄であっても良い。必要に応じて、各囲繞領域１９内のアノード１３の表面を親液処理するとともに、仕切り壁２０の表面を撥液処理する。これについては「親液処理・撥液処理」の項において詳述する。なお、透明基板１２の表面１２ａにアノード１３，１３，…、トランジスタ２１，２１，…、保護絶縁膜１８及び仕切り壁２０が形成されたものを、駆動基板という。
【００５４】
「（イ）印刷工程」
図５（ａ）に示すように、赤用版２００Ｒの濡れ性可変層２０２に赤色用の有機化合物含有液６０ｒを塗布する。塗布方法としては、ディップコート法、ダイコート法、ロールコート法、スピンコート法等がある。濡れ性可変層２０２において活性光線ｈνの照射された親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…が親液性であり且つ活性光線ｈνが照射されなかった撥液性領域２０２ｂが撥液性であるから、活性光線ｈνが照射された親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…にのみに有機化合物含有液６０ｒが液滴として付着する。このとき、有機化合物含有液６０ｒの表面張力を利用して、赤用版２００Ｒを振動させて、撥液性領域２０２ｂに有機化合物含有液６０ｒがわずかに残った場合、残査となる有機化合物含有液６０ｒを赤用版２００Ｒの外へはじいてもよく、或いは赤用版２００Ｒを傾けることで親液性領域２０２ａの有機化合物含有液６０ｒを残しながら撥液性領域２０２ｂ上の有機化合物含有液６０ｒを自重で滑り落としてもよく、さらには赤用版２００Ｒを傾けながら振動させることで撥液性領域２０２ｂ上の不要の有機化合物含有液６０ｒを外へはじくことができる。
【００５５】
そして、図５（ｂ）に示すように、トランジスタ２１，２１，…、アノード１３，１３，…及び仕切り壁２０等が形成された透明基板１２の表面１２ａに版２００を対向させる。ここで、赤用のアノード１３（Ｒ），１３（Ｒ），…有機化合物含有液の付着した親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…をそれぞれ対向させるように、透明基板１２と赤用版２００Ｒの位置合わせを行う。そして、赤用版２００Ｒの面から突出している有機化合物含有液６０ｒがアノード１３（Ｒ）に接触することで、それぞれの親液性領域２０２ａに付着した有機化合物含有液６０ｒを赤用のアノード１３（Ｒ）に転写する。アノード１３がＩＴＯである場合、表面が平滑でない金属酸化物なので比較的有機化合物含有液６０ｒになじみやすい。これにより、それぞれの囲繞領域１９（Ｒ）内において赤色に発光する画素に対応するアノード１３（Ｒ）上に赤色に発光するＥＬ層１５（Ｒ）が形成される（図５（ｃ））。このとき、位置合わせが若干ずれていて、有機化合物含有液６０ｒが仕切り壁２０の側壁に接触しても、仕切り壁２０の側壁から赤用のアノード１３（Ｒ）上に滑り落ちるので、成膜された赤色のＥＬ層１５（Ｒ）の厚さが表示に影響ある程度にばらつくことはない。なお、仕切り壁２０によって囲繞領域１９（Ｒ），（Ｒ），…が仕切られているため、囲繞領域１９（Ｒ）に転写された有機化合物含有液６０ｒが、異なる色の有機化合物含有液が成膜される隣りの囲繞領域１９に漏れることが殆どない。
【００５６】
次いで、赤色の場合と同様に、緑用版２００Ｇを用いて、液滴である緑色用の有機化合物含有液６０ｇをアノード１３（Ｇ）に接触させることでアノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…に転写し、それぞれの囲繞領域１９（Ｇ）内においてアノード１３（Ｇ）上に緑色のＥＬ層１５（Ｇ）を形成する（図６（ａ））。次いで、赤色の場合と同様に、青用版２００Ｂを用いて、液滴である青色用の有機化合物含有液６０ｂをアノード１３（Ｂ）に接触させることでアノード１３（Ｂ），１３（Ｂ），…に転写し、それぞれの囲繞領域１９（Ｂ）内においてアノード１３（Ｂ）上に緑色のＥＬ層１５（Ｂ）を形成する（図６（ｂ））。なお、成膜する順番は、赤色のＥＬ層１５（Ｒ）、緑色のＥＬ層１５（Ｇ）、青色のＥＬ層１５（Ｂ）の順でなくてもよく、また赤色のＥＬ層１５（Ｒ）、緑色のＥＬ層１５（Ｇ）、青色のＥＬ層１５（Ｂ）の順に配列していなくてもよい。
【００５７】
「（ウ）電極形成工程」
蒸着やスパッタのようなＰＶＤ法及びＣＶＤ法といった成膜方法によって、ＥＬ層１５，１５，…を被覆するようにしてカソード１６を一面に成膜する（図６（ｃ））。カソード１６の成膜後、封止材でこれら有機ＥＬ素子１１，１１，…を封止する。
【００５８】
以上のように製造された有機ＥＬ表示パネル１０では、画素回路が信号線５１及び走査線５２を介して入力した信号に従って有機ＥＬ素子１１に電流を流す。有機ＥＬ素子１１では、アノード１３からＥＬ層１５へ正孔が注入され且つカソード１６からＥＬ層１５へ電子が注入されることで、電流が流れる。そして、ＥＬ層１５において正孔及び電子が輸送されて、ＥＬ層１５にて正孔及び電子が再結合することによってＥＬ層１５で発光する。アノード１３，１３，…及び透明基板１２が透明であるため、ＥＬ層１５で発した光は透明基板１２の裏面１２ｂから出射し、裏面１２ｂが表示面となる。
【００５９】
以上のように本実施の形態では、色ごとに版２００Ｒ，２００Ｇ，２００Ｂを製版し、それぞれの版を用いて色ごとにＥＬ層１５，１５，…を形成するので、赤のＥＬ層１５（Ｒ），１５（Ｒ），…、緑のＥＬ層１５（Ｇ），１５（Ｇ），…、青のＥＬ層１５（Ｂ），１５（Ｂ），…をそれぞれまとめて形成することができる。つまり、（イ）印刷工程において転写を単に三回行うことによって透明基板１２上の全てのＥＬ層１５，１５，…を形成することができるから、短時間で有機ＥＬ表示パネル１０を製造することができる。
また、インクジェット方式のようにノズルを用いてＥＬ層を形成するのではなく、版２００Ｒ，２００Ｇ，２００Ｂを用いて転写によってＥＬ層１５，１５，…をパターニングするため、ＥＬ層が成膜される画素数が多くなるほど高効率に成膜することができ、またインクジェットのような目詰まりがないのでＥＬ層１５の厚みが不均一になるということもない上、インクジェット方式に比較してもＥＬ層１５を高精細に配列して形成することができる。
【００６０】
「親液処理・撥液処理」
（イ）の印刷工程の前に、図７（ａ）に示すように、透明基板１２の表面１２ａ側を純水で洗浄、乾燥後に、アノード１３，１３，…及び仕切り壁２０全体を被覆するような第二濡れ性可変層１４を透明基板１２の表面１２ａ一面に形成しても良い。
【００６１】
第二濡れ性可変層１４は、版２００の元となる原版材の濡れ性可変層２０２と同様であるが、光触媒を含有していなくても良い。第二濡れ性可変層１４に光触媒が含有していない方が、アノード１３に対する腐食を抑えることができたり、アノード１３からＥＬ層１５への正孔注入性の低下を抑えることができたりするという効果をもたらす。また、第二濡れ性可変層１４の形成方法も濡れ性可変層２０２と同様であるが、塗布液に光触媒を分散させなければ、形成された第二濡れ性可変層１４には光触媒が含まれない。
【００６２】
（イ）の印刷工程の前では、第二濡れ性可変層１４は、全体が撥液性となっており、有機化合物含有液をはじく撥液層になっている。（イ）の印刷工程では、版を用いてそれぞれの色のＥＬ層１５（Ｒ），１５（Ｇ），１５（Ｂ）を形成する前に、第二濡れ性可変層１４をそれぞれの色のアノード１３（Ｒ），１５（Ｇ），１５（Ｂ）に重なった領域において活性光線ｈνを照射する。
【００６３】
つまり、図７（ａ）に示すように、赤用版２００ＲでＥＬ層１５（Ｒ），１５（Ｒ），…を形成する前に、例えば赤用版２００Ｒを製版する際に用いたフォトマスク基板２０３α又はフォトマスク基板２０３β（図中では透明基板２０４の下面に光触媒膜２０６が形成されたフォトマスク基板２０３β）を用いて赤色に発光する画素に対応する囲繞領域１９（Ｒ），１９（Ｒ），…に重なった領域にのみ活性光線ｈνを照射する。これにより、第二濡れ性可変層１４は、赤用のアノード１３（Ｒ），１３（Ｒ），…に重なった領域内にて親液性の親液層１４（Ｒ）となる。
【００６４】
次いで、上述の（イ）の印刷工程で説明したように赤用版２００Ｒを用いて赤用のアノード１３（Ｒ），１３（Ｒ），…の表面に形成された親液層１４（Ｒ）上に赤色に発光するＥＬ材料を含む溶液を転写して塗布する。囲繞領域１９（Ｒ）に有機化合物含有液を転写する前に、囲繞領域１９（Ｒ）内のみにおいて第二濡れ性可変層１４が親液性の親液層１４（Ｒ）に変質しているため、赤色に発光するＥＬ材料を含む溶液になじみ、仕切り壁２０や他の色の囲繞領域１９（Ｇ），１９（Ｂ）の表面では、撥液性を示す第二濡れ性可変層１４が成膜されているために、赤色に発光するＥＬ材料を含む溶液をはじくので赤色の囲繞領域１９（Ｒ）のみに赤色に発光するＥＬ材料を含む溶液が溜まり、溶液中の溶媒が乾燥することでＥＬ層１５（Ｒ），１５（Ｒ），…が形成される。なお、赤色に発光するＥＬ材料は、溶液中でポリマでもよく、また溶液が成膜されてから重合するモノマやオリゴマでもよい。
【００６５】
次いで、緑用版を製版する際に用いたフォトマスク基板を用いて、第二濡れ性可変層１４のうち緑用の囲繞領域１９（Ｇ），１９（Ｇ），…にのみ活性光線ｈνを照射して囲繞領域１９（Ｇ），１９（Ｇ），…内の第二濡れ性可変層１４を親液層１４（Ｇ）に変質させ（図７（ｂ）に図示。）、その後上記（イ）の印刷工程で説明したように緑用版を用いて緑用のアノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…の表面に形成された親液層１４（Ｇ）上に緑色に発光するＥＬ材料を含む溶液を転写して塗布する。囲繞領域１９（Ｇ）の表面は親液層１４（Ｇ）のために溶液になじむが、仕切り壁２０や他の色の囲繞領域１９（Ｂ）の表面は、撥液性を示す第二濡れ性可変層１４のままであるために、緑色に発光するＥＬ材料を含む溶液をはじくので緑色の囲繞領域１９（Ｇ）のみに緑色に発光するＥＬ材料を含む溶液が溜まり、溶液中の溶媒が乾燥することでＥＬ層１５（Ｇ），１５（Ｇ），…が形成される。なお、緑色に発光するＥＬ材料は、溶液中でポリマでもよく、また溶液が成膜されてから重合するモノマやオリゴマでもよい。
【００６６】
次いで、青用版を製版する際に用いたフォトマスク基板を用いて、第二濡れ性可変層１４のうち緑用の囲繞領域１９（Ｂ），１９（Ｂ），…にのみ活性光線ｈνを照射して囲繞領域１９（Ｂ），１９（Ｂ），…内の第二濡れ性可変層１４を親液層１４（Ｂ）に変質させ（図７（ｃ）に図示。）、その後上記（イ）の印刷工程で説明したように青用版を用いて青用のアノード１３（Ｂ），１３（Ｂ），…上にＥＬ層１５（Ｂ），１５（Ｂ），…の表面に形成された親液層１４（Ｂ）上に青色に発光するＥＬ材料を含む溶液を塗布する。囲繞領域１９（Ｂ）の表面は親液層１４（Ｂ）のために溶液になじむが、仕切り壁２０の表面は、撥液性を示す第二濡れ性可変層１４のままであるために、青色に発光するＥＬ材料を含む溶液をはじくので青色の囲繞領域１９（Ｂ）のみに青色に発光するＥＬ材料を含む溶液が溜まり、溶液中の溶媒が乾燥することでＥＬ層１５（Ｂ），１５（Ｂ），…が形成される。なお、青色に発光するＥＬ材料は、溶液中でポリマでもよく、また溶液が成膜されてから重合するモノマやオリゴマでもよい。
【００６７】
図７（ａ）〜図７（ｃ）において、光触媒膜２０６の形成されたフォトマスク基板２０３βを図示しているが、第二濡れ性可変層１４に光触媒が含有している場合にはフォトマスク基板２０３αを用いても良い。
【００６８】
例えば上記一般式（５）で示されたようなフルオロアルキル基を有したシラザン化合物を加水分解・縮合させることで第二濡れ性可変層１４を成膜した場合、珪素と酸素の主鎖がアノード１３，１３，…、保護絶縁膜１８及び仕切り壁２０の表面に沿った状態で形成され、第二濡れ性可変層１４が非常に薄い。その上、親液層１４（Ｒ）、親液層１４（Ｇ）、親液層１４（Ｂ）では、第二濡れ性可変層１４の厚さ方向に並んだフルオロアルキル基が水酸基に置換されているから、各囲繞領域１９内の親液層１４（Ｒ）、親液層１４（Ｇ）、親液層１４（Ｂ）の厚さが０．０ｎｍより厚く且つ１．０ｎｍ以下の厚さと更に薄くなる。つまり、親液層１４（Ｒ）、親液層１４（Ｇ）及び親液層１４（Ｂ）は、光が照射されていない部分（撥液部）より薄い。従って、アノード１３とＥＬ層１５との間に親液層１４（Ｒ）、親液層１４（Ｇ）、親液層１４（Ｂ）のいずれかが介在しても親液層１４（Ｒ）、親液層１４（Ｇ）、親液層１４（Ｂ）の絶縁性を無視することができ、アノード１３からＥＬ層１５へ正孔が注入されることが阻害されない。
【００６９】
なお、第二濡れ性可変層１４を形成せずに、以下のようにしてアノード１３，１３，…の表面を親液性とし、仕切り壁２０の表面を撥液性としても良い。即ち、上記（イ）の印刷工程の前に、仕切り壁２０に向けてＣＦ4プラズマといったフッ化物プラズマを照射することで、仕切り壁２０の表層でフッ素のラジカル種が反応し、仕切り壁２０の表層にフッ化物（主にフッ素と炭素の化合物）が形成される。これにより、仕切り壁２０の表面が撥液性となる。次いで、アノード１３，１３，…に向けて酸素プラズマを照射することによってアノード１３，１３，…の表層をアッシングすると、アノード１３，１３，…の表層の不純物が除去される。これにより、アノード１３，１３，…が親液性となる。その後、上述した（イ）の印刷工程を行う。
【００７０】
〔第二の実施の形態〕
ここでは、図８の断面図に示すように、ＥＬ層１５が複数の電荷輸送層で構成されるＥＬ表示パネル１０５について説明する。つまり、この有機ＥＬ表示パネル１０５においては、ＥＬ層１５が、アノード１３，１３，…から順に正孔輸送層１５１、狭義の発光層１５２の順に積層した積層構造である。有機ＥＬ表示パネル１０５の他の構成要素は、第一実施形態の有機ＥＬ表示パネル１０の構成要素と同様であり、有機ＥＬ表示パネル１０の構成要素と同様の符号を付して詳細な説明を省略する。図面において、赤色に発光する狭義の発光層１５２には括弧書きでＲを付し、緑色に発光する狭義の発光層１５２には括弧書きでＧを付し、青色に発光する狭義の発光層１５２には括弧書きでＢを付し、それぞれの色に対応する正孔輸送層１５１にもＲ、Ｇ、Ｂを括弧書きで付す。
【００７１】
次に、ＥＬ表示パネル１０５の製造方法について、図９〜図１１に基づいて説明する。図９〜図１１は、第二実施形態におけるＥＬ表示パネル１０５の製造方法を示した断面図である。
まず、第一実施形態の場合と同様に、（ア）の駆動基板製造工程を行うことによって駆動基板を製造し、駆動基板の表面側を純水で洗浄した後にアノード１３，１３，…及び仕切り壁２０全体を被覆するような第二濡れ性可変層１４を透明基板１２の表面１２ａ一面に形成する。
【００７２】
第二濡れ性可変層１４は、濡れ性可変層２０２と同様であるが、光触媒を含有していなくても良い。第二濡れ性可変層１４に光触媒が含有していない方が、アノード１３に対する腐食を抑えることができたり、アノード１３からＥＬ層１５への正孔注入性の低下を抑えることができたりする効果をもたらす。また、第二濡れ性可変層１４の形成方法も濡れ性可変層２０２と同様であるが、塗布液に光触媒を分散させなければ、形成された第二濡れ性可変層１４には光触媒が含まれない。
【００７３】
次に、図９（ａ）に示すように、フォトマスク基板２０３γを用いて、第二濡れ性可変層１４を部分的に露光する。このフォトマスク基板２０３γは活性光線ｈνを透過する平板状の透明基板２０４を有し、この透明基板２０４の表面２０４ａに活性光線ｈνを透過しないマスク２０５が仕切り壁２０のパターンと同じ網目状に形成されており、マスク２０５が網目状となることによってマスク２０５に開口部２０５ａ，２０５ａ，…がマトリクス状に形成されている。すなわち平面視した場合の開口部２０５ａ，２０５ａ，…の配列パターンは、全ての色の画素に対応する囲繞領域１９，１９，…の配列パターンに対応している。また透明基板２０４の下面には、マスク２０５を覆うように光触媒膜２０６が形成されている
【００７４】
フォトマスク基板２０３を用いる場合には、開口部２０５ａ，２０５ａ，…が囲繞領域１９，１９，…にそれぞれ対向するように透明基板２０４を透明基板１２上に配置させる。次いで透明基板２０４の上側から活性光線ｈνを照射すると、光触媒膜２０６の光触媒膜作用によりアノード１３（Ｒ），１５（Ｇ），１５（Ｂ）上においてのみ（つまり、光の照射された部分においてのみ）、第二濡れ性可変層１４の撥液性を示す感応基が脱離して親液性を示す官能基に置換され、親液層１４Ｘ，１４Ｘ，…になる。このとき、仕切り壁２０の表面を覆う第二濡れ性可変層１４は、マスク２０５により活性光線ｈνが遮光されるので親液層１４Ｘに変質することはない。
【００７５】
図９（ｂ）に示すように、版２０８の親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…と撥液性領域２０２ｂからなるパターンの濡れ性可変膜２０２を透明基板１２に対向させる。ここで版２０８の親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…は、マトリクス状に配列されており、撥液性領域２０２ｂは網目状となっている。すなわち、平面視した場合の親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…の配列パターンは、全ての色の画素に対応する囲繞領域１９，１９，…の配列パターンに対応しており、親液層１４Ｘ，１４Ｘ，…のパターンと略同一である。また、それぞれの親液性領域２０２ａの表面には、少なくとも正孔輸送性の材料を含む溶液の液滴６１が互いに等量分、付着されている。液滴６１は、ポリ（３，４）エチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルフォネートの混合物のような有機材料を含む溶液でもよく、正孔輸送性の無機材料が分散された溶液でもよく、これらを混合したものでもよい。液滴６１，６１，…は、版２０８の全面に正孔輸送性の材料を含む溶液を塗布することで表面に設けられた親液性領域２０２ａ及び撥液性領域２０２ｂの親液作用、撥液作用により所定のパターンとすることができる。
そして、以上のような版２０８と透明基板１２を近接させる。
【００７６】
すると図９（ｃ）に示すように、液滴６１，６１，……が透明基板１２の親液層１４Ｘ，１４Ｘ，…にそれぞれ接触することで親液層１４Ｘ，１４Ｘ，…上に転写した後、乾燥することで正孔輸送層１５１となる。このとき液滴６１，６１，…は仮に仕切り壁２０の側壁表面を覆う第二濡れ性可変層１４に接触してもはじかれるので必然的に親液層１４Ｘ，１４Ｘ，…上に滑り落ちることになり、むらなく均等な厚さで親液層１４Ｘ，１４Ｘ，…上に広がるので均等な厚さの正孔輸送層１５１を成膜することができる。
【００７７】
次に、図１０（ａ）に示すように、赤用版２００Ｒを用いて狭義の発光層１５２（Ｒ），１５２（Ｒ），…を形成する。つまり、親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…に所定量の赤色用の有機化合物含有液１５２ｒ，１５２ｒ，…が液滴として付着した赤用版２００Ｒを、赤色用の有機化合物含有液１５２ｒ，１５２ｒ，…が透明基板１２のアノード１３（Ｒ），１３（Ｒ），…上の正孔輸送層１５１（Ｒ），１５１（Ｒ），…に対向するように、赤用版２００Ｒ及び透明基板１２の少なくとも何れかを移動して位置合わせを行う。有機化合物含有液１５２ｒは、狭義の発光層１５２（Ｒ）を構成した有機化合物又はその前駆体を含有した液であり、狭義の発光層１５２（Ｒ）を構成した有機化合物又はその前駆体が溶質として溶媒に溶けた溶液であっても良いし、狭義の発光層１５２（Ｒ）を構成した有機化合物又はその前駆体が液体に分散した分散液であっても良い。
【００７８】
そして、赤用版２００Ｒの赤色用の有機化合物含有液１５２ｒ，１５２ｒ，…が、透明基板１２のアノード１３（Ｒ），１３（Ｒ），…上の正孔輸送層１５１（Ｒ），１５１（Ｒ），…に接触するように、赤用版２００Ｒ及び透明基板１２の少なくとも何れかを移動すると、アノード１３（Ｒ），１３（Ｒ），…上の正孔輸送層１５１（Ｒ），１５１（Ｒ），…上に赤用版２００Ｒの赤色用の有機化合物含有液１５２ｒ，１５２ｒ，…が転写されて、乾燥後、図１０（ｂ）に示すように、狭義の発光層１５２（Ｒ），１５２（Ｒ），…となる。
【００７９】
次に、図１１（ａ）に示すように、緑用版２００Ｇを用いて、狭義の発光層１５２（Ｇ），１５２（Ｇ），…を形成する。つまり、親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…に所定量の緑色用の有機化合物含有液１５２ｇ，１５２ｇ，…が液滴として付着した緑用版２００Ｇを、緑色用の有機化合物含有液１５２ｇ，１５２ｇ，…が透明基板１２のアノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…上の正孔輸送層１５１（Ｇ），１５１（Ｇ），…に対向するように、緑用版２００Ｇ及び透明基板１２の少なくとも何れかを移動して位置合わせを行う。有機化合物含有液１５２ｇは、狭義の発光層１５２（Ｇ）を構成した有機化合物又はその前駆体を含有した液であり、狭義の発光層１５２（Ｇ）を構成した有機化合物又はその前駆体が溶質として溶媒に溶けた溶液であっても良いし、狭義の発光層１５２（Ｇ）を構成した有機化合物又はその前駆体が液体に分散した分散液であっても良い。
【００８０】
そして、緑用版２００Ｇの緑色用の有機化合物含有液１５２ｇ，１５２ｇ，…が、透明基板１２のアノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…上の正孔輸送層１５１（Ｇ），１５１（Ｇ），…に接触するように、緑用版２００Ｇ及び透明基板１２の少なくとも何れかを移動すると、アノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…上の正孔輸送層１５１（Ｇ），１５１（Ｇ），…上に緑用版２００Ｇの緑色用の有機化合物含有液１５２ｒ，１５２ｒ，…が転写されて、乾燥後に狭義の発光層１５２（Ｇ），１５２（Ｇ），…となる。緑色用の有機化合物含有液１５２ｇ，１５２ｇ，…の転写は、アノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…上に転写された赤色用の有機化合物含有液１５２ｒ，１５２，…が乾燥して狭義の発光層１５２（Ｒ）になった後に行った方が歩留まりの点で好ましいが、量産性を優先するのであれば、乾燥が完了する前に転写してもよい。
【００８１】
また図１１（ｂ）に示すように、青用版２００Ｂを用いて狭義の発光層１５２（Ｂ），１５２（Ｂ），…を形成する。つまり、親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…に所定量の青色用の有機化合物含有液１５２ｂ，１５２ｂ，…が液滴として付着した青用版２００Ｂを、青色用の有機化合物含有液１５２ｂ，１５２ｂ，…が透明基板１２のアノード１３（Ｂ），１３（Ｂ），…上の正孔輸送層１５１（Ｂ），１５１（Ｂ），…に対向するように、青用版２００Ｂ及び透明基板１２の少なくとも何れかを移動して位置合わせを行う。有機化合物含有液１５２ｂは、狭義の発光層１５２（Ｂ）を構成した有機化合物又はその前駆体を含有した液であり、狭義の発光層１５２（Ｂ）を構成した有機化合物又はその前駆体が溶質として溶媒に溶けた溶液であっても良いし、狭義の発光層１５２（Ｂ）を構成した有機化合物又はその前駆体が液体に分散した分散液であっても良い。
【００８２】
そして、青用版２００Ｂの青色用の有機化合物含有液１５２ｂ，１５２ｂ，…が、透明基板１２のアノード１３（Ｂ），１３（Ｂ），…上の正孔輸送層１５１（Ｂ），１５１（Ｂ），…に接触するように、青用版２００Ｂ及び透明基板１２の少なくとも何れかを移動すると、アノード１３（Ｂ），１３（Ｂ），…上の正孔輸送層１５１（Ｂ），１５１（Ｂ），…上に青用版２００Ｂの青色用の有機化合物含有液１５２ｂ，１５２ｂ，…が転写されて、乾燥後に狭義の発光層１５２（Ｂ），１５２（Ｂ），…となる。青色用の有機化合物含有液１５２ｂ，１５２ｂ，…の転写は、アノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…上に転写された緑色用の有機化合物含有液１５２ｇ，１５２ｇ，…が乾燥して狭義の発光層１５２（ｇ），１５２（ｇ），…になった後の方が歩留まりの点で好ましいが、量産性を優先するのであれば、乾燥が完了する前に転写してもよい。なお、成膜する順番は、赤色の発光層１５２（Ｒ）、緑色の発光層１５２（Ｇ）、青色の発光層１５２（Ｂ）の順でなくてもよく、また赤色の発光層１５２（Ｒ）、緑色の発光層１５２（Ｇ）、青色の発光層１５２（Ｂ）の順に配列していなくてもよい。
その後、図１１（ｃ）に示すように、蒸着やスパッタのようなＰＶＤ法及びＣＶＤ法といった成膜方法によって、狭義の発光層１５２，１５２，…を被覆するようにしてカソード１６を一面に成膜する。カソード１６の成膜後、図示しない封止材でこれら有機ＥＬ素子１１，１１，…を覆い封止する。
【００８３】
なお、赤用版２００Ｒ、緑用版２００Ｇ及び青用版２００Ｂに親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…をパターニングする際において、第二濡れ性可変層１４に光触媒が含有している場合には、フォトマスク基板２０３βの代わりにフォトマスク基板２０３αを用いても良く、版及びフォトマスク基板の両者に光触媒を設けてもよい。
また、版２０８による液滴６１の付着パターン精度及び透明基板１２への転写パターン精度が高ければ、必ずしも透明基板１２に第二濡れ性可変層１４及び親液層１４Ｘを設ける必要はない。
【００８４】
〔第三の実施の形態〕
ここでは、図１２の断面図に示すように、仕切り壁が無いＥＬ表示パネル１１０について説明する。有機ＥＬ表示パネル１１０の他の構成要素は、第二実施形態の有機ＥＬ表示パネル１０５の構成要素と同様であり、有機ＥＬ表示パネル１０５の構成要素と同様の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００８５】
次に、有機表示パネル１１０の製造方法について、図１３〜図１５に基づいて説明する。図１３〜図１５は、第三実施形態におけるＥＬ表示パネル１１０の製造方法を示した断面図である。
図３（ｃ）に示すように、第一実施形態の場合と同様に、透明基板１２上に信号線５１，５１，…及び走査線５２，５２，…をパターニング形成するとともに、サブピクセルごとにアノード１３及びトランジスタ２１，２１を透明基板１２の表面１２ａ上にパターニング形成する。その後、トランジスタ２１及び信号線５１等の配線を覆うように保護絶縁膜１８を形成する。ここで、第一実施形態では仕切り壁２０をパターニングした、本実施形態では仕切り壁を形成しない。次いで、第一実施形態の場合と同様に、アノード１３，１３，…及び保護絶縁膜１８を被覆するように、透明基板１２の表面１２ａ側、全面に撥液効果を有する第二濡れ性可変層１４を成膜する。この第二濡れ性可変層１４には、光触媒が含まれていないのが望ましい。
【００８６】
次いで、図１３（ａ）に示すように、第二実施形態の場合と同様に、フォトマスク基板２０３γを用いて、第二濡れ性可変層１４を部分的に露光する。つまり、開口部２０５ａ，２０５ａ，…が囲繞領域１９，１９，…の配列パターンにそれぞれ対向するように透明基板２０４を透明基板１２上に配置させた後に、透明基板２０４の上側から活性光線ｈνを照射すると、光触媒膜２０６の光触媒膜作用によりアノード１３（Ｒ），１５（Ｇ），１５（Ｂ）上においてのみ（つまり、光の照射された部分においてのみ）、第二濡れ性可変層１４の撥液性を示す感応基が脱離して親液性を示す官能基に置換され、親液層１４Ｘ，１４Ｘ，…になる。このとき、保護絶縁膜１８の表面を覆う第二濡れ性可変層１４は、マスク２０５により活性光線ｈνが遮光されるので親液層１４Ｘに変質することはない。
【００８７】
図１３（ｂ）に示すように、第二実施形態の場合と同様に、版２０８の親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…に液滴６１を塗布して、版２０８と透明基板１２を近接させる。なお、液滴６１は、少なくとも正孔輸送性の材料を含む溶液であり、ポリ（３，４）エチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルフォネートの混合物のような有機材料を含む溶液でもよく、正孔輸送性の無機材料が分散された溶液でもよく、これらを混合したものでもよい。
【００８８】
すると図１３（ｃ）に示すように、液滴６１，６１，……が透明基板１２の親液層１４Ｘ，１４Ｘ，…にそれぞれ接触することで親液層１４Ｘ，１４Ｘ，…上に転写した後、乾燥することで正孔輸送層１５１となる。このとき液滴６１，６１，…は仮に仕切り壁２０の側壁表面を覆う第二濡れ性可変層１４に接触してもはじかれるので必然的に親液層１４Ｘ，１４Ｘ，…上に滑り落ちることになり、むらなく均等な厚さで親液層１４Ｘ，１４Ｘ，…上に広がるので均等な厚さの正孔輸送層１５１を成膜することができる。
【００８９】
次に、図１４（ａ）に示すように、赤用版２００Ｒを用いて狭義の発光層１５２（Ｒ），１５２（Ｒ），…を形成する。つまり、親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…に所定量の赤色用の有機化合物含有液１５２Ｒ，１５２Ｒ，…が付着した赤用版２００Ｒを、赤色用の有機化合物含有液１５２Ｒ，１５２Ｒ，…が透明基板１２のアノード１３（Ｒ），１３（Ｒ），…上の正孔輸送層１５１（Ｒ），１５１（Ｒ），…に対向するように、赤用版２００Ｒ及び透明基板１２の少なくとも何れかを移動して位置合わせを行う。
【００９０】
そして、赤用版２００Ｒの赤色用の有機化合物含有液１５２ｒ，１５２ｒ，…が、透明基板１２のアノード１３（Ｒ），１３（Ｒ），…上の正孔輸送層１５１（Ｒ），１５１（Ｒ），…に接触するように、赤用版２００Ｒ及び透明基板１２の少なくとも何れかを移動すると、アノード１３（Ｒ），１３（Ｒ），…上の正孔輸送層１５１（Ｒ），１５１（Ｒ），…上に赤用版２００Ｒの赤色用の有機化合物含有液１５２ｒ，１５２ｒ，…が転写されて、乾燥後、図１４（ｂ）に示すように、狭義の発光層１５２（Ｒ），１５２（Ｒ），…となる。
【００９１】
次に、図１５（ａ）に示すように、緑用版２００Ｇを用いて、狭義の発光層１５２（Ｇ），１５２（Ｇ），…を形成する。つまり、親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…に所定量の緑色用の有機化合物含有液１５２ｇ，１５２ｇ，…が付着した緑用版２００Ｇを、緑色用の有機化合物含有液１５２ｇ，１５２ｇ，…が透明基板１２のアノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…上の正孔輸送層１５１（Ｇ），１５１（Ｇ），…に対向するように、緑用版２００Ｇ及び透明基板１２の少なくとも何れかを移動して位置合わせを行う。
【００９２】
そして、緑用版２００Ｇの緑色用の有機化合物含有液１５２ｇ，１５２ｇ，…が、透明基板１２のアノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…上の正孔輸送層１５１（Ｇ），１５１（Ｇ），…に接触するように、緑用版２００Ｇ及び透明基板１２の少なくとも何れかを移動すると、アノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…上の正孔輸送層１５１（Ｇ），１５１（Ｇ），…上に緑用版２００Ｇの緑色用の有機化合物含有液１５２ｒ，１５２ｒ，…が転写されて、乾燥後に狭義の発光層１５２（Ｇ），１５２（Ｇ），…となる。緑色用の有機化合物含有液１５２ｇ，１５２ｇ，…の転写は、アノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…上に転写された赤色用の有機化合物含有液１５２ｒ，１５２，…が乾燥して狭義の発光層１５２（Ｒ）になった後に行った方が歩留まりの点で好ましいが、量産性を優先するのであれば、乾燥が完了する前に転写してもよい。
【００９３】
また、図１５（ｂ）に示すように、青用版２００Ｂを用いて狭義の発光層１５２（Ｂ），１５２（Ｂ），…を形成する。つまり、親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…に所定量の青色用の有機化合物含有液１５２ｂ，１５２ｂ，…が付着した青用版２００Ｂを、青色用の有機化合物含有液１５２ｂ，１５２ｂ，…が透明基板１２のアノード１３（Ｂ），１３（Ｂ），…上の正孔輸送層１５１（Ｂ），１５１（Ｂ），…に対向するように、青用版２００Ｂ及び透明基板１２の少なくとも何れかを移動して位置合わせを行う。
【００９４】
そして、青用版２００Ｂの青色用の有機化合物含有液１５２ｂ，１５２ｂ，…が、透明基板１２のアノード１３（Ｂ），１３（Ｂ），…上の正孔輸送層１５１（Ｂ），１５１（Ｂ），…に接触するように、青用版２００Ｂ及び透明基板１２の少なくとも何れかを移動すると、アノード１３（Ｂ），１３（Ｂ），…上の正孔輸送層１５１（Ｂ），１５１（Ｂ），…上に青用版２００Ｂの青色用の有機化合物含有液１５２ｂ，１５２ｂ，…が転写されて、乾燥後に狭義の発光層１５２（Ｂ），１５２（Ｂ），…となる。青色用の有機化合物含有液１５２ｂ，１５２ｂ，…の転写は、アノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…上に転写された緑色用の有機化合物含有液１５２ｇ，１５２ｇ，…が乾燥して狭義の発光層１５２（ｇ），１５２（ｇ），…になった後の方が歩留まりの点で好ましいが、量産性を優先するのであれば、乾燥が完了する前に転写してもよい。なお、成膜する順番は、赤色の発光層１５２（Ｒ）、緑色の発光層１５２（Ｇ）、青色の発光層１５２（Ｂ）の順でなくてもよく、また赤色の発光層１５２（Ｒ）、緑色の発光層１５２（Ｇ）、青色の発光層１５２（Ｂ）の順に配列していなくてもよい。
その後、図１５（ｃ）に示すように、蒸着やスパッタのようなＰＶＤ法及びＣＶＤ法といった成膜方法によって、狭義の発光層１５２，１５２，…を被覆するようにしてカソード１６を一面に成膜する。カソード１６の成膜後、図示しない封止材でこれら有機ＥＬ素子１１，１１，…を覆い封止する。
【００９５】
なお、版２０８による液滴６１の付着パターン精度及び透明基板１２への転写パターン精度が高ければ、必ずしも透明基板１２に第二濡れ性可変層１４及び親液層１４Ｘを設ける必要はない。
また、赤用版２００Ｒ、緑用版２００Ｇ及び青用版２００Ｂに親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…をパターニングする際ににおいて、第二濡れ性可変層１４に光触媒が含有している場合には、フォトマスク基板２０３βの代わりにフォトマスク基板２０３αを用いても良く、版及びフォトマスク基板の両者に光触媒を設けてもよい。
【００９６】
本実施形態においても、第一実施形態と同様に、赤の正孔輸送層１５１（Ｒ），１５１（Ｒ），…、緑の正孔輸送層１５１（Ｇ），１５１（Ｇ），…、青の正孔輸送層１５１（Ｂ），１５１（Ｂ），…をそれぞれまとめて形成することができる。更に、赤の発光層１５２（Ｒ），１５２（Ｒ），…、緑の発光層１５２（Ｇ），１５２（Ｇ），…、青の発光層１５２（Ｂ），１５２（Ｂ），…をそれぞれまとめて形成することができる。従って、短時間で有機ＥＬ表示パネル１１０を製造することができる。また、版２００Ｒ，２００Ｇ，２００Ｂを用いて転写によってＥＬ層１５，１５，…をパターニングするため、ＥＬ層１５の厚みが不均一になるということもない上、インクジェット方式に比較してもＥＬ層１５を高精細に配列して形成することができる。
更に、親液性と撥液性とからなるパターンを第二濡れ性可変層１４に形成しているため、第一実施形態のように仕切り壁２０を形成せずともサブピクセルごとにＥＬ層１５をパターニングすることができる。
【００９７】
なお、本発明は上記各実施の形態に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、種々の改良並びに設計の変更を行っても良い。
上記各実施形態では、カソード１６が全ての有機ＥＬ素子１１，１１，…について共通しているが、有機ＥＬ素子１１の発光色ごとに共通のカソードを形成しても良い。また、有機ＥＬ素子１１ごとにカソードを形成しても良い。カソードを有機ＥＬ素子１１ごとに形成した場合、アノードを全ての有機ＥＬ素子１１，１１，…に共通させてもよいが、サブピクセルごとの画素回路はカソードに接続されることになる。また、有機ＥＬ素子１１を透明基板１２から順にカソード、ＥＬ層、アノードの順にしても良い。また、各実施形態においてはトランジスタ２１，２１，…を設けたアクティブマトリクス有機ＥＬ表示パネルに本発明を適用したが、単純マトリクス駆動の表示パネルにも応用できる。
【００９８】
【発明の効果】
本発明によれば、光学材料層を複数の画素分をまとめて成膜することが可能となり、インクジェットのように各画素に塗布するよりも生産性に優れている。また、パターンの濡れ性可変層の撥液部では、光学材料含有液をはじくので、所望のパターン箇所に光学材料含有液の大部分が溜まるので必要最低限量の光学材料含有液を用いればよく、低コスト化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を適用した第一実施形態に係る有機ＥＬ表示パネルを示した平面図である。
【図２】図１に示された有機ＥＬ表示パネルの断面図である。
【図３】図１に示された有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示した図面である。
【図４】図１に示された有機ＥＬ表示パネルを製造するために用いる版の製造工程を示した図面である。
【図５】図１に示された有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示した図面である。
【図６】図１に示された有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示した図面である。
【図７】第一実施形態の変形例として図１に示された有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示した図面である。
【図８】本発明を適用した第二実施形態に係る有機ＥＬ表示パネルを示した断面図である。
【図９】図８に示された有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示した図面である。
【図１０】図８に示された有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示した図面である。
【図１１】図８に示された有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示した図面である。
【図１２】本発明を適用した第三実施形態に係る有機ＥＬ表示パネルを示した断面図である。
【図１３】図１２に示された有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示した図面である。
【図１４】図１２に示された有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示した図面である。
【図１５】図１２に示された有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示した図面である。
【符号の説明】
１０、１０５、１１０ 有機ＥＬ表示パネル（表示装置）
１３ アノード（第一電極）
１４ 第二濡れ性可変層
１４Ｘ 親液層
１５（Ｒ） 赤色に発光するＥＬ層（光学材料層）
１５（Ｇ） 緑色に発光するＥＬ層（光学材料層）
１５（Ｂ） 青色に発光するＥＬ層（光学材料層）
１６ カソード（第二電極）
２０ 仕切り壁
６０ｒ、６０ｇ、６０ｂ 有機化合物含有液（液滴）
６１ 液滴
１５１ 正孔輸送層（光学材料層）
１５２ 狭義の発光層（光学材料層）
１５２ｒ、１５２ｇ、１５２ｂ 有機化合物含有液（液滴）
２００Ｒ 赤用版
２００Ｇ 緑用版
２００Ｂ 青用版
２０２ 濡れ性可変膜
２０３α フォトマスク基板
２０３β フォトマスク基板
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学素子が基板上に設けられた表示装置並びに表示装置の製造方法及び製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
有機ＥＬ素子はアノード、有機化合物からなるＥＬ層、カソードの順に積層された積層構造を為しており、アノードとカソードの間に正バイアス電圧が印加されるとＥＬ層において発光する。このような複数の有機ＥＬ素子を赤、緑、青の何れかに発光させるサブピクセルとして基板上にマトリクス状に配列して画像表示を行う有機ＥＬ表示パネルが実現化されている。
【０００３】
アクティブマトリクス駆動型有機ＥＬ表示パネルでは、アノード又はカソードのうちの一方の電極を全てのサブピクセルに共通する共通電極とすることができるが、少なくとも他方の電極及びＥＬ層をサブピクセルごとにパターニングする必要がある。アノードやカソードをサブピクセルごとにパターニングする手法は従来の半導体装置製造技術を適用できる。つまり、ＰＶＤ法又はＣＶＤ法等による成膜工程、フォトリソグラフィー法等によるマスク工程、エッチング法等による薄膜の形状加工工程を適宜行うことで、アノードやカソードをサブピクセルごとにパターニングすることができる。
【０００４】
一方、インクジェット技術を応用することでサブピクセルごとにＥＬ層をパターニングする技術が提案されている（例えば、特許文献１、特許文献２）。つまり、ＥＬ層になる材料を有機溶媒で溶解した有機溶液を液滴としてサブピクセルごとにノズルから吐出することで、サブピクセルごとにＥＬ層をパターニングすることができる。
【０００５】
【特許文献１】
特開平１０−１２３７７号公報
【特許文献２】
特開２０００−３５３５９４号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、インクジェット方式でＥＬ層をパターニングする場合、ノズルの先端部において有機溶液が乾燥し粘度が高くなってしまい、ノズルが詰まることでＥＬ層が形成されていない不良サブピクセルが発生したり、サブピクセル内のＥＬ層の厚みが不均一になったりすることもある。
【０００７】
また、インクジェット方式でＥＬ層をパターニングする場合、ノズルを基板に対して走査させサブピクセル毎に有機溶液を吐出する必要があるため、面内の全ＥＬ層をパターニングするのに要する時間が長くなってしまう。短時間で面内の全ＥＬ層をパターニングするためには、インクジェット装置に複数のノズルを設け、有機溶液を複数のノズルから同時に塗布することが必要となる。この場合、複数のノズルを面内に配列するようにしてインクジェット装置に備え付ける必要がある。しかしながら、サブピクセルを高精細に配列し高解像度の有機ＥＬ表示パネルを提供するためには、複数のノズルも高精細に配列する必要があるが、それは困難である。従って、インクジェット方式では、高精細なＥＬ層のパターニングを短時間に行うことが困難である。
【０００８】
そこで、本発明の目的は、高精細な画素パターニングを効率よく行うことによって得られる表示装置並びに表示装置の製造方法及び表示装置の製造装置を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
以上の課題を解決するために、請求項１に記載の表示装置の製造方法は、基板に設けられた第一電極及び第二電極を有する光学素子を具備する表示装置を製造する表示装置の製造方法において、前記第一電極は仕切り壁に囲繞されており、濡れ性の相違によるパターンの濡れ性可変層に従って光学材料含有液の液滴を付着した平板状の版の前記液滴を、平板の状態の前記基板側の前記第一電極に接触させるか或いは前記仕切り壁に接触させることにより前記仕切り壁に囲繞された領域に転写する転写工程を含むことを特徴とする。
【００１０】
本発明によれば、光学材料含有液を複数の画素分をまとめて成膜することが可能となり、インクジェットのように各画素に塗布するよりも生産性に優れている。また、パターンの濡れ性可変層の撥液部では、光学材料含有液をはじくので、所望のパターン箇所に光学材料含有液の大部分が溜まるので必要最低限量の光学材料含有液を用いればよく、低コスト化を図ることができる。
【００１１】
請求項１０に記載の発明は、基板に設けられた第一電極及び第二電極を有する光学素子を具備した表示装置を製造するための表示装置の製造装置において、活性光線の被照射によって光学材料含有液に対する濡れ性が変化することによって形成された濡れ性相違によるパターンからなる濡れ性可変層に従って前記光学材料含有液の液滴が付着された平板状の版であって、前記液滴を平板の状態の前記基板側の前記第一電極に接触させるか或いは前記第一電極を囲繞する仕切り壁に接触させることにより転写するための版と、前記液滴を前記基板側の前記第一電極に接触させるか或いは前記第一電極を囲繞する仕切り壁に接触させる機構と、を備えることを特徴とする。
本発明によれば、濡れ性の相違を活性光線を照射することで版の所望の位置に液滴をパターニングできる構造なので、インクジェットに比べて速やかに光学材料含有液の液滴を基板側に転写することが可能となる。
【００１２】
なお、光学材料含有液とは、光学材料層を構成する有機化合物又はその前駆体を含有した液体であり、この液体は、有機化合物又はその前駆体が溶解した溶液であっても良いし、有機化合物又はその前駆体が分散した分散液であっても良く、一部に無機物を含むものであってもよい。
また、活性光線とは、光触媒を励起する光線であり、可視光線、紫外線、電子線、赤外線等を含む意である。
また、光触媒とは、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、チタン酸ストロンチウム、酸化タングステン、酸化ビスマス、酸化鉄である。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下に、図面を用いて本発明の具体的な態様について説明する。ただし、発明の範囲を図示例に限定するものではない。また、以下の説明において、『平面視して』とは、『透明基板１２（後述）に対して垂直な方向に見て』という意味である。
【００１４】
〔第一の実施の形態〕
図１は、表示装置である有機ＥＬ表示パネル１０の平面図であり、図２は、図１に示された切断線Ｓ１−Ｓ２で破断して示した断面図である。
【００１５】
有機ＥＬ表示パネル１０は、赤、緑、青のサブピクセルが平面視してマトリクス状に配列されており、アクティブマトリクス駆動方式によりマトリクス表示を行うものである。即ち、有機ＥＬ表示パネル１０では、一つのサブピクセルにつき、一つの有機ＥＬ素子１１と、有機ＥＬ素子１１を駆動するための一つの画素回路とから構成されており、周辺ドライバ（図示略）から信号線５１及び走査線５２を介して画素回路へ信号が入力されると、画素回路は信号に従って有機ＥＬ素子１１に流れる電流をオン・オフしたり、有機ＥＬ素子１１の発光期間中に電流値を保持することで有機ＥＬ素子１１の発光輝度を一定に保ったりする。画素回路は、一サブピクセルにつき、少なくとも一つ以上の薄膜トランジスタから構成され、適宜コンデンサ等も付加されることもあるが、本実施形態では画素回路が二つのトランジスタ２１，２１から構成されている。また、連続して配列された赤、緑及び青の三つのサブピクセルが、一つの組となって、一つのピクセルとなる。
【００１６】
有機ＥＬ表示パネル１０は平板状の透明基板１２を有しており、透明基板１２の表面１２ａ上には、横方向に延在した複数の走査線５２，５２，…が形成されている。走査線５２，５２，…は、平面視して、ほぼ等間隔となって互いに平行に配列されている。走査線５２，５２，…は、導電性を有しており、透明基板１２の表面１２ａ一面に成膜されたゲート絶縁膜２３によって被膜されている。このゲート絶縁膜２３上には、縦方向に延在した複数の信号線５１，５１，…が形成されており、平面視して信号線５１，５１，…は走査線５２，５２，…に対して直交している。信号線５１，５１，…も、平面視して、ほぼ等間隔となって互いに平行に配列されている。
【００１７】
透明基板１２の表面１２ａには、複数のトランジスタ２１，２１，…が形成されている。各トランジスタ２１は、ゲート電極２２、ゲート絶縁膜２３、半導体膜２４、不純物半導体膜２５，２６、ドレイン電極２７、ソース電極２８から構成されており、これらが積層されてなるＭＯＳ型電界効果トランジスタである。ゲート絶縁膜２３は、透明基板１２一面に成膜されており、全てのトランジスタ２１，２１，…について共通の層となっている。
【００１８】
トランジスタ２１，２１、…は保護絶縁膜１８によって被覆されている。平面視して、保護絶縁膜１８が信号線５１及び走査線５２に沿って網目状に形成されることで、保護絶縁膜１８によって囲繞された複数の囲繞領域１９，１９，…が透明基板１２上にマトリクス状に配列されたように形成される。保護絶縁膜１８は、酸化シリコン（ＳｉＯ2）及び窒化シリコン（ＳｉＮ）といった無機珪素化物で形成されている。
【００１９】
保護絶縁膜１８に重なるようにして、仕切り壁２０が保護絶縁膜１８上に形成されており、仕切り壁２０も保護絶縁膜１８と同様に平面視して網目状に形成されている。仕切り壁２０の幅は、透明基板１２に近づくにつれて大きくなっている。仕切り壁２０は、絶縁性を有しており、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂及びノボラック樹脂といった感光性樹脂といった有機化合物で形成されている。また、仕切り壁２０の表面に撥液性を有した膜（例えば、フッ素樹脂膜）が形成されていても良いし、仕切り壁２０の表層が撥液性を有するようにしても良い。ここで、撥液性とは、光学材料含有液である有機化合物含有液との接触角が４０°を越える表面の性質であって有機化合物含有液をはじきやすい性質をいう。有機化合物含有液とは、後述するＥＬ層１５を構成した光学材料である有機化合物又はその前駆体を含有した液であり、ＥＬ層１５を構成した有機化合物又はその前駆体が溶質として溶媒に溶けた溶液であっても良いし、ＥＬ層１５を構成した有機化合物又はその前駆体が液体に分散した分散液であっても良い。仕切り壁２０の撥液性については、「親液処理・撥液処理」の項で詳説する。
【００２０】
次に、光学素子である有機ＥＬ素子１１について説明する。有機ＥＬ素子１１は、透明基板１２側からアノード１３、ＥＬ層１５、カソード１６の順に積層した積層構造となっている。アノード１３は、可視光に対して透過性を有するとともに導電性を有する。アノード１３は、比較的仕事関数の高いものである。アノード１３は、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛若しくは酸化スズ又はこれらのうちの少なくとも一つを含む混合物（例えば、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛ドープ酸化インジウム）で形成されている。
【００２１】
平面視して、アノード１３は信号線５１，５１，…と走査線５２，５２，…に囲まれた各領域に配設されており、複数のアノード１３、１３，…が互いに間隔をあけて且つマトリクス状になってゲート絶縁膜２３上に配列されている。
【００２２】
また、平面視して、アノード１３はそれぞれ囲繞領域１９に対応して臨んでおり、囲繞領域１９の面積はアノード１３の面積より小さく、囲繞領域１９はアノード１３内に配されており、アノード１３の外周部は保護絶縁膜１８及び仕切り壁２０の一部に重なって被覆されている。ここではアノード１３がトランジスタ２１のソース電極２８に接続されているが、画素回路の回路構成によっては他のトランジスタやコンデンサにアノード１３が接続されていても良い。また、アノード１３の表面に親液性を有した膜が形成されていても良いし、アノード１３の表層が親液性を有するようにしても良い。ここで、親液性とは、有機化合物含有液との接触角が４０°以下の表面の性質であって、有機化合物含有液をはじきにくい性質をいう。有機化合物含有液になじむ性質をいう。なお、アノード１３の親液性については、「親液処理・撥液処理」の項で詳説する。
【００２３】
それぞれのアノード１３上にはＥＬ層１５が成膜されている。平面視して、これらＥＬ層１５，１５，…は、マトリクス状に配列されており、それぞれの囲繞領域１９内に配設されている。
【００２４】
各ＥＬ層１５は、有機化合物である発光材料で形成された光学材料層であって、アノード１３から注入された正孔とカソード１６から注入された電子を再結合させることで励起子を生成して、赤色、緑色、青色の何れかに発光する層である。例えば、赤色に発光するＥＬ層１５、緑色に発光するＥＬ層１５、青色に発光するＥＬ層１５の順に横方向に配列されており、これら三色のＥＬ層１５，１５，１５によって一ピクセルの色調が定まる。なお、図面において赤色に発光するＥＬ層１５には括弧書きでＲを付し、緑色に発光するＥＬ層１５には括弧書きでＧを付し、青色に発光するＥＬ層１５には括弧書きでＢを付し、それぞれの色に対応するアノード１３及び囲繞領域１９にもＲ、Ｇ、Ｂを括弧書きで付す。
【００２５】
各ＥＬ層１５には、電子輸送性の物質が適宜混合されていても良いし、正孔輸送性の物質が適宜混合されても良いし、電子輸送性の物質及び正孔輸送性の物質が適宜混合されていても良い。
【００２６】
また、各ＥＬ層１５は、アノード１３から順に正孔輸送層、狭義の発光層、電子輸送層となる三層構造であったり、アノード１３から順に正孔輸送層、狭義の発光層となる二層構造であったり、狭義の発光層からなる一層構造であったり、これらの層構造において適切な層間に電子或いは正孔の注入層が介在した積層構造であったりする。これらＥＬ層１５，１５，…は、後述するように水なし平版印刷法によって成膜される。なお、正孔輸送層、狭義の発光層、電子輸送層も有機化合物からなる層であって、光学材料層である。
カソード１６は、全てのＥＬ層１５，１５，…と仕切り壁２０を被覆するように透明基板１２一面に連続して形成されており、それぞれの囲繞領域１９内においてアノード１３と対向している。カソード１６は、少なくとも仕事関数の低い材料を含み、具体的にはマグネシウム、カルシウム、リチウム、バリウム若しくは希土類からなる単体又はこれらの単体を少なくとも一種を含む合金で形成されている。更に、カソード１６が積層構造となっていても良く、例えば、上述のような低仕事関数材料で形成された膜上にアルミニウム、クロム等の高仕事関数で且つ低抵抗率の材料で被膜した積層構造でも良い。また、カソード１６は可視光に対して遮光性を有するのが望ましく、さらに、ＥＬ層１５から発する可視光に対して高い反射性を有するのが望ましい。つまり、カソード１６は可視光を反射する鏡面として作用することで光の利用効率を向上することができる。
【００２７】
以上のように、カソード１６は、全てのサブピクセルについて連続して共通した層となっており、アノード１３及びＥＬ層１５は、サブピクセルごとに独立して形成されている。
【００２８】
次に、有機ＥＬ表示パネル１０の製造方法について説明する。
有機ＥＬ表示パネル１０の製造方法は、以下のような工程からなる。
（ア）駆動基板製造工程：透明基板１２上にトランジスタ２１，２１，…、アノード１３，１３，…及び仕切り壁２０等を順次形成する。
（イ）印刷工程：それぞれの色の版を用いて、色ごとにＥＬ層１５，１５，…を形成する。つまり、赤色用の有機化合物含有液を赤用版に塗布し、赤用版に塗布された有機化合物含有液を透明基板１２に転写することによって、赤色用のそれぞれのアノード１３（Ｒ）上に赤色のＥＬ層１５（Ｒ）を成膜する。同様に、緑色のＥＬ層１５（Ｇ）、青色のＥＬ層１５（Ｂ）の成膜もそれぞれ緑用版、青用版を用いて順次行う。
（ウ）電極形成工程：カソード１６を成膜する。
以下、これら工程について詳説する。
【００２９】
まず、（ア）駆動基板製造工程の前に下準備として「製版工程」を行う。製版工程は、赤、緑、青の色ごとに原版を準備する。そして、これら原版から、赤色のＥＬ層１５（Ｒ）をパターニングするための赤用版、緑色のＥＬ層１５（Ｇ）をパターニングするための緑用版、青色のＥＬ層１５（Ｂ）をパターニングするための青用版を製版する。
製版方法は二通りある。どちらの製版方法も光触媒反応を利用しており、赤用版、緑用版、青用版の何れにも適用することができる。
【００３０】
第一の製版方法について説明する。
まず、図３（ａ）に示すように、平板状の基材である基板２０１の表面２０１ａ上に濡れ性可変層２０２を成膜し、これが版の元となる原版となる。
濡れ性可変層２０２は、活性光線ｈνの被照射により濡れ性が変化する層であり、このような濡れ性の変化を引き起こす光触媒を含有する。活性光線ｈνとしては、可視光線、紫外線、赤外線等があるが、光触媒を励起するものである。
【００３１】
濡れ性可変層２０２に用いられる光触媒材料としては、例えば光半導体として知られている酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ2）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ3）、酸化タングステン（ＷＯ3）、酸化ビスマス（Ｂｉ2Ｏ3）、酸化鉄（Ｆｅ2Ｏ3）のような金属酸化物を挙げることができるが、特に酸化チタンが好ましい。酸化チタンにおいては、アナターゼ型とルチル型のいずれも使用することができるが、アナターゼ型酸化チタンが励起波長が３８０ｎｍ以下であるからより好ましい。光触媒含有層中の光触媒の量は、５重量％〜６０重量％であることが好ましく、２０重量％〜４０重量％であることがより好ましい。
【００３２】
濡れ性可変層２０２に用いることのできるバインダーは、好ましくは主骨格が前記光触媒の光励起により分解されないような高い結合エネルギーを有するものであり、例えば、（Ａ）ゾルゲル反応等によりクロロまたはアルコキシシラン等を加水分解、重縮合して大きな強度を発揮するオルガノポリシロキサン、或いは（Ｂ）撥水性や撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋したオルガノポリシロキサン等を挙げることができる。
【００３３】
前記（Ａ）の場合、一般式Ｒ3 nＳｉＲ4 4-n（ｎ＝１〜３）で表される珪素化合物の１種または２種以上の加水分解縮合物、共加水分解化合物が主体であることができる。前記一般式では、Ｒ3は例えばアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基またはエポキシ基であることができ、Ｒ4は例えばハロゲンやハロゲンを含む官能基、メトキシル基、エトキシル基、またはアセチル基であることができる。また、バインダーとして、特に好ましくはフルオロアルキル基を含有するポリシロキサンを用いることができ、具体的には、フルオロアルキルシランの１種または２種以上の加水分解縮合物、共加水分解縮合物が挙げられ、また、一般にフッ素系シランカップリング剤として知られているものを使用してもよい。フルオロアルキル基としては、例えば、次の一般式（１），（２）で表す官能基が挙げられる。
−（ＣＨ2）a（ＣＦ2）bＣＦ3 …（１）
−（ＣＨ2）c（ＣＦ2）dＣＦ（ＣＦ3）2 …（２）
一般式（１），（２）において、ａ，ｂ，ｃ，ｄはいずれも０以上の整数である。
【００３４】
前記（Ｂ）の反応性シリコーンとしては、下記一般式（３）で表される骨格を持つ化合物を挙げることができる。
−（Ｓｉ（Ｒ1）（Ｒ2）Ｏ）n− …（３）
一般式（３）において、ｎは２以上の整数、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキル、アルケニル、アリールあるいはシアノアルキル基であることができる。好ましくは全体の４０モル％以下がビニル、フェニル、ハロゲン化フェニルであることができる。また、Ｒ1とＲ2のうちの少なくとも一方がメチル基であるものは表面エネルギーが最も小さくなるので好ましく、好ましくはメチル基が６０モル％以上であり、鎖末端または側鎖には、分子鎖中に少なくとも１個以上の水酸基などの反応性基を有する。
【００３５】
また、前記のオルガノポリシロキサンとともにジメチルポリシロキサンのような架橋反応を起こさない安定なオルガノシリコン化合物をバインダーに混合してもよい。
【００３６】
濡れ性可変層２０２の形成方法は、例えば光触媒を含んだ塗布液を、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、ビードコートなどの方法により基材に塗布して形成することができる。光触媒等を含む塗布液を用いる場合に、塗布液に使用することができる溶剤としては、特に限定されないが、例えばエタノール、イソプロパノールといったアルコール系の有機溶剤を挙げることができる。
【００３７】
濡れ性可変層２０２の形成方法の一例を詳述する。
基板２０１を純水で洗浄し、フルオロアルキル基を有したシラザン化合物を溶解した塗布液（以下、シラザン系溶液という。）を基板２０１の表面２０１ａ上にディップコート法により塗布する。このシラザン系溶液には、光触媒を分散させる。
【００３８】
ここで、「フルオロアルキル基を有したシラザン化合物」とは、Ｓｉ−Ｎ−Ｓｉ結合を有し、Ｎ又は／及びＳｉにフルオロアルキル基が結合したものであり、例えば次の一般式（１）で表すモノマー、オリゴマー又はポリマーが挙げられる。
ＲｆＳｉ（ＮＨ）3/2 …（４）
一般式（４）においてＲｆは、フルオロアルキル基である。
【００３９】
シラザン系溶液の溶媒としては、フッ素系溶剤が挙げられる。
【００４０】
シラザン化合物として、次の一般式（５）及び化学構造式（６）で表せるシラザンオリゴマー（ＫＰ−８０１Ｍ：信越化学工業株式会社製）を用いる。そして、上述のディップコート工程においては、このシラザンオリゴマーを溶質としてｍ−キシレンヘキサフロイド溶媒に溶かしたシラザン系溶液（濃度３％）をディップコート法により基板２０１に塗布する。
Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4Ｓｉ（ＮＨ）3/2 …（５）
【化１】
次いで、基板２０１に窒素ガス及びアルゴンガスといった不活性ガスを吹き付けて、シラザン系溶液の溶媒を蒸発させることで、シラザン化合物が基板２０１の表面２０１ａに堆積した状態となる。溶媒は加熱により蒸発させてもよい。
【００４２】
次いで、基板２０１を１０〜３０分間放置すると、雰囲気中の水分によってシラザン化合物が加水分解して基板２０１の表面と結合するとともに重合して珪素と酸素からなる主鎖に対してフルオロアルキル基が結合した縮合物をバインダーとした濡れ性可変層２０２が基板２０１上に成膜される。濡れ性可変層２０２に含まれる縮合物は、次の一般式（７）で表される。
【化２】
一般式（７）において、Ｒｆは上述したように撥液性を示すフルオロアルキル基であり、Ｘは基板２０１の原子又は基板２０１の表面に化学吸着した原子であり、シラザン化合物が一般式（５）で表されるシラザンオリゴマーの場合には、ＲｆはＣ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4となる。この濡れ性可変層２０２のバインダーが、フッ素を含む官能基を側鎖に含んだ縮合物であるから、有機化合物含有液に対して濡れ性が低く、撥液性を示す。また、成膜された濡れ性可変層２０２には、光触媒が含有している。
【００４４】
そして、図３（ｂ）に示すように、フォトマスク基板２０３αを用いて濡れ性可変層２０２に活性光線ｈνを部分的に照射することで、赤用版２００Ｒが完成する。
ここで、フォトマスク基板２０３αは活性光線ｈνを透過する平板状の透明基板２０４を有し、この透明基板２０４の表面２０４ａに活性光線ｈνをほとんど透過しないマスク２０５が網目状に形成されており、マスク２０５が網目状となることによってマスク２０５に開口部２０５ａ，２０５ａ，…が形成されている。平面視した場合の開口部２０５ａ，２０５ａ，…の配列パターンは、赤色に発光する画素に対応する囲繞領域１９（Ｒ），１９（Ｒ），…の配列パターンと同様である。
【００４５】
以上のようなフォトマスク基板２０３αを濡れ性可変層２０２に対向させて、フォトマスク基板２０３αを介して活性光線ｈνを濡れ性可変層２０２に入射させる。フォトマスク基板２０３αのマスク２０５では活性光線ｈνが遮蔽され、開口部２０５ａ，２０５ａ，…では活性光線ｈνが通過し、濡れ性可変層２０２に活性光線ｈνが入射する。活性光線ｈνの入射した親液性領域２０２ａでは、光触媒（例えば酸化チタン）に活性光線ｈνが入射されることで活性酸素種（例えば・ＯＨ）が生成され、この活性酸素種が撥液性を示す官能基（例えばＲｆ）を脱離させ、親液性を示す官能基（例えば−ＯＨ）に置換する。このため、活性光線ｈνの入射した親液性領域２０２ａは、濡れ性が向上して親液性を示す。これにより、濡れ性可変層２０２には、濡れ性の相違によるパターンであって、親液性領域２０２ａと撥液性領域２０２ｂからなるパターンが形成される。
【００４６】
活性光線ｈνの入射した親液性領域２０２ａは、濡れ性可変層２０２において赤色発光画素の囲繞領域１９（Ｒ）に対応しており、活性光線ｈνの入射していない撥液性領域２０２ｂは、緑色発光画素の囲繞領域１９（Ｇ）及び青色発光画素の囲繞領域１９（Ｂ）並びに仕切り壁２０に対応している。従って、平面視した場合の親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…の配列パターンは、平面視した場合の囲繞領域１９（Ｒ），１９（Ｒ），…の配列パターンと同様である。
【００４７】
緑用版２００Ｇ（図５に図示）、青用版２００Ｂ（図５に図示）を製版する場合にも赤用版２００Ｒと同様に用いて原版に活性光線ｈνを部分的に照射することによって製版するが、緑用版２００Ｇの場合にはフォトマスク基板を用いて緑色用の囲繞領域１９（Ｇ），１９（Ｇ），…に対応した領域のみにおいて濡れ性可変層２０２に活性光線ｈνを入射させ、青用版２００Ｂの場合にはフォトマスク基板を用いて青色用の囲繞領域１９（Ｂ），１９（Ｂ），…に対応した領域のみにおいて濡れ性可変層２０２に活性光線ｈνを入射させる。従って、緑用版２００Ｇにおいては、平面視した場合の親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…の配列パターンは、平面視した場合の囲繞領域１９（Ｇ），１９（Ｇ），…の配列パターンと同様であり、青用版２００Ｂにおいては、平面視した場合の親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…の配列パターンは、平面視した場合の囲繞領域１９（Ｂ），１９（Ｂ），…の配列パターンと同様である。
【００４８】
第二の製版方法について説明する。
第二の製版方法では、光触媒が濡れ性可変層２０２に含有していなくても良い。但し、図４に示すように、第一の製版方法で用いたフォトマスク基板２０３αの代わりにフォトマスク基板２０３βを用いる。フォトマスク基板２０３βはフォトマスク基板２０３αと同様に透明基板２０４及びマスク２０５を有し、更に、光触媒膜２０６がマスク２０５全体を被覆するように透明基板２０４の表面２０４ａ一面に成膜されている。光触媒膜２０６の光触媒材料としては、酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ2）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ3）、酸化タングステン（ＷＯ3）、酸化ビスマス（Ｂｉ2Ｏ3）、酸化鉄（Ｆｅ2Ｏ3）のような金属酸化物を挙げることができる。光触媒膜２０６のバインダーは活性光線ｈνによる耐性があれば特に限定されない。
【００４９】
そして、フォトマスク基板２０３βを濡れ性可変層２０２に対向させて、フォトマスク基板２０３βの上方から開口部２０５ａ，２０５ａ，…に活性光線ｈνを部分的に照射すると、光触媒膜２０６が活性光線ｈνにより励起されて活性酸素種（・ＯＨ）を生成し、この活性酸素種により対向する親液性領域２０２ａが撥液性から親液性に変わり、親液性と撥液性の相違によるパターンの版２００Ｒが完成する。ここで、マスク２０５では活性光線ｈνが遮蔽される。光触媒の作用は、光触媒膜２０６に活性光線ｈνが入射することによって活性酸素種が発生し、活性酸素種がフォトマスク基板２０３βと濡れ性可変層２０２との間の気相を拡散し、濡れ性可変層２０２に到達した活性酸素が濡れ性可変層２０２の撥液性を示す官能基を脱離させ、親液性を示す官能基に置換させたものである。
【００５０】
また、第二の製版方法は、緑用版２００Ｇ、青用版２００Ｂを製版する際にも適用することができる。第二の製版方法は、フォトマスク基板２０３βに光触媒膜２０６が形成されていることを除いては、上記第一の製版方法と同様である。また、第二の製版方法においても、第一の製版方法と同様に濡れ性可変層２０２に光触媒を含ませてもよい。
【００５１】
「（ア）駆動基板製造工程」
図３（ｃ）に示すように、ＰＶＤ法及びＣＶＤ法といった成膜工程、フォトリソグラフィー法といったマスク工程、エッチング法といった薄膜の形状加工工程を適宜行うことによって、行方向に配列するように複数の走査線５２，５２，…及びゲート電極２２をパターニングしてから、透明基板１２の表面１２ａ一面に成膜されたゲート絶縁膜２３に被膜する。次いで半導体膜２４、不純物半導体膜２５，２６をそれぞれ成膜パターニングし、サブピクセルごとにアノード１３を透明基板１２の表面１２ａ上にパターニング形成する。そして行方向と直交する列方向に配列するように複数の信号線５１，５１，…をパターニング形成するとともにドレイン電極２７、ソース電極２８をパターニングする。ここで、アノード１３及びトランジスタ２１をパターニング形成する際には、トランジスタ２１のソース電極２８とアノード１３が接続されるように、レジストでマスクする。
【００５２】
アノード１３，１３，…及びトランジスタ２１，２１，…の形成後、ＰＶＤ法及びＣＶＤ法といった成膜工程、フォトリソグラフィー法といったマスク工程、エッチング法といった薄膜の形状加工工程を行うことによって、それぞれのアノード１３を囲繞するように窒化シリコンや酸化シリコンからなる網目状の保護絶縁膜１８を形成する。次いで、ポリイミド等の感光性樹脂からなる感光性樹脂膜を透明基板１２の一面に成膜し、この感光性樹脂膜を部分的に露光した後に除去液を感光性樹脂膜に塗布することによって、感光性樹脂膜を網目状に形状加工する。これにより感光性樹脂からなる網目状の仕切り壁２０が形成され、保護絶縁膜１８及び仕切り壁２０に囲繞された囲繞領域１９，１９，…が形成され、各囲繞領域１９においてアノード１３が露出している（図３（ｄ））。なお、感光性樹脂膜を露光する際において、感光性樹脂膜がネガ型の場合には、保護絶縁膜１８に重なった部分に光を照射し、逆に感光性樹脂膜がポジ型の場合には、保護絶縁膜１８に囲繞された領域の部分に光を照射する。
【００５３】
次いで、透明基板１２の表面１２ａ側を即ちアノード１３，１３，…、保護絶縁膜１８及び仕切り壁２０の表面を洗浄する。洗浄としては、大気圧未満の減圧下における酸素プラズマ洗浄であっても良いし、紫外線／オゾン洗浄であっても良い。必要に応じて、各囲繞領域１９内のアノード１３の表面を親液処理するとともに、仕切り壁２０の表面を撥液処理する。これについては「親液処理・撥液処理」の項において詳述する。なお、透明基板１２の表面１２ａにアノード１３，１３，…、トランジスタ２１，２１，…、保護絶縁膜１８及び仕切り壁２０が形成されたものを、駆動基板という。
【００５４】
「（イ）印刷工程」
図５（ａ）に示すように、赤用版２００Ｒの濡れ性可変層２０２に赤色用の有機化合物含有液６０ｒを塗布する。塗布方法としては、ディップコート法、ダイコート法、ロールコート法、スピンコート法等がある。濡れ性可変層２０２において活性光線ｈνの照射された親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…が親液性であり且つ活性光線ｈνが照射されなかった撥液性領域２０２ｂが撥液性であるから、活性光線ｈνが照射された親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…にのみに有機化合物含有液６０ｒが液滴として付着する。このとき、有機化合物含有液６０ｒの表面張力を利用して、赤用版２００Ｒを振動させて、撥液性領域２０２ｂに有機化合物含有液６０ｒがわずかに残った場合、残査となる有機化合物含有液６０ｒを赤用版２００Ｒの外へはじいてもよく、或いは赤用版２００Ｒを傾けることで親液性領域２０２ａの有機化合物含有液６０ｒを残しながら撥液性領域２０２ｂ上の有機化合物含有液６０ｒを自重で滑り落としてもよく、さらには赤用版２００Ｒを傾けながら振動させることで撥液性領域２０２ｂ上の不要の有機化合物含有液６０ｒを外へはじくことができる。
【００５５】
そして、図５（ｂ）に示すように、トランジスタ２１，２１，…、アノード１３，１３，…及び仕切り壁２０等が形成された透明基板１２の表面１２ａに版２００を対向させる。ここで、赤用のアノード１３（Ｒ），１３（Ｒ），…有機化合物含有液の付着した親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…をそれぞれ対向させるように、透明基板１２と赤用版２００Ｒの位置合わせを行う。そして、赤用版２００Ｒの面から突出している有機化合物含有液６０ｒがアノード１３（Ｒ）に接触することで、それぞれの親液性領域２０２ａに付着した有機化合物含有液６０ｒを赤用のアノード１３（Ｒ）に転写する。アノード１３がＩＴＯである場合、表面が平滑でない金属酸化物なので比較的有機化合物含有液６０ｒになじみやすい。これにより、それぞれの囲繞領域１９（Ｒ）内において赤色に発光する画素に対応するアノード１３（Ｒ）上に赤色に発光するＥＬ層１５（Ｒ）が形成される（図５（ｃ））。このとき、位置合わせが若干ずれていて、有機化合物含有液６０ｒが仕切り壁２０の側壁に接触しても、仕切り壁２０の側壁から赤用のアノード１３（Ｒ）上に滑り落ちるので、成膜された赤色のＥＬ層１５（Ｒ）の厚さが表示に影響ある程度にばらつくことはない。なお、仕切り壁２０によって囲繞領域１９（Ｒ），（Ｒ），…が仕切られているため、囲繞領域１９（Ｒ）に転写された有機化合物含有液６０ｒが、異なる色の有機化合物含有液が成膜される隣りの囲繞領域１９に漏れることが殆どない。
【００５６】
次いで、赤色の場合と同様に、緑用版２００Ｇを用いて、液滴である緑色用の有機化合物含有液６０ｇをアノード１３（Ｇ）に接触させることでアノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…に転写し、それぞれの囲繞領域１９（Ｇ）内においてアノード１３（Ｇ）上に緑色のＥＬ層１５（Ｇ）を形成する（図６（ａ））。次いで、赤色の場合と同様に、青用版２００Ｂを用いて、液滴である青色用の有機化合物含有液６０ｂをアノード１３（Ｂ）に接触させることでアノード１３（Ｂ），１３（Ｂ），…に転写し、それぞれの囲繞領域１９（Ｂ）内においてアノード１３（Ｂ）上に緑色のＥＬ層１５（Ｂ）を形成する（図６（ｂ））。なお、成膜する順番は、赤色のＥＬ層１５（Ｒ）、緑色のＥＬ層１５（Ｇ）、青色のＥＬ層１５（Ｂ）の順でなくてもよく、また赤色のＥＬ層１５（Ｒ）、緑色のＥＬ層１５（Ｇ）、青色のＥＬ層１５（Ｂ）の順に配列していなくてもよい。
【００５７】
「（ウ）電極形成工程」
蒸着やスパッタのようなＰＶＤ法及びＣＶＤ法といった成膜方法によって、ＥＬ層１５，１５，…を被覆するようにしてカソード１６を一面に成膜する（図６（ｃ））。カソード１６の成膜後、封止材でこれら有機ＥＬ素子１１，１１，…を封止する。
【００５８】
以上のように製造された有機ＥＬ表示パネル１０では、画素回路が信号線５１及び走査線５２を介して入力した信号に従って有機ＥＬ素子１１に電流を流す。有機ＥＬ素子１１では、アノード１３からＥＬ層１５へ正孔が注入され且つカソード１６からＥＬ層１５へ電子が注入されることで、電流が流れる。そして、ＥＬ層１５において正孔及び電子が輸送されて、ＥＬ層１５にて正孔及び電子が再結合することによってＥＬ層１５で発光する。アノード１３，１３，…及び透明基板１２が透明であるため、ＥＬ層１５で発した光は透明基板１２の裏面１２ｂから出射し、裏面１２ｂが表示面となる。
【００５９】
以上のように本実施の形態では、色ごとに版２００Ｒ，２００Ｇ，２００Ｂを製版し、それぞれの版を用いて色ごとにＥＬ層１５，１５，…を形成するので、赤のＥＬ層１５（Ｒ），１５（Ｒ），…、緑のＥＬ層１５（Ｇ），１５（Ｇ），…、青のＥＬ層１５（Ｂ），１５（Ｂ），…をそれぞれまとめて形成することができる。つまり、（イ）印刷工程において転写を単に三回行うことによって透明基板１２上の全てのＥＬ層１５，１５，…を形成することができるから、短時間で有機ＥＬ表示パネル１０を製造することができる。
また、インクジェット方式のようにノズルを用いてＥＬ層を形成するのではなく、版２００Ｒ，２００Ｇ，２００Ｂを用いて転写によってＥＬ層１５，１５，…をパターニングするため、ＥＬ層が成膜される画素数が多くなるほど高効率に成膜することができ、またインクジェットのような目詰まりがないのでＥＬ層１５の厚みが不均一になるということもない上、インクジェット方式に比較してもＥＬ層１５を高精細に配列して形成することができる。
【００６０】
「親液処理・撥液処理」
（イ）の印刷工程の前に、図７（ａ）に示すように、透明基板１２の表面１２ａ側を純水で洗浄、乾燥後に、アノード１３，１３，…及び仕切り壁２０全体を被覆するような第二濡れ性可変層１４を透明基板１２の表面１２ａ一面に形成しても良い。
【００６１】
第二濡れ性可変層１４は、版２００の元となる原版材の濡れ性可変層２０２と同様であるが、光触媒を含有していなくても良い。第二濡れ性可変層１４に光触媒が含有していない方が、アノード１３に対する腐食を抑えることができたり、アノード１３からＥＬ層１５への正孔注入性の低下を抑えることができたりするという効果をもたらす。また、第二濡れ性可変層１４の形成方法も濡れ性可変層２０２と同様であるが、塗布液に光触媒を分散させなければ、形成された第二濡れ性可変層１４には光触媒が含まれない。
【００６２】
（イ）の印刷工程の前では、第二濡れ性可変層１４は、全体が撥液性となっており、有機化合物含有液をはじく撥液層になっている。（イ）の印刷工程では、版を用いてそれぞれの色のＥＬ層１５（Ｒ），１５（Ｇ），１５（Ｂ）を形成する前に、第二濡れ性可変層１４をそれぞれの色のアノード１３（Ｒ），１５（Ｇ），１５（Ｂ）に重なった領域において活性光線ｈνを照射する。
【００６３】
つまり、図７（ａ）に示すように、赤用版２００ＲでＥＬ層１５（Ｒ），１５（Ｒ），…を形成する前に、例えば赤用版２００Ｒを製版する際に用いたフォトマスク基板２０３α又はフォトマスク基板２０３β（図中では透明基板２０４の下面に光触媒膜２０６が形成されたフォトマスク基板２０３β）を用いて赤色に発光する画素に対応する囲繞領域１９（Ｒ），１９（Ｒ），…に重なった領域にのみ活性光線ｈνを照射する。これにより、第二濡れ性可変層１４は、赤用のアノード１３（Ｒ），１３（Ｒ），…に重なった領域内にて親液性の親液層１４（Ｒ）となる。
【００６４】
次いで、上述の（イ）の印刷工程で説明したように赤用版２００Ｒを用いて赤用のアノード１３（Ｒ），１３（Ｒ），…の表面に形成された親液層１４（Ｒ）上に赤色に発光するＥＬ材料を含む溶液を転写して塗布する。囲繞領域１９（Ｒ）に有機化合物含有液を転写する前に、囲繞領域１９（Ｒ）内のみにおいて第二濡れ性可変層１４が親液性の親液層１４（Ｒ）に変質しているため、赤色に発光するＥＬ材料を含む溶液になじみ、仕切り壁２０や他の色の囲繞領域１９（Ｇ），１９（Ｂ）の表面では、撥液性を示す第二濡れ性可変層１４が成膜されているために、赤色に発光するＥＬ材料を含む溶液をはじくので赤色の囲繞領域１９（Ｒ）のみに赤色に発光するＥＬ材料を含む溶液が溜まり、溶液中の溶媒が乾燥することでＥＬ層１５（Ｒ），１５（Ｒ），…が形成される。なお、赤色に発光するＥＬ材料は、溶液中でポリマでもよく、また溶液が成膜されてから重合するモノマやオリゴマでもよい。
【００６５】
次いで、緑用版を製版する際に用いたフォトマスク基板を用いて、第二濡れ性可変層１４のうち緑用の囲繞領域１９（Ｇ），１９（Ｇ），…にのみ活性光線ｈνを照射して囲繞領域１９（Ｇ），１９（Ｇ），…内の第二濡れ性可変層１４を親液層１４（Ｇ）に変質させ（図７（ｂ）に図示。）、その後上記（イ）の印刷工程で説明したように緑用版を用いて緑用のアノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…の表面に形成された親液層１４（Ｇ）上に緑色に発光するＥＬ材料を含む溶液を転写して塗布する。囲繞領域１９（Ｇ）の表面は親液層１４（Ｇ）のために溶液になじむが、仕切り壁２０や他の色の囲繞領域１９（Ｂ）の表面は、撥液性を示す第二濡れ性可変層１４のままであるために、緑色に発光するＥＬ材料を含む溶液をはじくので緑色の囲繞領域１９（Ｇ）のみに緑色に発光するＥＬ材料を含む溶液が溜まり、溶液中の溶媒が乾燥することでＥＬ層１５（Ｇ），１５（Ｇ），…が形成される。なお、緑色に発光するＥＬ材料は、溶液中でポリマでもよく、また溶液が成膜されてから重合するモノマやオリゴマでもよい。
【００６６】
次いで、青用版を製版する際に用いたフォトマスク基板を用いて、第二濡れ性可変層１４のうち緑用の囲繞領域１９（Ｂ），１９（Ｂ），…にのみ活性光線ｈνを照射して囲繞領域１９（Ｂ），１９（Ｂ），…内の第二濡れ性可変層１４を親液層１４（Ｂ）に変質させ（図７（ｃ）に図示。）、その後上記（イ）の印刷工程で説明したように青用版を用いて青用のアノード１３（Ｂ），１３（Ｂ），…上にＥＬ層１５（Ｂ），１５（Ｂ），…の表面に形成された親液層１４（Ｂ）上に青色に発光するＥＬ材料を含む溶液を塗布する。囲繞領域１９（Ｂ）の表面は親液層１４（Ｂ）のために溶液になじむが、仕切り壁２０の表面は、撥液性を示す第二濡れ性可変層１４のままであるために、青色に発光するＥＬ材料を含む溶液をはじくので青色の囲繞領域１９（Ｂ）のみに青色に発光するＥＬ材料を含む溶液が溜まり、溶液中の溶媒が乾燥することでＥＬ層１５（Ｂ），１５（Ｂ），…が形成される。なお、青色に発光するＥＬ材料は、溶液中でポリマでもよく、また溶液が成膜されてから重合するモノマやオリゴマでもよい。
【００６７】
図７（ａ）〜図７（ｃ）において、光触媒膜２０６の形成されたフォトマスク基板２０３βを図示しているが、第二濡れ性可変層１４に光触媒が含有している場合にはフォトマスク基板２０３αを用いても良い。
【００６８】
例えば上記一般式（５）で示されたようなフルオロアルキル基を有したシラザン化合物を加水分解・縮合させることで第二濡れ性可変層１４を成膜した場合、珪素と酸素の主鎖がアノード１３，１３，…、保護絶縁膜１８及び仕切り壁２０の表面に沿った状態で形成され、第二濡れ性可変層１４が非常に薄い。その上、親液層１４（Ｒ）、親液層１４（Ｇ）、親液層１４（Ｂ）では、第二濡れ性可変層１４の厚さ方向に並んだフルオロアルキル基が水酸基に置換されているから、各囲繞領域１９内の親液層１４（Ｒ）、親液層１４（Ｇ）、親液層１４（Ｂ）の厚さが０．０ｎｍより厚く且つ１．０ｎｍ以下の厚さと更に薄くなる。つまり、親液層１４（Ｒ）、親液層１４（Ｇ）及び親液層１４（Ｂ）は、光が照射されていない部分（撥液部）より薄い。従って、アノード１３とＥＬ層１５との間に親液層１４（Ｒ）、親液層１４（Ｇ）、親液層１４（Ｂ）のいずれかが介在しても親液層１４（Ｒ）、親液層１４（Ｇ）、親液層１４（Ｂ）の絶縁性を無視することができ、アノード１３からＥＬ層１５へ正孔が注入されることが阻害されない。
【００６９】
なお、第二濡れ性可変層１４を形成せずに、以下のようにしてアノード１３，１３，…の表面を親液性とし、仕切り壁２０の表面を撥液性としても良い。即ち、上記（イ）の印刷工程の前に、仕切り壁２０に向けてＣＦ4プラズマといったフッ化物プラズマを照射することで、仕切り壁２０の表層でフッ素のラジカル種が反応し、仕切り壁２０の表層にフッ化物（主にフッ素と炭素の化合物）が形成される。これにより、仕切り壁２０の表面が撥液性となる。次いで、アノード１３，１３，…に向けて酸素プラズマを照射することによってアノード１３，１３，…の表層をアッシングすると、アノード１３，１３，…の表層の不純物が除去される。これにより、アノード１３，１３，…が親液性となる。その後、上述した（イ）の印刷工程を行う。
【００７０】
〔第二の実施の形態〕
ここでは、図８の断面図に示すように、ＥＬ層１５が複数の電荷輸送層で構成されるＥＬ表示パネル１０５について説明する。つまり、この有機ＥＬ表示パネル１０５においては、ＥＬ層１５が、アノード１３，１３，…から順に正孔輸送層１５１、狭義の発光層１５２の順に積層した積層構造である。有機ＥＬ表示パネル１０５の他の構成要素は、第一実施形態の有機ＥＬ表示パネル１０の構成要素と同様であり、有機ＥＬ表示パネル１０の構成要素と同様の符号を付して詳細な説明を省略する。図面において、赤色に発光する狭義の発光層１５２には括弧書きでＲを付し、緑色に発光する狭義の発光層１５２には括弧書きでＧを付し、青色に発光する狭義の発光層１５２には括弧書きでＢを付し、それぞれの色に対応する正孔輸送層１５１にもＲ、Ｇ、Ｂを括弧書きで付す。
【００７１】
次に、ＥＬ表示パネル１０５の製造方法について、図９〜図１１に基づいて説明する。図９〜図１１は、第二実施形態におけるＥＬ表示パネル１０５の製造方法を示した断面図である。
まず、第一実施形態の場合と同様に、（ア）の駆動基板製造工程を行うことによって駆動基板を製造し、駆動基板の表面側を純水で洗浄した後にアノード１３，１３，…及び仕切り壁２０全体を被覆するような第二濡れ性可変層１４を透明基板１２の表面１２ａ一面に形成する。
【００７２】
第二濡れ性可変層１４は、濡れ性可変層２０２と同様であるが、光触媒を含有していなくても良い。第二濡れ性可変層１４に光触媒が含有していない方が、アノード１３に対する腐食を抑えることができたり、アノード１３からＥＬ層１５への正孔注入性の低下を抑えることができたりする効果をもたらす。また、第二濡れ性可変層１４の形成方法も濡れ性可変層２０２と同様であるが、塗布液に光触媒を分散させなければ、形成された第二濡れ性可変層１４には光触媒が含まれない。
【００７３】
次に、図９（ａ）に示すように、フォトマスク基板２０３γを用いて、第二濡れ性可変層１４を部分的に露光する。このフォトマスク基板２０３γは活性光線ｈνを透過する平板状の透明基板２０４を有し、この透明基板２０４の表面２０４ａに活性光線ｈνを透過しないマスク２０５が仕切り壁２０のパターンと同じ網目状に形成されており、マスク２０５が網目状となることによってマスク２０５に開口部２０５ａ，２０５ａ，…がマトリクス状に形成されている。すなわち平面視した場合の開口部２０５ａ，２０５ａ，…の配列パターンは、全ての色の画素に対応する囲繞領域１９，１９，…の配列パターンに対応している。また透明基板２０４の下面には、マスク２０５を覆うように光触媒膜２０６が形成されている
【００７４】
フォトマスク基板２０３を用いる場合には、開口部２０５ａ，２０５ａ，…が囲繞領域１９，１９，…にそれぞれ対向するように透明基板２０４を透明基板１２上に配置させる。次いで透明基板２０４の上側から活性光線ｈνを照射すると、光触媒膜２０６の光触媒膜作用によりアノード１３（Ｒ），１５（Ｇ），１５（Ｂ）上においてのみ（つまり、光の照射された部分においてのみ）、第二濡れ性可変層１４の撥液性を示す感応基が脱離して親液性を示す官能基に置換され、親液層１４Ｘ，１４Ｘ，…になる。このとき、仕切り壁２０の表面を覆う第二濡れ性可変層１４は、マスク２０５により活性光線ｈνが遮光されるので親液層１４Ｘに変質することはない。
【００７５】
図９（ｂ）に示すように、版２０８の親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…と撥液性領域２０２ｂからなるパターンの濡れ性可変膜２０２を透明基板１２に対向させる。ここで版２０８の親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…は、マトリクス状に配列されており、撥液性領域２０２ｂは網目状となっている。すなわち、平面視した場合の親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…の配列パターンは、全ての色の画素に対応する囲繞領域１９，１９，…の配列パターンに対応しており、親液層１４Ｘ，１４Ｘ，…のパターンと略同一である。また、それぞれの親液性領域２０２ａの表面には、少なくとも正孔輸送性の材料を含む溶液の液滴６１が互いに等量分、付着されている。液滴６１は、ポリ（３，４）エチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルフォネートの混合物のような有機材料を含む溶液でもよく、正孔輸送性の無機材料が分散された溶液でもよく、これらを混合したものでもよい。液滴６１，６１，…は、版２０８の全面に正孔輸送性の材料を含む溶液を塗布することで表面に設けられた親液性領域２０２ａ及び撥液性領域２０２ｂの親液作用、撥液作用により所定のパターンとすることができる。
そして、以上のような版２０８と透明基板１２を近接させる。
【００７６】
すると図９（ｃ）に示すように、液滴６１，６１，……が透明基板１２の親液層１４Ｘ，１４Ｘ，…にそれぞれ接触することで親液層１４Ｘ，１４Ｘ，…上に転写した後、乾燥することで正孔輸送層１５１となる。このとき液滴６１，６１，…は仮に仕切り壁２０の側壁表面を覆う第二濡れ性可変層１４に接触してもはじかれるので必然的に親液層１４Ｘ，１４Ｘ，…上に滑り落ちることになり、むらなく均等な厚さで親液層１４Ｘ，１４Ｘ，…上に広がるので均等な厚さの正孔輸送層１５１を成膜することができる。
【００７７】
次に、図１０（ａ）に示すように、赤用版２００Ｒを用いて狭義の発光層１５２（Ｒ），１５２（Ｒ），…を形成する。つまり、親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…に所定量の赤色用の有機化合物含有液１５２ｒ，１５２ｒ，…が液滴として付着した赤用版２００Ｒを、赤色用の有機化合物含有液１５２ｒ，１５２ｒ，…が透明基板１２のアノード１３（Ｒ），１３（Ｒ），…上の正孔輸送層１５１（Ｒ），１５１（Ｒ），…に対向するように、赤用版２００Ｒ及び透明基板１２の少なくとも何れかを移動して位置合わせを行う。有機化合物含有液１５２ｒは、狭義の発光層１５２（Ｒ）を構成した有機化合物又はその前駆体を含有した液であり、狭義の発光層１５２（Ｒ）を構成した有機化合物又はその前駆体が溶質として溶媒に溶けた溶液であっても良いし、狭義の発光層１５２（Ｒ）を構成した有機化合物又はその前駆体が液体に分散した分散液であっても良い。
【００７８】
そして、赤用版２００Ｒの赤色用の有機化合物含有液１５２ｒ，１５２ｒ，…が、透明基板１２のアノード１３（Ｒ），１３（Ｒ），…上の正孔輸送層１５１（Ｒ），１５１（Ｒ），…に接触するように、赤用版２００Ｒ及び透明基板１２の少なくとも何れかを移動すると、アノード１３（Ｒ），１３（Ｒ），…上の正孔輸送層１５１（Ｒ），１５１（Ｒ），…上に赤用版２００Ｒの赤色用の有機化合物含有液１５２ｒ，１５２ｒ，…が転写されて、乾燥後、図１０（ｂ）に示すように、狭義の発光層１５２（Ｒ），１５２（Ｒ），…となる。
【００７９】
次に、図１１（ａ）に示すように、緑用版２００Ｇを用いて、狭義の発光層１５２（Ｇ），１５２（Ｇ），…を形成する。つまり、親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…に所定量の緑色用の有機化合物含有液１５２ｇ，１５２ｇ，…が液滴として付着した緑用版２００Ｇを、緑色用の有機化合物含有液１５２ｇ，１５２ｇ，…が透明基板１２のアノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…上の正孔輸送層１５１（Ｇ），１５１（Ｇ），…に対向するように、緑用版２００Ｇ及び透明基板１２の少なくとも何れかを移動して位置合わせを行う。有機化合物含有液１５２ｇは、狭義の発光層１５２（Ｇ）を構成した有機化合物又はその前駆体を含有した液であり、狭義の発光層１５２（Ｇ）を構成した有機化合物又はその前駆体が溶質として溶媒に溶けた溶液であっても良いし、狭義の発光層１５２（Ｇ）を構成した有機化合物又はその前駆体が液体に分散した分散液であっても良い。
【００８０】
そして、緑用版２００Ｇの緑色用の有機化合物含有液１５２ｇ，１５２ｇ，…が、透明基板１２のアノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…上の正孔輸送層１５１（Ｇ），１５１（Ｇ），…に接触するように、緑用版２００Ｇ及び透明基板１２の少なくとも何れかを移動すると、アノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…上の正孔輸送層１５１（Ｇ），１５１（Ｇ），…上に緑用版２００Ｇの緑色用の有機化合物含有液１５２ｒ，１５２ｒ，…が転写されて、乾燥後に狭義の発光層１５２（Ｇ），１５２（Ｇ），…となる。緑色用の有機化合物含有液１５２ｇ，１５２ｇ，…の転写は、アノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…上に転写された赤色用の有機化合物含有液１５２ｒ，１５２，…が乾燥して狭義の発光層１５２（Ｒ）になった後に行った方が歩留まりの点で好ましいが、量産性を優先するのであれば、乾燥が完了する前に転写してもよい。
【００８１】
また図１１（ｂ）に示すように、青用版２００Ｂを用いて狭義の発光層１５２（Ｂ），１５２（Ｂ），…を形成する。つまり、親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…に所定量の青色用の有機化合物含有液１５２ｂ，１５２ｂ，…が液滴として付着した青用版２００Ｂを、青色用の有機化合物含有液１５２ｂ，１５２ｂ，…が透明基板１２のアノード１３（Ｂ），１３（Ｂ），…上の正孔輸送層１５１（Ｂ），１５１（Ｂ），…に対向するように、青用版２００Ｂ及び透明基板１２の少なくとも何れかを移動して位置合わせを行う。有機化合物含有液１５２ｂは、狭義の発光層１５２（Ｂ）を構成した有機化合物又はその前駆体を含有した液であり、狭義の発光層１５２（Ｂ）を構成した有機化合物又はその前駆体が溶質として溶媒に溶けた溶液であっても良いし、狭義の発光層１５２（Ｂ）を構成した有機化合物又はその前駆体が液体に分散した分散液であっても良い。
【００８２】
そして、青用版２００Ｂの青色用の有機化合物含有液１５２ｂ，１５２ｂ，…が、透明基板１２のアノード１３（Ｂ），１３（Ｂ），…上の正孔輸送層１５１（Ｂ），１５１（Ｂ），…に接触するように、青用版２００Ｂ及び透明基板１２の少なくとも何れかを移動すると、アノード１３（Ｂ），１３（Ｂ），…上の正孔輸送層１５１（Ｂ），１５１（Ｂ），…上に青用版２００Ｂの青色用の有機化合物含有液１５２ｂ，１５２ｂ，…が転写されて、乾燥後に狭義の発光層１５２（Ｂ），１５２（Ｂ），…となる。青色用の有機化合物含有液１５２ｂ，１５２ｂ，…の転写は、アノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…上に転写された緑色用の有機化合物含有液１５２ｇ，１５２ｇ，…が乾燥して狭義の発光層１５２（ｇ），１５２（ｇ），…になった後の方が歩留まりの点で好ましいが、量産性を優先するのであれば、乾燥が完了する前に転写してもよい。なお、成膜する順番は、赤色の発光層１５２（Ｒ）、緑色の発光層１５２（Ｇ）、青色の発光層１５２（Ｂ）の順でなくてもよく、また赤色の発光層１５２（Ｒ）、緑色の発光層１５２（Ｇ）、青色の発光層１５２（Ｂ）の順に配列していなくてもよい。
その後、図１１（ｃ）に示すように、蒸着やスパッタのようなＰＶＤ法及びＣＶＤ法といった成膜方法によって、狭義の発光層１５２，１５２，…を被覆するようにしてカソード１６を一面に成膜する。カソード１６の成膜後、図示しない封止材でこれら有機ＥＬ素子１１，１１，…を覆い封止する。
【００８３】
なお、赤用版２００Ｒ、緑用版２００Ｇ及び青用版２００Ｂに親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…をパターニングする際において、第二濡れ性可変層１４に光触媒が含有している場合には、フォトマスク基板２０３βの代わりにフォトマスク基板２０３αを用いても良く、版及びフォトマスク基板の両者に光触媒を設けてもよい。
また、版２０８による液滴６１の付着パターン精度及び透明基板１２への転写パターン精度が高ければ、必ずしも透明基板１２に第二濡れ性可変層１４及び親液層１４Ｘを設ける必要はない。
【００８４】
〔第三の実施の形態〕
ここでは、図１２の断面図に示すように、仕切り壁が無いＥＬ表示パネル１１０について説明する。有機ＥＬ表示パネル１１０の他の構成要素は、第二実施形態の有機ＥＬ表示パネル１０５の構成要素と同様であり、有機ＥＬ表示パネル１０５の構成要素と同様の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００８５】
次に、有機表示パネル１１０の製造方法について、図１３〜図１５に基づいて説明する。図１３〜図１５は、第三実施形態におけるＥＬ表示パネル１１０の製造方法を示した断面図である。
図３（ｃ）に示すように、第一実施形態の場合と同様に、透明基板１２上に信号線５１，５１，…及び走査線５２，５２，…をパターニング形成するとともに、サブピクセルごとにアノード１３及びトランジスタ２１，２１を透明基板１２の表面１２ａ上にパターニング形成する。その後、トランジスタ２１及び信号線５１等の配線を覆うように保護絶縁膜１８を形成する。ここで、第一実施形態では仕切り壁２０をパターニングした、本実施形態では仕切り壁を形成しない。次いで、第一実施形態の場合と同様に、アノード１３，１３，…及び保護絶縁膜１８を被覆するように、透明基板１２の表面１２ａ側、全面に撥液効果を有する第二濡れ性可変層１４を成膜する。この第二濡れ性可変層１４には、光触媒が含まれていないのが望ましい。
【００８６】
次いで、図１３（ａ）に示すように、第二実施形態の場合と同様に、フォトマスク基板２０３γを用いて、第二濡れ性可変層１４を部分的に露光する。つまり、開口部２０５ａ，２０５ａ，…が囲繞領域１９，１９，…の配列パターンにそれぞれ対向するように透明基板２０４を透明基板１２上に配置させた後に、透明基板２０４の上側から活性光線ｈνを照射すると、光触媒膜２０６の光触媒膜作用によりアノード１３（Ｒ），１５（Ｇ），１５（Ｂ）上においてのみ（つまり、光の照射された部分においてのみ）、第二濡れ性可変層１４の撥液性を示す感応基が脱離して親液性を示す官能基に置換され、親液層１４Ｘ，１４Ｘ，…になる。このとき、保護絶縁膜１８の表面を覆う第二濡れ性可変層１４は、マスク２０５により活性光線ｈνが遮光されるので親液層１４Ｘに変質することはない。
【００８７】
図１３（ｂ）に示すように、第二実施形態の場合と同様に、版２０８の親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…に液滴６１を塗布して、版２０８と透明基板１２を近接させる。なお、液滴６１は、少なくとも正孔輸送性の材料を含む溶液であり、ポリ（３，４）エチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルフォネートの混合物のような有機材料を含む溶液でもよく、正孔輸送性の無機材料が分散された溶液でもよく、これらを混合したものでもよい。
【００８８】
すると図１３（ｃ）に示すように、液滴６１，６１，……が透明基板１２の親液層１４Ｘ，１４Ｘ，…にそれぞれ接触することで親液層１４Ｘ，１４Ｘ，…上に転写した後、乾燥することで正孔輸送層１５１となる。このとき液滴６１，６１，…は仮に仕切り壁２０の側壁表面を覆う第二濡れ性可変層１４に接触してもはじかれるので必然的に親液層１４Ｘ，１４Ｘ，…上に滑り落ちることになり、むらなく均等な厚さで親液層１４Ｘ，１４Ｘ，…上に広がるので均等な厚さの正孔輸送層１５１を成膜することができる。
【００８９】
次に、図１４（ａ）に示すように、赤用版２００Ｒを用いて狭義の発光層１５２（Ｒ），１５２（Ｒ），…を形成する。つまり、親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…に所定量の赤色用の有機化合物含有液１５２Ｒ，１５２Ｒ，…が付着した赤用版２００Ｒを、赤色用の有機化合物含有液１５２Ｒ，１５２Ｒ，…が透明基板１２のアノード１３（Ｒ），１３（Ｒ），…上の正孔輸送層１５１（Ｒ），１５１（Ｒ），…に対向するように、赤用版２００Ｒ及び透明基板１２の少なくとも何れかを移動して位置合わせを行う。
【００９０】
そして、赤用版２００Ｒの赤色用の有機化合物含有液１５２ｒ，１５２ｒ，…が、透明基板１２のアノード１３（Ｒ），１３（Ｒ），…上の正孔輸送層１５１（Ｒ），１５１（Ｒ），…に接触するように、赤用版２００Ｒ及び透明基板１２の少なくとも何れかを移動すると、アノード１３（Ｒ），１３（Ｒ），…上の正孔輸送層１５１（Ｒ），１５１（Ｒ），…上に赤用版２００Ｒの赤色用の有機化合物含有液１５２ｒ，１５２ｒ，…が転写されて、乾燥後、図１４（ｂ）に示すように、狭義の発光層１５２（Ｒ），１５２（Ｒ），…となる。
【００９１】
次に、図１５（ａ）に示すように、緑用版２００Ｇを用いて、狭義の発光層１５２（Ｇ），１５２（Ｇ），…を形成する。つまり、親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…に所定量の緑色用の有機化合物含有液１５２ｇ，１５２ｇ，…が付着した緑用版２００Ｇを、緑色用の有機化合物含有液１５２ｇ，１５２ｇ，…が透明基板１２のアノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…上の正孔輸送層１５１（Ｇ），１５１（Ｇ），…に対向するように、緑用版２００Ｇ及び透明基板１２の少なくとも何れかを移動して位置合わせを行う。
【００９２】
そして、緑用版２００Ｇの緑色用の有機化合物含有液１５２ｇ，１５２ｇ，…が、透明基板１２のアノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…上の正孔輸送層１５１（Ｇ），１５１（Ｇ），…に接触するように、緑用版２００Ｇ及び透明基板１２の少なくとも何れかを移動すると、アノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…上の正孔輸送層１５１（Ｇ），１５１（Ｇ），…上に緑用版２００Ｇの緑色用の有機化合物含有液１５２ｒ，１５２ｒ，…が転写されて、乾燥後に狭義の発光層１５２（Ｇ），１５２（Ｇ），…となる。緑色用の有機化合物含有液１５２ｇ，１５２ｇ，…の転写は、アノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…上に転写された赤色用の有機化合物含有液１５２ｒ，１５２，…が乾燥して狭義の発光層１５２（Ｒ）になった後に行った方が歩留まりの点で好ましいが、量産性を優先するのであれば、乾燥が完了する前に転写してもよい。
【００９３】
また、図１５（ｂ）に示すように、青用版２００Ｂを用いて狭義の発光層１５２（Ｂ），１５２（Ｂ），…を形成する。つまり、親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…に所定量の青色用の有機化合物含有液１５２ｂ，１５２ｂ，…が付着した青用版２００Ｂを、青色用の有機化合物含有液１５２ｂ，１５２ｂ，…が透明基板１２のアノード１３（Ｂ），１３（Ｂ），…上の正孔輸送層１５１（Ｂ），１５１（Ｂ），…に対向するように、青用版２００Ｂ及び透明基板１２の少なくとも何れかを移動して位置合わせを行う。
【００９４】
そして、青用版２００Ｂの青色用の有機化合物含有液１５２ｂ，１５２ｂ，…が、透明基板１２のアノード１３（Ｂ），１３（Ｂ），…上の正孔輸送層１５１（Ｂ），１５１（Ｂ），…に接触するように、青用版２００Ｂ及び透明基板１２の少なくとも何れかを移動すると、アノード１３（Ｂ），１３（Ｂ），…上の正孔輸送層１５１（Ｂ），１５１（Ｂ），…上に青用版２００Ｂの青色用の有機化合物含有液１５２ｂ，１５２ｂ，…が転写されて、乾燥後に狭義の発光層１５２（Ｂ），１５２（Ｂ），…となる。青色用の有機化合物含有液１５２ｂ，１５２ｂ，…の転写は、アノード１３（Ｇ），１３（Ｇ），…上に転写された緑色用の有機化合物含有液１５２ｇ，１５２ｇ，…が乾燥して狭義の発光層１５２（ｇ），１５２（ｇ），…になった後の方が歩留まりの点で好ましいが、量産性を優先するのであれば、乾燥が完了する前に転写してもよい。なお、成膜する順番は、赤色の発光層１５２（Ｒ）、緑色の発光層１５２（Ｇ）、青色の発光層１５２（Ｂ）の順でなくてもよく、また赤色の発光層１５２（Ｒ）、緑色の発光層１５２（Ｇ）、青色の発光層１５２（Ｂ）の順に配列していなくてもよい。
その後、図１５（ｃ）に示すように、蒸着やスパッタのようなＰＶＤ法及びＣＶＤ法といった成膜方法によって、狭義の発光層１５２，１５２，…を被覆するようにしてカソード１６を一面に成膜する。カソード１６の成膜後、図示しない封止材でこれら有機ＥＬ素子１１，１１，…を覆い封止する。
【００９５】
なお、版２０８による液滴６１の付着パターン精度及び透明基板１２への転写パターン精度が高ければ、必ずしも透明基板１２に第二濡れ性可変層１４及び親液層１４Ｘを設ける必要はない。
また、赤用版２００Ｒ、緑用版２００Ｇ及び青用版２００Ｂに親液性領域２０２ａ，２０２ａ，…をパターニングする際ににおいて、第二濡れ性可変層１４に光触媒が含有している場合には、フォトマスク基板２０３βの代わりにフォトマスク基板２０３αを用いても良く、版及びフォトマスク基板の両者に光触媒を設けてもよい。
【００９６】
本実施形態においても、第一実施形態と同様に、赤の正孔輸送層１５１（Ｒ），１５１（Ｒ），…、緑の正孔輸送層１５１（Ｇ），１５１（Ｇ），…、青の正孔輸送層１５１（Ｂ），１５１（Ｂ），…をそれぞれまとめて形成することができる。更に、赤の発光層１５２（Ｒ），１５２（Ｒ），…、緑の発光層１５２（Ｇ），１５２（Ｇ），…、青の発光層１５２（Ｂ），１５２（Ｂ），…をそれぞれまとめて形成することができる。従って、短時間で有機ＥＬ表示パネル１１０を製造することができる。また、版２００Ｒ，２００Ｇ，２００Ｂを用いて転写によってＥＬ層１５，１５，…をパターニングするため、ＥＬ層１５の厚みが不均一になるということもない上、インクジェット方式に比較してもＥＬ層１５を高精細に配列して形成することができる。
更に、親液性と撥液性とからなるパターンを第二濡れ性可変層１４に形成しているため、第一実施形態のように仕切り壁２０を形成せずともサブピクセルごとにＥＬ層１５をパターニングすることができる。
【００９７】
なお、本発明は上記各実施の形態に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、種々の改良並びに設計の変更を行っても良い。
上記各実施形態では、カソード１６が全ての有機ＥＬ素子１１，１１，…について共通しているが、有機ＥＬ素子１１の発光色ごとに共通のカソードを形成しても良い。また、有機ＥＬ素子１１ごとにカソードを形成しても良い。カソードを有機ＥＬ素子１１ごとに形成した場合、アノードを全ての有機ＥＬ素子１１，１１，…に共通させてもよいが、サブピクセルごとの画素回路はカソードに接続されることになる。また、有機ＥＬ素子１１を透明基板１２から順にカソード、ＥＬ層、アノードの順にしても良い。また、各実施形態においてはトランジスタ２１，２１，…を設けたアクティブマトリクス有機ＥＬ表示パネルに本発明を適用したが、単純マトリクス駆動の表示パネルにも応用できる。
【００９８】
【発明の効果】
本発明によれば、光学材料層を複数の画素分をまとめて成膜することが可能となり、インクジェットのように各画素に塗布するよりも生産性に優れている。また、パターンの濡れ性可変層の撥液部では、光学材料含有液をはじくので、所望のパターン箇所に光学材料含有液の大部分が溜まるので必要最低限量の光学材料含有液を用いればよく、低コスト化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を適用した第一実施形態に係る有機ＥＬ表示パネルを示した平面図である。
【図２】図１に示された有機ＥＬ表示パネルの断面図である。
【図３】図１に示された有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示した図面である。
【図４】図１に示された有機ＥＬ表示パネルを製造するために用いる版の製造工程を示した図面である。
【図５】図１に示された有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示した図面である。
【図６】図１に示された有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示した図面である。
【図７】第一実施形態の変形例として図１に示された有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示した図面である。
【図８】本発明を適用した第二実施形態に係る有機ＥＬ表示パネルを示した断面図である。
【図９】図８に示された有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示した図面である。
【図１０】図８に示された有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示した図面である。
【図１１】図８に示された有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示した図面である。
【図１２】本発明を適用した第三実施形態に係る有機ＥＬ表示パネルを示した断面図である。
【図１３】図１２に示された有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示した図面である。
【図１４】図１２に示された有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示した図面である。
【図１５】図１２に示された有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示した図面である。
【符号の説明】
１０、１０５、１１０ 有機ＥＬ表示パネル（表示装置）
１３ アノード（第一電極）
１４ 第二濡れ性可変層
１４Ｘ 親液層
１５（Ｒ） 赤色に発光するＥＬ層（光学材料層）
１５（Ｇ） 緑色に発光するＥＬ層（光学材料層）
１５（Ｂ） 青色に発光するＥＬ層（光学材料層）
１６ カソード（第二電極）
２０ 仕切り壁
６０ｒ、６０ｇ、６０ｂ 有機化合物含有液（液滴）
６１ 液滴
１５１ 正孔輸送層（光学材料層）
１５２ 狭義の発光層（光学材料層）
１５２ｒ、１５２ｇ、１５２ｂ 有機化合物含有液（液滴）
２００Ｒ 赤用版
２００Ｇ 緑用版
２００Ｂ 青用版
２０２ 濡れ性可変膜
２０３α フォトマスク基板
２０３β フォトマスク基板
Claims (10)
- 基板に設けられた第一電極及び第二電極を有する光学素子を具備する表示装置を製造する表示装置の製造方法において、
前記第一電極は仕切り壁に囲繞されており、
濡れ性の相違によるパターンの濡れ性可変層に従って光学材料含有液の液滴を付着した平板状の版の前記液滴を、平板の状態の前記基板側の前記第一電極に接触させるか或いは前記仕切り壁に接触させることにより前記仕切り壁に囲繞された領域に転写する転写工程を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 前記第一電極は複数あり、
前記基板には、それぞれの前記第一電極上に配置された親液部及び複数の前記第一電極間上に配置された撥液部を有する濡れ性可変層を備え、
前記転写工程は前記液滴が前記親液部上に転写される工程であることを特徴とする請求項１記載の表示装置の製造方法。 - 前記光学材料含有液には電荷輸送層材料或いは発光層材料を含み
前記転写工程は、前記電荷輸送層材料を含んだ光学材料含有液の液滴及び前記発光層材料を含んだ光学材料含有液の液滴の少なくとも何れか一方を転写する工程である、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の表示装置の製造方法。 - 前記転写工程の前工程として、
活性光線の照射によって光学材料含有液に対する濡れ性が変化し得る第二濡れ性可変層を前記第一電極が形成された前記基板上に被膜する工程と、
前記第一電極上の前記第二濡れ性可変層に前記活性光線の照射する活性光線照射工程と、
を含むことを特徴とする請求項１から３の何れか一項に記載の表示装置の製造方法。 - 前記版として、
第一色に発光する第一発光層材料を含む光学材料含有液の第一液滴が所定のパターンに付着される第一版と、
第一色と異なる色に発光する第二発光層材料を含む光学材料含有液の第二液滴が前記第一の液滴と異なるパターンに付着される第二版と、
を準備する工程を含み、
前記転写工程は、前記第一版により前記基板側に前記第一液滴を転写後、前記第二版により前記基板側に前記第二液滴を転写する工程を含むことを特徴とする請求項１から３の何れか一項に記載の表示装置の製造方法。 - 前記版として、
第一色に発光する第一発光層材料を含む光学材料含有液の第一液滴が所定のパターンに付着される第一版と、
第一色と異なる色に発光する第二発光層材料を含む光学材料含有液の第二液滴が前記第一の液滴と異なるパターンに付着される第二版と、
を準備する工程を含み、
前記転写工程は、
前記第一版に付着された前記第一液滴のパターンに対応する位置の前記第二濡れ性可変層に前記活性光線を照射してから、前記第一版により前記基板側に前記第一液滴を転写後、前記第二版に付着された前記第二液滴のパターンに対応する位置の前記第二濡れ性可変層に前記活性光線を照射してから、前記第二版により前記基板側に前記第二液滴を転写する工程を含む、
ことを特徴とする請求項４に記載の表示装置の製造方法。 - 前記濡れ性可変層は、珪素と酸素とからなる主鎖に、フルオロアルキル基が結合した化合物を有することを特徴とする請求項１から６の何れか一項に記載の表示装置の製造方法。
- 前記濡れ性可変層は、フルオロアルキル基を有したシラザン化合物を加水分解して縮合させた縮合物を有することを特徴とする請求項１から７の何れか一項に記載の表示装置の製造方法。
- 前記濡れ性可変層は、光触媒を有することを特徴とする請求項１から８の何れか一項に記載の表示装置の製造方法。
- 基板に設けられた第一電極及び第二電極を有する光学素子を具備した表示装置を製造するための表示装置の製造装置において、
活性光線の被照射によって光学材料含有液に対する濡れ性が変化することによって形成された濡れ性相違によるパターンからなる濡れ性可変層に従って前記光学材料含有液の液滴が付着された平板状の版であって、前記液滴を平板の状態の前記基板側の前記第一電極に接触させるか或いは前記第一電極を囲繞する仕切り壁に接触させることにより転写するための版と、
前記液滴を前記基板側の前記第一電極に接触させるか或いは前記第一電極を囲繞する仕切り壁に接触させる機構と、
を備えることを特徴とする表示装置の製造装置。
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