KR101308273B1 - 재생 케미컬 제조 방법 및 설비 - Google Patents

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Abstract

재생 케미컬 제조 방법 및 설비가 개시되어 있다. 재생 케미컬 제조 방법은 적어도 하나의 박막 처리 장치로부터 수분, 파티클, 금속 및 서로 다른 유기물들 및 무기물들을 포함하는 폐액(waste solution)을 수거하는 단계, 폐액을 예비 가열하는 단계, 예비 가열된 폐액을 서로 다른 온도로 가열하여 상기 폐액으로부터 재생 케미컬 원료들을 각각 추출하는 단계 및 추출된 상기 재생 케미컬 원료들을 혼합하여 재생 케미컬을 제조하는 단계를 포함한다. 박막 처리 장치로부터 발생한 폐액을 정제 및 분류하여 다양한 종류의 재생 케미컬 원료들을 추출한 후, 재생 케미컬 원료들을 지정된 비율로 혼합하여 우수한 재생 케미컬을 제조 및 재생 케미컬을 다시 박막 처리 장치로 제공하여 생산 비용을 크게 감소시키고, 폐액을 처리하기 위한 비용을 추가적으로 감소시킬 수 있으며, 환경 오염을 감소시키는 효과를 갖는다.
재생, 케미컬, 원료, 정제, 추출, 박막 처리 장치

Description

재생 케미컬 제조 방법 및 설비{METHOD OF MANUFACTURING RECYCLED CHEMICAL SOLUTION AND EQUIPMENT FOR MANUFACTURING THE RECYCLED CHEMICAL SOLUTION}
도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 재생 케미컬 제조 방법을 도시한 순서도이다.
도 2는 도 1에 도시된 재생 케미컬 원료들을 추출하는 단계를 도시한 순서도이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 의하여 재생 케미컬 원료를 추출하는 단계 이후 필터링 단계를 포함하는 재생 케미컬 제조 방법을 도시한 순서도이다.
도 4는 도 1에 도시된 재생 케미컬 제조 과정을 도시한 순서도이다.
도 5는 도 1에 도시된 재생 케미컬을 제조하는 다른 과정을 도시한 순서도이다.
도 6은 본 발명의 일실시예에 의하여 제조된 케미컬의 품질을 검사하는 공정을 도시한 순서도이다.
도 7은 본 발명의 일실시예에 의한 재생 케미컬 제조 설비를 도시한 블록도이다.
도 8은 도 7의 재생 케미컬 제조 설비를 구체적으로 도시한 블록도이다.
도 9는 순정 세정액을 이용한 접촉각 특성에 따른 세정력을 도시한 사진이 다.
도 10은 표 2의 샘플 6의 재생 케미컬인 세정액을 이용한 접촉각 특성에 따른 세정력을 도시한 사진이다.
도 11은 표 3의 계면 활성제류 및 금속 부식 방지제를 추가한 샘플 8의 재생 케미컬인 세정액을 이용한 접촉각 특성에 따른 세정력을 도시한 사진이다.
본 발명은 재생 케미컬 제조 방법 및 설비에 관한 것이다.
최근 들어, 반도체 소자 제조 기술에 기반한 반도체 소자 및 반도체 소자 제조 기술을 응용한 표시소자 제조 기술에 기반한 표시 소자들이 개발되고 있다.
반도체 소자 및 표시 소자를 제조하기 위해서는 매우 다양한 종류의 공정 장치들을 필요로 한다. 또한, 각 공정 장치에서 박막 처리 공정을 수행하기 위해서는 다양한 종류의 금속들, 유기물들, 무기물들, 케미컬들을 필요로 한다.
또한, 공정 장치들은 반도체 소자 및 표시 소자를 제조하는 도중 방대한 양의 폐액(waste solution)을 발생시킨다. 폐액에는 각종 금속, 유기물, 무기물 등이 혼합되어 있고, 폐액은 화학 약품을 이용하는 폐액 처리 시스템(waste solution treatment system)을 통해 정화된 후 방류 또는 소각로 운전시 에너지 보조원으로 사용되어 폐기물 소각과 스팀을 생산한다.
본 발명의 하나의 목적은 반도체 소자 및 표시 소자를 제조하는 도중 발생 된 폐액을 수거 및 폐액 속에 포함된 다양한 유기물들을 추출하여 반도체 소자 및 표시 소자를 제조하는데 필요한 케미컬을 제조하기 위한 재생 케미컬 제조 방법을 제공함에 있다.
본 발명의 다른 목적은 반도체 소자 및 표시 소자를 제조하는 도중 발생된 폐액을 수거 및 폐액 속에 포함된 다양한 유기물들을 추출하여 반도체 소자 및 표시 소자를 제조하는데 필요한 케미컬을 제조하는 재생 케미컬 제조 설비를 제공함에 있다.
본 발명의 하나의 목적을 구현하기 위한 재생 케미컬 제조 방법은 적어도 하나의 박막 처리 장치로부터 수분, 파티클, 금속 및 서로 다른 유기물들 및 무기물들을 포함하는 폐액(waste solution)을 수거하는 단계, 폐액을 예비 가열하는 단계, 예비 가열된 폐액을 서로 다른 온도로 가열하여 상기 폐액으로부터 재생 케미컬 원료들을 각각 추출하는 단계 및 추출된 상기 재생 케미컬 원료들을 혼합하여 재생 케미컬을 제조하는 단계를 포함한다.
본 발명의 다른 목적을 구현하기 위한 재생 케미컬 제조 설비는 적어도 하나의 박막 처리 장치로부터 수분, 파티클, 금속 및 서로 다른 유기물들을 포함하는 폐액을 수거하는 폐액 수거 저장 장치, 수거된 상기 폐액을 공급받아 예비 가열하는 예비 가열 장치, 예비 가열된 폐액을 공급받아 서로 다른 온도로 가열하여 상기 폐액으로부터 재생 케미컬 원료들을 각각 추출하는 추출 장치 및 상기 재생 케미컬 원료들을 혼합하여 재생 케미컬을 제조하는 혼합 장치를 포함한다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 재생 케미컬 제조 방법 및 설비에 대하여 상세하게 설명하지만, 본 발명이 하기의 실시예들에 제한되는 것은 아니며, 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양한 다른 형태로 구현할 수 있을 것이다.
재생 케미컬 제조 방법
먼저, 재생 케미컬 제조 방법에서 빈번하게 사용되는 용어들의 정의는 다음과 같다.
빈번하게 사용되는 용어인 "폐액"은 박막 처리 장치에서 반도체 소자 또는 표시 소자를 제조하는 도중 발생 된 물질로, 수분, 금속, 파티클, 유기물들 및 무기물들을 포함하는 것으로 정의된다. 또한, "폐액"은 박막 처리 장치에서 "적어도 1회 사용된 사용액"으로 정의될 수 있다.
빈번하게 사용되는 용어인 "재생 케미컬"은 앞서 정의된 "폐액"을 이용하여 제조되며 반도체 소자 또는 표시 소자를 제조하는 각 공정에 사용되는 물질로 정의된다. "재생 케미컬"은 오염된 기판을 세정하는 세정액, 포토레지스트 등을 제거하는 스트립 용액 등 일 수 있다.
빈번하게 사용되는 용어인 "순정 케미컬"은 박막 처리 장치에서 사용되지 않은 케미컬로 정의된다. 또한, "순정 케미컬"은 박막 처리 장치에서 사용되기 전 혼합 또는 단일 성분 상태의 조성을 가지는 케미컬"로 정의될 수 있다.
빈번하게 사용되는 용어인 "박막 처리 장치"는 반도체 소자 또는 표시 소자를 제조하는데 사용되는 장치로서 정의된다. "박막 처리 장치"로 사용되는 장치로서는 반도체 소자 또는 표시 소자를 제조하기 위한 박막 증착 장치, 포토레지스 필름 형성 장치, 현상 장치, 노광 장치, 박막 식각 장치, 이온 주입 장치 및 세정 장치 등을 들 수 있다. 이외에도 "박막 처리 장치"는 박막을 가공하기 위한 다양한 장치를 포함할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 재생 케미컬 제조 방법을 도시한 순서도이다.
도 1을 참조하면, 재생 케미컬을 제조하기 위해서, 단계 S100에서 적어도 하나의 박막 처리 장치로부터 폐액(waste solution)을 수거한다.
폐액을 박막 처리 장치로부터 수거할 때, 폐액은 각 박막 처리 장치에 대응하여 분리 수거할 수 있다. 이와 다르게 각 박막 처리 장치로부터 발생 된 각 폐액을 구분없이 수거할 수 있다.
박막 처리 장치는 반도체 소자(semiconductor device) 또는 표시 소자(display device)를 제조하기 위한 박막 증착 장치(thin film deposition apparatus), 포토레지스 필름 형성 장치(photoresist film forming apparatus), 현상 장치(developing apparatus), 노광 장치(exposing apparatus), 박막 식각 장치(thin film etching apparatus), 이온 주입 장치(ion implantation apparatus) 및 세정 장치(cleaing apparatus) 등을 포함할 수 있다.
박막 처리 장치를 이용하여 반도체 소자 또는 표시 소자를 제조하는 도중 발 생 된 방대한 양의 폐액에는 수분, 금속, 파티클, 유기물들 및 무기물들이 혼합되어 있다.
본 실시예에서, 각 박막 처리 장치로부터 수거된 폐액은 먼저 재사용이 가능한지에 대한 성분 검사가 선행될 수 있다. 성분 검사는 폐액을 샘플링하여 검사할 수 있다.
폐액으로부터 재생 케미컬, 예를 들면, 재생 세정액을 제조하기 위해 반도체 소자 및 표시 소자를 제조하는 박막 처리 장치로부터 발생 된 폐액에는 방향족 화합물, 아크릴류, 글리콜류, 알콜류, 알데히드류, 케톤류, 락톤류, 에스테르류, 에테르류, 알킨올 에테르류, 알킬 황산화물류, 황화물류, 아민류, 알킨올 아민류, 아마이드류, 이미드류, 아닐린류, 피폐라진류, 알칸올 피폐라진류 및 피리딘류 등의 유기물이 포함될 수 있다.
이때, 폐액에 포함된 유기물은 총 중량에 대하여 약 1.0wt% 내지 약 99wt%가 포함될 수 있다.
또한, 폐액으로부터 재생 세정액과 같은 재생 케미컬을 제조하기 위해 반도체 소자 및 표시 소자를 제조하는 박막 처리 장치로부터 발생 된 폐액에는 Na, Mg, Al, Si, P, Si, K, Ca, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga, AS, Br, Zr, Nb, Mo, Ru, Pd, Ag, Cd, In, Mo, Sn, I, W, Pt, Au, Hg, Pb, Bi 및 Nd 등과 같은 금속이 포함될 수 있다.
이때, 폐액에 포함된 금속은 총 중량에 대하여 약 100ppb 내지 약 10.0wt%일 수 있다.
또한, 재생 케미컬을 제조하기 위해 반도체 소자 및 표시 소자를 제조하는 박막 처리 장치로부터 발생 된 폐액에는 총 중량에 대해서 약 0.1wt% 내지 약 99wt%의 수분이 포함될 수 있다.
또한, 폐액으로부터 재생 케미컬을 제조하기 위해 반도체 소자 및 표시 소자를 제조하는 박막 처리 장치로부터 발생 된 폐액에 포함된 파티클의 수는, 파티클의 사이즈가 각각 약 0.3㎛ 내지 약 0.6㎛, 약 0.6㎛ 내지 약 1.0㎛, 약 1.0㎛ 이상인 구간에서, 밀리리터(㎖)당 약 1개 이상 존재할 수 있다.
한편, 박막 처리 장치로부터 수거된 폐액은 다양한 유기물을 포함하고 있기 때문에 폐액을 혼합 저장할 때, 화학 반응에 의한 폭발의 위험이 있는지 사전에 검토되어야 한다. 이에 더하여, 수거된 폐액에는 질소 또는 공기를 대기압 이상의 압력으로 제공하여 외부 오염물질이 유입되는 것을 방지할 수 있다.
박막 처리 장치로부터 수거된 폐액 성분 검사 후, 단계 S200에서, 폐액은 예비 가열된다.
구체적으로, 폐액은, 예를 들어, 상온 내지 400℃의 온도로 가열되고, 폐액을 예비 가열할 때 폐액에 가해지는 압력은 -760mmHg 내지 상압 일 수 있다.
한편, 폐액의 유량 및 종류에 따라서 폐액은 적어도 2 곳 이상에서 각각 예비 가열될 수 있고, 가열하는 도중 폐액으로부터 기화되지 않고 잔류 수거된 무기물 또는 유기물 등은 수거되고, 수거된 무기물 또는 유기물 등은 추가 분리 후 고형화 및 소각 처리될 수 있다.
단계 S300에서, 예비 가열된 폐액은 다시 서로 다른 온도로 가열되어 폐액으 로부터 재생 케미컬로 사용되는 재생 케미컬 원료들이 각각 추출된다.
폐액에 포함된 재생 케미컬 원료들은, 예를 들어, 재생 케미컬 원료들의 비등점(boiling point)이 서로 다른 특성에 의하여 종류별로 추출될 수 있다. 비등점을 이용하여 폐액에 포함된 재생 케미컬 원료들을 추출할 경우, 약 10 종류 내지 200 종류의 재생 케미컬 원료들이 정제되어 분리 및 추출될 수 있다.
폐액에 포함된 재생 케미컬 원료들의 상이한 비등점을 이용하여 폐액으로부터 재생 케미컬 원료들을 추출하기 위해, 폐액은 서로 다른 온도로 가열된다.
폐액의 가열 온도는 상온 내지 약 400℃의 범위 내에서 가열될 수 있고, 폐액을 가열하는 동안 폐액에 가해지는 압력은 -760mmHg 내지 상압 일 수 있다.
도 2는 도 1에 도시된 재생 케미컬 원료들을 추출하는 단계를 도시한 순서도이다.
도 2를 참조하면, 단계 S310에서, 폐액으로부터 다양한 재생 케미컬 원료들을 추출하기 위해서, 폐액은 제1 온도 범위 내에서 증류 정제되어 폐액으로부터 수분 및 적어도 두 종류가 혼합된 재생 케미컬 원료들을 분리한다. 이때, 수분은 수증기 형태로 증발하여 상부에서 응축되어 수거되고, 적어도 두 종류가 혼합된 재생 케미컬 원료들은 하부에서 추출된다.
단계 S320에서, 단계 S310으로부터 제공된 폐액은 제2 온도 범위 내에서 다시 가열되어 폐액으로부터 단일 성분 또는 적어도 두 성분이 혼합된 재생 케미컬 원료들은 기화 응축 및 잔류물 상태로 분리 추출된다.
이와 다르게, 폐액으로부터 제2 온도 범위 내에서 단일 종류 또는 적어도 두 종류가 혼합된 재생 케미컬 원료를 먼저 추출한 후 제1 온도 범위 내에서 폐액으로부터 적어도 두 종류가 혼합된 재생 케미컬 원료들을 추출할 수 있다.
도 2를 참조하면, 단계 S310 및 단계 S320에서 폐액의 비등점 차이를 이용하여 추출된 단일 성분 또는 적어도 두 성분 이상의 재생 케미컬 원료들은 단계 S330에서 응축된다. 이때, 단일 성분 또는 적어도 두 성분 이상의 재생 케미컬 원료들은 기화 응축 또는 잔류물을 수거하는 방식으로 각각 추출될 수 있다.
재생 케미컬 원료의 부피를 감소 및 취급을 용이하게 하기 위해서, 기체 상태의 재생 케미컬 원료들을 응축되고, 이 결과, 단계 S330에서, 기체 상태의 재생 케미컬 원료들은 액체 상태가 된다.
기체 상태의 재생 케미컬 원료들을 액체 상태로 변경할 경우, 액체 상태의 재생 케미컬 원료들의 부피는 기체 상태의 재생 케미컬 원료들의 부피에 비하여 크게 감소되고, 이로 인해 재생 케미컬 원료들을 용이하게 취급할 수 있다.
기체 상태의 재생 케미컬 원료들을 액체 상태로 응축하기 위해 기체 상태의 재생 케미컬 원료들의 온도는 -50℃ 내지 50℃ 사이의 온도에서 응축되고, 응축 압력은 -760mmHg 내지 상압 일 수 있다.
이후, 도 1에 도시된 단계 S350에서, 액체 상태의 재생 케미컬 원료들은 각각 분리 저장된다. 구체적으로, 단계 S350에서, 폐액으로부터 추출된 재생 케미컬 원료들은 단일 성분으로 이루어진 재생 케미컬 원료 또는 적어도 2 개의 혼합 성분으로 이루어진 재생 케미컬 원료가 각각 분리 저장된다. 분리 저장된 재생 케미컬 원료들은 -50℃ 내지 50℃의 온도 범위에서 저장된다.
비록 도 2의 단계 S310 및 단계 S330에서는 폐액으로부터 적어도 두 종류 이상의 재생 케미컬 원료들 및 단일 종류의 재생 케미컬 원료를 각각 추출하지만, 폐액으로부터 적어도 두 종류 이상이 혼합된 재생 케미컬 원료들만 선택적으로 추출될 수 있다.
이와 다르게, 비록 도 2의 단계 S310 및 단계 S330에서는 폐액으로부터 적어도 두 종류 이상의 재생 케미컬 원료들 및 단일 종류의 재생 케미컬 원료를 각각 추출하지만, 폐액의 가열 온도를 각 재생 케미컬 원료들의 비등점에 대응하여 정확하게 제어함으로써, 폐액으로부터 특정 재생 케미컬 원료만 선택적으로 추출될 수 있다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 의하여 재생 케미컬 원료를 추출하는 단계 이후 필터링 단계를 포함하는 재생 케미컬 제조 방법을 도시한 순서도이다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 폐액에 포함된 재생 케미컬 원료들은 재생 케미컬 원료들의 비등점 차이를 이용하여 추출되기 때문에, 이 과정에서 재생 케미컬 원료에 유입될 수 있는 수분, 파티클, 유기물, 무기물 및 금속 불순물은 대부분 제거된다. 그러나, 일부 파티클, 유기물, 무기물 및 금속 불순물 등은 추출된 재생 케미컬 원료에 소량 잔류할 수 있다.
도 3의 단계 S360에서, 폐액으로부터 추출된 재생 케미컬 원료로부터 완전히 제거되지 않고 잔류 된 재생 케미컬 원료들에 포함될 수 있는 잔류 파티클, 잔류 유기물, 잔류 무기물 및 금속 불순물들이 필터에 의하여 각각 물리적/화학적 방법에 의하여 추가적으로 제거할 수 있다. 이 결과 재생 케미컬 원료들의 순도는 보다 향상될 수 있다. 이와 다르게, 단계 S310 및 단계 S320에서 재생 케미컬 원료들에 포함된 파티클 및 금속은 파티클 및 금속을 제거하는 적어도 1 개 이상의 필터를 이용하여 제거될 수 있다. 본 실시예에서, 파티클, 금속 및 유기성 불순물을 제거하는 단계 S360은 도 2의 단계 S305, 단계 S310, 단계 S320, 단계 S330 및 단계 S340 중 어느 하나의 단계에서 단독 또는 복합적으로 수행될 수 있다.
도 4는 도 1에 도시된 재생 케미컬 제조 과정을 도시한 순서도이다.
도 1 및 도 4를 참조하면, 단계 S350에서 단일 성분으로 이루어진 재생 케미컬 원료 또는 적어도 2 개의 혼합 성분으로 이루어진 재생 케미컬 원료들이 각각 분리 저장된 후, 단계 S400에서 추출된 재생 케미컬 원료들을 이용하여 재생 케미컬이 제조된다.
단계 S410에서, 추출된 재생 케미컬 원료들, 예를 들면, 혼합 재생 케미컬 원료는 기 설정된 혼합비에 근거하여 지정된 비율로 혼합되고, 이 결과 혼합 재생 케미컬 원료를 이용한 재생 케미컬이 제조된다.
한편, 단계 S420에서, 순정 케미컬 원료 또는 순정 케미컬이 단계 S410에서 제조된 재생 케미컬에 혼합되어 재생 케미컬이 제조될 수 있다.
구체적으로, 단계 S300에서 추출된 재생 케미컬 원료로 재생 케미컬을 제조할 때, 요구되는 재생 케미컬 원료들 중 일부 종류의 재생 케미컬 원료의 양이 재생 케미컬을 제조하기에 부족할 수 있다.
이와 같이 재생 케미컬을 제조할 때 필요로 하는 재생 케미컬 원료들 중 일부 재생 케미컬 원료가 부족할 경우, 부족한 재생 케미컬 원료의 양에 대응하여 순 정 케미컬 원료 또는 순정 케미컬이 추가될 수 있다. 본 실시예에서, 순정 케미컬은 재생 케미컬의 중량에 대하여 0.1wt% 내지 99wt%가 추가될 수 있다. 바람직하게, 순정 케미컬은 재생 케미컬의 중량에 대하여 5wt% 내지 30wt%가 추가될 수 있다.
한편, 단계 S420에서는 순정 케미컬 원료뿐만 아니라 첨가제도 재생 케미컬에 추가될 수 있다. 재생 케미컬에 소량이 첨가되는 첨가제는 재생 케미컬의 기능을 향상 또는 재생 케미컬의 기능을 변경할 수 있다.
재생 케미컬에는 다양한 종류의 첨가제가 혼합될 수 있다. 본 실시예에서, 재생 케미컬에 첨가되는 첨가제는, 예를 들어, 계면 활성제 또는 산화 방지제 등일 수 있다. 재생 케미컬에 첨가되는 계면 활성제 또는 산화 방지제는 재생 케미컬의 중량의 0.1wt% 내지 99wt%가 포함될 수 있다. 바람직하게 첨가제는 재생 케미컬 중량의 0.1wt% 내지 0.2wt%일 수 있다.
단계 S420에서 재생 케미컬이 제조된 후, 재생 케미컬에 포함된 잔류 파티클, 잔류 금속, 유기성 불순물들은 다시 필터링되어 제거될 수 있다.
도 5는 도 1에 도시된 재생 케미컬을 제조하는 다른 과정을 도시한 순서도이다.
도 1 및 도 5를 참조하면, 단계 S350에서 추출된 재생 케미컬 원료들이 분리 저장된 후, 단계 S400에서 재생 케미컬이 제조된다.
재생 케미컬을 제조하기 위하여, 단계 S300에서 추출된 재생 케미컬 원료, 예를 들면, 단일 성분 재생 케미컬 원료들은 설정된 혼합비에 근거하여 지정된 비 율로 혼합되어, 재생 케미컬이 제조된다.
단계 S440에서, 재생 케미컬의 농도를 조절 또는 재생 케미컬의 유량을 증가시키기 위해 재생 케미컬에는 순정 케미컬 원료 또는 순정 케미컬이 추가적으로 혼합될 수 있다. 예를 들어, 순정 케미컬 원료 또는 순정 케미컬은 재생 케미컬의 중량의 약 0.1wt% 내지 약 99wt%가 추가될 수 있다. 바람직하게 순정 케미컬은 재생 케미컬의 중량의 약 5wt% 내지 약 30wt%가 추가될 수 있다.
단계 S440에서 재생 케미컬이 제조된 후, 재생 케미컬에 포함된 잔류 파티클, 잔류 유기물, 잔류 무기물 및 금속 불순물들은 다시 필터링 되어 제거될 수 있다.
도 6은 본 발명의 일실시예에 의하여 제조된 케미컬의 품질을 검사하는 공정을 도시한 순서도이다.
도 1 및 도 6을 참조하면, 단계 S100 내지 단계 S400을 통해 재생 케미컬이 제조된 후, 단계 500에서 재생 케미컬의 품질이 검사된다. 재생 케미컬은 샘플링 검사 또는 전수 검사될 수 있다. 제조된 재생 케미컬은 재생 케미컬에 포함된 금속 성분, 유기물 성분, 수분 함량, 비중, 점도 및 색도 등이 검사될 수 있다.
단계 S500에서 재생 케미컬의 품질이 기준 품질 이상일 경우, 재생 케미컬의 제조 공정은 종료된다. 그러나, 단계 S500에서 재생 케미컬의 품질이 기준 품질 이하일 경우, 기준 품질 이하의 품질을 갖는 재생 케미컬은 단계 S200 또는 단계 S300으로 피드백되어 기준 품질을 만족할 때까지 재생 케미컬의 제조 과정이 반복된다.
재생 케미컬 제조 설비
재생 케미컬 제조 설비를 설명하기 앞서 본 실시예에서 빈번하게 사용되는 용어들을 정의하면 다음과 같다.
빈번하게 사용되는 용어인 "폐액"은 박막 처리 장치에서 반도체 소자 또는 표시 소자를 제조하는 도중 발생 된 물질로, 수분, 금속, 파티클, 유기물들 및 무기물들을 포함하는 것으로 정의된다. 또한, 이하 빈번하게 사용되는 "폐액"은 박막 처리 장치에서 "적어도 1회 사용된 사용액"으로 정의될 수 있다.
빈번하게 사용되는 용어인 "재생 케미컬"은 앞서 정의된 "폐액"을 이용하여 제조되며 반도체 소자 또는 표시 소자를 제조하는 각 공정에 사용되는 물질로 정의된다. "재생 케미컬"은 오염된 기판을 세정하는 세정액, 포토레지스트 등을 제거하는 스트립 용액 등 일 수 있다.
빈번하게 사용되는 용어인 "순정 케미컬"은 박막 처리 장치에서 대부분 그 자체로서는 사용되지 않은 케미컬로 정의된다. 또한, "순정 케미컬"은 박막 처리 장치에서 사용되기 전 혼합 또는 단일 성분 상태의 조성을 가지는 케미컬로 정의될 수 있다.
빈번하게 사용되는 용어인 "박막 처리 장치"는 반도체 소자 또는 표시 소자를 제조하는데 사용되는 장치로서 정의된다. "박막 처리 장치"로 사용되는 장치로서는 반도체 소자 또는 표시 소자를 제조하기 위한 박막 증착 장치, 포토레지스 필름 형성 장치, 현상 장치, 노광 장치, 박막 식각 장치, 이온 주입 장치 및 세정 장 치 등을 들 수 있다. 이외에도 "박막 처리 장치"는 박막을 가공하기 위한 다양한 장치를 포함할 수 있다.
도 7은 본 발명의 일실시예에 의한 재생 케미컬 제조 설비를 도시한 블록도이다. 도 8은 도 7의 재생 케미컬 제조 설비를 구체적으로 도시한 블록도이다.
재생 케미컬 제조 설비(700)는 폐액 수거 저장 장치(100), 예비 가열 장치(200), 추출 장치(300) 및 혼합 장치(400)를 포함한다.
폐액 수거 저장 장치(100)는 각 박막 처리 장치(1)와 연결된다. 폐액 수거 저장 장치(100)에는 각 박막 처리 장치(1)로부터 반도체 소자 또는 표시 소자를 제조하는 도중 발생 된 폐액이 저장된다.
폐액 수거 저장 장치(100)는 폐액 수거 저장 탱크(101,102;103)들을 포함한다.
폐액 수거 저장 탱크(103)들로는 서로 다른 종류의 박막 처리 장치(1)에서 발생 된 다양한 폐액이 함께 수거될 수 있다. 이와 다르게, 폐액 수거 저장 탱크(103)들로는 동일 종류의 박막 처리 장치(1)에서 발생 된 단일 종류의 폐액이 선택적으로 수거될 수 있다.
폐액 수거 저장 장치(100)는 폐액 수거 저장 탱크(103)에 수거된 폐액에 외부로부터 오염물질이 유입되는 것을 방지하기 위해 폐액 수거 저장 탱크(103) 내부로 질소 가스 또는 클린 에어 등을 제공하는 가스 제공 유닛(미도시)을 더 포함할 수 있다.
폐액 수거 저장 탱크(103)는 화학적으로 안정한 스테인리스 또는 스테인리스 합금으로 제작될 수 있고, 폐액 수거 저장 탱크(103)의 내벽에는 테프론 등과 같이 화학적으로 안정한 물질이 코팅될 수 있다.
폐액 수거 저장 장치(100)의 각 폐액 수거 저장 탱크(103)들은 폐액 성분 검사 유닛(미도시)을 더 포함할 수 있다. 폐액 성분 검사 유닛은 각 폐액 수거 저장 탱크(103)들에 수거된 폐액의 종류 및 성분을 샘플링 검사한다.
폐액에는 방향족 화합물, 아크릴류, 글리콜류, 알콜류, 알데히드류, 케톤류, 락톤류, 에스테르류, 에테르류, 알킨올 에테르류, 알킬 황산화물류, 황화물류, 아민류, 알킨올 아민류, 아마이드류, 이미드류, 아닐린류, 피폐라진류, 알칸올 피폐라진류 및 피리딘류 등의 유기물이 포함될 수 있다. 폐액에는 폐액의 중량에 대하여 약 1.0wt% 내지 약 99wt%의 유기물이 포함될 수 있다.
또한, 폐액에는 Na, Mg, Al, Si, P, Si, K, Ca, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga, AS, Br, Zr, Nb, Mo, Ru, Pd, Ag, Cd, In, Mo, Sn, I, W, Pt, Au, Hg, Pb, Bi 및 Nd 등과 같은 금속이 포함될 수 있다. 폐액에는 총 중량에 대하여 약 0.1wt% 내지 약 10.0wt%의 금속이 포함될 수 있다.
또한, 폐액에는 폐액의 중량에 대해서 약 0.1wt% 내지 약 99wt%의 수분이 포함될 수 있다.
또한, 폐액에는 파티클의 사이즈가 각각 약 0.3㎛ 내지 약 0.6㎛ 이상, 약 0.6㎛ 내지 약 1.0㎛, 약 1.0㎛ 이상인 구간에서, 밀리리터(㎖)당 약 1개 이상 존재할 수 있다.
성분 검사 결과 상술한 수분, 유기물, 금속, 파티클들의 성분을 만족하는 폐 액은 재생 케미컬을 제조하기 위한 후속 공정들로 제공된다. 이와 다르게, 폐액 성분 검사 결과 유기물, 수분, 금속 및 파티클 중 어느 하나의 성분 조건을 만족시키지 못하더라도 폐액은 상기 후속 공정으로 제공될 수 있다.
예비 가열 장치(200)는 폐액 수거 저장 장치(100)로부터 폐액을 공급받아 예비 가열한다. 본 실시예에서, 예비 가열 장치(200)는 기화기일 수 있다.
예비 가열 장치(200)는 적어도 하나의 폐액 저장 탱크(210) 및 가열 유닛(220)을 포함한다. 예비 가열 장치(200)는 선택적으로 교반기(230) 및 수분 처리 유닛(240)을 더 포함할 수 있다. 본 실시예에서, 예비 가열 장치(200)는 두 개의 폐액 저장 탱크(210)들을 포함한다.
폐액 저장 탱크(210)들은 폐액 수거 저장 장치(100)로부터 제공된 폐액을 저장한다. 본 실시예에서, 폐액 저장 탱크(210)는 제1 폐액 저장 탱크(212) 및 제2 폐액 저장 탱크(214)를 포함한다.
제1 폐액 저장 탱크(212)는 제1 폐액 저장 용량을 갖고, 제2 폐액 저장 탱크(214)는 제1 폐액 저장 용량보다 큰 제2 폐액 저장 용량을 갖는다.
폐액 수거 저장 장치(100)로부터 제공된 폐액의 양에 따라서 폐액은 제1 폐액 저장 탱크(212) 또는 제2 폐액 저장 탱크(214)로 제공된다. 이와 다르게, 폐액 수거 저장 장치(100)로부터 제공된 폐액의 양에 상관없이 폐액은 제1 및 제2 폐액 저장 탱크(212, 214)들로 각각 제공될 수 있다.
폐액 저장 탱크(210)는 화학적으로 안정한 스테인리스 또는 스테인리스 합금으로 제작될 수 있고, 폐액 저장 탱크(210)의 내벽에는 테프론 등과 같이 화학적으 로 안정한 물질이 코팅될 수 있다.
가열 유닛(220)은 폐액 저장 탱크(210)에 저장된 폐액을 예비 가열한다. 본 실시예에서, 폐액은 가열 유닛(220)에 의하여 상온 내지 약 400℃의 온도 범위에서 가열되고, 폐액을 가열하는 동안 폐액 저장 탱크(210)는 -760mmHg 내지 상압의 압력이 유지된다. 가열 유닛(220)은 폐액의 온도를 정밀하게 조절하기 위해 히터 코일 등을 포함할 수 있다.
교반기(230)는 폐액 저장 탱크(210) 내에 배치되어, 폐액 저장 탱크(210)에 저장된 폐액을 교반 한다.
수분 처리 유닛(240)은 폐액 저장 탱크(210)와 연결되며, 수분 처리 유닛(240)은 가열 유닛(220)에 의하여 가열된 폐액으로부터 발생 된 수분의 일부를 회수하여 처리하거나, 예비 가열시 잔류된 무기물 또는 유기물을 수분 처리 유닛(240)으로부터 드레인 시켜 수처리 또는 추가 처리 설비(미도시)를 통하여 고형화 및 소각 처리한다.
추출 장치(300)는 예비 가열 장치(200)로부터 예비 가열된 폐액을 제공받아 서로 다른 온도로 가열하여, 예비 가열된 폐액으로부터 재생 커미컬을 제조하는데 필요한 재생 케미컬 원료를 추출한다.
추출 장치(300)는 추출 유닛(310), 가열 유닛(320) 및 응축기(330)를 포함한다. 이에 더하여 추출 장치(300)는 케미컬 회수 유닛(370)을 더 포함할 수 있다.
추출 유닛(310)은 적어도 하나의 정제탑(312,314,316)을 포함할 수 있다. 본 실시예에서, 추출 유닛(310)은, 예를 들어, 세 개의 정제탑(312,314,316)들을 포함 한다. 이하, 각 정제탑을 제1 정제탑(312), 제2 정제탑(314) 및 제3 정제탑(316)으로 정의하기로 한다.
제1 내지 제3 정제탑(312,314,316)들은 화학적으로 안정한 스테인리스 또는 스테인리스 합금으로 제작될 수 있고, 제1 내지 제3 정제탑(312,314,316)들의 내벽에는 테프론 등과 같이 화학적으로 안정한 물질이 코팅될 수 있다.
본 실시예에서, 제1 내지 제3 정제탑(312,314,316)들은, 예를 들어, 증류 정제탑일 수 있다.
또한, 제1 내지 제3 정제탑(312,314,316)들은 여러 종류의 재생 케미컬들을 분리하기 위하여 다단으로 구성될 수 있다. 예를 들어, 제1 내지 제3 정제탑(312,314,316)들은 10단 내지 200 단으로 구성될 수 있다.
제1 내지 제3 정제탑(312,314,316)들은, 예를 들어, 지면에 대하여 수직 방향으로 배치될 수 있다. 제1 내지 제3 정제탑(312, 314,316)들의 하부로는 폐액 또는 액체 상태의 재생 케미컬 원료가 선택적으로 드레인 되고, 제1 내지 제3 정제탑(312, 314,316)의 상부로는 기체 상태의 재생 케미컬 원료가 배출된다.
또한, 제1 정제탑(312), 제2 정제탑(314) 및 제3 정제탑(316)들은 보다 다양한 재생 케미컬 원료를 추출 및/또는 재생 케미컬 원료의 순도를 향상시키기 위해 직렬로 연결될 수 있다.
제1 내지 제3 정제탑(312,314,316)들의 하부에는 각각 폐액을 가열하는 제1 내지 제3 가열 유닛(362,364,366)을 포함하는 가열 유닛(360)이 배치된다. 제1 내지 제3 가열 유닛(362,364,366)들은 제1 내지 제3 정제탑(312,314,316)들에 저장된 폐액을 각각 지정된 온도로 가열한다.
가열 유닛(360)은 제1 내지 제3 정제탑(312,314,316)들에 저장된 폐액을 서로 다른 온도로 가열한다. 본 실시예에서, 가열 유닛(360)은 전기적 저항을 이용하여 폐액을 서로 다른 온도로 가열할 수 있다.
예를 들어, 가열 유닛(360)은 제1 내지 제3 정제탑(312,314,316)들 내에 포함된 폐액을 상온 내지 400℃의 온도 범위 내에서 서로 다른 온도로 가열할 수 있다. 가열 유닛(360)이 폐액들을 가열하는 동안 제1 내지 제3 정제탑(312,314,316)들은 약 -760mmHg 내지 상압의 압력을 유지한다.
제1 내지 제3 정제탑(312,314,316)들로부터는 가열 유닛(360)이 폐액을 가열하는 온도에 따라서 적어도 두 종류의 재생 케미컬 원료들은 제1 내지 제3 정제탑(312,314,316)들로부터 추출된다. 이와 다르게, 제1 내지 제3 정제탑(312,314,316)들로부터는 가열 유닛(360)이 폐액을 가열하는 온도에 따라서 단일 종류의 재생 케미컬 원료들이 추출될 수 있다.
예를 들어, 제1 정제탑(312)은 폐액에 포함된 수분을 제거하고, 제2 정제탑(314) 및 제3 정제탑(316)들은 폐액에 포함된 무기물, 파티클 및 금속을 제거함과 동시에 폐액에 포함된 재생 케미컬 원료들을 추출한다.
응축기(350)는 제1 정제탑(312)과 연결된 제1 응축기(352), 제2 정제탑(314)과 연결된 제2 응축기(354), 제3 정제탑(316)의 상단과 연결된 제3 응축기(356) 및 제3 정제탑(316)의 하단과 연결된 제4 응축기(358)를 포함할 수 있다.
제1 내지 제4 응축기(352,354,356,358)들은 제1 내지 제3 정제 탑(312,314,316)에서 각각 배출된 기체 상태의 재생 케미컬 원료를 응축시킨다. 제1 내지 제4 응축기(352,354,356,358)들에 의하여 기체 상태의 재생 케미컬 원료는 액체 상태가 된다. 한편, 재생 케미컬 원료의 순도를 향상시키기 위해 여러 개의 응축기(350)들을 직렬로 연결하여 사용할 수 있다.
응축기(350) 내부의 온도는 -50℃ 내지 50℃ 일 수 있고, 응축기(350) 내부의 압력은 약 -760mmHg 내지 상압을 유지한다.
응축기(350)는 화학적으로 안정한 스테인리스 또는 스테인리스 합금으로 제작될 수 있고, 응축기(350)의 내벽에는 테프론 등과 같이 화학적으로 안정한 물질이 코팅될 수 있다.
본 실시예에서, 응축기(350)는 재생 케미컬 원료의 불순물을 제거하여 순도를 향상시키기 위한 유수분리 장치(미도시), 응축된 재생 케미컬 원료의 순도를 향상시키기 위해 추출 장치로 상기 재생 케미컬을 순환시키는 순환 장치(미도시) 및 재생 케미컬을 저장 유닛으로 이송하는 이송 장치(미도시)를 포함할 수 있다.
또한, 응축기(350)는 기화된 재생 케미컬 원료의 순도를 향상시키기 위해 적어도 두 개가 직렬 방식으로 연결될 수 있다.
한편, 유수분리장치는 수분 및 유기 불순물을 제거하기 위해 소각로 또는 상기 폐액 수거 저장장치와 연결될 수 있다.
케미컬 회수 유닛(370)은 응축기(350)와 연결된다. 케미컬 회수 유닛(370)은 제1 응축기(352)와 연결된 제1 케미컬 회수 유닛(372), 제2 응축기(354)와 연결된 제2 케미컬 회수 유닛(374) 및 제3 응축기(356)와 연결된 제3 케미컬 회수 유 닛(376) 및 제4 응축기(358)와 연결된 제4 케미컬 회수 유닛(378)을 포함한다.
케미컬 회수 유닛(370)은 재생 케미컬 원료들 및 재생 케미컬 원료들에 포함된 불순물의 비중 차이를 이용하여 재생 케미컬 원료들로부터 불순물을 분리할 수 있다. 재생 케미컬 원료들로부터 분리된 불순물들은 소각 유닛(미도시)으로 제공된다.
케미컬 회수 유닛(370)의 제1 케미컬 회수 유닛(372)은 제1 정제탑(312)에서 발생된 재생 케미컬 원료를 재생 케미컬 원료 저장 탱크(104)와 연결되고, 재생 케미컬 원료 저장 탱크(104)는 예비 가열 장치(200)와 연결된다. 따라서, 재생 케미컬 원료 저장 탱크(104)에 저장된 낮은 순도를 갖는 재생 케미컬 원료는 예비 가열 장치(200)로 다시 제공된다. 이와 같은 케미컬 회수 유닛(370)의 구성 및 작용에 의하여 재생 케미컬 원료의 순도를 크게 향상시킬 수 있다.
케미컬 회수 유닛(370)의 제2 케미컬 회수 유닛(374)은 제2 정제탑(314)과 연결되고, 제2 케미컬 회수 유닛(374)은 추출된 재생 케미컬 원료들을 제2 정제탑(314)으로 다시 제공하여 제2 정제탑(314)으로부터 추출된 재생 케미컬 원료들의 순도를 보다 향상시킨다.
케미컬 회수 유닛(370)의 제3 케미컬 회수 유닛(376)은 제3 정제탑(316)과 연결되고, 제3 케미컬 회수 유닛(376)으로부터 추출된 재생 케미컬 원료들을 제3 정제탑(316)으로 다시 제공하여 제3 정제탑(316)으로부터 추출된 재생 케미컬 원료들의 순도를 보다 향상시킨다.
케미컬 회수 유닛(370)의 제1 케미컬 회수 유닛(372)으로부터 제공된 재생 케미컬 원료, 제2 케미컬 회수 유닛(374)으로부터 제공된 재생 케미컬 원료 및 제3 케미컬 회수 유닛(376)으로부터 제공된 재생 케미컬 원료 및/또는 제4 케미컬 회수 유닛(378)으로부터 제공된 재생 케미컬 원료는 각각 저장 유닛(330)으로 제공될 수 있다.
저장 유닛(330)은 제1 내지 제4 케미컬 회수 유닛(372,374,376,378)들로부터 회수된 고순도 재생 케미컬 원료들을 저장하는 역할을 한다.
저장 유닛(330)은, 예를 들어, 적어도 하나의 저장 탱크(332)를 포함한다. 본 실시예에서, 저장 유닛(330)은 3 개의 저장 탱크(332)들을 갖는다. 저장 탱크(332)는 케미컬 회수 유닛(370)과 각각 연결되어 고순도 재생 케미컬 원료들은 저장 탱크(332)들에 종류별로 저장된다.
3 개의 저장 탱크(332)는 제1 저장 탱크(333), 제2 저장 탱크(334) 및 제3 저장 탱크(335)를 포함한다. 제1 저장 탱크(333)는 제2 케미컬 회수 유닛(374)으로부터 재생 케미컬 원료, 제2 저장 탱크(334)는 제3 케미컬 회수 유닛(376)으로부터 재생 케미컬 원료, 제3 저장 탱크(335)는 제4 케미컬 회수 유닛(378)으로부터 재생 케미컬 원료를 각각 제공받는다.
본 실시예에서, 제1 저장 탱크(333)에는, 예를 들어, 두 종류 이상이 혼합된 혼합 재생 케미컬 원료가 저장될 수 있고, 제2 및 제3 저장 탱크(334,335)에는 단일 종류의 재생 케미컬 원료가 저장될 수 있다. 본 실시예에서는 비록 3 개의 저장 탱크가 도시 및 설명되고 있지만, 저장 유닛(330)은 재생 케미컬 원료의 종류에 대응하여 추가적으로 복수개의 저장 탱크들을 더 포함할 수 있다.
도 8에는 도시되어 있지 않지만, 저장 탱크(333,334,335)들의 하부에는 재생 케미컬의 품질을 샘플링하여 검사할 수 있는 검사 유닛을 각각 포함할 수 있다.
한편, 본 실시예에 의한 재생 케미컬 제조 설비(700)는 필터 유닛(340)을 더 포함할 수 있다. 필터 유닛(340)은 저장 유닛(330)과 연결된다.
구체적으로, 필터 유닛(340)은 저장 유닛(330)의 저장 탱크(332)의 개수와 대응하는 개수를 갖는다.
본 실시예에서, 저장 유닛(330)은, 예를 들어, 제1 내지 제3 저장 탱크(333,334,335)를 갖기 때문에 필터 유닛(340)은 제1 필터(342), 제2 필터(344) 및 제3 필터(346)를 포함한다.
예를 들어, 제1 필터(342)는 제1 저장 탱크(333)와 연결되어 제1 저장 탱크(333)로부터 제공되는 재생 케미컬 원료를 필터링 한다. 제2 필터(344)는 제2 저장 탱크(334)와 연결되어 제2 저장 탱크(334)로부터 제공되는 재생 케미컬 원료를 필터링한다. 제3 필터(346)는 제3 저장 탱크(335)와 연결되어 제3 저장 탱크(335)로부터 제공되는 재생 케미컬 원료를 필터링 한다.
제1 내지 제3 필터(342,344,346)들은 제1 내지 제3 저장 탱크(333,334,335)로부터 제공되는 재생 케미컬 원료들에 포함된 잔류 파티클, 잔류 유기물, 잔류 무기물 및 금숙 불순물들을 필터링 한다. 본 실시예에서, 제1 내지 제3 필터(342,344,346)들은 서로 다른 기능을 수행하는 적어도 2 개의 필터들을 포함할 수 있다.
필터 유닛(340)에서 잔류 파티클, 잔류 유기물, 잔류 무기물 및 금속 불순물 들이 필터링되어 순도가 보다 향상된 초고순도 재생 케미컬 원료들은 각 필터 유닛(340)과 연결된 연결 배관(401)들을 통해 각 박막 처리 장치(1)로 직접 제공될 수 있다. 이와 다르게, 필터 유닛(340)은 후술 될 혼합 장치(400)로 재생 케미컬 원료들을 제공할 수 있다.
혼합 장치(400)는 연결 배관(401)으로부터 분기 된 배관들에 연결된다. 혼합 장치(400)는 재생 케미컬 원료들을 대형 저장 탱크에서 지정된 비율로 혼합하여 적어도 한 가지 종류 이상의 재생 케미컬을 제조한다.
혼합 장치(400)는 혼합 탱크(411) 및 교반기(412)를 포함한다. 이에 더하여 혼합 장치(400)는 고순도 재생 케미컬 원료들을 지정된 유량으로 혼합 탱크(411)로 제공하기 위한 질량 유량 제어기(Mass Flow Controller, MFC) 또는 질량 측정 장치(Balance)를 더 포함할 수 있다.
혼합 탱크(411)는 필터 유닛(340)으로부터 제공된 고순도 재생 케미컬 원료들을 질량 유량 제어기(MFC)를 이용하거나 질량 측정 장치(Balance)를 자체에 설치하여 지정된 양을 각각 제공받는다. 교반기(412)는 혼합 탱크(411)로 제공된 고순도 재생 케미컬 원료를 균일하게 혼합한다.
한편, 혼합 탱크(411)에는 케미컬 원료 공급 유닛(420)이 추가로 연결될 수 있다. 혼합 탱크(411)에 제공되는 고순도 재생 케미컬 원료의 일부가 부족할 경우, 케미컬 원료 공급 유닛(420)은 부족한 재생 케미컬 원료를 추가적으로 혼합 탱크(411)로 제공한다.
또한, 혼합 탱크(411)에는 순정 케미컬 공급 유닛(430)이 추가로 연결될 수 있다. 순정 케미컬 공급 유닛(430)은 순정 케미컬을 혼합 탱크(411)로 제공할 수 있다. 혼합 탱크(411) 내에서 제조된 재생 케미컬의 양이 부족할 경우,순정 케미컬 공급 유닛(430)은 순정 케미컬을 혼합 탱크(411) 내부로 제공한다. 본 실시예에서, 순정 케미컬은 재생 케미컬의 중량에 대하여 0.1wt% 내지 99wt%가 추가될 수 있다. 바람직하게, 순정 케미컬은 재생 케미컬의 중량에 대하여 5wt% 내지 30wt%가 추가될 수 있다.
또한, 혼합 탱크(411)에는 첨가제를 직접 투입할 수 있는 첨가제 제공 투입구(413) 또는 첨가제 제공 유닛(440)이 추가로 연결될 수 있다. 첨가제 투입구(413)는 여닫을 수 있는 구조로 혼합 탱크(411)에 부착 고정될 수 있고, 첨가제 제공 유닛(440)은 각종 첨가제를 혼합 탱크(411)로 대량 제공할 수 있다. 예를 들어, 첨가제 제공 유닛(440)은 혼합 탱크(411) 내부에서 재생 세정액과 같은 재생 케미컬을 제조할 때 필요한 계면 활성제 또는 산화 방지제와 같은 첨가제를 혼합 탱크(411) 내부로 제공한다. 이때, 첨가제는 혼합 탱크(411)의 내부에 저장된 재생 케미컬의 중량의 약 0.1wt% 내지 약 99wt%가 첨가될 수 있다. 바람직하게, 첨가제는 재생 케미컬 중량의 약 0.1wt% 내지 약 0.2wt%가 첨가될 수 있다.
케미컬 원료 공급 유닛(420), 순정 케미컬 공급 유닛(430), 첨가제 제공 투입구(413) 및 첨가제 제공 유닛(440)을 이용하여 혼합 장치(410)로부터는 고순도 재생 케미컬이 제조된다.
혼합 장치(410)로부터 제조된 고순도 재생 케미컬은 필터 유닛(417)에 의하여 다시 한번 잔류 수분, 잔류 파티클, 잔류 유기물 및 금속 불순물등이 필터링 되 고, 필터링된 재생 케미컬은 혼합 장치(410)와 연결된 버퍼 탱크(460)로 제공된다.
버퍼 탱크(460)는 버퍼 탱크(460)로 제공된 재생 케미컬이 박막 처리 장치(1)로 제공되기 이전에 재생 케미컬의 온도를 조절하는 온도 조절 유닛을 포함할 수 있다.
한편, 혼합 장치(410) 및/또는 버퍼 탱크(460)에는 품질 검사 유닛(450)이 연결될 수 있다. 품질 검사 유닛(450)은 혼합 장치(410)에서 혼합되어 제조된 재생 케미컬의 품질 및/또는 버퍼 탱크(460)로 제공된 재생 케미컬의 품질을 샘플링 검사한다. 이때, 샘플링 검사는 금속 성분, 유기물 성분, 수분 함량, 비중, 점도, 색도 등 일 수 있다.
버퍼 탱크(460)는 버퍼 탱크(460)에 연결된 회수 유닛(470)을 더 포함한다. 혼합 장치(410)에서 제조된 재생 케미컬 또는 버퍼 탱크(460)에 저장된 재생 케미컬이 기준 품질 이하일 경우, 버퍼 탱크(460)로 제공된 재생 케미컬의 품질이 기준 품질 이하일 경우, 불량 재생 케미컬은 회수 유닛(470)으로 제공되고, 회수 유닛(470)으로 제공된 재생 케미컬은 예비 가열 장치(200)와 연결된 회수 배관(475)을 통해 예비 가열 장치(200)로 제공된다.
이하, 앞서 상세하게 설명한 재생 케미컬 재생 방법 및 설비에 의하여 제조된 재생 케미컬 및 순정 케미컬의 성분비 및 오염물을 비교 분석하면 다음과 같다.
<표 1>
성분 단위 샘플1(순정 케미컬) 샘플2(폐액) 샘플3(재생 케미컬)
순도 % 최소 99.0 최소 95.0 최소 98.5
수분 ppm 최대 240 최대 1,000 최대 210
Na ppb 최대 6 최대 200 최대 1
Mg ppb 최대 6 최대 200 최대 1
Al ppb 최대 1 최대 200 최대 2
K ppb 최대 2 최대 200 최대 3
Ca ppb 최대 1 최대 200 최대 1
Cr ppb 최대 2 최대 200 최대 1
Fe ppb 최대 4 최대 200 최대 1
Ni ppb 최대 1 최대 200 최대 1
Cu ppb 최대 1 최대 200 최대 1
Pb ppb 최대 1 최대 200 최대 1
<표 1>은 재생 케미컬 재생 방법 및 설비에 의하여 제조된 재생 케미컬, 재생 전 폐액 및 순정 케미컬의 성분을 비교 분석한 결과를 나타내고 있다.
<표 1>에서 재생 케미컬은 프로필렌 글리콜 메틸 에스터 아세테이트(propylene glycol methyl ester acetate)으로 이루어져 있다.
비교 결과를 살펴보면, 재생 케미컬의 순도는 최소 98.5%이고, 순정 케미컬의 순도는 최소 99.0%이고, 폐액의 순도는 최소 95.0%였다. 순도 측면에서, 순정 케미컬과 재생 케미컬의 순도는 유사하였다.
한편, 재생 케미컬의 수분 함량은 최대 210ppm 이고, 순정 케미컬의 수분 함량은 최대 240ppm 이고, 폐액은 최대 1,000ppm 정도였다. 수분 함량 측면에서, 재생 케미컬 및 순정 케미컬의 수분 함량은 유사하였다.
한편, 재생 케미컬에 포함된 Na, Mg, Al, K, Ca, Cr, Fe, Ni, Cu, Pb 등과 같은 금속 불순물들의 함량은 Na, Mg의 경우 최대 약 1ppb이고, 나머지 금속 불순물들은 약 1 ppb ∼ 약 3 ppb였다. 반면, 순정 케미컬에 포함된 Na, Mg, Al, K, Ca, Cr, Fe, Ni, Cu, Pb 등과 같은 금속 불순물들의 함량은 Na, Mg의 경우 최대 약 1 ppb이고, 나머지 금속 불순물들은 약 1 ppb ∼ 약 6 ppb였다. 금속 불순물 함량 측면에서, 재생 세정액의 금속 불순물 함량은 순정 세정액에 비하여 낮거나 유사하였다.
한편, <표 1>에는 도시되어 있지 않지만, 재생 케미컬 및 순정 케미컬의 파티클 개수는 실질적으로 유사하였다.
종합적으로 판단하였을 때, 박막 처리 장치로부터 발생된 폐액으로부터 추출된 단일 성분의 재생 케미컬의 품질은 순정 케미컬과 대등하거나 다소 나은 품질을 갖는다.
<표 2>



성분



단위
샘플4(순정 케미컬)
글리콜류
알칸올아민류
극성/비극성 용매류
금속 부식 방지제
샘플5(폐액)
글리콜류
알칸올아민류
극성/비극성 용매류
공정중 혼입 유기/무기, 금속 불순물
샘플6(재생 케미컬)
글리콜류
극성/비극성 용매류
공정중 혼입된 기타 유기물
수분 ppm 최대 700 최대 3,300 최대 300
Na ppb 최대 200 최대 270 최대 2
Mg ppb 최대 3 최대 5 최대 1
Al ppb 최대 1 최대 200 최대 2
K ppb 최대 15 최대 10 최대 5
Ca ppb 최대 5 최대 60 최대 3
Cr ppb 최대 1 최대 10 최대 5
Fe ppb 최대 10 최대 200 최대 40
Ni ppb 최대 1 최대 10 최대 5
Cu ppb 최대 1 최대 200 최대 30
파티클 ea/ml 최대 10 측정불가 최대 10
<표 2>는 재생 케미컬 재생 방법 및 설비에 의하여 제조된 재생 케미컬, 재생 전 폐액 및 순정 케미컬의 성분을 비교 분석한 결과를 보여주고 있다.
<표 2>에서 재생 케미컬, 재생 전 폐액 및 순정 케미컬은, 예를 들어, 글리콜류, 알칸올아민류, 극성/비극서 용매류 등을 포함한다.
비교 결과를 살펴보면, 다양한 유기물이 혼합된 재생 케미컬의 수분 함량은 최대 300ppm 이고, 다양한 유기물이 혼합된 순정 케미컬의 수분 함량은 최대 700ppm 이고, 폐액은 최대 3,300ppm 정도였다.
수분 함량 측면에서, 재생 케미컬의 수분 함량은 폐액 및 순정 케미컬에 비하여 월등히 우수하였다.
또한, 다양한 유기물이 혼합된 재생 케미컬에 포함된 Na, Mg, Al, K, Ca, Cr, Fe, Ni, Cu 등과 같은 금속 불순물들 중 Na의 함량은 최대 2ppb이고, Mg, Al, K, Ca, Cr, Fe, Ni, Cu와 같은 금속 불순물들의 함량은 1ppb ∼ 40ppb였다. 반면, 순정 케미컬에 포함된 Na의 함량은 최대 200ppb이고, Mg, Al, K, Ca, Cr, Fe, Ni 및 Cu 등과 같은 금속 불순물들의 함량은 1ppb ∼ 15ppb였다.
금속 불순물 함량 측면에서, 재생 케미컬의 금속 불순물 함량 중 Na의 함량은 순정 세정액에 비하여 현저하게 낮게 나타났고, Mg, Al, K, Ca, Cr, Fe, Ni, Cu와 같은 금속 불순물들의 함량은 재생 케미컬과 유사하였다.
<표 2>에는 도시된 재생 케미컬 및 순정 케미컬의 파티클 개수는 실질적으로 유사하였다.
<표 3>


성분


단위
샘플7(수계 순정 케미컬)
글리콜류
알킬렌 글리콜 알킬 에스테르
알킬 폴리 및 모노 글루코사이드
금속 부식 방지제
샘플8(수계 재생 케미컬)
글리콜류
극성/비극성 용매류
공정중 혼입된 기타 유기물
폴리알킬렌 알킬 에스테르
카르복실레이트
금속 부식 방지제
수분 wt% 최대 75 최대 5
Na ppb 최대 100,000 최대 7,000
Mg ppb 최대 100 최대 50
Al ppb 최대 100 최대 400
K ppb 최대 100,000 최대 2,500,000
Ca ppb 최대 100 최대 700
Cr ppb 최대 100 최대 100
Fe ppb 최대 100,000 최대 600
Ni ppb 최대 100 최대 50
Cu ppb 최대 100 최대 50
Zn ppb 최대 100 최대 50
<표 3>는 재생 케미컬 재생 방법 및 설비에 의하여 제조된 수계 재생 케미컬, 폐액 및 순정 수계 케미컬의 성분을 비교 분석한 결과이다.
<표 3>에서 수계 순정 케미컬은 글리콜류, 알킬렌 글리콜 알킬 에스테르, 알킬 폴리 및 모노 글루코사이드 및 금속 부식 방지제를 포함하며 수계 순정 케미컬은 세정액이다. 또한, 수계 재생 케미컬은 <표 2>의 샘플6(재생 케미컬)에 폴리알킬렌 알킬 에스테르, 카르복실레이트 및 금속 부식 방지제가 포함되었고, 수계 재생 케미컬은 세정액이다.
비교 결과를 살펴보면, 수분(wt%) 측면, Na, Mg, Cr, Fe, Ni, Cu 및 Zn의 함량 측면에 있어서, 본 발명에 의하여 제조된 수계 재생 케미컬이 수계 순정 케미컬에 비하여 월등히 우수하며, Al, K 및 Ca의 함량 측면에서는 수계 순정 케미컬이 다소 우수하였다.
도 9는 순정 세정액을 이용한 접촉각 특성에 따른 세정력을 도시한 사진이다. 도 10은 표 3의 샘플 6의 재생 케미컬인 세정액을 이용한 접촉각 특성에 따른 세정력을 도시한 사진이다. 도 11은 표 3의 계면 활성제류 및 금속 부식 방지제를 추가한 샘플 8의 재생 케미컬인 세정액을 이용한 접촉각 특성에 따른 세정력을 도시한 사진이다.
도 9 내지 도 11들에서, 세정력 테스트 조건 및 순서는 다음과 같다.
먼저, 약 3×10cm의 사이즈를 갖는 3개의 테스트 기판을 마련한다.
이어서, 약 300㎖의 비이커들에 순정 세정액, 샘플 5의 세정액 및 샘플 8의 세정액을 각각 200㎖ 주입한다.
비이커들에 주입된 순정 세정액, 샘플 5의 세정액 및 샘플 8의 세정액을 약 60℃의 온도에서 약 70 R.P.M으로 회전시키면서 중탕한다.
중탕이 종료되면, 테스트 기판을 각 비이커들에 투입하고, 약 3분간 테스트 기판을 세정한다.
각 비이커들에서 세정된 테스트 기판을 비이커에서 꺼낸 후 초순수로 충분히 린스하여 각 테스트 기판에 묻은 세정액들을 제거하고, 초순수를 청정 질소 가스로 충분히 건조 시킨다.
세정 및 건조된 테스트 기판으로부터 5mm 정도 이격된 높이에서 초순수를 드롭한 후 초순수 및 테스트 기판이 이루는 접촉각을 측정한다.
도 9 내지 도 11를 참조하면, 순정 세정액에 의하여 세정된 테스트 기판 및 초순수들이 이루는 접촉각은 약 45.8도이고, <표 2>의 샘플 6의 재생 세정액에 의하여 세정된 테스트 기판 및 초순수들이 이루는 접촉각은 35.2도이고, <표 3>의 샘플 8에 의하여 세정된 테스트 기판 및 초순수들이 이루는 접촉각은 약 25.7도였다.
세정에 따른 테스트 기판 및 초순수의 접촉각 특성은 접촉각이 낮을수록 세정력이 우수한 것을 의미하며, 따라서, 샘플 8의 재생 세정액이 가장 우수한 세정력을 갖고, 샘플 6의 재생 세정액의 세정력이 다음으로 우수하며, 순정 세정액의 세정력이 다음으로 우수하였다.
한편, 세정력이 가장 우수한 <표 3>의 샘플 8의 재생 세정액 이용하여 액정표시기판을 세정한 결과 얼룩 불량률은 약 0.3%에 불과한 반면, 세정력이 가장 나쁜 순정 세정액을 이용하여 액정표시기판을 세정한 결과 얼룩 불량률은 약 1.8%였다. 즉, 샘플 8의 재생 세정액으로 세정한 액정표시장치의 얼룩 불량은 순정 세정액으로 세정한 액정표시장치의 얼룩 불량률보다 최대 1/6 이하로 감소 됨을 알 수 있다.
이상에서 상세하게 설명한 바에 의하면, 박막 처리 장치로부터 발생한 폐액을 정제 및 분류하여 다양한 종류의 재생 케미컬 원료들을 추출한 후, 재생 케미컬 원료들을 지정된 비율로 혼합하여 우수한 재생 케미컬을 제조 및 재생 케미컬을 다시 박막 처리 장치로 제공하여 생산 비용을 크게 감소시키고, 폐액을 처리하기 위한 비용을 추가적으로 감소시킬 수 있으며, 환경 오염을 감소시키는 효과를 갖는다.
본 실시예에서는 폐액 및 재생 케미컬을 제조하기 위하여 폐액으로부터 추출된 재생 케미컬 원료들 또는 재생 케미컬은 배관 또는 운반 차량을 통해 이송될 수 있다.
앞서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (51)

  1. 적어도 하나의 박막 처리 장치로부터 폐액(waste solution)을 수거 저장하는 단계;
    상기 폐액을 예비 가열하여 기화되지 않고 잔류된 무기물 또는 유기물을 수거하기 위해 상기 폐액을 예비 가열 장치로 공급하는 단계;
    예비 가열된 폐액을 서로 다른 온도로 가열하여 상기 예비 가열된 폐액으로부터 재생 케미컬 원료들을 각각 추출하는 단계;
    상기 재생 케미컬 원료들을 예비 가열하여 기화되지 않고 잔류된 무기물 또는 유기물을 수거하기 위해 상기 재생 케미컬 원료들을 상기 예비 가열 장치로 공급하는 단계;
    추출된 상기 재생 케미컬 원료들을 분리 저장하는 단계;
    저장된 상기 재생 케미컬 원료들에 포함된 잔류 파티클 및 금속을 필터링 하는 단계;
    필터링된 상기 재생 케미컬 원료들을 혼합하여 재생 케미컬을 제조하는 단계; 및
    상기 재생 케미컬에 포함된 불순물을 필터링하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 폐액을 수거 저장하는 단계에서 상기 폐액은 상기 박막 처리 장치의 종류에 따라서 분리 수거 저장되는 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 방법.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 제1항에 있어서,
    상기 재생 케미컬 원료들을 각각 추출하는 단계는,
    상기 예비 가열된 폐액을 제1 온도 범위에서 가열하여 수분을 제거하는 단계;
    상기 예비 가열된 폐액을 제2 온도 범위에서 가열하여 상기 예비 가열된 폐액으로부터 적어도 두 종류 이상의 재생 케미컬 원료들을 함께 추출하는 단계; 및
    상기 예비 가열된 폐액을 제3 온도 범위에서 가열하여 상기 예비 가열된 폐액으로부터 단일 유기물을 추출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 방법.
  8. 삭제
  9. 제7항에 있어서, 상기 재생 케미컬 원료들을 추출하는 단계에서, 추출된 상기 재생 케미컬 원료들을 응축하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 방법.
  10. 삭제
  11. 제1항에 있어서, 상기 재생 케미컬 원료들을 추출하는 단계에서, 상기 예비 가열된 폐액으로부터는 적어도 두 종류의 재생 케미컬 원료들이 추출되는 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 방법.
  12. 제1항에 있어서, 상기 재생 케미컬 원료들을 추출하는 단계에서, 상기 예비 가열된 폐액으로부터는 단일 종류의 재생 케미컬 원료가 선택적으로 추출되는 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 방법.
  13. 삭제
  14. 제1항에 있어서, 상기 재생 케미컬을 제조하는 단계는
    저장된 상기 재생 케미컬 원료들을 지정된 비율로 혼합하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 방법.
  15. 제14항에 있어서, 상기 재생 케미컬 원료들을 혼합하는 단계는 상기 재생 케미컬 원료 중 부족한 재생 케미컬 원료를 상기 재생 케미컬에 추가하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 방법.
  16. 제14항에 있어서, 상기 재생 케미컬 원료들을 혼합하는 단계는 첨가제를 상기 재생 케미컬에 추가하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 방법.
  17. 제16항에 있어서, 상기 첨가제는 계면 활성제 또는 산화 방지제 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 방법.
  18. 제16항에 있어서, 상기 첨가제는 상기 재생 케미컬 원료 중량의 0.1wt% 내지 0.2wt%인 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 방법.
  19. 제1항에 있어서, 상기 재생 케미컬을 제조하는 단계는
    상기 재생 케미컬 원료들을 지정된 비율로 혼합하는 단계; 및
    상기 재생 케미컬에 순정 케미컬을 추가하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 방법.
  20. 제19항에 있어서, 상기 순정 케미컬은 상기 재생 케미컬의 중량의 5wt% 내지 30wt%인 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 방법.
  21. 제1항에 있어서, 상기 재생 케미컬을 제조하는 단계 이후, 상기 재생 케미컬의 품질을 검사하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 방법.
  22. 제21항에 있어서, 상기 재생 케미컬의 품질을 검사하는 단계 이후, 상기 재생 케미컬의 품질이 기준 품질 이하일 경우, 상기 재생 케미컬은 수거된 상기 폐액으로 회수되는 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 방법.
  23. 적어도 하나의 박막 처리 장치로부터 수분, 파티클, 무기물 및 금속 및 서로 다른 유기물들을 포함하는 폐액을 수거하는 폐액 수거 저장 장치;
    수거된 상기 폐액을 예비 가열하여 기화되지 않고 잔류된 무기물 또는 유기물을 수거하기 위해 수거된 상기 폐액을 공급받는 예비 가열 장치;
    예비 가열된 폐액을 서로 다른 온도에서 가열하여 상기 폐액이 기화되는 과정에서 상기 폐액으로부터 재생 케미컬 원료들을 각각 추출하는 추출 장치;
    상기 재생 케미컬 원료들을 예비 가열하여 기화되지 않고 잔류된 무기물 또는 유기물을 수거하기 위해 상기 재생 케미컬 원료들을 상기 예비 가열 장치로 공급하는 재생 케미컬 원료 저장 탱크;추출된 상기 재생 케미컬 원료들을 분리 저장하는 저장 장치;
    저장된 상기 재생 케미컬 원료들에 포함된 잔류 파티클 및 금속을 필터링하는 필터 유닛;
    상기 재생 케미컬 원료들을 혼합하여 재생 케미컬을 제조하는 혼합 장치; 및
    상기 재생 케미컬에 포함된 불순물을 필터링하는 추가 필터 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 설비.
  24. 제23항에 있어서, 상기 폐액 수거 저장 장치는 상기 박막 처리 장치의 종류에 따라서 상기 폐액을 분리 수거하기 위한 적어도 하나의 폐액 수거 저장 탱크를 포함하는 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 설비.
  25. 삭제
  26. 제23항에 있어서, 상기 예비 가열 장치는 제1 폐액 저장 용량을 갖는 제1 폐액 저장 탱크와 상기 제1 폐액 저장 용량보다 큰 제2 폐액 저장 용량을 갖는 제2 폐액 저장 탱크를 구비한 폐액 저장 탱크를 포함하는 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 설비.
  27. 삭제
  28. 삭제
  29. 제23 항에 있어서, 상기 추출 장치는 상기 폐액내 포함된 재생 케미컬 원료들을 기체 상태로 분리하는 추출 유닛들;
    상기 추출 유닛들의 폐액을 서로 다른 온도로 가열하는 가열 유닛; 및
    상기 추출 유닛으로부터 추출된 기체 상태의 재생 케미컬 원료를 응축시키는 응축기를 포함하는 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 설비.
  30. 제29항에 있어서, 상기 추출 유닛들은 직렬 또는 병렬 방식으로 연결된 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 설비.
  31. 제29항에 있어서, 추출 유닛은 단일 종류의 재생 케미컬 원료를 추출하는 것 을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 설비.
  32. 제29항에 있어서, 상기 추출 유닛은 복수 종류의 재생 케미컬 원료들이 혼합된 혼합 재생 케미컬 원료들을 함께 추출하는 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 설비.
  33. 제29항에 있어서, 상기 응축기는
    상기 재생 케미컬의 불순물을 제거하여 순도를 향상시키기 위한 유수분리 장치;
    상기 응축된 재생 케미컬의 순도를 향상시키기 위해 상기 추출 장치로 상기 재생 케미컬을 순환시키는 순환 장치; 및
    상기 재생 케미컬을 저장 유닛으로 이송하는 이송 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 설비.
  34. 제29항에 있어서, 상기 응축기는 기화된 재생 케미컬의 순도를 향상시키기 위해 적어도 두 개가 직렬 방식으로 연결된 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 설비.
  35. 제33항에 있어서, 상기 유수분리장치는 수분 및 유기 불순물을 제거하기 위해 소각로 또는 상기 폐액 수거 저장장치와 연결되는 것을 특징으로 하는 재생 케 미컬 제조 설비.
  36. 제23항에 있어서, 상기 저장 장치로부터 추출된 각 재생 케미컬 원료들을 각각 저장하는 저장 유닛들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 설비.
  37. 제36항에 있어서, 상기 각 저장 유닛은
    추출된 상기 재생 케미컬 원료들 중 적어도 2 종류의 재생 케미컬 원료들이 혼합된 혼합 원료를 저장하는 혼합 원료 저장 탱크; 및
    추출된 상기 재생 케미컬 원료들 중 단일 원료를 저장하는 단일 원료 저장 탱크를 포함하는 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 설비.
  38. 삭제
  39. 삭제
  40. 제23항에 있어서, 상기 혼합 장치는
    상기 재생 케미컬 원료들을 저장하는 혼합 탱크; 및
    상기 재생 케미컬 원료들을 교반하는 교반기를 포함하는 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 설비.
  41. 제23항에 있어서, 상기 혼합 장치는 상기 재생 케미컬 원료에 첨가제를 공급하는 첨가제 공급 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 설비.
  42. 삭제
  43. 삭제
  44. 삭제
  45. 삭제
  46. 삭제
  47. 제23항에 있어서, 상기 혼합장치 및 상기 박막 가공설비를 직접 연결하는 연결 배관을 더 포함하며, 상기 연결 배관은 상기 재생 케미컬을 임시로 저장하는 버퍼 탱크 및 상기 재생 케미컬이 상기 박막 가공 설비에 공급되기 전에 잔류 파티클, 잔류 유기물, 잔류 무기물 및 금속 불순물을 추가로 필터링하는 상기 추가 필터 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 설비.
  48. 제47항에 있어서, 상기 버퍼 탱크는 상기 박막 처리 장치와 연통 된 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 설비.
  49. 제47항에 있어서, 상기 버퍼 탱크는 상기 재생 케미컬의 온도를 조절하는 온도 조절 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 설비.
  50. 제47항에 있어서, 상기 버퍼 탱크는 기준 품질 이하의 재생 케미컬을 상기 폐액 수거 저장 장치로 제공하기 위한 회수 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 설비.
  51. 제23항에 있어서, 상기 혼합 장치로부터 제공되는 재생 케미컬의 품질을 검사하는 품질 검사 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 재생 케미컬 제조 설비.
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