JP2020529727A

JP2020529727A - バッフルを有するガス供給部材

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Publication number: JP2020529727A
Application number: JP2020504012A
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Inventors: カルティークシャー，; ビスワスクマールパーンデー，; カイラシュプラダン，; サイラジュタラバルジュラ，; レネジョージ，; エリックキハラショウノ，; フィリップエー．ボッティニ，; ロジャーカーティス，
Original assignee: Applied Materials Inc
Current assignee: Applied Materials Inc
Priority date: 2017-07-31
Filing date: 2018-07-30
Publication date: 2020-10-08
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Abstract

ガス供給部材は、第２の側面の反対の第１の側面と、第１の側面と第２の側面との間に延在する第１の開口部を画定する内面とを含む。ガス供給部材は、第１の側面に直交する第３の側面を含み、第３の側面は第２の側面を部分的に画定する面を有する第１の延在部を含み、第１の延在部は第１の延在部を通って面に延在する第１の複数の孔を含む。ガス供給部材は、第３の側面の反対の第４の側面を含み、第４の側面は第２の側面を部分的に画定する面を有する突出部を含む。ガス供給部材はまた、内面に隣接して配置されたバッフルも含み、バッフルは、内面から延在する第１の部分と、第１の部分に取り付けられた第２の部分とを含み、第２の部分は第１の部分に直交し、第３の側面に平行する。【選択図】図１Ａ

Description

［０００１］本書に記載の実施形態は概して、流体の均一な流れを提供するガス供給部材に関する。

［０００２］基板上で集積回路を製造するための処理システムは、基板を処理チャンバの中へ搬送するロードロックチャンバを有しうる。チャンバ間のアクセスは、スリットバルブを通して得られる。スリットバルブは、基板が通過しうる処理チャンバの開口部を含む。あるチャンバの側面のスリットバルブ用の実際の開口部は通常、処理チャンバのスリットバルブと一致しない一般的な長方形の孔である。したがって、スリットバルブ挿入部がアダプタとして機能するように挿入される。処理中は、スリットバルブドアがスリットバルブ挿入部の開口部を覆っている。スリットバルブは、ガス注入部及びトンネルと流体接続している。トンネルは、処理ガスがガス注入部を通って高速で処理チャンバに入ってきたときに、ガス流を基板の方へ案内する。ガス流の推進力により、堆積が行われる基板へ処理ガスが運ばれる。ガスはガス注入部からトンネルへ、そして基板の方へ流れる。

［０００３］処理条件の変動は、ガス流経路、したがって堆積の均一性に影響を与える可能性がある。ガス流路に影響する上記処理条件の１つは、スリットバルブドアの角度及び／又はスリットバルブの開閉サイクル中にドアが汚れた又は汚染されたときのスリットバルブドアの形状の変化である。ガスがスリットバルブドアと接触するときの流れの変化は、基板上の堆積に影響を与える。堆積の変動は、均一性に影響を与える。

［０００４］したがって、スリットバルブ挿入部の形状又は条件にかかわらず、均一なガス流経路を提供することができる改善されたガス供給部材が必要である。

［０００５］本書に記載の実施形態は概して、流体の均一な流れを提供するガス供給部材に関する。一実施形態では、ガス供給部材は、第１の側面と、第１の側面の反対の第２の側面と、第１の開口部を画定する第１の内面と、第１の側面に直交する第３の側面と、第３の側面の反対の第４の側面と、開口部を画定する内面に隣接して配置されたバッフルとを含む。第１の開口部は、第１の側面と第２の側面との間に延在する。第３の側面は第１の延在部を含む。第１の延在部は第２の側面を部分的に画定する面を有し、第１の延在部は第１の延在部を通って面に延在する第１の複数の孔を含む。第４の側面は突出部を含む。突出部は、第２の側面を部分的に画定する面を有する。バッファは、内面から延在する第１の部分と、第１の部分に取り付けられた第２の部分とを含む。第２の部分は、第１の部分に直交し、第３の側面に平行する。

［０００６］別の実施形態では、ガス供給部材が開示される。ガス供給部材は、第１の側面と、第１の側面の反対の第２の側面と、第１の開口部を画定する第１の内面と、第１の側面に直交する第３の側面と、第３の側面の反対の第４の側面と、開口部を画定する内面に隣接して配置されたバッフルとを含む。第１の開口部は、第１の側面と第２の側面との間に延在する。第３の側面は、第１の延在部を含む。第１の延在部は第２の側面を部分的に画定する面を有し、第１の延在部は第１の延在部を通って面に延在する第１の複数の孔を含む。第４の側面は、突出部を含む。突出部は、第２の側面を部分的に画定する面を有する。バッフルは、内面から延在する第１の部分と、第１の部分に取り付けられた第２の部分と、空洞とを含む。第２の部分は、第１の部分に直交し且つ前記第３の側面に平行する。空洞は、第１の部分と第１の側面との間に形成される。

［０００７］別の実施形態では、ガス供給部材が開示される。ガス供給部材は、第１の側面と、第１の側面の反対の第２の側面と、第１の開口部を画定する第１の内面と、第１の側面に直交する第３の側面と、第３の側面の反対の第４の側面と、開口部を画定する内面に隣接して配置されたバッフルとを含む。第１の開口部は、第１の側面と第２の側面との間に延在する。第３の側面は、第１の延在部を含む。第１の延在部は第２の側面を部分的に画定する面を有し、第１の延在部は第１の延在部を通って面に延在する第１の複数の孔を含む。第４の側面は、突出部を含む。突出部は、第２の側面を部分的に画定する面を有する。バッフルは、内面から延在する第１の部分と、第１の部分に取り付けられた第２の部分と、空洞とを含む。第２の部分は、第１の部分に直交し且つ第３の側面に平行する。空洞は、第１の部分と第２の側面との間に形成される。

［０００８］上述した本開示の特徴を詳細に理解できるように、一部が添付の図面に例示されている実施形態を参照しながら、上記に要約した本開示をより具体的に説明する。しかし、添付の図面は本開示の典型的な実施形態のみを示すものであり、したがって、範囲を限定するものと見なすべきではなく、本開示は他の等しく有効な実施形態も許容しうることに留意されたい。

本書に記載の一実施形態に係るガス供給部材を示す前面図である。本書に記載の一実施形態に係るガス供給部材を示す裏面図である。本書に記載の実施形態に係るガス流モデルを示す図である。本書に記載の実施形態に係るガス流モデルを示す図である。本書に記載の実施形態に係るガス流モデルを示す図である。本書に記載の実施形態に係るガス流モデルを示す図である。本書に記載の実施形態に係るガス流モデルを示す図である。本書に記載の実施形態に係るガス流モデルを示す図である。

［００１２］理解を助けるため、可能な場合は図面に共通の同一要素を記号表示するのに同一の参照番号が使われている。追加の記載なしに他の実施形態に一実施形態の要素及び特徴を有益に組み込むことは可能であると考えられる。

［００１３］本書に記載の実施形態は概して、ガス供給部材に関する。一実施形態では、ガス供給部材は、第１の側面と、第１の側面の反対の第２の側面と、開口部を画定する第１の内面と、第１の側面に直交する第３の側面と、第３の側面の反対の第４の側面と、内面に隣接するバッフルとを含む。開口部は、第１の側面と第２の側面との間に延在する。第３の側面は、第２の側面を部分的に画定する面を有する第１の延在部と、第１の延在部を通って面に延在する第１の複数の孔とを含む。第４の側面は、第２の側面を部分的に画定する面を有する突出部を含む。バッフルは、内面から延在する接続壁と、接続壁に接続されたダイバータ壁とを含む。バリアを設けることによって、バッフルは、より均一な堆積のために処理ガスを基板の方へ案内する。ある場合には、基板は、回転自在な基板支持体を特徴とする処理チャンバに配置され、この処理チャンバではガスは基板を横切って流れるように案内される。

［００１４］図１Ａに、本書に記載の一実施形態に係るガス供給部材１００の前面図を示す。一実施形態では、ガス供給部材１００はスリットバルブ挿入部である。ガス供給部材１００は、炉、温度制御チャンバ、又は化学気相堆積（ＣＶＤ）チャンバ及び／又は処理等のいずれかの好適な処理又は処理チャンバで使用されうる。使用されうる好適なチャンバの１つは、カリフォルニア州サンタクララのアプライドマテリアルズ社から入手可能なＶＡＮＴＡＧＥ（登録商標）ＲＡＤＯＸ（商標）ＲＴＰチャンバである。別の好適なチャンバは、これもまたカリフォルニア州サンタクララのアプライドマテリアルズ社から入手可能なＰＲＯＤＵＣＥＲ（登録商標）ＣＶＤチャンバであってよい。ガス供給部材１００は、中に形成された基板用の通路を有する処理チャンバの中へ挿入されるアダプタである。ガス供給部材１００は、本体１０５に開口部１２０、開口部１２０にバッフル１４０、本体１０５からの延在部１４５、及びくぼみ１５５を有する。

［００１５］本体１０５は、前面１５０、裏面１１０、上面１６５、及び底面１７０も含む。前面１５０は、裏面１１０の反対である。上面１６５は、前面１５０に直交しうる。図１Ａの実装態様では、上面１６５は底面１７０よりも広い幅を有する。別の実装態様では、上面１６５は、底面１７０よりも狭い幅を有しうる。更に別の実装態様では、上面１６５は、底面１７０と同じ幅を有しうる。底面１７０は、上面１６５の反対であり、前面１５０に直交しうる。ガス供給部材１００が処理システムに取り付けられると、前面１５０は通常、処理チャンバの内部に面する。

［００１６］前面１５０に開口部１２０が形成される。ある実施形態では、ガス供給部材１００はスリットバルブ挿入部である。上記実施形態では、開口部１２０は、スリットバルブドアが引き込まれているときは、移送チャンバと処理チャンバとの間の開口部である。つまり、スリットバルブドアが引き込まれているときは、基板が開口部１２０を通過して処理チャンバへ入ることができるということである。上記の場合、開口部１２０は、様々な基板サイズ、例えば６０ｍｍ、１００ｍｍ、２００ｍｍ、３００ｍｍ用に作られていてよい。他の実施形態では、ガス供給部材１００は、スリットバルブとは関連していないガス供給導管の挿入部である。

［００１７］本体１０５は、丸い角と、中央に位置する凹部１６０とを含む。例えば、凹部１６０は、底面１７０に対して直角の方向に開口部１２０の方に延在する底面１７０に形成される。凹部１６０は、垂直間隙又はスリット１６４を含む。凹部１６０は、開口部１２０に隣接する丸い角１６２、１６３を有する。丸い角１６２と丸い角１６３との間は垂直スリット１６４である。垂直スリットは、凹部１６０から開口部１２０に延在する。垂直スリット１６４は、丸い角１６２、１６３の各々からおおよそ等距離に配置される。垂直スリット１６４は、底面１７０に対して直角である。延在部１４５は、凹部１６０に対向して配置されうる。延在部１４５は、本体１０５の上面１６５に配置される。延在部１４５は、前面１５０に面した斜面又は湾曲面と、裏面１１５に面した斜面１４６とを有する。延在部１４５の基部は、本体１０５の上面１６５に取り付けられる。延在部は、基部に対向するエッジ１４７を含む。基部における延在部１４５の厚さは、エッジ１４７における厚さよりも大きい。延在部１４５は、複数の孔１３０を含む。孔１３０は、図１Ｂに示すように、裏面１１０に延在する。

［００１８］くぼみ１５５は、本体１０５の上面１６５の延在部１４５に隣接する。くぼみ１５５は、細長い凹部１５６を含む。細長い凹部１５６の底部は複数の孔１５８である。動作中に、処理ガスは、凹部１５６と嵌合するガス注入部（図示せず）から複数の孔１５８を通過する。細長い凹部１５６は、上面１６５の長さに沿って延在する。複数の孔１５８は、バッフル１４０と流体連結している。バッフル１４０は、開口部１２０に隣接して配置される。バッフル１４０は、ガス供給部材１００の長さに延在する。一実装態様では、バッフル１４０の一部が、ガス供給部材１００の上面１６５から下に延在する。その部分は図１では見ることができないが、以下に更に記載される図２Ａ〜２Ｆに概略的に示されている。つまり、バッフル１４０は、上面１６５と開口部１２０との間に配置される。動作中に、バッフルは、図２Ａに示すように、ガス入口とトンネルに流体接続されている。バッフル１４０は、トンネルの中に延在する棚であってよい。バッフル１４０は、接続壁であってよく、上面１６５に直交して延在する第１の部分と、ダイバータ壁であってよい第２の部分とを含む。第２の部分は第１の部分に接続され、ガス供給部材１００の上面１６５に平行して延在する。動作中にガスがガス入口からトンネルへ流れるときに、トンネルに配置されたバッフル１４０によりガス速度及び推進力が基板に到達する前に弱まる。具体的には、入口からのガス流が、バッフル１４０の第２の部分と接触する。バッフルはガス流を一方向に、スリットバルブドアの方へ案内する。バッフル１４０は、ガス入口とトンネルとの間のバリアである。

［００１９］図１Ｂに、本書に記載の一実施形態に係るガス供給部材１００の裏面図を示す。開口部１２０により、図１Ａに示す開口部１５８を隠すバッフル１４０が露出する。ガス供給部材１００の裏面１１０は、挿入されると移送チャンバの内部に面する。裏角面１１５は、下向きの角度で移送チャンバの内部の方に面し、スリットバルブドアが処理チャンバの床からある角度で押し上げられ、裏角面１１５と気密シールを形成してスリットバルブを閉じうるスリットバルブドアシートを形成する。裏傾斜面１２５は下向きに傾斜し、スリットバルブドアが裏角面１１５と接触することを可能にする。裏傾斜面１２５及び裏角面１１５は、本体１０５から外向きに突出して鋭角を形成する。裏傾斜面１２５は垂直面１３５に隣接する。裏角面１１５は、ガス供給部材１００の上面１６５に隣接して配置された複数の孔１３０を有する。垂直面１３５は、ガス供給部材１００の底面１７０の近傍に複数の孔１３２を有する。ガス供給部材１００は孔１３０、１３２を貫通するファスナ（例：ねじ又はボルト）を用いて処理チャンバに取り付けられる。底面１７０は、垂直棚１７２を含む。複数の孔１３２は垂直棚１７２に配置される。ガス供給部材１００がスリットバルブと関連していない場合、ガス供給部材１００の裏面１１０は、ガス供給源又は処理システムの外面に面しうる。

［００２０］図２Ａ〜図２Ｆは、本書に記載の実施形態に係るガス流の特徴の概略図である。いずれの場合にも、ガス流導管２００が示されている。ガス流導管２００（図１Ａ又は図２Ａに図示せず）は、ガス流導管２００からトンネル２０６（例えば、図１Ａ及び図１Ｂに示す開口部１２０）へガス流を提供する、ガス流導管２００とトンネル２０６に、またそれらの間に設けられたガス入口２０４（例えば、図１Ａに示す複数の孔１５８）に連結される。トンネル２０６は、ガス入口２０４に隣接してトンネル２０６の中へ突出した一又は複数のバッフル２４０、２５０、２６０、２７０、２８０、及び２９０（それぞれ図２Ａ〜図２Ｆに示す）を特徴とする。トンネル２０６は、処理ガスを処理チャンバ（図示せず）に配置された基板へ案内する。

［００２１］トンネル２０６は、処理チャンバに近接する第１の端部２０８と、第１の端部２０８の反対の第２の端部２１０とを有する。図２Ａの実装態様では、バッフル２４０はトンネル２０６の壁２０５と共に、第１の端部２０８の方に、スリットバルブドア又は裏面の方に面する開口部２４６を画定する。壁２０５は、トンネル２０６の内面２１２を画定する。バッフル２４０は、第１の部分２４２と、第１の部分２４２に直交する第２の部分２４４とを有する。第１の部分２４２と第２の部分２４４は、ガス入口２０４の直接真向かいにあるトンネル２０６の中に延在する。第１の部分２４２は、壁２０５に取り付けられ、壁２０５からトンネル２０６の中に延在する。第２の部分２４４は、その遠位端において第１の部分２４２に取り付けられ、図２Ａの実施形態では、トンネル２０６に沿ってトンネル２０６の第１の端部２０８の方に延在する。

［００２２］ガスがガス入口２０４から入ると、ガスはバッフル２４０と接触する。ガスの一部は、バッフル２４０の第１の部分２４２の方へ流れうる。しかしながら、バッフルは１つの開口部２４６を有するため、ガスはバッフル２４０と接触し、混合し、そして開口部２４６を通って第１の端部２０８の方へ続けて流れる。スリットバルブドア（図示せず）との交差点に形成された第１の端部２０８にぶつかった後、ガスは、トンネル２０６の第２の端部２１０の方へ、そしてトンネル２０６の向こうの基板へ続けて流れる。トンネル２０６は、堆積のためにガスの流れを基板へ案内する。バリアを設けることによって、バッフル２４０は、トンネル全体でより均一で終始一貫した流速を提供し、より小さいエリアでの処理ガスの混合を提供し、処理ガスをトンネル２０６の方へ案内し、処理ガスのより均一な堆積を提供する。堆積の均一性が改善することで、非均一な流れを招くことなく高いガス流速を使用することができるため、堆積速度に有益な影響も有する。

［００２３］ガス入口２０４からガスが入ると、ガスはバッフル２６０と接触する。ガスの一部は、バッフル２６０の第１の部分２６２の方へ流れうる。しかしながら、バッフルは１つの開口部２６６を有するため、ガスはバッフル２６０と接触し、混合し始め、その後開口部２６６の方へ続けて流れ、第１の端部２０８にぶつかった後、ガスはトンネル２０６の方へ流れる。トンネル２０６は、堆積のために、ガスの流れを基板へ案内する。

［００２４］別の実装態様では、バッフル２６０は、テクスチャ表面を含みうる。ある実装態様では、第２の部分２６４は、テクスチャ加工されていてよい。別の実装態様では、第３の部分２６８、第２の部分２６４、及び第１の部分２６２は、テクスチャ加工されていてよい。テクスチャ表面は、約２５ミクロンと約１００ミクロンの間の小さい突起部を含みうる。小さい突起部のサイズ及び形状は均一であってよい、あるいはランダムに又はいずれかのパターンにしたがって変動していてよい。小さい突起部は、円形、四角形、長方形、又は他のいずれかの形状寸法であってよい。動作中、ガス流が第２の部分２６４に接触すると、小さい突起部により第２の部分２６４に沿ってガスの分散が増加しうる。

［００２５］図２Ｂの実装態様では、バッフル２５０は、処理チャンバに面する開口部２５６を有する。バッフル２５０は、壁２０５に接続され、壁２０５からトンネル２０６の中に延在する第１の部分２５２と、その遠位端において第１の部分２５２に取り付けられ、ガス入口２０４の直接真向かいにあるトンネル２０６に沿って第１の部分２５２に直交して延在する第２の部分２５４とを有する。第２の部分２５４は、図２Ｂの実施形態では、トンネル２０６の第２の端部２１０の方に延在する。

［００２６］ガスがガス入口２０４から入ると、ガスはバッフル２５０と接触する。ガスの一部は、バッフル２５０の第１の部分２５２の方へ流れうる。第１の部分２５２は、スリットバルブドアに隣接していてよい。つまり、開口部２５６は、ガス供給部材の前面の方へ面するということである。しかしながら、バッフルは１つの開口部２５６を有するため、ガスはバッフル２５０と接触し、混合し始め、そして開口部２５６を通ってトンネル２０６の方へ続けて流れる。トンネル２０６は、堆積のためにガスの流れを基板へ案内する。バッフル２５０は、バッフル２４０と同様に、堆積の均一性及び速度において利点を有する。

［００２７］図２Ｃの実装態様では、バッフル２６０は、図２Ａの実装態様と同様に、スリットバルブドア又は裏面に面する開口部２６６を有する。バッフル２６０は、壁２０５、第２の部分２６４、及び第３の部分２６８に取り付けられた第１の部分２６２を有する。第２の部分２６４は、第１の部分２６２と直交し、ガス入口２０４の直接真向かいにあるトンネル２０６の中に延在する。第３の部分２６８は、縁部、小さい突起部、円形隆起部、又は任意の形状の延在部であってよい。第３の部分２６８は、第１の部分２６２に平行していてよい。第３の部分２６８は、第２の部分２６４の遠位端から壁２０５の方に延在する。第３の部分２６８は、任意の角度で第２の部分２６４から延在しうる。一実装態様では、第３の部分２６８は、９０度を超える角度で第２の部分２６４から延在する。別の実装態様では、第３の部分２６８は湾曲している。第３の部分２６８は、図２Ｃでは、開口部２６６と隣接して図示されている。別の実装態様では、第３の部分２６８は、第２の部分２６４のどこにでも配置されうる。例えば、第３の部分２６８は、第２の部分２６４の中央に配置されうる。別の実装態様では、第３の部分２６８は、ガス入口２０４と開口部２６６との間に配置されうる。更に別の実装態様では、第３の部分２６８は、ガス入口２０４と第１の部分２６２との間に配置されうる。

［００２８］図２Ｄの実装態様では、バッフル２７０は、図２Ａのバッフル２４０と実質的に同様のものである。第２の部分２７４は、トンネル２０６の内面２１２に配置された延在部２７８と対向し、トンネル２０６の中に延在する。延在部２７８は、四角形、円形、長方形、三角形、又は他の任意の幾何学形状であってよい。図２Ｄの実装態様では、延在部２７８は単一体である。延在部２７８は、トンネル２０６の一部として３Ｄ印刷又は機械加工されうる、あるいは、トンネル２０６に取り付けられた別体であってよい。別の実装態様では、図２Ｅに示すように、１を超える延在部２７８が使用されうる。例えば、２つの延在部２７８をトンネル２０６の内面２１２からの２つの突起部として形成することができる。図２Ｅに示すように、２を超える突起部をトンネル２０６の内面２１２に配置することが可能である。延在部２７８は、テクスチャ表面を有しうる。一実装態様では、延在部２７８はトンネル２０６の第１の端部２０８とバッフル２７０との間に配置されうる。別の実装態様では、延在部２７８は、バッフル２７０と重なっていてよい。延在部２７８は、トンネル２０６の内面２１２に沿って配置されうる。

［００２９］図２Ｅの実装態様では、バッフル２８０は、縁部２８８と、縁部２８８に隣接した突起部２８９とを含む。突起部２８９は、バッフル２８０の第２の部分２８４に取り付けられた別体であってよい。突起部２８９はまた、バッフル２８０の１つの連続体として機械加工又は３Ｄ印刷もされうる。突起部２８９は、四角形、円形、長方形、三角形、又は他の任意の幾何学形状であってよい。図２Ｅの実装態様では、単一の突起部２８９が図示されている。別の実装態様では、バッフル２８０の第２の部分２８４は、１を超える突起部２８９を含みうる。図２Ｆの実装態様では、２つの突起部２８９が図示されている。バッフル２９０は、１〜２０の突起部を含みうる。各突起部２８９は、テクスチャ表面も含みうる。突起部２８９は、バッフル２９０の第２の突起部２９４に沿ったどこにでも間隔を置いて配置されうる。例えば、第１の突起部２８９はバッフル２９０の第１の部分に隣接していてよく、第２の突起部２８９はトンネル２０６の第１の端部２０８に隣接していてよい。図２Ｅの実装態様では、突起部２８９及び縁部２８８がバッフルの第２の部分２８４に配置され、延在部２７８がトンネル２０６の内面２１２に配置されて、突起部２８９、縁部２８８、及び延在部２７８で鋸歯構成が形成される。つまり、縁部２８８は、第１の延在部２７８と第２の延在部２７８との間に配置されるということである。トンネル２０６の内面２１２及びバッフル２８０にはそれぞれ、任意の数の延在部２７８と突起部２８９が含まれうる。

［００３０］バリアを設けることによって、バッフルは、トンネル全体でより均一で終始一貫した流速を提供し、より小さいエリアでの処理ガスの混合を提供し、処理ガスをトンネルの方へ案内し、処理ガスのより均一な堆積を提供する。

［００３１］以上の記述は本開示の実施形態を対象としているが、本開示の基本的な範囲から逸脱せずに他の実施形態及び更なる実施形態が考案されてよく、本開示の範囲は、以下の特許請求の範囲によって決定される。

Claims

ガス供給部材であって、
第１の側面と、
前記第１の側面の反対の第２の側面と、
第１の開口部を画定する内面であって、前記第１の開口部は前記第１の側面と前記第２の側面との間に延在する、内面と、
前記第１の側面に直交する第３の側面であって、
前記第２の側面を部分的に画定する面を有する第１の延在部であって、前記第１の延在部を通って前記面に延在する第１の複数の孔を含む、第１の延在部
を含む第３の側面と、
前記第３の側面の反対の第４の側面であって、
前記第２の側面を部分的に画定する面を有する突出部
を含む第４の側面と、
前記内面に隣接して配置されたバッフルであって、
前記内面から延在する第１の部分と、
前記第１の部分に取り付けられた第２の部分であって、前記第１の部分に直交し、前記第３の側面に平行する、第２の部分と
を含むバッフルと
を備える、ガス供給部材。
前記第３の側面から前記第１の開口部の下に延在し、前記第２の側面を部分的に画定する第１の角面を更に備える、請求項１に記載のガス供給部材。
前記突出部の面から前記第１の開口部の方に延在し、前記第２の側面を部分的に画定する第２の角面を更に備える、請求項１に記載のガス供給部材。
第１の角面と前記第２の角面との間に接続面を更に備える、請求項３に記載のガス供給部材。
前記第４の側面に形成され且つ前記第３の側面に対して直角の凹部を更に備え、前記凹部は第１の丸い角と第２の丸い角とを含む、請求項３に記載のガス供給部材。
前記第１の複数の孔は各々、第１の角面を通って延在する、請求項３に記載のガス供給部材。
前記突出部は前記第２の側面に延在する第２の複数の孔を有する、請求項１に記載のガス供給部材。
ガス供給部材であって、
第１の側面と、
前記第１の側面の反対の第２の側面と、
第１の開口部を画定する内面であって、前記第１の開口部は前記第１の側面と前記第２の側面との間に延在する、内面と、
前記第１の側面に直交する第３の側面であって、
前記第２の側面を部分的に画定する面を有する第１の延在部であって、前記第１の延在部を通って前記面に延在する第１の複数の孔を含む、第１の延在部
を含む第３の側面と、
前記第３の側面の反対の第４の側面であって、
前記第２の側面を部分的に画定する面を有する突出部
を含む第４の側面と、
前記内面に隣接して配置されたバッフルであって、
前記内面から延在する第１の部分と、
前記第１の部分に取り付けられた第２の部分であって、前記第１の部分に直交し且つ前記第３の側面に平行する、第２の部分と、
前記第１の部分と前記第１の側面との間に形成された空洞と
を含むバッフルと
を備える、ガス供給部材。
前記第２の部分に配置された縁部を更に備える、請求項８に記載のガス供給部材。
凹部を更に備え、前記凹部は前記第４の側面に形成され、前記凹部は前記第３の側面に対して直角であり且つ第１の丸い角と第２の丸い角とを含む、請求項８に記載のガス供給部材。
前記第１の側面はスリットを更に含み、前記スリットは前記第１の丸い角と前記第２の丸い角との間に配置されている、請求項１０に記載のガス供給部材。
前記第３の側面から前記第１の開口部の下に延在し、前記第２の側面を部分的に画定する第１の角面を更に備える、請求項９に記載のガス供給部材。
前記突出部の面から前記第１の開口部の方に延在し、前記第２の側面を部分的に画定する第２の角面を更に備える、請求項９に記載のガス供給部材。
接続面を更に備え、前記接続面は第１の角面と前記第２の角面との間にある、請求項１３に記載のガス供給部材。
前記第１の複数の孔は各々、第１の角面を通って延在する、請求項１３に記載のガス供給部材。