JP4645449B2 - 現像装置 - Google Patents
現像装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4645449B2 JP4645449B2 JP2005515016A JP2005515016A JP4645449B2 JP 4645449 B2 JP4645449 B2 JP 4645449B2 JP 2005515016 A JP2005515016 A JP 2005515016A JP 2005515016 A JP2005515016 A JP 2005515016A JP 4645449 B2 JP4645449 B2 JP 4645449B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- filtrate
- developer
- ultrafiltration
- tank
- ultrafiltration filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000011161 development Methods 0.000 title claims description 22
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 claims description 172
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 claims description 118
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 84
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 claims description 78
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 55
- 238000011001 backwashing Methods 0.000 claims description 50
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 46
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 claims description 41
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims description 10
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 20
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 19
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 7
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000012510 hollow fiber Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 230000008094 contradictory effect Effects 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000001471 micro-filtration Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D61/00—Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
- B01D61/14—Ultrafiltration; Microfiltration
- B01D61/145—Ultrafiltration
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D61/00—Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
- B01D61/14—Ultrafiltration; Microfiltration
- B01D61/145—Ultrafiltration
- B01D61/146—Ultrafiltration comprising multiple ultrafiltration steps
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D65/00—Accessories or auxiliary operations, in general, for separation processes or apparatus using semi-permeable membranes
- B01D65/08—Prevention of membrane fouling or of concentration polarisation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/3042—Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations
- G03F7/3071—Process control means, e.g. for replenishing
Description
2)前記現像液を濾液と濃縮液とに分離する複数個の限外濾過フィルタ、
3)前記現像液循環タンクから一部を取り出された現像液を収容する限外濾過濃縮液タンクと、前記限外濾過濃縮液タンク内の現像液を前記限外濾過フィルタに送る手段と、前記限外濾過フィルタにおいて分離された濃縮液を前記限外濾過濃縮液タンクに戻す手段と、前記限外濾過フィルタにおいて分離された濾液を該濾液を収容する濾液タンクを経て前記現像液循環系に戻す手段とを備える濾液・濃縮液循環系、
4)前記複数個の限外濾過フィルタにおいて分離された濾液の一部を濾過フィルタの逆洗浄液として貯蔵する逆洗浄タンクと、前記逆洗浄タンクから前記複数個の限外濾過フィルタの一部に逆洗浄液を送液する手段とを備える逆洗浄液送液系、及び
5)現像装置の連続稼動時において前記限外濾過濃縮液タンク内の現像液の一定量を定期的に廃棄する手段、及び現像装置の連続稼動時において前記現像液循環タンクに定期的に現像新液の一定量を供給する手段を具備し、
前記5)の手段によって現像液の現像力の調整が可能であることを特徴とする現像装置。
[図2]本発明の一実施形態に係る現像装置のフロー図である。
[図3]本発明の他の実施形態に係る、逆洗浄用管路を必要としない現像装置のフロー図である。
[図4]逆洗浄機構のタイムチャートの説明図である。
[図5]逆洗浄・逆流機構のタイムチャートの説明図である。
Claims (10)
- 1)現像処理が行われる現像槽と、現像液を収容する現像液循環タンクと、前記現像液循環タンク内の現像液を前記現像槽に送る手段と、前記現像槽において現像処理に使用された後の現像液を前記現像液循環タンクに戻す手段とを備える現像液循環系、
2)前記現像液を濾液と濃縮液とに分離する複数個の限外濾過フィルタ、
3)前記現像液循環タンクから一部を取り出された現像液を収容する限外濾過濃縮液タンクと、前記限外濾過濃縮液タンク内の現像液を前記限外濾過フィルタに送る手段と、前記限外濾過フィルタにおいて分離された濃縮液を前記限外濾過濃縮液タンクに戻す手段と、前記限外濾過フィルタにおいて分離された濾液を該濾液を収容する濾液タンクを経て前記現像液循環系に戻す手段とを備える濾液・濃縮液循環系、
4)前記限外濾過フィルタにおいて分離された濾液の一部を濾過フィルタの逆洗浄液として貯蔵する逆洗浄タンクと、前記逆洗浄タンクから前記複数個の限外濾過フィルタの一部に逆洗浄液を送液する手段とを備える逆洗浄液送液系、及び
5)現像装置の連続稼動時において前記限外濾過濃縮液タンク内の現像液の一定量を定期的に廃棄する手段、及び現像装置の連続稼動時において前記現像液循環タンクに定期的に現像新液の一定量を供給する手段を具備し、
前記5)の手段によって現像液の現像力の調整が可能であることを特徴とする現像装置。 - 前記限外濾過フィルタからの濾液の流量を調節するための調整バルブ、前記限外濾過フィルタからの濾液の流量を測定する流量計、前記限外濾過フィルタからの濃縮液の流量を測定する流量計、前記濾液流量と濃縮液流量の比を最適値に一定に保つように自動調節する定透液率モード機構を更に具備する請求項1に記載の現像装置。
- 前記限外濾過フィルタからの濾液の流量を調節するための調整バルブ、前記限外濾過フィルタからの濾液の流量を測定するための流量計、及び前記濾液流量を最適値に一定に保つように自動調節する定濾液流量モード機構を更に具備する請求項1または2に記載の現像装置。
- 前記限外濾過フィルタからの濾液の流量を調節するための調整バルブ、前記限外濾過フィルタからの濾液の圧力を測定するための圧力計、及び前記限外濾過フィルタからの濾液の圧力を最適値に一定に保つように自動調節する定濾液圧力モード機構を更に具備する請求項1乃至3のいずれかに記載の現像装置。
- 前記逆洗浄液送液系は、前記逆洗浄液の流量を測定する流量計及び前記逆洗浄液の圧力を測定する圧力計を備える請求項1乃至4のいずれかに記載の現像装置。
- 前記逆洗浄液送液系は、前記流量計又は圧力計のいずれかからフィードバックされた測定値に基づき、前記逆洗浄液の流量または圧力を設定値に維持するように制御する逆洗浄制御システムを備える請求項5に記載の現像装置。
- 前記逆洗浄制御システムは、逆洗浄時間を設定することが可能である請求項6に記載の現像装置。
- 前記限外濾過フィルタの上流の濃縮液循環経路にオートバルブを備え、前記逆洗浄制御システムは、前記バルブを逆洗浄時にバルブ閉状態またはバルブ開状態を選択可能である請求項6または7に記載の現像装置。
- 第1個目の限外濾過フィルタからの濾液を他の限外濾過フィルタの濾液とは独立に、前記逆洗浄タンクに貯蔵し、貯蔵した濾液を第1個目の限外濾過フィルタの逆洗浄液として用い、第2個目以降の限外濾過フィルタを同様にして順次逆洗浄する機構を具備し、連続稼動時には複数個の限外濾過フィルタが定期的に順次逆洗浄される請求項1乃至8のいずれかに記載の現像装置。
- 第1個目の限外濾過フィルタ内の濃縮液の流れを通常状態で流れる方向とは反対の方向へ逆流させて濃縮液の流れを変化させることで限外濾過フィルタ内を洗浄し、第2個目以降の限外濾過フィルタについて順次同様にして濃縮液の流れを逆流させる機構を具備し、連続稼動時には複数個の限外濾過フィルタについて順次濃縮液の流れを逆流させる請求項4乃至8のいずれか1に記載の現像装置。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003367017 | 2003-10-28 | ||
JP2003367017 | 2003-10-28 | ||
JP2004290909 | 2004-10-04 | ||
JP2004290909 | 2004-10-04 | ||
PCT/JP2004/015920 WO2005040930A1 (ja) | 2003-10-28 | 2004-10-27 | 現像装置、現像方法、及び現像液循環方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010230491A Division JP2011018943A (ja) | 2003-10-28 | 2010-10-13 | 光学素子の現像方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2005040930A1 JPWO2005040930A1 (ja) | 2007-04-19 |
JP4645449B2 true JP4645449B2 (ja) | 2011-03-09 |
Family
ID=34525466
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005515016A Expired - Fee Related JP4645449B2 (ja) | 2003-10-28 | 2004-10-27 | 現像装置 |
JP2010230491A Pending JP2011018943A (ja) | 2003-10-28 | 2010-10-13 | 光学素子の現像方法 |
JP2011079095A Expired - Fee Related JP5182391B2 (ja) | 2003-10-28 | 2011-03-31 | 光学素子の現像装置 |
Family Applications After (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010230491A Pending JP2011018943A (ja) | 2003-10-28 | 2010-10-13 | 光学素子の現像方法 |
JP2011079095A Expired - Fee Related JP5182391B2 (ja) | 2003-10-28 | 2011-03-31 | 光学素子の現像装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (3) | JP4645449B2 (ja) |
KR (1) | KR101111455B1 (ja) |
TW (1) | TWI371651B (ja) |
WO (1) | WO2005040930A1 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101111455B1 (ko) * | 2003-10-28 | 2012-03-13 | 도판 인사츠 가부시키가이샤 | 현상장치, 현상방법, 및 현상액 순환방법 |
KR100928175B1 (ko) | 2005-05-30 | 2009-11-25 | 파나소닉 주식회사 | 습식 프로세싱 장치 및 디스플레이 패널 제조 방법 |
US8632682B2 (en) | 2005-06-23 | 2014-01-21 | Ben-Gurion University Of The Negev Research And Development Authority | Method and apparatus for repositioning flow elements in a tapered flow structure |
JP5211431B2 (ja) * | 2006-03-10 | 2013-06-12 | 凸版印刷株式会社 | 現像装置 |
JP4998416B2 (ja) * | 2008-09-12 | 2012-08-15 | 凸版印刷株式会社 | 現像液濾過装置 |
JP5477531B2 (ja) * | 2008-12-22 | 2014-04-23 | 凸版印刷株式会社 | 現像装置および現像方法 |
JP5477532B2 (ja) * | 2008-12-22 | 2014-04-23 | 凸版印刷株式会社 | 現像装置および現像方法 |
JP5287459B2 (ja) * | 2009-04-16 | 2013-09-11 | 凸版印刷株式会社 | 限外濾過フィルタの洗浄方法及び限外濾過フィルタを用いた現像装置 |
JP5451515B2 (ja) * | 2010-05-06 | 2014-03-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 薬液供給システム、これを備える基板処理装置、およびこの基板処理装置を備える塗布現像システム |
TWI633919B (zh) * | 2017-04-05 | 2018-09-01 | 力煒奈米科技股份有限公司 | 過濾濃縮方法 |
CN110668529A (zh) * | 2018-07-02 | 2020-01-10 | 陈俊吉 | 显影液再生系统及其正负型光刻胶分离装置 |
CN110703565B (zh) * | 2019-11-01 | 2022-11-25 | 广东威迪科技股份有限公司 | 一种线路板显影液循环回收系统 |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6331591A (ja) * | 1986-07-23 | 1988-02-10 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | フオトレジスト廃液処理方法 |
JPH021864A (ja) * | 1988-06-10 | 1990-01-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版処理装置 |
JPH0343729U (ja) * | 1989-09-07 | 1991-04-24 | ||
JPH07168369A (ja) * | 1993-12-15 | 1995-07-04 | Mitsubishi Chem Corp | 感光性平版印刷版用現像機 |
JPH07234516A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-09-05 | Mitsubishi Chem Corp | 感光性材料用現像液の再生方法及び感光性材料の現像装置 |
JPH08123039A (ja) * | 1994-10-18 | 1996-05-17 | Konica Corp | 感光性平版印刷版の処理方法 |
JPH08234443A (ja) * | 1994-12-27 | 1996-09-13 | Mitsubishi Chem Corp | 顔料含有非銀塩感光性材料用現像液の処理方法、その処理装置及び自動現像装置 |
JPH1076143A (ja) * | 1996-09-05 | 1998-03-24 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 濾過処理方法及び濾過装置 |
JPH10151328A (ja) * | 1996-11-26 | 1998-06-09 | Maezawa Ind Inc | 膜を用いた濾過方法 |
JPH11212274A (ja) * | 1998-01-29 | 1999-08-06 | Toyobo Co Ltd | 感光性樹脂版用現像液の処理方法および処理装置 |
JP2001502847A (ja) * | 1996-10-23 | 2001-02-27 | ジャブロンスキー、ジュリアス・ジェイムズ | フォトレジスト現像液及び膜剥し液を回収するための装置及び方法 |
JP2002346348A (ja) * | 2001-05-28 | 2002-12-03 | Kurita Water Ind Ltd | 膜濾過装置 |
JP2003167358A (ja) * | 2001-11-29 | 2003-06-13 | Nagase & Co Ltd | レジスト剥離廃液の再生装置及び再生方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101111455B1 (ko) * | 2003-10-28 | 2012-03-13 | 도판 인사츠 가부시키가이샤 | 현상장치, 현상방법, 및 현상액 순환방법 |
-
2004
- 2004-10-27 KR KR1020057012944A patent/KR101111455B1/ko active IP Right Grant
- 2004-10-27 TW TW093132556A patent/TWI371651B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-10-27 JP JP2005515016A patent/JP4645449B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-10-27 WO PCT/JP2004/015920 patent/WO2005040930A1/ja active Application Filing
-
2010
- 2010-10-13 JP JP2010230491A patent/JP2011018943A/ja active Pending
-
2011
- 2011-03-31 JP JP2011079095A patent/JP5182391B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6331591A (ja) * | 1986-07-23 | 1988-02-10 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | フオトレジスト廃液処理方法 |
JPH021864A (ja) * | 1988-06-10 | 1990-01-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版処理装置 |
JPH0343729U (ja) * | 1989-09-07 | 1991-04-24 | ||
JPH07168369A (ja) * | 1993-12-15 | 1995-07-04 | Mitsubishi Chem Corp | 感光性平版印刷版用現像機 |
JPH07234516A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-09-05 | Mitsubishi Chem Corp | 感光性材料用現像液の再生方法及び感光性材料の現像装置 |
JPH08123039A (ja) * | 1994-10-18 | 1996-05-17 | Konica Corp | 感光性平版印刷版の処理方法 |
JPH08234443A (ja) * | 1994-12-27 | 1996-09-13 | Mitsubishi Chem Corp | 顔料含有非銀塩感光性材料用現像液の処理方法、その処理装置及び自動現像装置 |
JPH1076143A (ja) * | 1996-09-05 | 1998-03-24 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 濾過処理方法及び濾過装置 |
JP2001502847A (ja) * | 1996-10-23 | 2001-02-27 | ジャブロンスキー、ジュリアス・ジェイムズ | フォトレジスト現像液及び膜剥し液を回収するための装置及び方法 |
JPH10151328A (ja) * | 1996-11-26 | 1998-06-09 | Maezawa Ind Inc | 膜を用いた濾過方法 |
JPH11212274A (ja) * | 1998-01-29 | 1999-08-06 | Toyobo Co Ltd | 感光性樹脂版用現像液の処理方法および処理装置 |
JP2002346348A (ja) * | 2001-05-28 | 2002-12-03 | Kurita Water Ind Ltd | 膜濾過装置 |
JP2003167358A (ja) * | 2001-11-29 | 2003-06-13 | Nagase & Co Ltd | レジスト剥離廃液の再生装置及び再生方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101111455B1 (ko) | 2012-03-13 |
WO2005040930A1 (ja) | 2005-05-06 |
TWI371651B (en) | 2012-09-01 |
JPWO2005040930A1 (ja) | 2007-04-19 |
KR20060123671A (ko) | 2006-12-04 |
JP5182391B2 (ja) | 2013-04-17 |
JP2011141563A (ja) | 2011-07-21 |
JP2011018943A (ja) | 2011-01-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5182391B2 (ja) | 光学素子の現像装置 | |
CN104968421B (zh) | 用于清洁膜的系统及使用其清洁膜的方法 | |
CN103492054B (zh) | 膜组件的洗涤方法 | |
KR20140054670A (ko) | 막오염 지수를 이용한 막여과 공정 시스템 및 그 방법 | |
JP2001120963A (ja) | 膜の洗浄方法 | |
JP6607319B2 (ja) | 分離膜モジュールの詰まり箇所特定プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体、造水システム及び造水方法 | |
JP4696593B2 (ja) | 限外濾過フィルタの使用方法、及び限外濾過フィルタ再生機構付ウェット現像装置 | |
EP2745916B1 (en) | Method of cleaning a liquid fluid filter | |
JP5588099B2 (ja) | 膜ろ過処理法及び膜ろ過処理装置 | |
JP2012254389A (ja) | 水処理システム及び水処理システムの洗浄制御方法 | |
JP6299548B2 (ja) | 濾過システム | |
KR100613401B1 (ko) | 컬러 필터용 현상 시스템 | |
US20050224412A1 (en) | Water treatment system having upstream control of filtrate flowrate and method for operating same | |
JP5287459B2 (ja) | 限外濾過フィルタの洗浄方法及び限外濾過フィルタを用いた現像装置 | |
JPH10216486A (ja) | 膜分離装置の運転制御装置 | |
JP2011078889A (ja) | 濾過部材洗浄システム | |
JP6299547B2 (ja) | 濾過システム | |
CN100549837C (zh) | 显影装置、显影方法及显影液循环方法 | |
CN115297950B (zh) | 造水装置的洗涤故障判定方法和洗涤故障判定程序 | |
JP2016067966A (ja) | 洗浄方法 | |
JP2009258146A (ja) | 現像装置および現像液循環方法 | |
JP4804097B2 (ja) | 水浄化システムの連続運転方法 | |
JP5477532B2 (ja) | 現像装置および現像方法 | |
KR102010482B1 (ko) | 여과 시스템 및 중공사막 모듈의 세정 방법 | |
JP3514821B2 (ja) | 水浄化システムの運転方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070920 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100323 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100520 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100713 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101013 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20101018 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101109 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101122 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131217 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |