JP2001502847A - フォトレジスト現像液及び膜剥し液を回収するための装置及び方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 現像、エッチング、及び膜剥し装置において、フォトレジストの現像及び膜剥しの化学薬品は、別々の循環経路に排出され、その各々で、それらは、熱交換器（５２）、一連の接線フィルター（６０、６２、６４、６６）、ＵＶ接触器（５６）、収集タンク（３８）を通って、ポンプで汲み出される。前記フィルターからの濾過液は、現像（１４）或いは膜剥し（２２）工程に戻され、高濃度の固形物を含んだ溶液は廃棄のため前記収集タンクから取除かれる。炭酸ナトリウムや炭酸カリウムによる現像液の再生時に、適切なpHと炭酸塩／重炭酸塩の割合を維持するように、二酸化炭素ガスがアルカリ性金属酸化物とともに加えられる。

Description

【発明の詳細な説明】 フォトレジスト現像液及び膜剥し液を回収するための装置及び方法 技術分野 本発明は、全体として、フォトレジスト（photoresist:感光材料）を利用する 現像において、プリント配線回路基板、半導体、その他の製品の製造時に生じる 廃液の処理に関する。より詳しくは、フォトレジスト現像液及び／又はフォトレ ジスト膜剥し溶液を回収し、リサイクルするための装置と方法に関する。 背景技術 プリント回路、半導体、化学的ミリング、プリント業において、フォトレジス トとして知られる感光性エマルジョンが、様々な基質に塗布される。パターンを 画定する写真工具、すなわち、マスクが、フォトレジストに被せられる。ネガの 作用のフォトレジストを、マスクを通して、例えば、紫外線のような放射に曝す と、結果として、放射に曝された部分に、堅くなったポリマーエマルジョンのパ ターンが生じる。ポジの作用のフォトレジストもまた、時々使用されるが、光に 曝されなかった部分に、堅くなったフォトレジストのパターンが生じる。 いずれの場合も、放射に曝される工程に続いて、品物が「ＤＥＳ」《Develop Etch Strip（現像・エッチング・膜剥し）》ラインとして知られる自動化された 装置を通るコンベヤによって、典型的に、運ばれる。ＤＥＳラインの第１工程(s tage)では、現像液(developing solution)が品物にスプレーされる。現像液は、 基質上の堅くなったポリマーのみを残し、堅くならなかったフォトレジストを取 り除く。次の処理工程では、堅くなったポリマーによって覆われていない基質の 部分がエッチング液に曝されてエッチングされる。さらにその後の工程で、化学 的膜剥し液(stripper)が堅くなったポリマーを取り除くために品物にスプレーさ れる。似たような処理においては、基質の曝された部分が、エッチングではなく 、金属で被覆されたりめっきされたりする。しかし、ＤＥＳラインと同様に、被 覆やめっき工程の前に現像工程があり、後に、膜剥し工程が続く。 廃液は、現像及び膜剥し工程で生じる。典型的には、プリント回路基板の製造 において、これら両方の処理工程からの廃液は、高濃度の水溶性のフォトレジス トの材料を含むアルカリ性溶液である。この廃液は、高い化学的酸素要求量（Ｃ ＯＤ）と高い生物化学的酸素要求量（ＢＯＤ）を有する。このような廃液は、環 境に排出される前に、有機物及びポリマーのスキンを取り除くように、処理され なければならない。 過去において、ＤＥＳラインは、現像及び膜剥し溶液を「デッドエンド」フィ ルターを通して循環させることによって、運転されていた。すなわち、この化学 薬品は、現像及び膜剥し工程から集められ、フィルター媒体を通って、スプレー ヘッドに戻されていた。フィルター媒体における固形物の集積は、フィルターの 洗浄のため、ＤＥＳライン運転の定期的な中断を必要とさせた。現像液は、次第 に質が悪くなり、結果として、製品の質も漸次低下した。さらに、膜剥し溶液中 に溶解されたポリマーの集積は、次第にその効能を低下させ、ＤＥＳライン全体 が膜剥し溶液の交換のため最終的に止められるまで、長時間にわたり、ますます ゆっくり運転されることを必要とした。 新しい現像液は、典型的には、炭酸ナトリウム又はカリウムからなる溶液であ る。現像処理において、炭酸塩は、次第に、現像液のpHを減少させる重炭酸塩に 変わる。現像液の機能上積極的役割を果たしているpHは、典型的には、必然的で はないけれども、10.5から11の範囲にある。もし、pHが約0.2のレベルまで落ち たら、現像液は消費されたと考えられる。過去において、より高い負荷を許容し ながら、現像液を再生させるために、水酸化カリウム或いはナトリウムを追加す ることによって現像液の寿命を延ばそうという試みが行なわれた。しかしながら 、負荷が高まると、泡の出ない添加剤が必要とされた。これらは、レジストと一 緒になると、プリント及びエッチング処理において、過度な銅のスポットが生じ る原因となり、プリント回路基板に再び沈澱するスラッジを作り出す。きれいな 現像を維持するためには、すすぎを増やすことが必要となる。炭酸塩の再生にお いては、アルカリ性金属水酸化物だけで、適切なpHを維持し、同時に適当な濃度 の炭酸塩と適当な炭酸塩／重炭酸塩率を達成するには、全体として、十分ではな い。それ故、アルカリ性金属水酸化物は、通常、高価になりがちな特許品である 添加剤とともに、現像液に加えられる。 発明の開示 本発明の主な目的は、フォトレジストの現像装置が連続的に、長時間にわたっ て、高速で運転させられる、フォトレジストの現像及び膜剥しの化学薬品を回収 しリサイクルさせるための装置を提供することである。 本発明の別の目的は、フォトレジストの現像装置の運転効率を向上させること である。 本発明のさらなる別の目的は、フォトレジストの現像装置によって作り出され る商品の質を向上させることである。 本発明の装置は、フォトレジストが塗布されている品物を処理するための改良 された装置である。それは、フォトレジストの現像又は膜剥し液がフォトレジス トの現像工程を通って循環させられる第１循環フローパスを有する。それは、第 １循環フローパスから前記液体の一部を受けるように接続された第２循環フロー パスからなる液体回収システムを含む。この第２循環フローパスは、接線方向の (tangential)フィルターを含む。すなわち、第２循環フローパスを液体が流れる 際、濾過液(permeate)が前記多孔性フィルター媒体を通って第２循環フローパス から流れ出るように、少なくとも、第２循環フローパスの一部が多孔性フィルタ ー媒体によって画定されている。その装置は、第１循環フローパスへ濾過液を戻 すための手段を含む。 好適実施形態では、前記装置は、さらに、第２循環フローパスにおいて、第２ 循環フローパスを通って流れる液体中の重合可能な材料の重合を加速させるため の手段を含む。これは、第２循環フローパスを通って流れる液体を加熱するため の加熱手段、及び／又は第２循環フローパスを流れる液体中の重合可能な材料を 紫外線放射に曝すための手段を含んでもよい。 濃縮された固形物は、排液管を通って第２循環フローパスから、好適には、第 ２循環フローパスの一部となる収集タンクから取除かれる。 好適には、液体の流れが第２循環フローパスを通って続いている間、多孔性フ ィルター媒体を通る濾過液の流れを断続的に遮ったり、前記フィルター媒体を通 る液体の流れを逆方向にしたりするための手段が具えられる。 かくして、前記装置の運転において、現像又は膜剥し液は、第１循環フローパ スの処理工程を通って連続的に循環させられながら、循環する液体の一部が第１ 循環フローパスから、接線濾過にかけられる第２循環フローパスに取込まれる。 第２循環フローパスは、現像及び膜剥し作業の減速を必要とせず、且つ現像及び 膜剥し作業の中断を最小限にして濾過を行なうことができる。これは、結果的に 、高効率運転と高品質製品をもたらす。 フォトレジストの現像液の回収のための装置を使用する際、二酸化炭素ガスが 濾過工程から戻される現像液に注入される。好適には、前記二酸化炭素ガスは、 例えば、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等のアルカリ性金属水酸化物とと もに注入される。 私は、二酸化炭素ガスが連続的現像液再生システムで使用されると、いくつか の重要な利点を有することを発見した。特に、それは、現像液が、あたかも、常 に新鮮な現像液であるかのように、理想のpH及び炭酸塩／重炭酸塩の割合で安定 した状態において作用することを可能にする。前記炭酸ガスは、追加されたアル カリ性金属水酸化物が、典型的には、10.5から10.0である、通常の作用範囲を超 えるレベルまで、現像液のpHを上げるのを防ぐバッファになる。これは、ワーク に接触する現像液のpHが不十分な混合の結果、過度になる可能性を大いに低くめ る。さらに、炭酸ガスは高価でなく、高価な特許品である添加剤の必要もない。 又、二酸化炭素ガスを使用する、連続的な現像液再生システムは、スラッジや浮 きかすの形成をなくし、現像液の頻繁な廃棄や交換の必要性をなくし、廃液の流 れを減少させ、現像速度の減速を回避し、側壁の質を向上させる。 本発明のその他の目的と詳細と利点は、図面とともに読むことで、以下の詳細 な説明から明らかになるであろう。 図面の簡単な説明 図１は、現像と膜剥し両方の工程が本発明のリサイクルシステムを具えたＤＥ Ｓラインの概略図。 図２は、現像液或いは膜剥し液のいずれかによって使用されることが可能なリ サイクルシステムの概略図。 発明を実施する最良の形態 図１にあるように、プリント回路基板１０は、間隔の空いた回転ローラ１２で 構成されたコンベヤによって、一連の囲い１４、１６、１８、２０、２２を通っ て運ばれる。囲い１４は、現像液、典型的には、重炭酸カリウムの希釈した溶液 が前記ローラの上下でスプレーヘッド２８を通ってポンプ２６によって循環させ られている、現像工程のための囲いである。前記現像液は、重合されなかったフ ォトレジストを取り除き、それによって、エッチング工程でエッチングされるべ きプリント回路基板の金属部分を露出させる。 囲い１８はエッチング工程の囲いである。エッチング液、典型的には、アルカ リ性エッチング液が、スプレーヘッドを通って循環させられ、プリント回路基板 において露出された部分の金属を取り除くように、前記基板に注がれる。 囲い２２は膜剥し工程の囲いである。膜剥し溶液、典型的には、水酸化ナトリ ウム、メチルエチルアミン、エチレンジアミン、水酸化テトラメチルアンモニウ ムが、重合されたフィルムをプリント回路基板から取り除き、それによって、電 気的な伝導体として使用される金属の残った部分を露出させる。膜剥し溶液は現 像工程で循環させられるのと同様の方法で膜剥し工程において、循環させられる 。 囲み１６、２０、２４は、水が循環する、すすぎの工程である。 現像液処理装置３０は、現像工程と関連し、膜剥し液処理装置３２は、膜剥し 工程と関連している。これらの処理装置は、以下で検討されるとおり、或る点で は異なるが、実質的には互いに同一である。装置３０と３２は実質的に同一であ ってよいので、現像液処理工程３０の１つのみを図２で詳細に示している。 図２を参照すると、ポンプ２６は、ライン３４を通って囲い１４の底で収集さ れた現像液を受けて、その現像液の一部をスプレーヘッド２８に戻す。かくして ポンプ２６は、現像工程の現像液を第１循環フローパスを通して循環させる。 前記現像液の他の部分は、トランスファポンプ３６によってライン３４から引 き出される。この経路は、きめの粗いプレフィルターを含んでもよい。トランス ファポンプ３６は円錐形の底とバルブ４２を具えた排液管４０を有する収集タン ク３８に現像液を移す。前記収集タンクは、コントロール４６を作動させるフロ ート４４を有する。このコントロールは、タンク３８中の液体レベルを予め決定 された限界内に維持するように、ポンプ３６とバルブ４８の両方を作動させる。 第２循環フローパスは、前記現像液処理装置において、タンク３８、ポンプ５ ０、熱交換器５２、フィルターモジュールのセット５４、ＵＶ（紫外線）接触器 ５６からなる。液体は、このフローパスを通ってタンクからポンプで汲み出され 、 熱交換器、フィルターモジュール、ＵＶ接触器を通ってタンクに戻される。通常 閉められているバルブ５８は、フィルターモジュールをバイパスするために配置 されている。 フィルターモジュールのセットは、直列接続された４つの接線(tangential)濾 過モジュール６０、６２、６４、６６からなる。各々は多孔性チューブからなり 、フィルターモジュールの多孔性チューブは、ともに、第２循環フローパスの一 部を画定する。 フィルターモジュール６０から６６で使用されている多孔性チューブは、好適 には、堅い鉱物や金属の多孔性サポート及び強靱な希土類酸化物又はフッ素重合 体（フルオロポリマー）の膜(membrane)が組込まれ、バックフラッシングに抵抗 できるだけでなく、高温で作動したり、必要なときに、きびしい化学的洗浄に耐 えることができる。これは、容易に汚れたり、典型的には、バックフラッシング に耐えるには十分に強くなかったりする、ポリマーの合成物の膜を使用したウル トラ濾過及びマイクロ濾過において経験される損傷を回避する。フィルター要素 は、フーバー等の1978年11月７日に付与された米国特許第4,069,157号において 説明された種類のものでもよく、前記特許の開示を引用することによってここに 一体化したものとする。適当なウルトラ濾過及びマイクロ濾過の膜は、当業者に は良く知られており、ユーエス・フィルター社、ローヌ・プーラン社、グレイバ ー・セパレイションズ社、セラメム・セパレイションズ社、及びその他のソース から購入できる。 各多孔性チューブを取り囲むのは、第２循環フローパスから多孔性チューブを 通って外側に流れる濾過液を受けるために配置されたコレクターである。このコ レクターは、ライン６８を通って、バルブ７４を具えたエアライン７２を有する 加圧可能なタンク７０とバルブ７８を有する出力ライン７６に並列に接続される 。バルブ７４と７８の両方は、タイマ８０によってコントロールされる。 ライン７６は、pH調整工程８２を通って戻りライン８４に接続され、pH調整さ れた濾過液を囲み１４に戻し、そこで、第１循環フローパスに戻される。 前記装置が現像液処理のために使用される時、pH調整工程８２は、好適には、 pHモニタ８６と静的接触器８８を含む。図２に示されたpH調整工程では、ライン ７６からの濾過液は、pHモニタ８６を通って流れ、それから、静的接触器８８を 通って戻りライン８４に流れる。静的接触器８８において、二酸化炭素ガスと水 酸化ナトリウムの溶液又はその他のアルカリ性金属水酸化溶液が、pHモニタのコ ントロールによって、戻りラインにおいて、望ましいpH（典型的には、10.5から 11の範囲内）を作り出すような割合で、自動的に濾過液の流れに注入され、現像 液中の炭酸塩と重炭酸塩の望ましいバランスを達成する。 pH調整工程８２における炭酸ガスと水酸化ナトリウムの注入のコントロールは 、フィードフォワードコントロールであり、pH調整は、ライン７６の濾過液のモ ニターされたpHに基づいている。フィードバックコントロールは、代替的に、或 いは、ライン８４を通って囲み１４を現像するために戻ってくる液体中のpH、及 び／又は、現像工程で循環させられる現像液のpHに従って、炭酸ガスと水酸化ナ トリウムをコントロールするようフィードフォワードコントロールと組み合わせ て、いずれにおいても使用されることが可能である。 ポンプ５０は、典型的に、前記フィルターモジュールを通る前記フローパス中 の圧力を2から7気圧の範囲内に維持する。フィルターモジュールのサイズは、澄 んだ濾過液の所望の流量に基づいて決定される。 前記装置の上記説明から明らかなとおり、前記溶液は、熱や紫外線放射にさら され、間欠的なバックフラッシングを伴って、強靱な希土類酸化物の膜で濾過さ れる。 熱交換器５２によってもたらされる熱は、まだ新しい、フォトレジストが含有 された作動溶液の重合の加速を促す。高い温度で使用する時、コンベヤが耐える ことができる最高温度を超えないように、注意すべきである。必要なら、高温に 耐える装置を使用したり、溶液が再び使われる前に冷却してもよい。 溶液が一連のフィルターモジュールを通って流れる際、循環ポンプ５０によっ て溶液に加えられた圧力は、濾過液の流れがフィルターの膜を通るようにし、収 集タンク３８に向かう濃縮された流れを残す。濾過液は、pH調整の後、現像或い は膜剥し処理に戻される。 前記濃縮液は、それから、紫外線のＵＶ接触器５６を通り、そこで、レジスト スキンがさらに堅くされ、収集タンク３８に戻される。廃液やスキンの予め決定 された濃縮が達成された時、材料は、タンク３８の底から排液され、適切な法律 に従って廃棄される。 接線式濾過の利点は、フィルターモジュールを通る液体の流れが、固形物がフ ィルター媒体に溜まるのを防ぐことである。故に、フィルターモジュールは、長 時間効率的に運転させられることができる。 理想の状況下でも、濾塊の薄い層がフィルター媒体上に形成され、濾過の効率 を低下させるであろう。フィルターモジュールを確実に効率良く運転させるため に、タンク７０を通る濾過液の流れは、断続的に止められ、逆流させられる。タ ンク７０は、フィルターの膜を通る濾過液の逆流を促進するよう、短い時間、ラ イン７２を通ってくる空気の流れによって加圧される。この逆流は、濾過液の高 い流量を維持しながら、濾塊やその他の障害物を取り除く。フィルター媒体を通 る断続的な逆流は、フィルター、収集タンク３８、熱交換器５２、ＵＶ接触器５ ６からなる循環経路を通る液体の循環を中断しないで行なうことができる。 バイパスバルブ５８が開くと、フィルターモジュールの修理や交換が可能にな る。それは、循環する現像液によって運ばれる粒子が紫外線放射によってより効 率的に堅くできるように、現像液がフィルターモジュールを通らないで、ＵＶ接 触器５６を通って循環するように開けられてもよい。これは、フィルターモジュ ールを通る流れが再開される時、フィルターモジュールの目詰まり(blinding)の 可能性を減少させる。 産業上の利用可能性 本発明の装置は、プリント回路基板の製造、化学的ミリング、半導体の製造、 印刷において使用されるような写真画像処理の現像或いは膜剥し工程から様々な フォトレジストを含む溶液を処理するために使用されることができる。本発明は 、これらの溶液が安定した状態で長時間連続的に処理されることを可能にする。 本発明は、従来のフォトレジストを含む現像及び膜剥し溶液を処理する方法か らは、かけ離れたものである。作動溶液が消費され尽くすまで使用される、従来 のバッチ処理の代わりに、本発明は、フォトレジストポリマー（スキン）が迅速 に、且つ、連続的に取り除かれ、作動溶液を直ちに、且つ、連続的に再使用可能 にする定常的処理を提供する。この定常的処理は、ポリマーやポリマー中の色素 が現像液又は膜剥し溶液と反応したり、前記溶液に溶解するための時間を与えな い。このことは、新しい溶液の必要量を減少させるだけでなく、従来装置の運転 中に発生する、ノズルの詰まりや排液溜めのクリーニング問題を回避する。又、 それは、典型的に新らしい溶液によって可能になる、高いコンベヤ速度での連続 した運転をもたらす。 本発明は、いくつかの技術を一緒に利用する。セラミック、カーボン、スレン レス鋼から作られた堅い多孔性膜は、バックフラッシングができる非常に低い濁 りや、ウルトラ濾過又はマイクロ濾過モジュールを安定させる高い温度を達成す るために、ゾルになったりゲルになったりする処理を使って、様々な希土類が含 浸された酸化物を支える。 これらのモジュールは、前記熱交換器、ＵＶ接触器、間欠性バックフラッシン グ装置と組合わせて、高濃縮された廃液を作りながら、フォトレジストの現像及 び膜剥し溶液を直ちに使用されるように戻してリサイクルするための連続的な処 理を可能にする。 この装置は、当業者が普通に購入でき公知の部品と要素で組立てられる。 説明された装置及びその運転の方法に様々な改良がなされることは可能である 。例えば、現像ユニットはそれを行なう現像或いは膜剥し装置とすぐ隣り合って 配置されたり、又は、適切な現像或いは膜剥し装置に配管することによって遠隔 に配置され接続されたりできる。現像液のリサイクルの場合、重合を促進するた めにあった方が望ましいが、熱交換器を省くことが可能である。同様に、膜剥し 溶液のリサイクルにおいても、濾過された固形物の粘着性をなくすためにあった 方が望ましいが、ＵＶ接触器を省くことが可能である。所望であれば、前記現像 ユニットは、バッチ処理モードで運転もでき、廃物処理エリアでも、スペースが 許せば、どこにでも配置される。 さらに、その他の改良が、以下の請求の範囲によって定められるような本発明 の範囲から離れることなく、上記に説明された装置及び方法について行なわれ得 るであろう。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，Ｓ Ｄ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ， ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，Ｆ Ｉ，ＧＢ，ＧＥ，ＧＨ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ， ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，Ｍ Ｗ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ， ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＷ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．フォトレジストが塗布された品物を処理するための装置であって、該装置 がフォトレジストの現像及び膜剥し液からなるグループからの液体がフォトレジ スト処理工程を通って循環させられる第１循環フローパス（３４、２６、２８） を有するものにおいて、 前記第１循環フローパスから液体の一部を受けるように接続された第２循環フ ローパス（３６、５４）を有し、該第２循環フローパスの少なくとも一部が多孔 性フィルター媒体（５４）によって画定されており、かくして、液体が前記第２ 循環フローパスを通って流れるとき、濾過液が前記多孔性フィルター媒体を通っ て前記第２循環フローパスから流れ出るようになっており、さらに、 前記多孔性フィルター媒体を通って前記第２循環フローパスから流れ出る濾過 液物を前記第１循環フローパスに移動させるための手段（８４）を有することを 特徴とする、 液体回収システム。 ２．さらに、前記第２循環フローパスにおいて、前記第２循環フローパスを通 って流れる液体中の重合可能な材料の重合を加速させるための手段（５２）を含 む、請求項１の装置。 ３．さらに、前記第２循環フローパスを通って流れる液体を加熱するための装 置（５２）を含む、請求項１の装置。 ４．さらに、前記第２循環フローパスを通って流れる液体中の重合可能な材料 を放射に曝すための手段（５６）を含む、請求項１の装置。 ５．さらに、前記第２循環フローパスを通って流れる液体に熱と放射の両方を 与える手段（５２、５６）を含む、請求項１の装置。 ６．前記第２循環フローパスから濃縮された固形物を取り除くための排液管（ ４０）を含む、請求項１の装置。 ７．前記第２循環フローパスが収集タンク（３８）と、前記収集タンク内に前 記第２循環フローパスから濃縮された固形物を取り除くための排液管（４０）と を含む、請求項１の装置。 ８．液体の流れが前記第２循環フローパスを通って続く間、多孔性フィルター 媒体を通る濾過液の流れを間欠的に中断させ、前記フィルター媒体を通る液体の 流れを逆方向にするための手段（７２、７４、７８）を含む、請求項１の装置。 ９．さらに、前記第２循環フローパスにおいて、前記第２循環フローパスを通 って流れる液体中の重合可能な材料の重合を加速するための手段（５２）を含み 、さらに、前記多孔性フィルター媒体によって画定される前記第２循環フローパ スの部分を通らないで前記加速手段を通って液体を循環させるバルブ付バイパス 経路（５８）を含む、請求項１の装置。 １０．前記第１循環フローパス中を循環させられた液体がフォトレジストの現 像液であり、前記多孔性フィルター媒体を通って前記第２循環フローパスから前 記第１循環フローパスに入る濾過液に二酸化炭素ガスを注入するための手段（８ ８）を含む、請求項１の装置。 １１．前記濾過液が前記多孔性フィルター媒体を通り抜けた後であるが、二酸 化炭素ガスが前記濾過液に注入される前に、そのpHを検知するための手段（８６ ）と、前記pH検知手段に応答して前記濾過液に注入する二酸化炭素ガスの割合を コントロールするための手段（８８）とを含む、請求項１０の装置。 １２．前記濾過液に二酸化炭素ガスとともにアルカリ性金属酸化物を注入する ための手段も含む、請求項１０の装置。 １３．前記濾過液が前記多孔性フィルター媒体を通り抜けた後であるが、二酸 化炭素ガスとアルカリ性金属酸化物が前記濾過液に注入される前に、前記濾過液 のpHを検知するための手段（８６）と、前記pH検知手段に応答して、前記濾過液 に注入する二酸化炭素ガスとアルカリ性金属酸化物の割合をコントロールするた めの手段（８８）とを含む、請求項１２の装置。 １４．フォトレジストが塗布された品物を処理する方法であって、 第１循環フローパス（３４、２６、２８）において、フォトレジストの処理工 程を通ってフォトレジストの現像及び膜剥し液からなるグループからの液体を循 環させ、 前記液体の一部を前記第１循環フローパスから、少なくとも一部が多孔性フィ ルター媒体によって画定される第２循環フローパスに通し、 前記液体の前記部分を前記第２循環フローパスを通って循環させて、前記濾過 液が前記多孔性フィルター媒体を通って前記第２循環フローパスから出ていくよ うになっており、そして、 前記多孔性フィルター媒体を通って前記第２循環フローパスから流れ出る濾過 液を前記第１循環フローパスに移動させることからなる、 方法。 １５．前記第２循環フローパスにおいて、前記第２循環フローパスを通って流 れる液体が重合可能な材料の重合を加速するための手段（５２）を通り抜ける、 請求項１４の方法。 １６．前記第２循環フローパスを通って流れる液体が前記第２循環フローパス において加熱手段（５２）を通り抜ける、請求項１４の方法。 １７．前記第２循環フローパスを通って流れる液体が前記第２循環フローパス において放射に曝される、請求項１４の方法。 １８．前記第２循環フローパスを通って流れる液体が前記第２循環フローパス において熱と放射の両方に曝される、請求項１４の方法。 １９．濃縮された固形物が前記第２循環フローパスから取除かれる、請求項１ ４の方法。 ２０．前記第２循環フローパスが、濃縮された固形物を取り除くために、収集 タンク（３８）及び前記収集タンク内に排液管（４０）を含む、請求項１４の方 法。 ２１．液体の流れが前記第２循環フローパスを通って続く間、多孔性フィルタ ー媒体を通る濾過液の流れを間欠的に中断させ、前記フィルター媒体を通る液体 の流れを逆方向にする、請求項１４の方法。 ２２．前記第２循環フローパスにおいて、前記第２循環フローパスを通って流 れる液体が重合可能な材料の重合を加速するための手段（５２）を通り、多孔性 フィルター媒体によって画定される前記第２循環フローパスの部分を通して液体 を循環させる前に、前記第２循環フローパスの部分に流れないで、前記加速手段 を通って液体が循環させられる、請求項１４の方法。 ２３．前記第１循環フローパスを通って循環させられる液体がフォトレジスト の現像液であり、前記濾過液に二酸化炭素ガスを注入する工程を含む、請求項１ ４の方法。 ２４．前記フォトレジストの現像液が炭酸カリウムと炭酸ナトリウムからなる グループからの現像液からなる、請求項２３の方法。 ２５．二酸化炭素ガスが前記濾過液に注入される前、前記濾過液が前記多孔性 フィルター媒体を通り抜けた後にそのpHが検知され、検知されたpHに応答して前 記濾過液に注入する二酸化炭素ガスの割合が自動的にコントロールされる、請求 項２３の方法。 ２６．アルカリ性金属酸化物が、二酸化炭素ガスとともに前記濾過液に注入さ れる、請求項２３の方法。 ２７．二酸化炭素ガスとアルカリ性金属酸化物が前記濾過液に注入される前、 前記多孔性フィルター媒体を通り抜けた後に前記濾過液のpHが検知され、検知さ れたpHに応答して、前記濾過液に注入する二酸化炭素ガスとアルカリ性金属酸化 物の割合が自動的にコントロールされる、請求項２６の装置。 ２８．フォトレジストをエッチングし、露出させ、現像する前に、基質にフォ トレジストを供給し、前記基質をエッチングさせる工程からなるプリント回路基 板、半導体、化学的に粉砕された製品やプリントされた製品を作る方法であって 、 第１循環フローパス（３４、２６、２８）において、フォトレジストの処理工 程を通してフォトレジストの現像液を循環させ、 前記液体の一部を前記第１循環フローパスから、少なくとも一部が多孔性フィ ルター媒体によって画定される第２循環フローパスに通し、 濾過液が前記多孔性フィルター媒体を通って前記第２循環フローパスから流れ 出るように、前記液体の前記部分を前記第２循環フローパスを通って循環させ、 前記濾過液に二酸化炭素ガスを注入し、 前記多孔性フィルター媒体を通って前記第２循環フローパスから流れ出る濾過 液を前記第１循環フローパスに移動させることからなる、 方法。