JP6045283B2 - レジスト剥離液の再生方法および再生装置 - Google Patents

Description

本発明は、使用済みのレジスト剥離液から溶剤成分を分離し、再生使用するレジスト剥離液の再生方法に関し、特に、高沸点分離器からのレジスト含有残留液を濃縮する残渣濃縮器内及び配管に固着物が生じにくくするレジスト剥離液の再生方法および装置に関する。

半導体や液晶ディスプレイ、有機および無機のＥＬディスプレイの製造では、フォトリソグラフィの技術が多用される。ここでは、基板上に材料薄膜を形成し、その上にレジストでパターンを形成する。そしてそのレジストパターンに沿ってエッチング処理を行い、材料薄膜を所望のパターンに形成する。そして、最後に残ったレジストを剥離する。

レジストは、感光性を有する樹脂材料であり、例えばノボラック樹脂等が好適に利用されている。したがって、レジストを剥離させるためには溶剤が基体となる剥離剤が使用される。例えば、モノエタノールアミン、ジメチルスルホキシドの混合物や、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとプロピレングリコールモノメチルエーテルの混合物である所謂シンナー等、更に複数の溶剤成分と水分からなる水系剥離液が使用される。

これらの溶剤は大量に使用され、決して安価ではない。また、再資源化の観点から、各溶剤成分に分離・再資源化が最も効果的な方法であるが、個別溶剤を再利用化できるまで、分離・精製するにはコスト面から実用的な方法には至っていない。一般的には、使用済みレジスト剥離液を助燃剤として使用される場合が多いが、水分を有することもあり、大量に使用されるため、燃焼によって分解させるにもコストがかかる。

したがって、使用済みレジスト剥離液は回収して気化分離し、再使用することが行われている。特許文献１では、そのような溶剤の再生方法が開示されている。特許文献１の再生方法では、使用済みレジスト剥離液から樹脂成分をまず除去し、次に低沸点不純物を蒸発除去する。そして、その残留液を蒸留し、溶剤成分を蒸発させ凝縮液として回収する。

また、特許文献１では、このような使用済みレジスト剥離液を再生する方法において、水や溶剤を気化分離した後の最終残渣であるレジストおよびその他の成分を凝集する樹脂除去装置の利用方法が開示されている。この樹脂除去装置では、内壁面を加熱可能な蒸発面として有する密閉状の筒本体と、筒本体内に配置される外周面に放射状にブラシを有する回転体を備え、筒本体の蒸発面とブラシの間に使用済み溶剤を供給し、低沸点物質と溶剤を蒸発させ、樹脂成分だけを流下させる点が記載されている。

特許第３４０９０２８号公報

高沸点分離工程の分離残渣物をさらに濃縮する残渣濃縮工程では、使用後のレジスト成分（以後単に「レジスト成分」という。）や、金属系配線材料（例えばアルミニウム）といった無機固形物などが残渣物として得られ、溶剤と水が気化分離物として取り出せる。しかし、このレジスト成分は有機物であり、概してこれらのレジスト成分は常温で固体であり、溶媒中では溶解する。しかし、残渣濃縮器の出口付近で温度が下がると、固体化し固着するおそれがある。

一度固着すると、例え沸点以上の温度にしても剥離させることは容易ではない。残渣濃縮器内に固着物が発生し、その固着物が成長すると、残渣濃縮器内の熱伝達率が低下すると共に有効容積が減少し、所定の処理レートを確保できなくなり、さらに、レジスト成分が固着して固着物が増加すると配管を閉塞するという課題がある。

本発明は上記の課題に鑑みて想到されたものであり、残渣濃縮器内で高温にされたレジスト成分を残渣濃縮器の内壁より流下させ、残渣濃縮器の出口付近で温度が下がり固体化して固着しないように、所定時間帯（残渣濃縮器の運転開始時及び停止時）に、残渣濃縮器にレジスト成分を含むレジスト含有残留液と溶剤と、水を含む低沸点成分を供給し、残渣濃縮器の出口付近に固体化し固着しかけたレジスト成分を洗浄することで、残渣濃縮器にレジスト成分が固着することを防止する。

より具体的に本発明のレジスト剥離液の再生方法は、
レジストの剥離に用いられ、少なくとも溶剤と、水を含む低沸点成分と、レジスト成分
を含む使用済みレジスト剥離液から、
前記水を含む低沸点成分の一部を分離させて廃液Ａとして気化分離し取り出す低沸点分
離工程と、
前記低沸点分離工程の分離残留液を気化分離し、前記水を含む低沸点成分の残りと、前
記溶剤を分離液として取り出し、前記レジスト成分を含むレジスト含有残留液を分離残留
液とする高沸点分離工程と、
前記レジスト含有残留液を残渣濃縮器内でさらに濃縮し、前記溶剤と前記水を含む低沸
点成分を分離し、前記高沸点分離工程に戻す残渣濃縮工程と、
前記高沸点分離工程の分離液から前記水を含む低沸点成分の残りを廃液Ｂとして気化分離し、分離残留液をレジスト剥離再生液として取り出す精製工程と、
前記残渣濃縮器内に前記低沸点分離工程の分離残留液を均一に流下させる洗浄工程を有
することを特徴とする。

また、本発明のレジスト剥離液の再生装置は、
レジストの剥離に用いられ、少なくとも溶剤と、水を含む低沸点成分と、レジスト成分を含む使用済みレジスト剥離液から、
前記水を含む低沸点成分の一部を分離させて廃液Ａとして気化分離し取り出す低沸点分離器と、
前記低沸点分離器の分離残留液を気化分離し、前記水を含む低沸点成分の残りと、前記溶剤を分離液として取り出し、前記レジスト成分を含むレジスト含有残留液を分離残留液とする高沸点分離器と、
前記レジスト含有残留液をさらに濃縮し、前記溶剤と、前記水を含む低沸点成分を分離し前記高沸点分離器に戻す残渣濃縮器と、
前記高沸点分離器の分離液から前記水を含む低沸点成分の残りを廃液Ｂとして気化分離し、分離残留液をレジスト剥離再生液として取り出す精製器と、
前記残渣濃縮器内に前記低沸点分離器の分離残留液を均一に流下させる洗浄手段を有することを特徴とする。

本発明に係るレジスト剥離液の再生装置では、低沸点分離器の分離残留液を残渣濃縮器内に均一に流下させる洗浄手段を有することとした。低沸点分離器の分離残留液はレジスト成分にとって溶媒となり得るので、残渣濃縮器の内壁でレジスト成分が固着し始めても、完全に固着する前であれば洗い流すことができる。そのため、残渣濃縮器内に固着物が生じにくく、停止時に温度低下する際の固着を防止でき、装置を停止させても特別な洗浄や清掃が必要なくなるという効果を奏することができる。

本発明に係るレジスト剥離液の再生装置の構成を示す図である。 分離装置の詳細な構成を示す図である。 残渣濃縮器の詳細な構成を示す図である。レジスト成分が固着している様子を示す。 残渣濃縮器で洗浄手段を作動させている様子を示す図である。

以下に本発明に係るレジスト剥離液の再生方法および装置について図面を用いて説明する。なお、下記の説明は本発明の一実施形態を説明するのであり、下記の説明に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で変更することができる。

まず、図１に本発明のレジスト剥離液の再生装置１の概要を示す。本発明の再生装置１は、使用済みレジスト剥離液が貯留されている回収槽５０から使用済みレジスト剥離液を移送する配管ＬＸと、使用済みレジスト剥離液からレジスト濃縮液とレジスト剥離再生液と、主として水である廃液Ａおよび廃液Ｂを排出する分離装置１０を含む。また、分離装置１０内には、廃液Ａ（水分）を分離する低沸点分離器１２とレジスト濃縮液を生成する残渣濃縮器１５が備えられている。なお、分離装置１０の詳細は図２を参照して後述する。

半導体等の製造に用いるフォトリソグラフィでは、回路や絶縁パターンをエッチングで形成してゆく。この時にエッチングさせず残しておく部分にレジストパターンを形成させる。そして、エッチングが完了した後、このレジストを除去する。このレジスト除去工程で使用されるのが、レジスト剥離液である。レジスト自体は感光性樹脂であり、レジストを除去するのは、基本的に有機溶剤である。ここでは、レジスト剥離液を溶剤と水混合液であるとして説明を続ける。尚、金属配線の防食効果を高めるために添加剤を用いても良い。また、レジスト剥離液には、構成するアルカリ性の溶剤の濃度やｐＨ及び、フォトリソグラフィによって形成される金属配線の材料によって、剥離液組成物を適宜純水に微量添加しても良い。

溶剤としては、複数の溶剤が含まれていてもよい。好適に利用されるものとして、アミン化合物およびグリコールエーテルの混合物がある。また、より具体的にはアミン化合物はモノエタノールアミン（ＭＥＡ）であり、グリコールエーテルは、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ＢＤＧ）が好適に用いられる。

レジスト剥離液は図示しないレジスト剥離工程で使用され、剥離させたレジストと共に使用済みレジスト剥離液となって回収槽５０に貯留される。図１はその回収槽５０から記載される。回収槽５０に貯留された使用済みレジスト剥離液は、ポンプ５２によって配管ＬＸを介して分離装置１０に送られる。

分離装置１０からは、レジストや金属配線のパターンで使用されたアルミニウムやＳｉＯ_２といった物質が濃縮されたレジスト濃縮液と、主溶剤成分の混合液であるレジスト剥離再生液と、廃液Ａとして水分を主体とする低沸点成分および廃液Ｂとして主溶剤成分より低沸点である変性された溶剤および水分が分離排出される。

なお、本明細書を通じて、「変性された溶剤」とは、主溶剤成分より低沸点側の溶剤をいい、主溶剤成分の一部が含まれていてもよい。気化分離では、分離温度の前後の沸点の物質が多少とも分離側、残渣側に含まれる。したがって、主溶剤の回収率を高めようとすれば、主溶剤側に水分が混入し、回収する主溶剤の純度を高めようとすると、水側に溶剤成分が混入する。つまり、「変性された溶剤」にどれくらいの主溶剤が含まれるかは、装置の運転条件で決まる。

＜分離装置の説明＞
ここで、図２を参照して、分離装置１０の詳細を説明する。分離装置１０は、低沸点分離器１２と、高沸点分離器１４と残渣濃縮器１５と精製器１６から構成される。また、分離装置１０の入口１０ｉと低沸点分離器１２の間は配管Ｌ０で連通されている。低沸点分離器１２と高沸点分離器１４は配管Ｌ１で連通されている。低沸点分離器１２の分離残留液は配管Ｌ１で高沸点分離器１４まで移送される。また低沸点分離器１２からのベーパー状分離液は配管Ｌ２で取り出される。このベーパー状分離液が廃液Ａである。廃液Ａはレジスト剥離液中の水の大部分である。

高沸点分離器１４は残渣濃縮器１５と配管Ｌ３と配管Ｌ４で連通されている。高沸点分離器１４の分離残留液であるレジスト含有残留液は配管Ｌ３で残渣濃縮器１５に移送される。また残渣濃縮器１５からのベーパー状分離液は配管Ｌ４で再度高沸点分離器１４に送られる。高沸点分離器１４からのベーパー状分離液は配管Ｌ５で精製器１６に移送される。

低沸点分離器１２の分離残留液を移送する配管Ｌ１の途中には、流路変更手段Ｖ２０が配設されている。流路変更手段Ｖ２０は、三方バルブや自動バルブの組み合わせなど、構成は特に限定されない。この流路変更手段Ｖ２０の分岐側は、高沸点分離器１４の分離残留液（レジスト含有残留液）を残渣濃縮器１５に移送する配管Ｌ３に連通する。

したがって、流路変更手段Ｖ２０を分岐側に連通させることで、流路変更手段Ｖ２１の分岐側が開状態となり、低沸点分離器１２の分離残留液を残渣濃縮器１５に直接移送することができる。この流路変更手段Ｖ２０は図示しない制御装置によって開閉が制御される。

また、残渣濃縮器１５の排出配管である配管Ｌ８には流路変更手段Ｖ２２が設けられている。流路変更手段Ｖ２２からは配管Ｌ２２を介して回収槽５０に排出液を返送させることができる。

精製器１６からは分離残留液を配管Ｌ６で取り出す。この時の分離残留液はレジスト剥離液中の複数の主溶剤の混合液であり、これがレジスト剥離再生液である。また、精製器１６のベーパー状分離液は配管Ｌ７で還流タンク１７に移送される。還流タンク１７からは、配管Ｌ１１によって廃液Ｂが取り出される。この廃液Ｂは剥離液の主溶剤成分より低沸点である変性された溶剤及び水分である。還流タンク１７の残りは、配管Ｌ１０を介して再び精製器１６の頂上付近に還流される。また配管Ｌ７には真空ポンプＶＰが配置されている。

以上のように構成された分離装置１０についてその動作を説明する。分離装置１０には、使用済みレジスト剥離液が導入される。使用済みレジスト剥離液は、レジスト剥離液と、剥離されたレジスト成分と、アルミニウムやＳｉＯ_２といったパターン形成された膜構成物質（無機固形物）が混合状態になっている。すなわち、分離装置１０には、水と、溶剤と、レジスト成分および無機固形物の混合液が配管ＬＸを通じて導入される。

分離装置１０の初段には低沸点分離器１２が設置されている。低沸点分離器１２は、ステンレス製の筒状形状をしており、周囲はグラスウール等の断熱材でおおわれている。また、図示しない加熱器（リボイラー）を付属しており、予め熱交換器で４０〜６０℃に加熱された回収槽５０からの使用済み剥離液は前記加熱器を介して加熱して、低沸点分離器１２に導入される。低沸点分離器１２の内部は常圧で、塔底では１１５〜１４０℃、塔頂で８５〜１１５℃に加熱されるのが好適であり、より好ましくは塔底で１２０〜１３５℃、塔頂で９０〜１１０℃に加熱されるのがよい。

ここでは主として使用済みレジスト剥離液中の水分を気化し粗分離する。次段の高沸点分離器１４内では、減圧することによって構成液成分の蒸気圧は下がるため、沸点の低い多量の水分は完全に気化し、高沸点分離器１４の大部分の容積を占めてしまい、より沸点の高い材料の分離効率が低下するからである。したがって、低沸点分離器１２からのベーパー状分離液である廃液Ａはほぼ水分である。気化分離された水分は配管Ｌ２によって廃液Ａとして取り出される。

低沸点分離器１２の底部の分離残留液は、図示しない加熱器（リボイラー）によって略１２０℃から１５０℃に加熱され、配管Ｌ１を介して高沸点分離器１４に移送される。配管Ｌ１は、周囲をグラスウール等の断熱材で覆われている。そして配管Ｌ１中の分離残留液は、略１１５℃から１４０℃に保温される。配管Ｌ１を保温する断熱材を配管保温手段ＨＬ１とよぶ。分離残留液は、使用済みレジスト剥離液となる際に空気中の炭酸ガスを吸収している場合がある。この炭酸ガスは、溶剤（例えばモノエタノールアミン等）と反応すると炭酸塩が生成する。

この炭酸塩は、所定温度以下では炭酸を吸収しやすく分離しにくいため、以後の高沸点分離工程では溶剤と共に分離される。この炭酸塩が混入した溶剤を再度レジスト剥離液として利用すると、剥離性の機能が損なわれ、剥離不良が発生し、残渣残り等基板不良の原因となる。低沸点分離器１２の分離残留液の移送の際に配管Ｌ１を１２０℃から１５０℃に保温するのは、溶剤と炭酸ガスの反応を防止することや、使用済みレジスト剥離液中のレジスト成分の析出防止のためである。

高沸点分離器１４は、低沸点分離器１２同様ステンレス製の筒状をしており、また加熱器（リボイラー）を有する方式である。周囲は、電気ヒータや、ボイラからの蒸気若しくは加熱されたオイル等で加熱され、グラスウール等の断熱材でおおわれている。高沸点分離器１４の中は、１．９〜２．１ｋＰａ（１４〜１６Ｔｏｒｒ）程度に減圧され、塔頂で９０〜１１０℃、塔底で９５〜１１０℃となる温度調整を行っている。この環境下では溶剤が気化分離する。もちろん、残留している水および炭酸ガスも同時に気化分離する。

これらのベーパー状分離液は配管Ｌ５によって精製器１６に移送される。配管Ｌ５は配管Ｌ１同様、周囲を断熱材で覆い、略９０℃から１１０℃で保温される。配管Ｌ５を保温するのは配管保温手段ＨＬ５である。配管保温手段ＨＬ５の配設は、溶剤と炭酸ガスの反応を防止するためである。また、配管Ｌ５内も、精製器１６と還流タンク１７の間の配管Ｌ７から取り出し配設された系内の減圧手段である真空ポンプＶＰによって減圧される。また、真空ポンプＶＰによる減圧は高沸点分離器１４内におよび、内部のベーパー状分離液は精製器１６に移送される。

高沸点分離器１４内に残留する分離残留液は、高沸点溶剤成分、レジスト成分および無機固形物である。この分離残留液がレジスト含有残留液である。レジスト含有残留液は配管Ｌ３を介して残渣濃縮器１５に移送される。残渣濃縮器１５は、配管Ｌ３から送られたレジスト含有残留液から、沸点が減圧下で１２５℃以下のものを再度気化分離し、気化分離されたものを配管Ｌ４で高沸点分離器１４に移送させる。なお、ここで高沸点分離器１４に移送されるのは、水と溶剤である。また、残渣濃縮器１５のベーパー状分離液は、レジスト濃縮液となる。

したがって、残渣濃縮器１５から配管Ｌ８を介して得られるレジスト濃縮液はほとんどがレジスト成分と無機固形物である。また、残渣濃縮器１５には、配管Ｌ１から低沸点分離器１２の分離残留液を直接導入できる配管Ｌ９も配設されている。配管Ｌ９からの分離残留液は、後述するように残渣濃縮器１５を洗浄する際に用いる。

高沸点分離器１４からのベーパー状分離液は精製器１６に移送される。精製器１６もステンレス製の筒状形状をしており、低沸点分離器１２および高沸点分離器１４と同様に加熱器（リボイラー）を有する方式を採用している。周囲は、グラスウール等の断熱材で覆われている。高沸点分離器１４からのベーパー状分離液は、精製器１６の中ほどに放出される。精製器１６内はリボイラー部で８０〜９０℃、中段で６５〜９０℃、塔頂で２５〜３２℃で温度調節される。

さらに真空ポンプＶＰによって約１．９〜２．１ｋＰａ（１４〜１６Ｔｏｒｒ）程度に減圧されている。ここでは、溶剤は、液化し残留液として配管Ｌ６を介して回収される。なお、図示しないが、配管Ｌ６は配管ＬＸと熱交換させ、分離残留液をより安定な温度で回収する。この分離残留液はレジスト剥離再生液である。すなわち、レジスト剥離再生液とは複数の溶剤の混合物をいう。

一方、水分と炭酸ガスはベーパー状分離液として配管Ｌ７によって還流タンク１７へ移送される。この配管Ｌ７も、配管Ｌ５、配管Ｌ１同様、周囲を断熱材で覆い、略２０〜２５℃で保温される。配管Ｌ７に配設される配管保温手段は、配管保温手段ＨＬ７と呼ぶ。還流タンク１７からは、水と炭酸塩を配管Ｌ１１で廃液Ｂとして取り出し、一部は再び精製器１６に戻す。

図３には、図２の残渣濃縮器１５周辺を拡大した図を示す。残渣濃縮器１５は、薄膜流下式濃縮缶であり、筒状の本体の外側には、内壁面３５を加熱する加熱手段３４が設けられている。本体の中心にはブラシ３６を支持する軸心が配置される。軸心は本体上部でモータ３０の駆動軸に連結されている。ブラシ３６の先端は、本体内部の内壁面３５に接触している。すなわち、ブラシ３６は本体内部の内壁面３５の表面を摺動しながら回転する。

ブラシ３６の上方で液導入口３２の直下には、ブラシ３６と同期して回転する円形プレートが設けられている。液導入口３２から導入された液を内壁面３５に均一に流下させるためである。加熱された内壁面３５を流下した液体は受部底部３７で収液され、排出管となる配管Ｌ８に連通する。

高沸点分離器１４からの分離残留液（レジスト含有残留液）は配管Ｌ３によって残渣濃縮器１５の液導入口３２に移送される。なお、図３では、流路変更手段Ｖ２０、Ｖ２１、Ｖ２２で、止水される弁は黒三角で表した。この分離残留液はほとんどがレジスト成分と無機固形物であるが、水分や溶剤といった高沸点分離器１４で気化分離されるべき物質もまだ若干量が残留している。

液導入口３２から導入された高沸点分離器１４からの分離残留液（レジスト含有残留液）は、上部の回転する円形プレートの上に流下し、残渣濃縮器１５の加熱手段３４に密接した内壁面３５を薄く均一に流下する。流下した分離残留液（レジスト含有残留液）は、加熱されながらブラシ３６で均一に薄膜化させられ、気化する物質（水分や溶剤）は、大部分が気化分離される。気化分離された分離物は、配管Ｌ４によって高沸点分離器１４に戻される。気化せずに残った分離残留液は、レジスト濃縮液として配管Ｌ８へ排出される。

残渣濃縮器１５の加熱手段３４は、金属製の内面を加熱するジャケット構造である。前記金属製の内面をジャケット部に蒸気を導入して加熱し、気化ベーパー温度が９５〜１２５℃、より好ましくは１００〜１２０℃で管理できるように加熱される。しかし、残渣濃縮器１５の内部では部分的に温度が下がる部分もある。例えば、加熱手段３４の上端や下端、特に排出される配管Ｌ８の口付近の受部底部３７である。このような場所にはレジスト成分が固着物３８として固着する場合がある。レジスト成分は、有機物で常温で固体であり、溶媒中では溶解する。しかし、高沸点物質を有する場合が多く、レジスト剥離液の組成中最も気化しにくい。

残渣濃縮器１５内で固着物３８が生成すると、残渣濃縮器１５内の有効面積が減少する、若しくはブラシ３６の回転を阻害したりするおそれもある。

そこで、本発明に係る再生装置１の分離装置１０では、低沸点分離器１２の分離残留液を洗浄液として残渣濃縮器１５内に直接導入するための、流路変更手段Ｖ２０、Ｖ２１および配管Ｌ９が設けられている。すなわち、流路変更手段Ｖ２０とＶ２１および配管Ｌ９は洗浄手段を構成する。分離装置１０は、配管Ｌ１の途中に配設された流路変更手段Ｖ２０およびそれに連通する配管Ｌ９そして、配管Ｌ３に設けられた流路変更手段Ｖ２１を介して低沸点分離器１２の分離残留液を供給することができる。この低沸点分離器１２の分離残留液は、使用済みレジスト剥離液から水を一部分離したもので、溶剤リッチな溶液である。

この洗浄液としての溶剤リッチな溶液の供給は、主に分離装置１０自体を停止する際に、より具体的には残渣濃縮器１５の運転を停止する前に行われる。残渣濃縮器１５の温度を下げる前に洗浄しておかなければ、固着物３８が発生するからである。図４を参照して、洗浄手段を作動させると、流路変更手段Ｖ２０およびＶ２１が分岐側にセットされ、低沸点分離器１２からの溶剤リッチな溶液を配管Ｌ９から配管Ｌ３を介して液導入口３２へ送液される。

なお、図４では、図３同様に流路変更手段Ｖ２０、Ｖ２１、Ｖ２２において、止水方向は黒三角で表した。ブラシ３６を回転させながら、洗浄液を残渣濃縮器１５の内壁面３５を流下させることで、添加物等の固着化を防止し、固着物３８（図３参照）を洗い流す。受部底部３７もレジスト成分が低温固着する前に溶剤リッチな溶液で洗い流す。

この時、加熱手段３４の温度を少なくとも洗浄液（溶剤リッチな溶液の溶剤成分）のうち最も沸点の高い成分の温度以下に下げる。温度を下げるのは、加熱手段３４を調整することで行う。例えば加熱手段３４が、蒸気、加熱オイルといった加熱媒体の供給で行われている場合は、これらの流入を停止する。洗浄液（溶剤リッチな溶液中の溶剤成分）が蒸発しないためである。

また、残渣濃縮器１５の排出管である配管Ｌ８には流路変更手段Ｖ２２が配設されている。そして、残渣濃縮器１５の運転開始時及び運転停止時に液導入口３２から溶剤リッチな溶液（洗浄液）が供給される際には、回収槽５０と連通する配管Ｌ２２と、残渣濃縮器１５が連通するように流路が選択される。したがって、洗い流された固着物３８は、配管Ｌ２２を介して回収槽５０に還流される。洗浄に使用する溶剤リッチな溶液には、再生使用できる溶剤分が多く含まれるからである。このように残渣濃縮器１５内に使用済みレジスト剥離液を供給する工程は、いわば残渣濃縮器１５の洗浄工程と言ってもよい。

高沸点分離器１４は所定時間だけ継続運転を行い、分離残留液（レジスト含有残留液）を残渣濃縮器１５へ排出する。高沸点分離器１４の運転を停止し、配管Ｌ３からの分離残留液（レジスト含有残留液）の排出が停止したら、洗浄手段を作動させ洗浄液（溶剤リッチな溶液）を残渣濃縮器１５に供給しながら、さらに所定時間運転を継続し洗浄工程を行う。すなわち洗浄工程は、少なくとも残渣濃縮器１５の運転終了前に行われる。なお、これらの所定時間の継続運転はタイマで切り替えるように構成してもよい。

また、この洗浄工程は、残渣濃縮器１５の運転開始前に行ってもよい。運転終了前に洗浄工程を行っても、若干の固着物が残り、駆動部分が固着する場合はある。そのような場合、急速に残渣濃縮器１５を立ち上げると、駆動部分に損傷が起こる場合もあるからである。洗浄工程は、低沸点分離器１２からの略１２０℃から１５０℃の分離残留液なので、これを内壁面３５に流しながら起動手順を進めることで、残留濃縮器１５はスムーズに起動することができる。

以上のように本発明に係る再生装置１は、残渣濃縮器１５の内部を低沸点分離器１２の分離残留液（溶剤リッチな溶液）によって洗浄するので、残渣濃縮器１５内に固着物が生じることがない。したがって、停止後の再立ち上げ時に、固着物による運転不具合防止のための特別な洗浄・清掃を行わなくてもスムーズは立ち上げが可能となる。

本発明のレジスト剥離液の再生装置および再生方法は、フォトリソグラフィを利用して配線パターンなどを形成する工程を有する電子機器等の製造工場における、レジスト剥離液の再生利用に好適に利用することができる。

１ 再生装置
１０ 分離装置
１０ｉ 入口
１２ 低沸点分離器
１４ 高沸点分離器
１５ 残渣濃縮器
１６ 精製器
１７ 還流タンク
３０ モータ
３２ 液導入口
３４ 加熱手段
３５ 内壁面
３６ ブラシ
３７ 受部底部
３８ 固着物
５０ 回収槽
５２ ポンプ
ＨＬ１、ＨＬ５、ＨＬ７ 配管保温手段
ＬＸ、Ｌ０、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、Ｌ８、Ｌ９ 配管
Ｌ１０、Ｌ１１、Ｌ２２ 配管
Ｖ２０、Ｖ２１、Ｖ２２ 流路変更手段
ＶＰ 真空ポンプ

Claims (12)

1. レジストの剥離に用いられ、少なくとも溶剤と、水を含む低沸点成分と、レジスト成分を含む使用済みレジスト剥離液から、
   前記水を含む低沸点成分の一部を分離させて廃液Ａとして気化分離し取り出す低沸点分離工程と、
   前記低沸点分離工程の分離残留液を気化分離し、前記水を含む低沸点成分の残りと、前記溶剤を分離液として取り出し、前記レジスト成分を含むレジスト含有残留液を分離残留液とする高沸点分離工程と、
   前記レジスト含有残留液を残渣濃縮器内でさらに濃縮し、前記溶剤と前記水を含む低沸点成分を分離し、前記高沸点分離工程に戻す残渣濃縮工程と、
   前記高沸点分離工程の分離液から前記水を含む低沸点成分の残りを廃液Ｂとして気化分離し、分離残留液をレジスト剥離再生液として取り出す精製工程と、
   前記残渣濃縮器内に前記低沸点分離工程の分離残留液を均一に流下させる洗浄工程を有することを特徴とするレジスト剥離液の再生方法。
2. 前記洗浄工程では、前記残渣濃縮器内の温度を前記低沸点分離工程の分離残留液の少なくとも溶剤の沸点以下の温度にすることを特徴とする請求項１に記載されたレジスト剥離液の再生方法。
3. 前記低沸点分離工程の分離残留液が、前記低沸点分離工程から前記高沸点分離工程まで移送される際に保温されながら移送されることを特徴とする請求項１または２の何れかの請求項に記載されたレジスト剥離液の再生方法。
4. 前記高沸点分離工程の分離液が、前記高沸点分離工程から前記精製工程まで移送される際に、減圧されなおかつ保温されながら移送されることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１の請求項に記載されたレジスト剥離液の再生方法。
5. 前記洗浄工程は、前記残渣濃縮工程の停止前に行われることを特徴とする請求項１乃至４の何れか１の請求項に記載されたレジスト剥離液の再生方法。
6. 前記清浄工程は、前記残渣濃縮工程の立ち上げ前に行われることを特徴とする請求項１乃至５の何れか１の請求項に記載されたレジスト剥離液の再生方法。
7. レジストの剥離に用いられ、少なくとも溶剤と、水を含む低沸点成分と、レジスト成分を含む使用済みレジスト剥離液から、
   前記水を含む低沸点成分の一部を分離させて廃液Ａとして気化分離し取り出す低沸点分離器と、
   前記低沸点分離器の分離残留液を気化分離し、前記水を含む低沸点成分の残りと、前記溶剤を分離液として取り出し、前記レジスト成分を含むレジスト含有残留液を分離残留液とする高沸点分離器と、
   前記レジスト含有残留液をさらに濃縮し、前記溶剤と、前記水を含む低沸点成分を分離し前記高沸点分離器に戻す残渣濃縮器と、
   前記高沸点分離器の分離液から前記水を含む低沸点成分の残りを廃液Ｂとして気化分離し、分離残留液をレジスト剥離再生液として取り出す精製器と、
   前記残渣濃縮器内に前記低沸点分離器の分離残留液を均一に流下させる洗浄手段を有することを特徴とするレジスト剥離液の再生装置。
8. 前記洗浄手段を作動させる際に、前記残渣濃縮器内の温度を前記低沸点分離器の分離残留液の少なくとも溶剤の沸点以下の温度にする加熱手段を有することを特徴とする請求項７に記載されたレジスト剥離液の再生装置。
9. 前記低沸点分離器の分離残留液を、前記低沸点分離器から前記高沸点分離器まで移送する配管には、前記配管を保温する配管保温手段が配設されていることを特徴とする請求項７または８の何れか１の請求項に記載されたレジスト剥離液の再生装置。
10. 前記高沸点分離器の分離液を、前記高沸点分離器から前記精製器まで移送する配管には、前記配管内を減圧する減圧手段と、前記配管を保温する配管保温手段が配設されていることを特徴とする請求項７乃至９の何れか１の請求項に記載されたレジスト剥離液の再生装置。
11. 前記洗浄手段は、前記残渣濃縮器の停止前に作動することを特徴とする請求項７乃至１０の何れか１の請求項に記載されたレジスト剥離液の再生装置。
12. 前記洗浄手段は、前記残渣濃縮器の起動前に作動することを特徴とする請求項７乃至１１の何れか１の請求項に記載されたレジスト剥離液の再生装置。