JP2004298680A - フォトレジスト現像の廃液処理方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】フォトレジスト現像廃液の処理方法において、現像廃液の処理速度を長期間に渡って維持する。
【解決手段】限外濾過膜または精密濾過膜で濾過する工程と、pH11〜14のアルカリ性洗浄液で限外濾過膜または精密濾過膜を洗浄する薬液洗浄工程とを有する。
【選択図】 図1
【解決手段】限外濾過膜または精密濾過膜で濾過する工程と、pH11〜14のアルカリ性洗浄液で限外濾過膜または精密濾過膜を洗浄する薬液洗浄工程とを有する。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はフォトレジスト現像廃液の処理方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
プリント基板の製造では、絶縁基板上の銅箔に所定の回路パターンを形成する工程として、銅箔上にフォトレジスト層を形成し、このフォトレジスト層をフォトリソグラフィ工程で所定パターンにパターニングした後、このレジストパターンをマスクとして銅箔をエッチングすることが行われている。このフォトリソグラフィ工程では、フォトレジスト層にフォトマスクを介して所定波長の光を照射する露光工程と、露光工程後に未硬化のフォトレジストを除去する現像工程が行われる。
【0003】
この現像工程で使用した現像液を廃棄しないで再使用する方法が、下記の特許文献1に開示されている。この文献に記載された方法では、水溶性フォトレジストを含む現像廃液を限外濾過膜で濾過した後、その濾過液にアルカリ成分を加えてpHを未使用の現像液と同じになるようにしている。
【0004】
【特許文献1】
特公平6−15078号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記特許文献1に記載の方法には、限外濾過膜を使用していることから孔が詰まりやすく、現像廃液の処理速度(濾過液の透過速度)が短時間で低下する等の問題点がある。
本発明は、従来技術の未解決な課題を解決するためになされたものであり、フォトリソグラフィ工程としてフォトレジスト層に対する露光工程と現像液を用いた現像工程とを行い、その結果得られた水溶性フォトレジストを含む現像廃液を濾過膜で濾過することにより、再度現像液として使用可能な状態に処理する方法において、現像廃液の処理速度を長期間に渡って維持できる方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、フォトリソグラフィ工程としてフォトレジスト層に対する露光工程と現像液を用いた現像工程とを行い、その結果得られた水溶性フォトレジストを含む現像廃液を濾過膜で濾過することにより、再度現像液として使用可能な状態に処理する方法において、前記濾過膜をアルカリ性洗浄液で洗浄する薬液洗浄工程を有することを特徴とするフォトレジスト現像廃液の処理方法を提供する。
【0007】
前記濾過膜としては精密濾過膜または限外濾過膜が使用できる。
ここで、精密濾過膜とは、孔径が0.01μmから10μm程度の分離膜であり、限外濾過膜とは、孔径が数nmから数十nm程度の分離膜である。
本発明の方法において、薬液洗浄工程はpH11〜14のアルカリ性洗浄液を用いて行うことが好ましい。
【0008】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について説明する。
図1は、本発明の一実施形態に相当する処理方法が実施可能な処理設備を示す概略構成図である。
この処理設備は、廃液タンク1と、精密濾過膜モジュール2と、濾過液タンク3と、処理済現像液タンク4と、配管5〜11と、各配管に設けたバルブV1〜V5およびポンプP1,P2とで構成されている。
【0009】
精密濾過膜モジュール2は、精密濾過膜からなる中空糸が複数本、円筒体の容器に収納されたものであり、例えば、旭化成(株)の製品(ポリオレフィン製膜、公称孔径0.1μm、膜面積6.0m2 、中空糸内径0.7mm)を使用する。
配管5は、廃液タンク1に現像廃液を導入する現像廃液導入管である。現像廃液は、目開き300μmのフィルターにより予め固形物が取り除かれた後に、現像廃液導入管5を介して廃液タンク1に導入されるように構成されている。配管6は、廃液タンク1と精密濾過膜モジュール2の原液導入口とを接続する廃液供給管である。この廃液供給管6にポンプP1が設置されている。
【0010】
配管7は、精密濾過膜モジュール2の濃縮液導出口と廃液タンク1とを接続して、濃縮液を廃液タンク1に戻す戻し配管である。この戻し配管7にはバルブV1が設置されている。戻し配管7のバルブV1より上流側から配管8が分岐している。この配管8は、濃縮液を外部に排出する濃縮液排出管であり、バルブV2が設置されている。
【0011】
配管9は、精密濾過膜モジュール2の濾過液導出口と濾過液タンク3とを接続する濾過液導出管である。この濾過液導出管9にはバルブV3が設置され、このバルブV3より上流側から配管10が分岐している。この配管10は逆洗用配管であって、濾過液タンク3内の液体を精密濾過膜モジュール2内の濾過液導出口へ導く。この逆洗用配管10に、バルブV4とポンプP2が設置されている。
【0012】
配管11は、濾過液タンク3と処理済現像液タンク4とを接続するものであり、この配管11にバルブ5が設置されている。
この処理設備による濾過工程は、先ず、バルブV4,V5を閉じ、ポンプP2は停止状態とし、バルブV1〜V3を適切な開度で開いて、ポンプP1を稼働する。これと同時に、固形物が取り除かれた現像廃液(フォトリソグラフィ工程としてフォトレジスト層に対する露光工程と現像液を用いた現像工程とを行い、その結果得られた水溶性フォトレジストを含む現像廃液)を、現像廃液導入管5から廃液タンク1に連続的に導入する。
【0013】
これにより、廃液タンク1には、固形物が取り除かれた現像廃液が現像廃液導入管5から導入され、廃液タンク1内の現像廃液が廃液供給管6から精密濾過膜モジュール2内に供給される。
精密濾過膜モジュール2内に供給された現像廃液は、中空糸の内部に入り中空糸をなす精密濾過膜で濾過された濾過液と、中空糸内を通って頂部に達した濃縮液とに分離される。このうちの濾過液は、濾過液導出口から濾過液導出管9に入り、濾過液タンク3に入る。濃縮液の一部は、濃縮液排出管8から外部に排出され、それ以外は、濃縮液導出口から戻し配管7に入り、廃液タンク1に戻される。
【0014】
このようにして、廃液タンク1内の現像廃液が循環処理され、現像廃液に含まれているCOD成分や無機物質が濾過された濾過液(現像液)が濾過液タンク3内に貯留される。なお、濾過液タンク3内に濾過液が所定量溜まった時点で、バルブV5を開いて処理済液タンク4に濾過液(現像液)を移す。この濾過液をフォトリソグラフィ工程の現像工程の現像液として再利用する。
【0015】
この連続濾過処理工程を10分間行った後に、以下の方法で7秒間の逆洗(逆圧洗浄)工程を行うことを繰り返す。
先ず、バルブV1〜V3,V5を閉じ、ポンプP1は停止状態とする。次に バルブV4を適切な開度で開いて、ポンプP2を稼働する。これにより、濾過液タンク3内の濾過液が逆洗用配管10から精密濾過膜モジュール2内に供給され、モジュール2内の中空糸(精密濾過膜)を逆洗する。すなわち、濾過液タンク3内の濾過液は、中空糸の外側から中空糸内に入り、中空糸内を通って下部に達した後に、廃液供給管6を介して廃液タンク1に入る。
【0016】
また、1カ月に一度、連続濾過処理/逆洗運転を停止して、以下の方法で薬液洗浄を行う。
先ず、廃液タンク1、精密濾過膜モジュール2、濾過液タンク3、および配管6,7,9,10内の液体を全て排出する。次に、廃液タンク1、精密濾過膜モジュール2、および濾過液タンク3内を水で満たして、上述の連続濾過処理/逆洗運転を30分程度行う(水洗工程)。
【0017】
次に、廃液タンク1内にpH11〜14のアルカリ性洗浄液を入れて、上述の連続濾過処理/逆洗運転を30分程度行う(薬液洗浄工程)。
次に、廃液タンク1および濾過液タンク3内のアルカリ性洗浄液を酸で中和処理した後、外部に排出する。次に、廃液タンク1、精密濾過膜モジュール2、および濾過液タンク3内を水で満たして、上述の連続濾過処理/逆洗運転を30分程度行う(薬液排出工程)。
【0018】
なお、薬液洗浄工程では、水洗工程後の廃液タンク1内に、アルカリ性洗浄剤をpH=11〜14となるように添加する。使用するアルカリ性洗浄剤としては、水酸化ナトリウムを主成分に、キレート剤、界面活性剤等が配合されたアルカリ性粉状洗浄剤が考えられる。
また、旭化成(株)の精密濾過膜モジュールの薬液洗浄による濾過性能の回復状態を、各種薬液を用いて調べた。その結果、pH11〜14のアルカリ性洗浄液を用いた場合は、回復率96%であった。これに対して、0.3質量%の次亜塩素酸、pH2のリン酸、エタノール等を用いた場合には、同じ条件で回復率70%程度であった。
【0019】
また、旭化成(株)の限外濾過膜モジュールの薬液洗浄による濾過性能の回復状態を、各種薬液を用いて調べた。その結果、pH11〜14のアルカリ性洗浄液を用いた場合は、回復率96%であった。これに対して、0.3質量%の次亜塩素酸、pH2のリン酸、エタノール等を用いた場合には、同じ条件で回復率70%程度であった。
【0020】
したがって、この実施形態の処理設備で、所定の条件で連続濾過処理/逆洗運転を行うとともに、1カ月に一度、pH11〜14のアルカリ性洗浄液を用いて薬液洗浄をすることによって、フォトレジスト現像廃液の処理速度を長期間に渡って維持することができる。
なお、この実施形態では薬液処理の頻度を1カ月に一度としているが、この頻度は適宜設定でき、半月に一度や2カ月に一度であってもよい。
【0021】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のフォトレジスト現像廃液の処理方法によれば、現像廃液の処理速度を長期間に渡って維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に相当する処理方法が実施可能な処理設備を示す概略構成図である。
【符号の説明】
1 廃液タンク
2 精密濾過膜モジュール
3 濾過液タンク
4 処理済現像液タンク
5 現像廃液導入管
6 廃液供給管
7 戻し配管
8 濃縮液排出管
9 濾過液導出管
10 逆洗用配管
11 配管
V1〜V5 バルブ
P1,P2 ポンプ
【発明の属する技術分野】
本発明はフォトレジスト現像廃液の処理方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
プリント基板の製造では、絶縁基板上の銅箔に所定の回路パターンを形成する工程として、銅箔上にフォトレジスト層を形成し、このフォトレジスト層をフォトリソグラフィ工程で所定パターンにパターニングした後、このレジストパターンをマスクとして銅箔をエッチングすることが行われている。このフォトリソグラフィ工程では、フォトレジスト層にフォトマスクを介して所定波長の光を照射する露光工程と、露光工程後に未硬化のフォトレジストを除去する現像工程が行われる。
【0003】
この現像工程で使用した現像液を廃棄しないで再使用する方法が、下記の特許文献1に開示されている。この文献に記載された方法では、水溶性フォトレジストを含む現像廃液を限外濾過膜で濾過した後、その濾過液にアルカリ成分を加えてpHを未使用の現像液と同じになるようにしている。
【0004】
【特許文献1】
特公平6−15078号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記特許文献1に記載の方法には、限外濾過膜を使用していることから孔が詰まりやすく、現像廃液の処理速度(濾過液の透過速度)が短時間で低下する等の問題点がある。
本発明は、従来技術の未解決な課題を解決するためになされたものであり、フォトリソグラフィ工程としてフォトレジスト層に対する露光工程と現像液を用いた現像工程とを行い、その結果得られた水溶性フォトレジストを含む現像廃液を濾過膜で濾過することにより、再度現像液として使用可能な状態に処理する方法において、現像廃液の処理速度を長期間に渡って維持できる方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、フォトリソグラフィ工程としてフォトレジスト層に対する露光工程と現像液を用いた現像工程とを行い、その結果得られた水溶性フォトレジストを含む現像廃液を濾過膜で濾過することにより、再度現像液として使用可能な状態に処理する方法において、前記濾過膜をアルカリ性洗浄液で洗浄する薬液洗浄工程を有することを特徴とするフォトレジスト現像廃液の処理方法を提供する。
【0007】
前記濾過膜としては精密濾過膜または限外濾過膜が使用できる。
ここで、精密濾過膜とは、孔径が0.01μmから10μm程度の分離膜であり、限外濾過膜とは、孔径が数nmから数十nm程度の分離膜である。
本発明の方法において、薬液洗浄工程はpH11〜14のアルカリ性洗浄液を用いて行うことが好ましい。
【0008】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について説明する。
図1は、本発明の一実施形態に相当する処理方法が実施可能な処理設備を示す概略構成図である。
この処理設備は、廃液タンク1と、精密濾過膜モジュール2と、濾過液タンク3と、処理済現像液タンク4と、配管5〜11と、各配管に設けたバルブV1〜V5およびポンプP1,P2とで構成されている。
【0009】
精密濾過膜モジュール2は、精密濾過膜からなる中空糸が複数本、円筒体の容器に収納されたものであり、例えば、旭化成(株)の製品(ポリオレフィン製膜、公称孔径0.1μm、膜面積6.0m2 、中空糸内径0.7mm)を使用する。
配管5は、廃液タンク1に現像廃液を導入する現像廃液導入管である。現像廃液は、目開き300μmのフィルターにより予め固形物が取り除かれた後に、現像廃液導入管5を介して廃液タンク1に導入されるように構成されている。配管6は、廃液タンク1と精密濾過膜モジュール2の原液導入口とを接続する廃液供給管である。この廃液供給管6にポンプP1が設置されている。
【0010】
配管7は、精密濾過膜モジュール2の濃縮液導出口と廃液タンク1とを接続して、濃縮液を廃液タンク1に戻す戻し配管である。この戻し配管7にはバルブV1が設置されている。戻し配管7のバルブV1より上流側から配管8が分岐している。この配管8は、濃縮液を外部に排出する濃縮液排出管であり、バルブV2が設置されている。
【0011】
配管9は、精密濾過膜モジュール2の濾過液導出口と濾過液タンク3とを接続する濾過液導出管である。この濾過液導出管9にはバルブV3が設置され、このバルブV3より上流側から配管10が分岐している。この配管10は逆洗用配管であって、濾過液タンク3内の液体を精密濾過膜モジュール2内の濾過液導出口へ導く。この逆洗用配管10に、バルブV4とポンプP2が設置されている。
【0012】
配管11は、濾過液タンク3と処理済現像液タンク4とを接続するものであり、この配管11にバルブ5が設置されている。
この処理設備による濾過工程は、先ず、バルブV4,V5を閉じ、ポンプP2は停止状態とし、バルブV1〜V3を適切な開度で開いて、ポンプP1を稼働する。これと同時に、固形物が取り除かれた現像廃液(フォトリソグラフィ工程としてフォトレジスト層に対する露光工程と現像液を用いた現像工程とを行い、その結果得られた水溶性フォトレジストを含む現像廃液)を、現像廃液導入管5から廃液タンク1に連続的に導入する。
【0013】
これにより、廃液タンク1には、固形物が取り除かれた現像廃液が現像廃液導入管5から導入され、廃液タンク1内の現像廃液が廃液供給管6から精密濾過膜モジュール2内に供給される。
精密濾過膜モジュール2内に供給された現像廃液は、中空糸の内部に入り中空糸をなす精密濾過膜で濾過された濾過液と、中空糸内を通って頂部に達した濃縮液とに分離される。このうちの濾過液は、濾過液導出口から濾過液導出管9に入り、濾過液タンク3に入る。濃縮液の一部は、濃縮液排出管8から外部に排出され、それ以外は、濃縮液導出口から戻し配管7に入り、廃液タンク1に戻される。
【0014】
このようにして、廃液タンク1内の現像廃液が循環処理され、現像廃液に含まれているCOD成分や無機物質が濾過された濾過液(現像液)が濾過液タンク3内に貯留される。なお、濾過液タンク3内に濾過液が所定量溜まった時点で、バルブV5を開いて処理済液タンク4に濾過液(現像液)を移す。この濾過液をフォトリソグラフィ工程の現像工程の現像液として再利用する。
【0015】
この連続濾過処理工程を10分間行った後に、以下の方法で7秒間の逆洗(逆圧洗浄)工程を行うことを繰り返す。
先ず、バルブV1〜V3,V5を閉じ、ポンプP1は停止状態とする。次に バルブV4を適切な開度で開いて、ポンプP2を稼働する。これにより、濾過液タンク3内の濾過液が逆洗用配管10から精密濾過膜モジュール2内に供給され、モジュール2内の中空糸(精密濾過膜)を逆洗する。すなわち、濾過液タンク3内の濾過液は、中空糸の外側から中空糸内に入り、中空糸内を通って下部に達した後に、廃液供給管6を介して廃液タンク1に入る。
【0016】
また、1カ月に一度、連続濾過処理/逆洗運転を停止して、以下の方法で薬液洗浄を行う。
先ず、廃液タンク1、精密濾過膜モジュール2、濾過液タンク3、および配管6,7,9,10内の液体を全て排出する。次に、廃液タンク1、精密濾過膜モジュール2、および濾過液タンク3内を水で満たして、上述の連続濾過処理/逆洗運転を30分程度行う(水洗工程)。
【0017】
次に、廃液タンク1内にpH11〜14のアルカリ性洗浄液を入れて、上述の連続濾過処理/逆洗運転を30分程度行う(薬液洗浄工程)。
次に、廃液タンク1および濾過液タンク3内のアルカリ性洗浄液を酸で中和処理した後、外部に排出する。次に、廃液タンク1、精密濾過膜モジュール2、および濾過液タンク3内を水で満たして、上述の連続濾過処理/逆洗運転を30分程度行う(薬液排出工程)。
【0018】
なお、薬液洗浄工程では、水洗工程後の廃液タンク1内に、アルカリ性洗浄剤をpH=11〜14となるように添加する。使用するアルカリ性洗浄剤としては、水酸化ナトリウムを主成分に、キレート剤、界面活性剤等が配合されたアルカリ性粉状洗浄剤が考えられる。
また、旭化成(株)の精密濾過膜モジュールの薬液洗浄による濾過性能の回復状態を、各種薬液を用いて調べた。その結果、pH11〜14のアルカリ性洗浄液を用いた場合は、回復率96%であった。これに対して、0.3質量%の次亜塩素酸、pH2のリン酸、エタノール等を用いた場合には、同じ条件で回復率70%程度であった。
【0019】
また、旭化成(株)の限外濾過膜モジュールの薬液洗浄による濾過性能の回復状態を、各種薬液を用いて調べた。その結果、pH11〜14のアルカリ性洗浄液を用いた場合は、回復率96%であった。これに対して、0.3質量%の次亜塩素酸、pH2のリン酸、エタノール等を用いた場合には、同じ条件で回復率70%程度であった。
【0020】
したがって、この実施形態の処理設備で、所定の条件で連続濾過処理/逆洗運転を行うとともに、1カ月に一度、pH11〜14のアルカリ性洗浄液を用いて薬液洗浄をすることによって、フォトレジスト現像廃液の処理速度を長期間に渡って維持することができる。
なお、この実施形態では薬液処理の頻度を1カ月に一度としているが、この頻度は適宜設定でき、半月に一度や2カ月に一度であってもよい。
【0021】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のフォトレジスト現像廃液の処理方法によれば、現像廃液の処理速度を長期間に渡って維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に相当する処理方法が実施可能な処理設備を示す概略構成図である。
【符号の説明】
1 廃液タンク
2 精密濾過膜モジュール
3 濾過液タンク
4 処理済現像液タンク
5 現像廃液導入管
6 廃液供給管
7 戻し配管
8 濃縮液排出管
9 濾過液導出管
10 逆洗用配管
11 配管
V1〜V5 バルブ
P1,P2 ポンプ
Claims (2)
- フォトリソグラフィ工程としてフォトレジスト層に対する露光工程と現像液を用いた現像工程とを行い、その結果得られた水溶性フォトレジストを含む現像廃液を濾過膜で濾過することにより、再度現像液として使用可能な状態に処理する方法において、
前記濾過膜をアルカリ性洗浄液で洗浄する薬液洗浄工程を有することを特徴とするフォトレジスト現像廃液の処理方法。 - 薬液洗浄工程はpH11〜14のアルカリ性洗浄液を用いて行う請求項1記載のフォトレジスト現像廃液の処理方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006231212A (ja) * | 2005-02-25 | 2006-09-07 | Toppan Printing Co Ltd | 限外濾過フィルタの使用方法、及び限外濾過フィルタ再生機構付ウェット現像装置 |
JP2007196158A (ja) * | 2006-01-27 | 2007-08-09 | Kurita Water Ind Ltd | Fe、Cr及びレジスト含有水の膜分離処理用の膜モジュールの洗浄方法 |
JP2008229408A (ja) * | 2007-03-16 | 2008-10-02 | Ngk Insulators Ltd | 液体分離方法及び液体分離システム |
JP2015020100A (ja) * | 2013-07-17 | 2015-02-02 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | レジスト剥離液ろ過フィルタの洗浄液、洗浄装置および洗浄方法 |
-
2003
- 2003-03-28 JP JP2003092157A patent/JP2004298680A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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TWI615186B (zh) * | 2013-07-17 | 2018-02-21 | Panasonic Ip Man Co Ltd | 光阻剝離液過濾器之洗淨液、洗淨裝置及洗淨方法 |
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