JP2011035415A - 真空処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】内部に配置され減圧された処理室内において基板状の試料が配置される真空容器と、この真空容器が連結され減圧された内部を前記試料が搬送される搬送容器と、この搬送容器と前記真空容器とが連結された状態で前記搬送室と前記処理室とを連通してその内部を処理前または処理後の前記試料が搬送される通路と、前記通路の内側壁面を覆って取り付けられ取り外し可能なカバー部材とを備え、前記処理室内において前記試料をこの処理室内に形成したプラズマを用いて処理する真空処理装置。
【選択図】図4
Description
Claims (4)
- 内部に配置され減圧された処理室内において基板状の試料が配置される真空容器と、この真空容器が連結され減圧された内部を前記試料が搬送される搬送容器と、この搬送容器と前記真空容器とが連結された状態で前記搬送室と前記処理室とを連通してその内部を処理前または処理後の前記試料が搬送される通路と、前記通路の内側壁面を覆って取り外し可能に取り付けられ、かつ取り付けられた状態で前記通路の内側の向かい合う長手方向の内側壁面に沿ってこれを覆う板バネ部材の対を備えたカバー部材とを備え、前記処理室内において前記試料をこの処理室内に形成したプラズマを用いて処理する真空処理装置。
- 請求項1に記載の真空処理装置であって、
前記カバー部材の表面に前記処理に伴って生成された生成物が付着する真空処理装置。 - 請求項1または2に記載の真空処理装置であって、
前記カバー部材はそれぞれの前記板バネ部材の両端側において前記通路の角部の内側壁面と当接する部分がこの通路の高さ方向または幅方向に変位可能に構成された真空処理装置。 - 請求項3に記載の真空処理装置であって、
前記板バネ部材は前記カバー部材から取り外し可能にされた真空処理装置。
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JP2010233960A JP2011035415A (ja) | 2010-10-18 | 2010-10-18 | 真空処理装置 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015177108A (ja) * | 2014-03-17 | 2015-10-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置 |
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-
2010
- 2010-10-18 JP JP2010233960A patent/JP2011035415A/ja active Pending
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