JP2001509647A - 真空処理システムにおける２ピース式スリットバルブインサート - Google Patents
真空処理システムにおける２ピース式スリットバルブインサートInfo
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Abstract
(57)【要約】
真空処理システムは、プロセス室が取り付けられるスリットバルブと、該プロセス室に適合するようスリットバルブ内に配置されるスリットバルブインサートとを備えた搬送チャンバを有する。スリットバルブは、２ピース、即ち搬送チャンバの外側から該搬送チャンバのスリットバルブ開口に挿入する外側部分と、搬送チャンバの内側からこの外側部分に挿入する内側部分とから製作しうる。インサートの各部分は、どのプロセス室でも任意のスリットバルブ開口に取り付けられることを可能にする。外側部分は、プロセス室を搬送チャンバに取り付けるときにスリットバルブ開口から取り外さなくてよいが、内側部分はプロセス室が取り付けられているかどうかに関係なくサービスのため容易に取り外すことができる。
Description
【０００１】
本発明は、一般に真空室用のスリットバルブインサートに関するものである。
特に、本発明は、基板ウェハを取り扱うための搬送チャンバ用スリットバルブイ
ンサートに関し、また、搬送チャンバとプロセス室のような他のチャンバとの間
の接続や、スリットバルブインサートにおける諸部材のサービスもしくは点検等
に関するものである。
特に、本発明は、基板ウェハを取り扱うための搬送チャンバ用スリットバルブイ
ンサートに関し、また、搬送チャンバとプロセス室のような他のチャンバとの間
の接続や、スリットバルブインサートにおける諸部材のサービスもしくは点検等
に関するものである。
【０００２】
ウェハ上に集積回路を製作するための真空システムは一般に知られている。通
常、幾つかの真空室により単一の真空システムが構成される。真空処理システム
は搬送チャンバと呼ばれる真空室を中央に有し、これは主フレームの一部となる
。名前が示すように、搬送チャンバの主な目的は、その他のチャンバもしくは室
の間にウェハを搬送することである。その他のチャンバには色々あるが、特にプ
ロセス室、冷却室，バッファ室、ロードロック室が含まれる。また、真空処理シ
ステムは、追加的な処理のためウェハを次のシステムへ移動できるように、ウェ
ハをロードロック室に移送し、そして該ロードロック室からウェハを取り出すた
めのミニエンバイロメントのようなある種のサブシステムを有する。時には、こ
の搬送チャンバに周辺のチャンバ及び準備領域を加えてクラスターツールと呼ぶ
ことがある。
常、幾つかの真空室により単一の真空システムが構成される。真空処理システム
は搬送チャンバと呼ばれる真空室を中央に有し、これは主フレームの一部となる
。名前が示すように、搬送チャンバの主な目的は、その他のチャンバもしくは室
の間にウェハを搬送することである。その他のチャンバには色々あるが、特にプ
ロセス室、冷却室，バッファ室、ロードロック室が含まれる。また、真空処理シ
ステムは、追加的な処理のためウェハを次のシステムへ移動できるように、ウェ
ハをロードロック室に移送し、そして該ロードロック室からウェハを取り出すた
めのミニエンバイロメントのようなある種のサブシステムを有する。時には、こ
の搬送チャンバに周辺のチャンバ及び準備領域を加えてクラスターツールと呼ぶ
ことがある。
【０００３】 チャンバ間のアクセスはスリットバルブを介して行われる。スリットバルブは
チャンバにある開口を含んでおり、該チャンバには、ウェハ、即ち基板が２つの
チャンバ間を通るために、別のスリットバルブ開口がついている。一般的には、
スリットバルブ開口は基板が通ることのできる細長い矩形である。２チャンバの
スリットバルブ間の適合は、システム内を真空に維持するため、気密でなければ
ならない。
チャンバにある開口を含んでおり、該チャンバには、ウェハ、即ち基板が２つの
チャンバ間を通るために、別のスリットバルブ開口がついている。一般的には、
スリットバルブ開口は基板が通ることのできる細長い矩形である。２チャンバの
スリットバルブ間の適合は、システム内を真空に維持するため、気密でなければ
ならない。
【０００４】 他のチャンバ間にウェハが通過するので、代表的な搬送チャンバは６つのスリ
ットバルブを有する。プロセス室は、一般的に１つのスリットバルブのみを有す
る。
ットバルブを有する。プロセス室は、一般的に１つのスリットバルブのみを有す
る。
【０００５】 搬送チャンバのようなある種のチャンバの側部にあるスリットバルブ用の実際
の開口は、一般的な矩形穴であることが典型的であり、これは、どのチャンバの
スリットバルブとも実際に適合するものではない。従って、搬送チャンバの開口
をプロセス室の特定の開口と適合させるために、スリットバルブインサートが搬
送チャンバの一般的な開口に挿入される。このインサートは、それが取り付けら
れるプロセス室と適合する開口を有する．即ち、スリットバルブインサートはチ
ャンバ間のアダプタである。
の開口は、一般的な矩形穴であることが典型的であり、これは、どのチャンバの
スリットバルブとも実際に適合するものではない。従って、搬送チャンバの開口
をプロセス室の特定の開口と適合させるために、スリットバルブインサートが搬
送チャンバの一般的な開口に挿入される。このインサートは、それが取り付けら
れるプロセス室と適合する開口を有する．即ち、スリットバルブインサートはチ
ャンバ間のアダプタである。
【０００６】 また、異なるプロセス室は異なる形状及び大きさの開口を有する。従って、異
なるスリットバルブインサートが同じ搬送チャンバのスリットバルブ開口におい
て用いられる。
なるスリットバルブインサートが同じ搬送チャンバのスリットバルブ開口におい
て用いられる。
【０００７】 図１は、搬送チャンバ１２のスリットバルブ開口２６に挿入する直前の、或い
はそこから取り外した直後のスリットバルブインサート２の例を示している。イ
ンサート２は、ウェハが通過する開口４と、プロセス室に押し付けられる前面５
とを有する。プロセス室は、開口４に適合するウェハ出入開口、即ちスリットバ
ルブ開口を有すると共に、前面５と適合する、ウェハ出入開口の周りの表面と一
緒に気密シールを通常形成する。また、インサート２は、開口４の周りに通路も
しくはチャンネル６を有する。チャンネル６は、プロセス室側の合せ面と整列し
て、プロセス室と共にシールを行うO-リングを保持する。
はそこから取り外した直後のスリットバルブインサート２の例を示している。イ
ンサート２は、ウェハが通過する開口４と、プロセス室に押し付けられる前面５
とを有する。プロセス室は、開口４に適合するウェハ出入開口、即ちスリットバ
ルブ開口を有すると共に、前面５と適合する、ウェハ出入開口の周りの表面と一
緒に気密シールを通常形成する。また、インサート２は、開口４の周りに通路も
しくはチャンネル６を有する。チャンネル６は、プロセス室側の合せ面と整列し
て、プロセス室と共にシールを行うO-リングを保持する。
【０００８】 スリットバルブインサートは、図１に示すように、チャンバの外側から搬送チ
ャンバの開口に挿入されていた。その後、プロセス室がインサートをおおって取
り付けられ、そしてインサートをしっかり所定位置に保持する。このスリットバ
ルブはチャンバ間のアクセスを可能にする。搬送チャンバの床を介して配置され
る作動シリンダは、スリットバルブ開口の周りの表面上に着座するスリットバル
ブドアでスリットバルブを閉じる。ドアのための座部は搬送チャンバ内に配置さ
れている。スリットバルブ開口、インサート、ドア及び作動シリンダによってス
リットバルブが形成されている。
ャンバの開口に挿入されていた。その後、プロセス室がインサートをおおって取
り付けられ、そしてインサートをしっかり所定位置に保持する。このスリットバ
ルブはチャンバ間のアクセスを可能にする。搬送チャンバの床を介して配置され
る作動シリンダは、スリットバルブ開口の周りの表面上に着座するスリットバル
ブドアでスリットバルブを閉じる。ドアのための座部は搬送チャンバ内に配置さ
れている。スリットバルブ開口、インサート、ドア及び作動シリンダによってス
リットバルブが形成されている。
【０００９】
スリットバルブの開閉サイクルは、ドア及びインサートをゆっくり摩耗させた
り、或いは不潔にしたり、汚染させたりする。摩耗した或いは不潔になったドア
やインサートは、搬送チャンバ及びプロセス室間に漏れを生じさせることがあり
、多分、毒性のガスがプロセス室から出て搬送チャンバに入るのを許したり、搬
送チャンバからのガスがプロセス室に入るのを許したりして、プロセス室の真空
能力を低減させる。スリットバルブインサートが不潔になって清浄にする必要が
あったり、摩耗して交換する必要があったりすると、問題が起こる。インサート
は、搬送チャンバの外側から搬送チャンバ及びプロセス室間に設けられているの
で、インサートを交換するには、プロセス室を完全に取り除かなければならない
。プロセス室を取り外して再び取り付けることは非常に時間のかかる仕事である
。
り、或いは不潔にしたり、汚染させたりする。摩耗した或いは不潔になったドア
やインサートは、搬送チャンバ及びプロセス室間に漏れを生じさせることがあり
、多分、毒性のガスがプロセス室から出て搬送チャンバに入るのを許したり、搬
送チャンバからのガスがプロセス室に入るのを許したりして、プロセス室の真空
能力を低減させる。スリットバルブインサートが不潔になって清浄にする必要が
あったり、摩耗して交換する必要があったりすると、問題が起こる。インサート
は、搬送チャンバの外側から搬送チャンバ及びプロセス室間に設けられているの
で、インサートを交換するには、プロセス室を完全に取り除かなければならない
。プロセス室を取り外して再び取り付けることは非常に時間のかかる仕事である
。
【００１０】 １つの解決策は搬送チャンバの内側からインサートを挿入することであったが
、そうすれば、上述のようなアクセスを可能にするために、且つインサートがプ
ロセス室と適切な気密シールを形成することを確実にするために、チャンバ開口
を再設計しなければならない。チャンバの内側からインサートを挿入するのに適
応するような再設計の難点の１つは、インサートを開口の中に滑り込ませた後に
同インサートを止めるために使用する肩部を搬送チャンバの内側から機械加工す
る必要があり、非常に難しい工程を必要とする。
、そうすれば、上述のようなアクセスを可能にするために、且つインサートがプ
ロセス室と適切な気密シールを形成することを確実にするために、チャンバ開口
を再設計しなければならない。チャンバの内側からインサートを挿入するのに適
応するような再設計の難点の１つは、インサートを開口の中に滑り込ませた後に
同インサートを止めるために使用する肩部を搬送チャンバの内側から機械加工す
る必要があり、非常に難しい工程を必要とする。
【００１１】 従って、搬送チャンバを有する真空製作システムに対しては、任意のプロセス
室に取り付けるように選択でき、チャンバを再設計することなく搬送チャンバの
内側から点検等をすることができるスリットバルブインサートを有する必要性が
起きていた。
室に取り付けるように選択でき、チャンバを再設計することなく搬送チャンバの
内側から点検等をすることができるスリットバルブインサートを有する必要性が
起きていた。
【００１２】
１つの実施形態においてプロセス室を搬送チャンバに接続するための方法は、
プロセス室に適合するアダプタ、即ちスリットバルブインサートを選択すること
、該アダプタを搬送チャンバのスリットバルブに挿入すること、及びプロセス室
を搬送チャンバに取り付けることを含んでいる。アダプタは、搬送チャンバの外
側から該チャンバに挿入される外側部分と、該チャンバの内側からこの外側部分
に挿入される、弁座が形成された内側部分とを有しうる。この２ピース式スリッ
トバルブ構造は、スリットバルブインサート内側部分の容易な除去及び交換を可
能にする。
プロセス室に適合するアダプタ、即ちスリットバルブインサートを選択すること
、該アダプタを搬送チャンバのスリットバルブに挿入すること、及びプロセス室
を搬送チャンバに取り付けることを含んでいる。アダプタは、搬送チャンバの外
側から該チャンバに挿入される外側部分と、該チャンバの内側からこの外側部分
に挿入される、弁座が形成された内側部分とを有しうる。この２ピース式スリッ
トバルブ構造は、スリットバルブインサート内側部分の容易な除去及び交換を可
能にする。
【００１３】 １つの実施形態において搬送チャンバに取り付けられたプロセス室を交換する
ための方法は、第１のプロセス室用の適合アダプタを選択すること、これを第１
のプロセス室に取り付ける前に搬送チャンバに挿入すること、次いで第１のプロ
セス室を取り外し、アダプタを除去すること、それからもう１つのプロセス室の
ための適合アダプタを選択すること、そして該アダプタ及びチャンバを上述のよ
うに取り付けることを含んでいる。アダプタは、プロセス室に適合すべく内側イ
ンサート及び外側インサートを有している。
ための方法は、第１のプロセス室用の適合アダプタを選択すること、これを第１
のプロセス室に取り付ける前に搬送チャンバに挿入すること、次いで第１のプロ
セス室を取り外し、アダプタを除去すること、それからもう１つのプロセス室の
ための適合アダプタを選択すること、そして該アダプタ及びチャンバを上述のよ
うに取り付けることを含んでいる。アダプタは、プロセス室に適合すべく内側イ
ンサート及び外側インサートを有している。
【００１４】 １つの実施形態における真空システムは、通路、即ちスリットバルブを備えた
２つ以上のチャンバを有し、それらの間にウェハを通過させる。そしてアダプタ
、即ちスリットバルブインサートがチャンバのうちの少なくとも１つのチャンバ
の通路に配置されて、各チャンバの通路に適合している。アダプタ、即ちスリッ
トバルブは２ピースから形成することができ、各ピースが通路の一部を別個に構
成している。
２つ以上のチャンバを有し、それらの間にウェハを通過させる。そしてアダプタ
、即ちスリットバルブインサートがチャンバのうちの少なくとも１つのチャンバ
の通路に配置されて、各チャンバの通路に適合している。アダプタ、即ちスリッ
トバルブは２ピースから形成することができ、各ピースが通路の一部を別個に構
成している。
【００１５】 真空室の１つの実施形態は、２つのインサートを備えたスリットバルブを有し
ており、該インサートはチャンバに取り付けるべき該チャンバ上の取付インター
フェースのタイプに従って選択される。
ており、該インサートはチャンバに取り付けるべき該チャンバ上の取付インター
フェースのタイプに従って選択される。
【００１６】 搬送チャンバの実施形態は、スリットバルブ開口に配置されるアダプタを有し
、このアダプタは取り外しでき、別のアダプタと交換できる。該アダプタは異な
る適合プロセス室に取りつけ、内側部分及び外側部分を有する。外側部分は、プ
ロセス室を取り付けるときに搬送チャンバから取り外さなくてもよく、内側部分
はプロセス室を取り付けるときに取り外すことができる。
、このアダプタは取り外しでき、別のアダプタと交換できる。該アダプタは異な
る適合プロセス室に取りつけ、内側部分及び外側部分を有する。外側部分は、プ
ロセス室を取り付けるときに搬送チャンバから取り外さなくてもよく、内側部分
はプロセス室を取り付けるときに取り外すことができる。
【００１７】 プロセス室を搬送チャンバに接続させるためのアダプタの一実施形態は、搬送
チャンバに挿入する外側部分と、該外側部分に挿入する内側部分とを備える。内
側部分は、外側部分内に部分的に滑入してもよく、プロセス室に適合する通路を
有すると共に、シールを形成するための座面を有する。
チャンバに挿入する外側部分と、該外側部分に挿入する内側部分とを備える。内
側部分は、外側部分内に部分的に滑入してもよく、プロセス室に適合する通路を
有すると共に、シールを形成するための座面を有する。
【００１８】 プロセス室及び搬送チャンバ間に気密シールを形成するための方法の一実施形
態は、外側アダプタを搬送チャンバに挿入すること、その後、外側アダプタに接
触するようにプロセス室を取り付けること、次いで内側アダプタを搬送チャンバ
の内側から外側アダプタ内に挿入すること、そして圧力を加え内側アダプタを外
側アダプタに対して偏倚させることを含んでいる。
態は、外側アダプタを搬送チャンバに挿入すること、その後、外側アダプタに接
触するようにプロセス室を取り付けること、次いで内側アダプタを搬送チャンバ
の内側から外側アダプタ内に挿入すること、そして圧力を加え内側アダプタを外
側アダプタに対して偏倚させることを含んでいる。
【００１９】 搬送チャンバに取り付けられたプロセス室を取り外すことなく同搬送チャンバ
にサービスする方法の一実施形態は、搬送チャンバを開くこと、搬送チャンバ及
びプロセス室間の開口から内側アダプタをアンシールし取り除くこと、アダプタ
を清浄にするか交換することを含んでいる。
にサービスする方法の一実施形態は、搬送チャンバを開くこと、搬送チャンバ及
びプロセス室間の開口から内側アダプタをアンシールし取り除くこと、アダプタ
を清浄にするか交換することを含んでいる。
【００２０】
本発明の上述した特徴、利点及び目的を達成する方法が詳細に理解できるよう
に、上述のように要約した本発明について、添付図面に例示した実施形態を参照
することにより、もっと特定的に説明する。
に、上述のように要約した本発明について、添付図面に例示した実施形態を参照
することにより、もっと特定的に説明する。
【００２１】 しかしながら、添付図面は、本発明の代表的な実施形態を例示するに過ぎず、
本発明にはその他の同様に効果的な実施形態の余地があるので、本発明の範囲を
限定するものと考えてはならない。
本発明にはその他の同様に効果的な実施形態の余地があるので、本発明の範囲を
限定するものと考えてはならない。
【００２２】 図２は、中央の真空式搬送チャンバ１２に取り付けられた一連の真空室１４を
総括的に示す真空処理システム１０の上面概略図である。１対の真空式ロードロ
ック室１６はミニエンバイロメント１８への通路を提供するように示されている
。ポッドローダ２０はミニエンバイロメント１８に取り付けて示されている。こ
のシステムはクラスターツールの例である。
総括的に示す真空処理システム１０の上面概略図である。１対の真空式ロードロ
ック室１６はミニエンバイロメント１８への通路を提供するように示されている
。ポッドローダ２０はミニエンバイロメント１８に取り付けて示されている。こ
のシステムはクラスターツールの例である。
【００２３】 この構成において、真空室１４は、気密シールのところで搬送チャンバ１２に
接続することができ、該気密シールは、チャンバもしくは室１２，１４，１６の
真空を失うことなく２つのチャンバもしくは室１２，１４，１６間にウェハを通
過させることを可能にする。
接続することができ、該気密シールは、チャンバもしくは室１２，１４，１６の
真空を失うことなく２つのチャンバもしくは室１２，１４，１６間にウェハを通
過させることを可能にする。
【００２４】 ポッドローダ２０は、ミニエンバイロメント１８に取り付けられていて、作業
員により或いは自動機械によりウェハカセットを装荷される。この自動機械は、
真空処理システム１０を格納する製造プラントもしくは建屋の全自動製造システ
ムの一部である。ミニエンバイロメント１８内のロボット（図示せず）は、ウェ
ハをポッドローダ２０からロードロック室１２に移動させ、そして再び逆戻りさ
せ得る。搬送チャンバ１２内でウェハを移動させるためのアーム及びブレードを
有するロボット（図示せず）は、ウェハをロードロック室１６の１つからプロセ
ス室１４に、そしてロードロック室１６の１つに戻すように移動させ得る。
員により或いは自動機械によりウェハカセットを装荷される。この自動機械は、
真空処理システム１０を格納する製造プラントもしくは建屋の全自動製造システ
ムの一部である。ミニエンバイロメント１８内のロボット（図示せず）は、ウェ
ハをポッドローダ２０からロードロック室１２に移動させ、そして再び逆戻りさ
せ得る。搬送チャンバ１２内でウェハを移動させるためのアーム及びブレードを
有するロボット（図示せず）は、ウェハをロードロック室１６の１つからプロセ
ス室１４に、そしてロードロック室１６の１つに戻すように移動させ得る。
【００２５】 真空室１４は、ウェハ上に集積回路を製作するための一連のプロセスにおいて
ウェハに対しある種の処理を行う、化学気相堆積（ＣＶＤ）室，物理気相堆積（
ＰＶＤ）室，エッチング室等のような数種のプロセス室のうちの１つである。真
空室の製造者にとって、各真空室がある共通の特徴を有するが、ウェハに対して
異なる処理を行う２０種を超えるかかるプロセス室を有することは、異常なこと
ではない。
ウェハに対しある種の処理を行う、化学気相堆積（ＣＶＤ）室，物理気相堆積（
ＰＶＤ）室，エッチング室等のような数種のプロセス室のうちの１つである。真
空室の製造者にとって、各真空室がある共通の特徴を有するが、ウェハに対して
異なる処理を行う２０種を超えるかかるプロセス室を有することは、異常なこと
ではない。
【００２６】 図３は、搬送チャンバ１２の内部が見られるように蓋体を除去した具体的搬送
チャンバ１２の斜視図である。開口２４，２６を有する数個のスリットバルブ及
びスリットバルブインサート２８，３０の例が示されている。スリットバルブ開
口２４，２６及びスリットバルブインサート２８，３０がスリットバルブを形成
する。スリットバルブインサート２８，３０は、プロセス室１４を搬送チャンバ
１２に、両者の間にウェハのための通路を形成して、取り付けられるようにする
アダプタである。プロセス室１４は、気密シールで搬送チャンバ１２に取り付け
られていて、チャンバ間の結合部で雰囲気が真空システムに入るのを防止してい
る。異なるスリットバルブインサート２８，３０は異種のプロセス室１４に適合
するようになっている。搬送チャンバ１２の床３７にある円形の開口３６は、ウ
ェハを搬送チャンバ１２の内側で移動させたり、そこに接続された他のチャンバ
もしくは室１４，１６の内部及び外部へ移動させたりするためのアームを有する
ロボットを通常支持する。ロボットは図示していないので、搬送チャンバ内部の
他の詳細が観察できる。矩形の開口３８は、偏倚圧力を加えるようにスリットバ
ルブドアを操作して該スリットバルブドアを開閉するための作動シリンダに対し
てアクセスを可能にする。各スリットバルブ毎に１つの開口３８がある。作動シ
リンダ及びスリットバルブドアは図示していないので、搬送チャンバ１２におけ
る他の特徴が観察できる。作動シリンダ及びスリットバルブドアの一例は１９９
３年７月１３日に発行された米国特許第5,226,632号に見られる。これは、参照 によって、以下に十分に記載されているかのようにここに組み込まれる。
チャンバ１２の斜視図である。開口２４，２６を有する数個のスリットバルブ及
びスリットバルブインサート２８，３０の例が示されている。スリットバルブ開
口２４，２６及びスリットバルブインサート２８，３０がスリットバルブを形成
する。スリットバルブインサート２８，３０は、プロセス室１４を搬送チャンバ
１２に、両者の間にウェハのための通路を形成して、取り付けられるようにする
アダプタである。プロセス室１４は、気密シールで搬送チャンバ１２に取り付け
られていて、チャンバ間の結合部で雰囲気が真空システムに入るのを防止してい
る。異なるスリットバルブインサート２８，３０は異種のプロセス室１４に適合
するようになっている。搬送チャンバ１２の床３７にある円形の開口３６は、ウ
ェハを搬送チャンバ１２の内側で移動させたり、そこに接続された他のチャンバ
もしくは室１４，１６の内部及び外部へ移動させたりするためのアームを有する
ロボットを通常支持する。ロボットは図示していないので、搬送チャンバ内部の
他の詳細が観察できる。矩形の開口３８は、偏倚圧力を加えるようにスリットバ
ルブドアを操作して該スリットバルブドアを開閉するための作動シリンダに対し
てアクセスを可能にする。各スリットバルブ毎に１つの開口３８がある。作動シ
リンダ及びスリットバルブドアは図示していないので、搬送チャンバ１２におけ
る他の特徴が観察できる。作動シリンダ及びスリットバルブドアの一例は１９９
３年７月１３日に発行された米国特許第5,226,632号に見られる。これは、参照 によって、以下に十分に記載されているかのようにここに組み込まれる。
【００２７】 ２ピース式スリットバルブ２８は、スリットバルブ開口２４から分解されて搬
送チャンバ１２の外側及び内側に示されている。外側部分２９は搬送チャンバ１
２の外側から開口２４に滑入し、内側部分３１は搬送チャンバ１２の内側から外
側部分２９の中に入る。外側部分２９は搬送チャンバ１２に、内側部分は外側部
分３１に、それぞれネジのような任意の適切な手段によって取り付けられる。こ
のようにして、プロセス室１４は、スリットバルブ開口２４のところで搬送チャ
ンバ１２の外側に装着でき、これにより、外側部分２９は所定位置に閉じ込めら
れる。しかし、内側部分３１は、プロセス室１４を取り付けても、搬送チャンバ
１２の内側から未だ取り外すことができる。内側部分３１を取り外すために必要
なことは、作動シリンダ及びスリットバルブドアを引張って内側部分３１から後
退させ、蓋体２２を開き、内側部分３１を外し、内側部分３１を外へ引張ること
で、それが全てである。従って、スリットバルブインサート２８の内側は、プロ
セス室１４を搬送チャンバから取り外すことなく、サービスもしくは点検等を受
けたり、清掃されたり、交換されたりしうる。
送チャンバ１２の外側及び内側に示されている。外側部分２９は搬送チャンバ１
２の外側から開口２４に滑入し、内側部分３１は搬送チャンバ１２の内側から外
側部分２９の中に入る。外側部分２９は搬送チャンバ１２に、内側部分は外側部
分３１に、それぞれネジのような任意の適切な手段によって取り付けられる。こ
のようにして、プロセス室１４は、スリットバルブ開口２４のところで搬送チャ
ンバ１２の外側に装着でき、これにより、外側部分２９は所定位置に閉じ込めら
れる。しかし、内側部分３１は、プロセス室１４を取り付けても、搬送チャンバ
１２の内側から未だ取り外すことができる。内側部分３１を取り外すために必要
なことは、作動シリンダ及びスリットバルブドアを引張って内側部分３１から後
退させ、蓋体２２を開き、内側部分３１を外し、内側部分３１を外へ引張ること
で、それが全てである。従って、スリットバルブインサート２８の内側は、プロ
セス室１４を搬送チャンバから取り外すことなく、サービスもしくは点検等を受
けたり、清掃されたり、交換されたりしうる。
【００２８】 図４は、スリットバルブインサート２８の一例の切欠きもしくは切落し図であ
る。スリットバルブインサート２８の右側端部は、内部断面を示すため且つ拡大
の目的で切り落とされている。外側部分２９の後面５２は搬送チャンバ１２の内
部に臨んでいる。内側部分３１の斜め後面５４は、搬送チャンバ１２の内部に向
かって面しているが、下向きの角度が付いており、スリットバルブドアの座面を
形成するので、スリットバルブドアは、搬送チャンバの床からある角度で押し上
げられ、後面５４と共に気密シールを形成してスリットバルブを閉じる。開口５
６は、スリットバルブドアが引き戻されているときに搬送チャンバ１２とプロセ
ス室１４との間にある実際の開口である。この開口５６は、例えば６００ｍｍ，
３００ｍｍ，２００ｍｍ等のような変動する基板寸法用に作ることができる。斜
め後面５５は、下向きに傾斜していて、スリットバルブドアが座面５４と接触す
るのを可能にする。代替のドア／座部組立体（図示せず）は、ドアを殆ど水平に
その座部から移動させることによって該ドアを作動させ、その後該ドアを下動さ
せる。従って、この代替例は２段運動であり、スリットバルブドア座部のための
殆ど垂直な後面を備えたスリットバルブインサートを有する。
る。スリットバルブインサート２８の右側端部は、内部断面を示すため且つ拡大
の目的で切り落とされている。外側部分２９の後面５２は搬送チャンバ１２の内
部に臨んでいる。内側部分３１の斜め後面５４は、搬送チャンバ１２の内部に向
かって面しているが、下向きの角度が付いており、スリットバルブドアの座面を
形成するので、スリットバルブドアは、搬送チャンバの床からある角度で押し上
げられ、後面５４と共に気密シールを形成してスリットバルブを閉じる。開口５
６は、スリットバルブドアが引き戻されているときに搬送チャンバ１２とプロセ
ス室１４との間にある実際の開口である。この開口５６は、例えば６００ｍｍ，
３００ｍｍ，２００ｍｍ等のような変動する基板寸法用に作ることができる。斜
め後面５５は、下向きに傾斜していて、スリットバルブドアが座面５４と接触す
るのを可能にする。代替のドア／座部組立体（図示せず）は、ドアを殆ど水平に
その座部から移動させることによって該ドアを作動させ、その後該ドアを下動さ
せる。従って、この代替例は２段運動であり、スリットバルブドア座部のための
殆ど垂直な後面を備えたスリットバルブインサートを有する。
【００２９】 外側部分２９は、穴５９を通るネジにより搬送チャンバ１２に取り付ける。内
側部分３１は、外側部分２９の頂壁６４の底面６２，外側部分２９の底壁６８の
頂面６６，及び外側部分２９の前壁７２の頂面７０に沿って外側部分２９に滑入
する。内側部分３１は、その前面５８が外側部分２９の前面６０とほぼ面一にな
るまで、外側部分２９にあるほぼ矩形の開口に滑入する。内側部分３１は、穴６
１に入るネジにより外側部分２９に取り付けられる。ネジは、取り付けられたプ
ロセス室の外側面上に内側部分３１の前面５８が落ちつくまで、締め付けられる
。従って、内側部分３１は外側部分２９の内面６２，６６，７０，７４，７６に
対応する外面を有するが、２つの部分２９，３１はこれらの面の各々に沿って必
ずしも接触しないので、内側及び外側部分間に生ずる間隙は非常に小さい。しか
しながら、スリットバルブドアが後面５４に向かって偏倚されているときには、
内側部分３１が前方且つ上方へ押されるので、同内側部分３１は、取り付けられ
たプロセス室の外面に対してより強く押圧されるだけでなく、底面６２で外側部
分２９にも押し付けられる。底面６２での接触は少量のガスを捕獲することがあ
る。この接触のところで捕獲されるガスの量を最少にすると共に、接触面を最小
にするため、スペース７８が接触の長さだけ延びており、搬送チャンバ１２に通
じている。
側部分３１は、外側部分２９の頂壁６４の底面６２，外側部分２９の底壁６８の
頂面６６，及び外側部分２９の前壁７２の頂面７０に沿って外側部分２９に滑入
する。内側部分３１は、その前面５８が外側部分２９の前面６０とほぼ面一にな
るまで、外側部分２９にあるほぼ矩形の開口に滑入する。内側部分３１は、穴６
１に入るネジにより外側部分２９に取り付けられる。ネジは、取り付けられたプ
ロセス室の外側面上に内側部分３１の前面５８が落ちつくまで、締め付けられる
。従って、内側部分３１は外側部分２９の内面６２，６６，７０，７４，７６に
対応する外面を有するが、２つの部分２９，３１はこれらの面の各々に沿って必
ずしも接触しないので、内側及び外側部分間に生ずる間隙は非常に小さい。しか
しながら、スリットバルブドアが後面５４に向かって偏倚されているときには、
内側部分３１が前方且つ上方へ押されるので、同内側部分３１は、取り付けられ
たプロセス室の外面に対してより強く押圧されるだけでなく、底面６２で外側部
分２９にも押し付けられる。底面６２での接触は少量のガスを捕獲することがあ
る。この接触のところで捕獲されるガスの量を最少にすると共に、接触面を最小
にするため、スペース７８が接触の長さだけ延びており、搬送チャンバ１２に通
じている。
【００３０】 図５は、蓋体のない搬送チャンバ１２の切欠き横断面図であり、搬送チャンバ
１２の内側の一部とバルブ開口２４におけるインサート２８の位置とを示してい
る。外側部分２９は、搬送チャンバ１２の外側からバルブ開口２４に滑入し、肩
部８０で止まる。内側部分３１は搬送チャンバ１２の内側から外側部分２９に滑
入する。作動シリンダは開口３８内に設けられ、バルブドアを矢印Ａの方向に後
面５４に対して押し付け、開口５６を閉じる。従って、内側部分３１は、取り付
けられたプロセス室の外面に押し付けられるので、溝８２内に配置されたO-リン
グ（図示せず）がプロセス室の表面と共にシールを形成する。このシールは、開
口５６をおおうバルブドアによるシールと組み合って、搬送チャンバ１２とプロ
セス室１４との間の異なる圧力に対し気密シールを形成する。プロセス室は開口
を通るそれ自体の通路を有し、そして各タイプのチャンバもしくは室が搬送チャ
ンバ１２の外側に取り付けるため及び溝８３内に配置されたO-リング（図示せず
）と連係するため、若干異なる大きさの開口及び若干異なるインターフェースを
有する。搬送チャンバ１２及びプロセス室１４の間に前述した気密シールを形成
するのがこのO-リングである。
１２の内側の一部とバルブ開口２４におけるインサート２８の位置とを示してい
る。外側部分２９は、搬送チャンバ１２の外側からバルブ開口２４に滑入し、肩
部８０で止まる。内側部分３１は搬送チャンバ１２の内側から外側部分２９に滑
入する。作動シリンダは開口３８内に設けられ、バルブドアを矢印Ａの方向に後
面５４に対して押し付け、開口５６を閉じる。従って、内側部分３１は、取り付
けられたプロセス室の外面に押し付けられるので、溝８２内に配置されたO-リン
グ（図示せず）がプロセス室の表面と共にシールを形成する。このシールは、開
口５６をおおうバルブドアによるシールと組み合って、搬送チャンバ１２とプロ
セス室１４との間の異なる圧力に対し気密シールを形成する。プロセス室は開口
を通るそれ自体の通路を有し、そして各タイプのチャンバもしくは室が搬送チャ
ンバ１２の外側に取り付けるため及び溝８３内に配置されたO-リング（図示せず
）と連係するため、若干異なる大きさの開口及び若干異なるインターフェースを
有する。搬送チャンバ１２及びプロセス室１４の間に前述した気密シールを形成
するのがこのO-リングである。
【００３１】 図６は、搬送チャンバ１２の一部の切欠き斜視図であり、図５のものと同じ特
徴の多くを、明瞭さを増すため異なる角度から示している。
徴の多くを、明瞭さを増すため異なる角度から示している。
【００３２】 プロセス室１４に適合する適切な内側及び外側部分３１，２９を選択すること
により、スリットバルブ２４，２８はどのプロセス室にも取り付けることができ
る。従って、この実施形態においては、使用者は、プロセス室１４に適合する適
切な内側及び外側部分３１，２９を選択し、選択した外側部分２９をバルブ開口
２４内に滑入させ、外側部分２９を搬送チャンバ１２に取り付け、プロセス室１
４を搬送チャンバ１２に取り付け、選択した内側部分３１を外側部分２９内に滑
入させ、その後内側部分３１を外側部分２９に接続する。同様に、現在取り付け
られているプロセス室１４を交換すべきときには、使用者は、異なる内側及び外
側部分３１，２９を選択することだけが必要である。また、内側部分３１を清掃
または交換する必要があるときには、プロセス室１４及び外側部分２９を取り外
す必要がないので、内側部分３１に対してはサービスが非常に迅速で容易であり
、しかし外側部分２９は、プロセス室１４を取り外さずには除去され得ない。
により、スリットバルブ２４，２８はどのプロセス室にも取り付けることができ
る。従って、この実施形態においては、使用者は、プロセス室１４に適合する適
切な内側及び外側部分３１，２９を選択し、選択した外側部分２９をバルブ開口
２４内に滑入させ、外側部分２９を搬送チャンバ１２に取り付け、プロセス室１
４を搬送チャンバ１２に取り付け、選択した内側部分３１を外側部分２９内に滑
入させ、その後内側部分３１を外側部分２９に接続する。同様に、現在取り付け
られているプロセス室１４を交換すべきときには、使用者は、異なる内側及び外
側部分３１，２９を選択することだけが必要である。また、内側部分３１を清掃
または交換する必要があるときには、プロセス室１４及び外側部分２９を取り外
す必要がないので、内側部分３１に対してはサービスが非常に迅速で容易であり
、しかし外側部分２９は、プロセス室１４を取り外さずには除去され得ない。
【００３３】 搬送チャンバ１２の各バルブ開口２４，２６は、同じタイプの２ピース式イン
サート２８を必要とする、同じタイプのプロセス室１４を取り付けてよいし、或
いは各バルブ開口２４，２６について異なる２ピース式インサート２８を必要と
する異なるタイプのプロセス室１４を有していてよい。
サート２８を必要とする、同じタイプのプロセス室１４を取り付けてよいし、或
いは各バルブ開口２４，２６について異なる２ピース式インサート２８を必要と
する異なるタイプのプロセス室１４を有していてよい。
【００３４】 上述の説明は本発明の好適な実施形態に向けられているが、本発明の基本的範
囲から逸脱することなくその他のまた更なる実施形態を工夫することができ、本
発明の範囲は、以下の請求項によって決められる。
囲から逸脱することなくその他のまた更なる実施形態を工夫することができ、本
発明の範囲は、以下の請求項によって決められる。
【図１】 スリットバルブから分解した先行技術のスリットバルブインサートを示す、蓋
体なしの搬送チャンバの切欠き部の斜視図である。
体なしの搬送チャンバの切欠き部の斜視図である。
【図２】 真空製作システムの概略図である。
【図３】 蓋体を除去した搬送チャンバと、この搬送チャンバ内に示され且つ該搬送チャ
ンバから分解されたスリットバルブインサートとの斜視図である。
ンバから分解されたスリットバルブインサートとの斜視図である。
【図４】 ２ピース式スリットバルブインサートの切欠き部の斜視図である。
【図５】 作動位置にある２ピース式スリットバルブインサートを示す搬送チャンバの切
欠き部の断面図である。
欠き部の断面図である。
【図６】 作動位置にある２ピース式スリットバルブインサートを示す搬送チャンバの切
欠き部の斜視図である。
欠き部の斜視図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロウランス， ロバート， ビー. アメリカ合衆国， カリフォルニア州， ロス ガトス， エドマンド ドライヴ 15822 Ｆターム(参考） 3H051 AA11 BB04 BB10 CC06 CC17 FF15 5F004 AA16 BB18 BC01 BC06 BC08 5F045 AA03 BB20 DP02 DQ10 DQ17 EN01
Claims (24)
- 【請求項１】 プロセス室を搬送チャンバに接続するための方法であって、 前記プロセス室に適合するアダプタを選択し、 該アダプタを前記搬送チャンバに挿入し、 前記アダプタが前記搬送チャンバ及び前記プロセス室を適合させるように前記
プロセス室を前記搬送チャンバに取り付ける、 ことを含む方法。 - 【請求項２】 前記アダプタは、外側インサートを備えると共に、前記搬送
チャンバの外壁に挿入される請求項１に記載の方法であって、更に、 前記プロセス室に適合する内側インサートを選択し、 該内側インサートを少なくとも部分的に前記外側インサート内に前記搬送チャ
ンバの内側から挿入する、 ことを含む方法。 - 【請求項３】 スリットバルブを有する搬送チャンバに取り付けられたプロ
セス室を交換するための方法であって、 （ａ）第１のプロセス室を用意し、 （ｂ）該第１のプロセス室に適合する第１のアダプタを選択し、 （ｃ）該第１のアダプタを少なくとも部分的に前記スリットバルブに挿入し、 （ｄ）前記第１のアダプタが前記搬送チャンバ及び前記第１のプロセス室を適
合させるように前記第１のプロセス室を前記搬送チャンバに取り付け、 （ｅ）前記第１のプロセス室を前記搬送チャンバから取り外し、 （ｆ）前記第１のアダプタを除去し、 （ｇ）第２のプロセス室に適合する第２のアダプタを選択し、 （ｈ）該第２のアダプタを少なくとも部分的に前記スリットバルブに挿入し、 （ｉ）前記第２のアダプタが前記搬送チャンバ及び前記第２のプロセス室を適
合させるように前記第２のプロセス室を前記搬送チャンバに取り付ける、 各ステップからなる方法。 - 【請求項４】 前記第１のアダプタは前記第２のプロセス室に適合していな
い請求項３に記載の方法。 - 【請求項５】 前記第１のアダプタ及び前記第２のアダプタは、それぞれ第
１の外側インサート及び第２の外側インサートを備えると共に、前記搬送チャン
バの外壁に挿入される請求項３に記載の方法であって、更に、 前記第１のプロセス室に適合する第１の内側インサートを選択し、 前記ステップ（ｃ）の後、前記第１の内側インサートを少なくとも部分的に前
記搬送チャンバの内側から前記第１の外側インサート内に挿入し、 前記第２のプロセス室に適合する第２の内側インサートを選択し、 前記ステップ（ｈ）の後、前記第２の内側インサートを少なくとも部分的に前
記搬送チャンバの内側から前記第２の外側インサート内に挿入する、 ステップを含む方法。 - 【請求項６】 ウェハを取り扱い処理するために少なくとも２つの真空室を
有する真空システムであって、 ウェハの通過を許容する複数の第１通路を有する第１真空室と、 ウェハの通過を許容する異なる第２通路をそれぞれが有する複数の第２真空室
と、 前記複数の第１通路と適合する複数の取り外し自在のアダプタであって、該複
数の取り外し自在の各アダプタが、前記複数の第２真空室のうちの適合する１つ
の第２真空室の前記第２通路と適合して、前記第１真空室と前記複数の第２真空
室との間でウェハが通るのを許容する複数の通路を形成する、前記複数の取り外
し自在のアダプタとを備え、 前記複数の第２真空室の各々を、前記複数の取り外し自在のアダプタのうちの
適合する１つで、前記第１真空室の前記複数の第１通路のうちの任意の１つに取
り付ける、真空システム。 - 【請求項７】 前記複数の取り外し自在なアダプタの各々は外側インサート
を備える請求項６に記載の真空システムであって、更に、 適合する外側インサート内に少なくとも部分的に挿入するための複数の内側イ
ンサートを備え、 該複数の各内側インサート及び適合する外側インサートが協働して前記複数の
通路の１つを備える２ピース式インサートを形成する、真空システム。 - 【請求項８】 第１真空室と、少なくとも１つの第２真空室とを備え、前記
第１真空室は、スリットバルブと、少なくとも１つのスリットバルブインサート
とを有し、前記少なくとも１つの第２真空室は、前記スリットバルブのところで
前記第１真空室に取り付けられるスリットバルブ取付インターフェースを有し、
前記少なくとも１つの各第２真空室は、前記少なくとも１つのスリットバルブイ
ンサートのうちの異なる１つと適合するための異なるスリットバルブ取付インタ
ーフェースを有していて、前記少なくとも１つの各第２真空室が、前記少なくと
も１つのスリットバルブインサートのうちの適合する１つを前記スリットバルブ
に挿入することにより、該スリットバルブのところで取り付けうる、真空システ
ム。 - 【請求項９】 前記少なくとも１つのスリットバルブインサートは外側イン
サート及び内側インサートを備える請求項８に記載の真空システム。 - 【請求項１０】 異なるスリットバルブインターフェースをそれぞれ有する
複数の他の真空室に取り付けるためのスリットバルブ位置を有する真空室であっ
て、 該真空室の外側からスリットバルブ内に少なくとも部分的に挿入される第１の
スリットバルブインサートと、 該真空室の内側から前記第１のスリットバルブインサート内に少なくとも部分
的に挿入される第２のスリットバルブインサートと、 を備える真空室。 - 【請求項１１】 前記第１のスリットバルブインサートの選択は、前記真空
室にどの異なるスリットバルブインターフェースが取り付けられるかに依存して
いる請求項１０に記載の真空室。 - 【請求項１２】 前記第１のスリットバルブインサートの選択は、前記第１
のスリットバルブインサートの選択に依存している請求項１１に記載の真空室。 - 【請求項１３】 前記第２のスリットバルブインサートの選択は、前記真空
室にどの異なるスリットバルブ取付インターフェースが取り付けられるかに依存
している請求項１０に記載の真空室。 - 【請求項１４】 プロセス室を受けるための開口を有する搬送チャンバであ
って、該開口に挿入されると共に、第１の適合プロセス室に接続するための取り
外し自在のアダプタを備え、該取り外し自在のアダプタは、取り外して、前記第
１の適合プロセス室とは異なる第２の適合プロセス室に接続するための第２の取
り外し自在のアダプタと交換できる、搬送チャンバ。 - 【請求項１５】 前記取り外し自在のアダプタは、少なくとも部分的に前記
開口に挿入される外側インサート部分と、少なくとも部分的に該外側インサート
部分に挿入される内側インサート部分とを備える請求項１４に記載の搬送チャン
バ。 - 【請求項１６】 前記外側インサート部分は、適合プロセス室が前記搬送チ
ャンバに接続されているときには、前記開口から取り外しできない請求項１５に
記載の搬送チャンバ。 - 【請求項１７】 前記内側インサート部分は、適合プロセス室が前記搬送チ
ャンバに接続されているときには、前記外側インサート部分から取り外しできる
請求項１５に記載の搬送チャンバ。 - 【請求項１８】 搬送チャンバ開口をプロセス室開口に適合させるためのア
ダプタであって、 前記搬送チャンバ開口に挿入するための外側部分と、 該外側部分に挿入するための内側部分と、 を備えるアダプタ。 - 【請求項１９】 請求項１８に記載のアダプタであって、 前記外側部分及び前記内側部分は、実質的に一致する、対応する滑り面を有し
ており、 前記内側部分は前記外側部分内に滑入するアダプタ。 - 【請求項２０】 請求項１８に記載のアダプタであって、 前記内側部分は前記プロセス室開口と適合するための開口を含むアダプタ。
- 【請求項２１】 請求項１８に記載のアダプタであって、 前記内側部分は、気密シールを形成するため、偏倚圧力を受ける山形の背面を
含んでいるアダプタ。 - 【請求項２２】 請求項１８に記載のアダプタであって、 前記外側部分は、実質的に矩形のブロックであり、該外側部分が、 実質的に平板状の前面と、 実質的に平板状の後面と、 該後面から前記前面に延びる実質的に矩形の穴と、 該実質的に矩形の穴の底壁を画成する頂面を有する底壁と、 該底壁から上方へ前記前面に部分的に沿って延びると共に、頂面及び内側後面
を有する前壁と、 前記後面から前方へ延びる実質的に矩形の切欠きと、底面とを有する頂壁であ
って、該切欠きが前記頂壁の内向き後面を画成している前記頂壁とを含み、 前記内側部分は、 前記外側部分の前記前面と実質的に面一である、実質的に平板状の前面と、 上側の斜め後面と、 該上側の斜め後面から前記内側部分の前記前面に延びる実質的に矩形の穴と、 前記上側の斜め後面に対しある内角度で結合する下側の斜め後面と、 前記外側部分の前記頂壁の底面及び内向き後面，前記外側部分の前記底壁の前
記頂面，並びに前記外側部分の前記前壁の前記頂面及び内側後面に実質的になら
う多平面状外面とを含み、 前記内側部分は、該内側部分の前記多平面状外面の対応する外面で、前記外側
部分の前記頂壁の前記底面，前記外側部分の前記底壁の前記頂面，並びに前記外
側部分の前記前壁の前記頂面に沿って滑り、前記外側部分に入るアダプタ。 - 【請求項２３】 プロセス室と搬送チャンバとの間に気密シールを形成する
ための方法であって、 前記搬送チャンバに外側アダプタを挿入し、 前記搬送チャンバの内側から前記外側アダプタの中に内側アダプタを挿入し、 該内側アダプタに偏倚圧力を加えて前記内側アダプタ及び前記プロセス室を強
制的に気密封止する方法。 - 【請求項２４】 プロセス室に取り付けられた搬送チャンバに前記プロセス
室を取り外すことなくサービスを行うための方法であって、 前記搬送チャンバの蓋体を開き、 前記搬送チャンバの内側から、前記搬送チャンバ及び前記プロセス室間の開口
の少なくとも一部を形成する内側アダプタの偏倚シールを取り除き、 該内側アダプタを前記搬送チャンバの外部に除去し、 この内側アダプタを別の内側アダプタと交換するか、或いは洗浄して前記搬送
チャンバに戻す、方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/893,813 | 1997-07-11 | ||
| US08/893,813 US6045620A (en) | 1997-07-11 | 1997-07-11 | Two-piece slit valve insert for vacuum processing system |
| PCT/US1998/014281 WO1999003136A1 (en) | 1997-07-11 | 1998-07-09 | Two-piece slit valve insert for vacuum processing system |
Publications (3)
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|---|---|
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Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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