JP2001286734A - 塩素化有機化合物の分解方法および燃焼排ガスの処理方法 - Google Patents
塩素化有機化合物の分解方法および燃焼排ガスの処理方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ダイオキシン類の再合成の問題や触媒層の加熱
源であるスチームの使用量の削減の観点から要求される
２５０℃以下（好ましくは２００℃以下）の反応温度を
採用し得る、塩素化有機化合物の分解方法を提供する。 【解決手段】塩素化有機化合物含有ガスを触媒と接触さ
せる塩素化有機化合物の分解方法であって、ＳｉＯ2−
ＷＯ3−ＴｉＯ2３元系複合酸化物担体に活性成分が担持
された触媒を使用する。
源であるスチームの使用量の削減の観点から要求される
２５０℃以下（好ましくは２００℃以下）の反応温度を
採用し得る、塩素化有機化合物の分解方法を提供する。 【解決手段】塩素化有機化合物含有ガスを触媒と接触さ
せる塩素化有機化合物の分解方法であって、ＳｉＯ2−
ＷＯ3−ＴｉＯ2３元系複合酸化物担体に活性成分が担持
された触媒を使用する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、塩素化有機化合物
の分解方法および燃焼排ガスの処理方法に関するもので
あり、詳しくは、低温度でダイオキシン等の塩素化有機
化合物を高効率で分解することが出来る塩素化有機化合
物の分解方法および当該分解方法を特定条件下に利用す
る燃焼排ガスの処理方法に関するものである。
の分解方法および燃焼排ガスの処理方法に関するもので
あり、詳しくは、低温度でダイオキシン等の塩素化有機
化合物を高効率で分解することが出来る塩素化有機化合
物の分解方法および当該分解方法を特定条件下に利用す
る燃焼排ガスの処理方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】都市ゴミや産業廃棄物を処理する焼却炉
などから排出される燃焼排ガスは、各種の有害成分を含
有しているが、毒性の強いダイオキシンとその前駆体で
ある芳香族塩素化合物などの塩素化有機化合物および光
化学スモッグの原因物質である窒素酸化物の除去は、特
に重要である。
などから排出される燃焼排ガスは、各種の有害成分を含
有しているが、毒性の強いダイオキシンとその前駆体で
ある芳香族塩素化合物などの塩素化有機化合物および光
化学スモッグの原因物質である窒素酸化物の除去は、特
に重要である。
【０００３】燃焼排ガス中の塩素化有機化合物の除去方
法としては、各種の方法が知られているが、特に接触分
解法は、５００℃以下の条件で塩素化有機化合物を分解
する優れた方法である。ところで、塩素化有機化合物の
接触分解は、３００℃以上の分解温度では一旦分解され
たダイオキシン等が再生成するため、２５０℃以下の温
度で行うことが要求されている。
法としては、各種の方法が知られているが、特に接触分
解法は、５００℃以下の条件で塩素化有機化合物を分解
する優れた方法である。ところで、塩素化有機化合物の
接触分解は、３００℃以上の分解温度では一旦分解され
たダイオキシン等が再生成するため、２５０℃以下の温
度で行うことが要求されている。
【０００４】更に近年、都市ゴミ焼却設備では、ゴミ焼
却時に発生した熱を回収する目的で得たスチームで発電
し、都市ゴミ焼却設備に電力供給すると共に余剰電力の
売電が行なわれている。ところで、塩素化有機化合物分
解用触媒層の反応温度の維持に上記のスチームが利用さ
れている場合、反応温度が高い程に多量のスチームが消
費される不利益がある。従って、斯かる観点からも可及
的に低い反応温度、具体的には２００℃以下の反応温度
での運転が要求されている。
却時に発生した熱を回収する目的で得たスチームで発電
し、都市ゴミ焼却設備に電力供給すると共に余剰電力の
売電が行なわれている。ところで、塩素化有機化合物分
解用触媒層の反応温度の維持に上記のスチームが利用さ
れている場合、反応温度が高い程に多量のスチームが消
費される不利益がある。従って、斯かる観点からも可及
的に低い反応温度、具体的には２００℃以下の反応温度
での運転が要求されている。
【０００５】一方、塩素化有機化合物の接触分解は、酸
化反応と考えられ、反応温度が低下すると反応速度が必
然的に低下する。従って、より低い温度で接触分解を行
って所定の分解率を得ようとした場合は、触媒量の増加
や単位時間当たりの処理ガス量の低下が必要となる。し
かしながら、都市ゴミ焼却設備では、処理ガス量の低下
が困難なため、処理装置が巨大化するという問題があ
る。
化反応と考えられ、反応温度が低下すると反応速度が必
然的に低下する。従って、より低い温度で接触分解を行
って所定の分解率を得ようとした場合は、触媒量の増加
や単位時間当たりの処理ガス量の低下が必要となる。し
かしながら、都市ゴミ焼却設備では、処理ガス量の低下
が困難なため、処理装置が巨大化するという問題があ
る。
【０００６】一方、触媒の担体としては、一般的に、Ｔ
ｉＯ2、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ 2等が使用できる
が、塩素化有機化合物分解用触媒の場合は、燃焼排ガス
中にＳＯ2が含有されている場合が多いため、ＳＯ2に耐
性を有するＴｉＯ2が一般的に使用される。例えば、特
許第２６３３３１６号公報においてはＴｉＯ2担体に活
性成分Ｖ2Ｏ5とＷＯ3を担持した触媒が使用され、特許
第２９１６２５９号公報においては、担体として、Ｔ
ｉ、Ｓｉ、Ｚｒの２元または３元複合酸化物を使用する
ことにより活性成分の分散性を向上させて触媒性能の向
上を図っている。
ｉＯ2、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ 2等が使用できる
が、塩素化有機化合物分解用触媒の場合は、燃焼排ガス
中にＳＯ2が含有されている場合が多いため、ＳＯ2に耐
性を有するＴｉＯ2が一般的に使用される。例えば、特
許第２６３３３１６号公報においてはＴｉＯ2担体に活
性成分Ｖ2Ｏ5とＷＯ3を担持した触媒が使用され、特許
第２９１６２５９号公報においては、担体として、Ｔ
ｉ、Ｓｉ、Ｚｒの２元または３元複合酸化物を使用する
ことにより活性成分の分散性を向上させて触媒性能の向
上を図っている。
【０００７】そして、特許第２６３３３１６号公報にお
いては、２７０〜２９０℃の反応温度が採用されている
が、斯かる温度は十分に低温とは言い難く、また、特許
第２９１６２５９号公報においては、温度が２００℃で
ＳＶが２０００ｈｒ-1の反応条件が採用されており、多
量の触媒を使用する必要がある。
いては、２７０〜２９０℃の反応温度が採用されている
が、斯かる温度は十分に低温とは言い難く、また、特許
第２９１６２５９号公報においては、温度が２００℃で
ＳＶが２０００ｈｒ-1の反応条件が採用されており、多
量の触媒を使用する必要がある。
【０００８】上述の様に、従来の塩素化有機化合物分解
用触媒は、何れも、低温条件で且つコンパクトな処理装
置で使用するには十分に満足し得る性能ではない。
用触媒は、何れも、低温条件で且つコンパクトな処理装
置で使用するには十分に満足し得る性能ではない。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記実情に
鑑みなされたものであり、その目的は、ダイオキシン類
の再合成の問題や触媒層の加熱源であるスチームの使用
量の削減の観点から要求される２５０℃以下（好ましく
は２００℃以下）の反応温度を採用し得る、塩素化有機
化合物の分解方法を提供することにある。
鑑みなされたものであり、その目的は、ダイオキシン類
の再合成の問題や触媒層の加熱源であるスチームの使用
量の削減の観点から要求される２５０℃以下（好ましく
は２００℃以下）の反応温度を採用し得る、塩素化有機
化合物の分解方法を提供することにある。
【００１０】また、本発明の他の目的は、上記の塩素化
有機化合物の分解方法を特定条件下に利用した燃焼排ガ
スの処理方法であって、しかも、窒素酸化物の分解のた
めに排ガス中に導入されたアンモニアと排ガス中の二酸
化イオウとによって生成する酸性硫酸アンモニウムの触
媒表面への析出を防止し得る様に改良された燃焼排ガス
の処理方法を提供することにある。
有機化合物の分解方法を特定条件下に利用した燃焼排ガ
スの処理方法であって、しかも、窒素酸化物の分解のた
めに排ガス中に導入されたアンモニアと排ガス中の二酸
化イオウとによって生成する酸性硫酸アンモニウムの触
媒表面への析出を防止し得る様に改良された燃焼排ガス
の処理方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明者は、種々検討を
重ねた結果、次の様な種々の知見を得た。すなわち、Ｓ
ｉＯ2とＷＯ3が高分散しているＳｉＯ2−ＷＯ3−ＴｉＯ
2３元系複合酸化物担体に活性成分が担持された触媒
は、塩素化有機化合物の分解性能が著しく高い。就中、
２００℃以下の低い反応温度において高い分解性能を示
す。しかも、斯かる担体は、耐ＳＯ2性が高いため、酸
性硫安生成条件下で使用しても性能劣化が小さい。更
に、特定性能の２種類の触媒を特定条件下に使用するな
らば、酸性硫酸アンモニウムの触媒表面への析出を防止
し得る。
重ねた結果、次の様な種々の知見を得た。すなわち、Ｓ
ｉＯ2とＷＯ3が高分散しているＳｉＯ2−ＷＯ3−ＴｉＯ
2３元系複合酸化物担体に活性成分が担持された触媒
は、塩素化有機化合物の分解性能が著しく高い。就中、
２００℃以下の低い反応温度において高い分解性能を示
す。しかも、斯かる担体は、耐ＳＯ2性が高いため、酸
性硫安生成条件下で使用しても性能劣化が小さい。更
に、特定性能の２種類の触媒を特定条件下に使用するな
らば、酸性硫酸アンモニウムの触媒表面への析出を防止
し得る。
【００１２】本発明は、上記の知見に基づき完成された
ものであり、その第１の要旨は、塩素化有機化合物含有
ガスを触媒と接触させる塩素化有機化合物の分解方法で
あって、ＳｉＯ2−ＷＯ3−ＴｉＯ2３元系複合酸化物担
体に活性成分が担持された触媒を使用することを特徴と
する塩素化有機化合物の分解方法に存する。
ものであり、その第１の要旨は、塩素化有機化合物含有
ガスを触媒と接触させる塩素化有機化合物の分解方法で
あって、ＳｉＯ2−ＷＯ3−ＴｉＯ2３元系複合酸化物担
体に活性成分が担持された触媒を使用することを特徴と
する塩素化有機化合物の分解方法に存する。
【００１３】そして、本発明の第２の要旨は、塩素化有
機化合物、二酸化イオウ及び窒素酸化物を含有する燃焼
排ガスの処理方法であって、次の（ａ）〜（ｄ）の条件
を満足することを特徴とする燃焼排ガスの処理方法に存
する。
機化合物、二酸化イオウ及び窒素酸化物を含有する燃焼
排ガスの処理方法であって、次の（ａ）〜（ｄ）の条件
を満足することを特徴とする燃焼排ガスの処理方法に存
する。
【００１４】（ａ）触媒として、塩素化有機化合物分解
能とアンモニア存在下における窒素酸化物分解能とを有
し且つ以下に規定する二酸化イオウの酸化転化率が１．
３%以下の低酸化性能触媒（Ｘ）と、ＳｉＯ2−ＷＯ3−
ＴｉＯ2３元系複合酸化物担体に活性成分が担持され、
しかも、塩素化有機化合物分解能を有し且つ以下に規定
する二酸化イオウの酸化転化率が３．０%以上の高酸化
性能触媒（Ｙ）との２種類を使用する。
能とアンモニア存在下における窒素酸化物分解能とを有
し且つ以下に規定する二酸化イオウの酸化転化率が１．
３%以下の低酸化性能触媒（Ｘ）と、ＳｉＯ2−ＷＯ3−
ＴｉＯ2３元系複合酸化物担体に活性成分が担持され、
しかも、塩素化有機化合物分解能を有し且つ以下に規定
する二酸化イオウの酸化転化率が３．０%以上の高酸化
性能触媒（Ｙ）との２種類を使用する。
【００１５】＜二酸化イオウの酸化転化率＞圧力：常
圧、温度：２５０℃、ＳＶ（空間速度）：１８５０Ｈｒ
-1、触媒量：４５０ｍｌの条件下、Ｏ2１０乾体積%，Ｓ
Ｏ2５００ｐｐｍ，Ｈ2Ｏ：１０体積%，Ｎ2バランス量の
組成のガスを触媒が充填された反応管に供給し、反応管
出口のＳＯ3濃度とトータルＳＯXの濃度を求め、次式に
より二酸化イオウの酸化転化率（%）を算出する。
圧、温度：２５０℃、ＳＶ（空間速度）：１８５０Ｈｒ
-1、触媒量：４５０ｍｌの条件下、Ｏ2１０乾体積%，Ｓ
Ｏ2５００ｐｐｍ，Ｈ2Ｏ：１０体積%，Ｎ2バランス量の
組成のガスを触媒が充填された反応管に供給し、反応管
出口のＳＯ3濃度とトータルＳＯXの濃度を求め、次式に
より二酸化イオウの酸化転化率（%）を算出する。
【００１６】
【数２】 （出口ＳＯ3濃度／出口トータルＳＯX）×１００
【００１７】（ｂ）燃焼排ガスと低酸化性能触媒および
高酸化性能触媒との各接触工程を任意の順序で且つ１０
０〜２５０℃の温度範囲で行う。
高酸化性能触媒との各接触工程を任意の順序で且つ１０
０〜２５０℃の温度範囲で行う。
【００１８】（ｃ）低酸化性能触媒との接触工程を先行
させる場合、低酸化性能触媒との接触工程に流入する燃
焼排ガス中にアンモニアを導入するが、その量は当該工
程から流出する燃焼排ガス中のアンモニア濃度が２０ｐ
ｐｍ以下となる量に調節する。
させる場合、低酸化性能触媒との接触工程に流入する燃
焼排ガス中にアンモニアを導入するが、その量は当該工
程から流出する燃焼排ガス中のアンモニア濃度が２０ｐ
ｐｍ以下となる量に調節する。
【００１９】（ｄ）高酸化性能触媒との接触工程を先行
させる場合、低酸化性能触媒との接触工程に流入する燃
焼排ガス中にアンモニアを導入する。
させる場合、低酸化性能触媒との接触工程に流入する燃
焼排ガス中にアンモニアを導入する。
【００２０】
【発明の実施の形態】先ず、本発明に係る塩素化有機化
合物の分解方法について説明する。この発明において
は、塩素化有機化合物分解用触媒として、ＳｉＯ2−Ｗ
Ｏ3−ＴｉＯ2３元系複合酸化物担体に活性成分が担持さ
れた触媒を使用する。上記のＳｉＯ2およびＷＯ3は特に
非晶質であることが好ましい。すなわち、このことは、
Ｘ線回折チャートにおいて、ＳｉＯ2およびＷＯ3の結晶
を示すピークが存在しないことを意味する。
合物の分解方法について説明する。この発明において
は、塩素化有機化合物分解用触媒として、ＳｉＯ2−Ｗ
Ｏ3−ＴｉＯ2３元系複合酸化物担体に活性成分が担持さ
れた触媒を使用する。上記のＳｉＯ2およびＷＯ3は特に
非晶質であることが好ましい。すなわち、このことは、
Ｘ線回折チャートにおいて、ＳｉＯ2およびＷＯ3の結晶
を示すピークが存在しないことを意味する。
【００２１】ＳｉＯ2−ＷＯ3−ＴｉＯ2３元系複合酸化
物のチタン源は、塩化チタン、硫酸チタニル、メタチタ
ン酸などから選択することが出来る。ケイ素源として
は、コロイド状シリカ、水ガラス、四塩化ケイ素などの
無機系ケイ素化合物およびテトラエチルシリケート等の
有機系ケイ素化合物から選択することが出来る。そし
て、ＳｉＯ2−ＷＯ3−ＴｉＯ2３元系複合酸化物は、上
記の様なチタン源とケイ素源から得られ、例えば、Ｔｉ
Ｏ2含量が２０〜５０重量％の含水チタン酸（ＴｉＯ2の
水和物）とシリカゾル及び可溶性タングステン化合物と
を所定割合で混合し、十分に熟成させ後に濾過し、得ら
れたケーキを乾燥して焼成することにより得ることが出
来る。
物のチタン源は、塩化チタン、硫酸チタニル、メタチタ
ン酸などから選択することが出来る。ケイ素源として
は、コロイド状シリカ、水ガラス、四塩化ケイ素などの
無機系ケイ素化合物およびテトラエチルシリケート等の
有機系ケイ素化合物から選択することが出来る。そし
て、ＳｉＯ2−ＷＯ3−ＴｉＯ2３元系複合酸化物は、上
記の様なチタン源とケイ素源から得られ、例えば、Ｔｉ
Ｏ2含量が２０〜５０重量％の含水チタン酸（ＴｉＯ2の
水和物）とシリカゾル及び可溶性タングステン化合物と
を所定割合で混合し、十分に熟成させ後に濾過し、得ら
れたケーキを乾燥して焼成することにより得ることが出
来る。
【００２２】上記の非晶質のＷＯ3は、具体的には、Ｔ
ｉＯ2に高分散して存在していると考えられる。更に、
非晶質のＳｉＯ2も微粒子状態で高分散していると考え
られる。そして、次の様な利点をもたらす。
ｉＯ2に高分散して存在していると考えられる。更に、
非晶質のＳｉＯ2も微粒子状態で高分散していると考え
られる。そして、次の様な利点をもたらす。
【００２３】すなわち、特許第２９１６２５９号明細書
にも記載されている様に、ＳｉＯ2−ＴｉＯ2２元複合酸
化物の耐ＳＯ2性が高いため、当該複合酸化物担体に活
性成分を担持した触媒は、ＴｉＯ2担体に同一の活性成
分を担持した触媒に比し、ＳＯ2とＮＨ3が含有された排
ガスを２５０℃以下の温度で処理する場合の酸性硫安に
よる性能低下は低減する。ところが、斯かる効果を大き
くするためにＳｉＯ2量を単純に増加させた場合は、酸
化活性の低下を招き、塩素化有機化合物の分解能の絶対
値が低下する。しかしながら、本発明者らの検討の結果
によれば、後述の様にＷＯ3が高分散しているＴｉＯ2に
ＳｉＯ2を高分散させる場合は、ＳｉＯ2の含有量によっ
て触媒の酸化活性は低下せず、むしろ、固体酸量の増加
に伴って脱硝性能が向上する。
にも記載されている様に、ＳｉＯ2−ＴｉＯ2２元複合酸
化物の耐ＳＯ2性が高いため、当該複合酸化物担体に活
性成分を担持した触媒は、ＴｉＯ2担体に同一の活性成
分を担持した触媒に比し、ＳＯ2とＮＨ3が含有された排
ガスを２５０℃以下の温度で処理する場合の酸性硫安に
よる性能低下は低減する。ところが、斯かる効果を大き
くするためにＳｉＯ2量を単純に増加させた場合は、酸
化活性の低下を招き、塩素化有機化合物の分解能の絶対
値が低下する。しかしながら、本発明者らの検討の結果
によれば、後述の様にＷＯ3が高分散しているＴｉＯ2に
ＳｉＯ2を高分散させる場合は、ＳｉＯ2の含有量によっ
て触媒の酸化活性は低下せず、むしろ、固体酸量の増加
に伴って脱硝性能が向上する。
【００２４】また、触媒の製造においては、担体に対し
て活性成分を高分散させるため、原料として水溶性の塩
を使用するが、最終的に安定した酸化物とするため、必
ず焼成処理する。更に、成形体とする場合は、その強度
向上のために焼成処理する。しかも、触媒の使用時（接
触反応時）は常時加熱処理する。この様に、触媒にとっ
ては加熱処理は避けられず、それにより、担体の結晶化
が進行する。そして、担体の結晶化が進行した場合は、
活性成分の凝縮が起こり、その分散状態が悪化し、触媒
性能の低下が惹起される。ところが、ＷＯ3が高分散し
たＴｉＯ2担体は、上記の様に、加熱による結晶化、す
なわち、触媒性能の低下が抑制される。換言すれば、触
媒性能が相対的に向上する。斯かる効果は、特に接触反
応の温度が低い場合に顕著である。
て活性成分を高分散させるため、原料として水溶性の塩
を使用するが、最終的に安定した酸化物とするため、必
ず焼成処理する。更に、成形体とする場合は、その強度
向上のために焼成処理する。しかも、触媒の使用時（接
触反応時）は常時加熱処理する。この様に、触媒にとっ
ては加熱処理は避けられず、それにより、担体の結晶化
が進行する。そして、担体の結晶化が進行した場合は、
活性成分の凝縮が起こり、その分散状態が悪化し、触媒
性能の低下が惹起される。ところが、ＷＯ3が高分散し
たＴｉＯ2担体は、上記の様に、加熱による結晶化、す
なわち、触媒性能の低下が抑制される。換言すれば、触
媒性能が相対的に向上する。斯かる効果は、特に接触反
応の温度が低い場合に顕著である。
【００２５】ＳｉＯ2−ＷＯ3−ＴｉＯ2３元系複合酸化
物担体中のＳｉＯ2の割合は、通常１〜２０重量％、好
ましくは３〜１５重量％である。ＳｉＯ2の割合が上記
の範囲より少ない場合はＳｉＯ2の高分散による前記の
効果が得られず、上記の範囲より多い場合はＳｉＯ2の
高分散が困難となる。
物担体中のＳｉＯ2の割合は、通常１〜２０重量％、好
ましくは３〜１５重量％である。ＳｉＯ2の割合が上記
の範囲より少ない場合はＳｉＯ2の高分散による前記の
効果が得られず、上記の範囲より多い場合はＳｉＯ2の
高分散が困難となる。
【００２６】ＳｉＯ2−ＷＯ3−ＴｉＯ2３元系複合酸化
物担体中のＷＯ3の割合は、通常１〜２０重量％、好ま
しくは５〜１５重量％である。ＷＯ3の割合が上記の範
囲より少ない場合はＷＯ3の高分散による前記の効果が
得られず、上記の範囲より多い場合はＷＯ3の高分散が
困難となる。
物担体中のＷＯ3の割合は、通常１〜２０重量％、好ま
しくは５〜１５重量％である。ＷＯ3の割合が上記の範
囲より少ない場合はＷＯ3の高分散による前記の効果が
得られず、上記の範囲より多い場合はＷＯ3の高分散が
困難となる。
【００２７】ＴｉＯ2にＳｉＯ2とＷＯ3がそれぞれ非晶
質で高分散しているか否かの確認は、以下に説明する様
にＸ線回折によって行なうことが出来る。
質で高分散しているか否かの確認は、以下に説明する様
にＸ線回折によって行なうことが出来る。
【００２８】すなわち、Ｘ線回折スペクトルにおいて、
ピーク強度はＳｉＯ2の含有量によって変化するが、Ｓ
ｉＯ2の分散性が悪くＳｉＯ2結晶が存在する場合は２θ
＝２６．６°の位置にピークが出現する。逆に、ＳｉＯ
2が多量に存在する場合でもＴｉＯ2に高分散した非晶質
のＳｉＯ2として存在する場合は、２θ＝２６．６°の
位置にピークは出現せず、試薬特級のアナターゼ型Ｔｉ
Ｏ2と同じ位置にのみピークが出現する。また、ＷＯ3の
場合も同様であり、ＷＯ3結晶が存在する場合は２θ＝
２３．５°の位置にピークが出現するが、ＴｉＯ2に高
分散した非晶質のＷＯ3として存在する場合は、２θ＝
２３．５°の位置にピークは出現しない。
ピーク強度はＳｉＯ2の含有量によって変化するが、Ｓ
ｉＯ2の分散性が悪くＳｉＯ2結晶が存在する場合は２θ
＝２６．６°の位置にピークが出現する。逆に、ＳｉＯ
2が多量に存在する場合でもＴｉＯ2に高分散した非晶質
のＳｉＯ2として存在する場合は、２θ＝２６．６°の
位置にピークは出現せず、試薬特級のアナターゼ型Ｔｉ
Ｏ2と同じ位置にのみピークが出現する。また、ＷＯ3の
場合も同様であり、ＷＯ3結晶が存在する場合は２θ＝
２３．５°の位置にピークが出現するが、ＴｉＯ2に高
分散した非晶質のＷＯ3として存在する場合は、２θ＝
２３．５°の位置にピークは出現しない。
【００２９】本発明において、塩素化有機化合物分解触
媒の活性成分は、通常、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｆｅ、
Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｙ、Ｃｅ、Ｎｄ、Ｗ、
Ｉｎ及びＩｒの群から選ばれる少なくとも１種の金属お
よび／またはその酸化物である。これらの中では、バナ
ジウム（Ｖ）酸化物が安価であり且つ塩素化有機化合物
の分解率が高いために好適に使用される。
媒の活性成分は、通常、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｆｅ、
Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｙ、Ｃｅ、Ｎｄ、Ｗ、
Ｉｎ及びＩｒの群から選ばれる少なくとも１種の金属お
よび／またはその酸化物である。これらの中では、バナ
ジウム（Ｖ）酸化物が安価であり且つ塩素化有機化合物
の分解率が高いために好適に使用される。
【００３０】上記のバナジウム酸化物の原料としては、
特に制限されないが、五酸化バナジウム（Ｖ2Ｏ5）又は
メタバナジン酸アンモニウム（ＮＨ4ＶＯ3）が好適に使
用される。これらの原料は、通常、シュウ酸水溶液また
はモノエタノールアミン水溶液に溶解して原料液として
使用される。塩素化有機化合物分解触媒中のバナジウム
酸化物の含有量は、活性成分として単独使用する他、触
媒の使用方法などによって異なるが、通常０．１〜３０
重量％、好ましくは０．１〜２０重量％である。
特に制限されないが、五酸化バナジウム（Ｖ2Ｏ5）又は
メタバナジン酸アンモニウム（ＮＨ4ＶＯ3）が好適に使
用される。これらの原料は、通常、シュウ酸水溶液また
はモノエタノールアミン水溶液に溶解して原料液として
使用される。塩素化有機化合物分解触媒中のバナジウム
酸化物の含有量は、活性成分として単独使用する他、触
媒の使用方法などによって異なるが、通常０．１〜３０
重量％、好ましくは０．１〜２０重量％である。
【００３１】上記の金属活性成分を使用する場合、活性
成分の水溶液と担体とをよく混合して成形した後に焼成
するか、成形した担体基材に活性成分の水溶液を含浸さ
せた後に焼成する方法により、触媒を調製する。そし
て、例えば銅を使用する場合は、硝酸銅を水に溶解して
活性成分の水溶液を調製する。
成分の水溶液と担体とをよく混合して成形した後に焼成
するか、成形した担体基材に活性成分の水溶液を含浸さ
せた後に焼成する方法により、触媒を調製する。そし
て、例えば銅を使用する場合は、硝酸銅を水に溶解して
活性成分の水溶液を調製する。
【００３２】また、触媒の形状および大きさは、塩素化
有機化合物含有ガス中におけるダストの有無、処理ガス
量、反応器の大きさ等により、適宜選択される。触媒の
形状としては、ハニカム状、円柱状、球状、板状などが
挙げられる。
有機化合物含有ガス中におけるダストの有無、処理ガス
量、反応器の大きさ等により、適宜選択される。触媒の
形状としては、ハニカム状、円柱状、球状、板状などが
挙げられる。
【００３３】担体に活性成分が担持されたハニカム形状
の触媒を製造する方法として、（ａ）担体成分と活性成
分またはその原料を成形助材と共に混練した後に、押出
成形法など によりハニカム状の形状に賦形する方法、
（ｂ）ハニカム形状の基材上に担体成分および活性成分
を含浸・担持する方法を挙げることが出来る。上述の製
造方法（ａ）の１例として、以下の方法が例示される。
の触媒を製造する方法として、（ａ）担体成分と活性成
分またはその原料を成形助材と共に混練した後に、押出
成形法など によりハニカム状の形状に賦形する方法、
（ｂ）ハニカム形状の基材上に担体成分および活性成分
を含浸・担持する方法を挙げることが出来る。上述の製
造方法（ａ）の１例として、以下の方法が例示される。
【００３４】（１）メタバナジン酸アンモニウムを約１
０重量％モノエタノールアミン水溶液に溶解する。 （２）硫酸チタン溶液を熱加水分解してメタチタン酸ス
ラリーを得る。 （３）メタチタン酸スラリーに１５重量％アンモニア水
を加えてｐＨ調整した後、リフラックス処理を１時間以
上行なう。 （４）パラタングステン酸アンモニウムとシリカゾルを
加え、更に、リフラックス処理を１時間以上行なう。 （５）得られたスラリーを濾過し、得られたケーキを５
０〜１５０℃の温度で３〜５０時間乾燥した後、４００
〜６５０℃の温度で焼成し、冷却後に粉砕する。 （６）得られた粉末状の、ＳｉＯ2−ＷＯ3−ＴｉＯ2３
元系複合酸化物担体と上述の（１）で調製した水溶液と
をニーダーで混練する。
０重量％モノエタノールアミン水溶液に溶解する。 （２）硫酸チタン溶液を熱加水分解してメタチタン酸ス
ラリーを得る。 （３）メタチタン酸スラリーに１５重量％アンモニア水
を加えてｐＨ調整した後、リフラックス処理を１時間以
上行なう。 （４）パラタングステン酸アンモニウムとシリカゾルを
加え、更に、リフラックス処理を１時間以上行なう。 （５）得られたスラリーを濾過し、得られたケーキを５
０〜１５０℃の温度で３〜５０時間乾燥した後、４００
〜６５０℃の温度で焼成し、冷却後に粉砕する。 （６）得られた粉末状の、ＳｉＯ2−ＷＯ3−ＴｉＯ2３
元系複合酸化物担体と上述の（１）で調製した水溶液と
をニーダーで混練する。
【００３５】（７）（ｉ）更に成形助材を加えて混練し
た混練物を押出成形し、５０〜１５０℃の温度で３〜５
０時間乾燥した後、ＳＶ１００〜２０００Ｈｒ-1の空気
気流中、４５０〜６５０℃の温度で焼成する、または
（ ii ）混練物を５０〜１５０℃の温度で３〜５０時間
乾燥し、４５０〜６５０℃の温度で焼成した後、成形助
材を加えて成形する。
た混練物を押出成形し、５０〜１５０℃の温度で３〜５
０時間乾燥した後、ＳＶ１００〜２０００Ｈｒ-1の空気
気流中、４５０〜６５０℃の温度で焼成する、または
（ ii ）混練物を５０〜１５０℃の温度で３〜５０時間
乾燥し、４５０〜６５０℃の温度で焼成した後、成形助
材を加えて成形する。
【００３６】また、上述の製造方法（ｂ）の１例とし
て、次の方法が例示される。すなわち、円柱状、球状、
ハニカム状、板状など 、所望の形状の基材上に上記の
（２）〜（５）で調製した担体成分をコーティングし、
上記の（１）で調製した水溶液を塗布して活性成分を含
浸させ、５０〜１５０℃で３〜５０時間乾燥した後、４
５０〜６５０℃の温度で焼成する。
て、次の方法が例示される。すなわち、円柱状、球状、
ハニカム状、板状など 、所望の形状の基材上に上記の
（２）〜（５）で調製した担体成分をコーティングし、
上記の（１）で調製した水溶液を塗布して活性成分を含
浸させ、５０〜１５０℃で３〜５０時間乾燥した後、４
５０〜６５０℃の温度で焼成する。
【００３７】基材上に形成された触媒の場合、基材とし
ては、ＴｉＯ2にＳｉＯ2やアＡｌ2Ｏ3等を単独で又は併
用して使用する。ＳｉＯ2−ＷＯ3−ＴｉＯ2３元系複合
酸化物（担体成分）の量は、担体成分と活性成分との合
計量に対し、通常３０重量％以上、好ましくは４０〜９
９重量％である。また、担体成分と活性成分との合計量
は、基材、担体成分および活性成分の総量に対し、通常
５〜７０重量％、好ましくは１０〜５０重量％である。
ては、ＴｉＯ2にＳｉＯ2やアＡｌ2Ｏ3等を単独で又は併
用して使用する。ＳｉＯ2−ＷＯ3−ＴｉＯ2３元系複合
酸化物（担体成分）の量は、担体成分と活性成分との合
計量に対し、通常３０重量％以上、好ましくは４０〜９
９重量％である。また、担体成分と活性成分との合計量
は、基材、担体成分および活性成分の総量に対し、通常
５〜７０重量％、好ましくは１０〜５０重量％である。
【００３８】混練・成形方法の様に添加した原料が全て
活性成分となる場合は、それぞれの金属塩など の原料
成分が対応する金属酸化物に変化したものとして、触媒
組成は添加量から推算する。また、含浸方法で製造され
た場合は、触媒をフッ化水素酸で処理した後、硫酸アン
モニウムで融解してプラズマ発光分析法（ＩＣＰ−ＡＥ
Ｓ分析法）により触媒組成を測定する。
活性成分となる場合は、それぞれの金属塩など の原料
成分が対応する金属酸化物に変化したものとして、触媒
組成は添加量から推算する。また、含浸方法で製造され
た場合は、触媒をフッ化水素酸で処理した後、硫酸アン
モニウムで融解してプラズマ発光分析法（ＩＣＰ−ＡＥ
Ｓ分析法）により触媒組成を測定する。
【００３９】本発明に係る塩素化有機化合物の分解方法
は、塩素化有機化合物含有ガスを上記の触媒と接触させ
る。塩素化有機化合物含有ガスとしては、例えば、２，
３，７，８−テトラクロロジベンゾダイオキシン及び
２，３，４，７，８−ペンタクロロジベンゾフランで代
表されるダイオキシン類や３，３’，４，４’，５−ペ
ンタクロロビフェニルで代表されるコプラナーＰＣＢ類
が約０．１〜２００ｎｇ／ｍ3（Ｎ．Ｔ．Ｐ）（毒性等
価換算値）含有され、更に、ダイオキシン類の前駆体物
質である、モノクロロベンゼン、トリクロロベンゼン等
のクロロベンゼン類、Ｏ−クロロフェノール、トリクロ
ロフェノール等のクロロフェノール類、クロロベンゾフ
ラン等が含有されたガス、具体的には、後述する燃焼排
ガスの処理方法における都市ごみや産業廃棄物などを燃
焼した際の排ガス等が挙げられる。斯かる塩素化有機化
合物含有ガスは、水分と共に酸素を含有し、その含有量
は、通常０．５〜２５ｖｏｌ％、好ましく１〜２１ｖｏ
ｌ％である。
は、塩素化有機化合物含有ガスを上記の触媒と接触させ
る。塩素化有機化合物含有ガスとしては、例えば、２，
３，７，８−テトラクロロジベンゾダイオキシン及び
２，３，４，７，８−ペンタクロロジベンゾフランで代
表されるダイオキシン類や３，３’，４，４’，５−ペ
ンタクロロビフェニルで代表されるコプラナーＰＣＢ類
が約０．１〜２００ｎｇ／ｍ3（Ｎ．Ｔ．Ｐ）（毒性等
価換算値）含有され、更に、ダイオキシン類の前駆体物
質である、モノクロロベンゼン、トリクロロベンゼン等
のクロロベンゼン類、Ｏ−クロロフェノール、トリクロ
ロフェノール等のクロロフェノール類、クロロベンゾフ
ラン等が含有されたガス、具体的には、後述する燃焼排
ガスの処理方法における都市ごみや産業廃棄物などを燃
焼した際の排ガス等が挙げられる。斯かる塩素化有機化
合物含有ガスは、水分と共に酸素を含有し、その含有量
は、通常０．５〜２５ｖｏｌ％、好ましく１〜２１ｖｏ
ｌ％である。
【００４０】上記の様な塩素化有機化合物含有ガスは、
通常、バッグフィルターに通じて粉塵や重金属などを除
去した後に接触工程に導入される。また、必要に応じ、
バッグフィルターで処理する前に消石灰反応塔で処理し
て酸性ガスを除去してもよい。
通常、バッグフィルターに通じて粉塵や重金属などを除
去した後に接触工程に導入される。また、必要に応じ、
バッグフィルターで処理する前に消石灰反応塔で処理し
て酸性ガスを除去してもよい。
【００４１】塩素化有機化合物含有ガスと触媒との接触
温度は、通常１００〜２５０℃、好ましくは１００〜２
００℃である。接触温度が２５０℃を超える場合は、塩
素化有機化合物の分解率も増加するが、分解されたダイ
オキシン類が再合成する問題と共に触媒層加熱用スチー
ムの節約の観点からも不利である。接触温度が１００℃
未満の場合は、運転上支障を来す結露が惹起される。触
媒層の圧力は、ゲージ圧として、通常−０．０５〜０．
９ＭＰａ、好ましくは−０．０１〜０．５ＭＰａであ
る。また、空間速度（ＳＶ）は、通常１００〜５０００
０Ｈｒ-1、好ましくは１０００〜２００００Ｈｒ-1であ
る。
温度は、通常１００〜２５０℃、好ましくは１００〜２
００℃である。接触温度が２５０℃を超える場合は、塩
素化有機化合物の分解率も増加するが、分解されたダイ
オキシン類が再合成する問題と共に触媒層加熱用スチー
ムの節約の観点からも不利である。接触温度が１００℃
未満の場合は、運転上支障を来す結露が惹起される。触
媒層の圧力は、ゲージ圧として、通常−０．０５〜０．
９ＭＰａ、好ましくは−０．０１〜０．５ＭＰａであ
る。また、空間速度（ＳＶ）は、通常１００〜５０００
０Ｈｒ-1、好ましくは１０００〜２００００Ｈｒ-1であ
る。
【００４２】次に、本発明に係る燃焼排ガスの処理方法
について説明する。この発明においては、触媒として、
塩素化有機化合物分解能とアンモニア存在下における窒
素酸化物分解能とを有し且つ以下に規定する二酸化イオ
ウの酸化転化率が１．３%以下の低酸化性能触媒（Ｘ）
と、ＳｉＯ2−ＷＯ3−ＴｉＯ2３元系複合酸化物担体に
活性成分が担持され、しかも、塩素化有機化合物分解能
を有し且つ以下に規定する二酸化イオウの酸化転化率が
３．０%以上の高酸化性能触媒（Ｙ）との２種類を使用
する。
について説明する。この発明においては、触媒として、
塩素化有機化合物分解能とアンモニア存在下における窒
素酸化物分解能とを有し且つ以下に規定する二酸化イオ
ウの酸化転化率が１．３%以下の低酸化性能触媒（Ｘ）
と、ＳｉＯ2−ＷＯ3−ＴｉＯ2３元系複合酸化物担体に
活性成分が担持され、しかも、塩素化有機化合物分解能
を有し且つ以下に規定する二酸化イオウの酸化転化率が
３．０%以上の高酸化性能触媒（Ｙ）との２種類を使用
する。
【００４３】＜二酸化イオウの酸化転化率＞圧力：常
圧、温度：２５０℃、ＳＶ（空間速度）：１８５０Ｈｒ
-1、触媒量：４５０ｍｌの条件下、Ｏ2１０乾体積%，Ｓ
Ｏ2５００ｐｐｍ，Ｈ2Ｏ：１０体積%，Ｎ2バランス量の
組成のガスを触媒が充填された反応管に供給し、反応管
出口のＳＯ3濃度とトータルＳＯXの濃度を求め、次式に
より二酸化イオウの酸化転化率（%）を算出する。
圧、温度：２５０℃、ＳＶ（空間速度）：１８５０Ｈｒ
-1、触媒量：４５０ｍｌの条件下、Ｏ2１０乾体積%，Ｓ
Ｏ2５００ｐｐｍ，Ｈ2Ｏ：１０体積%，Ｎ2バランス量の
組成のガスを触媒が充填された反応管に供給し、反応管
出口のＳＯ3濃度とトータルＳＯXの濃度を求め、次式に
より二酸化イオウの酸化転化率（%）を算出する。
【００４４】
【数３】 （出口ＳＯ3濃度／出口トータルＳＯX）×１００
【００４５】上記の様に規定された低酸化性能触媒
（Ｘ）は、排ガス中にアンモニアと二酸化イオウ（実際
は硫黄酸化物ＳＯXとＨ2Ｏ）が存在する場合において、
ＳＯ2やＳＯ3が物理的に吸着することはあっても、酸性
硫酸アンモニウムを殆ど生成しない特徴を有する。とこ
ろで、通常、二酸化イオウの酸化転化率が低い触媒は、
塩素化有機化合物の分解性能が低い。従って、低酸化性
能触媒（Ｘ）のみを使用した場合は、大量の触媒が塩素
化有機化合物の高い除去率のために必要となり、効率が
悪くなる。
（Ｘ）は、排ガス中にアンモニアと二酸化イオウ（実際
は硫黄酸化物ＳＯXとＨ2Ｏ）が存在する場合において、
ＳＯ2やＳＯ3が物理的に吸着することはあっても、酸性
硫酸アンモニウムを殆ど生成しない特徴を有する。とこ
ろで、通常、二酸化イオウの酸化転化率が低い触媒は、
塩素化有機化合物の分解性能が低い。従って、低酸化性
能触媒（Ｘ）のみを使用した場合は、大量の触媒が塩素
化有機化合物の高い除去率のために必要となり、効率が
悪くなる。
【００４６】そこで、本発明においては、上記の様に規
定された高酸化性能触媒（Ｙ）、すなわち、塩素化有機
化合物の分解性能が高い触媒を使用することにより、換
言すれば、本発明に係る塩素化有機化合物の分解方法を
特定条件下に利用する（本発明に係る塩素化有機化合物
分解用触媒を二酸化イオウの酸化転化率３．０%以上に
修飾して利用する）ことにより、トータルとして比較的
少量の触媒量で塩素化有機化合物の高い除去率を達成し
ている。そして、高酸化性能触媒（Ｙ）の場合は、排ガ
ス中にアンモニアと二酸化イオウが存在すると、１００
〜２５０℃の温度において、酸性硫酸アンモニウムが生
成して触媒表面に付着して性能低下を惹起する。従っ
て、高酸化性能触媒（Ｙ）は、後述する通り、燃焼排ガ
ス中のアンモニア濃度が２０ｐｐｍ以下の条件で使用さ
れる。
定された高酸化性能触媒（Ｙ）、すなわち、塩素化有機
化合物の分解性能が高い触媒を使用することにより、換
言すれば、本発明に係る塩素化有機化合物の分解方法を
特定条件下に利用する（本発明に係る塩素化有機化合物
分解用触媒を二酸化イオウの酸化転化率３．０%以上に
修飾して利用する）ことにより、トータルとして比較的
少量の触媒量で塩素化有機化合物の高い除去率を達成し
ている。そして、高酸化性能触媒（Ｙ）の場合は、排ガ
ス中にアンモニアと二酸化イオウが存在すると、１００
〜２５０℃の温度において、酸性硫酸アンモニウムが生
成して触媒表面に付着して性能低下を惹起する。従っ
て、高酸化性能触媒（Ｙ）は、後述する通り、燃焼排ガ
ス中のアンモニア濃度が２０ｐｐｍ以下の条件で使用さ
れる。
【００４７】低酸化性能触媒（Ｘ）の二酸化イオウの酸
化転化率は、酸性硫酸アンモニウムの生成を一層確実に
防止する観点から０．８%以下が好ましく、高酸化性能
触媒（Ｙ）の二酸化イオウの酸化転化率は、塩素化有機
化合物の除去率を一層高める観点から、５%以上が好ま
しく、６%以上が更に好ましい。
化転化率は、酸性硫酸アンモニウムの生成を一層確実に
防止する観点から０．８%以下が好ましく、高酸化性能
触媒（Ｙ）の二酸化イオウの酸化転化率は、塩素化有機
化合物の除去率を一層高める観点から、５%以上が好ま
しく、６%以上が更に好ましい。
【００４８】上記の二酸化イオウの異なる酸化転化率
は、組成や種類の異なる触媒を使用すること等により達
成することが出来る。例えば、銅酸化物（ＣｕＯ）含有
量が５．０％以下の場合は低酸化性能触媒（Ｘ）、８．
５％以上の場合は高酸化性能触媒（Ｙ）が得られる。ま
た、Ｖ2Ｏ5含有量が２．５重量%以下の場合は低酸化性
能触媒（Ｘ）、３．５重量%以上の場合は高酸化性能触
媒（Ｙ）が得られる。
は、組成や種類の異なる触媒を使用すること等により達
成することが出来る。例えば、銅酸化物（ＣｕＯ）含有
量が５．０％以下の場合は低酸化性能触媒（Ｘ）、８．
５％以上の場合は高酸化性能触媒（Ｙ）が得られる。ま
た、Ｖ2Ｏ5含有量が２．５重量%以下の場合は低酸化性
能触媒（Ｘ）、３．５重量%以上の場合は高酸化性能触
媒（Ｙ）が得られる。
【００４９】先ず、低酸化性能触媒（Ｘ）について説明
する。この触媒は、通常、担体に活性成分を担持して形
成される。担体としては、特に制限されないが、ＳＯX
含有燃焼排ガスを処理する観点から、耐酸性に優れるＴ
ｉＯ2が好適に使用される。ＴｉＯ2は、ＴｉＯ2−Ｓｉ
Ｏ2、ＴｉＯ2−ＳｉＯ2−ＺｒＯ2、ＴｉＯ2−ＷＯ3−Ｓ
ｉＯ2等の複合酸化物であってもよい。
する。この触媒は、通常、担体に活性成分を担持して形
成される。担体としては、特に制限されないが、ＳＯX
含有燃焼排ガスを処理する観点から、耐酸性に優れるＴ
ｉＯ2が好適に使用される。ＴｉＯ2は、ＴｉＯ2−Ｓｉ
Ｏ2、ＴｉＯ2−ＳｉＯ2−ＺｒＯ2、ＴｉＯ2−ＷＯ3−Ｓ
ｉＯ2等の複合酸化物であってもよい。
【００５０】触媒の活性成分としては、前述の塩素化有
機化合物の分解方法におけるのと同様の成分、例えば、
Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｕ等の遷移金属の酸化物の
他、貴金属、ゼオライト等が挙げられる。これらの内、
バナジウム酸化物、銅酸化物、鉄酸化物および金が好ま
しい。更に、バナジウム酸化物を含有する触媒は、安価
であり、塩素化有機化合物の分解率が高く、しかも、ア
ンモニアの存在下に窒素酸化物が分解できるため、特に
好ましい。バナジウム酸化物の担持量は、上記と同様
に、通常は０．１〜３０重量%、好ましくは０．１〜２
０重量%である。
機化合物の分解方法におけるのと同様の成分、例えば、
Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｕ等の遷移金属の酸化物の
他、貴金属、ゼオライト等が挙げられる。これらの内、
バナジウム酸化物、銅酸化物、鉄酸化物および金が好ま
しい。更に、バナジウム酸化物を含有する触媒は、安価
であり、塩素化有機化合物の分解率が高く、しかも、ア
ンモニアの存在下に窒素酸化物が分解できるため、特に
好ましい。バナジウム酸化物の担持量は、上記と同様
に、通常は０．１〜３０重量%、好ましくは０．１〜２
０重量%である。
【００５１】また、低酸化性能触媒（Ｘ）としては、上
記の二酸化イオウの酸化転化率の条件を満足する限り、
前記の塩素化有機化合物分解用触媒と同様の触媒を使用
することも出来る。触媒の形状および大きさ、触媒の調
製方法などは、前記の塩素化有機化合物分解用触媒の場
合と同様である。
記の二酸化イオウの酸化転化率の条件を満足する限り、
前記の塩素化有機化合物分解用触媒と同様の触媒を使用
することも出来る。触媒の形状および大きさ、触媒の調
製方法などは、前記の塩素化有機化合物分解用触媒の場
合と同様である。
【００５２】次に、高酸化性能触媒（Ｙ）について説明
する。この触媒は、既に述べた様に、前記の塩素化有機
化合物分解用触媒を二酸化イオウの酸化転化率３．０%
以上に修飾したものである。
する。この触媒は、既に述べた様に、前記の塩素化有機
化合物分解用触媒を二酸化イオウの酸化転化率３．０%
以上に修飾したものである。
【００５３】次に、本発明の燃焼排ガスの処理方法につ
いて説明する。本発明においては、燃焼排ガスと低酸化
性能触媒および高酸化性能触媒との各接触工程を任意の
順序で且つ１００〜２５０℃の温度範囲で行う。接触温
度２５０℃以下の条件は、前述の様に分解されたダイオ
キシン等の再生成を防止する観点から規定された条件で
あり、接触温度１００℃以上の条件は、装置の運転に支
障を来す結露を確実に防止する観点から規定された条件
である。接触処理中の圧力は、ゲージ圧で通常−０．０
５〜０．９ＭＰａ、好ましくは−０．０１〜０．５ＭＰ
ａである。また、ＳＶは、通常１００〜５００００Ｈｒ
-1、好ましくは１０００〜２００００Ｈｒ-1である。
いて説明する。本発明においては、燃焼排ガスと低酸化
性能触媒および高酸化性能触媒との各接触工程を任意の
順序で且つ１００〜２５０℃の温度範囲で行う。接触温
度２５０℃以下の条件は、前述の様に分解されたダイオ
キシン等の再生成を防止する観点から規定された条件で
あり、接触温度１００℃以上の条件は、装置の運転に支
障を来す結露を確実に防止する観点から規定された条件
である。接触処理中の圧力は、ゲージ圧で通常−０．０
５〜０．９ＭＰａ、好ましくは−０．０１〜０．５ＭＰ
ａである。また、ＳＶは、通常１００〜５００００Ｈｒ
-1、好ましくは１０００〜２００００Ｈｒ-1である。
【００５４】本発明の処理方法が対象とする燃焼排ガス
としては、塩素化有機化合物、通常０．１ｐｐｍ以上の
ＮＯx、通常０．１ｐｐｍ以上のＳＯxを含有する排ガ
ス、例えば都市ごみや産業廃棄物などを燃焼した際の排
ガス等が挙げられる。この様な燃焼排ガスには、水分お
よび酸素と共に、前記のダイオキシン類およびコプラナ
ーＰＣＢ類が０．１〜２００ｎｇ／ｍ3（Ｎ．Ｔ．Ｐ）
（毒性等価換算値）含まれている。更に、前述の通り、
ダイオキシン類の前駆体である種々の塩素化有機化合物
も含まれている。
としては、塩素化有機化合物、通常０．１ｐｐｍ以上の
ＮＯx、通常０．１ｐｐｍ以上のＳＯxを含有する排ガ
ス、例えば都市ごみや産業廃棄物などを燃焼した際の排
ガス等が挙げられる。この様な燃焼排ガスには、水分お
よび酸素と共に、前記のダイオキシン類およびコプラナ
ーＰＣＢ類が０．１〜２００ｎｇ／ｍ3（Ｎ．Ｔ．Ｐ）
（毒性等価換算値）含まれている。更に、前述の通り、
ダイオキシン類の前駆体である種々の塩素化有機化合物
も含まれている。
【００５５】上記の燃焼排ガスは、通常、バッグフィル
ターに通じて粉塵や重金属などを除去した後に接触工程
に導入される。また、必要に応じ、バッグフィルターで
処理する前に消石灰反応塔で処理して酸性ガスを除去し
てもよい。
ターに通じて粉塵や重金属などを除去した後に接触工程
に導入される。また、必要に応じ、バッグフィルターで
処理する前に消石灰反応塔で処理して酸性ガスを除去し
てもよい。
【００５６】本発明において、低酸化性能触媒との接触
工程を先行させる場合、低酸化性能触媒との接触工程に
流入する燃焼排ガス中にアンモニアを導入するが、その
量は当該工程から流出する燃焼排ガス中のアンモニア濃
度が２０ｐｐｍ以下となる量に調節する。
工程を先行させる場合、低酸化性能触媒との接触工程に
流入する燃焼排ガス中にアンモニアを導入するが、その
量は当該工程から流出する燃焼排ガス中のアンモニア濃
度が２０ｐｐｍ以下となる量に調節する。
【００５７】すなわち、上記の場合、第１工程である低
酸化性能触媒との接触工程は、窒素酸化物の分解のた
め、アンモニアの存在下に行う。この際、酸性硫酸アン
モニウムは、触媒が低酸化性であるため、殆ど生成しな
い。従って、窒素酸化物の分解と同時に、塩素化有機化
合物は、低酸化性能触媒の能力に応じた高い水準で分解
される。燃焼排ガス中へのアンモニアの導入量は、上記
の条件下、窒素酸化物を高分解し得る様に決定される。
なお、燃焼排ガス中でのアンモニアの消費量は、燃焼排
ガスの温度および処理量、触媒の使用量およびガス接触
面積などで決定される。上記の第１工程から流出する燃
焼排ガス中に残存する塩素化有機化合物は、第２工程で
ある高酸化性能触媒との接触工程によって分解される。
この際、酸性硫酸アンモニウムは、燃焼排ガス中のアン
モニア濃度が２０ｐｐｍ以下に抑えられているため、殆
ど生成しない。
酸化性能触媒との接触工程は、窒素酸化物の分解のた
め、アンモニアの存在下に行う。この際、酸性硫酸アン
モニウムは、触媒が低酸化性であるため、殆ど生成しな
い。従って、窒素酸化物の分解と同時に、塩素化有機化
合物は、低酸化性能触媒の能力に応じた高い水準で分解
される。燃焼排ガス中へのアンモニアの導入量は、上記
の条件下、窒素酸化物を高分解し得る様に決定される。
なお、燃焼排ガス中でのアンモニアの消費量は、燃焼排
ガスの温度および処理量、触媒の使用量およびガス接触
面積などで決定される。上記の第１工程から流出する燃
焼排ガス中に残存する塩素化有機化合物は、第２工程で
ある高酸化性能触媒との接触工程によって分解される。
この際、酸性硫酸アンモニウムは、燃焼排ガス中のアン
モニア濃度が２０ｐｐｍ以下に抑えられているため、殆
ど生成しない。
【００５８】一方、本発明に係る燃焼排ガスの処理方法
において、高酸化性能触媒との接触工程を先行させる場
合、低酸化性能触媒との接触工程に流入する燃焼排ガス
中にアンモニアを導入する。
において、高酸化性能触媒との接触工程を先行させる場
合、低酸化性能触媒との接触工程に流入する燃焼排ガス
中にアンモニアを導入する。
【００５９】すなわち、上記の場合、第１工程である高
酸化性能触媒との接触工程は、塩素化有機化合物の分解
を行い、実質的に窒素酸化物の分解を行わないためアン
モニアの不存在下に行う。なお、窒素酸化物の一部分解
のため焼却炉内にアンモニアを導入している場合は、燃
焼排ガス中のアンモニア濃度が２０ｐｐｍ以下となる様
に焼却炉内に導入するアンモニア量を調節する。上記の
第１工程から流出する燃焼排ガス中の窒素酸化物は、第
２工程である低酸化性能触媒との接触工程によって分解
される。この際、酸性硫酸アンモニウムは、触媒が低酸
化性であるため、殆ど生成しない。従って、低酸化性能
触媒との接触工程に流入する燃焼排ガス（上記の第１工
程からの流出ガス）中に導入されるアンモニアの量は、
窒素酸化物を高分解し得る様に任意に決定される。
酸化性能触媒との接触工程は、塩素化有機化合物の分解
を行い、実質的に窒素酸化物の分解を行わないためアン
モニアの不存在下に行う。なお、窒素酸化物の一部分解
のため焼却炉内にアンモニアを導入している場合は、燃
焼排ガス中のアンモニア濃度が２０ｐｐｍ以下となる様
に焼却炉内に導入するアンモニア量を調節する。上記の
第１工程から流出する燃焼排ガス中の窒素酸化物は、第
２工程である低酸化性能触媒との接触工程によって分解
される。この際、酸性硫酸アンモニウムは、触媒が低酸
化性であるため、殆ど生成しない。従って、低酸化性能
触媒との接触工程に流入する燃焼排ガス（上記の第１工
程からの流出ガス）中に導入されるアンモニアの量は、
窒素酸化物を高分解し得る様に任意に決定される。
【００６０】上記の各接触工程における反応器の大きさ
及び形状は、本発明の目的を逸脱しない限り、任意に選
択することが出来る。また、各触媒は、別々の反応器に
充填しても、同一の反応器に異なる層として充填しても
よい。
及び形状は、本発明の目的を逸脱しない限り、任意に選
択することが出来る。また、各触媒は、別々の反応器に
充填しても、同一の反応器に異なる層として充填しても
よい。
【００６１】
【実施例】以下、本発明を実施例により詳細に説明する
が、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に
より限定されるものではない。なお、以下の諸例で使用
した触媒（Ａ）〜（Ｈ）は次の様に調製した。
が、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に
より限定されるものではない。なお、以下の諸例で使用
した触媒（Ａ）〜（Ｈ）は次の様に調製した。
【００６２】＜ＳｉＯ2−ＷＯ3−ＴｉＯ2３元系複合酸
化物の調製（１）＞硫酸法による酸化チタンの製造工程
より得られる硫酸チタン溶液を熱加水分解してメタチタ
ン酸を得、これを酸化チタンとして７８０ｇ取り出し、
還流器付撹拌槽に仕込み、これに１５重量％アンモニア
水４９８ｇを加えてｐＨを９．５に調整した後、９５℃
にて１時間に亘り十分な撹拌を行いつつ加熱熟成した。
次いで、シリカゾル（触媒化成社製「キャタロイドＳ−
２０Ｌ」）７５０ｇとパラタングステン酸アンモニウム
７８．８ｇを添加し、更に、上記と同一条件の加熱熟成
を１時間行なった。その後、冷却してスラリーを取り出
し、濾過脱水し、得られたケーキを１００℃で２０時間
乾燥した後、６００℃まで７５℃／Ｈｒの速度で昇温
し、同温度で５時間保持した。そして、冷却後、適当な
粒度に粉砕し、ＳｉＯ2／ＷＯ3／ＴｉＯ2比が１５重量
％／７重量％／７８重量％の、ＳｉＯ2−ＷＯ3−ＴｉＯ
2３元系複合酸化物を得た。
化物の調製（１）＞硫酸法による酸化チタンの製造工程
より得られる硫酸チタン溶液を熱加水分解してメタチタ
ン酸を得、これを酸化チタンとして７８０ｇ取り出し、
還流器付撹拌槽に仕込み、これに１５重量％アンモニア
水４９８ｇを加えてｐＨを９．５に調整した後、９５℃
にて１時間に亘り十分な撹拌を行いつつ加熱熟成した。
次いで、シリカゾル（触媒化成社製「キャタロイドＳ−
２０Ｌ」）７５０ｇとパラタングステン酸アンモニウム
７８．８ｇを添加し、更に、上記と同一条件の加熱熟成
を１時間行なった。その後、冷却してスラリーを取り出
し、濾過脱水し、得られたケーキを１００℃で２０時間
乾燥した後、６００℃まで７５℃／Ｈｒの速度で昇温
し、同温度で５時間保持した。そして、冷却後、適当な
粒度に粉砕し、ＳｉＯ2／ＷＯ3／ＴｉＯ2比が１５重量
％／７重量％／７８重量％の、ＳｉＯ2−ＷＯ3−ＴｉＯ
2３元系複合酸化物を得た。
【００６３】＜ＳｉＯ2−ＷＯ3−ＴｉＯ2３元系複合酸
化物の調製（２）＞上記の調製（１）において、酸化チ
タンとシリカゾルとパラタングステン酸アンモニウムの
使用量を変えた以外は、同様の方法により、ＳｉＯ2／
ＷＯ3／ＴｉＯ2比が５重量％／１０重量％／８５重量％
の、ＳｉＯ2−ＷＯ3−ＴｉＯ2３元系複合酸化物を得
た。
化物の調製（２）＞上記の調製（１）において、酸化チ
タンとシリカゾルとパラタングステン酸アンモニウムの
使用量を変えた以外は、同様の方法により、ＳｉＯ2／
ＷＯ3／ＴｉＯ2比が５重量％／１０重量％／８５重量％
の、ＳｉＯ2−ＷＯ3−ＴｉＯ2３元系複合酸化物を得
た。
【００６４】＜ＳｉＯ2−ＴｉＯ2２元系複合酸化物の調
製＞上記の調製（１）において、酸化チタンの使用量を
８００ｇに、シリカゾルの使用量７０６ｇ変更し、そし
て、パラタングステン酸アンモニウムを使用しない以外
は、同様の方法により、ＳｉＯ2／ＴｉＯ2比が１５重量
％／８５重量％のＳｉＯ2−ＴｉＯ2２元系複合酸化物を
得た。
製＞上記の調製（１）において、酸化チタンの使用量を
８００ｇに、シリカゾルの使用量７０６ｇ変更し、そし
て、パラタングステン酸アンモニウムを使用しない以外
は、同様の方法により、ＳｉＯ2／ＴｉＯ2比が１５重量
％／８５重量％のＳｉＯ2−ＴｉＯ2２元系複合酸化物を
得た。
【００６５】＜触媒の調製＞ 触媒（Ａ）の調製：メタバナジン酸アンモニウム６４３
ｇを８０℃に加温した１０重量％モノエタノールアミン
水溶液６０００ｇに溶解して原料液（１）を調製した。
原料液（１）と、上記の調製（１）で得たＳｉＯ2−Ｗ
Ｏ3−ＴｉＯ2３元系複合酸化物８５００ｇと、成形助材
１０００ｇとを双腕型ニーダーで２時間混練し、得られ
た混練物を押出機により口径５ｍｍのハニカム構造に成
形した。得られた成形物を１３０℃の温度で２４時間乾
燥し、次いでＳＶ１００Ｈｒ-1、温度５００℃の条件下
で３時間焼成し、表１に示す触媒（Ａ）を得た。
ｇを８０℃に加温した１０重量％モノエタノールアミン
水溶液６０００ｇに溶解して原料液（１）を調製した。
原料液（１）と、上記の調製（１）で得たＳｉＯ2−Ｗ
Ｏ3−ＴｉＯ2３元系複合酸化物８５００ｇと、成形助材
１０００ｇとを双腕型ニーダーで２時間混練し、得られ
た混練物を押出機により口径５ｍｍのハニカム構造に成
形した。得られた成形物を１３０℃の温度で２４時間乾
燥し、次いでＳＶ１００Ｈｒ-1、温度５００℃の条件下
で３時間焼成し、表１に示す触媒（Ａ）を得た。
【００６６】触媒（Ｂ）の調製：上記の触媒（Ａ）の調
製において、前記の調製（２）で得たＳｉＯ2−ＷＯ3−
ＴｉＯ2３元系複合酸化物粉末（５重量％ＳｉＯ2／１０
重量％ＷＯ3／８５重量％ＴｉＯ2）を使用した以外は、
触媒（Ａ）の調製と同様にして表１に示す触媒（Ｂ）を
得た。
製において、前記の調製（２）で得たＳｉＯ2−ＷＯ3−
ＴｉＯ2３元系複合酸化物粉末（５重量％ＳｉＯ2／１０
重量％ＷＯ3／８５重量％ＴｉＯ2）を使用した以外は、
触媒（Ａ）の調製と同様にして表１に示す触媒（Ｂ）を
得た。
【００６７】触媒（Ｃ）の調製：上記の触媒（Ａ）の調
製において、前記のＳｉＯ2−ＴｉＯ2２元系複合酸化物
を使用した以外は、触媒（Ａ）の調製と同様にして表１
に示す触媒（Ｃ）を得た。
製において、前記のＳｉＯ2−ＴｉＯ2２元系複合酸化物
を使用した以外は、触媒（Ａ）の調製と同様にして表１
に示す触媒（Ｃ）を得た。
【００６８】触媒（Ｄ）の調製：上記の触媒（Ａ）の調
製において、メタバナジン酸アンモニウムの使用量を１
２９ｇ、ＳｉＯ2−ＷＯ3−ＴｉＯ2３元系複合酸化物粉
末の使用量を８９００ｇに変更した以外は、触媒（Ａ）
の調製と同様にして表１に示す触媒（Ｄ）を得た。
製において、メタバナジン酸アンモニウムの使用量を１
２９ｇ、ＳｉＯ2−ＷＯ3−ＴｉＯ2３元系複合酸化物粉
末の使用量を８９００ｇに変更した以外は、触媒（Ａ）
の調製と同様にして表１に示す触媒（Ｄ）を得た。
【００６９】触媒（Ｅ）の調製：メタバナジン酸アンモ
ニウム５１６ｇとパラタングステン酸アンモニウム１０
７０ｇを８０℃に加温した１０重量％モノエタノールア
ミン水溶液６０００ｇに溶解して原料液（２）を調製し
た。原料液（２）と純粋なＴｉＯ2７６５０ｇとを双腕
型ニーダーで２時間混練し、得られた混練物を押出機に
より口径５ｍｍのハニカム構造に成形した。得られた成
形物を１３０℃の温度で２４時間乾燥し、次いでＳＶ１
００Ｈｒ-1、温度５００℃の条件下で３時間焼成し、表
１に示す触媒（Ｅ）を得た。
ニウム５１６ｇとパラタングステン酸アンモニウム１０
７０ｇを８０℃に加温した１０重量％モノエタノールア
ミン水溶液６０００ｇに溶解して原料液（２）を調製し
た。原料液（２）と純粋なＴｉＯ2７６５０ｇとを双腕
型ニーダーで２時間混練し、得られた混練物を押出機に
より口径５ｍｍのハニカム構造に成形した。得られた成
形物を１３０℃の温度で２４時間乾燥し、次いでＳＶ１
００Ｈｒ-1、温度５００℃の条件下で３時間焼成し、表
１に示す触媒（Ｅ）を得た。
【００７０】＜二酸化イオウ酸化転化率の測定＞前記の
触媒の内、（Ａ）（Ｄ）及び（Ｅ）をそれぞれ４５０ｍ
ｌ（縦および横方向に夫々６個の孔を有し且つ高さが５
００ｍｍのハニカム構造）のサンプルに加工して石英ガ
ラス製の反応管に充填した。次いで、管状型電気炉に反
応管を入れ、窒素ガスと酸素ガスを所定量流通させなが
ら触媒の温度を２５０℃に保持した。次いで、所定濃度
となる様にＨ2ＯとＳＯ2ガスを添加した。ガス組成は、
Ｏ 2１０乾体積%，ＳＯ2５００ｐｐｍ，Ｈ2Ｏ１０体積
%，Ｎ2バランス量であり、ガス調製量（速度）は８３５
Ｌ／Ｈｒ（ａｔ ０℃，１０１．３２５ＫＰａ）とし
た。
触媒の内、（Ａ）（Ｄ）及び（Ｅ）をそれぞれ４５０ｍ
ｌ（縦および横方向に夫々６個の孔を有し且つ高さが５
００ｍｍのハニカム構造）のサンプルに加工して石英ガ
ラス製の反応管に充填した。次いで、管状型電気炉に反
応管を入れ、窒素ガスと酸素ガスを所定量流通させなが
ら触媒の温度を２５０℃に保持した。次いで、所定濃度
となる様にＨ2ＯとＳＯ2ガスを添加した。ガス組成は、
Ｏ 2１０乾体積%，ＳＯ2５００ｐｐｍ，Ｈ2Ｏ１０体積
%，Ｎ2バランス量であり、ガス調製量（速度）は８３５
Ｌ／Ｈｒ（ａｔ ０℃，１０１．３２５ＫＰａ）とし
た。
【００７１】前記の反応管に上記のガスを７０時間通過
させ、その後、反応管の出口のガスをサンプリングしＳ
Ｏ3濃度を測定した。次いで、再度、反応管の出口のガ
スをサンプリングしトータルＳＯX濃度を測定した。Ｓ
Ｏ3のサンプリングはスパイラル管式捕集管を使用して
ＳＯXの内ＳＯ3のみを捕集することによって行った。そ
して、捕集したＳＯ3は、水で洗い採り、ＪＩＳ Ｋ
０１０３の沈殿滴定法にて分析した。トータルＳＯXの
サンプリング及び分析は、ＪＩＳ Ｋ ０１０３の方法
によって行った。二酸化イオウの酸化転化率は次式によ
り求めた。
させ、その後、反応管の出口のガスをサンプリングしＳ
Ｏ3濃度を測定した。次いで、再度、反応管の出口のガ
スをサンプリングしトータルＳＯX濃度を測定した。Ｓ
Ｏ3のサンプリングはスパイラル管式捕集管を使用して
ＳＯXの内ＳＯ3のみを捕集することによって行った。そ
して、捕集したＳＯ3は、水で洗い採り、ＪＩＳ Ｋ
０１０３の沈殿滴定法にて分析した。トータルＳＯXの
サンプリング及び分析は、ＪＩＳ Ｋ ０１０３の方法
によって行った。二酸化イオウの酸化転化率は次式によ
り求めた。
【００７２】
【数４】 （出口ＳＯ3濃度／出口トータルＳＯX）×１００
【００７３】
【表１】
【００７４】＜活性試験＞ガラス製反応器に上記の各触
媒を３０ｍｌ充填し、常圧固定床流通反応装置で活性試
験を行なった。触媒固定床の寸法は、縦２８ｍｍ、横２
８ｍｍ、高さ３８ｍｍであった。原料ガス組成は、ｏ−
クロルフェノール（ＯＣＰ）１００ｐｐｍ、Ｏ2１０ｖ
ｏｌ％、Ｈ2Ｏ１０ｖｏｌ％、Ｎ2バランス量の組成であ
った。原料ガスのＳＶは５０００Ｈｒ-1であった。１６
０℃と１８０℃の各温度で５時間保持した後、反応装置
通過ガスをマイクロシリンジでサンプリングし、ガスク
ロマトグラフィーで分析した。分析は絶対検量線法で行
なった。
媒を３０ｍｌ充填し、常圧固定床流通反応装置で活性試
験を行なった。触媒固定床の寸法は、縦２８ｍｍ、横２
８ｍｍ、高さ３８ｍｍであった。原料ガス組成は、ｏ−
クロルフェノール（ＯＣＰ）１００ｐｐｍ、Ｏ2１０ｖ
ｏｌ％、Ｈ2Ｏ１０ｖｏｌ％、Ｎ2バランス量の組成であ
った。原料ガスのＳＶは５０００Ｈｒ-1であった。１６
０℃と１８０℃の各温度で５時間保持した後、反応装置
通過ガスをマイクロシリンジでサンプリングし、ガスク
ロマトグラフィーで分析した。分析は絶対検量線法で行
なった。
【００７５】実施例１及び２ 触媒（Ａ）及び（Ｂ）をそれぞれ使用して活性試験を行
なった。その結果を表２に示す。
なった。その結果を表２に示す。
【００７６】比較例１ 触媒（Ｃ）を使用して活性試験を行なった。その結果を
表２に示す。
表２に示す。
【００７７】
【表２】
【００７８】実施例３ ３ｃｍ×３ｃｍ×５０ｃｍのハニカム構造の触媒を充填
した内径５ｃｍ、長さ６０ｃｍのガラス製反応器を３本
直列に接続し、縦内径８０ｃｍ、横内径８０ｃｍ、高さ
１．５ｍの恒温槽内に設置した。前２本の反応器に触媒
（Ｄ）、後１本の反応器に触媒（Ａ）を充填して常圧固
定床流通反応装置を組み立てた。そして、この装置を使
用し、都市ゴミ焼却炉のモデル排ガスの処理試験を次の
要領で行った。
した内径５ｃｍ、長さ６０ｃｍのガラス製反応器を３本
直列に接続し、縦内径８０ｃｍ、横内径８０ｃｍ、高さ
１．５ｍの恒温槽内に設置した。前２本の反応器に触媒
（Ｄ）、後１本の反応器に触媒（Ａ）を充填して常圧固
定床流通反応装置を組み立てた。そして、この装置を使
用し、都市ゴミ焼却炉のモデル排ガスの処理試験を次の
要領で行った。
【００７９】温度１８０℃、ＳＶ５０００Ｈｒ-1の条件
下、平均濃度８０ｐｐｍのアンモニアを添加しながら、
上記の装置に、平均濃度１ｎｇ−ＴＥＱ／ｍ3（Ｎ．
Ｔ．Ｐ）のダイオキシン類と平均濃度３０ｐｐｍのＳＯ
2と平均濃度７５ｐｐｍのＮＯxを含有するガスを通過さ
せた。アンモニアの添加量は、触媒（Ａ）の直前（前２
本の反応器の直後）のアンモニア濃度を測定し、その値
が２０ｐｐｍ以下となる様に調節した。
下、平均濃度８０ｐｐｍのアンモニアを添加しながら、
上記の装置に、平均濃度１ｎｇ−ＴＥＱ／ｍ3（Ｎ．
Ｔ．Ｐ）のダイオキシン類と平均濃度３０ｐｐｍのＳＯ
2と平均濃度７５ｐｐｍのＮＯxを含有するガスを通過さ
せた。アンモニアの添加量は、触媒（Ａ）の直前（前２
本の反応器の直後）のアンモニア濃度を測定し、その値
が２０ｐｐｍ以下となる様に調節した。
【００８０】処理後の排ガスの分析は、ガスクロマトグ
ラフィー質量分析法で「廃棄物処理におけるダイオキシ
ン類標準測定分析マニュアル」（厚生省生活衛生局水道
環境部環境整備課（平成９年２月））に準じて行った。
分析は通ガス後２週間後と４ヶ月後に行った。評価結果
を表３に示す。
ラフィー質量分析法で「廃棄物処理におけるダイオキシ
ン類標準測定分析マニュアル」（厚生省生活衛生局水道
環境部環境整備課（平成９年２月））に準じて行った。
分析は通ガス後２週間後と４ヶ月後に行った。評価結果
を表３に示す。
【００８１】実施例４ 実施例３において、常圧固定床流通反応装置を組み立て
る際、前１本に触媒（Ａ）、後２本に触媒（Ｄ）を充填
した。そして、アンモニアの添加位置を触媒（Ｄ）の直
前（前１本の直後）とし、アンモニア添加量を平均ＮＯ
ｘ濃度に対し、モル比（ＮＯｘ／ＮＨ3）で１とした以
外は、実施例３と同様にして都市ゴミ焼却炉のモデル排
ガスの処理試験を行った。評価結果を表４に示す。
る際、前１本に触媒（Ａ）、後２本に触媒（Ｄ）を充填
した。そして、アンモニアの添加位置を触媒（Ｄ）の直
前（前１本の直後）とし、アンモニア添加量を平均ＮＯ
ｘ濃度に対し、モル比（ＮＯｘ／ＮＨ3）で１とした以
外は、実施例３と同様にして都市ゴミ焼却炉のモデル排
ガスの処理試験を行った。評価結果を表４に示す。
【００８２】比較例２ 実施例３において、全３本に触媒（Ｅ）を使用して組み
立てた常圧固定床流通反応装置を使用し、温度を２００
℃に変更し、そして、前２本直後のアンモニア濃度の測
定結果に基づくアンモニア添加量の調節を行なわなかっ
たこと以外は、実施例３と同様な方法でモデル排ガスの
処理試験を行なった。評価結果を表４に示す。
立てた常圧固定床流通反応装置を使用し、温度を２００
℃に変更し、そして、前２本直後のアンモニア濃度の測
定結果に基づくアンモニア添加量の調節を行なわなかっ
たこと以外は、実施例３と同様な方法でモデル排ガスの
処理試験を行なった。評価結果を表４に示す。
【００８３】
【表３】
【００８４】
【表４】
【００８５】
【表５】
【００８６】
【発明の効果】以上説明した本発明によれば、ＳｉＯ2
−ＷＯ3−ＴｉＯ2３元系複合酸化物担体を使用した触媒
により、より低温度でダイオキシン等の塩素化有機化合
物を高効率で分解することが出来る。また、本発明によ
れば、一旦分解されたダイオキシン等が再生成すること
がない。更に、本発明によれば、硫黄酸化物から生成す
る酸性硫酸アンモニウムを極力少なくすることにより、
触媒の経時的性能劣化が抑制されるため、燃焼排ガス中
のダイオキシン等の塩素化有機化合物および窒素酸化物
を高効率で除去することが出来る。
−ＷＯ3−ＴｉＯ2３元系複合酸化物担体を使用した触媒
により、より低温度でダイオキシン等の塩素化有機化合
物を高効率で分解することが出来る。また、本発明によ
れば、一旦分解されたダイオキシン等が再生成すること
がない。更に、本発明によれば、硫黄酸化物から生成す
る酸性硫酸アンモニウムを極力少なくすることにより、
触媒の経時的性能劣化が抑制されるため、燃焼排ガス中
のダイオキシン等の塩素化有機化合物および窒素酸化物
を高効率で除去することが出来る。
フロントページの続き (72)発明者 清野 健一 三重県四日市市東邦町１番地 三菱化学株 式会社四日市事業所内 (72)発明者 内田 雅昭 福岡県北九州市若松区北湊町13番２号 触 媒化成工業株式会社若松工場内 (72)発明者 足立 健太郎 福岡県北九州市若松区北湊町13番２号 触 媒化成工業株式会社若松工場内 (72)発明者 西井 一博 東京都港区芝五丁目34番６号 三菱化学エ ンジニアリング株式会社内 Ｆターム(参考） 4D048 AA02 AA06 AA11 AB02 AB03 AB05 AC04 BA06X BA06Y BA07X BA07Y BA17Y BA18Y BA19Y BA23X BA23Y BA24Y BA25Y BA26Y BA27Y BA28Y BA31Y BA33Y BA34Y BA35Y BA36Y BA38Y BA41Y BB02 CC46 DA11 4G069 AA03 AA08 BA02A BA02B BA04A BA04B BB04A BC18A BC31A BC32A BC33A BC40A BC41A BC43A BC54A BC54B BC58A BC59A BC60A BC60B BC62A BC66A BC68A BC72A BC74A CA02 CA12 CA13 CA19 DA06 EA19 EC26 EE09 FA01 FA02 FB05 FB15 FB67 FC08 4H006 AA05 AC13 AC26 BA05 BA08 BA09 BA10 BA12 BA14 BA16 BA19 BA21 BA22 BA25 BA30 BA55 BB61 BB62 BC10 BC18 BC19 BE30
Claims (7)
- 【請求項１】 塩素化有機化合物含有ガスを触媒と接触
させる塩素化有機化合物の分解方法であって、ＳｉＯ2
−ＷＯ3−ＴｉＯ2３元系複合酸化物担体に活性成分が担
持された触媒を使用することを特徴とする塩素化有機化
合物の分解方法。 - 【請求項２】 ＳｉＯ2およびＷＯ3が非晶質である請求
項１に記載の分解方法。 - 【請求項３】 ＳｉＯ2−ＷＯ3−ＴｉＯ2３元系複合酸
化物担体中のＳｉＯ2の割合が１〜２０重量％である請
求項１又は２に記載の分解方法。 - 【請求項４】 ＳｉＯ2−ＷＯ3−ＴｉＯ2３元系複合酸
化物担体中のＷＯ3の割合が１〜２０重量％である請求
項１〜３の何れかに記載の分解方法。 - 【請求項５】 触媒の活性成分が、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｍ
ｎ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｙ、Ｃｅ、
Ｎｄ、Ｗ、Ｉｎ及びＩｒの群から選ばれる少なくとも１
種の金属および／またはその酸化物である請求項１〜４
の何れかに記載の分解方法。 - 【請求項６】 塩素化有機化合物含有ガスと触媒との接
触温度が１００〜２５０℃である請求項１〜５の何れか
に記載の分解方法。 - 【請求項７】 塩素化有機化合物、二酸化イオウ及び窒
素酸化物を含有する燃焼排ガスの処理方法であって、次
の（ａ）〜（ｄ）の条件を満足することを特徴とする燃
焼排ガスの処理方法。 （ａ）触媒として、塩素化有機化合物分解能とアンモニ
ア存在下における窒素酸化物分解能とを有し且つ以下に
規定する二酸化イオウの酸化転化率が１．３%以下の低
酸化性能触媒（Ｘ）と、ＳｉＯ2−ＷＯ3−ＴｉＯ2３元
系複合酸化物担体に活性成分が担持され、しかも、塩素
化有機化合物分解能を有し且つ以下に規定する二酸化イ
オウの酸化転化率が３．０%以上の高酸化性能触媒
（Ｙ）との２種類を使用する。 ＜二酸化イオウの酸化転化率＞圧力：常圧、温度：２５
０℃、ＳＶ（空間速度）：１８５０Ｈｒ-1、触媒量：４
５０ｍｌの条件下、Ｏ2１０乾体積%，ＳＯ2５００ｐｐ
ｍ，Ｈ2Ｏ：１０体積%，Ｎ2バランス量の組成のガスを
触媒が充填された反応管に供給し、反応管出口のＳＯ3
濃度とトータルＳＯXの濃度を求め、次式により二酸化
イオウの酸化転化率（%）を算出する。 【数１】 （出口ＳＯ3濃度／出口トータルＳＯX）×１００ （ｂ）燃焼排ガスと低酸化性能触媒および高酸化性能触
媒との各接触工程を任意の順序で且つ１００〜２５０℃
の温度範囲で行う。 （ｃ）低酸化性能触媒との接触工程を先行させる場合、
低酸化性能触媒との接触工程に流入する燃焼排ガス中に
アンモニアを導入するが、その量は当該工程から流出す
る燃焼排ガス中のアンモニア濃度が２０ｐｐｍ以下とな
る量に調節する。 （ｄ）高酸化性能触媒との接触工程を先行させる場合、
低酸化性能触媒との接触工程に流入する燃焼排ガス中に
アンモニアを導入する。
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