KR100386438B1 - 포토레지스트 현상액 및 제막액의 회수장치 및 회수방법 - Google Patents

Abstract

현상, 엣칭 및 제막(除膜) 처리장치에 있어서, 포토레지스트 현상약품과 제막 약품을 열교환기(52), 일련의 탄젠셜 필터(tangential filter)(60, 62, 64, 66), 자외선 접촉기(56) 및 회수탱크(38)를 통해 펌프로 순환시켜 각각의 유체 순환 경로속으로 배출한다. 필터를 통과한 투과액을 현상(14) 또는 제막(22) 단계로 되돌리고, 고농도의 고형물을 함유한 용액을 회수탱크로부터 제거하여 폐기한다. 탄산 나트륨 또는 탄산 칼륨으로 된 현상액의 재생시에는 이산화 탄소 가스를 수산화 알칼리 금속과 더불어 첨가하여 적절한 pH 및 탄산염/탄산수소염의 비를 유지한다.

Description

포토레지스트 현상액 및 제막액의 회수장치 및 회수방법{APPARATUS AND METHOD FOR RECOVERING PHOTORESIST DEVELOPERS AND STRIPPERS}

인쇄회로, 반도체, 화학 밀링(chemical milling) 및 인쇄 등의 산업분야에 있어서 포토레지스트로 알려져 있는 감광 에멀젼을 각종 기판에 도포하고 있다. 패턴을 형성하는 광학기구, 즉 매스크를 포토레지스트 위에 설치하고, 이 매스크를 통해 음화용 포토레지스트를 복사선, 예컨대 자외선에 노출하면 노출된 부위에 경화된 폴리머 에멀젼의 패턴이 형성된다. 양화용 포토레지스트도 간혹 사용되는데 비노출 부위에 경화된 포토레지스트의 패턴을 형성한다.

어느 경우나 노출된 물품을 컨베이어에 싣고 DES 라인(Develop Etch Strip line)으로 알려진 자동화 장치속을 통과시킨다. DES 라인의 제1단계에서는 이들 물품에 현상액을 분무한다. 이 현상액에 의해 비경화 포토레지스트가 제거되고 기판위에는 경화된 폴리머만이 남게 된다. 그 다음 처리단계에서는 경화된 폴리머에 의해 피복되지 않은 기판의 부위들을 엣칭제(etchant)에 작용시켜 엣칭처리한다. 또 그 다음 단계에서는 화학 제막제(除膜劑)(chemical stripper)를 물품에다 분무하여 경화된 폴리머를 제거한다. 마찬가지 공정으로 기판의 노출부위를 엣칭하기 보다는 금속으로 코우팅하거나 금속도금을 한다. 그러나 DES 라인에서 처럼 코우팅 단계 또는 도금단계에 앞서 현상단계를 거친다음 제막단계에 들어간다.

현상단계와 제막단계에서 폐액이 생긴다. 전형적으로 인쇄회로기판 제조에 있어서 이들 두가지 처리단계에서 나오는 폐액은 수용성 포토레지스트 물질을 고농도로 함유한 알칼리성 용액이다. 이 폐액은 화학적 산소 요구량(COD)과 생물학적 산소 요구량(BOD)이 모두 높다. 이 폐액을 주위 환경에다 배출하기전에 유기물질과 폴리머 표피를 제거하도록 처리해야 한다.

과거에는 DES 라인은 현상액과 제막액을 “데드 엔드” 필터(dead end filter)를 통해 순환시킴으로써 가동되었다. 즉, 화공약품을 현상단계와 제막단계에서 회수하여 필터를 통과시킨후 스프레이 헤드에 공급하였다. 여과매체에 고형물이 축적되면 주기적으로 DES 라인의 조작을 중단하여 필터를 청소해야 하였다. 현상액은 점차로 그 성능이 열화(劣化)됨으로써 제품의 품질을 점차로 저하시키게 되었다. 더욱이 용해된 폴리머가 제막액중에 축적됨으로써 점차로 그 효능을 상실하게 되고 또한, 시간이 경과함에 따라 전체 DES 라인을 점차로 서서히 가동시키게 되어 결국에는 제막액을 교체하기 위해 가동을 중지해야 했다.

신선한 현상액은 대표적으로 탄산나트륨 또는 탄산칼륨을 함유한 용액이다. 현상과정에서 탄산염은 점차로 탄산수소염(bicarbonate)으로 변환되므로 현상액의 pH를 저하시킨다. 반드시 그러한 것은 아니지만 현상액의 작용 pH는 대표적으로 10.5∼11의 범위이다. pH가 약 10.2로 떨어지면 현상액을 폐기해야 하는 것으로 생각된다. 과거에는 수산화 칼륨 또는 수산화 나트륨을 첨가하여 현상액을 재생함으로써 현상액욕(developer bath)의 사용수명을 연장하고자 하는 시도를 하였다. 그러나 그 첨가량이 많을수록 소포용(消泡用) 첨가제를 필요로 한다. 이들은 레지스트와 더불어 슬럿지를 생성하여 인쇄회로기판위에 다시 부착하여 인쇄공정과 엣칭공정에서 과잉의 구리반점을 형성한다. 깨끗한 현상을 유지하기 위해서는 자주 세척을 해 줄 필요가 있었다.

탄산염 재생시에는 수산화 알칼리 금속 단독은, 적절한 pH를 유지함과 동시에 적당한 탄산염 농도 및 적당한 탄산염/탄산수소염의 비를 얻기에는 일반적으로 적당하지 않다. 따라서 통상적으로 수산화 알칼리 금속을 적당한 첨가제와 함께 현상액에 첨가하고 있는데, 이것은 많은 경비를 필요로 하는 경향이 있다.

본 발명은 일반적으로 포토레지스트를 이용하는 공정에서 인쇄회로기판, 반도체 및 기타 제품들의 제조시에 생성되는 폐액의 관리에 관한 것이다. 보다 상세하게는 본 발명은 포토레지스트 현상액 및/또는 포토레지스트 제막액(stripping solution)의 회수 및 재활용을 위한 장치 및 방법에 관한 것이다.

도 1은 현상단계와 제막단계에 본 발명에 의한 재생 시스템을 장치한 DES 라인의 개략도.

도 2는 현상액 또는 제막액과 더불어 사용되는 재생 시스템의 개략도.

본 발명의 주목적은 포토레지스트 처리장치를 장시간의 간격으로 고속으로 연속적으로 가동시킬 수 있는 포토레지스트 현상용 및 제막용 화공약품들의 회수 및 재활용을 위한 장치를 제공함에 있다.

본 발명의 다른 목적은 포토레지스트 처리장치의 가동효율을 개선함에 있다.

본 발명의 또 다른 목적은 포토레지스트 처리장치에서 제조된 제품의 품질을 향상시킴에 있다.

본 발명에 의한 장치는 포토레지스트가 도포된 물품을 처리하는 개량된 장치이다. 이 장치는 포토레지스트 현상액 또는 제막액을 포토레지스트 처리단계를 통해 순환시키는 제1유체 순환 경로를 가지고 있다. 또한 이 장치는 제1유체 순환 경로로부터 오는 액의 일부를 수용하기 위해 접속된 제2유체 순환 경로를 포함하는 액회수 시스템을 가지고 있다. 이 제2유체 순환 경로는 탄젠셜 필터(tangential filter)를 포함한다. 즉, 제2유체 순환 경로의 적어도 일부는 다공성 필터매체로 형성됨으로써 액이 제2유체 순환 경로를 통해 흐를때 투과액은 다공성 필터매체를 통과하여 제2유체 순환 경로를 통해 나오게 된다. 또한 이 장치에는 투과액을 제1유체 순환 경로쪽으로 복귀시키는 수단을 가지고 있다.

바람직한 실시형태에 있어서 이 장치는 제2유체 순환 경로를 통해 흐르는 액중에 함유된 중합성 물질의 중합을 촉진시키는 수단을 제2유체 순환 경로에 추가로 포함한다. 또한 이 장치에는 제2유체 순환 경로를 통해 흐르는 액을 가열하는 가열수단 및/또는 제2유체 순환 경로를 통해 흐르는 액중에 함유된 중합성 물질을 자외선에 노출시키는 노출수단을 가져도 좋다.

농축된 고형물을 배출구를 통해 제2유체 순환 경로로부터, 바람직하게는 제2유체 순환 경로의 일부를 형성하는 회수탱크로부터 제거한다.

다공성 필터매체를 통과하는 투과액의 흐름을 간헐적으로 중단시키고, 필터매체를 통과하는 액의 흐름을 역방향으로 하는 한편, 액이 제2유체 순환 경로를 통해 계속해서 흐르도록 하는 수단을 구비하는 것이 바람직하다.

따라서 이 장치의 가동시에는 현상액 또는 제막액을 제1경로에서 처리단계를 통해 계속해서 순환시키는 한편, 순환액의 일부를 제1경로로부터 취하여 제2경로쪽으로 통과시킴으로써 여기서 탄젠셜 여과처리되게 한다. 상기한 제2경로에 의해 현상작업과 제막작업의 중단을 최소한으로 하고 현상액과 제막액의 점진적인 서행의 필요성이 없이 여과를 할 수 있기 때문에 조업효율성이 높아지고 제품의 품질이 우수해진다.

포토레지스트 현상액의 재생을 위한 장치를 사용함에 있어서 여과단계로부터 복귀하는 현상액중으로 이산화 탄소 가스를 도입한다. 이산화 탄소 가스를 예컨대 수산화 나트륨 또는 수산화 칼륨 등의 수산화 알칼리 금속과 더불어 도입하는 것이 바람직하다.

본 발명자는 이산화 탄소 가스를 연속 현상액 재생 시스템에서 사용했을 경우 몇가지 중요한 장점이 있음을 발견하였다. 특히 이것은 현상액을 이상적인 pH 및 탄산염/탄산수소염의 비를 가진 정상상태 조건하에서 사용할 수 있도록 하므로 현상액은 항상 신선한 현상액과 같은 상태로 있다. 이산화 탄소는 완충액을 형성하여 첨가된 수산화 알칼리 금속이 현상액의 pH를 정상적인 사용범위, 대표적으로 10.5∼11.0를 초과하는 레벨까지 상승하지 않도록 한다. 이것은 부적절한 혼합으로 인해 물품과 접하는 현상액의 pH가 과도하게 될 가능성을 크게 감소시키는 것이다. 더욱이 이산화 탄소는 가격이 저렴하므로 값비싼 첨가제의 필요성을 없애준다. 이산화 탄소 가스를 사용하는 연속 현상액 재생 시스템 역시 슬럿지와 버캐(scum)의 형성을 없게하고, 현상액을 자주 내버리고 자주 교체해 줄 필요성을 없애며, 폐액을 감소시키고 현상속도 저하를 피할 수 있으며 측벽품질을 개선한다.

본 발명의 기타 목적, 장점은 도면을 참조하여 아래의 상세한 설명으로부터명백하게 알 수 있게 된다.

도 1에 나온 바와 같이 인쇄회로기판(10)은 일정간격으로 떨어져 있는 회전 로울러(12)로 구성된 컨베이어에 의해 일련의 격실(14, 16, 18, 20, 22) 및 (24) 속을 통과하게 된다. 격실(14)은 현상액, 대표적으로 묽은 탄산수소 칼륨액을 펌프 (26)에 의해 각 로울러의 위와 아래에 있는 스프레이 헤드(spray head)(28)를 통해 순환시키는 현상처리 단계용 격실이다. 현상액에 의해 미중합 포토레지스트를 제거함으로써 인쇄회로기판의 금속부위를 노출시켜 엣칭단계에서 엣칭하게 된다.

격실(18)은 엣칭제, 대표적으로 알칼리성 엣칭제를 순환시켜 스프레이 헤드를 통해 인쇄회로기판에 분무하여 이 기판의 노출부위의 금속을 제거하는 엣칭단계의 격실이다.

격실(22)은 제막액, 대표적으로 수산화 나트륨, 메틸에틸아민, 에틸렌디아민 및 수산화 테트라메틸암모늄을 함유한 용액을 사용하여 인쇄회로기판으로부터 중합피막을 제거함으로써 전기도체로 사용되는 금속의 잔존부위를 노출시키는 제막(除膜)단계용 격실이다. 제막액을 현상단계에서 순환시키는 것과 동일한 방식으로 제막단계에서 순환시킨다.

격실(16, 20, 24)은 물을 순환시키는 세척단계이다. 현상액 처리장치(30)는 현상단계와 관련이 있고, 제막액처리장치(32)는 제막단계와 관련이 있다. 이들 처리장치는 아래에서 설명하는 바와 같이 어떤점에서는 상이할 수도 있겠으나 실질적으로 서로간에 동일해도 좋다. 이들 장치(30, 32)는 실질적으로 동일할 수도 있기 때문에 현상액 처리장치(30) 하나만을 도 2에 상세히 나타내었다.

도 2를 참조하여 펌프(26)는 배관(34)을 통해 격실(14)의 바닥에서 현상액을 받아들여 이 현상액의 일부를 스프레이 헤드(28)로 되돌린다. 따라서 펌프(26)는 제1유체 순환 경로를 통해 현상단계에서 현상액을 순환시킨다. 현상액의 다른 일부를 이송펌프(36)에 의해 배관(34)으로부터 이끌어 낸다. 이 경로에는 대충 여과하는 예비필터를 포함해도 좋다. 이송펌프(36)는 밸브(42)가 있는 배출관(40) 및 원추형 바닥을 가진 회수탱크(38)에다 현상액을 이송한다. 이 회수탱크에는 부표(float)(44)가 있어서 제어기(46)를 작동시킨다. 이 제어기는 펌프(36)와 밸브 (48)를 동작시켜 탱크(38)내의 액레벨을 미리 설정된 한계 이내로 유지한다.

현상액 처리장치내에서의 제2유체 순환 경로는 탱크(38), 펌프(50), 열교환기(52), 한세트의 필터모듈(54) 및 자외선(UV) 접촉기(56)로 되어 있다. 탱크로부터 이 흐름경로를 통해 액을 펌핑하여 열교환기를 거쳐 필터모듈과 자외선 접촉기를 거친다음 다시 탱크로 되돌린다. 통상적으로 필터모듈을 바이패하는 밀폐식 밸브(58)를 설치한다.

한세트의 필터모듈은 4개의 탄젠셜 여과모듈(60, 62, 64, 66)이 직열로 접속된 것인데, 각각 다공성 튜우브로 되어 있고 필터모듈의 다공성 튜우브는 함께 제2유체 순환 경로의 일부를 형성한다.

필터모듈(60∼66)에 사용된 다공성 튜우브는 경질재료 또는 금속제의 다공성 지지체와 강인한 희토류 산화물제 또는 플루오로폴리머제의 내부 멤브레인으로 되어 있으므로 백 플러싱(back flushing)에 견딜 수 있을 뿐만 아니라 고온에서 사용할 수 있고, 필요한 경우에는 가혹한 화공약품으로 세척할 수도 있다. 이렇게 함으로써 백 플러싱에 충분히 견딜수 있을 정도로 튼튼하지도 않고 쉽사리 오염되는 폴리머 복합재료로 된 멤브레인을 사용한 한외여과 및 마이크로여과에서 겪게 되는 실패를 피할 수 있다. 필터 요소는 미합중국 특허 제 4,069,157호 (1978년 1월 17일자)에 기재된 종류의 것이어도 좋다. 적당한 한외여과 및 마이크로여과용 멤브레인은 공지되어 있으며 시판되고 있다 (예: U. S. Filter, Rhone Poulenc, Graver Separations and CeraMem Separations, 및 기타 공급원).

각각의 다공성 튜우브 주위에는 제2유체 순환 경로로부터 다공성 튜우브를 통해 바깥쪽으로 통과하는 투과액을 수용하기 위한 회수기가 설치되어 있다. 이 회수기를 배관(68)을 통해, 밸브(74)가 달린 공기배관(72) 및 밸브(78)가 있는 유출배관(78)을 각각 가진 가압탱크(70)에 병렬로 연결한다. 밸브(74, 78)는 타이머(80)에 의해 제어된다.

배관(76)을 pH 조정단계(82)를 통해 복귀배관(84)에 연결하여 pH 조정된 투과액을 다시 격실(14)로 순환시킴으로써 제1유체 순환 경로로 복귀시킨다.

이 장치를 사용하여 현상처리를 할 경우에 있어서 pH 조정단계(82)는 pH 모니터(86)와 고정 접촉기(88)로 구성하는 것이 바람직하다. 도 2에 나온 pH 조정단계에서 배관(76)으로부터의 투과액을 pH 모니터(86)를 통과시킨 다음 고정 접촉기(88)를 통해 복귀배관(84)으로 순환시킨다. 고정 접촉기(88)에 있어서 이산화 탄소 가스와 수산화 나트륨 용액 또는 수산화 알칼리 금속 용액을 pH 모니터 제어하에 투과액속으로 자동적으로 도입하는데, 이 때의 도입속도는 복귀배관에서 소요의 pH (대표적으로 10.5∼11의 범위내)를 유지하고 현상액중에서 탄산염과 탄산수소염의 소요의 균형을 이루도록 할 수 있도록 하는 속도로 한다.

pH 조정단계(82)에서의 이산화 탄소와 수산화 나트륨의 제어는 피이드-포워드 제어(feed-forward control) 방식인데, 즉 배관(76)에서 투과액의 모니터링된 pH에 근거하여 pH 조정을 하는 것이다. 피이드백 제어(feedback control)를 교대로 이용하거나 피이드-포워드제어 방식과 병행함으로써 배관(84)을 통해 현상격실 (14)로 복귀하는 액의 pH에 따르거나 현상액 단계에서 순환되고 있는 현상액의 pH에 따라 이산화 탄소와 수산화 나트륨의 도입을 제어한다.

펌프(50)는 필터모듈을 통과하는 흐름경로에서의 압력을 2∼7 기압의 범위로 유지한다. 필터모듈의 크기는 투명한 투과액의 소요의 흐름에 따라 결정된다.

위에 나온 장치의 설명으로부터 명백한 바와 같이 용액을 간헐적으로 백 플러싱(back flushing)해 주면서 열처리, 자외선 조사처리 및 경질의 희토류 산화물 멤브레인 여과처리를 한다.

열교환기(52)에서 가해진 열에 의해 미반응 포토레지스트 함유 처리액의 중합반응을 촉진시킨다. 상승된 온도를 이용할 경우 컨베이어 설비가 견딜수 있는 최고온도를 초과하지 않도록 주의를 해야한다. 필요한 경우에는 내열성이 있는 설비를 사용하거나 용액을 냉각한 후에 사용한다.

용액이 일련의 필터모듈을 통과하는 동안 순환펌프(50)에서 용액에 가해진 압력에 의해 투과액이 필터 멤브레인을 통과하고 농축액은 회수탱크(38)쪽으로 진행한다. pH조정후에 투과액을 다시 현상과정 또는 제막과정으로 순환시킨다.

이어서 농축액을 자외선 조사 접촉기(56)를 통과시키면서 레지스트막을 더욱 경화시켜 다시 회수탱크(38)로 보낸다. 폐액과 막이 미리 설정된 농도에 도달하면 탱크(38)의 바닥으로부터 배출하여 관련 법령에 따라 폐기한다. 탄젠셜 여과의 장점은 필터모듈을 액이 통과함으로써 필터매체에 고형물이 축적하지 않도록 하는 것이다. 따라서 필터모듈을 장기간 동안 효율적으로 가동시킬 수 있다. 이상적인 조건하에서도 필터매체에는 박층의 필터 케이크가 형성되므로 여과효율을 저하시키게 된다. 필터모듈을 효율적으로 계속하여 가동시킬 수 있도록 하자면 탱크(70)를 통과하는 투과액의 흐름을 간헐적으로 정지시켜 역전시킨다. 배관(72)을 통해 탱크 (70)속으로 잠간동안 공기를 도입하여 탱크(70)를 가압함으로써 필터 멤브레인을 통한 투과액의 역류(逆流)를 용이하게 한다. 이러한 역류에 의하여 필터 케이크와 기타 장애물을 깨끗이 청소하게 되어 투과액 유속을 크게 유지한다. 필터매체를 통하는 간헐적인 역류는 필터, 회수탱크(38), 열교환기(52) 및 자외선 접촉기(56)로 된 유체 순환 경로를 통한 액의 순환을 중단함이 없이 일어나게 할 수 있다. 바이패스 밸브(58)를 개방하면 필터모듈을 보수하거나 교체할 수 있다. 또한 이것을 개방하여 필터모듈을 통하지 않고 자외선 접촉기(56)를 통해 현상액을 순환시킴으로써 순환되는 현상액에 함유된 입자들을 자외선 조사에 의해 보다 효과적으로 경화시킬 수 있다. 이렇게 함으로써 필터모듈을 통과하는 흐름이 회복될 경우 필터모듈의 폐색 가능성을 감소시키게 된다.

본 발명에 의한 장치를 사용하여 인쇄회로기판, 화학 밀링, 반도체 제조 및 인쇄 등에서 이용되고 있는 광화상 형성 공정의 현상단계 또는 제막단계에서 나오는 각종 포토레지스트 함유 용액을 처리한다. 본 발명에 의하여 이들 용액을 사용하여 정상상태하에서 장시간 동안 계속하여 처리할 수 있다.

본 발명은 포토레지스트 함유 현상액 및 제막액을 처리하는 종래의 방법과는 상당히 다르다. 작업액을 소모할 때까지 사용하는 종래의 회분식(batch process) 대신에 본 발명은 포토레지스트 폴리머 (피막)를 신속하고도 계속적으로 제거함으로써 처리액을 즉시에 계속하여 재사용할 수 있도록 한 정상상태 처리법을 제공하고 있다. 이러한 정상상태 처리에 의해 폴리머 또는 폴리머중의 염료가 현상액 또는 제막액과 반응하거나 그 속에 용해하지 않게 된다. 이렇게 함으로써 필요로 하는 신선한 용액의 사용량을 줄일 수 있을 뿐만 아니라 종래의 장치 조작시에 발생하는 노즐폐색 및 오수(汚水) 세정 문제를 피할 수 있다. 또한 전형적으로 신선한 용액으로써 가능한 고속의 컨베이어에서 연속적으로 작업을 할 수도 있다.

본 발명은 몇가지 기술을 함께 채용하고 있다. 세라믹스, 탄소 또는 스테인레스제의 경질의 다공성 멤브레인에 의해 졸-겔법을 이용하여 각종 희토류 함침 산화물을 지지함으로써 극히 낮은 오염도와 역류 세척성을 가지며 고온에서 안정한 한외여과 또는 마이크로여과 모듈을 얻을 수 있다.

이들 모듈은 열교환기, 자외선 접촉기 및 간헐적인 역류세척 메카니즘을 병용함으로써 고도로 농축된 폐액을 생성시키면서 포토레지스트 현상액과 제막액을 즉시에 재사용하는 연속공정을 실시할 수 있다.

이 장치를 시판되고 있는 공지의 부품들로 조립할 수 있다. 상기한 장치 및 그 조업방식에 대해 여러가지 변형이 가능하다. 예컨대, 처리장치를 현상장치 또는 제막장치에 바로 인접하여 설치할 수도 있고, 또는 적당한 현상액 설비 또는 제막액 설비에 배관을 하여 멀리 떨어지게 접속하여 설치할 수도 있다. 현상액 재활용의 경우에 있어서 열교환기를 사용하여 중합반응을 촉진시키는 것이 바람직하겠으나 이것을 생략할 수도 있다. 마찬가지로 제막액 재활용에 있어서도 여과된 고형물의 점착성을 자외선 접촉기를 사용하여 감소시킬 필요가 있겠으나 자외선 접촉기를 생략할 수도 있다. 필요한 경우, 처리장치를 회분식으로 조작할 수도 있고 폐액처리 분야에 있어서도 어떠한 공간에 설치할 수도 있다.

Claims (55)

1. 포토레지스트 현상액과 제막액으로 된 군으로부터 선택되는 액을 포토레지스트 처리단계를 통해 순환시키는 제1유체 순환 경로(34, 26, 28)를 가진, 포토레지스트가 도포된 물품의 처리장치에 있어서, 액 회수 시스템은,

   (가) 제1유체 순환 경로로부터의 액의 일부를 수용하기 위해 접속된 제2유체 순환 경로(36, 54)에 있어서 상기 제2유체 순환 경로의 적어도 일부를 다공성 필터매체(54)로 구성함으로써 상기 제2유체 순환 경로를 통해 액이 흐를 때 투과액이 다공성 필터매체를 통해 제2유체 순환 경로를 통과해 나오도록 하는 제2유체 순환 경로와,

   (나) 상기 다공성 필터매체를 통해 상기 제2유체 순환 경로를 통과해 나오는 투과액을 제1유체 순환 경로에다 이송하는 수단(84)을 구비하고,

   (다) 상기 다공성 필터매체는 세라믹제 또는 희토류 산화물 함유의 경질의 다공성 멤브레인인 것을 특징으로 하는 포토레지스트 도포된 물품의 처리장치.
2. 제1항에 있어서, 제2유체 순환 경로를 통해 흐르는 액을 가열 및 복사선 조사처리하는 수단(52, 56)을 추가로 포함하는 장치.
3. 제1항에 있어서, 제2유체 순환 경로로부터 농축된 고형물을 제거하는 배출관 (40)을 포함하는 장치.
4. 제1항에 있어서, 다공성 필터매체를 통과하는 투과액의 흐름을 간헐적으로 중단하고, 제2유체 순환 경로를 액이 계속해서 흐르도록 하면서 필터매체를 통과하는 액의 흐름을 역방향으로 하는 수단(72, 74, 78)을 포함하는 장치.
5. 제1항에 있어서, 제1유체 순환 경로에서 순환되는 액이 포토레지스트 현상액이고, 다공성 필터매체를 통해 제2유체 순환 경로를 통과하여 제1유체 순환 경로로 들어가는 투과액에 이산화 탄소 가스를 도입하는 수단(88)을 포함하는 장치.
6. 제1항에 있어서, 포토레지스트가 도포된 물품을 이송하는 컨베이어를 포함하고, 제1유체 순환 경로는 컨베이어가 연장되어 속을 통과하는 격실(14)을 포함하며 포토레지스트의 처리가 실시되는 장치로서, 상기 격실은 내부, 바닥부, 격실로부터 액을 배출하기 위한 격실의 상기 바닥부에 접속된 배관(34), 및 상기 배관(34)을 통해 배출된 액을 격실의 내부로 순환시켜 상기 배관(34)을 통해 배출된 액을 상기 컨베이어위의 물품과 접촉시키는 수단을 구비한 장치.
7. 제1항에 있어서, 상기 제1유체 순환 경로에서 액을 순환시키는 펌프(26)를 포함하는 장치.
8. 제1항에 있어서, 포토레지스트가 도포된 물품을 이송하는 컨베이어를 포함하고, 제1유체 순환 경로는 컨베이어가 연장되어 속을 통과하는 격실(14)을 포함하며 포토레지스트의 처리가 실시되는 장치로서, 상기 격실은 내부, 바닥부, 격실로부터 액을 배출하기 위한 격실의 상기 바닥부에 접속된 배관(34), 상기 컨베이어의 상부에 설치되어 액을 상기 컨베이어위의 물품과 접촉하도록 하는 한 세트의 스프레이 헤드(28), 및 상기 배관(34)을 통해 배출된 액을 상기 스프레이 헤드쪽으로 순환시키는 수단을 구비한 장치.
9. 제1항에 있어서, 포토레지스트가 도포된 상부쪽과 바닥쪽을 가진 물품을 이송하는 컨베이어를 포함하고, 제1유체 순환 경로는 액을 상기 컨베이어위의 물품의 상부쪽과 바닥쪽과 접촉시키는 액 공급 수단을 포함하는 장치.
10. 제1항에 있어서, 상기 제1유체 순환 경로와 상기 액 회수 시스템은 1차 포토레지스트 처리단계의 일부이고, 제1단계에서 순환된 액은 포토레지스트 현상액이며, 순환된 액이 포토레지스트 제막액이고 포토레지스트 제막액을 순환시키는 제3유체 순환 경로(34, 26, 28)와 제2액 회수 시스템을 포함하는 제2포토레지스트 처리단계를 가진 장치로서, 상기 장치는,

    (가) 상기 제1 및 제2포토레지스트 처리단계를 통하여 순차로 경로를 따라 상기 물품을 이송하는 컨베이어와,

    (나) 제3유체 순환 경로로부터 액의 일부를 수용하기 위해 접속된 제4유체 순환 경로(36, 54)에 있어서 상기 제4유체 순환 경로의 적어도 일부를 제2다공성 필터매체(54)로 구성함으로써 상기 제4유체 순환 경로를 통해 액이 흐를 때 투과액이 제2다공성 필터매체를 통해 제2유체 순환 경로를 통과해 나오도록 하는 제4유체 순환 경로를 가진 제2액 회수 시스템과,

    (다) 제2다공성 필터매체를 통해 상기 제4유체 순환 경로를 통과해 나오는 투과액을 제3유체 순환 경로에다 이송하는 수단(84)을 구비하고,

    (다) 제2다공성 필터매체는 세라믹제 또는 희토류 산화물 함유의 경질의 다공성 멤브레인인 장치.
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