JP5572198B2 - 基板処理装置及び薬液再生方法 - Google Patents
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Description
薬液供給ユニット6は、再生ユニット3から供給された硫酸を供給ライン7を通じて洗浄チャンバー2へ供給する。
2 洗浄チャンバー、
3 再生ユニット、
6 薬液供給ユニット、
30 分離ユニット、
40 減圧ユニット、
43 凝縮器、
50 予備加熱ユニット、
700 回収ライン、
710 減圧ライン。
Claims (23)
- 基板の上の異物を洗浄する洗浄チャンバーと、
前記基板を洗浄するのに使用された第1薬液及び第2薬液を含む混合液を回収して再生する再生ユニットと、を含み、
前記再生ユニットは、前記洗浄チャンバーで回収された前記混合液を分離する分離ユニットと、
前記分離ユニットと前記洗浄チャンバーとを連結し、前記混合液が前記分離ユニットに流入するようにする回収ラインと、
前記回収ラインに設置されて前記混合液を加熱する予備加熱ユニットと、
一側が前記分離ユニットと連結され、前記分離ユニットで蒸発した混合液が排気される減圧ラインと、
前記減圧ラインに設置され、前記分離ユニットの内部の圧力を低くする減圧ユニットと、を含み、
前記回収ラインには、前記予備加熱ユニット及び分離ユニットの間で分岐され、前記予備加熱ユニットから吐出された前記混合液が前記予備加熱ユニットへ再び流入するようにする循環ラインが設置される、基板処理装置。 - 前記減圧ラインに設置され、前記分離ユニットと前記減圧ユニットとの間に位置する凝縮器をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記凝縮器には、前記蒸発した混合液が前記凝縮器で凝縮されて排出される第2排出ラインが連結されることを特徴とする請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記予備加熱ユニットは、混合液が格納されるハウジングと、
前記ハウジングに格納される混合液を加熱するヒーターと、を含むことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の基板処理装置。 - 前記回収ラインには、前記予備加熱ユニット及び分離ユニットの間にラインヒーターが設置されることを特徴とする請求項4に記載の基板処理装置。
- 前記回収ラインは、第1分枝ライン及び第2分枝ラインに並列に分枝され、
前記予備加熱ユニットは、前記第1分枝ラインに位置する第1予備加熱ユニットと、前記第2分枝ラインに位置する第2予備加熱ユニットとを備えることを特徴とする請求項4に記載の基板処理装置。 - 前記再生ユニットは、一側が前記分離ユニットに連結されて前記分離ユニットで分離された前記第1薬液が排出される第1排出ラインをさらに含むことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の基板処理装置。
- 前記第1排出ラインは、前記洗浄チャンバーへ前記第1薬液を供給する薬液供給ユニット又は前記洗浄チャンバーに連結されることを特徴とする請求項7に記載の基板処理装置。
- 前記分離ユニットには、濾過部材が設置されることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の基板処理装置。
- 前記分離ユニットの内部は、前記濾過部材によって上部空間と下部空間とに分かれ、
前記回収ラインは、前記下部空間に直接連結され、
前記減圧ラインは、前記上部空間に直接連結されることを特徴とする請求項9に記載の基板処理装置。 - 前記分離ユニットの内部は、前記濾過部材によって上部空間と下部空間とに分かれ、
前記回収ラインは、前記下部空間に直接連結され、
前記減圧ラインは、前記濾過部材に提供されたホールを通じて前記上部空間に直接連結されることを特徴とする請求項9に記載の基板処理装置。 - 前記回収ライン及び減圧ラインは、前記濾過部材の下方に位置するように前記分離ユニットに連結され、
前記分離ユニットには、前記濾過部材の上方と前記減圧ラインとを連結する内部ラインが設置されることを特徴とする請求項9に記載の基板処理装置。 - 前記第1薬液は硫酸であり、前記第2薬液は過酸化水素又は水を含むことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の基板処理装置。
- 前記第1薬液は硫酸、アンモニア、又は硝酸からなる群から選択されるいずれか1つであることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の基板処理装置。
- 薬液を再生する方法において、
基板を洗浄するのに使用された第1薬液及び第2薬液を含む混合液が予備加熱ユニットで加熱され回収ラインを通じて分離ユニットへ流入する段階と、
前記分離ユニットの内部で蒸発した薬液及び気体を減圧ポンプへ排気して、前記分離ユニットが減圧された状態で、前記分離ユニットの内部の混合液を加熱する段階と、
前記分離ユニットの内部に残っている前記第1薬液の純度が設定された純度に到達すれば、前記第1薬液を回収する段階と、
前記予備加熱ユニット及び分離ユニットの間で分岐され、前記予備加熱ユニットから吐出された前記混合液が前記予備加熱ユニットへ再び流入する段階と、
を含む薬液再生方法。 - 前記分離ユニットで蒸発した薬液が前記減圧ユニットへ流れる間に前記蒸発した薬液を凝縮する段階をさらに含む請求項15に記載の薬液再生方法。
- 前記予備加熱ユニットは、前記混合液を100〜160℃に加熱することを特徴とする請求項15に記載の薬液再生方法。
- 前記第1薬液は硫酸であり、前記第2薬液は過酸化水素又は水を含むことを特徴とする請求項15に記載の薬液再生方法。
- 前記混合液は、前記硫酸及び過酸化水素が1:5乃至1:7に混合されて使用されたことを特徴とする請求項18に記載の薬液再生方法。
- 前記混合液を加熱する段階は、前記分離ユニットを0.005〜0.025barに減圧し、前記混合液を150〜170℃に加熱することを特徴とする請求項15に記載の薬液再生方法。
- 前記第1薬液は硫酸、アンモニア、又は硝酸からなる群から選択されるいずれか1つであることを特徴とする請求項15に記載の薬液再生方法。
- 基板の上の異物を硫酸及び過酸化水素の混合液で洗浄する洗浄チャンバーと、
前記基板を洗浄するのに使用された前記混合液を前記洗浄チャンバーで回収する回収ラインと、
回収された前記混合液を加熱して前記硫酸を分離する分離ユニットと、
前記分離ユニットへ流入する前記混合液を加熱する予備加熱ユニットと、
前記分離ユニットで蒸発した前記混合液が排出される減圧ラインと、
前記分離ユニットの圧力を低くして前記混合液の沸点を低くする減圧ユニットと、を含み、
前記回収ラインには、前記予備加熱ユニット及び分離ユニットの間で分岐され、前記予備加熱ユニットから吐出された前記混合液が前記予備加熱ユニットへ再び流入するようにする循環ラインが設置される、基板処理装置。 - 前記基板処理装置は、前記減圧ユニットへ排出される前記蒸発した混合液を凝縮させる凝縮器をさらに含む請求項22に記載の基板処理装置。
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